JP7817391B2 - Electroporation device and method for cell transfection - Google Patents
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Description
[技術分野]
関連出願の相互参照
本願は、2021年10月28日に出願された米国特許出願第17/513,007号の利益及び優先権を主張するPCT国際特許出願であり、米国特許出願第17/513,007号は2020年7月8日に出願された米国特許出願第16/923,606号の一部継続出願であり、米国特許出願第16/923,606号は2019年7月9日に出願された米国特許出願第16/506,190号の一部継続出願であり、2018年7月9日に出願された米国仮特許出願第62/695,436号の利益を主張するものである。上記引用された出願の各々の全開示は本明細書で参照により援用される。
[Technical Field]
CROSS-REFERENCE TO RELATED APPLICATIONS This application is a PCT international patent application claiming the benefit and priority of U.S. Patent Application No. 17/513,007, filed October 28, 2021, which is a continuation-in-part of U.S. Patent Application No. 16/923,606, filed July 8, 2020, which is a continuation-in-part of U.S. Patent Application No. 16/506,190, filed July 9, 2019, which claims the benefit of U.S. Provisional Patent Application No. 62/695,436, filed July 9, 2018. The entire disclosure of each of the above-cited applications is incorporated herein by reference.
発明の分野は、トランスフェクションシステム及び方法、特にエレクトロポレーションシステム及び方法に関する。 The field of the invention relates to transfection systems and methods, particularly electroporation systems and methods.
[背景技術]
背景説明は、本明細書に提示される方法及び技術を理解する場合に有用であるかもしれない情報を含む。本明細書に提供される情報のいずれかが先行技術であるか又は本明細書に提示される主題に関連すること又は明示的に若しくは暗示的に参照される任意の刊行物が先行技術であることは承認ではない。
[Background technology]
The background discussion includes information that may be useful in understanding the methods and techniques presented herein. No admission is made that any of the information provided herein is prior art or related to the subject matter presented herein, or that any publication referenced expressly or implicitly is prior art.
核酸を細胞に導入し、遺伝子組換え細胞を作製するため、トランスフェクションが使用されることがある。細胞をトランスフェクトするため、光穿孔(optoperforation)、リン酸カルシウムを利用するポリマーに基づく方法、マイクロインジェクション、エレクトロポレーション、ウイルス形質導入、及び脂質媒介法(例えば、リポソーム-DNA複合体を使用する)を含む、様々な物理的、化学的及びウイルス的方法が存在する。 Transfection can be used to introduce nucleic acids into cells and create genetically modified cells. A variety of physical, chemical, and viral methods exist for transfecting cells, including photoperforation, polymer-based methods using calcium phosphate, microinjection, electroporation, viral transduction, and lipid-mediated methods (e.g., using liposome-DNA complexes).
エレクトロポレーションは、制御された直流(DC)の電気パルスを細胞に比較的短い持続時間で適用することを含む。電気パルスは、細胞膜の規則正しい構造の可逆的分解を引き起こす膜電位を誘導し、膜中の孔の形成をもたらすと考えられる。次に、目的の分子は、典型的には数ミリ秒内~数秒内、孔が閉じるまで、孔を通じて細胞に進入し得る。孔形成は、様々なパラメータ、特に、ギャップ幅(例えば平行電極プレート間の距離)、電気パルス波の形状、電界強度、温度、及び電気パルス長を調節することにより制御され得る。 Electroporation involves the application of controlled direct current (DC) electrical pulses of relatively short duration to cells. The electrical pulse is thought to induce a membrane potential that causes reversible disassembly of the ordered structure of the cell membrane, resulting in the formation of pores in the membrane. Molecules of interest can then enter the cell through the pores until they close, typically within milliseconds to seconds. Pore formation can be controlled by adjusting various parameters, particularly the gap width (e.g., the distance between the parallel electrode plates), the shape of the electrical pulse wave, the electric field strength, the temperature, and the electrical pulse length.
エレクトロポレーションは、一般に実験室規模で(例えば、約0.5mLの能力を有する小型キュベットを用いて)使用されるが、かかる実験室に基づく技術は、効率低下及び高コストであることから、大規模な臨床グレードの作製に適しない。他のトランスフェクション法、例えばリポフェクタミン2000(商標)を用いる脂質に基づく技術もまた頻用されるが、高コストが理由で同様の欠点を有する。加えて、脂質に基づく方法は、臨床対象のいくつかの細胞型、例えばhaNKなどのNK細胞の場合、十分に機能しない。NK細胞は、例えば、初代NK細胞を遺伝的に操作することで、キメラ抗原受容体(CAR-Leuk Res.(2009)33:1255-9を参照)を発現するか又は自己分泌成長刺激用サイトカイン(Cytotherapy(2008)10:265-74を参照)を発現するため、mRNA及びエレクトロポレーションを用いてトランスフェクトされている。大規模トランスフェクション(例えば1mLより大きい反応サイズ)向けにMaxcyteなどの市販品が存在する一方で、これら製品はまた、高価であり、且つ/又はハイスループット性能が欠如している。同様に、これらの市販品は、NK細胞をトランスフェクトするのに最適でなく、低い収率及び/又は低い細胞生存率に伴う問題をもたらすことが多い。典型的なエレクトロポレーション速度(electroporation rates)は、約10~20%の細胞生存率とともに、2~5%のDNAトランスフェクション効率をもたらすことがある。 While electroporation is commonly used at the laboratory scale (e.g., using small cuvettes with a capacity of approximately 0.5 mL), such laboratory-based techniques are not suitable for large-scale clinical production due to their reduced efficiency and high cost. Other transfection methods, such as lipid-based techniques using Lipofectamine 2000™, are also frequently used but suffer from similar drawbacks due to their high cost. In addition, lipid-based methods do not work well for some cell types of clinical interest, such as NK cells (haNK). NK cells have been transfected using mRNA and electroporation to express chimeric antigen receptors (CAR-Leuk Res. (2009) 33:1255-9) or autocrine growth-stimulating cytokines (Cytotherapy (2008) 10:265-74), for example, by genetically engineering primary NK cells. While commercial products such as Maxcyte exist for large-scale transfection (e.g., reaction sizes greater than 1 mL), these products are also expensive and/or lack high-throughput capabilities. Similarly, these commercial products are not optimal for transfecting NK cells and often result in problems with low yields and/or low cell viability. Typical electroporation rates can result in DNA transfection efficiencies of 2-5%, along with cell viability of approximately 10-20%.
通常の技術の場合、図1Aに示される通り、エレクトロポレーションは、2つの平行プレート電極を用いて実施される。この配置では、細胞は、典型的には2つの平行プレート間を流れる。しかし、電界は不均一であり、(a)で示されるチャンバーの中央にある細胞は、より均一な電界を受ける一方で、(b)で示される電極近傍の細胞は、不均一な電界を受け、特に電極の境界に生じる電場活動電位を受ける。他の技術では、図1Bに示される通り、マイクロメッシュ電極の平行プレートが利用され(Selmeczi,D.et al.,“Efficient large volume electroporation of dendritic cells through micrometer scale manipulation of flow in a disposable polymer chip,”Biomed Microdevices,13:383-392(2011))、ここで細胞は、上位マイクロメッシュ電極及び下位マイクロメッシュ電極を通過する。チャンバーの中央(a)及びチャンバーの境界近傍(b)における細胞の類似軌道によって示される通り、この技術が2つの平行電極プレートの間を通過するよりも均一な電界を提供する一方で、チャンバーの幅又は上位マイクロメッシュ電極と下位マイクロメッシュ電極との間の距離は制限され、低いトランスフェクション効率をもたらす。図1A及び図1Bで示される配置では、約1~1.3kV/cm(例えば、平行プレートにおいて200V/2mm、平行マイクロメッシュ電極において40V/400um)の電界強度が利用される。 In a typical technique, electroporation is performed using two parallel-plate electrodes, as shown in Figure 1A. In this configuration, cells typically flow between the two parallel plates. However, the electric field is non-uniform; cells in the center of the chamber, shown in (a), experience a more uniform electric field, while cells near the electrodes, shown in (b), experience a non-uniform electric field, particularly field action potentials that arise at the electrode boundaries. Another technique utilizes parallel plates of micromesh electrodes, as shown in FIG. 1B (Selmeczi, D. et al., "Efficient large volume electroporation of dendritic cells through micrometer scale manipulation of flow in a disposable polymer chip," Biomed Microdevices, 13:383-392 (2011)), where cells pass through upper and lower micromesh electrodes. While this technique provides a more uniform electric field than passing between two parallel electrode plates, as shown by the similar trajectories of cells in the center of the chamber (a) and near the chamber border (b), the width of the chamber or the distance between the upper and lower micromesh electrodes is limited, resulting in lower transfection efficiency. The configuration shown in Figures 1A and 1B utilizes a field strength of approximately 1-1.3 kV/cm (e.g., 200 V/2 mm at the parallel plates and 40 V/400 μm at the parallel micromesh electrodes).
他の態様では、単細胞エレクトロポレーションチップがトランスフェクション向けに使用されている。この技術では、シリコンチップは、複数の線形チャネルを含んでもよく、各チャネルはチャネルの反対側に配置された対向電極を有する。細胞は、チャネルを通過し、電界に曝露される。このタイプの技術の場合、約79%の細胞生存率とともに約68%のDNAトランスフェクション効率が達成されている。 In another aspect, single-cell electroporation chips are used for transfection. In this technique, a silicon chip may contain multiple linear channels, each with a counter electrode positioned on the opposite side of the channel. Cells pass through the channels and are exposed to an electric field. With this type of technique, a DNA transfection efficiency of approximately 68% has been achieved, along with a cell viability of approximately 79%.
[発明の概要]
[発明が解決しようとする課題]
たとえ様々なトランスフェクションシステム及び方法が哺乳動物細胞用に存在するとはいえ、かかる技術は1つ以上の不利益を被る。したがって、特にハイスループットな大規模製造プロセス向けに、改善されたエレクトロポレーションシステム及び方法を提供することが依然として求められている。
[Summary of the Invention]
[Problem to be solved by the invention]
Although a variety of transfection systems and methods exist for mammalian cells, such techniques suffer from one or more disadvantages. Thus, there remains a need to provide improved electroporation systems and methods, particularly for high-throughput, large-scale manufacturing processes.
[課題を解決するための手段]
本明細書に提示される技術は、細胞、例えば哺乳動物細胞及び非哺乳動物細胞のエレクトロポレーションのための、例えば大規模な連続製造プロセス向けの様々なデバイス、システム、及び方法を対象とする。特に、第1出力からオフセット距離だけ隔てられた第1入力を含むエレクトロポレーション装置を用いる、細胞のエレクトロポレーションのためのシステム及び方法は、高い効率及び生存率を提供し得る。
[Means for solving the problems]
The technology presented herein is directed to various devices, systems, and methods for electroporation of cells, e.g., mammalian and non-mammalian cells, e.g., for large-scale continuous manufacturing processes. In particular, systems and methods for electroporation of cells using an electroporation apparatus including a first input separated by an offset distance from a first output can provide high efficiency and viability.
いくつかの態様では、細胞にカーゴをエレクトロポレートする方法が提供される。この方法は、細胞をカーゴとともにエレクトロポレーションチャンバーに流すことを含む。エレクトロポレーションチャンバーは、第1電極、第2電極、細胞及びカーゴのエレクトロポレーションチャンバーへの通過を可能にする第1入力、エレクトロポレーションチャンバーからのエレクトロポレートされた細胞の通過を可能にする第1出力、並びに細胞及びカーゴが流れるための第1電極と第2電極との間のそこで規定された経路を有する流体チャネル領域を含む。さらに、細胞は、エレクトロポレーション培地に懸濁され、約1×106個の細胞/ml~約500×106個の細胞/mlの細胞密度を有してもよい。この方法は、複数の電気パルスをエレクトロポレーションチャンバー内の細胞に適用することをさらに含み、ここで(i)各電気パルスは指数関数的な吐出波形又は方形波形を有し、(ii)複数の電気パルスは約0.3kV/cm~約3kV/cmの電界強度で適用され;(iii)電界強度は約15V~約100Vの電圧で適用され;(iv)各電気パルス間の持続時間は約0.1秒~約10秒であり;且つ(v)各電気パルスは約10μs~約10,000μsのパルス幅を有する。 In some aspects, methods for electroporating cells with a cargo are provided. The methods include flowing the cells along with the cargo into an electroporation chamber. The electroporation chamber includes a first electrode, a second electrode, a first input that allows passage of the cells and cargo into the electroporation chamber, a first output that allows passage of the electroporated cells from the electroporation chamber, and a fluid channel region having a path defined therein between the first and second electrodes for the flow of the cells and cargo. Further, the cells are suspended in electroporation medium and may have a cell density of about 1 x 10 cells/ml to about 500 x 10 cells/ml. The method further includes applying a plurality of electric pulses to the cells in the electroporation chamber, wherein (i) each electric pulse has an exponential ejection waveform or a square waveform, (ii) the plurality of electric pulses are applied at a field strength of about 0.3 kV/cm to about 3 kV/cm; (iii) the field strength is applied at a voltage of about 15 V to about 100 V; (iv) the duration between each electric pulse is about 0.1 seconds to about 10 seconds; and (v) each electric pulse has a pulse width of about 10 μs to about 10,000 μs.
別の態様では、細胞にカーゴをエレクトロポレートするための装置が提供される。該装置は、1つ以上のエレクトロポレーションチャンバーを含む。各エレクトロポレーションチャンバーは、第1電極、第2電極、細胞及びカーゴのエレクトロポレーションチャンバーへの通過を可能にする第1入力、エレクトロポレーションチャンバーからのエレクトロポレートされた細胞の通過を可能にする第1出力、並びに細胞及びカーゴが流れるための第1電極と第2電極との間のそこで規定された経路を有する流体チャネル領域を含む。 In another aspect, an apparatus for electroporating a cargo into cells is provided. The apparatus includes one or more electroporation chambers. Each electroporation chamber includes a first electrode, a second electrode, a first input that allows passage of cells and cargo into the electroporation chamber, a first output that allows passage of electroporated cells from the electroporation chamber, and a fluid channel region having a defined path therein between the first and second electrodes for the flow of cells and cargo.
別の態様では、細胞トランスフェクション用のキットが提供される。キットは、本明細書に記載のようなエレクトロポレーション用の装置、トランスフェクション対象の細胞及びカーゴを含有するための第1容器、エレクトロポレートされた細胞を含有するための第2容器、細胞をエレクトロポレートするための装置に第1容器及び第2容器を流体連絡するためのチューブ、並びに任意選択的には、試薬、例えばトランスフェクション対象の細胞、エレクトロポレーション培地、又はそれらの組み合わせを含む。 In another aspect, a kit for cell transfection is provided. The kit includes an apparatus for electroporation as described herein, a first container for containing cells to be transfected and cargo, a second container for containing electroporated cells, tubing for fluidly connecting the first and second containers to the apparatus for electroporating the cells, and, optionally, reagents, such as cells to be transfected, electroporation medium, or a combination thereof.
本明細書に記載の主題の様々な対象、特徴、態様及び利点は、数字が構成要素を表しているような添付の図面とともに、好ましい実施形態の以下の詳細な説明からより明白になるであろう。 Various objects, features, aspects and advantages of the subject matter described herein will become more apparent from the following detailed description of preferred embodiments, taken in conjunction with the accompanying drawings, in which numerals represent elements.
図面の簡単な説明
特許又は出願のファイルは、少なくとも1つのカラー図面を含む。カラー図面を有するこの特許又は特許出願公開は、要求があり必要料金が支払われた上で特許庁により提供される。
[図面の簡単な説明]
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The patent or application file contains at least one color drawing. Copies of this patent or patent application publication with color drawing(s) will be provided by the Office upon request and payment of the necessary fee.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
[図1A-1B]平行プレート電極(図1A中に示される通り)及び入力と出力との間にオフセットを有しないマイクロメッシュ電極(図1B中に示される通り)を含む通常のエレクトロポレーション装置を示す。
[図2A-2B]本明細書に提供されるいくつかの実施形態に従うエレクトロポレーション用の装置の態様を示す。
[図2C]本明細書に提供されるいくつかの実施形態に従う第1電極及び第2電極の態様を示す。
[図2D]本明細書に提供されるいくつかの実施形態に従う、本明細書に記載のようなエレクトロポレーション装置内での細胞に対して電気パルスを生成し、提供するための装置のブロック図である。
[図2E]本明細書に提供されるいくつかの実施形態に従う本明細書に記載のようなエレクトロポレーション装置内での細胞に対して電気パルスを生成し、提供するためのさらなる装置のブロック図である。
[図3A-3D]本明細書に提供されるいくつかの実施形態に従う、エレクトロポレーション装置を含むエレクトロポレーション用の装置の態様を示す。図3Aは、入力・出力チャンバーオフセットエレクトロポレーション装置の構造の図面を示す。図3Bは、入力・出力チャンバーオフセットエレクトロポレーション装置の電界の図面を示す。図3Cは、入力・出力チャンバーオフセットエレクトロポレーション装置を通じた細胞移動距離の関数としての電界強度を示す。図3Dは、本明細書に提供されるいくつかの実施形態に従うエレクトロポレーション装置の代替的配置を示す。
[図3E-3G]本明細書に提供されるいくつかの実施形態に従うエレクトロポレーションチャンバー内の経路の態様を示す。
[図3H-3J]本明細書に提供されるいくつかの実施形態に従うエレクトロポレーション装置の代替的配置を示す。
[図3K-3L]本明細書に提供されるいくつかの実施形態に従う、細胞を選別するためのマイクロ流体チャンバー例を図示する。
[図3M-3S]本明細書に提供されるいくつかの実施形態に従うマイクロ流体チャンバー内のポストの幾何学的形状及びポジショニングの様々な態様を示す図面である。
[図3T]本明細書に提供されるいくつかの実施形態に従う、緩衝液を変更するためのマイクロ流体チャンバー例を図示する。
[図3U]本明細書に提供されるいくつかの実施形態に従う、細胞選別用の1つのチャンバー及び緩衝液変更用のもう1つのチャンバーといった2つの分かれたチャンバーを有するマイクロ流体チャンバー例を図示する。
[図3V-3W]本明細書に提供されるいくつかの実施形態に従うエレクトロポレーション装置の代替的配置を示す。
[図3X]本明細書に提供されるいくつかの実施形態に従うエレクトロポレーション装置を含むエレクトロポレーションシステムのモジュラー配置を示す。
[図4]本明細書に提供されるいくつかの実施形態に従う、チャンバーオフセットエレクトロポレーション装置に関連するパラメータの表を示す。
[図5]本明細書に提供されるいくつかの実施形態に従う、チャンバーオフセットエレクトロポレーション装置を通流する細胞に適用されてもよい流体フロー波形(ポンプ)及び電気波形(刺激)の例を示す。
[図6]本明細書に提供されるいくつかの実施形態に従う、チャンバーオフセットエレクトロポレーション装置での使用に適した異なる材料で形成されたマイクロメッシュの様々な例を示す。
[図7A-7E]本明細書に記載の方法及びデバイスを使用する、haNK細胞及び対応するパラメータにおけるエレクトロポレーション実験の結果を示す。
[図8A-8D]本明細書に記載の方法及びデバイスを使用する、haNK細胞及び対応するパラメータにおけるエレクトロポレーション実験のさらなる結果を示す。
[図9A-9D]本明細書に記載の方法及びデバイスを使用する、EC7細胞及び対応するパラメータにおけるエレクトロポレーション実験の結果を示す。
[図10A-10E]本明細書に記載の方法及びデバイスを使用する、EC7細胞及び対応するパラメータにおけるエレクトロポレーション実験のさらなる結果を示す。
[図11A-11C]エレクトロポレートされたEC7細胞の顕微鏡画像を示す。
[図12A-12B]本明細書に記載の方法及びデバイスを使用する、トランスフェクトされたEC7細胞のさらなる結果を示す。
[図13A-13D]本明細書に記載の方法及びデバイスを使用する、異なる細胞株における様々なトランスフェクション効率を示す。
[図14A-14E]本明細書に記載のようなPbAEを使用する、mRNAをT細胞に導入するためのトランスフェクション実験の結果を示す。
[図15A-15B]本明細書に記載の通り、エレクトロポレーションの存在下及び不在下でのmRNAをT細胞に導入するためのトランスフェクション実験の結果を示す。
[図16A-16D]本明細書に記載の方法及びデバイスを使用する、脂肪由来間葉系幹細胞(AD-MSC)及び対応するパラメータにおけるトランスフェクション実験の結果を示す。
[図17]本開示の別の実施形態例によるエレクトロポレーション装置のブロック図である。
[図18]本開示の別の実施形態例による、図17のエレクトロポレーション装置で使用し得るエレクトロポレーションチャネルの分解組立図である。
[図19]層が一緒に組み立てられた図18のエレクトロポレーションチャンバーの等角図である。
[図20]図18のエレクトロポレーションチャンバーの流体チャネル層の正面図である。
[図21]本開示の別の実施形態例による、図20の流体チャネル層と異なる液量を有する流体チャネル層の正面図である。
[図22]本開示の別の実施形態例による、直線流体チャネルを有する流体チャネル層の正面図である。
[図23]流体チャネルの寸法例を有する図20の流体チャネル層の正面図である。
1A-1B show a typical electroporation device that includes parallel plate electrodes (as shown in FIG. 1A) and a micromesh electrode with no offset between the input and output (as shown in FIG. 1B).
2A-2B show aspects of an apparatus for electroporation according to some embodiments provided herein.
FIG. 2C illustrates aspects of a first electrode and a second electrode according to some embodiments provided herein.
FIG. 2D is a block diagram of an apparatus for generating and providing electrical pulses to cells within an electroporation device as described herein, according to some embodiments provided herein.
FIG. 2E is a block diagram of a further apparatus for generating and providing electrical pulses to cells within an electroporation device as described herein according to some embodiments provided herein.
3A-3D show aspects of an apparatus for electroporation, including an electroporation device, according to some embodiments provided herein. FIG. 3A shows a diagram of the structure of an input-output chamber offset electroporation device. FIG. 3B shows a diagram of the electric field of an input-output chamber offset electroporation device. FIG. 3C shows electric field strength as a function of cell migration distance through an input-output chamber offset electroporation device. FIG. 3D shows an alternative configuration of an electroporation device according to some embodiments provided herein.
3E-3G show aspects of pathways within an electroporation chamber according to some embodiments provided herein.
3H-3J show alternative configurations of an electroporation device according to some embodiments provided herein.
3K-3L illustrate example microfluidic chambers for sorting cells, according to some embodiments provided herein.
3M-3S are drawings illustrating various aspects of post geometry and positioning within a microfluidic chamber according to some embodiments provided herein.
FIG. 3T illustrates an example microfluidic chamber for changing buffer solutions, according to some embodiments provided herein.
FIG. 3U illustrates an example microfluidic chamber having two separate chambers, one for cell sorting and another for buffer change, according to some embodiments provided herein.
3V-3W show alternative configurations of an electroporation device according to some embodiments provided herein.
FIG. 3X illustrates a modular arrangement of an electroporation system including an electroporation device according to some embodiments provided herein.
FIG. 4 shows a table of parameters associated with a chamber offset electroporation apparatus, according to some embodiments provided herein.
FIG. 5 shows examples of fluid flow waveforms (pumps) and electrical waveforms (stimuli) that may be applied to cells flowing through a chamber offset electroporation device, according to some embodiments provided herein.
FIG. 6 illustrates various examples of micromeshes formed from different materials suitable for use in a chamber offset electroporation apparatus, according to some embodiments provided herein.
7A-7E show the results of electroporation experiments on haNK cells and corresponding parameters using the methods and devices described herein.
8A-8D show further results of electroporation experiments on haNK cells and corresponding parameters using the methods and devices described herein.
9A-9D show the results of electroporation experiments on EC7 cells and corresponding parameters using the methods and devices described herein.
10A-10E show further results of electroporation experiments on EC7 cells and corresponding parameters using the methods and devices described herein.
11A-11C show microscopic images of electroporated EC7 cells.
12A-12B show further results of transfected EC7 cells using the methods and devices described herein.
13A-13D show the various transfection efficiencies in different cell lines using the methods and devices described herein.
14A-14E show the results of transfection experiments using PbAE as described herein to introduce mRNA into T cells.
15A-15B show the results of transfection experiments to introduce mRNA into T cells in the presence and absence of electroporation, as described herein.
16A-16D show the results of transfection experiments in adipose-derived mesenchymal stem cells (AD-MSCs) and corresponding parameters using the methods and devices described herein.
FIG. 17 is a block diagram of an electroporation device according to another example embodiment of the present disclosure.
18 is an exploded view of an electroporation channel that can be used in the electroporation device of FIG. 17, according to another example embodiment of the present disclosure.
FIG. 19 is an isometric view of the electroporation chamber of FIG. 18 with the layers assembled together.
20 is a front view of the fluid channel layer of the electroporation chamber of FIG. 18.
21 is a front view of a fluid channel layer having a different fluid volume than the fluid channel layer of FIG. 20, according to another example embodiment of the present disclosure.
FIG. 22 is a front view of a fluid channel layer having straight fluid channels according to another example embodiment of the present disclosure.
FIG. 23 is a front view of the fluid channel layer of FIG. 20 with example dimensions of the fluid channels.
[発明を実施するための形態]
細胞、例えば哺乳動物細胞(例えば、NK細胞、EC-7細胞、T細胞など)及び非哺乳動物細胞のエレクトロポレーションのためのシステム及び方法が、高い効率及び生存率を提供する対応するエレクトロポレーションプロトコルとともに提供される。いくつかの態様では、エレクトロポレーションプロトコルは、複数の電気パルス、段階的な流体フロー、低い伝導率及び低い容積モル浸透圧濃度のエレクトロポレーション緩衝液、比較的中程度の容量、並びに/又は比較的中程度の時定数を細胞に施すことを含む。
[Mode for Carrying Out the Invention]
Systems and methods for electroporation of cells, e.g., mammalian cells (e.g., NK cells, EC-7 cells, T cells, etc.) and non-mammalian cells, are provided along with corresponding electroporation protocols that provide high efficiency and viability. In some aspects, the electroporation protocols include subjecting the cells to multiple electric pulses, graded fluid flow, electroporation buffers of low conductivity and low osmolality, relatively moderate volumes, and/or relatively moderate time constants.
様々な態様では、哺乳動物細胞にカーゴをエレクトロポレートするための装置が提供される。該装置は、1つ以上のエレクトロポレーションチャンバー含み得、ここで各エレクトロポレーションチャンバーは、第1電極、第2電極、及び第1電極と第2電極との間のそこで規定された経路を有する流体チャネル領域を含む。第1電極と第2電極の各々は、固体電極又はメッシュ電極、例えばマイクロメッシュ電極であり得る。該装置はまた、細胞及びカーゴのエレクトロポレーションチャンバーへの通過を可能にする第1入力、及びエレクトロポレーションチャンバーからのエレクトロポレートされた細胞の通過を可能にする第1出力を含む。本明細書で用いられるとき、「エレクトロポレートされた細胞」は、トランスフェクト細胞、死細胞、及び非トランスフェクト細胞を含む。いくつかの実施形態では、第1入力と第1出力は、オフセット距離だけ隔てられ得る。第1電極は、第1材料によって囲まれ得、また第2電極は、第2材料によって囲まれ得、それらは同じであっても又は異なってもよい。 In various aspects, a device for electroporating cargo into mammalian cells is provided. The device may include one or more electroporation chambers, where each electroporation chamber includes a first electrode, a second electrode, and a fluid channel region having a pathway defined therein between the first and second electrodes. Each of the first and second electrodes may be a solid electrode or a mesh electrode, e.g., a micromesh electrode. The device also includes a first input that allows passage of cells and cargo into the electroporation chamber, and a first output that allows passage of electroporated cells from the electroporation chamber. As used herein, "electroporated cells" includes transfected cells, dead cells, and non-transfected cells. In some embodiments, the first input and first output may be separated by an offset distance. The first electrode may be surrounded by a first material, and the second electrode may be surrounded by a second material, which may be the same or different.
例えば、図2Aは、エレクトロポレーション装置700aを含む、細胞にカーゴをエレクトロポレートするための例示的な装置を図示する。エレクトロポレーション装置700aは、例えばここで互いに直線上にあることが示される第1電極740(1)及び第2電極740(2)といった2つの電極を含むエレクトロポレーションチャンバー720を含む。エレクトロポレーション装置700aは、細胞及びカーゴのエレクトロポレーションチャンバー720への通過を可能にする第1入力710及びエレクトロポレーションチャンバー720からのエレクトロポレートされた細胞の通過を可能にする第1出力730をさらに含む。第1入力710と第1出力730は、エレクトロポレーションチャンバー720を通じた細胞の流れを側方に促進するため、オフセット距離(d)だけ隔てられてもよい。流体チャネル領域725は、エレクトロポレーションチャンバー720内に存在し、流体チャネル領域725は、細胞及びカーゴが流れるための第1電極740(1)と第2電極740(2)との間のそこで規定された経路735を含む。図示されないが、経路735は、細胞及びカーゴの経路735への通過を可能にするための第1入力に対応する経路入口、並びに経路735からのエレクトロポレートされた細胞の通過を可能にするための第1出力730に対応する経路出口を有してもよい。 For example, FIG. 2A illustrates an exemplary apparatus for electroporating cargo into cells, including an electroporation apparatus 700a. Electroporation apparatus 700a includes an electroporation chamber 720 including two electrodes, e.g., a first electrode 740(1) and a second electrode 740(2), shown here in line with one another. Electroporation apparatus 700a further includes a first input 710 that allows passage of cells and cargo into electroporation chamber 720 and a first output 730 that allows passage of electroporated cells from electroporation chamber 720. First input 710 and first output 730 may be separated by an offset distance (d) to facilitate lateral flow of cells through electroporation chamber 720. A fluid channel region 725 resides within the electroporation chamber 720, and the fluid channel region 725 includes a pathway 735 defined therein between a first electrode 740(1) and a second electrode 740(2) for the flow of cells and cargo. Although not shown, the pathway 735 may have a pathway inlet corresponding to a first input for allowing the passage of cells and cargo into the pathway 735, and a pathway outlet corresponding to a first output 730 for allowing the passage of electroporated cells from the pathway 735.
任意の実施形態では、第1入力は、第1電極、第2電極、又は流体チャネル領域に存在するか又は規定されてもよい。加えて、第1出力は、第1電極、第2電極、又は流体チャネル領域に存在するか又は規定されてもよい。第1入力と第1出力の双方は、第1電極又は第2電極のいずれかに存在し得る。例えば、図2Aに示される通り、第1入力710と第1出力730の双方は、第2電極740(2)に存在する。或いは、第1入力は第1電極に存在してもよく、且つ第1出力は第2電極に存在してもよい、又は第1入力は第2電極に存在してもよく、且つ第1出力は第1電極に存在してもよい。本明細書では、流体チャネル領域の場合、第1入力、第1出力、又は双方が例えば流体チャネル領域の側壁に存在してもよいと考えられる。 In any embodiment, the first input may be present or defined on the first electrode, the second electrode, or the fluid channel region. Additionally, the first output may be present or defined on the first electrode, the second electrode, or the fluid channel region. Both the first input and the first output may be present on either the first electrode or the second electrode. For example, as shown in FIG. 2A, both the first input 710 and the first output 730 are present on the second electrode 740(2). Alternatively, the first input may be present on the first electrode and the first output may be present on the second electrode, or the first input may be present on the second electrode and the first output may be present on the first electrode. It is contemplated herein that in the case of a fluid channel region, the first input, the first output, or both may be present on, for example, a sidewall of the fluid channel region.
図2Bにさらに図示される通り、エレクトロポレーション装置700b内で、第1電極740(1)の上位表面706は、第1材料715(1)によって囲まれるか又はそれに接続されてもよく、第2電極740(2)の下位表面711は、第2材料715(2)によって囲まれるか又はそれに接続されてもよい。例えば、第1材料及び第2材料は、エレクトロポレーション装置の内部チャンバー内、特に平行的な第1電極及び第2電極の間のエレクトロポレーションチャンバー内に細胞を含有するため、例えば、ポリジメチルシロキサン(PDMS)アクリル、ポリエチレン、ポリプロピレン、又はアクリルガラスなどの非多孔度質材料であってもよい。追加的に又は代替的に、エレクトロポレーション装置700bは、細胞及びカーゴのエレクトロポレーションチャンバー720への通過をさらに可能にするための第1外部入力750、並びにエレクトロポレーションチャンバー720からのエレクトロポレートされた細胞の通過をさらに可能にするための第1外部出力760をさらに含んでもよい。第1外部入力は、第1材料で存在し得るか又は規定され得、且つ第1外部出力は、第2材料で存在し得るか又は規定され得る。或いは、第1外部入力は、第2材料で存在し得るか又は規定され得、且つ第1外部出力は、第1材料で存在し得るか又は規定され得る。さらなる実施形態では、第1外部入力と第1外部出力の双方は、第1材料又は第2材料で存在し得るか又は規定され得る。例えば、図2Bに図示される通り、第1外部入力750と第1外部出力760の双方は、第2材料715(2)で存在するか又は規定され、矢印はエレクトロポレーション装置を通る細胞及びカーゴの流れ方向及びエレクトロポレーション装置を出るエレクトロポレートされた細胞を示す。図2A及び図2Bに示され、且つ符号のないその他の開口部又は孔は、当業者によって公知のように、エレクトロポレーション装置の様々な構成要素を、例えばスクリュー及び/又はプラグを介して接続するための開口部を表す。 As further illustrated in FIG. 2B , within electroporation device 700b, the upper surface 706 of first electrode 740(1) may be surrounded by or connected to a first material 715(1), and the lower surface 711 of second electrode 740(2) may be surrounded by or connected to a second material 715(2). For example, the first and second materials may be non-porous materials such as polydimethylsiloxane (PDMS), acrylic, polyethylene, polypropylene, or acrylic glass to contain cells within the interior chamber of the electroporation device, particularly within the electroporation chamber between the parallel first and second electrodes. Additionally or alternatively, electroporation device 700b may further include a first external input 750 to further enable passage of cells and cargo into electroporation chamber 720, and a first external output 760 to further enable passage of electroporated cells from electroporation chamber 720. The first external input can be present or defined in a first material, and the first external output can be present or defined in a second material. Alternatively, the first external input can be present or defined in a second material, and the first external output can be present or defined in a first material. In further embodiments, both the first external input and the first external output can be present or defined in a first material or a second material. For example, as shown in FIG. 2B, both the first external input 750 and the first external output 760 are present or defined in a second material 715(2), with arrows indicating the flow direction of cells and cargo through the electroporation device and electroporated cells exiting the electroporation device. Other openings or holes shown in FIGS. 2A and 2B, but without numbers, represent openings for connecting various components of the electroporation device, for example, via screws and/or plugs, as known by those skilled in the art.
第1電極と第2電極の各々は、固体電極、例えば固体プレート電極、又は多孔度を有するメッシュ電極、例えばマイクロメッシュ電極であってもよい。一実施形態では、第1電極と第2電極の双方は、固体電極、例えば固体プレート電極である。任意の実施形態では、第1電極、第2電極、又は双方が固体電極であるとき、第1電極、第2電極、又は双方は、複数又は一連の固体金属プレートを含む。例えば、図2Cに図示される通り、第1電極741(1)及び第2電極(741)(2)は、複数の固体金属プレート745を含む。各固体金属プレート745は、特定の電界パターンを作るように独立した電界を印加するために形成されてもよい。第1電極及び第2電極が形成されてもよい好適な材料として、限定はされないが、ステンレス鋼、ポリイミド、シリコン、貴金属、グループ4の金属、導電材料、及びそれらの組み合わせが挙げられる。好適な貴金属の例として、限定はされないが、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、銀(Ag)、オスミウム(Os)、イリジウム(Ir)、白金(Pt)、及び金(Au)が挙げられる。グループ4の金属の例として、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)及びラザホージウム(Rf)が挙げられる。好適な導電材料の例として、限定はされないが、酸化インジウム錫(ITO)、カーボンナノチューブ(CNT)及び導電性ポリマー、例えばポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)ポリスチレンスルホン酸(PEDOT:PSS)が挙げられる。 Each of the first and second electrodes may be a solid electrode, e.g., a solid plate electrode, or a mesh electrode having porosity, e.g., a micromesh electrode. In one embodiment, both the first and second electrodes are solid electrodes, e.g., solid plate electrodes. In any embodiment, when the first electrode, the second electrode, or both are solid electrodes, the first electrode, the second electrode, or both comprise a plurality or series of solid metal plates. For example, as shown in FIG. 2C , the first electrode 741(1) and the second electrode (741)(2) comprise a plurality of solid metal plates 745. Each solid metal plate 745 may be configured to apply an independent electric field to create a specific electric field pattern. Suitable materials from which the first and second electrodes may be configured include, but are not limited to, stainless steel, polyimide, silicon, noble metals, Group 4 metals, conductive materials, and combinations thereof. Examples of suitable noble metals include, but are not limited to, ruthenium (Ru), rhodium (Rh), palladium (Pd), silver (Ag), osmium (Os), iridium (Ir), platinum (Pt), and gold (Au). Examples of Group 4 metals include titanium (Ti), zirconium (Zr), hafnium (Hf), and rutherfordium (Rf). Examples of suitable conductive materials include, but are not limited to, indium tin oxide (ITO), carbon nanotubes (CNT), and conductive polymers such as poly(3,4-ethylenedioxythiophene)polystyrenesulfonate (PEDOT:PSS).
任意の実施形態では、本明細書に開示されるエレクトロポレーション装置のいずれか1つは、本明細書に記載のエレクトロポレーションパラメータを伴うエレクトロポレーションプロセス中、細胞に電気パルスを供するための構成要素を含んでもよい。例えば、図2Dは、本明細書に説明される通り、細胞に対して電気パルスを生成し、提供するための装置852を図示する。具体的には、図2Dに示される通り、装置852は、電力供給854及び電力供給854に連結された制御回路858を含む。電力供給854は、エレクトロポレーション装置860(例えば、本明細書に開示されるエレクトロポレーション装置例のいずれか1つ)に電気パルスを提供する。 In any embodiment, any one of the electroporation devices disclosed herein may include components for providing an electrical pulse to cells during an electroporation process involving the electroporation parameters described herein. For example, FIG. 2D illustrates an apparatus 852 for generating and providing an electrical pulse to cells as described herein. Specifically, as shown in FIG. 2D, apparatus 852 includes a power supply 854 and control circuitry 858 coupled to power supply 854. Power supply 854 provides the electrical pulse to electroporation device 860 (e.g., any one of the example electroporation devices disclosed herein).
図2Dの例では、電力供給854は、電源856、電源856に連結された電力変換装置862、及び電力変換装置862とエレクトロポレーション装置860との間で連結されたパルス回路864を含む。電力変換装置862は、例えば電源856によって提供される電力のタイプに応じて、DC-DC電力変換回路及び/又はAC-DC電力変換回路を含んでもよい。例えば、電力変換装置862は、電源856(例えば、1つ以上のバッテリー)からDC電力を受信し、調節されたDC電圧をパルス回路864に出力してもよい。かかる例では、電力変換装置862は、任意の好適な変換トポロジーを有するDC-DC電力変換回路(例えば、バック、ブーストなど)を含んでもよい。他の例では、電力変換装置862は、電源856(例えば、ACメイン)からAC電力を受信してもよい。かかる例では、電力変換装置862は、任意の好適な変換トポロジーを有するAC-DC電力変換回路(例えば、AC-DC整流器、PFCブーストなど)を含んでもよい。 2D , the power supply 854 includes a power source 856, a power converter 862 coupled to the power source 856, and a pulse circuit 864 coupled between the power converter 862 and the electroporation device 860. The power converter 862 may include DC-DC power conversion circuitry and/or AC-DC power conversion circuitry, depending on, for example, the type of power provided by the power source 856. For example, the power converter 862 may receive DC power from the power source 856 (e.g., one or more batteries) and output a regulated DC voltage to the pulse circuit 864. In such an example, the power converter 862 may include a DC-DC power conversion circuitry having any suitable conversion topology (e.g., buck, boost, etc.). In other examples, the power converter 862 may receive AC power from the power source 856 (e.g., AC mains). In such an example, the power converter 862 may include an AC-DC power conversion circuitry having any suitable conversion topology (e.g., AC-DC rectifier, PFC boost, etc.).
図2Dのパルス回路864は、電力変換装置862からDC電圧を受信し、エレクトロポレーション装置860向けにDC電圧をDC電気パルスに変換する。例えば、パルス回路864は、電力変換装置862からのDC電圧を読み取り、電気パルスを生成するための1つ以上のスイッチング素子(図示せず)を含んでもよい。他の例では、パルス回路864は、エレクトロポレーション装置860向けに電気パルスを生成するための他の好適な回路を含んでもよい。 The pulse circuit 864 of FIG. 2D receives the DC voltage from the power converter 862 and converts the DC voltage into DC electrical pulses for the electroporation device 860. For example, the pulse circuit 864 may include one or more switching elements (not shown) for reading the DC voltage from the power converter 862 and generating electrical pulses. In other examples, the pulse circuit 864 may include other suitable circuitry for generating electrical pulses for the electroporation device 860.
図2Dに示される通り、制御回路858は、コントローラ866及びコントローラ866に連結されたパルス発生器868を含む。コントローラ866は、電力変換装置862の出力パラメータ(例えば出力電圧)を表すフィードバック信号870を受信し、フィードバック信号870に基づいて電力変換装置862内の1つ以上のスイッチング素子(図示せず)を制御するため、電力変換装置862向けに1つ以上の制御信号872を生成する。例えば、コントローラ866は、規定値(例えば、電気パルスの所望される振幅)に電力変換装置の出力電圧を調節するため、電力変換装置のスイッチング素子を制御してもよい。いくつかの例では、コントローラ866は、フィードバック信号870及び/又は本明細書に開示される他の信号に基づいて、出力電圧を低下又は増加させてもよい。 As shown in FIG. 2D , the control circuit 858 includes a controller 866 and a pulse generator 868 coupled to the controller 866. The controller 866 receives a feedback signal 870 representing an output parameter (e.g., output voltage) of the power converter 862 and generates one or more control signals 872 for the power converter 862 to control one or more switching elements (not shown) within the power converter 862 based on the feedback signal 870. For example, the controller 866 may control the switching elements of the power converter to regulate the output voltage of the power converter to a specified value (e.g., a desired amplitude of an electrical pulse). In some examples, the controller 866 may decrease or increase the output voltage based on the feedback signal 870 and/or other signals disclosed herein.
加えて、また図2Dに示される通り、コントローラ866は、パルス発生器868向けに信号874を生成してもよく、パルス発生器868は、コントローラ866からの受信された信号に基づき、電気パルスを生成するためのパルス回路864向けに1つ以上の制御信号876を生成してもよい。例えば、信号874は、電気パルスの生成を開始させるため、パルス発生器868を指令する開始及び/又は停止信号であってもよい。いくつかの例では、パルス発生器868は、コントローラ866からの受信された信号に基づき、電気パルスの周波数、パルス幅、デューティ比などを調節してもよい。 In addition, and as shown in FIG. 2D , the controller 866 may generate a signal 874 for the pulse generator 868, which may generate one or more control signals 876 for the pulse circuit 864 to generate electrical pulses based on the signal received from the controller 866. For example, the signal 874 may be a start and/or stop signal that instructs the pulse generator 868 to begin generating electrical pulses. In some examples, the pulse generator 868 may adjust the frequency, pulse width, duty cycle, etc. of the electrical pulses based on the signal received from the controller 866.
いくつかの例では、制御回路858は、電力変換装置862及び/又はパルス発生器868を制御するための1つ以上の追加的な信号を受信してもよい。例えば、また図2Dに示される通り、制御回路858内のパルス発生器868は、任意選択的には1つ以上の信号878aを受信してもよい。信号878aは、パルス回路864、エレクトロポレーション装置860などからのフィードバック信号であり、電気パルスを生成するためのパルス回路864を制御するために使用されてもよい。加えて、また図2Dに示される通り、制御回路858内のコントローラ866は、任意選択的には、パルス回路864、エレクトロポレーション装置860などからのフィードバック信号を表す1つ以上の信号880、及び/又はユーザインターフェースからのユーザが規定した指令を表す1つ以上の信号882を受信してもよい。かかる例では、信号880及び/又は信号882は、パルス回路864及び/又は電力変換装置862を制御し、パルスタイミングを監視するなどのため、使用されてもよい。いくつかの例では、装置852は、エレクトロポレーション装置860に関連するチップ電圧及び/又はチップ電流を監視するための1つ以上の検出器(図示せず)を含んでもよい。かかる例では、パルス発生器868及び/又はコントローラ866は、検知されたチップ電圧及び/又は検知されたチップ電流を信号878a、880を介して受信し、次いで検知されたチップ電圧及び/又は電流に基づいてパルス回路864及び/又は電力変換装置862を制御してもよい。 In some examples, control circuitry 858 may receive one or more additional signals for controlling power conversion device 862 and/or pulse generator 868. For example, and as shown in FIG. 2D , pulse generator 868 within control circuitry 858 may optionally receive one or more signals 878a. Signal 878a may be a feedback signal from pulse circuitry 864, electroporation device 860, etc., and may be used to control pulse circuitry 864 to generate electrical pulses. Additionally, and as shown in FIG. 2D , controller 866 within control circuitry 858 may optionally receive one or more signals 880 representing feedback signals from pulse circuitry 864, electroporation device 860, etc., and/or one or more signals 882 representing user-defined commands from a user interface. In such examples, signals 880 and/or 882 may be used to control pulse circuitry 864 and/or power conversion device 862, monitor pulse timing, etc. In some examples, the device 852 may include one or more detectors (not shown) for monitoring tip voltage and/or tip current associated with the electroporation device 860. In such examples, the pulse generator 868 and/or the controller 866 may receive the sensed tip voltage and/or the sensed tip current via signals 878a, 880 and then control the pulse circuitry 864 and/or the power conversion device 862 based on the sensed tip voltage and/or current.
制御回路858はまた、制御目的で、1つ以上の追加的な信号を生成してもよい。例えば、コントローラ866は、任意選択的には、エレクトロポレーション装置の他の構成要素、及び/又はエレクトロポレーション装置外部の構成要素向けに1つ以上の信号884を生成してもよい。かかる例では、信号884は、ユーザインターフェースに供されるユーザフィードバック、装置内の液体ポンプ、蠕動ポンプ、ピンチバルブのモーター(例えば、ステッピングモーター)を制御するための制御信号などを表してもよい。加えて、パルス回路864は、任意選択的には、エレクトロポレーション装置の他の構成要素、及び/又はエレクトロポレーション装置外部の構成要素向けに1つ以上の信号878bを生成してもよい。例えば、パルス回路は、検出器が電圧及び電流の監視を開始するように指令するため、検出器向けに信号878bを生成してもよい。 The control circuitry 858 may also generate one or more additional signals for control purposes. For example, the controller 866 may optionally generate one or more signals 884 to other components of the electroporation apparatus and/or components external to the electroporation apparatus. In such examples, the signals 884 may represent user feedback provided to a user interface, control signals for controlling motors (e.g., stepper motors) of liquid pumps, peristaltic pumps, pinch valves within the apparatus, etc. Additionally, the pulse circuitry 864 may optionally generate one or more signals 878b to other components of the electroporation apparatus and/or components external to the electroporation apparatus. For example, the pulse circuitry may generate signal 878b to a detector to instruct the detector to begin monitoring voltage and current.
図2Eは、本明細書に説明される通り、細胞に対して電気パルスを生成し、提供するための別の例の装置886を図示する。図示のように、装置886は、エレクトロポレーション装置860に連結された電力供給888及び電力供給888を制御するための制御回路890を含む。図2Eの電力供給888及び制御回路890は、図2Dの電力供給854及び制御回路858に類似するが、追加的な構成要素を含む。例えば、電力供給888は、図2Dの電源856、電力変換装置862及びパルス回路864とともに、電源856と電力変換装置862との間に連結されたフィルター892を含む。フィルター892は、電源856からの電気信号を平滑化するためのコンデンサー、インダクタなどの1つ以上の構成要素(図示せず)を含んでもよい。 Figure 2E illustrates another example apparatus 886 for generating and delivering electrical pulses to cells as described herein. As shown, the apparatus 886 includes a power supply 888 coupled to an electroporation apparatus 860 and a control circuit 890 for controlling the power supply 888. The power supply 888 and control circuit 890 of Figure 2E are similar to the power supply 854 and control circuit 858 of Figure 2D, but include additional components. For example, the power supply 888 includes the power supply 856, power converter 862, and pulse circuit 864 of Figure 2D, as well as a filter 892 coupled between the power supply 856 and the power converter 862. The filter 892 may include one or more components (not shown), such as a capacitor, inductor, etc., for smoothing the electrical signal from the power supply 856.
加えて、また図2Eに示される通り、制御回路890は、図2Dのコントローラ866及びパルス発生器868とともに、パルス発生器868に連結された1つ以上のゲートドライバ894を含む。図2Eの例では、ゲートドライバ894は、パルス発生器868から信号を受信し、パルス回路864内の1つ以上のスイッチング素子(例えばMOSFET)を制御するための1つ以上のパルス幅変調(PWM)制御信号896を生成する。加えて、制御回路890は、図2Dで参照される様々な信号のいずれか1つ以上を受信及び/又は生成してもよい。例えば、コントローラ866は、フィードバック信号870を受信し、上で説明されるように、電力変換装置862内の1つ以上のスイッチング素子(例えばMOSFET)を制御するための制御信号872を生成してもよい。 Additionally, and as shown in FIG. 2E, the control circuit 890 includes one or more gate drivers 894 coupled to the pulse generator 868, along with the controller 866 and pulse generator 868 of FIG. 2D. In the example of FIG. 2E, the gate driver 894 receives signals from the pulse generator 868 and generates one or more pulse-width modulation (PWM) control signals 896 for controlling one or more switching elements (e.g., MOSFETs) in the pulse circuit 864. Additionally, the control circuit 890 may receive and/or generate any one or more of the various signals referenced in FIG. 2D. For example, the controller 866 may receive the feedback signal 870 and generate a control signal 872 for controlling one or more switching elements (e.g., MOSFETs) in the power converter 862, as described above.
本明細書に開示される制御回路は、ハードウェア構成要素及び/又は本明細書に開示される機能を含む様々な機能を実施するためのプログラム化されたソフトウェア構成要素を含んでもよい。例えば、図2D及び2Eの制御回路858、890のいずれか1つは、(本明細書に説明される)電力供給854、888のパラメータ、エレクトロポレーション装置860に関連するパラメータなどを監視するための1つ以上のセンサーを含んでもよい。パラメータは、電力供給854、888及び/又はエレクトロポレーション装置860に関連する電気パラメータ、エレクトロポレーション装置860に関連する流体パラメータなどを含んでもよい。かかる例では、制御回路858、890は、パラメータに基づき、電力供給854、888、及び/又は装置852、886の他の構成要素(例えば、液体ポンプなど)を制御してもよい。本明細書では、本明細書に記載の電力供給854、888のいずれか1つ及び制御回路858、890のいずれか1つが、電気パルス及び以下にさらに説明されるようなエレクトロポレーションパラメータ、例えば、波形、電界強度、電圧、各電気パルス間の持続時間、パルス幅、各電気パルスの持続時間などを提供し得ると考えられる。例えば、制御回路858、890のいずれか1つは、以下:(i)各電気パルスは指数関数的な吐出波形又は方形波形の形態を有し;(ii)複数の電気パルスが約0.3kV/cm~約3kV/cmの電界強度で適用され;(iii)電界強度は約15V~約100Vの電圧で適用され;(iv)各電気パルス間の持続時間は約0.1秒~約10秒であり;且つ(v)各電気パルスは約10μs~約10,000μsのパルス幅を有することの1つ以上を提供し得る。 The control circuits disclosed herein may include hardware components and/or programmed software components for performing various functions, including those disclosed herein. For example, either one of the control circuits 858, 890 of FIGS. 2D and 2E may include one or more sensors for monitoring parameters of the power supplies 854, 888 (as described herein), parameters associated with the electroporation device 860, etc. The parameters may include electrical parameters associated with the power supplies 854, 888 and/or the electroporation device 860, fluid parameters associated with the electroporation device 860, etc. In such examples, the control circuits 858, 890 may control the power supplies 854, 888 and/or other components of the devices 852, 886 (e.g., liquid pumps, etc.) based on the parameters. It is contemplated herein that any one of the power supplies 854, 888 and any one of the control circuits 858, 890 described herein can provide electrical pulses and electroporation parameters as further described below, such as waveform, field strength, voltage, duration between each electrical pulse, pulse width, duration of each electrical pulse, etc. For example, any one of the control circuits 858, 890 can provide one or more of the following: (i) each electrical pulse has the form of an exponential ejection waveform or a square waveform; (ii) the multiple electrical pulses are applied at a field strength of about 0.3 kV/cm to about 3 kV/cm; (iii) the field strength is applied at a voltage of about 15 V to about 100 V; (iv) the duration between each electrical pulse is about 0.1 seconds to about 10 seconds; and (v) each electrical pulse has a pulse width of about 10 μs to about 10,000 μs.
いくつかの実施形態では、第1電極は上位マイクロメッシュ電極であってもよく、且つ第2電極は下位マイクロメッシュ電極であってもよい。かかる実施形態では、エレクトロポレーションチャンバーは、上位マイクロメッシュ電極、下位マイクロメッシュ電極、並びに細胞及びカーゴが流れるための上位マイクロメッシュ電極と下位マイクロメッシュ電極との間の規定された経路を含んでもよい。上位マイクロメッシュ電極と下位マイクロメッシュ電極の各々は、例えばエレクトロポレーションチャンバー内又は外のいずれかへのマイクロメッシュ電極の細胞の通過を可能にするため、多孔度を有する。例えば、上位マイクロメッシュ電極と下位マイクロメッシュ電極の各々は、約30%~約50%の開口領域といった多孔度を有し得る。上位マイクロメッシュ電極及び下位マイクロメッシュ電極の孔開口部の幅は、約70μm~約140μmであり得る。上位マイクロメッシュ電極は第1材料によって囲まれ得、また下位マイクロメッシュ電極は第2材料によって囲まれ得る。第1材料は、細胞のエレクトロポレーションチャンバーへの通過を可能にする第1入力を含み、第2材料は、エレクトロポレーションチャンバーからのエレクトロポレートされた細胞の通過を可能にする第1出力を含む。追加的に又は代替的に、細胞及び/又はカーゴが上位マイクロメッシュ電極の孔を通って移動し、エレクトロポレーションチャンバーに入るのではなく、上位マイクロメッシュ電極は、任意選択的には、細胞及び/又はカーゴのエレクトロポレーションチャンバーへの通過を可能にするための第2入力を含んでもよい。第2入力は、第1材料における第1入力と実質的に整列されてもよい。追加的に又は代替的に、エレクトロポレートされた細胞が下位マイクロメッシュ電極の孔を通って移動し、エレクトロポレーションチャンバーを出るのではなく、下位マイクロメッシュ電極は、エレクトロポレーションチャンバーから外部へのエレクトロポレーションの通過を可能にするための第2出力を含んでもよい。第2出力は、第2材料における第1出力と実質的に整列されてもよい。 In some embodiments, the first electrode may be an upper micromesh electrode, and the second electrode may be a lower micromesh electrode. In such embodiments, the electroporation chamber may include an upper micromesh electrode, a lower micromesh electrode, and a defined pathway between the upper and lower micromesh electrodes for cell and cargo flow. Each of the upper and lower micromesh electrodes has a porosity, e.g., to allow passage of cells through the micromesh electrodes either into or out of the electroporation chamber. For example, each of the upper and lower micromesh electrodes may have a porosity of about 30% to about 50% open area. The width of the pore openings in the upper and lower micromesh electrodes may be about 70 μm to about 140 μm. The upper micromesh electrode may be surrounded by a first material, and the lower micromesh electrode may be surrounded by a second material. The first material includes a first input that allows passage of cells into the electroporation chamber, and the second material includes a first output that allows passage of electroporated cells from the electroporation chamber. Additionally or alternatively, rather than cells and/or cargo migrating through the pores of the upper micromesh electrode and entering the electroporation chamber, the upper micromesh electrode may optionally include a second input for allowing passage of cells and/or cargo into the electroporation chamber. The second input may be substantially aligned with the first input in the first material. Additionally or alternatively, rather than electroporated cells migrating through the pores of the lower micromesh electrode and exiting the electroporation chamber, the lower micromesh electrode may include a second output for allowing passage of electroporated cells out of the electroporation chamber. The second output may be substantially aligned with the first output in the second material.
例えば、図3Aは、細胞にカーゴをエレクトロポレートするための例示的な装置を図示し、それはマイクロメッシュ電極を含むIOCOエレクトロポレーション装置200を含む。IOCOエレクトロポレーション装置200は、上位マイクロメッシュ電極240(1)及び下位マイクロメッシュ電極240(2)といった、互いに整列した状態でここに示される2つのマイクロメッシュ電極を含む。上位マイクロメッシュ電極240(1)の上位表面は、第1材料によって囲まれてもよく、下位マイクロメッシュ電極240(2)の下位表面は、第2材料によって囲まれてもよい。例えば、第1材料及び第2材料は、エレクトロポレーション装置の内部チャンバー内、特に2つの平行マイクロメッシュ電極間のチャンバー220内に細胞を含有するため、例えば、ポリジメチルシロキサン(PDMS)アクリル、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの非多孔質材料であってもよい。第1入力210は、上位マイクロメッシュ電極240(1)上(PDMSを有しない領域)に形成され、且つ第1出力230は、下位マイクロメッシュ電極240(2)上(PDMSを有しない領域)に形成される。したがって、この例では、上位マイクロメッシュ電極240(1)及び下位マイクロメッシュ電極240(2)は、細胞の流れをチャンバーの側方距離に沿って方向づけるため、第1材料(上位PDMS層)及び第2材料(下位PDMS層)によって囲まれた、エレクトロポレーションチャンバー220の長さに及ぶ。第1材料(上位PDMS層)における開口部(第1入力210)及び第2材料(下位PDMS層)における開口部(第1出力230)は、細胞の流れの、エレクトロポレーションチャンバー220の側方通過を容易にするため、オフセット距離(d)だけ隔てられる。 For example, FIG. 3A illustrates an exemplary device for electroporating cargo into cells, including an IOCO electroporation device 200 that includes micromesh electrodes. The IOCO electroporation device 200 includes two micromesh electrodes, shown here aligned with one another, upper micromesh electrode 240(1) and lower micromesh electrode 240(2). The upper surface of upper micromesh electrode 240(1) may be surrounded by a first material, and the lower surface of lower micromesh electrode 240(2) may be surrounded by a second material. For example, the first and second materials may be non-porous materials, such as polydimethylsiloxane (PDMS), acrylic, polyethylene, polypropylene, etc., to contain cells within the interior chamber of the electroporation device, particularly within chamber 220 between the two parallel micromesh electrodes. The first input 210 is formed on the upper micromesh electrode 240(1) (area without PDMS), and the first output 230 is formed on the lower micromesh electrode 240(2) (area without PDMS). Thus, in this example, the upper micromesh electrode 240(1) and the lower micromesh electrode 240(2) span the length of the electroporation chamber 220, surrounded by the first material (upper PDMS layer) and the second material (lower PDMS layer), to direct the flow of cells along the lateral distance of the chamber. The opening (first input 210) in the first material (upper PDMS layer) and the opening (first output 230) in the second material (lower PDMS layer) are separated by an offset distance (d) to facilitate the flow of cells through the electroporation chamber 220 laterally.
任意の実施形態では、上記のようなエレクトロポレーションチャンバーは、限定はされないが、円形、卵円形、方形、矩形、又は多角形を含むいずれかの所望される形状を有してもよい。 In any embodiment, the electroporation chamber as described above may have any desired shape, including, but not limited to, circular, oval, square, rectangular, or polygonal.
任意の実施形態では、エレクトロポレーションチャンバー幅(w)は、約0.01mm~約15mm、0.01mm~約10mm、0.01mm~約7.5mm、0.01mm~約5mm、約0.05mm~約5mm、約0.1mm~約15mm、0.1mm~約10mm、0.1mm~約7.5mm、約0.1mm~約5mm、約1mm~約15mm、約1mm~約10mm、約1mm~約7.5mm、約1mm~約5mm、約2mm~約10mm、約2mm~約5mm、約0.01mm~約4mm、約0.1mm~約4mm、約1mm~約4mm、約0.01mm~約2mm、約0.05mm~約1mm、約0.1mm~約0.5mm、又は約0.2mm~約0.4mmの範囲であってもよい。いくつかの態様では、チャンバー幅(w)は、約0.3mm又は約4mmである。 In any embodiment, the electroporation chamber width (w) may be in the range of about 0.01 mm to about 15 mm, 0.01 mm to about 10 mm, 0.01 mm to about 7.5 mm, 0.01 mm to about 5 mm, about 0.05 mm to about 5 mm, about 0.1 mm to about 15 mm, 0.1 mm to about 10 mm, 0.1 mm to about 7.5 mm, about 0.1 mm to about 5 mm, about 1 mm to about 15 mm, about 1 mm to about 10 mm, about 1 mm to about 7.5 mm, about 1 mm to about 5 mm, about 2 mm to about 10 mm, about 2 mm to about 5 mm, about 0.01 mm to about 4 mm, about 0.1 mm to about 4 mm, about 1 mm to about 4 mm, about 0.01 mm to about 2 mm, about 0.05 mm to about 1 mm, about 0.1 mm to about 0.5 mm, or about 0.2 mm to about 0.4 mm. In some embodiments, the chamber width (w) is about 0.3 mm or about 4 mm.
いくつかの態様では、第1入力と第1出力との間のオフセット距離(d)は、約0.1cm~約10cm、約0.1cm~約5cm、約0.1cm~約4cm、約1cm~約3cmの範囲であってもよい。いくつかの態様では、オフセット距離(d)は、約2cmである。いくつかの態様では、入力と出力との間に重複がない。 In some embodiments, the offset distance (d) between the first input and the first output may range from about 0.1 cm to about 10 cm, from about 0.1 cm to about 5 cm, from about 0.1 cm to about 4 cm, or from about 1 cm to about 3 cm. In some embodiments, the offset distance (d) is about 2 cm. In some embodiments, there is no overlap between the input and the output.
第1入力及び/又は第2入力は、エレクトロポレーションチャンバーと流体連絡され、エレクトロポレーションチャンバーは、第1出力及び/又は第2出力と流体連絡される。入力、出力、及びエレクトロポレーションチャンバーは、加えて、エレクトロポレーションチャンバーを通る細胞の流れを制御するため、1つ以上の弁、レギュレーター、ポンプ、又は任意の他のマイクロ流体部品を含んでもよい。 The first input and/or the second input are in fluid communication with the electroporation chamber, and the electroporation chamber is in fluid communication with the first output and/or the second output. The input, output, and electroporation chamber may additionally include one or more valves, regulators, pumps, or any other microfluidic components to control the flow of cells through the electroporation chamber.
いくつかの態様では、第1入力と第1出力の双方は、第1入力と第1出力との間で好適なオフセット距離が維持される条件で、上位マイクロメッシュ電極上の第1材料に位置づけられてもよい。追加的に又は代替的に、第2入力と第2出力の双方は、上位マイクロメッシュ電極に存在してもよい。他の態様では、第1入力と第1出力の双方は、第1入力と第1出力との間で好適なオフセット距離が維持される条件で、下位マイクロメッシュ電極上の第2材料に位置づけられてもよい。追加的に又は代替的に、第2入力と第2出力の双方は、下位マイクロメッシュ電極に存在してもよい。 In some embodiments, both the first input and the first output may be located on a first material on the upper micromesh electrode, provided that a suitable offset distance is maintained between the first input and the first output. Additionally or alternatively, both the second input and the second output may be located on the upper micromesh electrode. In other embodiments, both the first input and the first output may be located on a second material on the lower micromesh electrode, provided that a suitable offset distance is maintained between the first input and the first output. Additionally or alternatively, both the second input and the second output may be located on the lower micromesh electrode.
いくつかの実施形態では、細胞は、第1入力に入り、第1の方向に流れてもよい。一旦第1電極又は第2電極を通過すると、細胞の流れは、方向を変え、第1の方向に垂直な又は実質的に垂直な方向の、エレクトロポレーションチャンバーの長さに沿う経路内を側方に流れ得る。一旦第1出力に達すると、細胞の流れは、方向を再び変え、第1の方向に平行な第2の方向にエレクトロポレーションチャンバーから放出し得る。 In some embodiments, cells may enter the first input and flow in a first direction. Once past the first or second electrode, the flow of cells may change direction and flow laterally in a path along the length of the electroporation chamber in a direction perpendicular or substantially perpendicular to the first direction. Once at the first output, the flow of cells may change direction again and exit the electroporation chamber in a second direction parallel to the first direction.
いくつかの態様では、平行な第1電極及び第2電極の間に、約0.3kV/cm~約3kV/cmの範囲内の電界を生成するのに好適な電圧が印加される。典型的な電界は、haNKSに対して約1~1.3kV/cm(例えば、40V/300um)、またEC-7細胞に対して約0.3~1kV/cmの範囲である。いくつかの態様では、電圧は、約10V、約20V、約30V、約40V、約50V、約75V、約100V、若しくは約200V、又はそれらの中の任意の好適な範囲、又はそれ以上であってもよい。 In some embodiments, a voltage suitable for generating an electric field in the range of about 0.3 kV/cm to about 3 kV/cm is applied between the parallel first and second electrodes. Typical electric fields range from about 1 to 1.3 kV/cm (e.g., 40 V/300 um) for haNKS and about 0.3 to 1 kV/cm for EC-7 cells. In some embodiments, the voltage may be about 10 V, about 20 V, about 30 V, about 40 V, about 50 V, about 75 V, about 100 V, or about 200 V, or any suitable range therein, or higher.
いくつかの態様では、第1入力、第2入力、第1出力及び第2出力の直径は、ほぼ同じであってもよい。他の態様では、第1入力の直径は、第1出力の直径よりも大きくてもよいか若しくは小さくてもよく、且つ/又は第2入力の直径は、第2出力の直径よりも大きくてもよいか若しくは小さくてもよい。例えば、第1入力の直径及び/又は第2入力の直径は、約0.1mm~約10mm、約1mm~約7mm、約3mm~約5mmの範囲であってもよいか、又は約4mmであってもよい。第1出力の直径及び/又は第2出力の直径は、約0.1mm~約10mm、約1mm~約7mm、約3mm~約5mmの範囲であってもよいか、又は約4mmであってもよい。 In some aspects, the diameters of the first input, the second input, the first output, and the second output may be approximately the same. In other aspects, the diameter of the first input may be larger or smaller than the diameter of the first output, and/or the diameter of the second input may be larger or smaller than the diameter of the second output. For example, the diameter of the first input and/or the diameter of the second input may be in the range of about 0.1 mm to about 10 mm, about 1 mm to about 7 mm, about 3 mm to about 5 mm, or about 4 mm. The diameter of the first output and/or the diameter of the second output may be in the range of about 0.1 mm to about 10 mm, about 1 mm to about 7 mm, about 3 mm to about 5 mm, or about 4 mm.
任意の実施形態では、エレクトロポレーションチャンバーの長さ(l)は、約2mm~約100mm、約2mm~約80mm、約2mm~約60mm、約2mm~約40mm、約2mm~約20mm、約5mm~約100mm、約5mm~約80mm、約5mm~約60mm、約5mm~約40mm、約5mm~約20mm、約5mm~約15mm、約8mm~約12mmの範囲であってもよいか、又は約10mmであってもよい。 In any embodiment, the length (l) of the electroporation chamber may be in the range of about 2 mm to about 100 mm, about 2 mm to about 80 mm, about 2 mm to about 60 mm, about 2 mm to about 40 mm, about 2 mm to about 20 mm, about 5 mm to about 100 mm, about 5 mm to about 80 mm, about 5 mm to about 60 mm, about 5 mm to about 40 mm, about 5 mm to about 20 mm, about 5 mm to about 15 mm, about 8 mm to about 12 mm, or may be about 10 mm.
任意の実施形態では、エレクトロポレーションチャンバーの高さ(h)は、約100μm~約1000μm、約100μm~約750μm、約100μm~約500μm、約100μm~約300μm、約100μm~約200μm、約200μm~約1000μm、約200μm~約750μm、約200μm~約500μm、又は約200μm~約300μmの範囲であってもよい。いくつかの態様では、チャンバー高さ(h)は、約284μmである。 In any embodiment, the height (h) of the electroporation chamber may range from about 100 μm to about 1000 μm, about 100 μm to about 750 μm, about 100 μm to about 500 μm, about 100 μm to about 300 μm, about 100 μm to about 200 μm, about 200 μm to about 1000 μm, about 200 μm to about 750 μm, about 200 μm to about 500 μm, or about 200 μm to about 300 μm. In some aspects, the chamber height (h) is about 284 μm.
任意の実施形態では、幅(w)に対する長さ(l)の比(l/w)は、約1~約50、約1~約40、約1~約20又は約1~約10であり得る。 In any embodiment, the ratio of length (l) to width (w) (l/w) can be from about 1 to about 50, from about 1 to about 40, from about 1 to about 20, or from about 1 to about 10.
任意の実施形態では、一旦細胞がエレクトロポレーションチャンバーに入ると、細胞はエレクトロポレーションチャンバーを出るまで、均一電界に曝露される。例えば、図3Bは、IOCOエレクトロポレーション装置200における電界の図面である。位置(1)は、入力(第1入力210)における細胞を指し、位置(2)は、エレクトロポレーションチャンバー内の細胞を指し、位置(3)は、出力(第1出力230)における細胞を指す。 In any embodiment, once the cells enter the electroporation chamber, they are exposed to a uniform electric field until they exit the electroporation chamber. For example, Figure 3B is a diagram of the electric field in the IOCO electroporation device 200. Position (1) refers to the cell at the input (first input 210), position (2) refers to the cell in the electroporation chamber, and position (3) refers to the cell at the output (first output 230).
図3Cは、IOCOエレクトロポレーション装置200を通じた細胞移動距離に対する電界強度のプロットである。位置(1)で示される入力(第1入力210)における細胞は、マイクロメッシュ電極を通過してエレクトロポレーションチャンバーに入るまで電界に曝露されない。位置(2)で示されるエレクトロポレーションチャンバー内で、細胞は均一な(最大強度の)電界を受ける一方で、チャンバーの長さに沿って移動する。一旦位置(3)で示される出力(第1出力230)に入ると、細胞は電界に曝露されない。 Figure 3C is a plot of electric field strength versus cell migration distance through the IOCO electroporation device 200. Cells at the input (first input 210), designated position (1), are not exposed to an electric field until they pass through the micromesh electrode and enter the electroporation chamber. Within the electroporation chamber, designated position (2), the cells experience a uniform (maximum strength) electric field while migrating along the length of the chamber. Once they enter the output (first output 230), designated position (3), the cells are not exposed to an electric field.
図3Dは、エレクトロポレーション装置310-330を含む、本明細書で提示されるエレクトロポレーション装置の代替的な配置を示す。この実施形態では、細胞は、上位メッシュと下位メッシュとの間に直線状(水平)流路を有するのでなく、上位メッシュと下位メッシュとの間に曲線状又は円形状(水平)流路をとってもよい。直線状流路と曲線状流路の各々は、上位及び下位メッシュの少なくとも1つの表面によって規定された平面に対して平行に伸びる少なくとも1つのセグメントを含んでもよい。 Figure 3D shows an alternative configuration of the electroporation apparatus presented herein, including electroporation devices 310-330. In this embodiment, rather than having a straight (horizontal) flow path between the upper and lower meshes, cells may take a curved or circular (horizontal) flow path between the upper and lower meshes. Each of the straight and curved flow paths may include at least one segment extending parallel to a plane defined by at least one surface of the upper and lower meshes.
この例では、エレクトロポレーション装置の様々な層310-330が図3Dに示される。固体外部プレート310(1)及び310(2)(例えば、プラスチック、金属、又は任意の他の好適な材料)は、該装置を囲む。接着層又は他の好適な材料(例えば、両側テープ、感圧性接着材料など)320(1)(第1材料)は、上位固体外部プレート310(1)と上位メッシュ330(1)との間に設けられ、接着層又は他の好適な材料(例えば、両側テープ、感圧性接着層など)330(2)(第2材料)は、下位外部プレート310(2)と下位メッシュ330(2)との間に設けられる。細胞及びカーゴが通流してもよい曲線状チャネル又は曲線状経路335を含む別の接着層(例えば、感圧性接着材料又は両側テープなど)(340)は、上位メッシュ330(1)と下位メッシュ330(2)との間に位置づけられる。流体は、エレクトロポレーション装置310-330を通じて、シリンジ350により駆動されてもよい。エレクトロポレーション装置310-330はまた、エレクトロポレーターパルサー360と面してもよい。任意の実施形態では、エレクトロポレーション装置310-330は、細胞が連続的様式で装置を通流する、連続エレクトロポレーション装置であってもよい。 In this example, the various layers 310-330 of the electroporation device are shown in FIG. 3D. Solid outer plates 310(1) and 310(2) (e.g., plastic, metal, or any other suitable material) surround the device. An adhesive layer or other suitable material (e.g., double-sided tape, pressure-sensitive adhesive, etc.) 320(1) (first material) is provided between the upper solid outer plate 310(1) and the upper mesh 330(1), and an adhesive layer or other suitable material (e.g., double-sided tape, pressure-sensitive adhesive, etc.) 330(2) (second material) is provided between the lower outer plate 310(2) and the lower mesh 330(2). Another adhesive layer (e.g., pressure-sensitive adhesive or double-sided tape, etc.) (340) containing a curvilinear channel or pathway 335 through which cells and cargo may flow is positioned between the upper mesh 330(1) and the lower mesh 330(2). Fluid may be driven by a syringe 350 through the electroporation devices 310-330. The electroporation devices 310-330 may also face an electroporator pulser 360. In any embodiment, the electroporation devices 310-330 may be continuous electroporation devices, in which cells flow through the device in a continuous manner.
細胞及びカーゴがエレクトロポレーションチャンバーを通流する経路は、エレクトロポレーションチャンバー内、例えば、第1電極(例えば、固体電極又は上位マイクロメッシュ電極)と第2電極(例えば、固体電極又は下位マイクロメッシュ電極)との間の上記のような流体チャネル領域内で規定される。第1電極(例えば、固体電極又は上位マイクロメッシュ電極)及び第2電極(例えば、固体電極又は下位マイクロメッシュ電極)の少なくとも1つに平行である少なくとも1つの水平フローセグメントを含むという条件で、任意の好適な経路が本明細書に提供される実施形態によって検討されることは理解される。水平フローセグメントは、上位及び下位マイクロメッシュ電極の間に伸びる経路の長さの1/10、1/4、1/2、3/4、7/8、又は9/10のいずれかよりも長く又は短く形成してもよい。場合によっては、該経路は、直線状、曲線状、分岐状、回り道状、蛇行状、又はそれらの任意の組み合わせであってもよい。曲線状経路の例として、限定はされないが、円形状経路、らせん状経路、円錐状経路、又はそれらの任意の組み合わせが挙げられる。例えば、図3Bに図示される通り、矢印が細胞の流れを図示する場合、経路は直線状である。図2A、図2B、図3D及び図3Eに図示される通り、矢印が細胞の流れを図示する場合、経路は曲線状である。図3Fに図示される通り、矢印が細胞の流れを図示する場合、経路は、直線状であり、方向における1つ以上の変化又はスイッチバックを伴ってもよい。図3Gに図示される通り、経路は、円形状であり、且つ1つ以上の分枝を有してもよい。図3E~図3Gに示される通り、経路は、第1入力に対応してもよい又は第1入力と実質的に整列されてもよい入口380(平面外)、及び第1出力に対応してもよい又は第1出力と実質的に整列されてもよい1つ以上の出口390(平面内)を含んでもよい。経路の長さは、エレクトロポレーションプロセスの特定の特徴に応じて、調節、例えば短縮又は延長されてもよい。 A pathway for cells and cargo to flow through the electroporation chamber is defined within the electroporation chamber, e.g., within the fluid channel region described above between a first electrode (e.g., a solid electrode or an upper micromesh electrode) and a second electrode (e.g., a solid electrode or a lower micromesh electrode). It is understood that any suitable pathway is contemplated by the embodiments provided herein, provided that it includes at least one horizontal flow segment parallel to at least one of the first electrode (e.g., a solid electrode or an upper micromesh electrode) and the second electrode (e.g., a solid electrode or a lower micromesh electrode). The horizontal flow segment may be longer or shorter than any of 1/10, 1/4, 1/2, 3/4, 7/8, or 9/10 of the length of the pathway extending between the upper and lower micromesh electrodes. In some cases, the pathway may be linear, curved, branching, circuitous, serpentine, or any combination thereof. Examples of curved pathways include, but are not limited to, circular pathways, spiral pathways, conical pathways, or any combination thereof. For example, as shown in FIG. 3B, when arrows illustrate cell flow, the path is linear. As shown in FIGS. 2A, 2B, 3D, and 3E, when arrows illustrate cell flow, the path is curved. As shown in FIG. 3F, when arrows illustrate cell flow, the path may be linear with one or more changes in direction or switchbacks. As shown in FIG. 3G, the path may be circular and have one or more branches. As shown in FIGS. 3E-3G, the path may include an inlet 380 (out of plane) that may correspond to or be substantially aligned with the first input, and one or more outlets 390 (in plane) that may correspond to or be substantially aligned with the first output. The length of the path may be adjusted, e.g., shortened or lengthened, depending on the specific characteristics of the electroporation process.
任意の実施形態では、本明細書に記載のエレクトロポレーション装置は、細胞の流れをサンプルチューブからエレクトロポレーション装置のエレクトロポレーションチャンバーへ生成し、装置を通流し、収集管に至るための手段を含んでもよい。例えば、図3Hに図示される通り、流れ生成手段520は、例えばチューブを介して、トランスフェクション対象の細胞及び/又はカーゴを含有するサンプルチューブ510及びエレクトロポレーション装置530と流体連絡される。流れ生成手段520は、サンプルチューブ510からのチューブを通り、エレクトロポレーション装置530を通り、そして収集管550内に至る、細胞及び/又はカーゴの流れを生成し得る。図示されていないが、エアフィルター装置は、サンプルチューブ510、収集管550、又は双方の内容物と流体連絡されてもよい。流れ生成手段は、任意の好適なポンプ、例えば蠕動ポンプ又はシリンジポンプであってもよい。本明細書では、2つ以上の流れ生成手段520がエレクトロポレーション装置内に存在してもよいと考えられる。例えば、1つ以上の流れ生成手段520は、サンプルチューブ510とエレクトロポレーション装置530との間に流体連絡されて存在してもよく、また1つ以上の流れ生成手段520は、収集管550とエレクトロポレーション装置530との間に流体連絡されて存在してもよい。追加的に又は代替的に、エレクトロポレーション装置530及び/又は流れ生成手段520はまた、例えばエレクトロポレーターパルサーを含むコントローラ540と面してもよい。 In any embodiment, the electroporation devices described herein may include a means for generating a flow of cells from a sample tube into the electroporation chamber of the electroporation device, through the device, and into a collection tube. For example, as illustrated in FIG. 3H, a flow generating means 520 is in fluid communication, e.g., via tubing, with a sample tube 510 containing cells and/or cargo to be transfected and an electroporation device 530. The flow generating means 520 may generate a flow of cells and/or cargo from the sample tube 510, through the tubing, through the electroporation device 530, and into a collection tube 550. Although not shown, an air filter device may be in fluid communication with the contents of the sample tube 510, the collection tube 550, or both. The flow generating means may be any suitable pump, e.g., a peristaltic pump or a syringe pump. It is contemplated herein that more than one flow generating means 520 may be present in an electroporation device. For example, one or more flow generating means 520 may be present in fluid communication between the sample tube 510 and the electroporation device 530, and one or more flow generating means 520 may be present in fluid communication between the collection tube 550 and the electroporation device 530. Additionally or alternatively, the electroporation device 530 and/or the flow generating means 520 may also interface with a controller 540, which may include, for example, an electroporator pulser.
任意の実施形態では、本明細書に記載のエレクトロポレーション装置はまた、必要に応じてプライミング緩衝液を送達するための、エレクトロポレーション装置と流体連絡されたプライミング緩衝液チューブを含んでもよい。好適なプライミング緩衝液の例として、限定はされないが、蒸留水、脱イオン水、等張性緩衝液、及びそれらの組み合わせが挙げられる。例えば、図3Iに図示される通り、プライミング緩衝液チューブ560は、エレクトロポレーション装置530と流体連絡される。弁570は、プライミング緩衝液を流れ生成手段520を介してエレクトロポレーション装置530に送達するため、開かれてもよい、又は弁570は、送達を停止するため、閉じられてもよい。弁575は、細胞及び/又はカーゴを流れ生成手段520を介してエレクトロポレーション装置530に送達するため、開かれてもよい、又は弁575は、送達を停止するため、閉じられてもよい。いくつかの実施形態では、弁570及び757の双方は、細胞及びプライミング緩衝液を送達するため、開かれてもよい。いくつかの実施形態では、最初にプライミング緩衝液が送達され、続いて細胞及び/又はカーゴが送達されてもよい。 In any embodiment, the electroporation apparatus described herein may also include a priming buffer tube in fluid communication with the electroporation apparatus for delivering a priming buffer as needed. Examples of suitable priming buffers include, but are not limited to, distilled water, deionized water, isotonic buffers, and combinations thereof. For example, as illustrated in FIG. 3I, priming buffer tube 560 is in fluid communication with electroporation apparatus 530. Valve 570 may be opened to deliver priming buffer to electroporation apparatus 530 via flow generating means 520, or valve 570 may be closed to stop delivery. Valve 575 may be opened to deliver cells and/or cargo to electroporation apparatus 530 via flow generating means 520, or valve 575 may be closed to stop delivery. In some embodiments, both valves 570 and 757 may be opened to deliver cells and priming buffer. In some embodiments, priming buffer may be delivered first, followed by delivery of cells and/or cargo.
任意の実施形態では、本明細書に記載のエレクトロポレーション装置はまた、細胞を、エレクトロポレーション装置のエレクトロポレーションチャンバーに入る前に選別するための第1のマイクロ流体デバイスを含んでもよい。例えば、図3Jに図示される通り、第1のマイクロ流体デバイス580は、エレクトロポレーション装置530、トランスフェクション対象の細胞を含有するサンプルチューブ510、及び任意選択的には緩衝液選別チューブ577と流体連絡され得る。流れ生成手段520は、サンプルチューブ510からの細胞及び/又は選別チューブ577からの緩衝液の、エレクトロポレーション装置530を通り、収集管550に至るような流れを生成し得る。第1のマイクロ流体デバイス580は、サンプルチューブ510からエレクトロポレーション装置530にかけて、例えば細胞のサイズに基づいて、細胞を予備選別する能力がある。追加的に又は代替的に、第1のマイクロ流体デバイス580は、サンプルチューブ510からの細胞の緩衝液変更を達成させる能力がある。流れ590は、選別除去され、且つエレクトロポレーション装置530に送達されない細胞を含有し、廃棄物の流れであり得るか、又は異なるパラメータを用いる別のエレクトロポレーション装置に送達され得るかのいずれかである。追加的に又は代替的に、第2のマイクロ流体デバイス585が、エレクトロポレーション装置530及び収集管550と流体連絡され得る。第2のマイクロ流体デバイス585は、収集管550における収集前に、例えばエレクトロポレートされた細胞のサイズに基づいて、エレクトロポレートされた細胞を選別する能力がある。流れ595は、選別除去され、且つ収集管550に送達されないエレクトロポレートされた細胞を含有する。 In any embodiment, the electroporation apparatus described herein may also include a first microfluidic device for sorting cells before they enter the electroporation chamber of the electroporation apparatus. For example, as illustrated in FIG. 3J, a first microfluidic device 580 may be in fluid communication with the electroporation apparatus 530, a sample tube 510 containing cells to be transfected, and, optionally, a buffer sorting tube 577. A flow generating means 520 may generate a flow of cells from the sample tube 510 and/or buffer from the sorting tube 577 through the electroporation apparatus 530 and into a collection tube 550. The first microfluidic device 580 may be capable of pre-sorting cells from the sample tube 510 to the electroporation apparatus 530, e.g., based on cell size. Additionally or alternatively, the first microfluidic device 580 may be capable of effecting a buffer exchange of the cells from the sample tube 510. Stream 590 contains cells that are sorted out and not delivered to electroporation device 530 and can either be a waste stream or can be delivered to another electroporation device using different parameters. Additionally or alternatively, a second microfluidic device 585 can be in fluid communication with electroporation device 530 and collection tube 550. Second microfluidic device 585 is capable of sorting electroporated cells, for example, based on the size of the electroporated cells, prior to collection in collection tube 550. Stream 595 contains electroporated cells that are sorted out and not delivered to collection tube 550.
2つのマイクロ流体デバイスが図3Jに示されているが、本明細書では、例えば、エレクトロポレーションチャンバーに入る前に細胞を選別するため、又はエレクトロポレーションチャンバーを出るエレクトロポレートされた細胞を選別するため、1つのマイクロ流体デバイスのみがエレクトロポレーション装置内に存在してもよいと考えられる。 Although two microfluidic devices are shown in FIG. 3J, it is contemplated herein that only one microfluidic device may be present in the electroporation apparatus, for example, to sort cells before they enter the electroporation chamber or to sort electroporated cells exiting the electroporation chamber.
図3Kは、マイクロ流体デバイス例(例えば、マイクロ流体デバイス580、マイクロ流体デバイス585)の図面である。この例において、細胞100(例えば、トランスフェクション対象の細胞、エレクトロポレートされた細胞、トランスフェクト細胞)を含む溶液は、チャンバー105に入力機構110で入る。細胞は丸で図示される。細胞は、ここで勾配を有する複数のラインに沿って分布される矩形構造で示される、ポスト115のマトリックスを含むチャンバー105を通過する。細胞がチャンバー内の対角線上に配向されたポスト列の間を通過するとき、細胞は第2出力機構122に向けて側方に偏向される。チャンバーの一部の側面図が図3Lに示され、ここでチャンバーは、床160を有し、任意選択的には天井150を有し、それらはポスト115と同じ材料又は異なる材料で作られてもよい。細胞(黒丸)は、ポストのマトリックスを通流することが示される。ポスト列がさらに曲線状に配列されてもよく、結果的に細胞がチャンバーの側面に向けて誘導されることにもなると理解される。 FIG. 3K is a diagram of an example microfluidic device (e.g., microfluidic device 580, microfluidic device 585). In this example, a solution containing cells 100 (e.g., cells to be transfected, electroporated cells, transfected cells) enters chamber 105 at input mechanism 110. Cells are depicted as circles. The cells pass through chamber 105, which contains a matrix of posts 115, shown here as rectangular structures distributed along multiple sloped lines. As the cells pass between the diagonally oriented post rows in the chamber, they are deflected laterally toward second output mechanism 122. A side view of a portion of the chamber is shown in FIG. 3L, where the chamber has a floor 160 and, optionally, a ceiling 150, which may be made of the same or a different material as posts 115. Cells (black circles) are shown flowing through the matrix of posts. It is understood that the post rows may also be arranged in a curved fashion, resulting in cells being directed toward the sides of the chamber.
この例では、チャンバー用に2つの出力機構が示される。第1出力機構120(2つ以上のマイクロ流体デバイスが存在するとき、第3出力機構とも称され得る)を介してチャンバーを出る溶液は、細胞が枯渇している一方で、第2出力機構122(2つ以上のマイクロ流体デバイスが存在するとき、第4出力機構とも称され得る)を介してチャンバーを出る溶液は、細胞が濃縮されている。任意の実施形態では、第2出力機構は、エレクトロポレーションチャンバーと、例えば第1入力と流体連絡され得る。枯渇は、出力機構120を介してチャンバーを出る溶液中の細胞の濃度が、入力機構110でチャンバーに入る溶液中の細胞の濃度と比べて50%、60%、70%、80%、90%、95%、96%、97%、98%、又は99%低下している状態を指す。濃縮(enrichment)又は濃縮(concentration)は、出力機構122を介してチャンバーを出る溶液中の細胞の濃度が、入力機構110でチャンバーに入る溶液中の細胞の濃度と比べて50%、100%、200%、300%、400%、500%、600%、700%、800%、900%、1000%又はそれ以上増加している状態を指す。出力機構122に誘導される細胞の場合、チャンバーの偏向点130は、存在する細胞が出力機構122(且つ出力機構120でない)に送られるように位置づけられる必要がある。一般に、出力機構122は、出力機構120よりも大きい断面積を有するように形成される。一般に、出力機構は、本明細書に記載の流速での流体フローにとって十分に大きい断面積を有することで、細胞又はデバイスを損傷すると思われる高い圧力をもたらさない。 In this example, two output mechanisms are shown for the chamber. The solution exiting the chamber via the first output mechanism 120 (which may also be referred to as the third output mechanism when more than one microfluidic device is present) is depleted of cells, while the solution exiting the chamber via the second output mechanism 122 (which may also be referred to as the fourth output mechanism when more than one microfluidic device is present) is enriched in cells. In any embodiment, the second output mechanism may be in fluid communication with the electroporation chamber, e.g., the first input. Depletion refers to a condition in which the concentration of cells in the solution exiting the chamber via output mechanism 120 is reduced by 50%, 60%, 70%, 80%, 90%, 95%, 96%, 97%, 98%, or 99% compared to the concentration of cells in the solution entering the chamber at input mechanism 110. Enrichment or concentration refers to a condition in which the concentration of cells in the solution exiting the chamber via output mechanism 122 is increased by 50%, 100%, 200%, 300%, 400%, 500%, 600%, 700%, 800%, 900%, 1000%, or more compared to the concentration of cells in the solution entering the chamber at input mechanism 110. For cells to be directed to output mechanism 122, deflection point 130 of the chamber must be positioned so that any cells present are directed to output mechanism 122 (and not output mechanism 120). Generally, output mechanism 122 is configured to have a larger cross-sectional area than output mechanism 120. Generally, the output mechanism has a cross-sectional area large enough for fluid flow at the flow rates described herein to avoid creating high pressures that may damage the cells or the device.
いくつかの実施形態では、出力機構120の幅は、出力機構122の幅よりも大きい。例えば、出力機構120の幅は、出力機構122の1.5倍、2倍、2.5倍、3倍、3.5倍、4倍、4.5倍、5倍、5.5倍、6倍、6.5倍、7倍、7.5倍、8倍、8.5倍、9倍、9.5倍の幅である。他の実施形態では、出力機構の断面積の合計は、入力機構の断面積の合計以上であってもよい。 In some embodiments, the width of output mechanism 120 is greater than the width of output mechanism 122. For example, the width of output mechanism 120 is 1.5 times, 2 times, 2.5 times, 3 times, 3.5 times, 4 times, 4.5 times, 5 times, 5.5 times, 6 times, 6.5 times, 7 times, 7.5 times, 8 times, 8.5 times, 9 times, or 9.5 times the width of output mechanism 122. In other embodiments, the total cross-sectional area of the output mechanisms may be greater than or equal to the total cross-sectional area of the input mechanisms.
いくつかの実施形態では、マイクロ流体デバイスは、標準ポンプ又はシリンジなどのマイクロ流体デバイスへの接続を可能にすることで、細胞を含む溶液がデバイスを通流するように形成される。溶液のデバイスの通流に影響し得るパラメータは、チャンバー105の寸法、ポスト115の平面内及び平面外の寸法、列内のポストの間隔(dx)、ポストの回転(Φ)、ポスト列間の距離(dy)、入力機構の直径、及び出力機構の直径を含む(下の図3M~図3Qを参照)。いくつかの実施形態では、これらパラメータの寸法は、デバイスを通過する溶液の流れを駆動するシリンジ又は標準ポンプ(例えば、蠕動ポンプ、ダイアフラムポンプ、シリンジポンプ、ローブポンプなど)の手動操作からの適用圧力に適合するように選択される。種々の圧力は、圧力によりマイクロ流体デバイス又は細胞が損傷しないという条件で許容される。 In some embodiments, the microfluidic device is configured to allow connection to a microfluidic device, such as a standard pump or syringe, so that a solution containing cells can be flowed through the device. Parameters that can affect the flow of solution through the device include the dimensions of the chamber 105, the in-plane and out-of-plane dimensions of the posts 115, the spacing of the posts within a row (dx), the rotation of the posts (Φ), the distance between rows of posts (dy), the diameter of the input feature, and the diameter of the output feature (see Figures 3M-3Q below). In some embodiments, the dimensions of these parameters are selected to accommodate the applied pressure from manual operation of a syringe or standard pump (e.g., peristaltic pump, diaphragm pump, syringe pump, lobe pump, etc.) that drives the flow of solution through the device. Various pressures are acceptable, provided that the pressure does not damage the microfluidic device or the cells.
一般に、細胞は、連続的に(特定経路内に一度に)又は複数で(複数の経路内に流れる複数の細胞で)マイクロ流体デバイスに流れてもよい。 In general, cells may flow through a microfluidic device serially (one at a time in a particular pathway) or in multiples (multiple cells flowing in multiple pathways).
図3Mは、チャンバー105の断面のトップダウンビューの図面であり、ここで断面は各々、7ポストの2列を含む。細胞の流れは、経路(p)に沿って示される。この図面は、マイクロ流体デバイスのチャンバーの断面内でのポスト115の位置決めを示す。一般に、ポストは、空間間隔(dx)で角度(θ)によって規定されるような勾配を有するラインに沿って整列され、固定的であっても又は変動的であってもよいが、変動はポスト間の経路(p)からの細胞の回避をもたらさないという条件である。 Figure 3M is a drawing of a top-down view of a cross section of chamber 105, where each cross section contains two rows of seven posts. Cell flow is shown along a path (p). This drawing shows the positioning of posts 115 within the cross section of the chamber of the microfluidic device. Generally, the posts are aligned along a line having a slope as defined by an angle (θ) at a spatial interval (dx), which may be fixed or variable, provided that the variation does not result in cells avoiding the path (p) between the posts.
いくつかの実施形態では、チャンバーの幅は、1mm、2.5mm、5mm、7.5mm、10mm、12.5mm、15mm、17.5mm、20mm、30mm、40mm、50mm、若しくはそれ以上、又はそれらの間の任意のサイズである。各径路(p)の幅により、流線の特性が制御される。例えば、1、2、4、8、12、16、32など、又はそれらの間の任意の範囲といったいくつもの経路が、チャンバーの幅に応じて利用されてもよい。他の実施形態では、チャンバーを通る流体の流速は、1mL/時間、2mL/時間、3mL/時間、4mL/時間、5mL/時間、6mL/時間、7mL/時間、8mL/時間、9mL/時間、10mL/時間、15mL/時間、20mL/時間、25mL/時間、30mL/時間、40mL/時間、50mL/時間などであってもよい。チャンバーは、望ましくは矩形であるが、さらに円形状、半円形状、V形状、又は任意の他の適切な形状であってもよい。 In some embodiments, the width of the chamber is 1 mm, 2.5 mm, 5 mm, 7.5 mm, 10 mm, 12.5 mm, 15 mm, 17.5 mm, 20 mm, 30 mm, 40 mm, 50 mm, or more, or any size in between. The width of each path (p) controls the characteristics of the flow line. For example, any number of paths may be utilized depending on the width of the chamber, such as 1, 2, 4, 8, 12, 16, 32, etc., or any range therebetween. In other embodiments, the flow rate of the fluid through the chamber may be 1 mL/hr, 2 mL/hr, 3 mL/hr, 4 mL/hr, 5 mL/hr, 6 mL/hr, 7 mL/hr, 8 mL/hr, 9 mL/hr, 10 mL/hr, 15 mL/hr, 20 mL/hr, 25 mL/hr, 30 mL/hr, 40 mL/hr, 50 mL/hr, etc. The chamber is preferably rectangular, but may also be circular, semicircular, V-shaped, or any other suitable shape.
角度(θ)は、0勾配を有する水平軸とポストが分布される勾配を有するラインとの間の角度である(この例では、角度は負の勾配の尺度(tan(θ)=ポスト列のΔy/Δx))を提供する。この例では、ポストの各列が対角線上に配列されることから、ポストが正又は負の勾配を有してもよいことは理解される。ここで、対角線が、チャンバーに対して平行又は垂直でない任意の配向性、例えば、時計回り又は反時計回りで、1°~89°の間、91°~179°の間、181°~269°の間、又は271°~359°の間の角度を包含してもよいことは理解される。他の例示的な角度範囲は、1°~10°、11°~20°、21°~30°、31°~40°、41°~50°、51°~60°、61°~70°、71°~80°、81°~90°、91°~100°、101°~110°、111°~120°、121°~130°、131°~140°、141°~150°、151°~160°、161°~170°、又は171°~180°であってもよい。 The angle (θ) is the angle between the horizontal axis having zero slope and the line along which the posts are distributed (in this example, the angle provides a measure of negative slope: tan(θ) = Δy/Δx of the post row). It is understood that in this example, each row of posts is arranged diagonally, so the posts may have a positive or negative slope. It is understood that the diagonal may have any orientation that is not parallel or perpendicular to the chamber, for example, clockwise or counterclockwise, and may encompass angles between 1° and 89°, 91° and 179°, 181° and 269°, or 271° and 359°. Other exemplary angle ranges may be 1° to 10°, 11° to 20°, 21° to 30°, 31° to 40°, 41° to 50°, 51° to 60°, 61° to 70°, 71° to 80°, 81° to 90°, 91° to 100°, 101° to 110°, 111° to 120°, 121° to 130°, 131° to 140°, 141° to 150°, 151° to 160°, 161° to 170°, or 171° to 180°.
一般に、複数のポスト列がチャンバー内に存在し、各列は、角度(θ)で規定される場合と同じ勾配又は実質的に同じ勾配を有する。細胞100がマイクロ流体デバイスのチャンバー105に入るとき、細胞は、チャンバー105の側面に向けて側方性に、チャンバーの側面に達するまで、ポスト115間の複数の経路(p)を通流する。細胞を濃縮する場合、細胞は一般にポスト列を横断しないばかりか、細胞は典型的には特定経路(p)に沿って移動する。次に、細胞は、出力機構122を介してマイクロ流体チャンバーを出る。他の実施形態では、ポストは、チャンバー105の長さに沿って曲線状の構成要素を有してもよい。 Typically, multiple rows of posts are present within the chamber, each row having the same or substantially the same slope as defined by the angle (θ). When cells 100 enter the chamber 105 of the microfluidic device, they flow laterally toward the side of the chamber 105, following multiple paths (p) between the posts 115 until they reach the side of the chamber. When concentrating cells, the cells generally do not traverse the rows of posts; rather, the cells typically travel along specific paths (p). The cells then exit the microfluidic chamber via the output mechanism 122. In other embodiments, the posts may have curved components along the length of the chamber 105.
本明細書で用いられるとき、用語「ポスト」は、関連する平面寸法、平面外寸法、回転角、及び形状を有するチャンバー内部の構造物を指す。平面内寸法は、ポストの長さ(l)及び幅(w)を指してもよい一方で、平面外寸法は、ポストの高さ(h)を指してもよい。傾き角又は回転角(Φ)は、チャンバーに対するポストの回転を指す。 As used herein, the term "post" refers to a structure within a chamber having associated planar dimensions, out-of-plane dimensions, rotation angle, and shape. In-plane dimensions may refer to the length (l) and width (w) of the post, while out-of-plane dimensions may refer to the height (h) of the post. The tilt angle or rotation angle (Φ) refers to the rotation of the post relative to the chamber.
形状は、ポストの三次元的特徴づけ、例えば、円柱状、円錐体、錐体、立方又は立方状などを指す。一般に、ポストは、その軸(平面外寸法)がそれに付く表面に対して垂直であるように位置づけられる。いくつかの実施形態では、チャンバー内のすべてのポストは同じ寸法である。他の実施形態では、ポストの寸法は、例えばポストの高さ(h)に沿って測定される位置に応じた空間の関数として変化する。一般に、ポストは、任意の形状であってもよく、本明細書に提示される特定の幾何学的形状に制限されない。ポスト形状は、軸の長さ(l)及び幅(w)に加えて、軸の長さに沿って、例えば反復する一定間隔又は反復する可変間隔で位置する、屈曲に伴う複数の半径(r4~r12)によって表される図3Rに示される通り、任意であってもよい。いくつもの異なる形状は、複数の半径によって説明されてもよい。加えて、図3R及び図3Sを参照すると、ポストの1つ以上の側面は、直線の形状であってもよい。したがって、ポストは、曲線及び/又は直線からなる任意の好適な形状を有してもよい。 Shape refers to the three-dimensional characterization of the post, such as cylindrical, conical, pyramidal, cubic, or cuboid. Generally, the post is positioned so that its axis (out-of-plane dimension) is perpendicular to the surface to which it is attached. In some embodiments, all posts within the chamber have the same dimensions. In other embodiments, the dimensions of the posts vary as a function of space depending on their position, for example, as measured along the height (h) of the post. In general, the posts may be any shape and are not limited to the specific geometric shapes presented herein. The post shape may be arbitrary, as shown in FIG. 3R, which is represented by an axial length (l) and width (w) as well as multiple radii of curvature (r4-r12) located at, for example, repeating regular intervals or repeating variable intervals along the axial length. Several different shapes may be described by the multiple radii. Additionally, with reference to FIGS. 3R and 3S, one or more sides of the post may be rectilinear. Thus, the post may have any suitable shape consisting of curves and/or straight lines.
いくつかの実施形態では、ポストは、勾配を有するラインに沿う間隔(dx)で配列され、ここで間隔は規則的に隔てられるか又は固定される。例えば、ポストは、濃縮対象の細胞のサイズに応じて、例えば、5μmごと、10μmごと、15μmごと、20μmごと、25μmごと、30μmごと、35μmごと、40μmごと、45μmごと、50μmごと、55μmごと、60μmごと、65μmごと、70μmごと、75μmごと、85μmごと、90μmごと、95μmごと、100μmごと(これら範囲の間の任意の値を含む)に配置されてもよい。 In some embodiments, the posts are arranged at intervals (dx) along a gradient line, where the intervals are regularly spaced or fixed. For example, the posts may be positioned, e.g., every 5 μm, 10 μm, 15 μm, 20 μm, 25 μm, 30 μm, 35 μm, 40 μm, 45 μm, 50 μm, 55 μm, 60 μm, 65 μm, 70 μm, 75 μm, 85 μm, 90 μm, 95 μm, or 100 μm (including any value between these ranges), depending on the size of the cells to be enriched.
他の実施形態では、ポストは、間隔が固定されないばかりか、いずれか2つの連続するポスト間で変動するように、勾配を有するラインに沿って分布される。任意の間隔(dx)は、細胞が経路(p)を回避することを防ぐのに十分に小さいという条件で許容される。例えば、可変間隔の場合、第1のポストが特定位置に配置されてもよく、第2のポストが第1のポストから5μmに配置されてもよく、第3のポストが第2のポストから4umに配置されてもよい。間隔は、細胞のサイズに基づいて選択され得る。 In other embodiments, the posts are distributed along a gradient line such that the spacing is not fixed but varies between any two consecutive posts. Any spacing (dx) is acceptable, provided it is small enough to prevent cells from avoiding the path (p). For example, in the case of variable spacing, the first post may be located at a specific position, the second post may be located 5 μm from the first, and the third post may be located 4 μm from the second. The spacing may be selected based on the size of the cells.
いくつかの実施形態では、間隔は、特定タイプの細胞の濃縮を可能にする一方で、より小さい細胞が出力機構120を介して出ることを可能にする程度に十分に大きいように選択され得る。例えば、血液サンプルは、比較的小さいサイズの複数の異なる細胞型、例えば、赤血球、好中球(例えば、直径が12~14μm)、好酸球(例えば、直径が12~17μm)、好塩基球(例えば、直径が14~16μm)、リンパ球(例えば、直径が10~14μm)、及び単球(例えば、直径が20μm)を含んでもよい。ヒト身体内の他のタイプの細胞は、はるかにより大きく、例えば直径が40~100μmの範囲又はそれ以上である。かかる場合、赤血球及び白血球の通過を可能にする一方で、より大きい細胞(例えば、正常細胞、腫瘍細胞など)を濃縮するため、ポストは隔てられてもよい。ポストの配置(スペーシング)は、単離されている細胞のタイプに基づいて決定される。異なるシース流対サンプル流の比は、サイズに基づく選別性能に影響し得る。 In some embodiments, the spacing can be selected to be large enough to allow for enrichment of certain types of cells while allowing smaller cells to exit via the output mechanism 120. For example, a blood sample may contain several different cell types that are relatively small in size, such as red blood cells, neutrophils (e.g., 12-14 μm in diameter), eosinophils (e.g., 12-17 μm in diameter), basophils (e.g., 14-16 μm in diameter), lymphocytes (e.g., 10-14 μm in diameter), and monocytes (e.g., 20 μm in diameter). Other types of cells in the human body are much larger, e.g., in the 40-100 μm range or larger in diameter. In such cases, the posts may be spaced apart to allow red blood cells and white blood cells to pass through while enriching larger cells (e.g., normal cells, tumor cells, etc.). The placement (spacing) of the posts is determined based on the type of cell being isolated. Different sheath flow-to-sample flow ratios can affect size-based sorting performance.
各ポストは、平面内寸法とも称される関連の長さ(l)、幅(w)、及び平面外寸法とも称される高さ(h)を有する(図3Nも参照)。いくつかの実施形態では、ポストの幅は、5μm、10μm、15μm、20μm、25μm、30μm、35μm、40μm、45μm、50μm、55μm、60μm、65μm、70μm、75μm、85μm、90μm、95μm、100μmなど、又はそれらの間の任意の値であってもよい。ポストの長さは、5μm、10μm、15μm、20μm、25μm、30μm、35μm、40μm、45μm、50μm、55μm、60μm、65μm、70μm、75μm、85μm、90μm、95μm、100μmなど、又はそれらの間の任意の値であってもよい。一般に、ポストは、(トップダウンの配向性からの観点として、また寸法w及びlに関連して)任意の形状、例えば限定はされないが、円形状、卵円、四角、矩形などであってもよい。 Each post has an associated length (l), also referred to as the in-plane dimension, a width (w), and a height (h), also referred to as the out-of-plane dimension (see also Figure 3N). In some embodiments, the width of the post may be 5 μm, 10 μm, 15 μm, 20 μm, 25 μm, 30 μm, 35 μm, 40 μm, 45 μm, 50 μm, 55 μm, 60 μm, 65 μm, 70 μm, 75 μm, 85 μm, 90 μm, 95 μm, 100 μm, etc., or any value therebetween. The length of the posts may be 5 μm, 10 μm, 15 μm, 20 μm, 25 μm, 30 μm, 35 μm, 40 μm, 45 μm, 50 μm, 55 μm, 60 μm, 65 μm, 70 μm, 75 μm, 85 μm, 90 μm, 95 μm, 100 μm, etc., or any value therebetween. In general, the posts may be any shape (in terms of top-down orientation and relative to dimensions w and l), including, but not limited to, circular, oval, square, rectangular, etc.
本明細書に提示される例では、ポストは、卵円又は四角形状を有する。いくつかの実施形態では、ポストの長さは、ポストの幅よりも1.1~10倍大きい;ポストの幅よりも1.1~5倍大きい;ポストの幅よりも2~4倍大きい;ポストの幅よりも3~4倍大きい;又はポストの幅よりも2~3倍大きい。いくつかの実施形態では、長さ及び幅は、20対1、18対1、16対1、14対1、12対1、10対1、9対1、8対1、7対1、6対1、5対1、4対1、3対1、2対1、1.1対1、又はより小さい若しくはより大きい比のいずれかよりも大きい若しくは小さい比を有してもよい。 In the examples presented herein, the posts have an oval or rectangular shape. In some embodiments, the length of the post is 1.1 to 10 times greater than the width of the post; 1.1 to 5 times greater than the width of the post; 2 to 4 times greater than the width of the post; 3 to 4 times greater than the width of the post; or 2 to 3 times greater than the width of the post. In some embodiments, the length and width may have a ratio greater than or less than 20:1, 18:1, 16:1, 14:1, 12:1, 10:1, 9:1, 8:1, 7:1, 6:1, 5:1, 4:1, 3:1, 2:1, 1.1:1, or any smaller or larger ratio.
いくつかの実施形態では、ポストの断面は、ポストと、ポストが高さ(h)とともに延びる元の壁に対して平行である平面との交わりによって規定されてもよい。断面は、長さ(l)方向と幅(w)方向の一方又は双方に対称的であってもよい。 In some embodiments, the cross section of a post may be defined by the intersection of the post with a plane parallel to the original wall through which the post extends with height (h). The cross section may be symmetrical in either or both of the length (l) and width (w) directions.
さらに他の実施形態では、マトリックスにおける各ポストの長さ及び幅は同じである。さらに他の実施形態では、ポストが円形状である場合、マトリックスにおける各ポストの半径は同じである。 In yet another embodiment, the length and width of each post in the matrix are the same. In yet another embodiment, if the posts are circular, the radius of each post in the matrix is the same.
さらなる特徴として、ポストの回転角(Φ)、ポストの高さ又は平面外寸法、列間のスペーシング(dy)、及び列のオフセット(xo)が挙げられ、それらは図3N~図3Qにおいて、また本願全体を通じて、さらに詳細に説明される。本明細書で用いられるとき、用語「回転角」は、チャンバー内のその位置に対するポストの回転の度合いを指す。いくつかの実施形態では、ポストは、その幅よりも大きい長さを有する。この実施形態では、0の回転角は、ポストの長さがチャンバーの側面に垂直な軸と整列されることを意味する。異なる回転角を記述するため、ポストは時計回り又は反時計回りの方向に回転されてもよい。例として、図3M~図Qにおけるポストは、これらの図に示されるポストの幾何学的形状に達するように、反時計回りの動きで約35°回転される。 Additional features include the post rotation angle (Φ), post height or out-of-plane dimension, row-to-row spacing (dy), and row offset (xo), which are described in more detail in Figures 3N-3Q and throughout this application. As used herein, the term "rotation angle" refers to the degree of rotation of the post relative to its position within the chamber. In some embodiments, the post has a length greater than its width. In this embodiment, a rotation angle of 0 means that the post's length is aligned with an axis perpendicular to the side of the chamber. To describe different rotation angles, the post may be rotated in a clockwise or counterclockwise direction. By way of example, the post in Figures 3M-3Q is rotated approximately 35° in a counterclockwise motion to reach the post geometry shown in these figures.
図3Nを参照すると、各ポストは、細胞が上方経路内を流れる(例えば、ポストの頂上を超えて異なる経路に至る)ことにより経路(p)から逃れることを阻止するためにポストが十分に高いことに関連する高さ(h)又は平面外寸法を有する。例えば、いくつかの実施形態では、ポストは、チャンバーの床160及びチャンバーの天井150と接触状態にあるなど、マイクロ流体チャンバーの高さに及ぶことになる。他の実施形態では、ポストの高さ又は平面外寸法は、マイクロ流体デバイスの全高さの一部分に及んでもよい。例えば、ポストは、1μm、3μm、5μm、10μm、15μm、20μm、25μm、30μm、35μm、40μm、45μm、50μm、55μm、60μm、65μm、70μm、75μm、85μm、90μm、95μm、100μmなど、又はそれらの間の任意の値の高さを有してもよい。 Referring to FIG. 3N, each post has a height (h) or out-of-plane dimension associated with the post being sufficiently tall to prevent cells from escaping pathway (p) by flowing up the pathway (e.g., over the top of the post into a different pathway). For example, in some embodiments, the post will span the height of the microfluidic chamber, such as being in contact with the chamber floor 160 and the chamber ceiling 150. In other embodiments, the height or out-of-plane dimension of the post may span a portion of the entire height of the microfluidic device. For example, the post may have a height of 1 μm, 3 μm, 5 μm, 10 μm, 15 μm, 20 μm, 25 μm, 30 μm, 35 μm, 40 μm, 45 μm, 50 μm, 55 μm, 60 μm, 65 μm, 70 μm, 75 μm, 85 μm, 90 μm, 95 μm, 100 μm, etc., or any value therebetween.
図3Oを参照すると、各ポストは、トップダウンビューから示される通り、関連する回転角(Φ)又は傾きを有する。本例では、ポストの回転は、ポストの長さがチャンバーの側面に垂直な第1軸と整列され、且つポストの幅がチャンバーの側面に平行な第2軸と整列されるような配向を基にして、ポストを、所望される回転に達するまで、反時計回り方向に、例えば本例では反時計回りに約35°回転させることにより、決定される。経路(p)への細胞の通流を容易にする任意の回転角が利用されてもよく、すべてのかかる回転角が本明細書で検討される。いくつかの実施形態では、回転角は、1°~179°の間、1°~89°の間、5°~85°の間、10°~80°の間、15°~75°の間、20°~70°の間、25°~65°の間、30°~60°の間、35°~55°の間、40°~50°の間、30°~40°の間、32°~38°の間、34°~36°の間、又は35°である。他の実施形態では、回転角は、91°~179°の間、95°~175°の間、100°~170°の間、105°~165°の間、110°~160°の間、115°~155°の間、120°~150°の間、125°~145°の間、130°~140°の間、又は135°であってもよい。 Referring to Figure 3O, each post has an associated rotation angle (Φ) or tilt, as shown from a top-down view. In this example, the rotation of the post is determined by rotating the post in a counterclockwise direction, e.g., approximately 35° counterclockwise in this example, based on an orientation such that the length of the post is aligned with a first axis perpendicular to the side of the chamber and the width of the post is aligned with a second axis parallel to the side of the chamber, until the desired rotation is reached. Any rotation angle that facilitates cell flow through the pathway (p) may be utilized, and all such rotation angles are contemplated herein. In some embodiments, the rotation angle is between 1° and 179°, between 1° and 89°, between 5° and 85°, between 10° and 80°, between 15° and 75°, between 20° and 70°, between 25° and 65°, between 30° and 60°, between 35° and 55°, between 40° and 50°, between 30° and 40°, between 32° and 38°, between 34° and 36°, or 35°. In other embodiments, the rotation angle may be between 91° and 179°, between 95° and 175°, between 100° and 170°, between 105° and 165°, between 110° and 160°, between 115° and 155°, between 120° and 150°, between 125° and 145°, between 130° and 140°, or 135°.
先に示された通り、ポストは、負の勾配を有するラインに沿って分布される。細胞をこのラインに沿って方向づけることにより、経路(p)を通流する細胞は、チャンバーの側面に向かって側方に誘導される一方で、細胞が最初に懸濁された溶液は、ある様式で(例えば、ほぼ水平に又は水平に)流れ、出力機構120を介してマイクロ流体チャンバーを出ることができる。 As previously shown, the posts are distributed along a line with a negative slope. By directing the cells along this line, cells flowing through path (p) are directed laterally toward the side of the chamber, while the solution in which the cells were initially suspended flows in a manner (e.g., approximately horizontally or horizontally) and can exit the microfluidic chamber via output mechanism 120.
図3Pを参照すると、さらに他の実施形態では、ポスト列は間隔(dy)で隔てられる。いくつかの実施形態では、ポストは垂直なラインに沿って間隔(dy)で配列され、ここで間隔は規則的に隔てられるか又は固定される。例えば、ポストは、濃縮対象の細胞のサイズに応じて、5μmごと、10μmごと、15μmごと、20μmごと、25μmごと、30μmごと、35μmごと、40μmごと、45μmごと、50μmごと、55μmごと、60μmごと、65μmごと、70μmごと、75μmごと、85μmごと、90μmごと、95μmごと、100μmごとなど(それらの間の任意の値を含む)に配置されてもよい。 Referring to FIG. 3P, in yet other embodiments, the rows of posts are spaced apart by a distance (dy). In some embodiments, the posts are arranged along a vertical line at a distance (dy), where the distance is regularly spaced or fixed. For example, the posts may be positioned every 5 μm, 10 μm, 15 μm, 20 μm, 25 μm, 30 μm, 35 μm, 40 μm, 45 μm, 50 μm, 55 μm, 60 μm, 65 μm, 70 μm, 75 μm, 85 μm, 90 μm, 95 μm, 100 μm, etc. (including any value therebetween), depending on the size of the cells to be enriched.
他の実施形態では、ポストは、間隔(dy)が固定されない代わりに、いずれか2つの連続するポスト列の間で変動するように、垂直なラインに沿って分布される。例えば、第1のポスト列は特定位置に配置されてもよく、第2のポスト列は第1のポスト列から5μmに配置されてもよく、第3のポスト列は第2のポスト列から4umに配置されてもよいなど、垂直なラインに対して整列される。間隔(dy)は、濃縮対象の細胞のサイズに基づいて選択され得る。任意の間隔(dy)は、マイクロ流体デバイスを損傷し得るような高い圧力を必要とせず、チャンバーへの溶液の通流を可能にするほどに間隔が十分に広いという条件で、許容される。いくつかの実施形態では、連続するポスト列は、ゼロオフセット(xo)を有してもよい。 In other embodiments, the posts are distributed along a vertical line such that the spacing (dy) is not fixed but instead varies between any two consecutive post rows. For example, a first post row may be positioned at a specific location, a second post row may be positioned 5 μm from the first post row, a third post row may be positioned 4 μm from the second post row, and so on, all aligned with a vertical line. The spacing (dy) may be selected based on the size of the cells to be enriched. Any spacing (dy) is acceptable, provided that the spacing is wide enough to allow solution flow through the chamber without requiring high pressures that could damage the microfluidic device. In some embodiments, consecutive post rows may have a zero offset (xo).
図3Qを参照すると、連続するポスト列は、間隔(dx)に対してオフセット(xo)を有してもよい。例えば、列(r)は、(例えばデカルト座標系x、yを用いて)特定位置に確定されてもよい。(r+1)番目の列は、ある量(xo)だけ右側に変位されてもよい。(r+2)番目の列は、ある量(2xo)だけ右側に変位されてもよい。(r+3)番目の列は、ある量(3xo)だけ右側に変位されてもよく、以下同様で、間隔(dx)に至るまで変位されてもよい。オフセットは、各々の連続する列が一定量だけ同じ方向に変位されるように、固定された様式で設けられてもよい。或いは、オフセットは、各々の連続する列が可変量(最大で(dx)の量)だけ同じ方向に変位されるように、可変的な様式で設けられてもよい。他の実施形態では、オフセットは、列(r)に対して、(r+1)番目の列がある方向に固定された又は可変的なオフセットを有し、且つ(r+2)番目の列がその逆方向に固定された又は可変的なオフセットを有する(例えば、あるオフセットが右側であり、且つ次のオフセットが左側である)ように、交互方向に適用されてもよい。 Referring to FIG. 3Q, successive post rows may have an offset (xo) relative to the spacing (dx). For example, row (r) may be defined at a particular location (e.g., using a Cartesian coordinate system x, y). The (r+1)th row may be displaced to the right by an amount (xo). The (r+2)th row may be displaced to the right by an amount (2xo). The (r+3)th row may be displaced to the right by an amount (3xo), and so on, up to the spacing (dx). The offset may be provided in a fixed manner, such that each successive row is displaced in the same direction by a fixed amount. Alternatively, the offset may be provided in a variable manner, such that each successive row is displaced in the same direction by a variable amount (up to the amount (dx)). In other embodiments, the offsets may be applied in alternating directions relative to the columns (r), such that the (r+1)th column has a fixed or variable offset in one direction and the (r+2)th column has a fixed or variable offset in the opposite direction (e.g., one offset to the right and the next offset to the left).
ポストは、任意の好適な材料、例えば、ポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS)、ガラス、プラスチック、エラストマー、シリコンなどで作成されてもよい。PDMSは、一般にサブミクロンの解像度(例えば、0.1μm未満の特徴)を有するように製作され得る。いくつかの実施形態では、チャンバー105及び/又はポスト115は、PDMSで作成されてもよい。他の実施形態では、チャンバーはガラス及び/又はシリコン及び/又はプラスチックで製作されてもよく、ポストはPDMSを用いて製作されてもよい(例えば、チャンバーの底面は、ガラス又はシリコンであってもよく、チャンバーの最上部は、ガラス又はプラスチックであってもよい)。本明細書に記載のようなチャンバー及びポストを製作するため、当該技術分野で周知のリソグラフィーが利用されてもよい。本明細書に示されるマイクロ流体デバイスを構築するため、PDMSと類似の特性を有する材料がさらに使用されてもよい。 The posts may be made of any suitable material, such as poly(dimethylsiloxane) (PDMS), glass, plastic, elastomer, silicon, etc. PDMS can generally be fabricated with submicron resolution (e.g., features less than 0.1 μm). In some embodiments, the chamber 105 and/or the posts 115 may be fabricated from PDMS. In other embodiments, the chamber may be fabricated from glass and/or silicon and/or plastic, and the posts may be fabricated using PDMS (e.g., the bottom of the chamber may be glass or silicon, and the top of the chamber may be glass or plastic). Lithography techniques known in the art may be used to fabricate the chambers and posts as described herein. Materials with properties similar to PDMS may also be used to construct the microfluidic devices shown herein.
加えて、具体的な実施形態は、弁(例えば、入力機構とチャンバーとの間、チャンバーと出力機構との間、出力機構と別の入力機構又は別のチャンバーとの間など)、ポンプ及びミキサーを含む、いくつかの追加的特徴を含んでもよい。いくつかの実施形態では、弁は、キュレーション中、PDMS中に配置されてもよい。 In addition, specific embodiments may include several additional features, including valves (e.g., between an input mechanism and a chamber, between a chamber and an output mechanism, between an output mechanism and another input mechanism or another chamber, etc.), pumps, and mixers. In some embodiments, valves may be placed in the PDMS during curation.
マイクロ流体デバイスを製作するため、種々の技術を利用することができる。マイクロ流体デバイスは、以下の材料:ポリ(メチルメタクリル酸)(PMMA)、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリオレフィン、シリコーン(例えば、ポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS))、シリコン、及びそれらの組み合わせの1つ以上から形成されてもよい。その他の材料は、当該技術分野で周知である。 Various techniques are available for fabricating microfluidic devices. Microfluidic devices may be formed from one or more of the following materials: poly(methyl methacrylate) (PMMA), polycarbonate, polystyrene, polyethylene, polyolefins, silicones (e.g., poly(dimethylsiloxane) (PDMS)), silicon, and combinations thereof. Other materials are known in the art.
本明細書で参照される材料を用いて、ポストを有するチャンバー及びマイクロ流体デバイスを製作するための方法は、当該技術分野で公知でもあり、限定はされないが、エンボス加工、レーザーマイクロマシニング、ミリング、成形(例えば、熱可塑性射出成形、又は圧縮成形)、フォトリソグラフィ(例えば、光造形法又はX線フォトリソグラフィ)、シリコンマイクロマシニング、ウェット又はドライケミカルエッチングなどが挙げられる。 Methods for fabricating chambers and microfluidic devices with posts using the materials referenced herein are also known in the art and include, but are not limited to, embossing, laser micromachining, milling, molding (e.g., thermoplastic injection molding or compression molding), photolithography (e.g., stereolithography or x-ray photolithography), silicon micromachining, wet or dry chemical etching, and the like.
フォトリソグラフィ、続いてウェット(KOH)又はドライエッチング(フッ素又は他の反応性ガスによる反応性イオンエッチング)を用いるシリコン製造技術は、ガラス材料向けに利用可能である。例えば、ガラスマスターは、通常のフォトリソグラフィによって形成可能であり、プラスチック又はPDMSに基づくデバイスを作製するための成形技術におけるマスター鋳型として役立つ。 Silicon fabrication techniques using photolithography followed by wet (KOH) or dry etching (reactive ion etching with fluorine or other reactive gases) can be used for glass materials. For example, a glass master can be created by conventional photolithography and serve as a master mold in molding techniques to create plastic or PDMS-based devices.
マイクロ流体デバイスは、例えば、接着剤、クランプ、熱、溶剤などにより、共に連結された1つ以上の層内に製作されてもよい。或いは、マイクロ流体デバイスは、例えば光造形法又は他の三次元製造技術を用いて、単一ピースとして製作されてもよい。 Microfluidic devices may be fabricated in one or more layers joined together, for example, by adhesives, clamps, heat, solvents, etc. Alternatively, microfluidic devices may be fabricated as a single piece, for example, using stereolithography or other three-dimensional fabrication techniques.
いくつかの実施形態では、細胞の変形能に起因し、ギャップ距離は、濃縮対象の細胞のサイズ(例えば直径)と比べて約5μm以下であるように選択されてもよい。他の実施形態では、ギャップ距離は、選別対象の細胞のサイズ(例えば直径)と比べて約5μm以上であるように選択されてもよい。変形可能な細胞と同じ又は類似する直径を有する強固な細胞又は微粒子の場合、ギャップ距離は、同じ直径の変形可能な細胞におけるギャップ距離と比べて異なってもよい(例えば、強固な細胞の場合、より大きい)。 In some embodiments, due to the deformability of the cells, the gap distance may be selected to be about 5 μm or less relative to the size (e.g., diameter) of the cells to be enriched. In other embodiments, the gap distance may be selected to be about 5 μm or more relative to the size (e.g., diameter) of the cells to be sorted. For rigid cells or microparticles having the same or similar diameter as the deformable cells, the gap distance may be different (e.g., larger for rigid cells) compared to the gap distance for deformable cells of the same diameter.
図3Tは、別の例のマイクロ流体細胞濃縮装置の図面である。この例において、細胞100を含む第1溶液は、第1入力機構110でチャンバー105に入る。細胞は丸で図示される。細胞は、ここで勾配を有するラインに沿って分布される矩形構造として示される、ポスト115のマトリックスを含む、チャンバー105を通過する。細胞がチャンバー内の対角線上に方向づけられたポスト列の間を通るとき、細胞はチャンバーの側面に向けて側方に偏向される。図3Lと同様、チャンバーは、ポスト115と同じ材料又は異なる材料であってもよい、床160(図示せず)及び任意選択的な天井150を有する。 Figure 3T is a diagram of another example microfluidic cell concentration device. In this example, a first solution containing cells 100 enters a chamber 105 at a first input mechanism 110. The cells are depicted as circles. The cells pass through the chamber 105, which includes a matrix of posts 115, shown here as rectangular structures distributed along gradient lines. As the cells pass between the diagonally oriented rows of posts within the chamber, they are deflected laterally toward the sides of the chamber. As in Figure 3L, the chamber has a floor 160 (not shown) and an optional ceiling 150, which may be the same material as the posts 115 or a different material.
この例では、第2入力機構112がこのシステム内に存在する。第2溶液(例えば、第1入力機構110を通じてチャンバーに入る第1溶液と異なる緩衝液)、例えば緩衝液チューブ577からの緩衝液は、第2入力機構112を通じてチャンバーに入る。いくつかの実施形態では、第1溶液及び第2溶液は、実質的に混合せず、それ故、チャンバーの上位領域155は、第1溶液を含み、第2溶液を有するとしてもほんのわずかしか有しない一方で、チャンバーの下位領域165は、第2溶液を含み、第1溶液を有するとしてもほんのわずかしか有しない。したがって、細胞が側方に偏向され、出力機構122を通じてチャンバーを出るとき、出力機構122を介してチャンバーを出る溶液は、第2溶液の緩衝液中に存在する。 In this example, a second input mechanism 112 is present in the system. A second solution (e.g., a different buffer solution than the first solution entering the chamber through the first input mechanism 110), such as a buffer solution from buffer tube 577, enters the chamber through the second input mechanism 112. In some embodiments, the first and second solutions do not substantially mix, such that the upper region 155 of the chamber contains the first solution and little, if any, of the second solution, while the lower region 165 of the chamber contains the second solution and little, if any, of the first solution. Thus, when the cells are deflected laterally and exit the chamber through output mechanism 122, the solution exiting the chamber via output mechanism 122 is in the buffer solution of the second solution.
いくつかの態様では、緩衝液変更は、図3Uに示される通り、カスケード設計において順次行われてもよい。この例では、細胞100を含む第1溶液は、第1入力機構110(1)で第1チャンバー105(1)に入る。細胞は丸で図示される。細胞は、ここで勾配を有するラインに沿って分布される矩形構造として示される、ポスト115(1)のマトリックスを含む、チャンバー105(1)を通過する。細胞がチャンバー内の対角線上に方向づけられたポスト列の間を通るとき、細胞は側方に偏向される。図3Lと同様、チャンバーは、ポスト115と同じ材料又は異なる材料であってもよい、床(160)(図示せず)及び任意選択的な天井(150)を有する。(濃縮された)細胞は、第2入力機構112がシステムの入力である場合、入力機構110(2)に流れる出力122(1)を通じてチャンバーを出る。 In some embodiments, buffer changes may be performed sequentially in a cascade design, as shown in FIG. 3U. In this example, a first solution containing cells 100 enters a first chamber 105(1) at a first input mechanism 110(1). The cells are depicted as circles. The cells pass through a chamber 105(1), which contains a matrix of posts 115(1), shown here as rectangular structures distributed along gradient lines. As the cells pass between the diagonally oriented rows of posts within the chamber, they are deflected laterally. Similar to FIG. 3L, the chamber has a floor (160) (not shown) and an optional ceiling (150), which may be the same material as the posts 115 or a different material. The (concentrated) cells exit the chamber through an output 122(1) that flows to input mechanism 110(2) if a second input mechanism 112 is the input to the system.
第2溶液(例えば緩衝液)は、第1入力機構110(1)を通じてチャンバーに入る第1溶液と異なり、第2入力機構(112)を通じてチャンバーに入る。いくつかの実施形態では、第1溶液及び第2溶液は、実質的に混合せず、それ故、チャンバーの上位領域(155)は、第1溶液を含み、第2溶液を有するとしてもほんのわずかしか有しない一方で、チャンバーの下位領域(165)は、第2溶液を含み、第1溶液を有するとしてもほんのわずかしか有しない。細胞(濃縮され、且つ入力機構112からの緩衝液中に存在する)は、出力機構122(2)を通じてチャンバー105(2)を出る。 A second solution (e.g., a buffer solution) enters the chamber through a second input mechanism (112), distinct from the first solution, which enters the chamber through the first input mechanism 110(1). In some embodiments, the first and second solutions do not substantially mix, such that the upper region (155) of the chamber contains the first solution and little, if any, of the second solution, while the lower region (165) of the chamber contains the second solution and little, if any, of the first solution. The cells (concentrated and present in the buffer solution from the input mechanism 112) exit chamber 105(2) through output mechanism 122(2).
他の態様では、緩衝液変更は、並行して行われてもよい。例えば、流路は、サンプルが複数のチャンバー内に流れるように分割されてもよく、ここで各チャンバーは、緩衝液用の入力機構を含む。この配置の場合、細胞が同じ緩衝液中で濃縮されるように、同じ緩衝液が平行チャンバーの各々に供されてもよい。或いは、例えば異なる下流アッセイにおいて、細胞が異なる緩衝液中で濃縮されるように、異なる緩衝液が平行チャンバーの各々に供されてもよい。 In other embodiments, buffer changes may occur in parallel. For example, a flow path may be divided so that a sample flows into multiple chambers, with each chamber including an input for a buffer. In this configuration, the same buffer may be provided to each of the parallel chambers so that cells are concentrated in the same buffer. Alternatively, different buffers may be provided to each of the parallel chambers so that cells are concentrated in different buffers, e.g., for different downstream assays.
一般に、入力機構は、シリンジポンプにより、又はシリンジの手動押下げにより駆動され得る。いくつかの態様では、複数の入力において、各入力を自動的に駆動するため、1つ以上のシリンジポンプが使用され得る。他の態様では、複数の入力において、各入力を手動で駆動するため、1つ以上のシリンジの手動押下げが使用され得る。 Generally, the input mechanism may be actuated by a syringe pump or by manual depression of a syringe. In some embodiments, multiple inputs may use one or more syringe pumps to automatically actuate each input. In other embodiments, multiple inputs may use manual depression of one or more syringes to manually actuate each input.
任意の実施形態では、異なるエレクトロポレーション効果を提供する能力があるエレクトロポレーション装置が本明細書に記載される。例えば、図3Vに図示される通り、3つの電極640(1)、640(2)、640(3)を有するエレクトロポレーション装置600が提供される。エレクトロポレーション装置600は、細胞及びカーゴが移動するための2つの経路、電極640(1)と電極640(2)との間の第1経路及び電極640(2)と電極640(3)との間の第2経路を含み、ここで矢印は細胞の流れを示す。細胞は、入口620でエレクトロポレーションチャンバーに入り、出口630を介して出ることができる。図示されていないが、本明細書では、2つ以上の出口が存在してもよく、例えば各出口が異なるタイプの細胞を収集し得ると考えられる。異なる電極ギャップ長(L1、L2、L3、L4)が、エレクトロポレーション装置600内に存在する。異なる電極ギャップ長及び異なる経路は、異なる容量をもたらし;それ故、各経路内を移動する細胞において、異なる電界強度及びエレクトロポレーション効果が達成され得る。例えば、L2をL4よりも大きくすることができ、かかる例では、第1経路内の容量(C1)を第2経路内の容量(C2)よりも大きくすることができる(C1>C2)。任意の実施形態では、細胞(同じ又は異なるタイプ)は、例えば上記のマイクロ流体デバイスを用いて予備選別及び/又は選択されてから、第1経路又は第2経路に進入してもよい。 In any embodiment, electroporation devices capable of providing different electroporation effects are described herein. For example, as illustrated in FIG. 3V, an electroporation device 600 is provided having three electrodes 640(1), 640(2), and 640(3). The electroporation device 600 includes two paths for cell and cargo movement: a first path between electrodes 640(1) and 640(2) and a second path between electrodes 640(2) and 640(3), where arrows indicate cell flow. Cells can enter the electroporation chamber at inlet 620 and exit via outlet 630. While not shown, it is contemplated herein that more than one outlet may be present, e.g., each outlet may collect a different type of cell. Different electrode gap lengths (L1, L2, L3, L4) are present within the electroporation device 600. Different electrode gap lengths and different pathways result in different capacitances; therefore, different electric field strengths and electroporation effects can be achieved in cells moving through each pathway. For example, L2 can be greater than L4, and in such an example, the capacitance (C1) in the first pathway can be greater than the capacitance (C2) in the second pathway (C1 > C2). In any embodiment, cells (of the same or different types) can be pre-sorted and/or selected, for example, using the microfluidic device described above, before entering the first or second pathway.
本明細書では、本明細書に記載のエレクトロポレーション装置が、所望される長さ及び形状の経路を提供するため、互いに流体連絡(例えば、接続、積層)されてもよいカートリッジとして存在し得ることも検討される。例えば、図3Wに図示される通り、カートリッジ410の各々は、第1電極440(1)及び第2電極440(2)を含むエレクトロポレーションチャンバーを含み、ここでカートリッジは順次積層されてもよく、矢印はカートリッジを通る細胞の流れを示す。例えば、最上位カートリッジ410の出口は、中間カートリッジ410の入口と流体連絡され、中間カートリッジ410の出口は、最下位カートリッジ410の入口と流体連絡される。 It is also contemplated herein that the electroporation devices described herein may exist as cartridges that may be in fluid communication (e.g., connected, stacked) with one another to provide a pathway of a desired length and shape. For example, as illustrated in FIG. 3W, each of the cartridges 410 includes an electroporation chamber that includes a first electrode 440(1) and a second electrode 440(2), where the cartridges may be stacked sequentially and the arrows indicate the flow of cells through the cartridges. For example, the outlet of the top cartridge 410 is in fluid communication with the inlet of the middle cartridge 410, and the outlet of the middle cartridge 410 is in fluid communication with the inlet of the bottom cartridge 410.
さらなる実施形態では、本明細書に記載のエレクトロポレーション装置を含むモジュラーシステムが提供される。例えば、図3Xに図示される通り、モジュラーシステム800は、第1モジュール805、第2モジュール815、及び第3モジュール825といった互いに流体連絡又は接続するように形成された3つのモジュールを含む。第1モジュール805は、トランスフェクション対象の細胞及び/又はカーゴを含有するための第1容器807(例えばサンプルチューブ)、並びに第1容器807を第2モジュール815と流体接続するためのチューブ810を含む。第1モジュール805はまた、任意選択的には、エアフィルター装置809及びエアフィルター装置809を第1容器807に流体接続するためのチューブ810を含んでもよい。第2モジュール815は、エレクトロポレーション装置820及びエレクトロポレーション装置を第1モジュール805、例えば第1容器807、及び第2モジュール825に流体接続するためのチューブ810、並びに本明細書に記載のような流れ生成手段(例えば蠕動ポンプ)をエレクトロポレーション装置820及び第1モジュール805、例えば第1容器807に流体接続するためのチューブ810を含む。第3モジュール825は、エレクトロポレートされた細胞を回収するための第2容器830(例えば収集管)、並びに第2容器830を第2モジュール815、例えばエレクトロポレーション装置820に流体接続するためのチューブ810を含む。第3モジュール825はまた、任意選択的には、エアフィルター装置809とエアフィルター装置809を第2容器830に流体接続するためのチューブ810とを含んでもよい。任意選択的には、コネクター850、例えばルアーロックは、モジュールを共に、例えば、第1モジュール805を第2モジュール815と、そして第2モジュール815を第3モジュール825と接続してもよい。本明細書では、第1モジュール805、第2モジュール815、及び第3モジュール825の各々が、別々にパッケージング及び滅菌されてもよいと考えられる。 In a further embodiment, a modular system is provided that includes the electroporation apparatus described herein. For example, as illustrated in FIG. 3X, modular system 800 includes three modules configured to be in fluid communication or connection with one another: first module 805, second module 815, and third module 825. First module 805 includes a first container 807 (e.g., a sample tube) for containing cells and/or cargo to be transfected, and tubing 810 for fluidly connecting first container 807 with second module 815. First module 805 may also, optionally, include an air filter device 809 and tubing 810 for fluidly connecting air filter device 809 to first container 807. The second module 815 includes an electroporation device 820 and tubing 810 for fluidly connecting the electroporation device to the first module 805, e.g., the first container 807, and the second module 825, as well as tubing 810 for fluidly connecting a flow generating means (e.g., a peristaltic pump) as described herein to the electroporation device 820 and the first module 805, e.g., the first container 807. The third module 825 includes a second container 830 (e.g., a collection tube) for collecting electroporated cells, and tubing 810 for fluidly connecting the second container 830 to the second module 815, e.g., the electroporation device 820. The third module 825 may also optionally include an air filter device 809 and tubing 810 for fluidly connecting the air filter device 809 to the second container 830. Optionally, connectors 850, e.g., luer locks, may connect the modules together, e.g., first module 805 with second module 815 and second module 815 with third module 825. It is contemplated herein that each of first module 805, second module 815, and third module 825 may be packaged and sterilized separately.
本明細書に記載のエレクトロポレーション装置は、図1Bに示される配置など、メッシュに基づくエレクトロポレーション装置を上回る利点をいくつか有する。まず、エレクトロポレーションチャンバーの第1入力から第1出力にかけて測定されるとき、エレクトロポレーションチャンバーを通じた移動距離が増加し、電界における対応する増加をもたらすことはない。したがって、細胞は、厳密に直線の流路内よりも長い期間、均一な電界に曝露され、それにより改善されたエレクトロポレーション効率がもたらされ、生存率における対応する低下を伴わない。 The electroporation devices described herein have several advantages over mesh-based electroporation devices, such as the configuration shown in FIG. 1B. First, the increased migration distance through the electroporation chamber, as measured from the first input to the first output of the electroporation chamber, does not result in a corresponding increase in the electric field. Thus, cells are exposed to a uniform electric field for a longer period than in a strictly straight channel, resulting in improved electroporation efficiency without a corresponding decrease in viability.
上位メッシュ電極と下位メッシュ電極との間のエレクトロポレーションチャンバー幅(w)が図1Bにおいて増加し、より長い移動距離をもたらし得るが、より大きいエレクトロポレーションチャンバー幅はより大きいインピーダンスを有することになり、好適な電界を生成するため、より高い電圧が印加される必要があろう。加えて、より大きい電圧は、細胞生存率に対して有害な影響を有する可能性が高くなる。さらに、平行プレート電極の配置においては、図1Aなどの場合、電界分布は均一でなくなる。 The electroporation chamber width (w) between the upper and lower mesh electrodes may be increased in Figure 1B, resulting in a longer migration distance; however, a larger electroporation chamber width will have a larger impedance, and a higher voltage will need to be applied to generate a suitable electric field. Additionally, a higher voltage is more likely to have a detrimental effect on cell viability. Furthermore, in parallel plate electrode configurations, such as those in Figure 1A, the electric field distribution will be less uniform.
したがって、実施形態によると、本明細書に記載のエレクトロポレーション装置は、オフセット入力・出力の設計によって、より短い電極対を有することができ、それによりエレクトロポレーションチャンバーの長さが伸び、電極対距離が増加しない。 Thus, according to embodiments, the electroporation devices described herein can have shorter electrode pairs due to the offset input/output design, thereby extending the length of the electroporation chamber without increasing the electrode pair distance.
図4は、本明細書に記載のようなエレクトロポレーション装置と先行技術におけるエレクトロポレーション装置との間の差異を例示する表を提示する。かかる差異として、限定はされないが、(1)入力・出力オフセット距離の存在、(2)BTX及びRPMIなどの市販のエレクトロポレーション培地の代わりに、低コンダクタンスで低い容積モル浸透圧濃度のエレクトロポレーション培地の使用、(3)一連の電気パルスで適用される指数関数的な吐出波形、及び(4)段階的な流体フロースキーム、が挙げられる。 Figure 4 presents a table illustrating differences between the electroporation device as described herein and prior art electroporation devices. Such differences include, but are not limited to, (1) the presence of an input-output offset distance, (2) the use of a low-conductance, low-osmolality electroporation medium instead of commercially available electroporation media such as BTX and RPMI, (3) an exponential ejection waveform applied in a series of electrical pulses, and (4) a step-wise fluid flow scheme.
図3A~図3Cにおける例では、ステンレス鋼のマイクロメッシュ電極が利用される一方で、該電極は任意の特定の材料に制限されず、任意の好適な材料で形成されてもよい。例えば、図6に示される通り、好適な材料は、シリコン及びポリイミドを含む。好適なマイクロメッシュ電極を形成するため、シリコン及びポリイミドが使用されてもよいが、かかる材料は、典型的には当該技術分野で公知の微細加工プロトコルを用いてクリーンルーム設備内で加工される。それに対し、ステンレス鋼のマイクロメッシュ電極は、セットアップが容易であり、専用の設備、例えばクリーンルームを必要としない。 While the examples in Figures 3A-3C utilize stainless steel micromesh electrodes, the electrodes are not limited to any particular material and may be formed of any suitable material. For example, as shown in Figure 6, suitable materials include silicon and polyimide. While silicon and polyimide may be used to form suitable micromesh electrodes, such materials are typically processed in cleanroom facilities using microfabrication protocols known in the art. In contrast, stainless steel micromesh electrodes are easy to set up and do not require specialized facilities, such as cleanrooms.
マイクロメッシュが細胞の通過を可能にする孔を有し(例えば、マイクロメッシュ孔は細胞よりも大きい)、且つマイクロメッシュ孔が孔開口部周囲の電極パターニングに適合するという条件で、任意の好適な材料が使用されてもよいことは理解される。 It will be appreciated that any suitable material may be used, provided the micromesh has pores that allow cells to pass through (e.g., the micromesh pores are larger than the cells) and the micromesh pores are compatible with the electrode patterning around the pore openings.
エレクトロポレーション方法及びパラメータ
細胞にカーゴをエレクトロポレートする方法が、例えば上記のようなエレクトロポレーション装置とともに本明細書に提供される。この方法は、細胞をカーゴとともにエレクトロポレーションチャンバーに流すことを含み得る。エレクトロポレーションチャンバーは、第1電極(例えば固体電極)、第2電極(例えば固体電極)、及び第1電極と第2電極との間のそこで規定された経路を有する流体チャネル領域(すべてが本明細書に記載の通り)を含む。該装置はまた、本明細書に記載のように細胞及びカーゴのエレクトロポレーションチャンバーへの通過を可能にする第1入力と、本明細書に記載のようにエレクトロポレーションチャンバーからのエレクトロポレートされた細胞の通過を可能にする第1出力とを含む。いくつかの実施形態では、第1入力と第1出力は、オフセット距離だけ隔てられ得る。細胞は、エレクトロポレーション培地に懸濁され得る。第1電極は、本明細書に記載のように第1材料によって囲まれ得、第2電極は、本明細書に記載のように第2材料によって囲まれ得、それらは同じであっても又は異なってもよい。第1材料及び第2材料はまた、本明細書に記載のように第1外部入力と、本明細書に記載のように第1外部出力とを含んでもよい。
Electroporation Methods and Parameters [0013] A method for electroporating a cargo into cells is provided herein, along with an electroporation device, e.g., as described above. The method can include flowing the cells along with the cargo into an electroporation chamber. The electroporation chamber includes a first electrode (e.g., a solid electrode), a second electrode (e.g., a solid electrode), and a fluid channel region having a defined path therein between the first and second electrodes (all as described herein). The device also includes a first input that allows passage of the cells and cargo into the electroporation chamber as described herein, and a first output that allows passage of the electroporated cells from the electroporation chamber as described herein. In some embodiments, the first input and the first output can be separated by an offset distance. The cells can be suspended in an electroporation medium. The first electrode can be surrounded by a first material as described herein, and the second electrode can be surrounded by a second material as described herein, which can be the same or different. The first material and the second material can also include a first external input as described herein and a first external output as described herein.
いくつかの実施形態では、エレクトロポレーションチャンバーは、本明細書に記載のように上位マイクロメッシュ電極、本明細書に記載のように下位マイクロメッシュ電極、並びに本明細書に記載のように細胞及びカーゴが流れるための上位マイクロメッシュ電極と下位マイクロメッシュ電極との間の規定された経路を含む。上位マイクロメッシュ電極と下位マイクロメッシュ電極の各々は、本明細書に記載のように多孔度を有する。加えて、上位マイクロメッシュ電極は、本明細書に記載のように第1材料によって囲まれ得る。第1材料は、細胞のエレクトロポレーションチャンバーへの通過を可能にする、本明細書に記載のように第1入力を含み得る。下位マイクロメッシュ電極は、第2材料によって囲まれ得る。第2材料は、エレクトロポレーションチャンバーからのエレクトロポレートされた細胞の通過を可能にする、本明細書に記載のように第1出力を含み得る。第1入力と第1出力は、本明細書に記載のようにオフセット距離だけ隔てられる。細胞は、エレクトロポレーション培地に懸濁され得る。任意選択的には、上位マイクロメッシュ電極は、本明細書に記載のように第2入力をさらに含んでもよく、且つ/又は下位マイクロメッシュ電極は、本明細書に記載のように第2出力をさらに含んでもよい。 In some embodiments, the electroporation chamber includes an upper micromesh electrode as described herein, a lower micromesh electrode as described herein, and a defined pathway between the upper and lower micromesh electrodes for cell and cargo flow as described herein. Each of the upper and lower micromesh electrodes has a porosity as described herein. Additionally, the upper micromesh electrode may be surrounded by a first material as described herein. The first material may include a first input as described herein that allows passage of cells into the electroporation chamber. The lower micromesh electrode may be surrounded by a second material. The second material may include a first output as described herein that allows passage of electroporated cells from the electroporation chamber. The first input and first output are separated by an offset distance as described herein. The cells may be suspended in electroporation medium. Optionally, the upper micromesh electrode may further include a second input as described herein, and/or the lower micromesh electrode may further include a second output as described herein.
任意の実施形態では、細胞及びカーゴのフローは、段階的様式で実施されてもよい。例えば、エレクトロポレーションチャンバーの総体積の約半分以上の流量が、指定された時間間隔でエレクトロポレーションチャンバー内にポンピングされ得る。いくつかの実施形態では、エレクトロポレーションチャンバーの総体積にほぼ等しい流量が、エレクトロポレーションチャンバー内にポンピングされ得る。図5は、一連の電気パルス(刺激)の例及び段階的な流体フロースキーム(ポンプ)の例を示す。段階的な流体フロースキームの場合、チャンバー体積は約22μLである。秒ごとに、11μLがエレクトロポレーションチャンバー内にポンピングされ、流量の半分が置き換わる。これは、所望量の細胞を処理するのに要する期間、反復されてもよい。 In any embodiment, the flow of cells and cargo may be performed in a stepwise manner. For example, a flow rate of approximately half or more of the total volume of the electroporation chamber may be pumped into the electroporation chamber at a specified time interval. In some embodiments, a flow rate approximately equal to the total volume of the electroporation chamber may be pumped into the electroporation chamber. Figure 5 shows an example series of electrical pulses (stimuli) and an example of a stepwise fluid flow scheme (pump). For the stepwise fluid flow scheme, the chamber volume is approximately 22 μL. Every second, 11 μL is pumped into the electroporation chamber, replacing half of the flow rate. This may be repeated for as long as necessary to process the desired amount of cells.
追加的に又は代替的に、任意の好適な時間間隔が、段階的な流体フロースキームに適する任意の量とともに用いられてもよい。例えば、時間間隔は、約0.1秒~約10秒、約0.5秒~約5秒、約1秒~約2秒、若しくはそれらの間の任意の時間の範囲であってもよい、又はより長い間隔を含んでもよい。いくつかの態様では、時間の関数としてのエレクトロポレーションチャンバー内にポンピングされる流体の量は、入力チャンバーの体積の4分の3、エレクトロポレーションチャンバーの体積の2分の1、エレクトロポレーションチャンバーの体積の4分の1、エレクトロポレーションチャンバーの体積の8分の1、又はそれ以下であってもよい。細胞及びカーゴの任意の好適な流速が、本明細書に記載のパラメータとともに使用可能である。例えば、エレクトロポレーション培地中の細胞及びカーゴの流速は、約0.1ml/分以上、約0.5ml/分以上、約1ml/分以上、約2.5ml/分以上、約5ml/分以上、約7.5ml/分以上、約10ml/分以上、約12.5ml/分以上、若しくは約15ml/分以上、又は約0.1ml/分~約15ml/分、約0.5ml/分~約15ml/分、約1ml/分~約15ml/分、約1ml/分~約12.5ml/分、約1ml/分~約10ml/分、約1ml/分~約7.5ml/分、約1ml/分~約5ml/分、若しくは約1ml/分~約2.5ml/分であってもよい。 Additionally or alternatively, any suitable time interval may be used with any amount suitable for a stepwise fluid flow scheme. For example, the time interval may range from about 0.1 seconds to about 10 seconds, from about 0.5 seconds to about 5 seconds, from about 1 second to about 2 seconds, or any time therebetween, or may include longer intervals. In some aspects, the amount of fluid pumped into the electroporation chamber as a function of time may be three-quarters the volume of the input chamber, one-half the volume of the electroporation chamber, one-quarter the volume of the electroporation chamber, one-eighth the volume of the electroporation chamber, or less. Any suitable flow rate of cells and cargo may be used with the parameters described herein. For example, the flow rate of the cells and cargo in the electroporation medium may be about 0.1 ml/min or more, about 0.5 ml/min or more, about 1 ml/min or more, about 2.5 ml/min or more, about 5 ml/min or more, about 7.5 ml/min or more, about 10 ml/min or more, about 12.5 ml/min or more, or about 15 ml/min or more, or about 0.1 ml/min to about 15 ml/min, about 0.5 ml/min to about 15 ml/min, about 1 ml/min to about 15 ml/min, about 1 ml/min to about 12.5 ml/min, about 1 ml/min to about 10 ml/min, about 1 ml/min to about 7.5 ml/min, about 1 ml/min to about 5 ml/min, or about 1 ml/min to about 2.5 ml/min.
任意の実施形態では、細胞は、エレクトロポレーションチャンバー内の均一な又は実質的に均一な電界に曝露される。複数の電気パルスがエレクトロポレーションチャンバー内の細胞に適用され得、ここで各電気パルスは同じか又は異なる。いくつかの実施形態では、直流(DC)電気パルスが適用される。追加的に又は代替的に、交流(AC)電気パルスが適用される。任意の実施形態では、各パルスは、指数関数的な吐出波形又は方形波形の形態を有し得る。任意の実施形態では、複数の電気パルスは、指数関数的な吐出波形又は方形波形の双方を含み得る。 In any embodiment, cells are exposed to a uniform or substantially uniform electric field within the electroporation chamber. Multiple electric pulses may be applied to the cells within the electroporation chamber, where each electric pulse is the same or different. In some embodiments, direct current (DC) electric pulses are applied. Additionally or alternatively, alternating current (AC) electric pulses are applied. In any embodiment, each pulse may have the form of an exponential ejection waveform or a square waveform. In any embodiment, the multiple electric pulses may include both exponential ejection waveforms and square waveforms.
一連の電気パルスの場合、所与の強度の電界を生成するため、100ms~5000msごと(例えば、100msごと、250msごと、500msごと、1000msごと、2000msごと、3000msごとなど)に電圧が電極に印加され得る。これは、所望量の細胞を処理するのに要する期間、反復されてもよい。したがって、態様が連続流と称されてもよい一方で、連続流が段階的な流体フロースキームを含み、流体が既定の時間間隔に応じてエレクトロポレーションチャンバー内に連続的にポンピングされることは理解される。 For a series of electrical pulses, voltage may be applied to the electrodes every 100 ms to 5000 ms (e.g., every 100 ms, 250 ms, 500 ms, 1000 ms, 2000 ms, 3000 ms, etc.) to generate an electric field of a given strength. This may be repeated for as long as necessary to process the desired amount of cells. Thus, while an embodiment may be referred to as continuous flow, it is understood that continuous flow includes a step-wise fluid flow scheme in which fluid is continuously pumped into the electroporation chamber according to predetermined time intervals.
追加的に又は代替的に、電気パルス間の任意の好適な持続時間は、エレクトロポレーションチャンバー内の細胞に対する電気パルスの任意の好適な持続時間とともに用いられてもよい。例えば、各パルス間の持続時間は、約0.1秒~約15秒、約0.1秒~約10秒、約0.1秒~約5秒、約0.2秒~約1秒、約0.4秒~約0.6秒、又はそれらの間の任意の時間の範囲であってもよく、より長い間隔を含んでもよい。いくつかの態様では、電気パルスの持続時間は、約10ms~約10s、約10ms~約5s、約10ms~約1s、約10ms~約500ms、約10ms~約250ms、約50ms~約150ms、約75ms~約125ms、約100ms~約10s、約100ms~約5、約100ms~約1s、約100ms~約500ms、約100ms~約250msの範囲、又はそれらの間の任意の範囲であってもよい。 Additionally or alternatively, any suitable duration between electrical pulses may be used with any suitable duration of electrical pulses to the cells in the electroporation chamber. For example, the duration between each pulse may range from about 0.1 seconds to about 15 seconds, from about 0.1 seconds to about 10 seconds, from about 0.1 seconds to about 5 seconds, from about 0.2 seconds to about 1 second, from about 0.4 seconds to about 0.6 seconds, or any time period therebetween, including longer intervals. In some embodiments, the duration of the electrical pulse may be in the range of about 10 ms to about 10 s, about 10 ms to about 5 s, about 10 ms to about 1 s, about 10 ms to about 500 ms, about 10 ms to about 250 ms, about 50 ms to about 150 ms, about 75 ms to about 125 ms, about 100 ms to about 10 s, about 100 ms to about 5, about 100 ms to about 1 s, about 100 ms to about 500 ms, about 100 ms to about 250 ms, or any range therebetween.
好適なパルス数及びパルス間の間隔に関して、少なくとも2、3、4、5、6、7、8、9又は10のパルスが、単一のパルスよりも望ましい結果を提供してもよい。したがって、パルスは、2~10パルス、2~6パルス、6~8パルス、又は2~3パルスの範囲であってもよいと考えられる。最も典型的には、パルスは、後続するパルスと、比較的短い間隔、典型的には0.5秒~15秒の間だけ隔てられるが、場合によってはより長い間隔が用いられてよい。 Regarding the preferred number of pulses and the interval between pulses, at least 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, or 10 pulses may provide more desirable results than a single pulse. Thus, it is contemplated that the pulses may range from 2 to 10 pulses, 2 to 6 pulses, 6 to 8 pulses, or 2 to 3 pulses. Most typically, pulses are separated from subsequent pulses by a relatively short interval, typically between 0.5 seconds and 15 seconds, although longer intervals may be used in some cases.
任意の実施形態では、約0.1kV/cm~約5kV/cm、約0.1kV/cm~約3kV/cm、約0.1kV/cm~約2kV/cm、約0.1kV/cm~約1kV/cm、約0.1kV/cm~約0.5kV/cm、約0.3kV/cm~約5kV/cm、約0.3kV/cm~約3kV/cm、約0.3kV/cm~約2kV/cm、約0.3kV/cm~約1kV/cm、約0.3kV/cm~約0.5kV/cm、約0.5kV/cm~約3kV/cm、約0.5kV/cm~約2kV/cm、約0.5kV/cm~約1kV/cm、約0.8kV/cm~約3kV/cm、約0.8kV/cm~約2kV/cm、約0.8kV/cm~約1kV/cm、約1kV/cm~約3kV/cm、又は約1kV/cm~約2kV/cmの電界強度を生成するのに適した電圧で、複数の電気パルスが適用されてもよい。好適な電圧は、約10V、約15V、約20V、約30V、約40V、約50V、約75V、約100V、又は約200V、又は約10V~約200V、約10V~約100V、約10V~約75V、約10V~約50、約10V~約40V、約10V~約30V、約15V~約200V、約15V~約100V、約15V~約75V、約15V~約50、約15V~約40V、約15V~約30V、約20V~約50、約20V~約40V、約20V~約30V、約30V~約50V、約30V~約40V、又はそれらの中の任意の好適な範囲であってもよい。 In any embodiment, the voltage is from about 0.1 kV/cm to about 5 kV/cm, from about 0.1 kV/cm to about 3 kV/cm, from about 0.1 kV/cm to about 2 kV/cm, from about 0.1 kV/cm to about 1 kV/cm, from about 0.1 kV/cm to about 0.5 kV/cm, from about 0.3 kV/cm to about 5 kV/cm, from about 0.3 kV/cm to about 3 kV/cm, from about 0.3 kV/cm to about 2 kV/cm, from about 0.3 kV/cm to about 1 kV/cm, or from about 0.3 kV/cm to about 0 Multiple electrical pulses may be applied at voltages suitable to generate a field strength of about 0.5 kV/cm, about 0.5 kV/cm to about 3 kV/cm, about 0.5 kV/cm to about 2 kV/cm, about 0.5 kV/cm to about 1 kV/cm, about 0.8 kV/cm to about 3 kV/cm, about 0.8 kV/cm to about 2 kV/cm, about 0.8 kV/cm to about 1 kV/cm, about 1 kV/cm to about 3 kV/cm, or about 1 kV/cm to about 2 kV/cm. Suitable voltages may be about 10V, about 15V, about 20V, about 30V, about 40V, about 50V, about 75V, about 100V, or about 200V, or about 10V to about 200V, about 10V to about 100V, about 10V to about 75V, about 10V to about 50, about 10V to about 40V, about 10V to about 30V, about 15V to about 200V, about 15V to about 100V, about 15V to about 75V, about 15V to about 50, about 15V to about 40V, about 15V to about 30V, about 20V to about 50, about 20V to about 40V, about 20V to about 30V, about 30V to about 50V, about 30V to about 40V, or any suitable range therein.
追加的に又は代替的に、各電気パルスは、約10μs以上、約50μs以上、約75μs以上、約100μs以上、約250μs以上、約500μs以上、約750μs以上、約1,000μs以上、約5,000μs以上、若しくは約10,000μs;又は約10μs~約10,000μs、約10μs~約5,000μs、約10μs~約1,000μs、約10μs~約750μs、約10μs~約500μs、約10μs~約250μs、約10μs~約100μs、約10μs~約50μs、約100μs~約1000μs、約100μs~約750μs、約100μs~約500μs、約100μs~約250μs、約250μs~約1000μs、約250μs~約750μs、約250μs~約500μs、約500μs~約1000μs、若しくは約500μs~約750μsのパルス幅を有し得る。 Additionally or alternatively, each electrical pulse may be about 10 μs or more, about 50 μs or more, about 75 μs or more, about 100 μs or more, about 250 μs or more, about 500 μs or more, about 750 μs or more, about 1,000 μs or more, about 5,000 μs or more, or about 10,000 μs; or about 10 μs to about 10,000 μs, about 10 μs to about 5,000 μs, about 10 μs to about 1,000 μs, about 10 μs to about 750 μs, about 10 μs to about 50 The pulse width may be 0 μs, about 10 μs to about 250 μs, about 10 μs to about 100 μs, about 10 μs to about 50 μs, about 100 μs to about 1000 μs, about 100 μs to about 750 μs, about 100 μs to about 500 μs, about 100 μs to about 250 μs, about 250 μs to about 1000 μs, about 250 μs to about 750 μs, about 250 μs to about 500 μs, about 500 μs to about 1000 μs, or about 500 μs to about 750 μs.
任意の好適な細胞、例えば、哺乳動物細胞、非哺乳動物細胞、又は双方は、カーゴがトランスフェクトされてもよい。好適な哺乳動物細胞の例として、限定はされないが、NK細胞(例えば、haNK細胞、初代NK細胞、活性化(aNK)細胞)、EC-7細胞(アデノウイルスを産生するために修飾されたHEK293細胞の誘導体)、T細胞(例えば、初代CD4/CD8T細胞)、CHO-S細胞、樹状細胞、胚細胞、幹細胞(例えば、脂肪由来間葉系幹細胞(AD-MSC))、上皮細胞、リンパ球、マクロファージ、配偶子細胞、及び線維芽細胞が挙げられる。好適な非哺乳動物細胞の例として、限定はされないが、細菌細胞、及び酵母細胞が挙げられる。任意の好適なカーゴ、例えば核酸が使用されてもよい。核酸は、RNA(例えば、合成RNA、mRNA、インビトロ転写RNA、GFP-mRNAなど)及び/又はDNA(例えば、合成DNA、GFP-DNA、プラスミドDNAなど)であってもよい。特に、NK細胞、EC-7細胞(アデノウイルスを産生するために修飾されたHEK293細胞の誘導体)及びT細胞は、本明細書に記載のエレクトロポレーション装置を用いて、RNA(例えば、合成RNA、mRNA、インビトロ転写RNA、GFP-mRNAなど)及び/又はDNA(例えば、合成DNA、GFP-DNA、プラスミドDNAなど)がトランスフェクトされ得る。さらに、本明細書では、体外受精を実施するため、本明細書に記載のエレクトロポレーション装置が使用可能であると考えられる。例えば、卵及び精子は、卵の受精を達成するため、本明細書に記載のようなエレクトロポレーション装置を通流することが可能である。 Any suitable cells, e.g., mammalian cells, non-mammalian cells, or both, may be transfected with a cargo. Examples of suitable mammalian cells include, but are not limited to, NK cells (e.g., haNK cells, primary NK cells, activated (aNK) cells), EC-7 cells (a derivative of HEK293 cells modified to produce adenovirus), T cells (e.g., primary CD4/CD8 T cells), CHO-S cells, dendritic cells, embryonic cells, stem cells (e.g., adipose-derived mesenchymal stem cells (AD-MSCs)), epithelial cells, lymphocytes, macrophages, gametocytes, and fibroblasts. Examples of suitable non-mammalian cells include, but are not limited to, bacterial cells and yeast cells. Any suitable cargo, e.g., nucleic acids, may be used. The nucleic acid may be RNA (e.g., synthetic RNA, mRNA, in vitro transcribed RNA, GFP-mRNA, etc.) and/or DNA (e.g., synthetic DNA, GFP-DNA, plasmid DNA, etc.). In particular, NK cells, EC-7 cells (a derivative of HEK293 cells modified to produce adenovirus), and T cells can be transfected with RNA (e.g., synthetic RNA, mRNA, in vitro transcribed RNA, GFP-mRNA, etc.) and/or DNA (e.g., synthetic DNA, GFP-DNA, plasmid DNA, etc.) using the electroporation device described herein. It is further contemplated herein that the electroporation device described herein can be used to perform in vitro fertilization. For example, eggs and sperm can be passed through an electroporation device such as that described herein to achieve fertilization of the eggs.
さらに検討される態様では、細胞がトランスフェクトされる場合の培地又はエレクトロポレーション緩衝液は、任意選択的には1つ以上の栄養分を含有する低い伝導率及び低い容積モル浸透圧濃度の培地である。任意の実施形態では、エレクトロポレーション培地は、約0.05mS/m以上、約1mS/m以上、約5mS/m以上、約10mS/m以上、約15mS/m以上、約mS/m以上、約25mS/m以上、約30mS/m以上、約50mS/m以上、約100mS/m以上、約150mS/m以上、若しくは約200mS/m以上;又は約0.05mS/m~約200mS/m;約1mS/m~約30mS/m、約1mS/m~約20mS/m、約1mS/m~約10mS/m、約1mS/m~約5mS/m、約3mS/m~約30mS/m、約5mS/m~約20mS/m、若しくは約5mS/m~約15mS/mのコンダクタンスを有し得る。追加的に又は代替的に、エレクトロポレーション培地は、約50mOsm/l以上、約100mOsm/l以上、約150mOsm/l以上、約200mOsm/l以上、約250mOsm/l以上、約300mOsm/l以上、約350mOsm/l以上、若しくは約400mOsm/l;又は約50mOsm/l~約400mOsm/l、約50mOsm/l~約300mOsm/l、約50mOsm/l~約200mOsm/l、約100mOsm/l~約400mOsm/l、約100mOsm/l~約300mOsm/l、約200mOsm/l~約400mOsm/l、約200mOsm/l~約300mOsm/l、約250mOsm/l~約400mOsm/l、若しくは約250mOsm/l~約300mOsm/lの容積モル浸透圧濃度を有してもよい。 In further contemplated aspects, the medium or electroporation buffer in which cells are transfected is a low conductivity and low osmolality medium, optionally containing one or more nutrients. In any embodiment, the electroporation medium has a conductivity of about 0.05 mS/m or more, about 1 mS/m or more, about 5 mS/m or more, about 10 mS/m or more, about 15 mS/m or more, about 25 mS/m or more, about 30 mS/m or more, about 50 mS/m or more, about 100 mS/m or more, about 150 mS/m or more, or about 200 mS/m or more. or greater; or from about 0.05 mS/m to about 200 mS/m; from about 1 mS/m to about 30 mS/m, from about 1 mS/m to about 20 mS/m, from about 1 mS/m to about 10 mS/m, from about 1 mS/m to about 5 mS/m, from about 3 mS/m to about 30 mS/m, from about 5 mS/m to about 20 mS/m, or from about 5 mS/m to about 15 mS/m. Additionally or alternatively, the electroporation medium has a pH of about 50 mOsm/l or more, about 100 mOsm/l or more, about 150 mOsm/l or more, about 200 mOsm/l or more, about 250 mOsm/l or more, about 300 mOsm/l or more, about 350 mOsm/l or more, or about 400 mOsm/l; or about 50 mOsm/l to about 400 mOsm/l, about 50 mOsm/l to about 300 mOsm/l. , about 50 mOsm/l to about 200 mOsm/l, about 100 mOsm/l to about 400 mOsm/l, about 100 mOsm/l to about 300 mOsm/l, about 200 mOsm/l to about 400 mOsm/l, about 200 mOsm/l to about 300 mOsm/l, about 250 mOsm/l to about 400 mOsm/l, or about 250 mOsm/l to about 300 mOsm/l.
任意の実施形態では、エレクトロポレーション培地は、1つ以上の塩、糖、及び緩衝剤を含んでもよい。好適な塩として、限定はされないが、金属ハロゲン化物塩、リン酸塩、金属硫酸塩、及びそれらの組み合わせが挙げられる。好適な金属ハロゲン化物塩の例として、限定はされないが、塩化カリウム(KCl)、塩化ナトリウム(NaCl)、塩化リチウム(LiCl)、塩化カルシウム(CaCl2)、塩化クロム(CrCl3)、臭化カリウム(KBr)、臭化ナトリウム(NaBr)、塩化マグネシウム(MgCl2)、臭化マグネシウム(MgBr2)、フッ化マグネシウム(MgF2)、ヨウ化マグネシウム(MgI2)、臭化リチウム(LiBr)、ヨウ化カリウム(KI)、ヨウ化ナトリウム(NaI)、及びヨウ化リチウム(LiI)が挙げられる。好適なリン酸塩の例として、限定はされないが、リン酸一ナトリウム(NaH2PO4)、リン酸二ナトリウム(Na2HPO4)、リン酸三ナトリウム(Na3PO4)、リン酸一マグネシウム(Mg(H2PO4)2)、リン酸二マグネシウム(MgHPO4)、リン酸三マグネシウム(Mg3(PO4)2、リン酸一カリウム(KH2PO4)、リン酸二カリウム(K2HPO4)、リン酸三カリウム(K3PO4)、リン酸一カルシウム(Ca(H2PO4)2)、リン酸二カルシウム(CaHPO4)、リン酸三カルシウム(Ca3(PO4)2)、及びリン酸クロム(CrPO4)が挙げられる。好適な金属硫酸塩の例として、限定はされないが、硫酸ナトリウム(Na2SO4)、硫酸マグネシウム(MgSO4)、硫酸カリウム(K2SO4)、硫酸カルシウム(CaSO4)、及び硫酸クロム(Cr2(SO4)3)が挙げられる。いくつかの実施形態では、1つ以上の塩は、塩化カリウム、塩化マグネシウム、リン酸二ナトリウム、リン酸一カリウム、硫酸マグネシウム、及びそれらの組み合わせであってもよい。 In any embodiment, the electroporation medium may include one or more salts, sugars, and buffering agents. Suitable salts include, but are not limited to, metal halide salts, phosphate salts, metal sulfate salts, and combinations thereof. Examples of suitable metal halide salts include, but are not limited to, potassium chloride (KCl), sodium chloride (NaCl), lithium chloride (LiCl), calcium chloride (CaCl 2 ), chromium chloride (CrCl 3 ), potassium bromide (KBr), sodium bromide (NaBr), magnesium chloride (MgCl 2 ), magnesium bromide (MgBr 2 ), magnesium fluoride (MgF 2 ), magnesium iodide (MgI 2 ), lithium bromide (LiBr), potassium iodide (KI), sodium iodide (NaI), and lithium iodide (LiI). Examples of suitable phosphate salts include, but are not limited to, monosodium phosphate ( NaH2PO4 ), disodium phosphate ( Na2HPO4 ), trisodium phosphate ( Na3PO4 ), monomagnesium phosphate (Mg ( H2PO4 ) 2 ), dimagnesium phosphate ( MgHPO4 ), trimagnesium phosphate ( Mg3 ( PO4 ) 2 , monopotassium phosphate ( KH2PO4 ), dipotassium phosphate ( K2HPO4 ), tripotassium phosphate ( K3PO4 ), monocalcium phosphate (Ca( H2PO4 ) 2 ) , dicalcium phosphate ( CaHPO4 ), tricalcium phosphate ( Ca3 ( PO4 )2 ) , and chromium phosphate ( CrPO4 ). Examples of suitable metal sulfate salts include, but are not limited to, sodium sulfate ( Na2SO4 ) ), magnesium sulfate (MgSO 4 ), potassium sulfate (K 2 SO 4 ), calcium sulfate (CaSO 4 ), and chromium sulfate (Cr 2 (SO 4 ) 3 ). In some embodiments, the one or more salts may be potassium chloride, magnesium chloride, disodium phosphate, monopotassium phosphate, magnesium sulfate, and combinations thereof.
好適な糖の例として、単糖、二糖、又はそれらの組み合わせが挙げられる。好適な単糖として、限定はされないが、グルコース、フルクトース、及びガラクトースが挙げられる。好適な二糖として、限定はされないが、グルコース、フルクトース、及びガラクトースのうちの2つから形成される二糖が挙げられる。例えば、好適な二糖は、スクロース、ラクトース、麦芽糖、トレハロース、又はそれらの組み合わせであり得る。好適な緩衝剤の例として、限定はされないが、ヘペス、トリス(ヒドロキシメチル)、及びPBS(リン酸緩衝食塩水)が挙げられる。 Examples of suitable sugars include monosaccharides, disaccharides, or combinations thereof. Suitable monosaccharides include, but are not limited to, glucose, fructose, and galactose. Suitable disaccharides include, but are not limited to, disaccharides formed from two of glucose, fructose, and galactose. For example, suitable disaccharides may be sucrose, lactose, maltose, trehalose, or combinations thereof. Examples of suitable buffers include, but are not limited to, HEPES, Tris(hydroxymethyl), and PBS (phosphate buffered saline).
任意の実施形態では、1つ以上の塩の各々は、約0.1mM~約200mM、約0.1mM~約150mM、約0.1mM~約100mM、約0.1mM~約80mM、約0.1mM~約60mM、約0.1mM~約40mM、約0.1mM~約20mM、約0.1mM~約10mM、約1mM~約20mM、又は約1mM~約10mMの濃度でエレクトロポレーション培地中に存在してもよい。例えば、KH2PO4、Na2HPO4、及びMgSO4などの塩は、約0.1mM~約20mMの濃度でエレクトロポレーション培地中に存在し得る。糖は、約20mM~約300mM、約20mM~約200mM、又は約40mM~約200mMの濃度でエレクトロポレーション培地中に存在してもよい。緩衝剤は、約1mM~約100mM、約10mM~約50mM、又は約15mM~約30mMの濃度でエレクトロポレーション培地中に存在してもよい。 In any embodiment, each of the one or more salts may be present in the electroporation medium at a concentration of about 0.1 mM to about 200 mM, about 0.1 mM to about 150 mM, about 0.1 mM to about 100 mM, about 0.1 mM to about 80 mM, about 0.1 mM to about 60 mM, about 0.1 mM to about 40 mM, about 0.1 mM to about 20 mM, about 0.1 mM to about 10 mM, about 1 mM to about 20 mM, or about 1 mM to about 10 mM. For example, salts such as KH2PO4 , Na2HPO4 , and MgSO4 may be present in the electroporation medium at a concentration of about 0.1 mM to about 20 mM. The sugar may be present in the electroporation medium at a concentration of about 20 mM to about 300 mM, about 20 mM to about 200 mM, or about 40 mM to about 200 mM. The buffering agent may be present in the electroporation medium at a concentration of about 1 mM to about 100 mM, about 10 mM to about 50 mM, or about 15 mM to about 30 mM.
他の好適な培地として、限定はされないが、表1に示される通り、Cw100(0.11S/m、0.12osm/l)又はCw240が挙げられる。市販のエレクトロポレーション培地が利用されてもよいが、準最適であることが示された。かかる市販の培地は、ヘペスの存在下又は不在下で、RPMI(1.37S/m、0.28osm/l)、BTX(8mS/m、0.27osm/l)、DMEM(ダルベッコ改変イーグル培地)、希釈されたPBS、又はPBSを含む。培地は、一般に導電性培地であり、さらに滅菌されてもよい。 Other suitable media include, but are not limited to, Cw100 (0.11 S/m, 0.12 osm/l) or Cw240, as shown in Table 1. Commercially available electroporation media may be used but have been shown to be suboptimal. Such commercially available media include RPMI (1.37 S/m, 0.28 osm/l), BTX (8 mS/m, 0.27 osm/l), DMEM (Dulbecco's Modified Eagle's Medium), diluted PBS, or PBS, with or without Hepes. The media is generally conductive and may be sterilized.
任意の実施形態では、エレクトロポレーションにおける細胞は、約1×106個の細胞/ml以上、約10×106個の細胞/ml以上、約50×106個の細胞/ml以上、約100×106個の細胞/ml以上、約150×106個の細胞/ml以上、約200×106個の細胞/ml以上、約250×106個の細胞/ml以上、約300×106個の細胞/ml以上、約400×106個の細胞/ml以上、若しくは約500×106個の細胞/ml;又は約1×106個の細胞/ml~約300×106個の細胞/ml、約1×106個の細胞/ml~約250×106個の細胞/ml、約1×106個の細胞/ml~約200×106個の細胞/ml、約1×106個の細胞/ml~約150×106個の細胞/ml、約1×106個の細胞/ml~約100×106個の細胞/ml、約1×106個の細胞/ml~約50×106個の細胞/ml、約1×106個の細胞/ml~約300×106個の細胞/ml、約1×106個の細胞/ml~約250×106個の細胞/ml、約10×106個の細胞/ml~約200×106個の細胞/ml、約10×106個の細胞/ml~約150×106個の細胞/ml、約10×106個の細胞/ml~約100×106個の細胞/ml、約10×106個の細胞/ml~約50×106個の細胞/ml、約100×106個の細胞/ml~約300×106個の細胞/ml、約100×106個の細胞/ml~約250×106個の細胞/ml、約100×106個の細胞/ml~約200×106個の細胞/ml、若しくは約100×106個の細胞/ml~約150×106個の細胞/mlの細胞密度でエレクトロポレーション培地中に存在してもよい。 In any embodiment, the cells for electroporation are at a concentration of about 1× 10 cells/ml or more, about 10× 10 cells/ml or more, about 50× 10 cells/ml or more, about 100× 10 cells/ml or more, about 150× 10 cells/ml or more, about 200× 10 cells/ml or more, about 250× 10 cells/ml or more, about 300× 10 cells/ml or more, about 400× 10 cells/ml or more, or about 500× 10 cells/ml; or from about 1× 10 cells/ml to about 300× 10 cells/ml, from about 1× 10 cells/ml to about 250× 10 cells/ml, from about 1× 10 cells/ml to about 200× 10 cells/ml, about 1×10 6 cells/ml to about 150× 10 cells/ml, about 1×10 cells/ml to about 100× 10 cells/ml, about 1× 10 cells/ml to about 50× 10 cells/ml, about 1× 10 cells/ml to about 300× 10 cells/ml, about 1× 10 cells/ml to about 250× 10 cells/ml, about 10× 10 cells/ml to about 200× 10 cells/ml, about 10× 10 cells/ml to about 150× 10 cells/ml, about 10× 10 cells/ml to about 100× 10 cells/ml, about 10× 10 cells/ml to about 50× 10 cells/ml, about 100× 10 The cells may be present in the electroporation medium at a cell density of from about 6 cells/ml to about 300× 10 cells/ml, from about 100× 10 cells/ml to about 250× 10 cells/ml, from about 100× 10 cells/ml to about 200× 10 cells/ml, or from about 100× 10 cells/ml to about 150×10 cells/ml.
好適な容量に関しては、容量は約1μF~約150μFの範囲であってもよいと考えられる。いくつかの実施形態では、容量は、約1~100μF、約5~約75μF、約5~約50μF、約10~約40μF、又は約10~約30μF、又は約10~約25μFの範囲であってもよい。他の実施形態では、容量は約10μFである。 With regard to suitable capacitances, it is believed that the capacitance may range from about 1 μF to about 150 μF. In some embodiments, the capacitance may range from about 1 to about 100 μF, about 5 to about 75 μF, about 5 to about 50 μF, about 10 to about 40 μF, or about 10 to about 30 μF, or about 10 to about 25 μF. In other embodiments, the capacitance is about 10 μF.
いくつかの実施形態では、複数の電気パルスは、対応する短い時定数とともに利用されてもよい。いくつかの態様では、30ミリ秒未満、20ミリ秒未満、10ミリ秒未満、又は5ミリ秒未満の時定数が使用されてもよい。他の態様では、時定数は、約0.5~30ミリ秒、約1~20ミリ秒、及び約5~15ミリ秒;又は約10ミリ秒の範囲であってもよい。 In some embodiments, multiple electrical pulses may be utilized with correspondingly short time constants. In some aspects, time constants of less than 30 milliseconds, less than 20 milliseconds, less than 10 milliseconds, or less than 5 milliseconds may be used. In other aspects, the time constant may range from about 0.5 to 30 milliseconds, about 1 to 20 milliseconds, and about 5 to 15 milliseconds; or about 10 milliseconds.
いくつかの態様では、エレクトロポレーション用の電界強度は、約0.3~3kV/cmの間である。より低い電界強度(例えば、約0.5~1kV/cm)がEC-7細胞に適することが見出された一方で、より高い電界強度(例えば、約1~3kV/cm)がhank細胞に適することが見出された。一般に、約0.1~約5kV/cmの範囲のエレクトロポレーション用の電界強度が本明細書で検討される。電圧は、好適な電界強度を生成するように選択されてもよい。 In some embodiments, the electric field strength for electroporation is between about 0.3 and 3 kV/cm. Lower electric field strengths (e.g., about 0.5 to 1 kV/cm) have been found to be suitable for EC-7 cells, while higher electric field strengths (e.g., about 1 to 3 kV/cm) have been found to be suitable for hank cells. Generally, electric field strengths for electroporation ranging from about 0.1 to about 5 kV/cm are contemplated herein. The voltage may be selected to generate a suitable electric field strength.
一般に、インピーダンス(Rp)は、約200Ω~無限大、又はそれ以外の場合、約200Ω~最大約1kの範囲であってもよい。 In general, the impedance (Rp) may range from about 200 Ω to infinity, or otherwise from about 200 Ω up to about 1 kΩ.
エレクトロポレーション反応に添加されるカーゴ、例えば細胞内に輸送されるべき材料の濃度は、約50μg/ml以上、約100μg/ml以上、約200μg/ml以上、約300μg/ml以上、約400μg/ml以上、又は約500μg/ml以上;約50μg/ml~約500μg/ml、約50μg/ml~約400μg/ml、約50μg/ml~約300μg/ml、約50μg/ml~約200μg/ml、約50μg/ml~約100μg/ml、約100μg/ml~約500μg/ml、約100μg/ml~約400μg/ml、約100μg/ml~約300μg/ml、又は約100μg/ml~約200μg/mlの濃度を有する。いくつかの態様では、GFP-mRNA又はGFP-DNAが、約50μg/ml、60μg/ml、100μg/ml、200μg/ml、100~300μg/ml、50~100μg/mlの濃度で、エレクトロポレーション培地に添加された一方で、他の実施形態では、デキストラン500kが、約50μg/mlの濃度で、エレクトロポレーション反応に添加された。 The concentration of cargo added to the electroporation reaction, e.g., material to be delivered into cells, is about 50 μg/ml or more, about 100 μg/ml or more, about 200 μg/ml or more, about 300 μg/ml or more, about 400 μg/ml or more, or about 500 μg/ml or more; about 50 μg/ml to about 500 μg/ml, about 50 μg/ml to about 400 μg/ml, about 50 μg/ml to about 300 μg/ml, about 50 μg/ml to about 200 μg/ml, about 50 μg/ml to about 100 μg/ml, about 100 μg/ml to about 500 μg/ml, about 100 μg/ml to about 400 μg/ml, about 100 μg/ml to about 300 μg/ml, or about 100 μg/ml to about 200 μg/ml. In some aspects, GFP-mRNA or GFP-DNA was added to the electroporation medium at a concentration of approximately 50 μg/ml, 60 μg/ml, 100 μg/ml, 200 μg/ml, 100-300 μg/ml, or 50-100 μg/ml, while in other embodiments, dextran 500k was added to the electroporation reaction at a concentration of approximately 50 μg/ml.
いくつかの態様では、単一のチャンバー装置内で、4×107個の細胞/ml(13.2mL(5.28×108個の細胞))で最大7.33uL/sが30分以内に達成可能である。30分以内に20×109個の細胞を達成するため、細胞密度を4倍増加させてもよく、且つ/又は複数のエレクトロポレーションチャンバーを用いて並行処理が実施されてもよい。 In some embodiments, a maximum of 7.33 uL/s at 4 x 10 cells/ml (13.2 mL ( 5.28 x 10 cells)) is achievable within 30 minutes in a single chamber apparatus. To achieve 20 x 10 cells within 30 minutes, the cell density may be increased four-fold and/or parallel processing may be performed using multiple electroporation chambers.
いくつかの態様とさらには下に提供される例では、エレクトロポレーションのエレクトロニクス及びパラメータは、NK細胞(例えば、haNK細胞、初代NK細胞、活性化(aNK)細胞)、EC7細胞、樹状細胞、CHO-S細胞、T細胞(例えば、初代CD4/CD8T細胞)、及び幹細胞(例えば、AD-MSC細胞)のエレクトロポレーション専用に設計され得る。 In some embodiments, and further examples provided below, electroporation electronics and parameters may be designed specifically for electroporation of NK cells (e.g., haNK cells, primary NK cells, activated (aNK) cells), EC7 cells, dendritic cells, CHO-S cells, T cells (e.g., primary CD4/CD8 T cells), and stem cells (e.g., AD-MSC cells).
いくつかの実施形態では、該細胞は、NK細胞(例えば、haNK細胞、初代NK細胞、活性化(aNK)細胞)、EC7細胞、樹状細胞、CHO-S細胞、T細胞(例えば、初代CD4/CD8T細胞)、及び幹細胞(AD-MSC細胞)の1つ以上であり、エレクトロポレーションパラメータの1つ以上は、次の通りである:(i)電界強度は、約20V~約50Vの電圧で適用され;(ii)パルス幅は約10μs~約750μsであり;且つ(iii)エレクトロポレーション培地中の細胞の細胞密度は、約5×106個の細胞/ml~約300×106個の細胞/mlである。 In some embodiments, the cells are one or more of NK cells (e.g., haNK cells, primary NK cells, activated (aNK) cells), EC7 cells, dendritic cells, CHO-S cells, T cells (e.g., primary CD4/CD8 T cells), and stem cells (e.g., AD-MSC cells), and one or more of the electroporation parameters are as follows: (i) the electric field strength is applied at a voltage of about 20 V to about 50 V; (ii) the pulse width is about 10 μs to about 750 μs; and (iii) the cell density of the cells in the electroporation medium is about 5× 10 cells/ml to about 300× 10 cells/ml.
いくつかの実施形態では、細胞はEC-7細胞であり、カーゴはDNAであり、且つエレクトロポレーションパラメータの1つ以上は次の通りである:(i)電界強度は、約20V~約50V、約20V~40V、又は約20V~約30Vの電圧で適用され;(ii)パルス幅は、約10μs~約100μs、10μs~約75μs、又は10μs~約50μsであり;(iii)パルス数は、2~6又は2~3であり、且つ(iv)エレクトロポレーション培地中の細胞の細胞密度は、約10×106個の細胞/ml~約250×106個の細胞/ml、約10×106個の細胞/ml~約100×106個の細胞/ml、又は約50×106個の細胞/ml~約100×106個の細胞/mlである。追加的に又は代替的に、DNAカーゴがエレクトロポレートされたEC-7細胞は、少なくとも約70%、少なくとも約80%、又は少なくとも約95%のトランスフェクション効率とともに、少なくとも約60%、少なくとも約70%、又は少なくとも約80%の生存率を有し得る。 In some embodiments, the cells are EC-7 cells, the cargo is DNA, and one or more of the electroporation parameters are as follows: (i) the electric field strength is applied at a voltage of about 20 V to about 50 V, about 20 V to 40 V, or about 20 V to about 30 V; (ii) the pulse width is about 10 μs to about 100 μs, 10 μs to about 75 μs, or 10 μs to about 50 μs; (iii) the number of pulses is 2 to 6 or 2 to 3; and (iv) the cell density of the cells in the electroporation medium is about 10× 10 cells/ml to about 250× 10 cells/ml, about 10× 10 cells/ml to about 100× 10 cells/ml, or about 50× 10 cells/ml to about 100× 10 cells/ml. Additionally or alternatively, the EC-7 cells electroporated with the DNA cargo may have a transfection efficiency of at least about 70%, at least about 80%, or at least about 95%, along with a viability of at least about 60%, at least about 70%, or at least about 80%.
いくつかの実施形態では、細胞はCHO-S細胞であり、カーゴはDNAであり、且つエレクトロポレーションパラメータの1つ以上は次の通りである:(i)電界強度は、約20V~約50V、又は約30V~50V、約40V~約50Vの電圧で適用され;(ii)パルス幅は、約100μs~約750μs、約250μs~約750μs、又は約500μs~約750μsであり;(iii)パルス数は、2~6又は2~3であり、且つ(iv)エレクトロポレーション培地中の細胞の細胞密度は、約50×106個の細胞/ml~約250×106個の細胞/ml、約50×106個の細胞/ml~約125×106個の細胞/ml、又は約50×106個の細胞/ml~約100×106個の細胞/mlである。追加的に又は代替的に、DNAカーゴがエレクトロポレートされたCHO-S細胞は、少なくとも約70%、少なくとも約80%、又は少なくとも約85%のトランスフェクション効率とともに、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、又は少なくとも約90%の生存率を有し得る。 In some embodiments, the cells are CHO-S cells, the cargo is DNA, and one or more of the electroporation parameters are as follows: (i) the electric field strength is applied at a voltage of about 20 V to about 50 V, or about 30 V to 50 V, or about 40 V to about 50 V; (ii) the pulse width is about 100 μs to about 750 μs, about 250 μs to about 750 μs, or about 500 μs to about 750 μs; (iii) the number of pulses is 2 to 6 or 2 to 3; and (iv) the cell density of the cells in the electroporation medium is about 50× 10 cells/ml to about 250× 10 cells/ml, about 50× 10 cells/ml to about 125× 10 cells/ml, or about 50× 10 cells/ml to about 100× 10 cells/ml. Additionally or alternatively, the CHO-S cells electroporated with the DNA cargo may have a transfection efficiency of at least about 70%, at least about 80%, or at least about 85%, along with a viability of at least about 60%, at least about 70%, at least about 80%, or at least about 90%.
いくつかの実施形態では、細胞はT細胞(例えば、初代CD4/CD8T細胞)であり、カーゴはDNA又はRNAであり、且つエレクトロポレーションパラメータの1つ以上は次の通りである:(i)電界強度は、約20V~約50V、又は約30V~50V、約40V~約50Vの電圧で適用され;(ii)パルス幅は、約100μs~約750μs、約100μs~約500μs、又は約200μs~約400μsであり;(iii)パルス数は、2~10又は2~6であり、且つ(iv)エレクトロポレーション培地中の細胞の細胞密度は、約10×106個の細胞/ml~約300×106個の細胞/ml、約20×106個の細胞/ml~約250×106個の細胞/ml、又は約10×106個の細胞/ml~約200×106個の細胞/mlである。追加的に又は代替的に、DNA又はRNAカーゴがエレクトロポレートされたT細胞(例えば、初代CD4/CD8T細胞)は、少なくとも約20%、少なくとも約80%、少なくとも約90%、又は少なくとも約99%のトランスフェクション効率とともに、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、又は少なくとも約90%の生存率を有し得る。 In some embodiments, the cells are T cells (e.g., primary CD4/CD8 T cells), the cargo is DNA or RNA, and one or more of the electroporation parameters are as follows: (i) the electric field strength is applied at a voltage of about 20 V to about 50 V, or about 30 V to 50 V, or about 40 V to about 50 V; (ii) the pulse width is about 100 μs to about 750 μs, about 100 μs to about 500 μs, or about 200 μs to about 400 μs; (iii) the number of pulses is 2 to 10 or 2 to 6 ; and (iv) the cell density of the cells in the electroporation medium is about 10×10 cells/ml to about 300× 10 cells/ml, about 20× 10 cells/ml to about 250× 10 cells/ml, or about 10× 10 cells/ml to about 200×10 Additionally or alternatively, T cells (e.g., primary CD4/CD8 T cells) electroporated with DNA or RNA cargo may have a transfection efficiency of at least about 20%, at least about 80%, at least about 90%, or at least about 99%, along with a viability of at least about 60%, at least about 70%, at least about 80%, or at least about 90%.
いくつかの実施形態では、細胞はNK細胞(例えば、haNK細胞、初代NK細胞、活性化(aNK)細胞)であり、カーゴはDNA又はRNAであり、且つエレクトロポレーションパラメータの1つ以上は次の通りである:(i)電界強度は、約20V~約50V、又は約30V~50V、約40V~約50Vの電圧で適用され;(ii)パルス幅は、約100μs~約750μs、約200μs~約750μs、又は約200μs~約600μsであり;(iii)パルス数は、2~6又は2~3であり、且つ(iv)エレクトロポレーション培地中の細胞の細胞密度は、約10×106個の細胞/ml~約300×106個の細胞/ml、約10×106個の細胞/ml~約250×106個の細胞/ml、又は約10×106個の細胞/ml~約100×106個の細胞/mlである。追加的に又は代替的に、DNA又はRNAカーゴがエレクトロポレートされたNK細胞(例えば、haNK細胞、初代NK細胞、活性化(aNK)細胞)は、少なくとも約10%、少なくとも約50%、少なくとも約80%、少なくとも約90%、又は少なくとも約95%のトランスフェクション効率とともに、少なくとも約60%、少なくとも約70%、少なくとも約80%、又は少なくとも約90%の生存率を有し得る。 In some embodiments, the cells are NK cells (e.g., haNK cells, primary NK cells, activated (aNK) cells), the cargo is DNA or RNA, and one or more of the electroporation parameters are as follows: (i) the electric field strength is applied at a voltage of about 20 V to about 50 V, or about 30 V to 50 V, or about 40 V to about 50 V; (ii) the pulse width is about 100 μs to about 750 μs, about 200 μs to about 750 μs, or about 200 μs to about 600 μs; (iii) the number of pulses is 2 to 6 or 2 to 3; and (iv) the cell density of the cells in the electroporation medium is about 10× 10 cells/ml to about 300× 10 cells/ml, about 10× 10 cells/ml to about 250× 10 cells/ml, or about 10×10 6 cells/ml to about 100 x 10 cells/ml. Additionally or alternatively, NK cells (e.g., haNK cells, primary NK cells, activated (aNK) cells) electroporated with DNA or RNA cargo may have a transfection efficiency of at least about 10%, at least about 50%, at least about 80%, at least about 90%, or at least about 95%, along with a viability of at least about 60%, at least about 70%, at least about 80%, or at least about 90%.
いくつかの実施形態では、細胞は樹状細胞であり、カーゴはDNA又はRNAであり、且つエレクトロポレーションパラメータの1つ以上は次の通りである:(i)電界強度は、約20V~約50V、又は約30V~50V、約30V~約40Vの電圧で適用され;(ii)パルス幅は、約100μs~約750μs、約100μs~約500μs、又は約200μs~約400μsであり;(iii)パルス数は、2~10又は6~8あり、且つ(iv)エレクトロポレーション培地中の細胞の細胞密度は、約10×106個の細胞/ml~約100×106個の細胞/ml、約10×106個の細胞/ml~約50×106個の細胞/ml、又は約10×106個の細胞/ml~約25×106個の細胞/mlである。追加的に又は代替的に、DNA又はRNAカーゴがエレクトロポレートされた樹状細胞は、少なくとも約70%、少なくとも約80%、又は少なくとも約90%のトランスフェクション効率とともに、少なくとも約70%、少なくとも約80%、又は少なくとも約90%の生存率を有し得る。 In some embodiments, the cells are dendritic cells, the cargo is DNA or RNA, and one or more of the electroporation parameters are as follows: (i) the electric field strength is applied at a voltage of about 20 V to about 50 V, or about 30 V to 50 V, or about 30 V to about 40 V; (ii) the pulse width is about 100 μs to about 750 μs, about 100 μs to about 500 μs, or about 200 μs to about 400 μs; (iii) the number of pulses is 2 to 10 or 6 to 8 ; and (iv) the cell density of the cells in the electroporation medium is about 10× 10 cells/ml to about 100× 10 cells/ml, about 10× 10 cells/ml to about 50×10 cells/ml, or about 10× 10 cells/ml to about 25× 10 cells/ml. Additionally or alternatively, dendritic cells electroporated with DNA or RNA cargo may have a transfection efficiency of at least about 70%, at least about 80%, or at least about 90%, along with a viability of at least about 70%, at least about 80%, or at least about 90%.
いくつかの実施形態では、細胞は幹細胞(例えば、AD-MSC細胞)であり、カーゴはDNAであり、且つエレクトロポレーションパラメータの1つ以上は次の通りである:(i)電界強度は、約20V~約50V、又は約30V~50V、約30V~約40Vの電圧で適用され;(ii)パルス幅は、約50μs~約250μs、約50μs~約100μs、又は約100μs~約200μsであり;(iii)パルス数は、2~10又は6~8であり、且つ(iv)エレクトロポレーション培地中の細胞の細胞密度は、約10×106個の細胞/ml~約100×106個の細胞/ml、約10×106個の細胞/ml~約50×106個の細胞/ml、又は約10×106個の細胞/ml~約25×106個の細胞/mlである。追加的に又は代替的に、DNAカーゴがエレクトロポレートされた幹細胞(例えば、AD-MSC細胞)は、少なくとも約70%、少なくとも約80%、又は少なくとも約90%のトランスフェクション効率とともに、少なくとも約70%、少なくとも約80%、又は少なくとも約90%の生存率を有し得る。 In some embodiments, the cells are stem cells (e.g., AD-MSC cells), the cargo is DNA, and one or more of the electroporation parameters are as follows: (i) the electric field strength is applied at a voltage of about 20 V to about 50 V, or about 30 V to 50 V, or about 30 V to about 40 V; (ii) the pulse width is about 50 μs to about 250 μs, about 50 μs to about 100 μs, or about 100 μs to about 200 μs; (iii) the number of pulses is 2 to 10 or 6 to 8; and (iv) the cell density of the cells in the electroporation medium is about 10× 10 cells/ml to about 100× 10 cells/ml, about 10×10 cells/ml to about 50× 10 cells/ml, or about 10× 10 cells/ml to about 25× 10 cells/ml. Additionally or alternatively, stem cells (e.g., AD-MSC cells) electroporated with a DNA cargo may have a transfection efficiency of at least about 70%, at least about 80%, or at least about 90%, along with a viability of at least about 70%, at least about 80%, or at least about 90%.
本明細書に記載の方法は、一過性トランスフェクション又は安定なトランスフェクションに適用することができる。用語「一過性トランスフェクション」は、限られた期間だけ細胞内に存在し、ゲノムに組み込まれない核酸の導入又はトランスフェクションを指す。用語「安定なトランスフェクション」は、トランスフェクトされた核酸の核ゲノムへの組込み、又は細胞内の染色体外の複製エピソームとしてのトランスフェクトされたプラスミドの維持を通じて目的の遺伝子の永久発現をもたらすトランスフェクションを指す。 The methods described herein can be applied to transient or stable transfection. The term "transient transfection" refers to the introduction or transfection of a nucleic acid that is present in a cell for a limited period of time and does not integrate into the genome. The term "stable transfection" refers to transfection that results in permanent expression of a gene of interest through integration of the transfected nucleic acid into the nuclear genome or maintenance of the transfected plasmid as an extrachromosomal replicating episome within the cell.
任意の実施形態では、本明細書に記載の方法は、例えば本明細書に記載のようなマイクロ流体デバイスを使用する、第1細胞選別ステップ及び/又は第2細胞選別ステップをさらに含んでもよい。第1細胞選別ステップは、圧力を加えて、細胞を含む第1溶液の、本明細書に記載のような複数のポスト列を含む本明細書に記載のようなマイクロ流体チャンバーの通流を引き起こし、細胞をポスト列によりチャンバーの側面に偏向させ、本明細書に記載のような第1出力機構を出る溶液から細胞を枯渇させ、本明細書に記載のような第2出力機構を出る溶液中で細胞を濃縮することにより、細胞をエレクトロポレーションチャンバーへの導入前に選別することができる。第2出力機構を出る細胞は、カーゴとともにエレクトロポレーションチャンバー内に導入され得る。第2細胞選別ステップは、圧力を加えて、エレクトロポレートされた細胞を含む第4溶液の、本明細書に記載のような複数のポスト列を含む本明細書に記載のようなマイクロ流体チャンバーの通流を引き起こし、エレクトロポレートされた細胞をポスト列によりチャンバーの側面に偏向させ、本明細書に記載のような第3出力機構を出る溶液からエレクトロポレートされた細胞を枯渇させ、本明細書に記載のような第4出力機構を出る溶液中でエレクトロポレートされた細胞を濃縮することにより、エレクトロポレートされた細胞を、エレクトロポレーションチャンバーを出てから選別することができる。 In any embodiment, the methods described herein may further include a first cell sorting step and/or a second cell sorting step, e.g., using a microfluidic device as described herein. The first cell sorting step may involve applying pressure to cause a first solution containing cells to flow through a microfluidic chamber as described herein that includes a plurality of post arrays as described herein, deflecting the cells to the side of the chamber by the post arrays, depleting the cells from the solution exiting a first output mechanism as described herein, and concentrating the cells in the solution exiting a second output mechanism as described herein, thereby sorting the cells prior to introduction into the electroporation chamber. The cells exiting the second output mechanism may be introduced into the electroporation chamber along with the cargo. The second cell sorting step can sort the electroporated cells after they exit the electroporation chamber by applying pressure to cause a fourth solution containing the electroporated cells to flow through a microfluidic chamber as described herein that includes a plurality of post arrays as described herein, deflecting the electroporated cells to the side of the chamber by the post arrays, depleting the electroporated cells from the solution exiting a third output mechanism as described herein, and concentrating the electroporated cells in the solution exiting a fourth output mechanism as described herein.
本明細書に提供される技術及び方法は、ワークフローの一部として種々のデバイス又はプラットフォームに組み込まれてもよい。例えば、本明細書に記載のようなエレクトロポレーション装置は、例えばカートリッジ形態で自動化デバイスに組み込むことができ、ここでエレクトロポレーションは、細胞に対する1つ以上の他の自動化プロセスと併せて実施され得る。例えば、自動化エレクトロポレーションは、米国特許出願公開第2017/0037357号明細書(その全体が参照により援用される)に記載のような自動化された細胞培養及び収集と併せて実施され得る。 The techniques and methods provided herein may be incorporated into various devices or platforms as part of a workflow. For example, an electroporation apparatus as described herein, e.g., in cartridge form, can be incorporated into an automated device, where electroporation can be performed in conjunction with one or more other automated processes on cells. For example, automated electroporation can be performed in conjunction with automated cell culture and harvesting, such as described in U.S. Patent Application Publication No. 2017/0037357, which is incorporated by reference in its entirety.
他の態様では、インビボトランスフェクションの方法が提供され、ここで上記方法は実施され、例えば等張性緩衝液と混合されたトランスフェクト細胞は、疾患又は障害を治療するため、患者に投与されてもよい。疾患の例として、限定はされないが、ミトコンドリア障害、心機能不全、心不全、自閉症、糖尿病、及び聴覚消失が挙げられる。本明細書では、本明細書に記載のエレクトロポレーション装置が、薬剤又は製剤の送達に寄与する、例えば糖尿病を治療するためのインスリン又は薬剤の送達に寄与するため、対象の標的組織への適用に適応されてもよいことも考えられる。例えば、エレクトロポレーション用の電極が皮膚表面に適用されてもよい、又は針状電極対が皮下に施されてもよい。本明細書では、エレクトロポレーション装置及び方法が、アデノウイルス産生、タンパク質の生成、細胞免疫療法、又は再生医療に対して使用されてもよいことも考えられる。 In another aspect, a method of in vivo transfection is provided, wherein the method is performed and the transfected cells, e.g., mixed with an isotonic buffer, may be administered to a patient to treat a disease or disorder. Examples of diseases include, but are not limited to, mitochondrial disorders, cardiac dysfunction, heart failure, autism, diabetes, and hearing loss. It is also contemplated herein that the electroporation devices described herein may be adapted for application to a target tissue of a subject to contribute to the delivery of a drug or pharmaceutical agent, e.g., insulin or a drug to treat diabetes. For example, an electrode for electroporation may be applied to the skin surface, or a needle-shaped electrode pair may be administered subcutaneously. It is also contemplated herein that the electroporation devices and methods may be used for adenovirus production, protein generation, cellular immunotherapy, or regenerative medicine.
本明細書では、キットも提供される。例えば、キットは、本明細書に記載のようなエレクトロポレーション装置、トランスフェクション対象の細胞及びカーゴを含有するための第1容器、エレクトロポレートされた細胞を含有するための第2容器、第1容器及び第2容器をエレクトロポレーション装置に流体接続するためのチューブ、並びに任意選択的には好適な試薬を含んでもよい。いくつかの実施形態では、キットは、例えば第1容器及びチューブの第1部分を含有する第1モジュール(例えば、第1モジュール805)を含む第1パッケージを含んでもよい。キットは、例えばエレクトロポレーション装置及びチューブの第2部分を含有する第2モジュール(例えば、第2モジュール815)を含む隔てられた第2パッケージをさらに含んでもよい。キットはまた、例えば第2容器及びチューブの第3部分を含有する第3モジュール(例えば、第3モジュール825)を含む隔てられた第3パッケージを含んでもよい。任意選択的には、試薬は、隔てられた第4パッケージ内に存在してもよい。第1,第2、第3、及び第4パッケージは、滅菌されてもよい。好適な試薬として、限定はされないが、本明細書に記載のようなトランスフェクション対象の細胞、本明細書に記載のようなエレクトロポレーション培地、及びそれらの組み合わせが挙げられる。追加的に又は代替的に、キットは、エレクトロポレーションチップ、接続チューブ、装置、エレクトロポレーション用ツール、エレクトロポレーション緩衝液、添加物、試薬、及びそれらの組み合わせをさらに含んでもよい。 Kits are also provided herein. For example, the kits may include an electroporation apparatus as described herein, a first container for containing cells and cargo to be transfected, a second container for containing electroporated cells, tubing for fluidly connecting the first and second containers to the electroporation apparatus, and, optionally, suitable reagents. In some embodiments, the kits may include a first package containing, for example, a first module (e.g., first module 805) containing the first container and a first portion of the tubing. The kits may further include a separate second package containing, for example, a second module (e.g., second module 815) containing the electroporation apparatus and a second portion of the tubing. The kits may also include a separate third package containing, for example, a third module (e.g., third module 825) containing the second container and a third portion of the tubing. Optionally, reagents may be present in a separate fourth package. The first, second, third, and fourth packages may be sterilized. Suitable reagents include, but are not limited to, cells to be transfected as described herein, electroporation media as described herein, and combinations thereof. Additionally or alternatively, the kit may further include electroporation tips, connecting tubing, devices, electroporation tools, electroporation buffers, additives, reagents, and combinations thereof.
実施例1.haNK細胞のトランスフェクション
いくつかの態様では、haNK細胞のエレクトロポレーションのための条件を下の表2に示す。
Example 1. Transfection of haNK cells In some embodiments, conditions for electroporation of haNK cells are shown in Table 2 below.
図7A~図Eは、エレクトロポレーション反応の実験結果を示す。図7Aは、種々の実験条件とともに様々な効率及び生存率を示す。特に、IOCOエレクトロポレーション装置を用いての1.5kv/cm、Rp1k、10uFの条件により、haNK細胞へのGFP-mRNAのエレクトロポレーションについて、70%超の生存率で80%超の効率が得られた。「reg」という名称は、元のマイクロメッシュを指す一方で、「オフセット」は、オフセットマイクロメッシュ(offset micromesh)を指す。図7Bは、hank細胞にエレクトロポレートされているGFP-mRNAの顕微鏡画像を示す。図7C及び7Dは、細胞選別の結果を示し、ここで図7Cは生細胞を示し、図7Dはエレクトロポレートされた細胞を示す。図7Eは、細胞選別結果に対応するヒストグラムを示し、対照細胞及びGFPがエレクトロポレートされた細胞を示す。 Figures 7A-E show experimental results of electroporation reactions. Figure 7A shows various experimental conditions along with various efficiencies and viability rates. In particular, using an IOCO electroporation device, conditions of 1.5 kv/cm, Rp1k, and 10 uF resulted in greater than 80% efficiency with greater than 70% viability for electroporation of GFP-mRNA into haNK cells. The designation "reg" refers to the original micromesh, while "offset" refers to the offset micromesh. Figure 7B shows a microscopic image of GFP-mRNA being electroporated into haNK cells. Figures 7C and 7D show cell sorting results, where Figure 7C shows live cells and Figure 7D shows electroporated cells. Figure 7E shows a histogram corresponding to the cell sorting results, showing control cells and cells electroporated with GFP.
図8A~図8Dは、様々なエレクトロポレーション実験条件下での別の実験結果のセットを示し、GFP-mRNAのhaNKへのエレクトロポレーションで、50%超の効率及び70%超の生存率が得られた。図8B及び図8Cは、細胞選別の結果を示し、ここで図8Bは生細胞を示し、図8Cはエレクトロポレートされた細胞を示す。図8Dは、細胞選別結果に対応するヒストグラムを示し、対照細胞及びGFPがエレクトロポレートされた細胞を示す。GFPの発現は、生細胞内で計数した(ヨウ化プロピジウム陰性、PI-)。CTLは対照実験を表す。 Figures 8A-8D show another set of experimental results under various electroporation conditions, showing that electroporation of GFP-mRNA into haNK resulted in an efficiency of over 50% and a viability of over 70%. Figures 8B and 8C show the results of cell sorting, where Figure 8B shows live cells and Figure 8C shows electroporated cells. Figure 8D shows a histogram corresponding to the cell sorting results, showing control cells and cells electroporated with GFP. GFP expression was counted in live cells (propidium iodide negative, PI-). CTL represents the control experiment.
実施例2.EC7細胞のトランスフェクション
EC7細胞のエレクトロポレーションにおける典型的条件を下の表3に示す。
Example 2. Transfection of EC7 cells Typical conditions for electroporation of EC7 cells are shown in Table 3 below.
図9A~図9Dは、EC-7細胞におけるエレクトロポレーション反応の実験結果である。図9Aは、種々の実験条件とともに様々な効率及び生存率を示す。特に、IOCOエレクトロポレーション装置を用いての1kv/cm、Rp200、10uFの条件により、EC-7細胞へのGFP-DNAのエレクトロポレーションで、約90%超の効率及び約50%超の生存率が得られた。図9B~図9Cは、細胞選別の結果を示し、ここで図9Bは生細胞を示し、図9Cはエレクトロポレートされた細胞を示す。図9Dは、細胞選別結果に対応するヒストグラムであり、対照細胞及びGFPがエレクトロポレートされた細胞を示す。 Figures 9A-9D show experimental results of electroporation reactions in EC-7 cells. Figure 9A shows various experimental conditions along with various efficiencies and viability rates. In particular, electroporation of GFP-DNA into EC-7 cells using an IOCO electroporation device under conditions of 1 kv/cm, Rp200, and 10 uF resulted in an efficiency of greater than 90% and a viability of greater than 50%. Figures 9B-9C show the results of cell sorting, where Figure 9B shows live cells and Figure 9C shows electroporated cells. Figure 9D is a histogram corresponding to the cell sorting results, showing control cells and cells electroporated with GFP.
図10A~図10Eは、様々なエレクトロポレーション実験条件下でのEC-7細胞における追加的な実験結果のセットを示す。図10B、図10C、及び図10Dは、細胞選別の結果を示し、ここで図10Bは生細胞を示し、図10C及び図10Dはエレクトロポレートされた生細胞を示す。図10Eは、細胞選別結果に対応するヒストグラムとともに、対照細胞及びGFPがエレクトロポレートされた細胞を示す。GFPの発現は、生細胞内で計数した(ヨウ化プロピジウム陰性、PI-)。CTLは対照実験を表す。 Figures 10A-10E show an additional set of experimental results for EC-7 cells under various electroporation experimental conditions. Figures 10B, 10C, and 10D show cell sorting results, with Figure 10B showing live cells and Figures 10C and 10D showing electroporated live cells. Figure 10E shows control cells and GFP-electroporated cells along with histograms corresponding to the cell sorting results. GFP expression was counted in live cells (propidium iodide negative, PI-). CTL represents the control experiment.
図11A~図11Cは、図3A~図Cのエレクトロポレーション装置・オフセットチャンバーを用いてEC-7細胞へ巧みにエレクトロポレートされたGFP-DNAの画像を示す。 Figures 11A-11C show images of GFP-DNA successfully electroporated into EC-7 cells using the electroporation apparatus and offset chamber of Figures 3A-3C.
図11Aは、エレクトロポレーションの20時間後に得たものであり、GFP-DNA及びGFP-AD5(AD5ウイルス産生をコードするDNA)のEC-7細胞へのエレクトロポレーションを示す。図11Bは、エレクトロポレーションの44時間後に得たものであり、GFP-DNA及びDNAシャトルベクターのEC-7細胞へのエレクトロポレーションを示す。図11Cは、エレクトロポレーションの6日後に得たものであり、マイクロメッシュ対キュベットでのエレクトロポレーション結果の比較を示す。 Figure 11A, taken 20 hours after electroporation, shows the electroporation of GFP-DNA and GFP-AD5 (DNA encoding AD5 viral production) into EC-7 cells. Figure 11B, taken 44 hours after electroporation, shows the electroporation of GFP-DNA and a DNA shuttle vector into EC-7 cells. Figure 11C, taken 6 days after electroporation, shows a comparison of electroporation results using a micromesh versus a cuvette.
本明細書中に提示される実施形態によると、図11Cは、EC7細胞におけるAD5ウイルス産生の早期段階中でのコメット形成も示す。この一連の画像では、細胞は、クラスター、又は「コメット」状プラークを形成し、各細胞はより円形状になる。 According to embodiments presented herein, Figure 11C also shows comet formation during the early stages of AD5 virus production in EC7 cells. In this series of images, cells form clusters, or "comet"-like plaques, with each cell becoming more rounded.
これら一連の画像によって示される通り、EC-7細胞は、蛍光タグ化ウイルスDNA(AD5ウイルス産生用)を巧みにエレクトロポレートし、ウイルス産生を開始させることができ、本明細書に提供される技術及びシステムが(例えば、ウイルスワクチンにおける使用及びウイルスタンパク質の産生を意図した)アデノウイルス産生に適することが示された。 As shown by this series of images, EC-7 cells can successfully electroporate fluorescently tagged viral DNA (for AD5 virus production) and initiate virus production, demonstrating that the techniques and systems provided herein are suitable for adenovirus production (e.g., for use in viral vaccines and for the production of viral proteins).
図12A及び12Bは、本明細書に記載の方法及びデバイスを用いてEC7細胞をトランスフェクトすることのさらなる結果を示す。図12Aは、カーゴの量がエレクトロポレーション実行間で変動した場合のエレクトロポレーションパラメータの表を示す。図12Bでは、エレクトロポレーションの6日後の画像を示す。エレクトロポレーションの14日後までに、約70~80%の効率が認められた。トランスフェクション後、複数の「コメット」状クラスターが認められた。約1700~1800万個の細胞/分を、約240mS/mのコンダクタンスを有する、エレクトロポレーション緩衝液cw100中、約40m/mlの細胞濃度で、EC7細胞にトランスフェクトしてもよい。 Figures 12A and 12B show further results from transfecting EC7 cells using the methods and devices described herein. Figure 12A shows a table of electroporation parameters when the amount of cargo was varied between electroporation runs. Figure 12B shows images 6 days after electroporation. By 14 days after electroporation, approximately 70-80% efficiency was observed. Multiple "comet"-like clusters were observed after transfection. Approximately 17-18 million cells/minute may be transfected into EC7 cells at a cell concentration of approximately 40 mcg/ml in electroporation buffer cw100, which has a conductance of approximately 240 mS/m.
実施例3.様々な細胞型のエレクトロポレーション
他の態様では、種々の異なる細胞型をトランスフェクトするため、本明細書に提供される方法及びシステムを使用してもよい。例えば、本明細書に提供される方法及びシステムにより、最大108個又はそれ以上の細胞をトランスフェクトすることができる。EC7細胞、haNK細胞、CHO細胞、及びT細胞をトランスフェクトするため、本明細書に提供される方法及びシステムを使用してもよい。例えば、0.6ml/分の流速及び4×107個の細胞/mlの細胞濃度を用いてEC7細胞をトランスフェクトするため、本明細書に提示される方法及び技術を使用してもよい。別の例では、0.36ml/分の流速及び3×107個の細胞/mlの細胞濃度を用いてhaNK細胞をトランスフェクトするため、本明細書に提示される方法及び技術を使用してもよい。さらに別の例では、0.45ml/分の流速及び2.5×107個の細胞/mlの細胞濃度を用いてCHO細胞をトランスフェクトするため、本明細書に提供される方法及び技術を使用してもよい。T細胞の場合、0.44ml/分の流速及び約2×107個の細胞/mlの細胞濃度でT細胞をトランスフェクトするため、本明細書に提示される方法及び技術を使用してもよい。これらの条件は、最適な条件を達成するため、さらに変化させてもよい。
Example 3. Electroporation of Various Cell Types In other aspects, the methods and systems provided herein may be used to transfect a variety of different cell types. For example, up to 10 or more cells can be transfected using the methods and systems provided herein. The methods and systems provided herein may be used to transfect EC7 cells, haNK cells, CHO cells, and T cells. For example, the methods and techniques provided herein may be used to transfect EC7 cells using a flow rate of 0.6 ml/min and a cell concentration of 4 x 10 cells/ml. In another example, the methods and techniques provided herein may be used to transfect haNK cells using a flow rate of 0.36 ml/min and a cell concentration of 3 x 10 cells/ml. In yet another example, the methods and techniques provided herein may be used to transfect CHO cells using a flow rate of 0.45 ml/min and a cell concentration of 2.5 x 10 cells/ml. For T cells, the methods and techniques presented herein may be used to transfect T cells at a flow rate of 0.44 ml/min and a cell concentration of approximately 2 x 10 cells/ml. These conditions may be further varied to achieve optimal conditions.
図13A~図13Dは、本明細書に記載の方法及びデバイスを使用しての、これらの異なる細胞株における様々なトランスフェクション効率を示す。図13Aは、(GFP mRNAをトランスフェクトした)haNK細胞における、90%超の細胞生存率で95%超のトランスフェクション効率を示す。最大1.27億個の細胞/分をトランスフェクトした。図13Bは、(GFP pmax DNAをトランスフェクトした)CHO細胞における、50%超の細胞生存率で90%超のトランスフェクション効率を示す。最大1500万個の細胞/分をトランスフェクトした。図13Cは、(GFPアデノウイルスDNAをトランスフェクトした)EC7細胞における、50%超の細胞生存率で95%超のトランスフェクション効率を示す。最大2000万個又はそれ以上の細胞/分をトランスフェクトした。図13Dは、(GFP mRNAをトランスフェクトした)T細胞における、80%超の細胞生存率で90%超のトランスフェクション効率を示す。最大880万個の細胞/分をトランスフェクトした。 Figures 13A-13D show various transfection efficiencies in these different cell lines using the methods and devices described herein. Figure 13A shows a transfection efficiency of greater than 95% with greater than 90% cell viability in haNK cells (transfected with GFP mRNA). Up to 127 million cells/minute were transfected. Figure 13B shows a transfection efficiency of greater than 90% with greater than 50% cell viability in CHO cells (transfected with GFP pmax DNA). Up to 15 million cells/minute were transfected. Figure 13C shows a transfection efficiency of greater than 95% with greater than 50% cell viability in EC7 cells (transfected with GFP adenovirus DNA). Up to 20 million or more cells/minute were transfected. Figure 13D shows that T cells (transfected with GFP mRNA) showed a transfection efficiency of over 90% with a cell viability of over 80%. Up to 8.8 million cells/min were transfected.
実施例4.初代T細胞のトランスフェクション
他の態様では、ポリ(β-アミノエステル)に付着されたmRNAを初代T細胞にエレクトロポレートするため、本明細書に提示される方法及びシステムを使用している。特定のポリ(β-アミノエステル)ポリマーは、有効なRNAトランスフェクション剤として作用することが示されている。
Example 4. Transfection of Primary T Cells In another aspect, the methods and systems presented herein are used to electroporate mRNA attached to poly(β-amino ester) into primary T cells. Certain poly(β-amino ester) polymers have been shown to act as effective RNA transfection agents.
mRNAをT細胞に送達するため、RNA及びポリ(β-アミノエステル)ポリマーを含むナノ粒子を使用している(例えば、Moffett,et al.,Nature Communications(2017)8:389を参照)。例えば、いくつかの実施形態では、ナノ粒子は、ポリグルタミン酸(PGA)に基づくシェルを用いて作出してもよい。ナノ粒子を適切な標的に標的化するため、標的分子(例えば、抗体の結合ドメイン)をPGA分子に付着させてもよい。例えば、ナノ粒子をT細胞に標的化するため、抗CD3/抗CD28結合ドメインをPGA分子に付着させてもよい。標的化のため、PGA又は任意の他の好適な陰性荷電分子を使用してもよい。特異的標的化又はカチオン膜の会合により、ナノ粒子の取り込みが生じることがある。 Nanoparticles comprising RNA and poly(β-amino ester) polymers have been used to deliver mRNA to T cells (see, e.g., Moffett, et al., Nature Communications (2017) 8:389). For example, in some embodiments, nanoparticles may be fabricated with a polyglutamic acid (PGA)-based shell. To target the nanoparticles to appropriate targets, targeting molecules (e.g., antibody binding domains) may be attached to the PGA molecules. For example, to target nanoparticles to T cells, anti-CD3/anti-CD28 binding domains may be attached to the PGA molecules. PGA or any other suitable negatively charged molecule may be used for targeting. Nanoparticle uptake may occur through specific targeting or cationic membrane association.
ナノ粒子の内部は、mRNA及びポリ(β-アミノエステル)などの担体分子を含んでもよい。一旦ナノ粒子が細胞内に取り込まれると、mRNAは、ナノ粒子の分解により、浸透圧膨張により、又はいくつかの他の好適なプロセスにより、細胞内に放出され、mRNAはその各々のタンパク質に転写される。場合によっては、mRNA分解を低減するため、合成mRNAを使用してもよい。 The interior of the nanoparticle may contain mRNA and a carrier molecule such as poly(β-amino ester). Once the nanoparticle is internalized within a cell, the mRNA is released into the cell by nanoparticle degradation, osmotic swelling, or some other suitable process, and the mRNA is transcribed into its respective protein. In some cases, synthetic mRNA may be used to reduce mRNA degradation.
本明細書に提供される方法は、例えば、mRNA及びポリ(β-アミノエステル)(PbAE)担体を用いるか、又はmRNA及びポリ(β-アミノエステル)担体をカプセル封入しているナノ粒子を用いることによって、mRNAを細胞にトランスフェクトするため、使用してもよい。図14A~図14Eは、(遊離mRNAでなく、エレクトロポレーションを用いない)mRNAと複合体を形成したPbAEを用いるT細胞トランスフェクションを示す。図13Aは、本明細書に提供される技術による使用に適したポリ(β-アミノエステル)の構造を示す。図14Bは、PbAEを用いてmRNAをトランスフェクトしたT細胞の、フローサイトメトリーを用いた細胞選別結果を示す。図14Cは、mRNA対担体分子の様々な比に基づき、生細胞に対して正規化した結果を示すグラフである。図14D及び14Eは、刺激T細胞(図14D)及び非刺激T細胞(図14E)におけるGFP-mRNAトランスフェクションについての様々な条件下での細胞生存率の結果を示す。これらの実験では、PbAE:RNAの比が60:1であることで、高レベルの生細胞がもたらされた一方で、高いGFP送達速度が得られた。 The methods provided herein may be used to transfect cells with mRNA, for example, by using mRNA and a poly(β-amino ester) (PbAE) carrier or by using nanoparticles encapsulating mRNA and a poly(β-amino ester) carrier. Figures 14A-14E show T cell transfection using PbAE complexed with mRNA (not free mRNA, and without electroporation). Figure 13A shows the structure of a poly(β-amino ester) suitable for use with the techniques provided herein. Figure 14B shows the results of flow cytometry cell sorting of T cells transfected with mRNA using PbAE. Figure 14C is a graph showing the results normalized to viable cells based on various ratios of mRNA to carrier molecules. Figures 14D and 14E show cell viability results under various conditions for GFP-mRNA transfection in stimulated (Figure 14D) and unstimulated (Figure 14E) T cells. In these experiments, a PbAE:RNA ratio of 60:1 resulted in high levels of viable cells while also achieving high GFP delivery rates.
図15A及び15Bは、対照細胞(エレクトロポレーションなし)及びエレクトロポレートされた細胞を用いる、T細胞へのGFP mRNAトランスフェクションを示す。特に、図15Aは、対照細胞(エレクトロポレーションなし)を示し、ここでは主にバックグラウンド蛍光が観察される。図15Bは、エレクトロポレートされた細胞を示し、ヒストグラムによって示されるように、細胞の大部分においてGFP-mRNAが検出される。 Figures 15A and 15B show GFP mRNA transfection into T cells using control cells (no electroporation) and electroporated cells. In particular, Figure 15A shows control cells (no electroporation), where primarily background fluorescence is observed. Figure 15B shows electroporated cells, where GFP-mRNA is detected in the majority of cells, as shown by the histogram.
実施例5.脂肪由来間葉系幹細胞(AD-MSC)のトランスフェクション
脂肪由来間葉系幹細胞(AD-MSC)を、約1×105百万個/ミリリットルの密度で剥離し、収集した。細胞をPBS及びエレクトロポレーション緩衝液で洗浄し、330万個の細胞/ミリリットルの密度でエレクトロポレーション緩衝液に懸濁した。各条件では、0.1ミリリットルの最終細胞密度での30μgのDNAをエレクトロポレートした。エレクトロポレーション条件は次の通りである:パルス幅=100us、パルス期間=340ms、電界強度は下の表4に示すように0.9から1.6kV/cmにかけて変化する。
Example 5. Transfection of Adipose-Derived Mesenchymal Stem Cells (AD-MSCs) Adipose-derived mesenchymal stem cells (AD-MSCs) were detached and collected at a density of approximately 1 x 10 5 million cells/milliliter. Cells were washed with PBS and electroporation buffer and suspended in electroporation buffer at a density of 3.3 million cells/milliliter. For each condition, 30 μg of DNA was electroporated at a final cell density of 0.1 milliliter. Electroporation conditions were as follows: pulse width = 100 μs, pulse duration = 340 ms, and field strength varied from 0.9 to 1.6 kV/cm, as shown in Table 4 below.
エレクトロポレーション後、細胞を30×103個の細胞/cm2の密度で播種した。エレクトロポレーションの24時間後、GFP発現効率をフローサイトメトリーで検証した。結果を図16A~16Dに示す。図16A~15Cの各々における1~8のx軸値は、表4に示すような電界強度に対応し、「CTL」は、エレクトロポレーションを伴わない対照に対応する。図16Aは、エレクトロポレーションの24時間後の細胞生存率を示す。電界強度が低下すると、生細胞が増加する。図16Bは、エレクトロポレーションの24時間後、細胞トランスフェクション効率の測定において、フローサイトメトリーによって読み取ったGFP(緑色蛍光タンパク質)の発現を示す。電界が強くなると、より高いパーセントの生細胞がGFPを発現した。図16Cは、GFP蛍光の中央値を示し、それはフローサイトメトリー測定においてGFPがいかに高輝度であったかを表す。電界が強くなると、より高輝度のGFPが測定された。結果は、1.1~1.3kv/cm間の電界強度が生存率及び効率の中で最高の性能を示すことがあることを示唆した。この生存率が、真の全生存率を反映するような付着細胞と上清の双方を含むことに注意されたし。図16Dは、MSCトランスフェクション結果の写真である。左側の写真は、MSCの形態学を示し、右側の画像は、同じ光場における蛍光画像であり、細胞の大部分が緑色蛍光タンパク質(緑色)を発現することを示す。 After electroporation, cells were seeded at a density of 30 x 10 cells/ cm² . 24 hours after electroporation, GFP expression efficiency was verified by flow cytometry. The results are shown in Figures 16A-16D. The x-axis values of 1-8 in each of Figures 16A-16C correspond to the electric field strength as shown in Table 4, and "CTL" corresponds to the control without electroporation. Figure 16A shows cell viability 24 hours after electroporation. As the electric field strength decreased, the number of live cells increased. Figure 16B shows GFP (green fluorescent protein) expression as read by flow cytometry 24 hours after electroporation, as a measure of cell transfection efficiency. As the electric field became stronger, a higher percentage of live cells expressed GFP. Figure 16C shows the median GFP fluorescence, which indicates how bright GFP was in the flow cytometry measurement. As the electric field became stronger, brighter GFP was measured. The results suggested that a field strength between 1.1 and 1.3 kv/cm may provide the best performance in terms of viability and efficiency. Note that this viability includes both adherent cells and supernatant, reflecting true overall viability. Figure 16D shows photographs of MSC transfection results. The photograph on the left shows the morphology of MSCs, and the image on the right is a fluorescence image in the same light field, showing that the majority of cells express green fluorescent protein (green).
実施例6.EC-7細胞、CHO-S細胞、初代CD4/CD8T細胞、haNK細胞、初代NK細胞、活性化NK細胞、樹状細胞、AD-MSC細胞のトランスフェクション
図2Aに表す装置と類似する装置内で、下の表5中に示すエレクトロポレーションパラメータを用いて、EC-7細胞、CHO-S細胞、初代CD4/CD8T細胞、haNK細胞、初代NK細胞、活性化NK細胞、樹状細胞、AD-MSC細胞をエレクトロポレートした。
Example 6 Transfection of EC-7 Cells, CHO-S Cells, Primary CD4/CD8 T Cells, haNK Cells, Primary NK Cells, Activated NK Cells, Dendritic Cells, and AD-MSC Cells EC-7 cells, CHO-S cells, primary CD4/CD8 T cells, haNK cells, primary NK cells, activated NK cells, dendritic cells, and AD-MSC cells were electroporated in an apparatus similar to that depicted in FIG. 2A using the electroporation parameters shown in Table 5 below.
表5で使用したエレクトロポレーション培地(「Electro培地」)1及び2の組成物を下の表6及び7に示す。 The compositions of electroporation media ("Electro Media") 1 and 2 used in Table 5 are shown in Tables 6 and 7 below.
所与のパラメータに従い、表5における細胞をエレクトロポレートした結果を下の表8に提示する。 The results of electroporating the cells in Table 5 according to the given parameters are presented in Table 8 below.
図17は、本開示の別の実施形態例による一例のエレクトロポレーションシステム1700を示す。図17に示されるように、システム1700は、ポンプ1701のためのマウントと、2つのI/Oカートリッジ1703の間に配置されたチップアセンブリ1720(エレクトロポレーションチャンバーと呼ばれ得る)とを含む。例えば、チップアセンブリ1720は、チューブと無菌コネクター1704の1つとを介して2つのI/Oカートリッジ1703ののうちの出力カートリッジに接続され得る。種々の実施態様では、通常閉じられたコネクターがチューブの接続に使用され得る。図17に示されるように、各I/Oカートリッジ1703はベント1702に接続されてよく、I/Oカートリッジ1703から余剰な空気を逃せるようにする。 Figure 17 illustrates an example electroporation system 1700 according to another example embodiment of the present disclosure. As shown in Figure 17, the system 1700 includes a mount for a pump 1701 and a chip assembly 1720 (which may be referred to as an electroporation chamber) positioned between two I/O cartridges 1703. For example, the chip assembly 1720 may be connected to an output cartridge of the two I/O cartridges 1703 via tubing and one of the sterile connectors 1704. In various embodiments, a normally closed connector may be used to connect the tubing. As shown in Figure 17, each I/O cartridge 1703 may be connected to a vent 1702 to allow excess air to escape from the I/O cartridge 1703.
ポンプ1701は、チューブと無菌コネクター1704の1つとを介してI/Oカートリッジ1703のうちの入力カートリッジに接続され得る。1つ以上のポンプ1701を使用して、チップアセンブリ1720を通過する流体流を生成し得る。チップアセンブリ1720は、システム1700と選択的に結合及び脱結合することができ、それにより、更に後述するように、異なるチップアセンブリをシステム1700で使用できるようにする。例えば、システム1700は、異なるチップアセンブリを取り外し可能に取り付けるチップホルダ構造を含み得、任意選択的なチップセンサがチップホルダ構造に隣接して配置される。 Pump 1701 may be connected to an input cartridge of I/O cartridge 1703 via tubing and one of sterile connectors 1704. One or more pumps 1701 may be used to generate a fluid flow through chip assembly 1720. Chip assembly 1720 may be selectively coupled and uncoupled from system 1700, thereby allowing different chip assemblies to be used with system 1700, as described further below. For example, system 1700 may include a chip holder structure to removably mount different chip assemblies, with an optional chip sensor disposed adjacent to the chip holder structure.
システム1700は、システム1700に配置されたチップアセンブリ1720を識別又は確認して、チップアセンブリ1720を使用して実行する動作を選択等するようにプログラムすることができるスキャナ、ユーザインターフェースを含み得る。種々の実施態様では、チップアセンブリ1720はガンマ線照射対応であり得る。システム1700は、チップアセンブリ1720と併用される種々の消耗品、緩衝液などの使用を可能にし得る。一実施形態では、各チップアセンブリ1720が使い捨てであるシステム1700、細胞サンプルの簡単で滅菌された接続及び分離のために、入力容器及び入力容器への通常は閉じられたルアーコネクターを有する閉システム設計。種々の実施態様では、フード外で接続される場合、例えば、CPC AseptiQuickなどの滅菌コネクターを使用して、滅菌接続を提供し得る。 The system 1700 may include a scanner, user interface, or the like that can be programmed to identify or verify the chip assembly 1720 placed in the system 1700, select operations to perform using the chip assembly 1720, etc. In various embodiments, the chip assembly 1720 may be gamma radiation compatible. The system 1700 may allow for the use of various consumables, buffers, etc., in conjunction with the chip assembly 1720. In one embodiment, the system 1700 is disposable, with each chip assembly 1720 being a closed system design having an input receptacle and a normally closed Luer connector to the input receptacle for easy, sterile connection and disconnection of cell samples. In various embodiments, when connected outside a hood, a sterile connector, such as a CPC AseptiQuick, may be used to provide a sterile connection.
図18は、エレクトロポレーションチャンバー1820(チップ又はチップアセンブリと呼ばれ得る)を含む、細胞をカーゴと共にエレクトロポレートする例示的な装置を示す。エレクトロポレーションチャンバー1820は第1電極1840及び第2電極1842を含み、3つの流体チャネル層1825、1826、及び1827が電極1840と1842との間に位置する。各流体チャネル層1825、1826、及び1827は流体チャネル1835(パッチと呼ばれ得る)を含み得る。例えば、細胞(及び任意選択的えにカーゴ)を含む流体は、流体チャネル1835を介してエレクトロポレーションチャンバー1820を通って側方に流れ得、一方、流体チャネル1835の形状は、流体が移動する特定の経路を規定する。 Figure 18 shows an exemplary device for electroporating cells with cargo, including an electroporation chamber 1820 (which may be referred to as a chip or chip assembly). The electroporation chamber 1820 includes a first electrode 1840 and a second electrode 1842, with three fluid channel layers 1825, 1826, and 1827 located between the electrodes 1840 and 1842. Each fluid channel layer 1825, 1826, and 1827 may include a fluid channel 1835 (which may be referred to as a patch). For example, fluid containing cells (and optional cargo) may flow laterally through the electroporation chamber 1820 via the fluid channel 1835, while the shape of the fluid channel 1835 defines the particular path along which the fluid travels.
図18に示されるように、流体チャネル層1825、1826、及び1827は、各層1825、1826、及び1827の流体チャネル1835も整列するように互いと整列し得る。電極1840及び1842は、互いと並びに層1825、1826、及び1827と整列し得、それにより、各電極1840及び1842の周縁並びに各チャネル層1825、1826、及び1827の周縁が実質的に同じであるサンドウィッチ構成を形成する。種々の実施態様では、チャネル1825、1826、及び1827の1つ以上の長さ及び/又は幅は、電極1840及び1842の長さ及び/又は幅よりも大きくてよく、それにより、電極1840及び1842が互いに非意図的に接触して短絡を生じさせないようにする。 As shown in FIG. 18 , fluid channel layers 1825, 1826, and 1827 can be aligned with one another such that the fluid channels 1835 in each layer 1825, 1826, and 1827 are also aligned. Electrodes 1840 and 1842 can be aligned with one another and with layers 1825, 1826, and 1827, thereby forming a sandwich configuration in which the perimeter of each electrode 1840 and 1842 and the perimeter of each channel layer 1825, 1826, and 1827 are substantially the same. In various embodiments, the length and/or width of one or more of channels 1825, 1826, and 1827 can be greater than the length and/or width of electrodes 1840 and 1842, thereby preventing electrodes 1840 and 1842 from unintentionally contacting one another and creating a short circuit.
エレクトロポレーションチャンバー1820は、第1支持層1815及び第2支持層1816を含み得る。図18に示されるように、電極1840及び1842並びにチャネル層1825、1826、及び1827は、支持層1815と1816との間に位置し得る。エレクトロポレーションチャンバー1820は、第1プレート1817及び第2プレート1818(筐体プレート又はカバープレートと呼ばれ得る)も含む。プレート1817及び1818は、図18に示されるように、エレクトロポレーションチャンバー1820の最外層として配置することができる。 Electroporation chamber 1820 may include first support layer 1815 and second support layer 1816. As shown in FIG. 18, electrodes 1840 and 1842 and channel layers 1825, 1826, and 1827 may be located between support layers 1815 and 1816. Electroporation chamber 1820 also includes first plate 1817 and second plate 1818 (which may be referred to as housing plates or cover plates). Plates 1817 and 1818 may be disposed as the outermost layers of electroporation chamber 1820, as shown in FIG. 18.
支持層1815及び1816並びにプレート1817及び1818は、構造的支持を電極1840及び1842並びにチャネル層1825、1826、及び1827に提供し得る。支持層1815及び1816は、各層の周縁がエレクトロポレーションチャンバー1820において概ね同じフットプリントを有するように、電極1840及び1842並びにチャネル層1825、1826、及び1827と整列し得る。種々の実施態様では、支持層1815及び1816は電極1840及び1842よりも長い長さ及び/又は幅を有し得、それにより、電極1840及び1842が別の導電表示と接触して短絡を生じさせないようにする。 Support layers 1815 and 1816 and plates 1817 and 1818 can provide structural support to electrodes 1840 and 1842 and channel layers 1825, 1826, and 1827. Support layers 1815 and 1816 can be aligned with electrodes 1840 and 1842 and channel layers 1825, 1826, and 1827 so that the periphery of each layer has approximately the same footprint in electroporation chamber 1820. In various embodiments, support layers 1815 and 1816 can have a longer length and/or width than electrodes 1840 and 1842, thereby preventing electrodes 1840 and 1842 from contacting another conductive element and causing a short circuit.
プレート1817及び1818は、各層の周囲がエレクトロポレーションチャンバー1820において概ね同じフットプリントを有するように、支持層1815及び1816、電極1840及び1842、並びにチャネル層1825、1826、及び1827と整列し得る。種々の実施態様では、プレート1817及び1818は他の層よりも長い長さ及び/又は幅を有し得(例えば、図18に示されるように)、それにより、電極1840及び1842又は他の層が外部チャンバと接触しないようにする。エレクトロポレーションチャンバーの他の実施形態は、図18に示される層よりも多数又は少数の層を有し得る。例えば、より多数又は少数の流体チャネル層、より多数又は少数の支持層(又は支持層なし)等が損z内し得る。 Plates 1817 and 1818 may be aligned with support layers 1815 and 1816, electrodes 1840 and 1842, and channel layers 1825, 1826, and 1827 so that the perimeter of each layer has approximately the same footprint in electroporation chamber 1820. In various embodiments, plates 1817 and 1818 may have a longer length and/or width than the other layers (e.g., as shown in FIG. 18), thereby preventing electrodes 1840 and 1842 or other layers from contacting the external chamber. Other embodiments of the electroporation chamber may have more or fewer layers than those shown in FIG. 18. For example, there may be more or fewer fluid channel layers, more or fewer support layers (or no support layers), etc.
図18に示されるように、エレクトロポレーションチャンバーは、入力1810及び出力1830を含む。入力1810は、細胞及びカーゴがエレクトロポレーションチャンバー1820内に入れるようにし得、一方、出力1830は、エレクトロポレーションチャンバー1820からエレクトロポレートされた細胞が出られるようにする。入力1810及び出力1830は、オフセット距離により隔てられて、細胞がチャネル層1825、1826、及び1827の流体チャネル1835の経路などのエレクトロポレーションチャンバー1820を通って側方に流れるのを促進し得る。 As shown in FIG. 18 , the electroporation chamber includes an input 1810 and an output 1830. The input 1810 may allow cells and cargo to enter the electroporation chamber 1820, while the output 1830 allows electroporated cells to exit the electroporation chamber 1820. The input 1810 and the output 1830 may be separated by an offset distance to promote lateral flow of cells through the electroporation chamber 1820, such as through the paths of the fluid channels 1835 in the channel layers 1825, 1826, and 1827.
例えば、入力1810及び出力1830は、プレート1818に開口部を画定し得る(エレクトロポレーションチャンバーがエレクトロポレーション装置で受けられるとき、上プレートと見なすことができる)。図18に示されるように、支持層1816及び電極1842は、入力1810及び出力1830と整列した開口部も含む。したがって、細胞及びカーゴは、入力1810を通してエレクトロポレーションチャンバー1820に流入し、支持層1816及び電極1842における対応する開口部に進み、流体チャネル1835に到達し得る。細胞及びカーゴを含む流体は次いで、エレクトロポレーションを受けるにつれて流体チャネル1835を通過し、電極1842及び支持層1816のいける対応する穴を介して出力1830を通って出る。 For example, input 1810 and output 1830 may define openings in plate 1818 (which can be considered the top plate when the electroporation chamber is received in an electroporation apparatus). As shown in FIG. 18 , support layer 1816 and electrode 1842 also include openings aligned with input 1810 and output 1830. Thus, cells and cargo may enter electroporation chamber 1820 through input 1810, proceed to corresponding openings in support layer 1816 and electrode 1842, and reach fluid channel 1835. The fluid containing cells and cargo then passes through fluid channel 1835 as it undergoes electroporation, and exits through output 1830 via corresponding holes in electrode 1842 and support layer 1816.
図18に示される、ラベルのないその他の開口部は、例えばねじ、プラグなどを介してエレクトロポレーションチャンバーの種々の構成要素を接続するための開口部を表し得る。一実施形態では、プレート1817及び1818は、バナナプラグ用の4つの穴と、ルアーソケットを接続する(例えば、チューブを介してエレクトロポレーションチャンバー1820に流体を供給及びエレクトロポレーションチャンバー1820から流体を供給する)ための2つのねじ穴とを含み得る。 Other unlabeled openings shown in FIG. 18 may represent openings for connecting various components of the electroporation chamber via, for example, screws, plugs, etc. In one embodiment, plates 1817 and 1818 may include four holes for banana plugs and two threaded holes for connecting luer sockets (e.g., for supplying fluid to and from electroporation chamber 1820 via tubing).
チャネル層1825、1826、及び1827は、流体チャネル1835における流体流を可能にするための任意の好適な材料を含み得る。例えば、チャネル層1825、1826、及び1827は、ポリエチレンテレフタレート(PET)材料、感圧性接着(PSA)材料、シリコーンガスケット材料等を含み得る。種々の実施態様では、中央のチャネル層1825はPET材料を含み得、一方、外側のチャネル層1826及び1827はPSA材料を含み、チャネル層1825、1826、及び1827を一緒に接着させる。 Channel layers 1825, 1826, and 1827 may comprise any suitable material for enabling fluid flow in fluid channel 1835. For example, channel layers 1825, 1826, and 1827 may comprise a polyethylene terephthalate (PET) material, a pressure-sensitive adhesive (PSA) material, a silicone gasket material, or the like. In various embodiments, center channel layer 1825 may comprise a PET material, while outer channel layers 1826 and 1827 comprise a PSA material, adhering channel layers 1825, 1826, and 1827 together.
例えば、外側のチャネル層1826及び1827は、厚さ約100μmを有する両面PSA材料であり得、チャネル層1825は約100μmの厚さを有するPETフィルムであり、それにより、全チャネル構造は約300μmの厚さを有し、電極1840と1842との間に封止を提供する。種々の実施形態では、流体チャネル1835の高さ(即ち、チャネル層1825、1826、及び1827の厚さ)は、エレクトロポレーション中に細胞に適用される電場を決めるために、流体チャネル1835の全長(例えば、入口から出口まで)にわたり均一であり得る。他の実施形態では、約100μm、200μm、400μm、500μm、1mmなどの任意の好適な流体チャネルの高さが使用され得る。 For example, outer channel layers 1826 and 1827 may be a double-sided PSA material having a thickness of approximately 100 μm, and channel layer 1825 may be a PET film having a thickness of approximately 100 μm, such that the entire channel structure has a thickness of approximately 300 μm and provides a seal between electrodes 1840 and 1842. In various embodiments, the height of fluid channel 1835 (i.e., the thickness of channel layers 1825, 1826, and 1827) may be uniform across the entire length of fluid channel 1835 (e.g., from inlet to outlet) to determine the electric field applied to cells during electroporation. In other embodiments, any suitable fluid channel height may be used, such as approximately 100 μm, 200 μm, 400 μm, 500 μm, 1 mm, etc.
電極1840及び1842は、固体プレート電極又はマイクロメッシュ電極などの多孔性を有するメッシュ電極などの固体電極を含み得る。一実施形態では、電極1840及び1842は両方とも、固体プレート電極などの固体電極である。種々の実施態様では、電極1840及び1842は、図2Cに示されるプレートと同様に、固体金属プレートのアレイを含み得る。各固体金属プレートは、独立した電場を適用して、特定の電場パターンを作成するように構成され得る。 Electrodes 1840 and 1842 may comprise solid electrodes, such as solid plate electrodes or porous mesh electrodes, such as micromesh electrodes. In one embodiment, electrodes 1840 and 1842 are both solid electrodes, such as solid plate electrodes. In various implementations, electrodes 1840 and 1842 may comprise an array of solid metal plates, similar to the plates shown in FIG. 2C. Each solid metal plate may be configured to apply an independent electric field to create a specific electric field pattern.
電極1840及び1842を形成し得る好適な材料は、限定はされないが、ステンレス鋼、シリコン、貴金属、第4族金属、導電材料、及びそれらの組み合わせを含む。好適な貴金属の例には、限定はされないが、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、銀(Ag)、オスミウム(Os)、イリジウム(Ir)、白金(Pt)、及び金(Au)が挙げられる。第4族金属の例には、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、ラザフォージウム(Rf)が挙げられる。好適な導電材料の例には、限定はされないが、インジウム錫酸化物(ITO)、カーボンナノチューブ(CNT)、及び等の導電性ポリマー、例えばポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)ポリスチレンスルホン酸(PEDOT:PSS)が挙げられる。一実施形態では、電極1840及び1842は各々、約0.004インチ(約0.1mm)の厚さを有する316ステンレス鋼シムストックで作られる。 Suitable materials from which electrodes 1840 and 1842 may be formed include, but are not limited to, stainless steel, silicon, noble metals, Group 4 metals, conductive materials, and combinations thereof. Examples of suitable noble metals include, but are not limited to, ruthenium (Ru), rhodium (Rh), palladium (Pd), silver (Ag), osmium (Os), iridium (Ir), platinum (Pt), and gold (Au). Examples of Group 4 metals include titanium (Ti), zirconium (Zr), hafnium (Hf), and rutherfordium (Rf). Examples of suitable conductive materials include, but are not limited to, indium tin oxide (ITO), carbon nanotubes (CNT), and conductive polymers such as poly(3,4-ethylenedioxythiophene)polystyrenesulfonate (PEDOT:PSS). In one embodiment, electrodes 1840 and 1842 are each made from 316 stainless steel shim stock having a thickness of approximately 0.004 inches (approximately 0.1 mm).
支持層1815及び1816並びにプレート1817及び1818は、例えば、細胞を含む流体を流体チャネル層1825、1826、及び1827に含む電極1840及び1842に構造的支持を提供する任意の好適な材料を含み得る。例には、限定はされないが、非多孔度質材料、例えば、ポリジメチルシロキサン(PDMS)アクリル、ポリエチレン、ポリプロピレン、金属プレート、感圧性接着剤(PSA)、PET材料、アクリルガラス、射出成形プラスチックなどが挙げられ得る。一実施形態では、支持層1815及び1816の各々は、プレート1817及び1818を電極1840及び1842に接着っせるために両面PSA材料を含み、各プレート1817及び1818は1/4インチ(約6.35mm)厚のアクリルシートである。 Support layers 1815 and 1816 and plates 1817 and 1818 may comprise any suitable material that provides structural support to electrodes 1840 and 1842, which contain cell-containing fluid in fluid channel layers 1825, 1826, and 1827. Examples may include, but are not limited to, non-porous materials such as polydimethylsiloxane (PDMS), acrylic, polyethylene, polypropylene, metal plates, pressure-sensitive adhesive (PSA), PET material, acrylic glass, injection-molded plastic, and the like. In one embodiment, support layers 1815 and 1816 each comprise a double-sided PSA material to adhere plates 1817 and 1818 to electrodes 1840 and 1842, and each plate 1817 and 1818 is a ¼-inch (approximately 6.35 mm) thick acrylic sheet.
図19は、一緒に圧縮された層を有する組立てフォーマットでエレクトロポレーションチャンバー1820(又はチップアセンブリ)を示す。図19に示されるように、プレート1817及び1818はアセンブリの外面を形成し、その他の層はプレート1817と1818との間に挟まれる。プレート1818は、細胞を含む流体をエレクトロポレーションチャンバー1820に(例えば、チューブ又は別の好適な流体送達システムを介して)供給するための入力1810と、エレクトロポレーションチャンバー1820からエレクトロポレートされた細胞を(例えば、チューブ又は別の好適な流体送達システムを介して)供給するための出口1830とを含む。 Figure 19 shows the electroporation chamber 1820 (or chip assembly) in an assembled format with the layers compressed together. As shown in Figure 19, plates 1817 and 1818 form the outer surface of the assembly, with the other layers sandwiched between plates 1817 and 1818. Plate 1818 includes an input 1810 for supplying a fluid containing cells to the electroporation chamber 1820 (e.g., via a tube or another suitable fluid delivery system) and an outlet 1830 for supplying electroporated cells from the electroporation chamber 1820 (e.g., via a tube or another suitable fluid delivery system).
図19に示されるチップアセンブリは、図17のシステム1700などのエレクトロポレーション装置内で使用し得る。例えば、複数のチップアセンブリが、種々の細胞をエレクトロポレートするためにシステムに選択的に挿入され得る。各エレクトロポレーションプロセス後又は新しい細胞タイプがエレクトロポレーションに望まれる場合など、図19のチップアセンブリはエレクトロポレーションシステムから取り出され、別のチップアセンブリと交換され得る。 The tip assembly shown in FIG. 19 may be used in an electroporation apparatus, such as system 1700 of FIG. 17. For example, multiple tip assemblies may be selectively inserted into the system to electroporate various cells. After each electroporation process, or when a new cell type is desired for electroporation, the tip assembly of FIG. 19 may be removed from the electroporation system and replaced with another tip assembly.
更に後述するように、異なるチップアセンブリは、異なる容積の流体チャネル1835、流体チャネル1835の異なる形状の流路などを有し得る。種々のチップアセンブリは同じサイズ又はフットプリントを有し得、それにより、異なる容積又は流路のチップアセンブリをエレクトロポレーションシステムにおいて交換し得る。一実施態様例では、大容積チップアセンブリ(例えば、流体チャネル1835の容積は概ね500マイクロリットル)、中間容積チップアセンブリ(例えば、流体チャネル1835の容積は概ね250マイクロリットル)、及び小容積チップアセンブリ(例えば、流体チャネル1835の容積は概ね50マイクロリットル)を有する異なる容積の流体チャネルを有するチップアセンブリがエレクトロポレーションシステムに選択的に挿入され得る。他の実施態様では、より多数又は少数のチップアセンブリの設計がエレクトロポレーションシステムと併用可能であり、各チップアセンブリは、上記に提供されたものよりも大きい又は小さい容積の流体チャネルなどを有し得る。 As described further below, different chip assemblies may have different fluid channel 1835 volumes, different fluid channel 1835 flow paths, etc. Various chip assemblies may have the same size or footprint, allowing chip assemblies of different volumes or flow paths to be interchanged in an electroporation system. In one exemplary embodiment, chip assemblies having different fluid channel volumes may be selectively inserted into an electroporation system, including large-volume chip assemblies (e.g., fluid channel 1835 volumes of approximately 500 microliters), medium-volume chip assemblies (e.g., fluid channel 1835 volumes of approximately 250 microliters), and small-volume chip assemblies (e.g., fluid channel 1835 volumes of approximately 50 microliters). In other embodiments, more or fewer chip assembly designs may be used with an electroporation system, each chip assembly having larger or smaller fluid channel volumes, etc. than those provided above.
図20は、図18のエレクトロポレーションチャンバー1820などのエレクトロポレーションチャンバーの一部であり得る一例のチャネル層2025を示す。チャネル層2025は、複数の湾曲部及び複数の直線経路部(S字形経路と呼ばれ得る)を有する流体チャネル2035を含む。図20は、8つの湾曲部及び9つの直線部を有する(7つの全長及び流体チャネル2035の各端部における2つの半長を有する)流体チャネル2035を示す。流体チャネル2035は、1つのS字曲線パターンのハーフ4つの完全サイクルと見なすことができる。 Figure 20 shows an example channel layer 2025 that may be part of an electroporation chamber, such as electroporation chamber 1820 of Figure 18. Channel layer 2025 includes a fluid channel 2035 with multiple bends and multiple straight path sections (which may be referred to as S-shaped paths). Figure 20 shows fluid channel 2035 with eight bends and nine straight sections (seven full lengths and two half lengths at each end of fluid channel 2035). Fluid channel 2035 can be considered four complete half cycles of an S-shaped curve pattern.
チャネル層2025がエレクトロポレーションシステムで受け取られると、細胞を含む流体は、流体チャネル2035の2つの入口端部に供給され、流体チャネル2035のS字曲線を通って移動してエレクトロポレーションを受け、流体チャネルの他方の出口端部を介して出得る。流体チャネル2035の容積は、チャネルにおける流体の体積流速を決め得、エレクトロポレーションプロセスの電気パルスと同期し得る。いくつかの実施態様では、流体チャネル2035は概ね500マイクロリットルの容積を有し得る(例えば、指定された時間期間内で2億個以上の細胞を処理することが可能であり得る)。他の実施態様では、流体チャネル2035はより大きな又は小さな液量(例えば、約25マイクロリットル、50マイクロリットル、100マイクロリットル、200マイクロリットル、250マイクロリットル、300マイクロリットル、400マイクロリットル、750マイクロリットル、1ミリリットルなど)、より多数又はより少数の湾曲部、より厚い又はより狭いチャネル幅、より長い又はより短いチャネル部長、他の好適な経路形状などを含み得る。 When the channel layer 2025 is received in an electroporation system, a fluid containing cells can be supplied to the two inlet ends of the fluid channel 2035, travel through the S-shaped curve of the fluid channel 2035, undergo electroporation, and exit through the other outlet end of the fluid channel. The volume of the fluid channel 2035 can determine the volumetric flow rate of the fluid through the channel and can be synchronized with the electrical pulses of the electroporation process. In some embodiments, the fluid channel 2035 can have a volume of approximately 500 microliters (e.g., capable of processing 200 million or more cells within a specified time period). In other embodiments, the fluid channel 2035 can include a larger or smaller fluid volume (e.g., approximately 25 microliters, 50 microliters, 100 microliters, 200 microliters, 250 microliters, 300 microliters, 400 microliters, 750 microliters, 1 milliliter, etc.), more or fewer bends, a thicker or narrower channel width, a longer or shorter channel length, other suitable path shapes, etc.
図21は、図18のエレクトロポレーションチャンバー1820などのエレクトロポレーションチャンバーの一部であり得る一例のチャネル層2125を示す。チャネル層2125は、複数の湾曲部及び複数の直線経路部(S字形経路と呼ばれ得る)を有する流体チャネル2135を含む。図20の流体チャネル2035と同様に、図21は、8つの湾曲部及び9つの直線部を有する(7つの全長及び流体チャネル2135の各端部における2つの半長を有する)流体チャネル2135を示す。 Figure 21 shows an example channel layer 2125 that may be part of an electroporation chamber, such as electroporation chamber 1820 of Figure 18. Channel layer 2125 includes a fluid channel 2135 with multiple bends and multiple straight path sections (which may be referred to as S-shaped paths). Similar to fluid channel 2035 of Figure 20, Figure 21 shows fluid channel 2135 with eight bends and nine straight sections (seven full lengths and two half lengths at each end of fluid channel 2135).
図20の流体チャネル2035と比べて、図21の流体チャネル2135は、湾曲部よりも短い長さを有する。したがって、流体チャネル2135は、図20の流体チャネル2135よりも小さな液量を有し得る。例えば、流体チャネル2135は、概ね250マイクロリットルの液量を有し得る(例えば、指定された時間期間内に約5億個の細胞を処理することが可能であり得る)。他の実施態様では、流体チャネル2135は、より大きな又は小さな液量、より多数又はより少数の湾曲部、より厚い又はより狭いチャネル幅、より長い又はより短いチャネル部長、他の好適な経路形状などを含み得る。 Compared to fluid channel 2035 of FIG. 20, fluid channel 2135 of FIG. 21 has a shorter length than bends. Thus, fluid channel 2135 may have a smaller fluid volume than fluid channel 2135 of FIG. 20. For example, fluid channel 2135 may have a fluid volume of approximately 250 microliters (e.g., may be capable of processing approximately 500 million cells within a specified time period). In other embodiments, fluid channel 2135 may include a larger or smaller fluid volume, more or fewer bends, a thicker or narrower channel width, a longer or shorter channel length, other suitable path shapes, etc.
図22は、図18のエレクトロポレーションチャンバー1820などのエレクトロポレーションチャンバーの一部であり得る一例のチャネル層2225を示す。チャネル層2225は、1つの直線部を有する流体チャネル2235(複数の湾曲部を有する図20及び図21の流体チャネル2035及び2135のS字形曲線とは対照的に)を含む。したがって、図22の流体チャネル2235は、図20及び図21の流体チャネル2035及び2135よりも小さな液量を有し得る。 Figure 22 shows an example channel layer 2225 that may be part of an electroporation chamber, such as electroporation chamber 1820 of Figure 18. Channel layer 2225 includes fluid channel 2235 with a single straight section (as opposed to the S-shaped curves of fluid channels 2035 and 2135 of Figures 20 and 21, which have multiple curves). Thus, fluid channel 2235 of Figure 22 may have a smaller fluid volume than fluid channels 2035 and 2135 of Figures 20 and 21.
チャネル層2225がエレクトロポレーションシステムで受け取られると、細胞を含む流体は、流体チャネル2235の一端部に供給され、流体チャネル2235の直線を通って移動してエレクトロポレーションを受け、流体チャネルの他端部を介して出得る。いくつかの実施態様では、流体チャネル2235は概ね50マイクロリットルの容積を有し得る(例えば、指定された時間期間内に約5億個の細胞を処理することが可能であり得る)。他の実施態様では、流体チャネル2235は、より大きな又は小さな液量、より多数又はより少数の湾曲部、より厚い又はより狭いチャネル幅、より長い又はより短いチャネル部長、他の好適な経路形状などを含み得る。 When channel layer 2225 is received in an electroporation system, a fluid containing cells may be supplied to one end of fluid channel 2235, travel through the straight line of fluid channel 2235, undergo electroporation, and exit through the other end of the fluid channel. In some embodiments, fluid channel 2235 may have a volume of approximately 50 microliters (e.g., may be capable of processing approximately 500 million cells within a specified time period). In other embodiments, fluid channel 2235 may include a larger or smaller fluid volume, more or fewer bends, a thicker or narrower channel width, a longer or shorter channel length, other suitable path shapes, etc.
図23は、流体チャネル2335を含む別の例のチャネル層2325を示す。例示のみを目的として寸法例を図23に提供する。例えば、流体チャネル2335は3ミリメートルの幅を有する。チャネル幅は、異なる容積を有する異なるチップアセンブリにわたり様々であり得るが、1つのチャネル層2325の1つの流体チャネル2335内で、チャネル幅はチャネルの入口から出口まで一定のままであり得る。これは、流体チャネル2335内で一定の細胞流速を維持するのを促進し得る。図23に示される流体チャネル2335の直線部及び湾曲部の寸法に基づいて、流体チャネル2335は概ね500マイクロリットルの総液量を有し得る。他の実施態様では、チャネル層2325及び流体チャネル2335は任意の他の好適な寸法を有し得る。例えば、種々の実施態様では、流体チャネル2335の幅は約1ミリメートル、2ミリメートル、4ミリメートル、5ミリメートル、10ミリメートルなどであり得る。 Figure 23 shows another example channel layer 2325 including a fluid channel 2335. Example dimensions are provided in Figure 23 for illustrative purposes only. For example, the fluid channel 2335 has a width of 3 millimeters. While the channel width may vary across different chip assemblies having different volumes, within a single fluid channel 2335 of a single channel layer 2325, the channel width may remain constant from the inlet to the outlet of the channel. This may facilitate maintaining a constant cell flow rate within the fluid channel 2335. Based on the dimensions of the straight and curved portions of the fluid channel 2335 shown in Figure 23, the fluid channel 2335 may have a total liquid volume of approximately 500 microliters. In other embodiments, the channel layer 2325 and the fluid channel 2335 may have any other suitable dimensions. For example, in various embodiments, the width of the fluid channel 2335 may be approximately 1 millimeter, 2 millimeters, 4 millimeters, 5 millimeters, 10 millimeters, etc.
いくつかの実施形態では、特定の実施形態を説明し、主張するために用いられる成分の量、濃度、反応条件などの特性などを表す数は、いくつかの例では用語「約」で修飾されているものとして理解されるべきである。したがって、いくつかの実施形態では、本明細書及び添付の特許請求の範囲中で示される数値パラメータは、特定の実施形態によって得られるように求められた所望される特性に応じて変化し得る近似である。いくつかの実施形態では、数値パラメータは、報告された有効数字の数に照らして、また通常の丸め技法を適用することにより解釈される必要がある。いくつかの実施形態の広い範囲を示している数値範囲及びパラメータが近似であるにもかかわらず、具体例の中で示される数値は、実行可能な程度に正確に報告される。いくつかの実施形態の中で提示される数値は、必然的にそれら各々の試験測定値中に見出される標準偏差に起因する特定の誤差を含有してもよい。 In some embodiments, numbers expressing quantities of ingredients, concentrations, reaction conditions, and other properties, etc., used to describe and claim particular embodiments should be understood to be modified in some instances by the term "about." Accordingly, in some embodiments, the numerical parameters set forth in the specification and appended claims are approximations that may vary depending on the desired properties sought to be obtained by a particular embodiment. In some embodiments, the numerical parameters should be construed in light of the number of reported significant digits and by applying ordinary rounding techniques. Notwithstanding that the numerical ranges and parameters setting forth the broad scope of some embodiments are approximations, the numerical values set forth in the specific examples are reported to the extent practicable. The numerical values presented in some embodiments may necessarily contain certain errors resulting from the standard deviation found in their respective testing measurements.
本明細書の説明において、また後述する特許請求の範囲全体を通じて使用される通り、「a」、「an」及び「the」の意味は、文脈が明確にそうでない旨を表さない限り、複数の参照対象を含む。さらに、本明細書の説明において使用される通り、「in」の意味は、文脈が明確にそうでない旨を表さない限り、「in」及び「on」を含む。文脈がそうでない旨を表さない限り、本明細書に示されるすべての範囲は、それらのエンドポイントを包含するものとして解釈される必要があり、また制限のない範囲は、商業的に実際的な値を含むように解釈される必要がある。同様に、すべての値リストは、文脈がそうでない旨を表さない限り、中間値を包含するものとして考察される必要がある。 As used herein and throughout the claims that follow, the meanings of "a," "an," and "the" include plural referents unless the context clearly dictates otherwise. Additionally, as used herein, the meaning of "in" includes "in" and "on" unless the context clearly dictates otherwise. Unless the context dictates otherwise, all ranges set forth herein should be interpreted as inclusive of their endpoints, and open-ended ranges should be interpreted as including commercially practical values. Similarly, all value lists should be considered as inclusive of intermediate values unless the context dictates otherwise.
既に本明細書で記載された修飾以外の多くのさらなる修飾が本明細書の発明概念から逸脱しない条件で可能であることも、当業者にとって明白である必要がある。さらに、本明細書及び特許請求の範囲の双方を解釈する場合、すべての用語は、文脈に合致する最も広い可能な様式で解釈される必要がある。特に、用語「含む(comprises)」及び「含む(comprising)」は、非排他的様式で要素、構成要素、若しくはステップを指し、参照される要素、構成要素、若しくはステップが、明確に参照されていない他の要素、構成要素、若しくはステップとともに存在するか、又は利用されるか、又は組み合わされてもよいことを示すように解釈される必要がある。本明細書の特許請求の範囲が、A、B、C...及びNからなる群から選択されるもの少なくとも1つを指す場合、テキストは、その群から、A+N、又はB+Nなどでなく、1つの要素のみを必要とするものとして解釈される必要がある。 It should also be apparent to those skilled in the art that many further modifications beyond those already described herein are possible without departing from the inventive concepts herein. Moreover, when interpreting both the specification and the claims, all terms should be interpreted in the broadest possible manner consistent with the context. In particular, the terms "comprises" and "comprising" should be interpreted to refer to elements, components, or steps in a non-exclusive manner, indicating that a referenced element, component, or step may be present, utilized, or combined with other elements, components, or steps not specifically referenced. When a claim herein refers to at least one selected from the group consisting of A, B, C, and N, the text should be interpreted as requiring only one element from that group, not A+N, or B+N, etc.
Claims (18)
第1電極と、
第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極との間に位置する第1流体チャネル層であって、エレクトロポレートプロセス中、前記細胞及び前記カーゴを含む流体を流す第1流体チャネルを規定する第1流体チャネル層と、
前記第1流体チャネル層と前記第1電極との間に位置する第2流体チャネル層であって、前記第2流体チャネル層は、前記第1流体チャネル層の前記第1流体チャネルと同じ形状を有する第2流体チャネルを規定する、第2流体チャネル層と、
前記第1流体チャネル層と前記第2電極との間に位置する第3流体チャネル層であって、前記第3流体チャネル層は、前記第1流体チャネル層の前記第1流体チャネルと同じ形状を有する第3流体チャネルを規定し、前記第1流体チャネル層、前記第2流体チャネル層、及び前記第3流体チャネル層の前記流体チャネルは、互いと整列する、第3流体チャネル層と、
前記細胞及び前記カーゴを含む前記流体を受け取り、前記受け取った流体を前記第1流体チャネル層の前記第1流体チャネルに供給する入力開口部を規定するとともに、前記チップアセンブリの前記第1流体チャネルから出るエレクトロポレートされた細胞の流れを促進するための出力開口部を規定する第1筐体プレートと、
第2筐体プレートと、
前記第1筐体プレートと前記第1電極との間に位置する第1支持層であって、前記第1支持層及び前記第1電極は各々、前記第1筐体プレートの前記入力開口部に対応する第1開口部及び前記第1筐体プレートの前記出力開口部に対応する第2開口部を規定する、第1支持層と、
前記第2電極と前記第2筐体プレートとの間に位置する第2支持層と、
を備えるチップアセンブリ。 1. A chip assembly for electroporating cells with cargo, comprising:
A first electrode;
A second electrode;
a first fluid channel layer positioned between the first electrode and the second electrode, the first fluid channel layer defining a first fluid channel through which a fluid containing the cells and the cargo flows during an electroporation process;
a second fluid channel layer positioned between the first fluid channel layer and the first electrode, the second fluid channel layer defining a second fluid channel having the same shape as the first fluid channel in the first fluid channel layer;
a third fluid channel layer located between the first fluid channel layer and the second electrode, the third fluid channel layer defining a third fluid channel having the same shape as the first fluid channel of the first fluid channel layer, the fluid channels of the first fluid channel layer, the second fluid channel layer, and the third fluid channel layer being aligned with one another;
a first housing plate defining an input opening for receiving the fluid containing the cells and the cargo and supplying the received fluid to the first fluid channel of the first fluid channel layer, and defining an output opening for facilitating flow of electroporated cells out of the first fluid channel of the chip assembly;
a second housing plate;
a first support layer positioned between the first housing plate and the first electrode, the first support layer and the first electrode each defining a first opening corresponding to the input opening of the first housing plate and a second opening corresponding to the output opening of the first housing plate;
a second support layer positioned between the second electrode and the second housing plate ;
A chip assembly comprising:
前記第1流体チャネル層は、ポリエチレンテレフタレート(PET)材料を含む、請求項1に記載のチップアセンブリ。 the second fluid channel layer and the third fluid channel layer each comprise a pressure-sensitive adhesive;
The chip assembly of claim 1 , wherein the first fluid channel layer comprises a polyethylene terephthalate (PET) material.
前記第1支持層及び前記第2支持層は各々、感圧性接着(PSA)材料を含み、
前記第1筐体プレート及び前記第2筐体プレートは各々、アクリル材料を含む、請求項1に記載のチップアセンブリ。 the first electrode and the second electrode each comprise stainless steel;
the first support layer and the second support layer each comprise a pressure sensitive adhesive (PSA) material;
The chip assembly of claim 1 , wherein the first housing plate and the second housing plate each comprise an acrylic material.
前記細胞を前記カーゴと共にエレクトロポレーションチャンバーに流すことであって、前記エレクトロポレーションチャンバーは、
第1電極、
第2電極、
前記第1電極と前記第2電極との間に位置する第1流体チャネル層であって、エレクトロポレートプロセス中、前記細胞及び前記カーゴを含むエレクトロポレーション培地を流す第1流体チャネルを規定する第1流体チャネル層、
前記第1流体チャネル層と前記第1電極との間に位置する第2流体チャネル層であって、前記第2流体チャネル層は、前記第1流体チャネル層の前記第1流体チャネルと同じ形状を有する第2流体チャネルを規定する、第2流体チャネル層、
前記第1流体チャネル層と前記第2電極との間に位置する第3流体チャネル層であって、前記第3流体チャネル層は、前記第1流体チャネル層の前記第1流体チャネルと同じ形状を有する第3流体チャネルを規定し、前記第1流体チャネル層、前記第2流体チャネル層、及び前記第3流体チャネル層の前記流体チャネルは、互いと整列する、第3流体チャネル層、
前記細胞及び前記カーゴを含む前記エレクトロポレーション培地を受け取り、前記受け取ったエレクトロポレーション培地を前記第1流体チャネル層の前記第1流体チャネルに供給する入力開口部を規定するとともに、前記エレクトロポレーションチャンバーの前記第1流体チャネルから出るエレクトロポレートされた細胞の流れを促進するための出力開口部を規定する第1筐体プレート、
第2筐体プレート、
前記第1筐体プレートと前記第1電極との間に位置する第1支持層であって、前記第1支持層及び前記第1電極は各々、前記第1筐体プレートの前記入力開口部に対応する第1開口部及び前記第1筐体プレートの前記出力開口部に対応する第2開口部を規定する、第1支持層と、
前記第2電極と前記第2筐体プレートとの間に位置する第2支持層
を備え、前記細胞は、エレクトロポレーション培地に懸濁され、約1×106個の細胞/ml~約500×106個の細胞/mlの細胞密度を有する、流すことと、
複数の電気パルスを前記エレクトロポレーションチャンバー内の前記細胞に適用することであって、
(i)各電気パルスは指数関数的な吐出波形又は方形波形の形態を有し、
(ii)前記複数の電気パルスは約0.3kV/cm~約3kV/cmの電界強度で適用され、
(iii)前記電界強度は約15V~約100Vの電圧で適用され;
(iv)各電気パルス間の持続時間は約0.1秒~約10秒であり、
(v)各電気パルスは約10μs~約10,000μsのパルス幅を有する、適用することと、
を含む方法。 1. A method of electroporating cells with a cargo, comprising:
flowing the cells together with the cargo into an electroporation chamber, the electroporation chamber comprising:
a first electrode;
a second electrode,
a first fluid channel layer positioned between the first electrode and the second electrode, the first fluid channel layer defining a first fluid channel through which an electroporation medium containing the cells and the cargo flows during an electroporation process;
a second fluid channel layer located between the first fluid channel layer and the first electrode, the second fluid channel layer defining a second fluid channel having the same shape as the first fluid channel in the first fluid channel layer;
a third fluid channel layer located between the first fluid channel layer and the second electrode, the third fluid channel layer defining a third fluid channel having the same shape as the first fluid channel of the first fluid channel layer, the fluid channels of the first fluid channel layer, the second fluid channel layer, and the third fluid channel layer being aligned with one another;
a first housing plate defining an input opening for receiving the electroporation medium containing the cells and the cargo and for supplying the received electroporation medium to the first fluid channel of the first fluid channel layer, and defining an output opening for facilitating flow of electroporated cells out of the first fluid channel of the electroporation chamber;
a second housing plate;
a first support layer positioned between the first housing plate and the first electrode, the first support layer and the first electrode each defining a first opening corresponding to the input opening of the first housing plate and a second opening corresponding to the output opening of the first housing plate;
a second support layer positioned between the second electrode and the second housing plate , the cells being suspended in an electroporation medium and having a cell density of about 1 x 10 cells/ml to about 500 x 10 cells/ml;
applying a plurality of electrical pulses to the cells in the electroporation chamber;
(i) each electrical pulse has the form of an exponential ejection waveform or a square waveform;
(ii) the plurality of electrical pulses are applied at a field strength of about 0.3 kV/cm to about 3 kV/cm;
(iii) the electric field strength is applied at a voltage of about 15 V to about 100 V;
(iv) the duration between each electrical pulse is about 0.1 seconds to about 10 seconds;
(v) applying each electrical pulse having a pulse width of about 10 μs to about 10,000 μs;
A method comprising:
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