JP7816342B2 - Laminate and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
本発明は、光学フィルム等としての用途に用いうる基材と、当該基材を保護する保護フィルムとを備える積層体、及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a laminate comprising a substrate that can be used for applications such as an optical film and a protective film that protects the substrate, and a method for manufacturing the same.
液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の光学的な装置の構成要素として、光学フィルムが広く用いられる。その例としては、装置において基材として用いられるフィルムが挙げられる。具体的には、かかる基材の上に、他の層を形成し、装置を構成する複数の層を備える構成要素を得ることが一般的に行われている。Optical films are widely used as components of optical devices such as liquid crystal displays and organic electroluminescent displays. Examples include films used as substrates in devices. Specifically, it is common to form other layers on such substrates to obtain components with multiple layers that make up the device.
光学フィルムは、良好な光学的特性が求められ、且つ使用環境における熱に対する耐久性が高いことが求められる。例えば、200℃10分間の加熱、又は145℃60分間の加熱といった熱負荷を受けた場合でも、収縮等の形状変化を発生させないことが望まれる。Optical films are required to have good optical properties and high resistance to heat in the environment in which they are used. For example, they should not shrink or undergo any other changes in shape even when subjected to thermal stress such as heating at 200°C for 10 minutes or at 145°C for 60 minutes.
そのような観点から、かかる光学フィルムの材料として、結晶性を有する樹脂、特に結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含む樹脂が用いられる場合がある。かかる結晶性を有する樹脂を用いる場合、光学異方性、耐熱性及びその他のさまざまな特性を調整するため、延伸、熱固定等の様々な処理が施される場合がある(例えば、特許文献1~2)。From this perspective, crystalline resins, particularly resins containing crystalline alicyclic structure-containing polymers, are sometimes used as materials for such optical films. When using such crystalline resins, various processes such as stretching and heat setting may be performed to adjust the optical anisotropy, heat resistance, and various other properties (e.g., Patent Documents 1 and 2).
結晶性を有する樹脂のフィルムの処理に際しては、その表面にシワが発生し、フィルムの平面性が毀損される等の不所望な現象が発生し、製品の品質が低下する場合がある。また、光学フィルムは、その処理のしかたによっては、十分な耐熱性が得られない場合がある。例えば、200℃10分間の加熱、又は145℃60分間の加熱といった熱負荷を受けた場合の形状変化の抑制が達成されない場合がある。 When processing a film made of a crystalline resin, undesirable phenomena such as wrinkles appearing on the surface and damage to the film's flatness can occur, resulting in a decrease in product quality. Furthermore, depending on the processing method, optical films may not be able to achieve sufficient heat resistance. For example, when subjected to a thermal load such as heating at 200°C for 10 minutes or 145°C for 60 minutes, suppression of shape change may not be achieved.
したがって、本発明の目的は、シワの発生が抑制され、基材としての使用に際しての平面性が維持され、且つ耐熱性が高い基材、及びその製造方法を提供することにある。 Therefore, the object of the present invention is to provide a substrate that suppresses the occurrence of wrinkles, maintains flatness when used as a substrate, and has high heat resistance, as well as a method for manufacturing the same.
シワの発生を抑制し基材としての使用に際しての平面性を維持するための方策としては、基材を、保護フィルムとの積層体とすることが考えられる。この点について本発明者が検討を行ったところ、基材と保護フィルムとして、特定の物性の関係を有するものを採用し積層体を構成することにより、高いシワ抑制及び耐熱性が得られるものを製造しうることを見出し、且つ、そのような積層体は、特定のアニール前基材及びアニール前保護フィルムを貼合しアニール前積層体とし、それを積層体の状態のままアニール処理することにより得られること見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、以下を提供する。
As a measure to suppress the occurrence of wrinkles and maintain flatness when used as a substrate, it is considered to form a laminate of the substrate with a protective film. As a result of investigations into this point, the present inventors have found that by adopting a substrate and a protective film having a specific relationship in physical properties to form a laminate, it is possible to manufacture a product that can obtain high wrinkle suppression and heat resistance, and also found that such a laminate can be obtained by laminating a specific pre-annealed substrate and a pre-annealed protective film to form a pre-annealed laminate and then annealing the laminate in that state, thereby completing the present invention.
That is, the present invention provides the following.
〔1〕 基材、及び前記基材の一方の表面に設けられた保護フィルムを備え、長尺状の形状を有する積層体であり、
前記基材は、結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含む樹脂の層であり、
前記基材及び前記保護フィルムが、下記式(1)~(2)を満たす、積層体:
E’s/E’p<1 (1)
-0.4≦Fs-Fp≦0.4 (2)
但し、
E’sは、前記基材の180℃における貯蔵弾性率であり、
E’pは、前記保護フィルムの180℃における貯蔵弾性率であり、
Fsは、前記基材の180℃2分における積層体長手方向の熱収縮率(%)であり、
Fpは、前記保護フィルムの180℃2分における積層体長手方向の熱収縮率(%)である。
〔2〕 前記保護フィルムが、結晶性を有する重合体を含む樹脂の層である、〔1〕に記載の積層体。
〔3〕 前記基材を構成する前記結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含む樹脂が、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物である、〔1〕又は〔2〕に記載の積層体。
〔4〕 〔1〕~〔3〕のいずれか1項に記載の積層体の製造方法であって、
アニール前基材及びアニール前保護フィルムを貼合し、前記アニール前基材及び前記アニール前保護フィルムを備えるアニール前積層体を得る工程であって、前記アニール前基材は、結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含む樹脂の層である工程、及び
前記アニール前積層体をアニール処理する工程
を含む製造方法。
〔5〕 前記アニール前保護フィルムが、結晶性を有する重合体を含む樹脂の層である、〔4〕に記載の製造方法。
〔6〕 前記アニール前基材を構成する前記結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含む樹脂が、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物である、〔4〕又は〔5〕に記載の製造方法。
〔7〕 前記アニール処理が、前記アニール前積層体を、その面内方向のうちの少なくとも1の方向において拘束した状態で加熱することを含む、〔4〕~〔6〕のいずれか1項に記載の製造方法。
[1] A laminate having a long shape, comprising a substrate and a protective film provided on one surface of the substrate,
the substrate is a layer of a resin containing a crystalline alicyclic structure-containing polymer,
A laminate, wherein the substrate and the protective film satisfy the following formulas (1) and (2):
E's/E'p<1 (1)
−0.4≦Fs−Fp≦0.4 (2)
however,
E's is the storage modulus of the substrate at 180°C,
E'p is the storage modulus of the protective film at 180°C,
Fs is the heat shrinkage rate (%) of the substrate in the longitudinal direction of the laminate at 180°C for 2 minutes,
Fp is the heat shrinkage rate (%) of the protective film in the longitudinal direction of the laminate at 180° C. for 2 minutes.
[2] The laminate according to [1], wherein the protective film is a layer of a resin containing a crystalline polymer.
[3] The laminate according to [1] or [2], wherein the resin containing the crystalline alicyclic structure-containing polymer constituting the substrate is a hydrogenated product of a ring-opening polymer of dicyclopentadiene.
[4] A method for producing the laminate according to any one of [1] to [3],
A manufacturing method comprising: a step of laminating a pre-annealed substrate and a pre-annealed protective film to obtain a pre-annealed laminate comprising the pre-annealed substrate and the pre-annealed protective film, wherein the pre-annealed substrate is a layer of a resin containing a crystalline alicyclic structure-containing polymer; and a step of annealing the pre-annealed laminate.
[5] The manufacturing method according to [4], wherein the pre-annealed protective film is a layer of a resin containing a crystalline polymer.
[6] The manufacturing method according to [4] or [5], wherein the resin containing the crystalline alicyclic structure-containing polymer constituting the pre-annealing base material is a hydrogenated product of a ring-opening polymer of dicyclopentadiene.
[7] The manufacturing method according to any one of [4] to [6], wherein the annealing treatment includes heating the pre-annealing laminate while restraining it in at least one direction among its in-plane directions.
本発明によれば、シワの発生が抑制され、基材としての使用に際しての平面性が維持され、且つ耐熱性が高い基材を用時に容易に供給しうる積層体、及びその製造方法が提供される。 The present invention provides a laminate that suppresses the occurrence of wrinkles, maintains flatness when used as a substrate, and allows for easy supply of a highly heat-resistant substrate when needed, as well as a method for manufacturing the same.
以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。 The present invention will be described in detail below with reference to embodiments and examples. However, the present invention is not limited to the embodiments and examples shown below, and may be modified and implemented as desired within the scope of the claims of the present invention and their equivalents.
以下の説明において、「長尺状」のフィルムとは、幅に対して、5倍以上の長さを有するフィルムをいい、好ましくは10倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムをいう。フィルムの長さの上限は、特に制限は無く、例えば、幅に対して10万倍以下としうる。In the following description, "long" film refers to a film whose length is at least five times its width, preferably 10 times or more, and specifically refers to a film long enough to be wound into a roll for storage or transportation. There is no particular upper limit to the length of the film, and it can be, for example, up to 100,000 times its width.
接着剤とは、別に断らない限り、狭義の接着剤(エネルギー線照射後、あるいは加熱処理後、23℃における剪断貯蔵弾性率が1MPa~500MPaである接着剤)のみならず、23℃における剪断貯蔵弾性率が1MPa未満である粘着剤をも包含する。Unless otherwise specified, the term "adhesive" refers not only to adhesives in the narrow sense (adhesives whose shear storage modulus at 23°C is 1 MPa to 500 MPa after irradiation with energy rays or after heat treatment), but also to pressure-sensitive adhesives whose shear storage modulus at 23°C is less than 1 MPa.
以下の説明において、要素の方向が「平行」、「垂直」及び「直交」とは、別に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±3°、±2°又は±1°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。 In the following description, unless otherwise specified, the orientation of elements as "parallel," "vertical," and "orthogonal" may include an error within a range that does not impair the effect of the present invention, for example, within ±3°, ±2°, or ±1°.
〔積層体の概要〕
本発明の積層体は、基材、及び基材の一方の表面に設けられた保護フィルムを備える。即ち、積層体は、それを構成する層として、基材及び保護フィルムを備える。
[Overview of the laminate]
The laminate of the present invention includes a substrate and a protective film provided on one surface of the substrate, that is, the laminate includes the substrate and the protective film as its constituent layers.
基材は、表示装置等の光学的な装置の構成要素として使用するためのフィルムである。一方保護フィルムは基材を保護する目的で基材と貼合されるフィルムであり、基材を装置の製造に用いる際又はその後の任意の工程において剥離しうるものである。 A substrate is a film intended for use as a component of an optical device such as a display device. On the other hand, a protective film is a film that is attached to a substrate for the purpose of protecting the substrate, and can be peeled off when the substrate is used in the manufacture of the device or in any subsequent process.
保護フィルムは、基材に直接接して設けられていてもよいが、通常は、接着層を介して基材に設けられる。即ち、基材と保護フィルムとが、接着層を介して接着され、それにより、基材、接着層及び保護フィルム層がこの順に設けられた積層体を構成しうる。 The protective film may be provided in direct contact with the substrate, but is usually provided on the substrate via an adhesive layer. That is, the substrate and protective film are bonded via an adhesive layer, thereby forming a laminate in which the substrate, adhesive layer, and protective film layer are provided in this order.
図1は、本発明の積層体を概略的に示す断面図である。図1において、積層体10は、基材110と、その一方の表面に設けられた複合フィルム120を備え、複合フィルムは、保護フィルム121及び接着層122を備える。この例では、保護フィルムは基材のおもて面及びうら面のうちの一方の表面のみに設けられているが、本発明はこれに限られず、例えば基材の両面に1層ずつの保護フィルムが設けられていてもよい。 Figure 1 is a cross-sectional view schematically illustrating a laminate of the present invention. In Figure 1, the laminate 10 comprises a substrate 110 and a composite film 120 provided on one surface thereof, with the composite film comprising a protective film 121 and an adhesive layer 122. In this example, the protective film is provided on only one of the front and back surfaces of the substrate, but the present invention is not limited to this. For example, one protective film may be provided on each side of the substrate.
図1において、保護フィルム121は、保護フィルムとしての機械的強度及びその他の所望の物性を発現するための層であり、一方接着層122は基材110と保護フィルム121との接着の機能を発現する層である。接着層122は、通常は、保護フィルム121に比べて薄く、且つ柔軟であり、従って複合フィルム120全体の面内方向の伸縮に関する機械的強度に関しては実質的に影響しない層である。 In Figure 1, protective film 121 is a layer that provides the mechanical strength and other desired physical properties of a protective film, while adhesive layer 122 is a layer that provides the function of adhering substrate 110 to protective film 121. Adhesive layer 122 is typically thinner and more flexible than protective film 121, and therefore does not substantially affect the mechanical strength of composite film 120 as a whole in relation to in-plane stretching.
基材は、結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含む樹脂の層である。以下の説明において、一般的な樹脂と区別して説明するために、当該樹脂を特に樹脂(a1)という場合がある。一方、保護フィルムを構成する樹脂を特に樹脂(b1)という場合がある。 The substrate is a layer of a resin containing a crystalline alicyclic structure-containing polymer. In the following explanation, this resin may be specifically referred to as resin (a1) to distinguish it from general resins. On the other hand, the resin that constitutes the protective film may be specifically referred to as resin (b1).
積層体において、基材は単層構造の層であってもよく、複数の層からなる複層構造の層であってもよいが、通常単層構造の層である。保護フィルムも、単層構造の層であってもよく、複数の層からなる複層構造の層であってもよいが、通常単層構造の層である。 In a laminate, the substrate may be a single-layer structure or a multi-layer structure consisting of multiple layers, but is usually a single-layer structure. The protective film may also be a single-layer structure or a multi-layer structure consisting of multiple layers, but is usually a single-layer structure.
〔積層体の物性〕
積層体を構成する基材及び保護フィルムは、下記式(1)~(2)を満たす。
E’s/E’p<1 (1)
-0.4≦Fs-Fp≦0.4 (2)
[Physical properties of laminate]
The substrate and the protective film constituting the laminate satisfy the following formulas (1) and (2).
E's/E'p<1 (1)
−0.4≦Fs−Fp≦0.4 (2)
式中、E’sは、前記基材の180℃における貯蔵弾性率であり、E’pは、前記保護フィルムの180℃における貯蔵弾性率である。以下の説明において、別に断らない限り、弾性率とは貯蔵弾性率を意味する。E’s/E’pの値は、1未満であり、好ましくは0.95以下であり、より好ましくは0.90以下である。E’s/E’pの下限は特に限定されないが0.1以上としうる。E’s及びE’pのそれぞれの値は、特に限定されないが例えば1.0×107Pa以上1.0×109Pa以下としうる。弾性率の測定は、積層体の基材と保護フィルムとを剥離してそれぞれを試料フィルムとし、動的粘弾性測定装置(例えば日立ハイテクサイエンス社製、製品名:DMA7100)を用いて180℃において伸縮粘弾性測定を行うことにより測定しうる。 In the formula, E's is the storage modulus of the substrate at 180°C, and E'p is the storage modulus of the protective film at 180°C. In the following description, unless otherwise specified, elastic modulus means storage modulus. The value of E's/E'p is less than 1, preferably 0.95 or less, and more preferably 0.90 or less. The lower limit of E's/E'p is not particularly limited, but can be 0.1 or more. The values of E's and E'p are not particularly limited, but can be, for example, 1.0 x 10 7 Pa or more and 1.0 x 10 9 Pa or less. The elastic modulus can be measured by peeling the substrate and protective film of the laminate to obtain sample films, and performing extensional viscoelasticity measurement at 180°C using a dynamic viscoelasticity measuring device (e.g., Hitachi High-Tech Science Corporation, product name: DMA7100).
式中、Fsは、前記基材の180℃2分における積層体長手方向の熱収縮率であり、Fpは、前記保護フィルムの180℃2分における積層体長手方向の熱収縮率である。Fs及びFpは、積層体の熱収縮率は、積層体の基材と保護フィルムとを剥離して、それぞれを23℃(室温)の環境下で切り出して、積層体の長手方向又は幅方向に平行な方向の辺を有する正方形の試料フィルムとし、当該試料フィルムの加熱による辺の長さの変化を測定することにより求められる百分率の値である。より具体的には、熱収縮率は、下記式(I)に従って求めうる。
熱収縮率(%)=[(LB-LA)/LB]×100 (I)
In the formula, Fs is the heat shrinkage rate of the substrate in the longitudinal direction of the laminate at 180°C for 2 minutes, and Fp is the heat shrinkage rate of the protective film in the longitudinal direction of the laminate at 180°C for 2 minutes. Fs and Fp are percentage values determined by peeling the substrate and protective film from the laminate, cutting each of them out at 23°C (room temperature) to obtain a square sample film having sides parallel to the longitudinal or width direction of the laminate, and measuring the change in the length of the sides of the sample film due to heating. More specifically, the heat shrinkage rate can be determined according to the following formula (I):
Heat shrinkage rate (%) = [(L B - L A ) / L B ] × 100 (I)
式中LBは加熱前の試料フィルムの辺の長さを示し、LAは加熱後の試料フィルムの辺の長さを示す。熱収縮率の正の値である場合は、加熱によりフィルムが収縮することを示し、負の値である場合は、加熱によりフィルムが伸長することを示す。積層体長手方向の熱収縮率を求める場合は、試料フィルムの、積層体長手方向に平行な辺における長さから熱収縮率を求める。 In the formula, L B represents the length of a side of the sample film before heating, and L A represents the length of a side of the sample film after heating. A positive value for the heat shrinkage rate indicates that the film shrinks upon heating, and a negative value indicates that the film elongates upon heating. When determining the heat shrinkage rate in the longitudinal direction of the laminate, the heat shrinkage rate is calculated from the length of the side of the sample film parallel to the longitudinal direction of the laminate.
Fs-Fpの値は、百分率同士の差の値である。Fs-Fpの値は-0.4%以上であり、好ましくは-0.3%以上であり、一方0.4%以下であり、好ましくは0.3%以下である。Fs及びFpのそれぞれの値は、特に限定されないが例えば-0.3%以上0.5%以下としうる。 The value of Fs - Fp is the difference between the percentages. The value of Fs - Fp is -0.4% or more, preferably -0.3% or more, and 0.4% or less, preferably 0.3% or less. The values of Fs and Fp are not particularly limited, but can be, for example, -0.3% or more and 0.5% or less.
本発明者が見出したところによれば、長尺状の積層体が、樹脂(a1)の層である基材と、保護フィルムとを備え、且つ基材及び保護フィルムが前記式(1)~(2)を満たす場合、積層体におけるシワの発生を抑制し、積層体を、その平面性を維持した状態でハンドリングすることができ、且つ基材を、耐熱性が高い基材として容易に製造しうるものとすることができる。具体的には、積層体のカールを抑制することができ、それにより積層体がカールしない状態での搬送を行うことができ、且つ、得られる基材の200℃10分基材熱収縮率及び145℃60分基材熱収縮率といった、製品として低い値であることが求められる物性についても、良好な低い値とすることができる。 The inventors have discovered that when a long laminate includes a substrate that is a layer of resin (a1) and a protective film, and the substrate and protective film satisfy the above formulas (1) and (2), the occurrence of wrinkles in the laminate can be suppressed, the laminate can be handled while maintaining its flatness, and the substrate can be easily manufactured as a substrate with high heat resistance. Specifically, curling of the laminate can be suppressed, allowing the laminate to be transported without curling. Furthermore, the physical properties that are required to be low for the product, such as the substrate heat shrinkage rate at 200°C for 10 minutes and the substrate heat shrinkage rate at 145°C for 60 minutes, can be maintained at favorably low values.
本発明の積層体は、そのカール量が小さいことが好ましい。カール量は、23℃(室温)の環境下で、積層体を切り出し、50mm×50mmの正方形の試料フィルムとし、水平で平坦な面上に載置し、試料フィルムの四隅が水平面から浮き上がっている量(カール量)を測定し、四隅の平均値を求めることにより求められる。カール量は、好ましくは8.5mm以下、より好ましくは7.5mm以下としうる。カール量の下限は特に限定されないが理想的には0.0mmである。 The laminate of the present invention preferably has a small amount of curl. The amount of curl can be determined by cutting out a 50 mm x 50 mm square sample film from the laminate in an environment of 23°C (room temperature), placing it on a horizontal, flat surface, measuring the amount by which the four corners of the sample film lift above the horizontal surface (the amount of curl), and calculating the average value of the four corners. The amount of curl is preferably 8.5 mm or less, more preferably 7.5 mm or less. There is no particular lower limit to the amount of curl, but ideally it is 0.0 mm.
〔基材〕
基材は、樹脂(a1)即ち結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含む樹脂の層である。基材は樹脂(a1)のみからなる層としうる。基材が樹脂(a1)であることにより、基材は良好な機械的強度、耐熱性、及び成形性を発現することができる。
[Base material]
The substrate is a layer of resin (a1), i.e., a resin containing a crystalline alicyclic structure-containing polymer. The substrate may be a layer consisting of resin (a1) alone. By using resin (a1) as the substrate, the substrate can exhibit good mechanical strength, heat resistance, and moldability.
「結晶性を有する」重合体とは、融点Tmを有する重合体をいう。「融点Tmを有する」とは、示差走査熱量計(DSC)で融点を観測できることをいう。以下の説明において、結晶性を有する重合体を、単に「結晶性重合体」という場合がある。また、結晶性を有する重合体を含む樹脂を、単に「結晶性樹脂」という場合がある。脂環式構造含有重合体は、分子内に脂環式構造を含む重合体であり、特に結晶性を有する脂環式構造含有重合体は、結晶性重合体のうち、分子内に脂環式構造を含む重合体である。 A "crystalline" polymer is one that has a melting point Tm. "Having a melting point Tm" means that the melting point can be observed using a differential scanning calorimeter (DSC). In the following description, a polymer that has crystallinity may be simply referred to as a "crystalline polymer." Furthermore, a resin that contains a polymer that has crystallinity may be simply referred to as a "crystalline resin." A polymer that contains an alicyclic structure is a polymer that contains an alicyclic structure within its molecule, and a polymer that has crystallinity is a crystalline polymer that contains an alicyclic structure within its molecule.
脂環式構造含有重合体は、環状オレフィンを単量体として用いた重合反応によって得られうる重合体又はその水素化物でありうる。脂環式構造含有重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 The alicyclic structure-containing polymer may be a polymer or its hydrogenated product obtained by a polymerization reaction using a cyclic olefin as a monomer. The alicyclic structure-containing polymer may be used alone or in combination of two or more types in any ratio.
脂環式構造含有重合体が有する脂環式構造の例としては、シクロアルカン構造及びシクロアルケン構造が挙げられる。これらの中でも、熱安定性などの特性に優れる光学フィルムが得られ易いことから、シクロアルカン構造が好ましい。1つの脂環式構造に含まれる炭素原子の数は、好ましくは4個以上、より好ましくは5個以上であり、好ましくは30個以下、より好ましくは20個以下、特に好ましくは15個以下である。1つの脂環式構造に含まれる炭素原子の数が上記範囲内にあることで、機械的強度、耐熱性、及び成形性が高度にバランスされる。Examples of alicyclic structures contained in alicyclic structure-containing polymers include cycloalkane structures and cycloalkene structures. Of these, cycloalkane structures are preferred because they facilitate the production of optical films with excellent properties such as thermal stability. The number of carbon atoms contained in one alicyclic structure is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, and preferably 30 or less, more preferably 20 or less, and particularly preferably 15 or less. Having the number of carbon atoms contained in one alicyclic structure within the above range ensures a high level of balance between mechanical strength, heat resistance, and moldability.
脂環式構造含有重合体において、全ての構造単位に対する脂環式構造を有する構造単位の割合は、好ましくは30重量%以上、より好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以上である。脂環式構造含有重合体における脂環式構造を有する構造単位の割合を前記のように多くすることにより、耐熱性を高めることができる。
また、脂環式構造含有重合体において、脂環式構造を有する構造単位以外の残部は、格別な限定はなく、使用目的に応じて適宜選択しうる。
In the alicyclic structure-containing polymer, the ratio of the structural units having an alicyclic structure to all structural units is preferably 30% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more. By increasing the ratio of the structural units having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer as described above, heat resistance can be improved.
In the alicyclic structure-containing polymer, the remainder other than the structural unit having the alicyclic structure is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the intended use.
結晶性を有する脂環式構造含有重合体の例としては、下記の重合体(α)~重合体(δ)が挙げられる。これらの中でも、耐熱性に優れる基材が得られ易いことから、結晶性を有する脂環式構造含有重合体としては、重合体(β)が好ましい。
重合体(α):環状オレフィン単量体の開環重合体であって、結晶性を有するもの。
重合体(β):重合体(α)の水素化物であって、結晶性を有するもの。
重合体(γ):環状オレフィン単量体の付加重合体であって、結晶性を有するもの。
重合体(δ):重合体(γ)の水素化物等であって、結晶性を有するもの。
Examples of the crystalline alicyclic structure-containing polymer include the following polymers (α) to (δ): Among these, polymer (β) is preferred as the crystalline alicyclic structure-containing polymer because it is easy to obtain a substrate having excellent heat resistance.
Polymer (α): A ring-opening polymer of a cyclic olefin monomer, which is crystalline.
Polymer (β): A hydrogenated product of polymer (α) that is crystalline.
Polymer (γ): An addition polymer of a cyclic olefin monomer, which is crystalline.
Polymer (δ): A crystalline polymer such as a hydrogenated polymer (γ).
具体的には、結晶性を有する脂環式構造含有重合体としては、ジシクロペンタジエンの開環重合体であって結晶性を有するもの、及び、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物であって結晶性を有するものがより好ましく、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物であって結晶性を有するものが特に好ましい。ここで、ジシクロペンタジエンの開環重合体とは、全構造単位に対するジシクロペンタジエン由来の構造単位の割合が、通常50重量%以上、好ましくは70重量%以上、より好ましくは90重量%以上、更に好ましくは100重量%の重合体をいう。Specifically, crystalline alicyclic structure-containing polymers are preferably crystalline ring-opening polymers of dicyclopentadiene and crystalline hydrogenated ring-opening polymers of dicyclopentadiene, with crystalline hydrogenated ring-opening polymers of dicyclopentadiene being particularly preferred. Here, a ring-opening polymer of dicyclopentadiene refers to a polymer in which the proportion of dicyclopentadiene-derived structural units to all structural units is typically 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, more preferably 90% by weight or more, and even more preferably 100% by weight.
ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物は、ラセモ・ダイアッドの割合が高いことが好ましい。具体的には、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物における繰り返し単位のラセモ・ダイアッドの割合は、好ましくは51%以上、より好ましくは70%以上、特に好ましくは85%以上である。ラセモ・ダイアッドの割合が高いことは、シンジオタクチック立体規則性が高いことを表す。よって、ラセモ・ダイアッドの割合が高いほど、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物の融点が高い傾向がある。ラセモ・ダイアッドの割合は、後述する実施例に記載の13C-NMRスペクトル分析に基づいて決定できる。 The hydrogenated product of the ring-opening polymer of dicyclopentadiene preferably has a high ratio of racemo dyads. Specifically, the ratio of racemo dyads in the repeating units of the hydrogenated product of the ring-opening polymer of dicyclopentadiene is preferably 51% or more, more preferably 70% or more, and particularly preferably 85% or more. A high ratio of racemo dyads indicates high syndiotactic stereoregularity. Therefore, the higher the ratio of racemo dyads, the higher the melting point of the hydrogenated product of the ring-opening polymer of dicyclopentadiene tends to be. The ratio of racemo dyads can be determined based on the 13C -NMR spectrum analysis described in the Examples below.
結晶性を有する脂環式構造含有重合体としては、国際公開第2018/062067号に開示されている製造方法により得られる重合体を用いうる。 As a crystalline alicyclic structure-containing polymer, a polymer obtained by the manufacturing method disclosed in WO 2018/062067 can be used.
結晶性を有する脂環式構造含有重合体の融点Tmは、好ましくは200℃以上、より好ましくは230℃以上であり、好ましくは290℃以下である。このような融点Tmを有する結晶性重合体を用いることによって、成形性と耐熱性とのバランスに更に優れた基材を得ることができる。The melting point (Tm) of the crystalline alicyclic structure-containing polymer is preferably 200°C or higher, more preferably 230°C or higher, and preferably 290°C or lower. By using a crystalline polymer with such a melting point (Tm), a substrate with an even better balance between moldability and heat resistance can be obtained.
通常、結晶性を有する脂環式構造含有重合体等の結晶性重合体は、ガラス転移温度Tgを有する。結晶性重合体の具体的なガラス転移温度Tgは、特に限定されないが、通常は85℃以上、通常170℃以下である。Typically, crystalline polymers, such as alicyclic structure-containing polymers, have a glass transition temperature (Tg). The specific glass transition temperature (Tg) of a crystalline polymer is not particularly limited, but is typically 85°C or higher and 170°C or lower.
重合体のガラス転移温度Tg及び融点Tmは、以下の方法によって測定できる。まず、重合体を、加熱によって融解させ、融解した重合体をドライアイスで急冷する。続いて、この重合体を試験体として用いて、示差走査熱量計(DSC)を用いて、10℃/分の昇温速度(昇温モード)で、重合体のガラス転移温度Tg及び融点Tmを測定しうる。The glass transition temperature (Tg) and melting point (Tm) of a polymer can be measured by the following method. First, the polymer is melted by heating, and the molten polymer is rapidly cooled with dry ice. Next, using this polymer as a test specimen, the glass transition temperature (Tg) and melting point (Tm) of the polymer can be measured using a differential scanning calorimeter (DSC) at a heating rate of 10°C/min (heating mode).
結晶性を有する脂環式構造含有重合体等の結晶性重合体の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは1,000以上、より好ましくは2,000以上であり、好ましくは1,000,000以下、より好ましくは500,000以下である。このような重量平均分子量を有する結晶性重合体は、成形加工性と耐熱性とのバランスに優れる。The weight-average molecular weight (Mw) of crystalline polymers such as crystalline alicyclic structure-containing polymers is preferably 1,000 or more, more preferably 2,000 or more, and preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less. Crystalline polymers with such weight-average molecular weights have an excellent balance between moldability and heat resistance.
結晶性を有する脂環式構造含有重合体等の結晶性重合体の分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは1.0以上、より好ましくは1.5以上であり、好ましくは4.0以下、より好ましくは3.5以下である。ここで、Mnは数平均分子量を表す。このような分子量分布を有する結晶性重合体は、成形加工性に優れる。結晶性重合体の重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)は、テトラヒドロフランを展開溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により、ポリスチレン換算値として測定しうる。The molecular weight distribution (Mw/Mn) of crystalline polymers such as crystalline alicyclic structure-containing polymers is preferably 1.0 or greater, more preferably 1.5 or greater, and preferably 4.0 or less, more preferably 3.5 or less. Here, Mn represents the number average molecular weight. Crystalline polymers with such a molecular weight distribution have excellent moldability. The weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw/Mn) of crystalline polymers can be measured in polystyrene equivalent values by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran as the developing solvent.
樹脂(a1)における結晶性を有する脂環式構造含有重合体の割合は、好ましくは50重量%以上、より好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。結晶性を有する脂環式構造含有重合体の割合を前記範囲の下限値以上とすることにより、基材の耐熱性を効果的に高めることができる。結晶性重合体の割合の上限は、100重量%以下でありうる。The proportion of the crystalline alicyclic structure-containing polymer in resin (a1) is preferably 50% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more. By ensuring that the proportion of the crystalline alicyclic structure-containing polymer is equal to or greater than the lower limit of the above range, the heat resistance of the substrate can be effectively improved. The upper limit of the proportion of the crystalline polymer can be 100% by weight or less.
樹脂(a1)に含まれる結晶性を有する脂環式構造含有重合体は、基材を製造するよりも前においては、結晶化していなくてもよい。しかし、本発明の積層体において基材を構成している状態において、当該基材に含まれる結晶性重合体は、結晶化していることが好ましく、高い結晶化度を有することが好ましい。高い結晶化度を有することにより、耐熱性等の本発明の効果をより良好に発現しうる。具体的な結晶化度の範囲は、好ましくは20%以上、より好ましくは25%以上、特に好ましくは30%以上である。結晶化度の上限は、特に限定されないが95%以下としうる。結晶性重合体の結晶化度は、密度法、X線回折法又は示差走査熱量計による測定法によって測定しうる。The crystalline alicyclic structure-containing polymer contained in resin (a1) does not need to be crystallized before the substrate is produced. However, when the substrate is formed in the laminate of the present invention, the crystalline polymer contained in the substrate is preferably crystallized and preferably has a high degree of crystallinity. A high degree of crystallinity can better exhibit the effects of the present invention, such as heat resistance. The specific range of crystallinity is preferably 20% or more, more preferably 25% or more, and particularly preferably 30% or more. The upper limit of the degree of crystallinity is not particularly limited, but can be 95% or less. The degree of crystallinity of the crystalline polymer can be measured by density analysis, X-ray diffraction analysis, or differential scanning calorimetry.
樹脂(a1)は、結晶性を有する脂環式構造含有重合体に加えて、任意の成分を含みうる。任意の成分の例としては、酸化防止剤;光安定剤;ワックス;核剤;蛍光増白剤;紫外線吸収剤;無機充填材;着色剤;難燃剤;難燃助剤;帯電防止剤;可塑剤;近赤外線吸収剤;滑剤;フィラー;及び、結晶性重合体以外の任意の重合体;などが挙げられる。また、任意の成分は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。Resin (a1) may contain optional components in addition to the crystalline alicyclic structure-containing polymer. Examples of optional components include antioxidants, light stabilizers, waxes, nucleating agents, fluorescent brighteners, ultraviolet absorbers, inorganic fillers, colorants, flame retardants, flame retardant assistants, antistatic agents, plasticizers, near-infrared absorbers, lubricants, fillers, and any polymer other than a crystalline polymer. Furthermore, the optional components may be used alone or in combination of two or more in any ratio.
基材の厚みは、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上であり、好ましくは160μm以下、より好ましくは150μm以下である。 The thickness of the substrate is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, and preferably 160 μm or less, more preferably 150 μm or less.
〔保護フィルム〕
樹脂(b1)即ち保護フィルムにおける保護フィルムを構成する樹脂は、上に述べた特定の物性を備える保護フィルムを容易に得る観点からは、結晶性を有する重合体を含む樹脂の層を備えることが好ましい。但し、特に式(1)の条件を満たす観点から、保護フィルムにおける保護フィルムを構成する材料は、通常は基材を構成する樹脂(a1)とは異なる材料としうる。かかる材料の例としては、上に述べた樹脂(a1)の例示のうち基材の構成要素として採用するものよりも低い貯蔵弾性率を発現しうる樹脂、結晶性を有する脂環式構造含有重合体以外の結晶性重合体を含む樹脂、及びその他の材料が挙げられる。
[Protective film]
From the viewpoint of easily obtaining a protective film having the specific physical properties described above, the resin (b1), i.e., the resin constituting the protective film in the protective film, preferably comprises a layer of a resin containing a crystalline polymer. However, particularly from the viewpoint of satisfying the condition of formula (1), the material constituting the protective film in the protective film can usually be a material different from the resin (a1) constituting the substrate. Examples of such materials include resins that can exhibit a lower storage modulus than the above-mentioned examples of resin (a1) used as a constituent element of the substrate, resins containing a crystalline polymer other than a crystalline alicyclic structure-containing polymer, and other materials.
樹脂(b1)を構成する結晶性重合体の例としては、上に述べた樹脂(a1)を構成する重合体の例示のうち、基材の構成要素として採用するものとは別種の重合体が挙げられる。 Examples of crystalline polymers constituting resin (b1) include polymers other than those used as components of the substrate among the examples of polymers constituting resin (a1) described above.
樹脂(b1)を構成する結晶性重合体のさらなる例としては、スチレン系重合体(例、スチレン又はスチレン誘導体の単独重合体又はこれと重合しうる他の単量体との共重合体);トリアシルセルロース等のセルロース系重合体;ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル;ポリフェニレンサルファイドなどのポリアリーレンサルファイド;ポリビニルアルコール;ポリカーボネート;ポリアリレート;ポリエーテルスルホン;ポリスルホン;ポリアリールスルホン;ポリ塩化ビニル;ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリルなどの、アクリル系重合体;ポリイミド;ポリアミドが挙げられる。これらの重合体は、単独重合体であっても、共重合体であってもよい。Further examples of crystalline polymers that may constitute resin (b1) include styrene-based polymers (e.g., homopolymers of styrene or styrene derivatives or copolymers with other monomers polymerizable therewith); cellulose-based polymers such as triacyl cellulose; polyolefins such as polyethylene and polypropylene; polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polyarylene sulfides such as polyphenylene sulfide; polyvinyl alcohol; polycarbonate; polyarylate; polyethersulfone; polysulfone; polyarylsulfone; polyvinyl chloride; acrylic polymers such as polymethyl methacrylate and polyacrylonitrile; polyimide; and polyamide. These polymers may be homopolymers or copolymers.
特に、結晶性を有するポリスチレン系重合体の例としては、特開2011-118137号公報に記載されるものが挙げられる。 In particular, examples of crystalline polystyrene-based polymers include those described in JP 2011-118137 A.
樹脂(b1)は、重合体に加えて任意の成分を含みうる。樹脂(b1)に含まれうる任意の成分の例としては、樹脂(a1)に含まれうる任意の成分の例と同様の成分が挙げられる。樹脂(b1)は、重合体を、一種単独で含んでいてもよく、二種以上の任意の比率の組み合わせで含んでいてもよい。樹脂(b1)100重量%における重合体の割合は、好ましくは70重量%以上、より好ましくは80重量%以上、更に好ましくは85重量%以上であり、通常100重量%以下であり、100重量%であってもよい。Resin (b1) may contain optional components in addition to the polymer. Examples of optional components that may be contained in resin (b1) include the same components as the examples of optional components that may be contained in resin (a1). Resin (b1) may contain a single polymer, or a combination of two or more polymers in any ratio. The proportion of polymer in 100% by weight of resin (b1) is preferably 70% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, and even more preferably 85% by weight or more, and is usually 100% by weight or less, and may be 100% by weight.
樹脂(b1)のガラス転移温度は、好ましくは60℃以上、より好ましくは70℃以上であり、好ましくは180℃以下、より好ましくは170℃以下である。樹脂(b1)のガラス転移温度が、前記下限値以上であることにより、積層体の耐熱性を効果的に向上させうる。また、ガラス転移温度が前記上限値以下であることにより、成形性を向上させうる。The glass transition temperature of resin (b1) is preferably 60°C or higher, more preferably 70°C or higher, and preferably 180°C or lower, more preferably 170°C or lower. When the glass transition temperature of resin (b1) is equal to or higher than the lower limit, the heat resistance of the laminate can be effectively improved. Furthermore, when the glass transition temperature is equal to or lower than the upper limit, moldability can be improved.
保護フィルムが、接着層と組み合わされ複合フィルムを構成する場合、保護フィルムの、接着層に接する側の表面は、コロナ処理、プラズマ処理などの表面処理が施された面としうる。即ち、保護フィルムの一方の表面に表面処理を施し、当該表面の上に接着層を形成しうる。そのような表面処理を行うことにより、保護フィルムと接着層との接着性を高め、その結果、基材を用時に保護フィルムから剥離する際に、糊残りの無い良好な剥離を容易に達成することができる。 When a protective film is combined with an adhesive layer to form a composite film, the surface of the protective film that contacts the adhesive layer can be subjected to a surface treatment such as corona treatment or plasma treatment. That is, one surface of the protective film can be surface-treated, and an adhesive layer can be formed on that surface. Such a surface treatment enhances the adhesion between the protective film and the adhesive layer, thereby making it easy to peel the substrate from the protective film without leaving any adhesive residue.
積層体における保護フィルムの厚みは、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上であり、好ましくは150μm以下、より好ましくは140μm以下である。 The thickness of the protective film in the laminate is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, and preferably 150 μm or less, more preferably 140 μm or less.
本発明の積層体における保護フィルムが、結晶性を有する重合体を含む樹脂の層である場合、保護フィルムを構成する重合体はある程度以上の結晶化度にて結晶化したものとし得る。具体的な結晶化度の範囲は、好ましくは20%以上、より好ましくは25%以上、特に好ましくは30%以上である。結晶化度の上限は、特に限定されないが95%以下としうる。 When the protective film in the laminate of the present invention is a resin layer containing a crystalline polymer, the polymer constituting the protective film may be crystallized to a certain degree of crystallinity or higher. The specific range of crystallinity is preferably 20% or higher, more preferably 25% or higher, and particularly preferably 30% or higher. The upper limit of the crystallinity is not particularly limited, but may be 95% or lower.
〔接着層〕
本発明の積層体が接着層を備える場合、接着層を構成する接着剤としては、各種の重合体をベースポリマーとしたものが挙げられる。かかるベースポリマーの例としては、アクリル系重合体、ウレタン系重合体、ポリエステル系重合体、ゴム系重合体、エポキシ系重合体、シリコーン系重合体が挙げられる。また、接着剤は、前記のベースポリマーに組み合わせて、重合開始剤、硬化剤、紫外線吸収剤、着色剤、帯電防止剤等の任意の成分を含みうる。
接着剤には、粘着剤(感圧性接着剤)が包含される。
[Adhesive layer]
When the laminate of the present invention includes an adhesive layer, the adhesive constituting the adhesive layer may be one having various polymers as a base polymer. Examples of such base polymers include acrylic polymers, urethane polymers, polyester polymers, rubber polymers, epoxy polymers, and silicone polymers. The adhesive may also contain optional components such as a polymerization initiator, a curing agent, an ultraviolet absorber, a colorant, and an antistatic agent in combination with the base polymer.
The adhesive includes a pressure-sensitive adhesive.
接着剤としては、市販品を利用しうる。また、接着性を有するフィルムとして各種の接着層が市販されているので、それを利用して接着層を構成しうる。接着層は、単層構造を有していてもよく、複層構造を有していてもよい。 Commercially available adhesives can be used. Additionally, various adhesive layers are commercially available as adhesive films, and these can be used to form the adhesive layer. The adhesive layer may have a single-layer structure or a multi-layer structure.
接着層の厚みは、特に限定されず、例えば3μm~30μm、例えば5μm~20μmの範囲としうる。 The thickness of the adhesive layer is not particularly limited and can be, for example, in the range of 3 μm to 30 μm, such as 5 μm to 20 μm.
〔積層体の製造方法〕
本発明の積層体は、任意の方法で製造されうる。式(1)~(2)で規定される要件を満たす積層体を容易に製造する観点から、本発明の積層体は、下記工程(1)~(2)を含む製造方法により製造することが好ましい。以下において、当該製造方法を、本発明の積層体の製造方法として説明する。
工程(1):アニール前基材及びアニール前保護フィルムを貼合し、アニール前基材及びアニール前保護フィルムを備えるアニール前積層体を得る工程。
工程(2):アニール前積層体をアニール処理する工程。
[Method for manufacturing laminate]
The laminate of the present invention can be produced by any method. From the viewpoint of easily producing a laminate that satisfies the requirements defined by formulas (1) and (2), the laminate of the present invention is preferably produced by a production method including the following steps (1) and (2). Hereinafter, this production method will be described as a method for producing the laminate of the present invention.
Step (1): A step of laminating a pre-annealed substrate and a pre-annealed protective film to obtain a pre-annealed laminate comprising the pre-annealed substrate and the pre-annealed protective film.
Step (2): A step of annealing the pre-annealing laminate.
〔アニール前基材〕
工程(1)において用いるアニール前基材の材料の例としては、本発明の積層体の基材を構成する材料である樹脂(a1)の例として上に挙げたものと同じものが挙げられる。但し、アニール前基材及びアニール前保護フィルムは、積層体における基材及び保護フィルムと異なる貯蔵弾性率及び熱収縮率を有しうるので、これらはこの時点で前記式(1)~(2)を満たしていなくてもよい。
[Base material before annealing]
Examples of materials for the pre-annealed substrate used in step (1) include the same materials as those listed above as examples of the resin (a1) that constitutes the substrate of the laminate of the present invention. However, since the pre-annealed substrate and the pre-annealed protective film may have storage moduli and thermal shrinkage coefficients different from those of the substrate and the protective film in the laminate, they do not necessarily need to satisfy the above formulas (1) and (2) at this point.
アニール前基材の調製方法は特に限定されず、任意のフィルム製造方法により調製しうる。具体的には、溶融押出法等の既知の成形方法を採用し、樹脂(a1)を長尺状のフィルムの形状に成形することにより、アニール前基材を調製しうる。又は、アニール前基材としては、入手可能な市販品を利用してもよい。The method for preparing the pre-annealed substrate is not particularly limited, and it can be prepared by any film production method. Specifically, the pre-annealed substrate can be prepared by employing a known molding method such as melt extrusion to mold resin (a1) into the shape of a long film. Alternatively, a commercially available product may be used as the pre-annealed substrate.
樹脂(a1)を溶融押出法等の成形方法により成形したフィルム、又は市販の樹脂(a1)であるフィルムは、そのままアニール前基材として用いうる。又は、これらのフィルムを原反フィルムとして、これに必要に応じて任意の処理を施した上でアニール前基材として用いてもよい。例えば、原反フィルムを、延伸の工程に供し、所望の位相差、寸法及びその他の性質を有するフィルムとし、これをアニール前基材として使用してもよい。さらに、所望の性質を得るため、延伸の後に、樹脂(a1)の結晶化促進の工程を行いうる。 Films formed from resin (a1) by a molding method such as melt extrusion, or commercially available films of resin (a1), can be used as pre-annealed substrates as is. Alternatively, these films may be used as raw films, subjected to any treatment as necessary, and then used as pre-annealed substrates. For example, raw films may be subjected to a stretching process to produce films with the desired retardation, dimensions, and other properties, which can then be used as pre-annealed substrates. Furthermore, in order to obtain the desired properties, a process of promoting crystallization of resin (a1) may be carried out after stretching.
延伸方向に制限はなく、例えば、長手方向、幅方向、斜め方向などが挙げられる。ここで、斜め方向とは、厚み方向に対して垂直な方向であって、幅方向に平行でもなく垂直でもない方向を表す。また、延伸方向は、一方向でもよく、二以上の方向でもよい。よって、延伸方法としては、例えば、原反フィルムを長手方向に一軸延伸する方法(縦一軸延伸法)、原反フィルムを幅方向に一軸延伸する方法(横一軸延伸法)等の、一軸延伸法;原反フィルムを長手方向に延伸すると同時に幅方向に延伸する同時二軸延伸法、原反フィルムを長手方向及び幅方向の一方に延伸した後で他方に延伸する逐次二軸延伸法等の、二軸延伸法;原反フィルムを斜め方向に延伸する方法(斜め延伸法);及びこれらの組み合わせが挙げられる。The stretching direction is not limited, and examples include the longitudinal direction, width direction, and diagonal direction. Here, the diagonal direction refers to a direction perpendicular to the thickness direction, but neither parallel nor perpendicular to the width direction. The stretching direction may be one direction or two or more directions. Therefore, stretching methods include, for example, uniaxial stretching methods, such as a method in which a raw film is uniaxially stretched in the longitudinal direction (longitudinal uniaxial stretching method) or a method in which a raw film is uniaxially stretched in the width direction (transverse uniaxial stretching method); biaxial stretching methods, such as a simultaneous biaxial stretching method in which a raw film is stretched in the longitudinal direction and simultaneously stretched in the width direction, and a sequential biaxial stretching method in which a raw film is stretched in one of the longitudinal and width directions and then stretched in the other direction; a method in which a raw film is stretched in a diagonal direction (diagonal stretching method); and combinations thereof.
一軸延伸法の態様の例としては、固定端一軸延伸法及び自由端一軸延伸法が挙げられる。固定端一軸延伸法は、原反フィルム延伸方向と直交する方向の端部を固定して行う延伸方法であり、自由端一軸延伸法は、原反フィルム延伸方向と直交する方向の端部を固定せずに行う延伸方法である。縦一軸延伸法は多くの場合自由端一軸延伸であり、横一軸延伸法は多くの場合固定端一軸延伸である。 Examples of uniaxial stretching methods include fixed-end uniaxial stretching and free-end uniaxial stretching. Fixed-end uniaxial stretching is a stretching method in which the end of the raw film in the direction perpendicular to the stretching direction is fixed, while free-end uniaxial stretching is a stretching method in which the end of the raw film in the direction perpendicular to the stretching direction is not fixed. Longitudinal uniaxial stretching is often free-end uniaxial stretching, and transverse uniaxial stretching is often fixed-end uniaxial stretching.
延伸倍率は、積層体において基材が所望の位相差、寸法及びその他の性質を有するよう適宜調整しうる。具体的には、好ましくは1倍以上、より好ましくは1.01倍以上であり、好ましくは15倍以下、より好ましくは11倍以下である。延伸が二軸延伸である場合、面倍率即ち二方向の延伸倍率の積が、かかる範囲内であることが好ましい。The stretching ratio can be adjusted as appropriate so that the substrate in the laminate has the desired phase difference, dimensions, and other properties. Specifically, it is preferably 1x or more, more preferably 1.01x or more, and preferably 15x or less, more preferably 11x or less. When the stretching is biaxial, it is preferable that the areal ratio, i.e., the product of the stretching ratios in two directions, be within this range.
延伸温度は、好ましくは「Tg+5℃」以上、より好ましくは「Tg+10℃」以上であり、好ましくは「Tg+100℃」以下、より好ましくは「Tg+90℃」以下である。ここで、「Tg」は延伸される重合体のガラス転移温度を表す。延伸温度が前記範囲の下限値以上である場合、原反フィルムを十分に軟化させて延伸を均一に行うことができる。また、延伸温度が前記範囲の上限値以下である場合、重合体の結晶化の進行による原反フィルムの硬化を抑制できるので、延伸を円滑に行うことができ、また、延伸によって大きな複屈折を発現させることができる。さらに、通常は、得られる基材のヘイズを小さくして透明性を高めることができる。The stretching temperature is preferably at least "Tg + 5°C," more preferably at least "Tg + 10°C," and preferably at most "Tg + 100°C," more preferably at most "Tg + 90°C." Here, "Tg" represents the glass transition temperature of the polymer being stretched. When the stretching temperature is at or above the lower limit of the above range, the raw film is sufficiently softened to allow for uniform stretching. Furthermore, when the stretching temperature is at or below the upper limit of the above range, hardening of the raw film due to the progression of polymer crystallization can be suppressed, allowing for smooth stretching and the development of large birefringence through stretching. Furthermore, the resulting substrate typically has a reduced haze and is therefore more transparent.
結晶化促進工程は、延伸の工程の後に、フィルムを加熱することにより行いうる。かかる加熱は、フィルムの寸法を制御し延伸後の寸法を維持した状態で、又は延伸後の寸法から制御された僅かな倍率に縮小させて行いうる。フィルムを縮小させる場合の寸法変化の割合は、好ましくは0.90倍以上、1倍未満としうる。フィルムを二方向に縮小させる場合は、面倍率即ち二方向の寸法変化の倍率の積が、かかる範囲内であることが好ましい。縮小の倍率は、縮小前の寸法を1とした場合における、縮小後の寸法の割合である。The crystallization promotion process can be carried out by heating the film after the stretching process. Such heating can be carried out by controlling the dimensions of the film and maintaining the post-stretching dimensions, or by shrinking the film by a small, controlled factor from the post-stretching dimensions. When shrinking the film, the dimensional change rate is preferably 0.90 times or more and less than 1 time. When shrinking the film in two directions, it is preferable that the areal magnification, i.e., the product of the dimensional change rates in the two directions, be within this range. The shrinking rate is the ratio of the post-shrinking dimension to the pre-shrinking dimension, which is taken as 1.
結晶化促進工程での加熱温度は、通常、結晶性重合体のガラス転移温度Tg以上、結晶性重合体の融点Tm以下である。より詳細には、加熱温度は、好ましくはTg℃以上、より好ましくはTg+10℃以上であり、好ましくはTm-10℃以下、より好ましくはTm-20℃以下である。加熱温度をかかる範囲内とすることにより、結晶化の進行による白濁を抑制しながら、速やかに結晶性重合体の結晶化を進行させることができる。 The heating temperature in the crystallization promotion step is typically equal to or higher than the glass transition temperature (Tg) of the crystalline polymer and equal to or lower than the melting point (Tm) of the crystalline polymer. More specifically, the heating temperature is preferably equal to or higher than Tg°C, more preferably equal to or higher than Tg + 10°C, and is preferably equal to or lower than Tm - 10°C, more preferably equal to or lower than Tm - 20°C. By keeping the heating temperature within this range, it is possible to rapidly promote the crystallization of the crystalline polymer while suppressing cloudiness due to the progression of crystallization.
加熱処理時間は、好ましくは1秒以上、より好ましくは5秒以上であり、好ましくは30分以下、より好ましくは15分以下である。 The heat treatment time is preferably at least 1 second, more preferably at least 5 seconds, and preferably at most 30 minutes, more preferably at most 15 minutes.
〔アニール前保護フィルム及び接着層〕
工程(1)において用いるアニール前保護フィルムの材料の例としては、本発明の積層体の保護フィルムを構成する材料である樹脂(b1)の例として上に挙げたものと同じものが挙げられる。
[Protective film and adhesive layer before annealing]
Examples of materials for the pre-annealed protective film used in step (1) include the same materials as those listed above as examples of the resin (b1) that is the material constituting the protective film of the laminate of the present invention.
アニール前保護フィルムの調製方法は特に限定されず、任意のフィルム製造方法により調製しうる。具体的には、溶融押出法等の既知の成形方法を採用し、樹脂(b1)を長尺状のフィルムの形状に成形することにより、アニール前保護フィルムを調製しうる。又は、アニール前保護フィルムとしては、入手可能な市販品を利用してもよい。アニール前保護フィルムは、延伸されたフィルムであってもよいが、特に延伸の処理が施されていないフィルムであってもよい。 The method for preparing the pre-annealed protective film is not particularly limited, and it can be prepared by any film manufacturing method. Specifically, the pre-annealed protective film can be prepared by employing a known molding method such as melt extrusion to mold resin (b1) into a long film shape. Alternatively, a commercially available product can be used as the pre-annealed protective film. The pre-annealed protective film may be a stretched film, or it may be a film that has not been subjected to any particular stretching treatment.
工程(1)に先立って、アニール前保護フィルムの表面に接着層を設け、複合フィルムを構成しうる。接着層の形成方法としては、アニール前保護フィルムの表面に接着剤を塗工することにより行いうる。塗工した接着剤の層は、必要に応じてさらに硬化処理に供し、所望の物性を有する接着層としうる。又は、アニール前保護フィルムの表面に、接着性を有するフィルムの層を転写することによっても、接着層を設けうる。 Prior to step (1), an adhesive layer can be provided on the surface of the pre-annealed protective film to form a composite film. The adhesive layer can be formed by applying an adhesive to the surface of the pre-annealed protective film. The applied adhesive layer can be further subjected to a curing treatment, if necessary, to form an adhesive layer with the desired physical properties. Alternatively, the adhesive layer can be provided by transferring a layer of an adhesive film onto the surface of the pre-annealed protective film.
接着剤を塗工する場合の塗工方法の例としては、ワイヤーバーコート法、スプレー法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スライドコート法、及びエクストルージョンコート法が挙げられる。接着剤の硬化処理の例としては、乾燥処理が挙げられ、その例としては、減圧乾燥、加熱乾燥及びこれらの組み合わせが挙げられる。 Examples of coating methods for applying adhesives include wire bar coating, spraying, roll coating, gravure coating, die coating, curtain coating, slide coating, and extrusion coating. Examples of adhesive curing processes include drying, such as vacuum drying, heat drying, and combinations of these.
〔アニール前基材及びアニール前保護フィルムの物性〕
アニール前基材は、結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含む樹脂の層であるので、アニール前基材を構成する重合体はある程度以上の結晶化度にて結晶化したものとし得る。具体的な結晶化度の範囲は、好ましくは20%以上、より好ましくは25%以上、特に好ましくは30%以上である。結晶化度の上限は、特に限定されないが95%以下としうる。
[Physical Properties of Substrate and Protective Film Before Annealing]
Since the pre-annealed substrate is a layer of a resin containing a crystalline alicyclic structure-containing polymer, the polymer constituting the pre-annealed substrate can be crystallized to a certain degree of crystallinity or higher. The specific range of crystallinity is preferably 20% or higher, more preferably 25% or higher, and particularly preferably 30% or higher. The upper limit of the crystallinity is not particularly limited, but can be 95% or lower.
アニール前保護フィルムが、結晶性を有する重合体を含む樹脂の層である場合、アニール前保護フィルムを構成する重合体はある程度以上の結晶化度にて結晶化したものとし得る。具体的な結晶化度の範囲は、好ましくは20%以上、より好ましくは25%以上、特に好ましくは30%以上である。結晶化度の上限は、特に限定されないが95%以下としうる。 When the pre-annealed protective film is a resin layer containing a crystalline polymer, the polymer constituting the pre-annealed protective film may be crystallized to a certain degree of crystallinity or higher. The specific range of crystallinity is preferably 20% or higher, more preferably 25% or higher, and particularly preferably 30% or higher. The upper limit of crystallinity is not particularly limited, but may be 95% or lower.
アニール前基材及びアニール前保護フィルムの貯蔵弾性率及び熱収縮率は、製品たる積層体における基材及び保護フィルムの貯蔵弾性率及び熱収縮率が上に述べた所望の値となるよう、材料及び調製条件を適宜調整しうる。アニール前基材及びアニール前保護フィルムの貯蔵弾性率及び熱収縮率並びにそれらの比率自体は、特に限定されないが、以下の範囲の値であることが好ましい。 The storage modulus and heat shrinkage rate of the pre-annealed substrate and pre-annealed protective film can be adjusted appropriately by adjusting the materials and preparation conditions so that the storage modulus and heat shrinkage rate of the substrate and protective film in the finished laminate are the desired values described above. The storage modulus and heat shrinkage rate of the pre-annealed substrate and pre-annealed protective film, as well as their ratio, are not particularly limited, but are preferably within the following ranges:
アニール前基材の180℃における貯蔵弾性率pE’sと、アニール前保護フィルムの180℃における貯蔵弾性率pE’pは、それらの比pE’s/pE’pが特定の範囲の値であることが好ましい。pE’s/pE’pの値は、好ましくは1未満であり、より好ましくは0.95以下であり、さらにより好ましくは0.90以下である。pE’s/pE’pの下限は特に限定されないが0.1以上としうる。pE’s及びpE’pのそれぞれの値は、特に限定されないが例えば1.0×107Pa以上1.0×109Pa以下としうる。 The ratio pE's/pE'p of the storage modulus pE's of the substrate at 180°C before annealing to the storage modulus pE'p of the protective film at 180°C before annealing is preferably a value within a specific range. The value of pE's/pE'p is preferably less than 1, more preferably 0.95 or less, and even more preferably 0.90 or less. The lower limit of pE's/pE'p is not particularly limited, but can be 0.1 or more. The values of pE's and pE'p are not particularly limited, but can be, for example, 1.0 x 10 7 Pa or more and 1.0 x 10 9 Pa or less.
また、アニール前基材の180℃2分における積層体長手方向の熱収縮率pFs(%)及びアニール前保護フィルムの180℃2分における積層体長手方向の熱収縮率pFp(%)は、それらの差pFs-pFpが特定の範囲の値であることが好ましい。pFs-pFpの値は、好ましくは-1.0%以上であり、より好ましくは-0.8%以上であり、一方好ましくは1.0%以下であり、より好ましくは0.8%以下である。pFs及びpFpのそれぞれの値は、特に限定されないが例えば-0.3%以上1.0%以下としうる。 Furthermore, it is preferable that the difference pFs (%) between the thermal shrinkage rate of the pre-annealed base material in the longitudinal direction of the laminate at 180°C for 2 minutes and the thermal shrinkage rate pFp (%) of the pre-annealed protective film in the longitudinal direction of the laminate at 180°C for 2 minutes, i.e., pFs - pFp, is within a specific range. The value of pFs - pFp is preferably -1.0% or greater, more preferably -0.8% or greater, and is preferably 1.0% or less, more preferably 0.8% or less. The values of pFs and pFp are not particularly limited, but can be, for example, -0.3% or greater and 1.0% or less.
pE’s/pE’pの値及びpFs-pFpの値が上記好ましい範囲内であることにより、前記式(1)及び(2)を満たす基材及び保護フィルムを備える本発明の積層体を容易に製造することができる。 By ensuring that the values of pE's/pE'p and pFs-pFp are within the above preferred ranges, the laminate of the present invention can be easily manufactured, comprising a substrate and a protective film that satisfy the above formulas (1) and (2).
〔工程(1)〕
工程(1)は、長尺状のアニール前基材とアニール前保護フィルムとを、長手方向を揃えて重ね合わせて、これらを加圧することにより行いうる。加圧は、ニップロール等の、長尺状のフィルムを加圧する装置で連続的に行いうる。アニール前保護フィルムが接着層を伴い複合フィルムを構成している場合、複合フィルムの接着層側の表面を、アニール前基材の表面と貼合し、それにより、アニール前基材とアニール前保護フィルムとが、接着層を介して貼合されたアニール前積層体を得うる。
[Step (1)]
Step (1) can be performed by overlapping a long pre-annealed substrate and a pre-annealed protective film with their longitudinal directions aligned and applying pressure to them. Pressurization can be performed continuously using a device that pressurizes a long film, such as a nip roll. When the pre-annealed protective film includes an adhesive layer and forms a composite film, the surface of the composite film on the adhesive layer side can be bonded to the surface of the pre-annealed substrate, thereby obtaining a pre-annealed laminate in which the pre-annealed substrate and the pre-annealed protective film are bonded via the adhesive layer.
〔工程(2)〕
工程(2)におけるアニール処理は、アニール前積層体を、その面内方向のうちの少なくとも1の方向において拘束した状態で加熱することにより行いうる。アニール前積層体の拘束は、例えば、アニール前積層体を、その長手方向、幅方向、またはこれらの両方の方向において拘束することにより行いうる。
[Step (2)]
The annealing treatment in step (2) can be performed by heating the pre-annealed laminate while restraining it in at least one of its in-plane directions, for example, by restraining the pre-annealed laminate in its longitudinal direction, width direction, or both.
アニール前積層体の長手方向の拘束を伴うアニール処理は、例えば、ロールサポート方式のフィルム乾燥機を用いて行いうる。ロールサポート方式の乾燥機は、上流側のニップロールと、下流側のニップロールと、その間に設けられたオーブンを備え、上流側ニップロールと下流側ニップロールとの周速比を調整することにより、ニップロール間のフィルムに張力を付与した状態で長尺のフィルムを搬送し、その間でオーブン内を通過させ、オーブン内ではフィルムを下側から支持する非拘束的なロールのみでフィルムを誘導することにより、オーブン内で、フィルム幅方向の拘束を伴わない状態でのフィルム加熱を行いうる装置である。アニール前積層体を、その長手方向に沿った方向に搬送し、乾燥機に連続的に導入し、加熱することにより、アニール処理を行いうる。この場合フィルムに付与する張力は、好ましくは3N/m以上、25N/m以下としうる。Annealing treatment involving longitudinal restraint of the pre-annealed laminate can be performed, for example, using a roll-supported film dryer. A roll-supported dryer is equipped with an upstream nip roll, a downstream nip roll, and an oven located between them. By adjusting the peripheral speed ratio between the upstream and downstream nip rolls, a long film is conveyed between the nip rolls while tension is applied, and the film passes through the oven between them. The film is guided within the oven only by a non-restraining roll supporting the film from below, allowing the film to be heated within the oven without restraining it in the width direction. The pre-annealed laminate can be conveyed along its longitudinal direction, continuously introduced into the dryer, and heated to perform the annealing treatment. In this case, the tension applied to the film is preferably 3 N/m or more and 25 N/m or less.
アニール前積層体の長手方向の拘束を伴うアニール処理は、例えば、延伸の処理に用いる装置と同様の構造を有する装置を用いて行いうる。より具体的には、テンター方式の延伸機等、長尺状のフィルムの長手方向及び幅方向の両方の寸法を制御して連続的にフィルムを加熱しうる装置を用い、かかる延伸機内においてフィルムを把持しフィルムの長手方向及び幅方向の寸法を変化させず維持した状態でフィルムを搬送し加熱することにより、アニール処理を行いうる。Annealing, which involves restraining the pre-annealed laminate in the longitudinal direction, can be carried out, for example, using equipment with a structure similar to that used for stretching. More specifically, annealing can be carried out using equipment such as a tenter-type stretching machine that can continuously heat a long film by controlling both the longitudinal and width dimensions of the film. The film is gripped within the stretching machine and transported and heated while maintaining its longitudinal and width dimensions unchanged.
アニール処理における加熱温度は、通常、結晶性重合体のガラス転移温度Tg以上、結晶性重合体の融点Tm以下である。より詳細には、加熱温度は、好ましくはTg+20℃以上、より好ましくはTg+40℃以上であり、好ましくはTm-20℃以下、より好ましくはTm-40℃以下である。加熱時間は好ましくは5秒間以上、より好ましくは10秒間以上であり、一方好ましくは30分間以下、より好ましくは15分間以下である。加熱温度及び時間をかかる範囲内とすることにより、良好なアニール処理を達成することができ、アニール後の基材及び保護フィルムを備える、本発明の積層体を得ることができる。 The heating temperature in the annealing treatment is typically equal to or higher than the glass transition temperature (Tg) of the crystalline polymer and equal to or lower than the melting point (Tm) of the crystalline polymer. More specifically, the heating temperature is preferably equal to or higher than Tg + 20°C, more preferably equal to or higher than Tg + 40°C, and is preferably equal to or lower than Tm - 20°C, more preferably equal to or lower than Tm - 40°C. The heating time is preferably equal to or higher than 5 seconds, more preferably equal to or higher than 10 seconds, while preferably equal to or lower than 30 minutes, more preferably equal to or lower than 15 minutes. By keeping the heating temperature and time within these ranges, a good annealing treatment can be achieved, and a laminate of the present invention comprising an annealed substrate and protective film can be obtained.
結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含む樹脂のフィルムであるアニール前基材を、保護フィルムを伴わない単独の状態でアニール処理した場合、平面性が毀損されやすく、そのような現象は、アニール前基材が、アニール処理に先立ち、高い面倍率で延伸されている場合において特に顕著である。かかる平面性の毀損を低減するための方策としては、基材を、アニール処理に先立ち保護フィルムとの積層体とすることが考えられる。しかしながら、保護フィルムを単に設けただけでは、平面性の毀損は低減し難く、また得られる基材において、アニール処理による耐熱性発現が不十分な場合がある。 When a pre-annealed substrate, which is a film of a resin containing a crystalline alicyclic structure-containing polymer, is annealed alone without a protective film, its flatness is easily impaired. This phenomenon is particularly pronounced when the pre-annealed substrate is stretched at a high areal ratio prior to annealing. One way to reduce this impairment of flatness is to laminate the substrate with a protective film prior to annealing. However, simply providing a protective film is unlikely to reduce the impairment of flatness, and the resulting substrate may not exhibit sufficient heat resistance upon annealing.
ここで、本発明者が見出したところによれば、アニール前基材及びアニール前保護フィルムの材料及びアニール処理に先立つ処理条件を、アニール後の基材及び保護フィルムが前記式(1)及び(2)を満たすものとなるように適宜調整した状態でアニール前積層体とし、これをアニール処理することにより、良好な平面性及び耐熱性を有する積層体を容易に製造することができる。 The inventors have discovered that by appropriately adjusting the materials of the pre-annealed substrate and pre-annealed protective film and the processing conditions prior to the annealing treatment so that the substrate and protective film after annealing satisfy the above formulas (1) and (2), a pre-annealed laminate is produced, and then annealing this laminate, a laminate with good flatness and heat resistance can be easily produced.
〔任意の工程〕
本発明の積層体の製造方法は、前記工程(1)~(2)に加えて、更に任意の工程を含みうる。かかる任意の工程の例としては、積層体に含まれる基材の表面に導電層等の追加の層を形成する工程、及び積層体を巻き取って巻回体を得る工程が挙げられる。
[Optional step]
The method for producing a laminate of the present invention may further include any optional steps in addition to the steps (1) and (2) described above. Examples of such optional steps include a step of forming an additional layer, such as a conductive layer, on the surface of the substrate included in the laminate, and a step of winding the laminate to obtain a wound body.
〔積層体の用途〕
本発明の積層体は、そのまま、光学的な装置の構成要素又は、光学的な装置に限られないその他の電子部品及び電気部品の構成要素として使用しうる。又は、本発明の積層体から保護フィルムを剥離し、残余の基材を、光学的な装置の構成要素又はその他の電子部品及び電気部品の構成要素として使用しうる。
光学的な装置の構成要素の例としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の表示装置及びその他の装置における、基板フィルム、位相差フィルム、偏光フィルム、及び光拡散シートが挙げられる。基板フィルムは、その可撓性を生かして、タッチパネル基板フィルム及びフレキシブルディスプレイ基板フィルムとして特に有用に用いうる。また、集光シート及び光カード等の構成要素としての用途も好ましく挙げられる。
その他の電子部品及び電気部品の構成要素の例としては、フレキシブルプリント基板用フィルム、フィルムコンデンサー、高周波回路基板フィルム、アンテナ基板フィルム、電池セパレーター用フィルム、及び離型フィルムが挙げられる。
積層体は、平面性を良好に維持することができ、熱負荷に対する形状変化が少なく、且つ高温環境下におけるカール量が少ない。したがって、形成工程が高温下で行われる光学要素(例えば、タッチパネルに含まれる導電層)を製造するための基材として、特に有用に用いうる。本発明の積層体における基材はまた、所望の位相差を設けることにより、積層体から剥離した後に位相差層として特に有用に使用しうる。本発明の積層体における基材はさらに、その高い平面性及び耐熱性を生かして、偏光子を保護する保護フィルムとして使用しうる。
[Uses of laminate]
The laminate of the present invention can be used as it is as a component of an optical device or a component of other electronic and electrical components, not limited to optical devices. Alternatively, the protective film can be peeled off from the laminate of the present invention, and the remaining substrate can be used as a component of an optical device or a component of other electronic and electrical components.
Examples of components of optical devices include substrate films, retardation films, polarizing films, and light diffusion sheets in displays such as liquid crystal displays and organic electroluminescence displays, as well as other devices. Taking advantage of their flexibility, substrate films are particularly useful as touch panel substrate films and flexible display substrate films. Other preferred applications include light-collecting sheets, optical cards, and other components.
Examples of other components of electronic and electrical parts include films for flexible printed circuit boards, film capacitors, high-frequency circuit board films, antenna substrate films, films for battery separators, and release films.
The laminate can maintain good flatness, undergo little change in shape due to heat load, and curl little in a high-temperature environment. Therefore, it can be particularly useful as a substrate for manufacturing an optical element (e.g., a conductive layer included in a touch panel) whose formation process is performed at high temperatures. The substrate in the laminate of the present invention can also be particularly useful as a retardation layer after peeling from the laminate by providing a desired retardation. The substrate in the laminate of the present invention can further be used as a protective film to protect a polarizer, taking advantage of its high flatness and heat resistance.
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。The present invention will be described in more detail below with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples shown below, and can be modified and implemented as desired within the scope of the claims of the present invention and their equivalents.
以下の説明において、量を表す「%」及び「部」は、別に断らない限り、重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。In the following explanation, "%" and "parts" used to represent amounts are by weight unless otherwise specified. Furthermore, the operations described below were carried out at room temperature and pressure unless otherwise specified.
〔評価方法〕
(重合体の重量平均分子量Mw及び数平均分子量Mn)
重合体の重量平均分子量Mw及び数平均分子量Mnは、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)システム(東ソー社製「HLC-8320」)を用いて、ポリスチレン換算値として測定した。測定の際、カラムとしてはHタイプカラム(東ソー社製)を用い、溶媒としてはテトラヒドロフランを用いた。測定時のカラム温度は、40℃とした。
[Evaluation method]
(Weight average molecular weight Mw and number average molecular weight Mn of polymer)
The weight average molecular weight Mw and number average molecular weight Mn of the polymer were measured as polystyrene equivalent values using a gel permeation chromatography (GPC) system ("HLC-8320" manufactured by Tosoh Corporation). During the measurement, an H-type column (manufactured by Tosoh Corporation) was used as the column, and tetrahydrofuran was used as the solvent. The column temperature during the measurement was 40°C.
(重合体の水素化率の測定方法)
重合体の水素化率は、オルトジクロロベンゼン-d4を溶媒として、145℃で、1H-NMR測定により測定した。
(Method for measuring hydrogenation rate of polymer)
The hydrogenation rate of the polymer was measured by 1 H-NMR measurement at 145° C. using orthodichlorobenzene- d4 as a solvent.
(ガラス転移温度Tg及び融点Tm)
重合体を、加熱によって融解させ、融解した重合体をドライアイスで急冷した。続いて、この重合体を試験体として用いて、示差走査熱量計(DSC)を用いて、10℃/分の昇温速度(昇温モード)で、重合体のガラス転移温度Tg及び融点Tmを測定した。
(Glass transition temperature Tg and melting point Tm)
The polymer was melted by heating and then quenched with dry ice. Subsequently, the glass transition temperature Tg and melting point Tm of the polymer were measured using a differential scanning calorimeter (DSC) at a heating rate of 10°C/min (heating mode).
(開環重合体水素添加物におけるラセモ・ダイアッドの割合)
オルトジクロロベンゼン-d4/1,2,4-トリクロロベンゼン(TCB)-d3(混合比(質量基準)1/2)を溶媒として、200℃でinverse-gated decoupling法を適用して13C-NMR測定を行い、ラセモ・ダイアッドの割合を求めた。具体的には、オルトジクロロベンゼン-d4の127.5ppmのピークを基準シフトとして、メソ・ダイアッド由来の43.35ppmのシグナルと、ラセモ・ダイアッド由来の43.43ppmのシグナルとを同定した。これらのシグナルの強度比に基づいて、ラセモ・ダイアッドの割合を求めた。
(Ratio of racemo-dyad in hydrogenated ring-opening polymer)
Using orthodichlorobenzene-d 4 /1,2,4-trichlorobenzene (TCB)-d 3 (mixing ratio (by mass) 1/2) as the solvent, 13 C-NMR measurements were performed at 200°C using the inverse-gated decoupling method to determine the proportion of racemo dyads. Specifically, using the peak of 127.5 ppm of orthodichlorobenzene-d 4 as the reference shift, a signal at 43.35 ppm derived from meso dyads and a signal at 43.43 ppm derived from racemo dyads were identified. The proportion of racemo dyads was determined based on the intensity ratio of these signals.
(膜厚)
フィルムの厚みは、接触式厚さ計(MITUTOYO社製、Code No.543-390)を用いて測定した。
(film thickness)
The thickness of the film was measured using a contact type thickness meter (manufactured by MITUTOYO Corporation, Code No. 543-390).
(熱収縮率)
アニール前基材及びアニール前保護フィルムの熱収縮率(pFs及びpFp)の測定では、23℃(室温)の環境下で、各フィルムを切り出し、120mm×120mmの大きさの正方形の試料フィルムとした。一方アニール処理後の積層体の各層である基材及び保護フィルムの熱収縮率(Fs及びFp)の測定では、23℃(室温)の環境下で、積層体を切り出し120mm×120mmの大きさの正方形の切片とし、基材と複合フィルムとを剥離して、それぞれを試料フィルムとした。接着層が熱収縮率に与える影響は無視できる程度に小さいため、保護フィルムについては、接着層を伴った複合フィルムの状態のまま熱収縮率の測定を行った。試料フィルムの正方形の各辺は、フィルムの長手方向又は幅方向に平行な方向とした。
(Thermal shrinkage rate)
To measure the thermal shrinkage (pFs and pFp) of the substrate and protective film before annealing, each film was cut out at 23°C (room temperature) to obtain a square sample film measuring 120 mm x 120 mm. To measure the thermal shrinkage (Fs and Fp) of the substrate and protective film, which are layers of the laminate after annealing, the laminate was cut out at 23°C (room temperature) to obtain a square piece measuring 120 mm x 120 mm, and the substrate and composite film were peeled off to obtain a sample film. Because the effect of the adhesive layer on the thermal shrinkage was negligibly small, the thermal shrinkage of the protective film was measured in the state of a composite film with the adhesive layer attached. Each side of the square sample film was parallel to the longitudinal or transverse direction of the film.
この試料フィルムを、所定の加熱条件にて加熱し、その後23℃(室温)まで冷却し、その後試料フィルムの四辺の長さを測定した。加熱条件は、アニール前基材及びアニール前保護フィルムの測定では145℃60分間及び200℃10分間の2種類とした。アニール処理後の基材及び保護フィルムの測定では加熱条件は180℃2分間とした。アニール処理後の基材の測定ではさらに、145℃60分間及び200℃10分間の測定も行った。 This sample film was heated under specified heating conditions, then cooled to 23°C (room temperature), and the lengths of all four sides of the sample film were measured. For measurements of the pre-annealed substrate and pre-annealed protective film, two heating conditions were used: 145°C for 60 minutes and 200°C for 10 minutes. For measurements of the annealed substrate and protective film, the heating condition was 180°C for 2 minutes. For measurements of the annealed substrate, measurements were also performed at 145°C for 60 minutes and 200°C for 10 minutes.
測定された四辺それぞれの長さを基に、下記式(I)に基づいて、試料フィルムの熱収縮率を算出した。式(I)において、LBは、加熱前の試料フィルムの辺の長さを示し、本測定においてLBは120mmであり、LAは、加熱後の試料フィルムの辺の長さを示す。
熱収縮率(%)=[(LB-LA)/LB]×100 (I)
熱収縮率が正の値である場合は、加熱によりフィルムが収縮することを示し、負の値である場合は、加熱によりフィルムが伸長することを示す。
The heat shrinkage of the sample film was calculated based on the measured lengths of each of the four sides according to the following formula (I): In formula (I), L B represents the length of the side of the sample film before heating, and in this measurement, L B was 120 mm, and L A represents the length of the side of the sample film after heating.
Heat shrinkage rate (%) = [(L B - L A ) / L B ] × 100 (I)
A positive value of the heat shrinkage rate indicates that the film shrinks when heated, and a negative value indicates that the film expands when heated.
フィルムの搬送方向(すなわち、長尺のフィルムの長手方向)に沿った2辺の収縮率の平均値を、フィルムの搬送方向の熱収縮率、すなわち長尺のフィルムの長手方向における熱収縮率として採用した。また、フィルムの幅方向に沿った2辺の熱収縮率の平均値を、長尺のフィルムの幅方向における熱収縮率として採用した。さらにアニール処理後の基材及び保護フィルムについては、基材の長手方向における熱収縮率Fs(%)及び保護フィルムの長手方向における熱収縮率Fp(%)から、Fs-Fpの値を求めた。 The average value of the shrinkage rates of the two sides along the film's conveying direction (i.e., the longitudinal direction of the long film) was used as the thermal shrinkage rate in the film's conveying direction, i.e., the thermal shrinkage rate in the longitudinal direction of the long film. Furthermore, the average value of the thermal shrinkage rates of the two sides along the film's width direction was used as the thermal shrinkage rate in the width direction of the long film. Furthermore, for the substrate and protective film after annealing, the value of Fs - Fp was calculated from the thermal shrinkage rate Fs (%) in the longitudinal direction of the substrate and the thermal shrinkage rate Fp (%) in the longitudinal direction of the protective film.
(弾性率)
23℃(室温)の環境下で、アニール処理後の積層体を切り出し、長さ20mm×幅5mmの大きさの長方形の切片とし、基材と複合フィルムとを剥離して、それぞれを試料フィルムとした。接着層が弾性率に与える影響は無視できる程度に小さいため、保護フィルムについては、接着層を伴った複合フィルムの状態のまま弾性率の測定を行った。試料フィルムの長方形の長さ方向の辺は長尺の積層体の長手方向と平行な方向とした。
動的粘弾性測定装置(日立ハイテクサイエンス社製、製品名:DMA7100)を用いて周波数1Hz、昇温速度毎分5℃、温度範囲25~220℃で伸縮粘弾性測定を行い、180℃の貯蔵弾性率E’s及びE’pを採用した。
(Elastic Modulus)
The laminate after annealing was cut out in an environment of 23°C (room temperature) to obtain rectangular pieces measuring 20 mm in length and 5 mm in width, and the substrate and composite film were peeled off to obtain sample films. Since the influence of the adhesive layer on the elastic modulus was negligibly small, the elastic modulus of the protective film was measured in the state of the composite film with the adhesive layer. The lengthwise side of the rectangular sample film was parallel to the longitudinal direction of the long laminate.
Stretching viscoelasticity measurements were performed using a dynamic viscoelasticity measuring device (Hitachi High-Tech Science Corporation, product name: DMA7100) at a frequency of 1 Hz, a heating rate of 5°C per minute, and a temperature range of 25 to 220°C, and the storage moduli E's and E'p at 180°C were used.
(平面の平滑性)
アニール処理後の積層体を切り出し、300mm×300mmの正方形の切片とし、基材と保護フィルムとを剥離した。基材を水平で平坦な机の上面に広げ、目視により基材の表面の平滑性を以下の基準により評価した。
良:搬送方向に沿った筋を有する波板状のシワがなく、実用上問題なし。
可:搬送方向に沿った筋を有する波板状のシワが僅かにあるが、実用上問題なし。
不可:搬送方向に沿った筋を有する波板状のシワがあり、実用上問題となる。
(Smoothness of the plane)
The laminate after annealing was cut into a 300 mm × 300 mm square piece, and the substrate and the protective film were peeled off. The substrate was spread on a horizontal, flat table, and the surface smoothness of the substrate was visually evaluated according to the following criteria.
Good: No corrugated wrinkles with streaks along the conveying direction, no practical problems.
Fair: There are a few corrugated wrinkles with streaks along the conveying direction, but this does not pose a problem in practical use.
Unacceptable: Corrugated wrinkles with streaks along the conveying direction were observed, which was problematic for practical use.
(アニール処理後の積層体のカール量)
23℃(室温)の環境下で、アニール処理後の積層体を切り出し、50mm×50mmの正方形の試料フィルムとした。試料フィルムを水平で平坦な机の上面に載置した。載置に際しては、試料フィルムを観察して、収縮して凹型の形状となっていると思われる側の面を上側とした。試料フィルムの四隅が机の上面から浮き上がっている量(カール量)を定規で測定し、四隅の平均値を試料フィルムのカール量とした。
(Amount of curl of laminate after annealing treatment)
The laminate after annealing was cut out in an environment of 23°C (room temperature) to obtain a 50 mm x 50 mm square sample film. The sample film was placed on a horizontal, flat table. When placing the sample film, the side that appeared to have shrunk and formed a concave shape was placed on top. The amount by which the four corners of the sample film were lifted from the table top (curl amount) was measured with a ruler, and the average value of the four corners was taken as the curl amount of the sample film.
(結晶化度)
アニール前基材及びアニール前保護フィルムの結晶化度は、これらを適当な大きさに切り出し試料フィルムとして、以下の手法により測定した。
アニール処理後の積層体の各層である基材及び保護フィルムの結晶化度は、積層体を適当な大きさに切り出し、基材と保護フィルムとを剥離し、保護フィルムに付着した接着層をメチルエチルケトンなどの有機溶媒を用いて拭き取り、十分乾燥したものを試料フィルムとして、以下の手法により測定した。
(Crystallization degree)
The crystallinity of the pre-annealed substrate and the pre-annealed protective film was measured by the following method using sample films cut out of an appropriate size.
The crystallinity of each layer of the laminate, i.e., the substrate and the protective film, after the annealing treatment was measured by cutting the laminate to an appropriate size, peeling off the substrate and the protective film, wiping off the adhesive layer attached to the protective film with an organic solvent such as methyl ethyl ketone, and thoroughly drying the resulting sample film using the following method.
(基材フィルム・PETフィルムの結晶化度)
ヘリウムガス置換型の乾式自動密度計「AccuPyc 1340」(Micromeritics社製)を用いて試料フィルムの密度を測定した。試料フィルム約3gを幅30mm以下の短冊状に切り、丸めて10cm3の容器に入れ、25℃に維持して測定した。10回の繰り返し測定から密度を決定した。
(Degree of crystallinity of base film/PET film)
The density of the sample film was measured using a helium gas displacement dry automatic density meter "AccuPyc 1340" (Micromeritics). Approximately 3 g of the sample film was cut into strips with a width of 30 mm or less, rolled up, and placed in a 10 cm3 container, which was maintained at 25°C for measurement. The density was determined from 10 repeated measurements.
結晶化度x(%)を次式によって計算した。
x=(1/Da-1/D)/(1/Da-1/Dc)×100
前記式において、xは結晶化度を表す。D(g/cm3)は、決定された試料フィルムの密度を表す。Daは試料フィルムを形成する重合体の完全非晶密度(g/cm3)を示す。Dbは、試料フィルムを形成する重合体の完全結晶密度(g/cm3)を示す。
The crystallinity x (%) was calculated by the following formula:
x=(1/Da-1/D)/(1/Da-1/Dc)×100
In the above formula, x represents the degree of crystallinity. D (g/cm 3 ) represents the determined density of the sample film. Da represents the completely amorphous density (g/cm 3 ) of the polymer forming the sample film. Db represents the completely crystalline density (g/cm 3 ) of the polymer forming the sample film.
完全非晶密度Daとして、下記の値を用いた。
・製造例1で製造されたジシクロペンタジエン開環重合体水素化物の完全非晶密度Da=1.0157g/cm3
・ポリエチレンテレフタレート(PET)の完全非晶密度Da=1.335g/cm3
The following value was used as the completely amorphous density Da.
The completely amorphous density Da of the hydrogenated dicyclopentadiene ring-opening polymer produced in Production Example 1 was 1.0157 g/cm 3
Completely amorphous density of polyethylene terephthalate (PET) Da = 1.335 g/cm 3
完全結晶密度Dcとしては、下記の値を用いた。
・製造例1で製造されたジシクロペンタジエン開環重合体水素化物の完全結晶密度Dc=1.0857g/cm3
・PETの完全結晶密度Dc=1.455g/cm3
The following value was used as the perfect crystal density Dc.
The perfect crystal density Dc of the hydrogenated dicyclopentadiene ring-opening polymer produced in Production Example 1 = 1.0857 g/cm 3
・Completely crystalline density of PET Dc = 1.455 g / cm 3
(SPSフィルムの結晶化度)
示差走査熱量計(DSC)を用い、試料フィルムを50℃から20℃/分の昇温速度で300℃まで昇温したときの結晶化エンタルピーと融解エンタルピーを測定し次式により算出した。
結晶化度(%)={〔融解エンタルピー(J/g)-結晶化エンタルピー(J/g)〕/結晶化度100%のときの融解エンタルピー(J/g)}×100
ここで、結晶化度100%のときの融解エンタルピー(J/g)として、53J/gを用いた。
(Crystallization degree of SPS film)
Using a differential scanning calorimeter (DSC), the crystallization enthalpy and fusion enthalpy were measured when the sample film was heated from 50° C. to 300° C. at a heating rate of 20° C./min, and calculated according to the following formula.
Crystallinity (%)={[melting enthalpy (J/g)−crystallization enthalpy (J/g)]/melting enthalpy (J/g) at 100% crystallinity}×100
Here, 53 J/g was used as the melting enthalpy (J/g) when the crystallinity was 100%.
(ポリアミドフィルムの結晶化度)
ポリアミドフィルムである試料フィルムの結晶化度はX線回折法により測定した。
(Crystallization degree of polyamide film)
The crystallinity of the sample film, which was a polyamide film, was measured by X-ray diffraction.
〔製造例1:結晶性樹脂〕
金属製の耐圧反応器を、充分に乾燥した後、窒素置換した。この金属製耐圧反応器に、シクロヘキサン154.5部、ジシクロペンタジエン(エンド体含有率99%以上)の濃度70%シクロヘキサン溶液42.8部(ジシクロペンタジエンの量として30部)、及び1-ヘキセン1.9部を加え、53℃に加温した。
[Production Example 1: Crystalline Resin]
A metal pressure reactor was thoroughly dried and then purged with nitrogen, and then 154.5 parts of cyclohexane, 42.8 parts of a 70% cyclohexane solution of dicyclopentadiene (endo isomer content of 99% or more) (30 parts as the amount of dicyclopentadiene), and 1.9 parts of 1-hexene were placed in the metal pressure reactor, and the mixture was heated to 53°C.
テトラクロロタングステンフェニルイミド(テトラヒドロフラン)錯体0.014部を0.70部のトルエンに溶解し、溶液を調製した。この溶液に、濃度19%のジエチルアルミニウムエトキシド/n-ヘキサン溶液0.061部を加えて10分間攪拌して、触媒溶液を調製した。この触媒溶液を耐圧反応器に入れて、開環重合反応を開始した。その後、53℃を保ちながら4時間反応させて、ジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液を得た。得られたジシクロペンタジエンの開環重合体の数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)は、それぞれ、8,750及び28,100であり、これらから求められる分子量分布(Mw/Mn)は3.21であった。A solution was prepared by dissolving 0.014 parts of tetrachlorotungsten phenylimide (tetrahydrofuran) complex in 0.70 parts of toluene. 0.061 parts of a 19% diethylaluminum ethoxide/n-hexane solution was added to this solution and stirred for 10 minutes to prepare a catalyst solution. This catalyst solution was placed in a pressure-resistant reactor to initiate the ring-opening polymerization reaction. The reaction was then continued for 4 hours while maintaining the temperature at 53°C, yielding a solution of a ring-opened polymer of dicyclopentadiene. The number-average molecular weight (Mn) and weight-average molecular weight (Mw) of the resulting ring-opened polymer of dicyclopentadiene were 8,750 and 28,100, respectively, and the molecular weight distribution (Mw/Mn) calculated from these values was 3.21.
得られたジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液200部に、停止剤として1,2-エタンジオール0.037部を加えて、60℃に加温し、1時間攪拌して重合反応を停止させた。ここに、ハイドロタルサイト様化合物(協和化学工業社製「キョーワード(登録商標)2000」)を1部加えて、60℃に加温し、1時間攪拌した。その後、濾過助剤(昭和化学工業社製「ラヂオライト(登録商標)#1500」)を0.4部加え、PPプリーツカートリッジフィルター(ADVANTEC東洋社製「TCP-HX」)を用いて吸着剤と溶液を濾別した。 0.037 parts of 1,2-ethanediol as a terminator was added to 200 parts of the resulting solution of ring-opened dicyclopentadiene polymer, and the mixture was heated to 60°C and stirred for 1 hour to terminate the polymerization reaction. One part of a hydrotalcite-like compound (Kyoward® 2000, manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.) was then added, heated to 60°C, and stirred for 1 hour. 0.4 parts of a filter aid (Radiolite® #1500, manufactured by Showa Chemical Industry Co., Ltd.) was then added, and the adsorbent and solution were filtered using a PP pleated cartridge filter (TCP-HX, manufactured by ADVANTEC Toyo Co., Ltd.).
濾過後のジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液200部(重合体量30部)に、シクロヘキサン100部を加え、クロロヒドリドカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム0.0043部を添加して、水素圧6MPa、180℃で4時間水素化反応を行なった。これにより、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物を含む反応液が得られた。この反応液は、水素化物が析出してスラリー溶液となっていた。100 parts of cyclohexane were added to 200 parts of the filtered dicyclopentadiene ring-opening polymer solution (30 parts polymer), and 0.0043 parts of chlorohydridocarbonyltris(triphenylphosphine)ruthenium was added. The hydrogenation reaction was carried out at 180°C under a hydrogen pressure of 6 MPa for 4 hours. This yielded a reaction solution containing the hydride of the dicyclopentadiene ring-opening polymer. The hydride precipitated from this reaction solution, forming a slurry solution.
前記の反応液に含まれる水素化物と溶液とを、遠心分離器を用いて分離し、60℃で24時間減圧乾燥して、結晶性を有するジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物28.5部を得た。この水素化物の水素化率は99%以上、ガラス転移温度Tgは93℃、融点(Tm)は267℃、ラセモ・ダイアッドの割合は89%であった。The reaction mixture was separated from the hydride and the solution using a centrifuge and then dried under reduced pressure at 60°C for 24 hours to yield 28.5 parts of a crystalline hydrogenated ring-opening polymer of dicyclopentadiene. The hydrogenation rate of this product was over 99%, the glass transition temperature (Tg) was 93°C, the melting point (Tm) was 267°C, and the racemo-dyad ratio was 89%.
得られたジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物100部に、酸化防止剤(テトラキス〔メチレン-3-(3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタン;BASFジャパン社製「イルガノックス(登録商標)1010」)1.1部を混合後、内径3mmΦのダイ穴を4つ備えた二軸押出し機(製品名「TEM-37B」、東芝機械社製)に投入した。ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物及び酸化防止剤の混合物を、熱溶融押出し成形によりストランド状に成形した後、ストランドカッターにて細断して、ペレット形状の結晶性樹脂(樹脂A)を得た。前記の二軸押出し機の運転条件は、以下の通りであった。100 parts of the resulting hydrogenated ring-opening polymer of dicyclopentadiene was mixed with 1.1 parts of an antioxidant (tetrakis[methylene-3-(3',5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)propionate]methane; "Irganox (registered trademark) 1010" manufactured by BASF Japan Ltd.), and then the mixture was fed into a twin-screw extruder (product name "TEM-37B" manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.) equipped with four die holes with an inner diameter of 3 mm. The mixture of the hydrogenated ring-opening polymer of dicyclopentadiene and the antioxidant was formed into strands by hot-melt extrusion molding, and then chopped with a strand cutter to obtain a pellet-shaped crystalline resin (Resin A). The operating conditions for the twin-screw extruder were as follows:
・バレル設定温度=270~280℃
・ダイ設定温度=250℃
・スクリュー回転数=145rpm
・Barrel setting temperature = 270-280℃
Die set temperature = 250°C
・Screw rotation speed = 145 rpm
〔実施例1〕
(1-1.アニール前基材)
製造例1で製造した樹脂A 100部に、アンチブロッキング剤(シリカ粒子、アドマテックス社製、製品名:「アドマファインシリカSC4053-SQ」)0.05部を混合した後、Tダイを備える熱溶融押出フィルム成形機を用いて成形し、およそ幅1200mmの長尺の押出フィルム(厚み500μm)を得た。前記のフィルム成形機の運転条件は、以下の通りであった。
・バレル設定温度=280℃~300℃
・ダイ温度=270℃
・キャストロール温度=80℃
Example 1
(1-1. Base material before annealing)
100 parts of Resin A produced in Production Example 1 was mixed with 0.05 parts of an antiblocking agent (silica particles, manufactured by Admatechs Co., Ltd., product name: "Adma Fine Silica SC4053-SQ"), and then molded using a hot melt extrusion film molding machine equipped with a T-die to obtain a long extruded film (thickness: 500 μm) with a width of approximately 1200 mm. The operating conditions of the film molding machine were as follows:
・Barrel setting temperature = 280℃ to 300℃
Die temperature = 270°C
Casting roll temperature = 80°C
押出フィルムを同時二軸延伸機に供給し、同時二軸延伸工程に供した。延伸倍率は長手方向3.5倍、幅方向2.9倍とし、延伸温度は115℃とした。延伸工程の後に、フィルムを結晶化促進工程に供した。結晶化促進は、延伸機においてフィルムを把持した状態を維持し、フィルムを15秒間、温度240℃に加熱し、フィルム寸法を、長手方向0.94倍、幅方向0.96倍に縮小することにより行った。結晶化促進工程終了後、温度100℃以下までフィルムを冷却し、スリット加工によりフィルム幅方向両端部を切除し、アニール前基材を、幅1100mmの長尺のフィルムとして得た。得られたアニール前基材の熱収縮率、膜厚、及び結晶化度を測定した。The extruded film was fed into a simultaneous biaxial stretching machine and subjected to the simultaneous biaxial stretching process. The stretching ratio was 3.5 times in the longitudinal direction and 2.9 times in the transverse direction, and the stretching temperature was 115°C. After the stretching process, the film was subjected to a crystallization promotion process. Crystallization promotion was performed by holding the film in the stretching machine and heating it to a temperature of 240°C for 15 seconds, reducing the film dimensions to 0.94 times in the longitudinal direction and 0.96 times in the transverse direction. After the crystallization promotion process, the film was cooled to a temperature of 100°C or below, and both ends of the film in the transverse direction were slit to obtain a pre-annealed substrate as a long film with a width of 1,100 mm. The thermal shrinkage, film thickness, and crystallinity of the resulting pre-annealed substrate were measured.
(1-2.アニール前保護フィルムを含む複合フィルム)
市販の、厚み35μmのSPS(シンジオタクチックポリスチレン)フィルム(倉敷紡績社製、製品名「Oidys(登録商標)HNL」)をフィルムロールから引出して、片面に放電処理(コロナ処理)を施した。放電処理には、コロナ処理装置(春日電機社製)を用い、放電条件は、出力500W、電極長1.35m、搬送速度10m/minとした。
(1-2. Composite Film Including Protective Film Before Annealing)
A commercially available 35 μm-thick syndiotactic polystyrene (SPS) film (manufactured by Kurabo Industries, Ltd., product name "Oidys® HNL") was pulled out from a film roll and subjected to a discharge treatment (corona treatment) on one side. The discharge treatment was performed using a corona treatment device (manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd.) under the following discharge conditions: output power 500 W, electrode length 1.35 m, and conveying speed 10 m/min.
フィルムの放電処理を施した側の表面に、接着剤としてのアクリル系粘着剤(藤森工業製「マスタックシリーズ」)を、乾燥膜厚が10μmになるようにダイコーターを用いて塗工し、100℃の乾燥オーブン中を通過させて接着剤を乾燥させた。これにより、SPSフィルムである保護フィルムと、その一方の表面上に形成された接着層とを備える複合フィルムを、幅1100mmの長尺のフィルムとして得た。アニール前保護フィルムの熱収縮率及び結晶化度を測定した。An acrylic adhesive (Fujimori Kogyo's "Masterc Series") was applied to the discharge-treated surface of the film using a die coater to a dry film thickness of 10 μm, and the film was then passed through a drying oven at 100°C to dry the adhesive. This resulted in a composite film comprising an SPS film protective film and an adhesive layer formed on one surface of the SPS film, in the form of a long film measuring 1,100 mm in width. The thermal shrinkage and crystallinity of the protective film before annealing were measured.
(1-3.アニール前積層体)
(1-1)で得たアニール前基材の一方の表面と、(1-2)で得た複合フィルムの接着層側の表面とを、長手方向を揃えてニップロールで貼合し、アニール前基材及びアニール前保護フィルムを備える長尺のアニール前積層体を作製した。
(1-3. Laminate before annealing)
One surface of the pre-annealed substrate obtained in (1-1) and the surface of the adhesive layer side of the composite film obtained in (1-2) were aligned in the longitudinal direction and bonded together using a nip roll to produce a long pre-annealed laminate comprising the pre-annealed substrate and the pre-annealed protective film.
(1-4.積層体)
(1-3)で得たアニール前積層体を、その長手方向に沿った方向に搬送し、乾燥機に連続的に導入し、加熱することにより、アニール処理を行った。乾燥機としては、ロールサポート方式の乾燥機を用いた。この乾燥機は、上流側のニップロールと、下流側のニップロールと、その間に設けられたオーブンを備え、上流側ニップロールと下流側ニップロールとの周速比を調整することにより、ニップロール間のフィルムに張力を付与した状態で長尺のフィルムを搬送し、その間でオーブン内を通過させ、オーブン内ではフィルムを下側から支持する非拘束的なロールのみでフィルムを誘導することにより、オーブン内で、フィルム幅方向の拘束を伴わない状態でのフィルム加熱を行いうる装置である。アニール処理における加熱温度は200℃、加熱時間は2分間、搬送張力は13Nとした。かかるアニール処理の結果、基材及び保護フィルムを備える積層体を得た。
(1-4. Laminate)
The pre-annealed laminate obtained in (1-3) was transported in the longitudinal direction, continuously introduced into a dryer, and heated, thereby carrying out an annealing treatment. A roll-support type dryer was used as the dryer. This dryer was equipped with an upstream nip roll, a downstream nip roll, and an oven installed therebetween. By adjusting the peripheral speed ratio between the upstream nip roll and the downstream nip roll, a long film was transported while applying tension to the film between the nip rolls, and passed through the oven between them. In the oven, the film was guided only by a non-constraining roll supporting the film from below, thereby allowing the film to be heated in the oven without being constrained in the film width direction. The heating temperature in the annealing treatment was 200°C, the heating time was 2 minutes, and the transport tension was 13 N. As a result of this annealing treatment, a laminate including a substrate and a protective film was obtained.
(1-5.評価)
(1-4)で得た積層体について、各層の弾性率、各層の熱収縮率、各層の結晶化度、表面の平滑性、及びカール量を評価した。
(1-5. Evaluation)
The laminate obtained in (1-4) was evaluated for the modulus of elasticity of each layer, the heat shrinkage rate of each layer, the crystallinity of each layer, the surface smoothness, and the amount of curl.
〔実施例2〕
下記の変更点の他は、実施例1と同じ操作により積層体を得て評価した。
・(1-2)のアニール前保護フィルムを含む複合フィルムの調製において、厚み35μmのSPSフィルムに代えて、厚み75μmのSPSフィルム(倉敷紡績社製、製品名「Oidys(登録商標)CN」)を用いた。
Example 2
A laminate was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1, except for the following changes.
In the preparation of the composite film including the pre-annealed protective film (1-2), a 75 μm thick SPS film (manufactured by Kurabo Industries, Ltd., product name "Oidys (registered trademark) CN") was used instead of the 35 μm thick SPS film.
〔実施例3〕
下記の変更点の他は、実施例1と同じ操作により積層体を得て評価した。
・(1-1)のアニール前基材の調製において、Tダイの開口の寸法及び成形機の操作条件を変更し、押出フィルムの厚みを430μmに変更した。さらに延伸倍率を、長手方向は3.5倍から2.6倍に、幅方向は2.9倍から3.3倍に変更した。但し結晶化促進工程における縮小率は、実施例1から変更無い。得られたアニール前基材の幅方向寸法も1100mmであり実施例1から変更無い。
Example 3
A laminate was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1, except for the following changes.
In the preparation of the pre-annealed substrate (1-1), the dimensions of the T-die opening and the operating conditions of the molding machine were changed, and the thickness of the extruded film was changed to 430 μm. Furthermore, the stretching ratio was changed from 3.5 times to 2.6 times in the longitudinal direction and from 2.9 times to 3.3 times in the width direction. However, the reduction ratio in the crystallization promotion step was unchanged from Example 1. The width dimension of the obtained pre-annealed substrate was also 1100 mm, unchanged from Example 1.
〔実施例4〕
下記の変更点の他は、実施例1と同じ操作により積層体を得て評価した。
・(1-1)のアニール前基材の調製において、Tダイの開口の寸法及び成形機の操作条件を変更し、押出フィルムの厚みを1000μmに変更した。
Example 4
A laminate was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1, except for the following changes.
In the preparation of the pre-annealed substrate (1-1), the dimensions of the opening of the T-die and the operating conditions of the molding machine were changed, and the thickness of the extruded film was changed to 1000 μm.
〔実施例5〕
(5-1.アニール前基材)
製造例1で製造した樹脂Aを、Tダイを備える熱溶融押出フィルム成形機を用いて成形し、およそ幅1350mmの長尺の押出フィルム(厚み48μm)を得た。前記のフィルム成形機の運転条件は、以下の通りであった。
・バレル設定温度=280℃~300℃
・ダイ温度=270℃
・キャストロール温度=80℃
Example 5
(5-1. Base material before annealing)
Resin A produced in Production Example 1 was molded using a hot melt extrusion film molding machine equipped with a T-die to obtain a long extruded film (thickness 48 μm) with a width of approximately 1,350 mm. The operating conditions of the film molding machine were as follows.
・Barrel setting temperature = 280℃ to 300℃
Die temperature = 270°C
Casting roll temperature = 80°C
押出フィルムをテンター法を用いる横延伸機に供給し、固定端一軸延伸に供した。延伸倍率は、長手方向1.0倍、幅方向1.35倍とした。延伸に先立ち押出フィルムを温度120℃で予熱し、その後延伸温度140℃で延伸を行った。延伸工程の後に、フィルムを結晶化促進工程に供した。結晶化促進は、延伸機内においてフィルムを把持しフィルム寸法を変化させず維持した状態でフィルムを搬送し、フィルムを30秒間、温度160℃に加熱することにより行った。結晶化促進工程終了後、温度100℃以下までフィルムを冷却し、スリット加工によりフィルム幅方向両端部を切除し、アニール前基材を、幅1100mmの長尺のフィルムとして得た。得られたアニール前基材の熱収縮率、膜厚及び結晶化度を測定した。The extruded film was fed into a transverse stretching machine using a tenter and subjected to fixed-end uniaxial stretching. The stretching ratio was 1.0x in the longitudinal direction and 1.35x in the transverse direction. Prior to stretching, the extruded film was preheated to a temperature of 120°C and then stretched at a temperature of 140°C. After the stretching process, the film was subjected to a crystallization promotion process. Crystallization promotion was performed by conveying the film in the stretching machine while holding it and maintaining its dimensions unchanged, and heating the film to a temperature of 160°C for 30 seconds. After the crystallization promotion process, the film was cooled to a temperature of 100°C or below, and both widthwise ends of the film were slit to obtain a pre-annealed substrate as a long film with a width of 1100 mm. The thermal shrinkage, film thickness, and crystallinity of the resulting pre-annealed substrate were measured.
(5-2.アニール前保護フィルムを含む複合フィルム)
市販のPETフィルム(東レ社製、製品名「ルミラーS10」、厚み125μm)をフィルムロールから引出して、片面に放電処理(コロナ処理)を施した。放電処理には、コロナ処理装置(春日電機社製)を用い、放電条件は、出力500W、電極長1.35m、搬送速度10m/minとした。
(5-2. Composite Film Including Protective Film Before Annealing)
A commercially available PET film (manufactured by Toray Industries, Inc., product name "Lumirror S10," thickness 125 μm) was unwound from a film roll and subjected to a discharge treatment (corona treatment) on one side. The discharge treatment was performed using a corona treatment device (manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd.) under the following discharge conditions: output power 500 W, electrode length 1.35 m, and conveying speed 10 m/min.
フィルムの放電処理を施した側の表面に、接着剤としてのアクリル系粘着剤(藤森工業製「マスタックシリーズ」)を、乾燥膜厚が10μmになるようにダイコーターを用いて塗工し、100℃の乾燥オーブン中を通過させて接着剤を乾燥させた。これにより、PETフィルムである保護フィルムと、その一方の表面上に形成された接着層とを備える複合フィルムを、幅1100mmの長尺のフィルムとして得た。得られたアニール前保護フィルムの熱収縮率及び結晶化度を測定した。An acrylic adhesive (Fujimori Kogyo's "Masterc Series") was applied to the discharge-treated surface of the film using a die coater to a dry film thickness of 10 μm, and the film was then passed through a drying oven at 100°C to dry the adhesive. This resulted in a composite film comprising a PET protective film and an adhesive layer formed on one surface of the protective film, in the form of a long film 1,100 mm wide. The thermal shrinkage and crystallinity of the resulting protective film before annealing were measured.
(5-3.アニール前積層体)
(5-1)で得たアニール前基材の一方の表面と、(5-2)で得た複合フィルムの接着層側の表面とを、長手方向を揃えてニップロールで貼合し、アニール前基材及びアニール前保護フィルムを備える長尺のアニール前積層体を作製した。
(5-3. Laminate before annealing)
One surface of the pre-annealed substrate obtained in (5-1) and the surface of the adhesive layer side of the composite film obtained in (5-2) were aligned in the longitudinal direction and bonded together using a nip roll to produce a long pre-annealed laminate comprising the pre-annealed substrate and the pre-annealed protective film.
(5-4.積層体)
(5-3)で得たアニール前積層体を、その長手方向に沿った方向に搬送し、乾燥機に連続的に導入し、加熱することにより、アニール処理を行った。乾燥機としては、横延伸機を用い、延伸機内においてフィルムを把持しフィルムの長手方向及び幅方向の寸法を変化させず維持した状態でフィルムを搬送し加熱することにより行った。アニール処理における加熱温度は170℃、加熱時間は5分間とした。かかるアニール処理の結果、基材及び保護フィルムを備える積層体を得た。
(5-4. Laminate)
The pre-annealed laminate obtained in (5-3) was transported in the longitudinal direction, continuously introduced into a dryer, and heated, thereby carrying out an annealing treatment. A transverse stretching machine was used as the dryer, and the film was conveyed and heated while being held in the stretching machine and maintaining the dimensions of the film in the longitudinal and width directions unchanged. The heating temperature in the annealing treatment was 170°C, and the heating time was 5 minutes. As a result of this annealing treatment, a laminate including a substrate and a protective film was obtained.
(5-5.評価)
(5-4)で得た積層体について、各層の弾性率、各層の熱収縮率、各層の結晶化度、表面の平滑性、及びカール量を評価した。
(5-5. Evaluation)
The laminate obtained in (5-4) was evaluated for the modulus of elasticity of each layer, the heat shrinkage rate of each layer, the crystallinity of each layer, the surface smoothness, and the amount of curl.
〔実施例6〕
下記の変更点の他は、実施例5と同じ操作により積層体を得て評価した。
・(5-1)のアニール前基材の調製において、Tダイの開口の寸法及び成形機の操作条件を変更し、押出フィルムの厚みを42μmに変更した。さらに延伸倍率を、幅方向は1.35倍から1.2倍に変更した(長手方向は1.0倍で変更なし)。但し結晶化促進工程における縮小率は、実施例5から変更無い。得られたアニール前基材の幅方向寸法も1100mmであり実施例1から変更無い。
Example 6
A laminate was obtained and evaluated in the same manner as in Example 5, except for the following changes.
In the preparation of the pre-annealed substrate (5-1), the dimensions of the T-die opening and the operating conditions of the molding machine were changed, and the thickness of the extruded film was changed to 42 μm. Furthermore, the stretching ratio in the width direction was changed from 1.35 times to 1.2 times (the longitudinal direction was unchanged at 1.0 times). However, the reduction ratio in the crystallization promotion step was unchanged from Example 5. The width dimension of the obtained pre-annealed substrate was also 1100 mm, unchanged from Example 1.
〔比較例1〕
下記の変更点の他は、実施例1の(1-1)及び(1-3)~(1-5)と同じ操作により積層体を得て評価した。
・(1-3)において、アニール前保護フィルムを含む複合フィルムとして、(1-2)で得たものに代えて、実施例5の(5-2)で得たものを用いた。
Comparative Example 1
Except for the following changes, laminates were obtained and evaluated in the same manner as in (1-1) and (1-3) to (1-5) of Example 1.
In (1-3), the composite film including the pre-annealed protective film obtained in (5-2) of Example 5 was used instead of the one obtained in (1-2).
〔比較例2〕
下記の変更点の他は、実施例1と同じ操作により積層体を得た。
・(1-2)のアニール前保護フィルムを含む複合フィルムの調製において、厚み35μmのSPSフィルムに代えて、市販の、脂環式構造含有重合体のフィルム(日本ゼオン株式会社製、商品名「ZeonorFilm(商標) ZF16」、厚み146μm)を用いた。
Comparative Example 2
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except for the following changes.
In the preparation of the composite film including the pre-annealed protective film (1-2), a commercially available film of a polymer containing an alicyclic structure (manufactured by Zeon Corporation, trade name "ZeonorFilm (trademark) ZF16", thickness 146 μm) was used instead of the 35 μm-thick SPS film.
得られた積層体についての評価を試みたが、基材と保護フィルムとが剥離不能であり、評価を行うことができなかった。 We attempted to evaluate the resulting laminate, but the substrate and protective film could not be peeled apart, making it impossible to evaluate.
〔比較例3〕
(C3-1.アニール前保護フィルムを含む複合フィルム)
ポリアミド(ダイセル・エポニック社製、製品名「トロガミドCX7323」)のペレットを、Tダイを備える熱溶融押出しフィルム成形機を用いて成形し、およそ幅1100mmの長尺の押出フィルム(厚み118μm)を得た。前記のフィルム成形機の運転条件は、以下の通りであった。
・バレル設定温度=260℃~280℃
・ダイ温度=250℃
・キャストロール温度=110℃
Comparative Example 3
(C3-1. Composite film including protective film before annealing)
Polyamide pellets (manufactured by Daicel-Eponic Co., Ltd., product name "Trogamid CX7323") were molded using a hot melt extrusion film molding machine equipped with a T-die to obtain a long extruded film (thickness 118 μm) with a width of approximately 1100 mm. The operating conditions of the film molding machine were as follows:
・Barrel setting temperature = 260℃ to 280℃
Die temperature = 250°C
Casting roll temperature = 110°C
押出フィルムに、ロールサポート方式の乾燥機を用いて加熱処理を行った。加熱温度は180℃、加熱時間は5分間とした。加熱処理後のフィルムの片面に放電処理(コロナ処理)を施した。放電処理には、コロナ処理装置(春日電機社製)を用い、放電条件は、出力500W、電極長1.35m、搬送速度10m/minとした。The extruded film was heat-treated using a roll-support dryer. The heating temperature was 180°C, and the heating time was 5 minutes. After the heat treatment, one side of the film was subjected to a discharge treatment (corona treatment). A corona treatment device (manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd.) was used for the discharge treatment, and the discharge conditions were an output of 500 W, an electrode length of 1.35 m, and a conveying speed of 10 m/min.
フィルムの放電処理を施した側の表面に、接着剤としてのアクリル系粘着剤(藤森工業製「マスタックシリーズ」)を、乾燥膜厚が10μmになるようにダイコーターを用いて塗工し、100℃の乾燥オーブン中を通過させて接着剤を乾燥させた。これにより、ポリアミドフィルムである保護フィルムと、その一方の表面上に形成された接着層とを備える複合フィルムを、幅1100mmの長尺のフィルムとして得た。得られたアニール前保護フィルムの熱収縮率及び結晶化度を測定した。An acrylic adhesive (Fujimori Kogyo's "Masterc Series") was applied to the discharge-treated surface of the film using a die coater to a dry film thickness of 10 μm, and the film was then passed through a drying oven at 100°C to dry the adhesive. This resulted in a composite film comprising a polyamide film protective film and an adhesive layer formed on one surface of the protective film, in the form of a long film 1100 mm wide. The thermal shrinkage and crystallinity of the resulting protective film before annealing were measured.
(C3-2.積層体)
下記の変更点の他は、実施例1の(1-1)及び(1-3)~(1-5)と同じ操作により積層体を得て評価した。
・(1-3)において、アニール前保護フィルムを含む複合フィルムとして、(1-2)で得たものに代えて、(C3-1)で得たものを用いた。
(C3-2. Laminate)
Except for the following changes, laminates were obtained and evaluated in the same manner as in (1-1) and (1-3) to (1-5) of Example 1.
In (1-3), the composite film including the pre-annealed protective film obtained in (C3-1) was used instead of the one obtained in (1-2).
〔比較例4〕
下記の変更点の他は、実施例1と同じ操作により積層体を得て評価した。
・(1-2)のアニール前保護フィルムを含む複合フィルムの調製において、厚み35μmのSPSフィルムに代えて、(1-1)で得たアニール前基材と同じものを用いた。即ち、(1-2)では、(1-1)で得たアニール前基材と、その一方の表面上に形成された接着層とを備える、長尺の複合フィルムを調製し、これを用いて(1-3)以降の工程を行った。
Comparative Example 4
A laminate was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1, except for the following changes.
In the preparation of the composite film including the pre-annealed protective film of (1-2), the same pre-annealed substrate as obtained in (1-1) was used instead of the 35 μm-thick SPS film. That is, in (1-2), a long composite film including the pre-annealed substrate obtained in (1-1) and an adhesive layer formed on one surface thereof was prepared, and this was used to carry out the steps from (1-3) onwards.
〔比較例5〕
アニール前保護フィルムを含む複合フィルムを使用せず、実施例1の(1-1)で得たアニール前基材をそのまま、実施例(1-4)以降の工程に供し評価した。
Comparative Example 5
Without using a composite film containing a pre-annealing protective film, the pre-annealing substrate obtained in (1-1) of Example 1 was directly subjected to the steps of Example (1-4) and thereafter and evaluated.
実施例及び比較例の結果を表1~表4に示す。 The results of the examples and comparative examples are shown in Tables 1 to 4.
以上の結果から明らかな通り、本願実施例では、積層体のシワの発生が抑制され、積層体から剥離された基材の平面性が維持され、且つ基材の200℃10分熱収縮率及び145℃60分熱収縮率といった耐熱性に関する指標が、いずれも比較例に比べて良好であった。このことから、本発明の積層体によれば、平面性が高く耐熱性が高い基材を用時に容易に供給しうることが分かる。 As is clear from the above results, in the present examples, the occurrence of wrinkles in the laminate was suppressed, the flatness of the substrate peeled from the laminate was maintained, and the heat resistance indicators of the substrate, such as the heat shrinkage rate at 200°C for 10 minutes and the heat shrinkage rate at 145°C for 60 minutes, were all better than in the comparative examples. This demonstrates that the laminate of the present invention makes it possible to easily supply substrates with high flatness and heat resistance when needed.
10:積層体
110:基材
120:複合フィルム
121保護フィルム
122:接着層
10: Laminate 110: Substrate 120: Composite film 121: Protective film 122: Adhesive layer
Claims (7)
前記基材は、結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含む樹脂の層であり、
前記基材及び前記保護フィルムが、下記式(1)~(2)を満たす、積層体:
E’s/E’p<1 (1)
-0.4≦Fs-Fp≦0.4 (2)
但し、
E’sは、前記基材の180℃における貯蔵弾性率であり、
E’pは、前記保護フィルムの180℃における貯蔵弾性率であり、
Fsは、前記基材の180℃2分における積層体長手方向の熱収縮率(%)であり、
Fpは、前記保護フィルムの180℃2分における積層体長手方向の熱収縮率(%)である。 A laminate having a long shape, comprising a substrate and a protective film provided on one surface of the substrate,
the substrate is a layer of a resin containing a crystalline alicyclic structure-containing polymer,
A laminate, wherein the substrate and the protective film satisfy the following formulas (1) and (2):
E's/E'p<1 (1)
−0.4≦Fs−Fp≦0.4 (2)
however,
E's is the storage modulus of the substrate at 180°C,
E'p is the storage modulus of the protective film at 180°C,
Fs is the heat shrinkage rate (%) of the substrate in the longitudinal direction of the laminate at 180°C for 2 minutes,
Fp is the heat shrinkage rate (%) of the protective film in the longitudinal direction of the laminate at 180° C. for 2 minutes.
アニール前基材及びアニール前保護フィルムを貼合し、前記アニール前基材及び前記アニール前保護フィルムを備えるアニール前積層体を得る工程であって、前記アニール前基材は、結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含む樹脂の層である工程、及び
前記アニール前積層体をアニール処理する工程
を含む製造方法。 A method for producing the laminate according to any one of claims 1 to 3,
A manufacturing method comprising: a step of laminating a pre-annealed substrate and a pre-annealed protective film to obtain a pre-annealed laminate comprising the pre-annealed substrate and the pre-annealed protective film, wherein the pre-annealed substrate is a layer of a resin containing a crystalline alicyclic structure-containing polymer; and a step of annealing the pre-annealed laminate.
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