JP7819682B2 - エレクトロクロミックシートおよびエレクトロクロミック装置 - Google Patents
エレクトロクロミックシートおよびエレクトロクロミック装置Info
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Description
本発明は、エレクトロクロミックシートおよびエレクトロクロミック装置に関する。
エレクトロクロミック素子は、電圧を印加することで、可逆的に酸化還元反応が起こり、可逆的に透過率が変化する現象であるエレクトロクロミズムを利用した素子として知られる。例えば、エレクトロクロミック素子にプラス電圧を印加することで発色がえられ、マイナス電圧を印加することで消色して透明にすることができることから、プラス電圧とマイナス電圧との印加の切り替えを行うことが可能なスイッチを設けることで、エレクトロクロミック素子における発色と消色とを、任意のタイミングで行い得るようになる。
また、エレクトロクロミック素子の利用性を高める等の点から、正極用と負極用の一対の透明電極層によってエレクトロクロミック素子を挟持する構造が広く知られている。かかる透明電極層の材料は、良好な光透過性を得る点から、通常、酸化インジウムに酸化スズを添加したＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ；酸化インジウムスズ）が用いられている。
例えば、特許文献１（特開２０２２－１７６３３２号公報）には、ＩＴＯを用いた一対の透明電極層と、当該一対の透明電極層の間に設けられた調光層と、を有する、電子調光眼鏡用の電子素子が開示されている。
従来、特許文献１に開示されるようなエレクトロクロミック素子は、アイウエア等のレンズに利用されるため、光を良好に透過させるべく光透過性が着目されていた。
一方、近年のエレクトロクロミック素子への関心や技術水準の高まりに伴い、エレクトロクロミック素子を利用したアイウエア等のレンズは所望の色味に高精度に設計できること等が求められる。
一方、近年のエレクトロクロミック素子への関心や技術水準の高まりに伴い、エレクトロクロミック素子を利用したアイウエア等のレンズは所望の色味に高精度に設計できること等が求められる。
本件発明者は、色味の設計の自由度を高める点から鋭意検討を行ったところ、特許文献１に開示されるような従来技術は、光透過性が良好であったとしても、わずかに黄色みがかった反射光によって色味の設計の自由度の点で改善の余地があることを判明した。
そして、かかる反射光を制御すべく新たな指標を考案し、当該指標を満たすようにエレクトロクロミックシートを設計することで、かかる課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
そして、かかる反射光を制御すべく新たな指標を考案し、当該指標を満たすようにエレクトロクロミックシートを設計することで、かかる課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
本発明者は、色味の設計の自由度を向上させるべく、鋭意検討を行った結果、わずかに黄色みがかった反射光を制御すべく新たな指標を考案し、当該指標を満たすようにエレクトロクロミックシートを設計することが有効であることを見出し、本発明を完成させた。
本発明によれば、以下のエレクトロクロミックシートおよびこれに関する技術が提供される。
［１］ 支持体層と、
前記支持体層上に設けられた電解質層と、
前記電解質層の少なくとも一方の面に設けられたエレクトロクロミック層と、
前記支持体層上であって、前記電解質層および前記エレクトロミック層を挟むように位置する一対の透明電極層と、
を備えるエレクトロクロミックシートであって、以下の条件１を満たすように構成された、エレクトロクロミックシート。
（条件１）
当該エレクトロクロミックシートの前記支持体層側の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られる反射光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、当該反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標におけるａ＊が－１５～１５であり、ｂ＊が－２０～１０である。
［２］ ［１］に記載のエレクトロクロミックシートであって、
さらに以下の条件２を満たすように構成された、エレクトロクロミックシート。
（条件２）
当該エレクトロクロミックシートの前記支持体層側の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られる反射光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、当該反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標におけるＬ＊が２０～５０である。
［３］ ［１］または［２］に記載のエレクトロクロミックシートであって、
さらに以下の条件３を満たすように構成された、エレクトロクロミックシート。
（条件３）
当該エレクトロクロミックシートの前記支持体層側の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られる透過光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、透過率が７０～９９％である。
［４］ ［１］乃至［３］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記支持体層上であって、前記電解質層および前記エレクトロミック層の側面を覆う封止材をさらに有し、
さらに以下の条件４を満たすように構成された、エレクトロクロミックシート。
（条件４）
当該エレクトロクロミックシートを用いて、前記電解質層を中央部とし、前記封止材を外縁とする試験片（最大長さが２０ｍｍ以上）を作製し、当該試験片の両端をチャッキング部でチャッキングして、当該試験片の中央部を３０Ｎで３０秒間押圧し、押圧前の当該試験片の中央部と、押圧後の当該試験片の中央部との深さの差を変形量（ｍｍ）とする。当該変形量が０．０１ｍｍ～０．０９ｍｍである。
［５］ ［１］乃至［４］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記透明電極層の厚みが、４０～２００ｎｍである、エレクトロクロミックシート。
［６］ ［１］乃至［５］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記一対の前記透明電極層の少なくとも一方が多層構造である、エレクトロクロミックシート。
［７］ ［１］乃至［６］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記透明電極層が、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）、銀（Ａｇ）および銀合金、ならびにポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリ（ｐ－フェニレン）、ポリフルオレンおよびそれらの誘導体の中から選ばれる１種または２種以上を含有する、エレクトロクロミックシート。
［８］ ［１］乃至［６］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記透明電極層が、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）、および銀（Ａｇ）、銀合金、ならびにポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリ（ｐ－フェニレン）、ポリフルオレンおよびそれらの誘導体の中から選ばれるいずれかの材料を用いてなる層を備える、単層または多層構造である、エレクトロクロミックシート。
［９］ ［１］乃至［８］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記一対の透明電極層を構成する材料が互い異なる、エレクトロクロミックシート。
［１０］ ［１］乃至［８］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記一対の透明電極層を構成する材料が同一である、エレクトロクロミックシート。
［１１］ ［１］乃至［１０］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記支持体層は、エピスルフィド系樹脂、チオウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース系樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、ノルボルネン系樹脂、およびシリコーン系樹脂の中から選ばれる１種または２種以上を含む、エレクトロクロミックシート。
［１２］ ［１］乃至［１１］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートを用いた、エレクトロクロミック装置。
前記支持体層上に設けられた電解質層と、
前記電解質層の少なくとも一方の面に設けられたエレクトロクロミック層と、
前記支持体層上であって、前記電解質層および前記エレクトロミック層を挟むように位置する一対の透明電極層と、
を備えるエレクトロクロミックシートであって、以下の条件１を満たすように構成された、エレクトロクロミックシート。
（条件１）
当該エレクトロクロミックシートの前記支持体層側の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られる反射光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、当該反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標におけるａ＊が－１５～１５であり、ｂ＊が－２０～１０である。
［２］ ［１］に記載のエレクトロクロミックシートであって、
さらに以下の条件２を満たすように構成された、エレクトロクロミックシート。
（条件２）
当該エレクトロクロミックシートの前記支持体層側の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られる反射光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、当該反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標におけるＬ＊が２０～５０である。
［３］ ［１］または［２］に記載のエレクトロクロミックシートであって、
さらに以下の条件３を満たすように構成された、エレクトロクロミックシート。
（条件３）
当該エレクトロクロミックシートの前記支持体層側の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られる透過光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、透過率が７０～９９％である。
［４］ ［１］乃至［３］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記支持体層上であって、前記電解質層および前記エレクトロミック層の側面を覆う封止材をさらに有し、
さらに以下の条件４を満たすように構成された、エレクトロクロミックシート。
（条件４）
当該エレクトロクロミックシートを用いて、前記電解質層を中央部とし、前記封止材を外縁とする試験片（最大長さが２０ｍｍ以上）を作製し、当該試験片の両端をチャッキング部でチャッキングして、当該試験片の中央部を３０Ｎで３０秒間押圧し、押圧前の当該試験片の中央部と、押圧後の当該試験片の中央部との深さの差を変形量（ｍｍ）とする。当該変形量が０．０１ｍｍ～０．０９ｍｍである。
［５］ ［１］乃至［４］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記透明電極層の厚みが、４０～２００ｎｍである、エレクトロクロミックシート。
［６］ ［１］乃至［５］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記一対の前記透明電極層の少なくとも一方が多層構造である、エレクトロクロミックシート。
［７］ ［１］乃至［６］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記透明電極層が、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）、銀（Ａｇ）および銀合金、ならびにポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリ（ｐ－フェニレン）、ポリフルオレンおよびそれらの誘導体の中から選ばれる１種または２種以上を含有する、エレクトロクロミックシート。
［８］ ［１］乃至［６］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記透明電極層が、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）、および銀（Ａｇ）、銀合金、ならびにポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリ（ｐ－フェニレン）、ポリフルオレンおよびそれらの誘導体の中から選ばれるいずれかの材料を用いてなる層を備える、単層または多層構造である、エレクトロクロミックシート。
［９］ ［１］乃至［８］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記一対の透明電極層を構成する材料が互い異なる、エレクトロクロミックシート。
［１０］ ［１］乃至［８］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記一対の透明電極層を構成する材料が同一である、エレクトロクロミックシート。
［１１］ ［１］乃至［１０］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記支持体層は、エピスルフィド系樹脂、チオウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース系樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、ノルボルネン系樹脂、およびシリコーン系樹脂の中から選ばれる１種または２種以上を含む、エレクトロクロミックシート。
［１２］ ［１］乃至［１１］いずれか一つに記載のエレクトロクロミックシートを用いた、エレクトロクロミック装置。
本発明は、色味の設計の自由度を向上できるエレクトロクロミックシートを提供する。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ、詳細に説明する。
煩雑さを避けるため、同一図面内に同一の構成要素が複数ある場合には、その１つのみに符号を付し、全てには符号を付さない場合がある。すべての図面はあくまで説明用のものである。図面中の各部材の形状や寸法比等は、必ずしも現実の物品と対応するものではない。
煩雑さを避けるため、同一図面内に同一の構成要素が複数ある場合には、その１つのみに符号を付し、全てには符号を付さない場合がある。すべての図面はあくまで説明用のものである。図面中の各部材の形状や寸法比等は、必ずしも現実の物品と対応するものではない。
本明細書中、数値範囲の説明における「ａ～ｂ」との表記は、特に断らない限り、ａ以上ｂ以下のことを表す。例えば、「１～５質量％」とは「１質量％以上５質量％以下」を意味する。また、数値範囲の下限値および上限値は、それぞれ他の数値範囲の下限値および上限値と任意に組み合わせられる。
本明細書に例示する各成分および材料は、特に断らない限り、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
本実施形態において「覆う」とは連続的である場合に限られず、一部に非連続的な部分があってもよいことを意味する。
＜エレクトロクロミックシート＞
図１は、エレクトロクロミックシート１００の実施形態の一例を示す模式断面図である。
図１に示すように、エレクトロクロミックシート１００は、電解質層４、第１エレクトロクロミック層３および第２エレクトロクロミック層５が順に積層した積層体（以下、「エレクトロクロミック素子１０」ともいう）と、エレクトロクロミック素子１０の側面を覆う封止材８と、エレクトロクロミック素子１０と封止材８の上下面を挟む一対の支持体層（第１透明基材層１、および第２透明基材層７）と、を備える。
換言すると、エレクトロクロミックシート１００は、第１透明基材層１上に、順次積層された第１エレクトロクロミック層３、電解質層４、第２エレクトロクロミック層５、および第２透明基材層７を備え、第１エレクトロクロミック層３、電解質層４および第２エレクトロクロミック層５の側面がそれぞれ封止材８により覆われている。
図１は、エレクトロクロミックシート１００の実施形態の一例を示す模式断面図である。
図１に示すように、エレクトロクロミックシート１００は、電解質層４、第１エレクトロクロミック層３および第２エレクトロクロミック層５が順に積層した積層体（以下、「エレクトロクロミック素子１０」ともいう）と、エレクトロクロミック素子１０の側面を覆う封止材８と、エレクトロクロミック素子１０と封止材８の上下面を挟む一対の支持体層（第１透明基材層１、および第２透明基材層７）と、を備える。
換言すると、エレクトロクロミックシート１００は、第１透明基材層１上に、順次積層された第１エレクトロクロミック層３、電解質層４、第２エレクトロクロミック層５、および第２透明基材層７を備え、第１エレクトロクロミック層３、電解質層４および第２エレクトロクロミック層５の側面がそれぞれ封止材８により覆われている。
さらに、本実施形態のエレクトロクロミックシート１００は、第１透明基材層１と第１エレクトロクロミック層３との間に第１透明電極層２を有し、第２透明基材層７と第２エレクトロクロミック層５との間に第２透明電極層６を有している。
換言すると、エレクトロクロミックシート１００は、第１透明基材層１（支持体層）上であって、エレクトロミック層３、電解質層およびエレクトロミック層５を挟むように位置する一対の電極層（第１透明電極層２および第２透明電極層６）を備える。本実施形態において、第１透明電極層２および第２透明電極層６は透明である。
なお、透明とは、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られた透過光の透過率が６５％以上であって、かつヘイズが３．０以下であることを意図する。
換言すると、エレクトロクロミックシート１００は、第１透明基材層１（支持体層）上であって、エレクトロミック層３、電解質層およびエレクトロミック層５を挟むように位置する一対の電極層（第１透明電極層２および第２透明電極層６）を備える。本実施形態において、第１透明電極層２および第２透明電極層６は透明である。
なお、透明とは、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られた透過光の透過率が６５％以上であって、かつヘイズが３．０以下であることを意図する。
さらに、図１に示すように、エレクトロクロミックシート１００は、封止材８の厚み方向に貫通する第１の柱状導電部２２および第２の柱状導電部６２を有する。第１の柱状導電部２２および第２の柱状導電部６２はいずれも電解質層４と電気的に接続している。
また、第１の柱状導電部２２は、封止材８を貫通し、第１透明電極層２上に設けられた第１の補助電極層２１から、第２透明基材層７まで到達している。同様に、第２の柱状導電部６２は、封止材８を貫通し、第２透明電極層６上に設けられた第２の補助電極層６１から、第１透明基材層１まで到達している。
また、第１の柱状導電部２２は、封止材８を貫通し、第１透明電極層２上に設けられた第１の補助電極層２１から、第２透明基材層７まで到達している。同様に、第２の柱状導電部６２は、封止材８を貫通し、第２透明電極層６上に設けられた第２の補助電極層６１から、第１透明基材層１まで到達している。
本実施形態において、エレクトロクロミックシート１００は、電解質層４の両面に第１エレクトロクロミック層３および第２エレクトロクロミック層５が積層された例を挙げて説明するが、エレクトロクロミック層はいずれか一方のみであってもよい。
また、図１は、エレクトロクロミックシート１００の一部であり、単一のエレクトロクロミック素子１０とそれを囲う封止材９部分を取り上げて示しているが、エレクトロクロミックシート１００は、複数のエレクトロクロミック素子１０が、各エレクトロクロミック素子１０の側面を覆う封止材８によって区画されたものであってもよい。
本実施形態のエレクトロクロミックシート１００は、以下の条件１を満たすように構成されている。これにより、エレクトロクロミックシート１００およびこれを用いたレンズ等の色味の設計の自由度を向上できる。すなわち、従来技術では、エレクトロクロミックシートを着色しても所望の色味が得られないことがあったのに対し、本実施形態のエレクトロクロミックシート１００によれば、所定の方法で測定される反射光のａ＊値およびｂ＊値を制御することで反射光自体に色味が生じることを抑制できるため、所望の色味が得られやすくなる。
さらに、本実施形態のエレクトロクロミックシート１００によれば、加工性（機械的強度）を良好にできる。
さらに、本実施形態のエレクトロクロミックシート１００によれば、加工性（機械的強度）を良好にできる。
（条件１）
エレクトロクロミックシート１００の第１透明基材層１（支持体層）側の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られる反射光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、当該反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標におけるａ＊が－１５～１５であり、ｂ＊が－２０～１０である。
エレクトロクロミックシート１００の第１透明基材層１（支持体層）側の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られる反射光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、当該反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標におけるａ＊が－１５～１５であり、ｂ＊が－２０～１０である。
かかる作用効果が得られるメカニズムの詳細は明らかではないが、透過光ではなく反射光のａ＊値およびｂ＊値を制御することで、エレクトロクロミックシート１００の見た目の色味を高度に制御できるようになり、所望の色味が得られ、設計の自由度を広げられると考えられる。
条件１において、ａ＊は－１５～１５であり、好ましくは－１０～１０であり、より好ましくは－５～５である。
条件１において、ｂ＊は－２０～１０であり、好ましくは－１５～５であり、より好ましくは－１０～０である。
条件１において、ｂ＊は－２０～１０であり、好ましくは－１５～５であり、より好ましくは－１０～０である。
本実施形態のエレクトロクロミックシート１００は、さらに、以下の条件２を満たすように構成されている。これにより、エレクトロクロミックシート１００およびこれを用いたレンズ等の色味の設計の自由度をより高精度に向上できる。
（条件２）
エレクトロクロミックシート１００の第１透明基材層１（支持体層）の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られる反射光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、当該反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標におけるＬ＊が２０～５０である。
エレクトロクロミックシート１００の第１透明基材層１（支持体層）の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られる反射光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、当該反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標におけるＬ＊が２０～５０である。
条件２において、Ｌ＊は２０～５０であり、好ましくは２５～４５であり、より好ましくは３０～４０である。
本実施形態のエレクトロクロミックシート１００は、さらに、以下の条件３を満たすように構成されている。これにより、エレクトロクロミックシート１００およびこれを用いたレンズ等の色味の設計の自由度をより高精度に向上できる。
（条件３）
エレクトロクロミックシート１００の第１透明基材層１（支持体層）側の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られる透過光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、透過率が７０～９９％である。
エレクトロクロミックシート１００の第１透明基材層１（支持体層）側の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られる透過光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、透過率が７０～９９％である。
条件３において、透過率は７０～９９％であり、好ましくは７５～９９％であり、より好ましくは８０～９９％である。
また、エレクトロクロミックシート１００の第１透明基材層１（支持体層）側の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られる反射光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、反射率は、好ましくは５～１５％であり、より好ましくは８～１２％である。
なお、本実施形態においては、エレクトロクロミックシート１００は、電解質層４の両面に第１エレクトロクロミック層３および第２エレクトロクロミック層５が積層されているため、条件１～３において、第２透明基材層（支持体層）側の面に対しＤ６５光源による光を入射角９０°で照射して反射光を測定してもよい。
本実施形態のエレクトロクロミックシート１００は、さらに、以下の条件４を満たすように構成されている。これにより、エレクトロクロミックシート１００およびこれを用いたレンズ等の色味の設計の自由度をより高精度に向上できる。
（条件４）
エレクトロクロミックシート１００を用いて、電解質層４を中央部とし、封止材８を外縁とする試験片（最大長さが２０ｍｍ以上）を作製し、当該試験片の両端をチャッキング部でチャッキングして、当該試験片の中央部を３０Ｎで３０秒間押圧し、押圧前の当該試験片の中央部と、押圧後の当該試験片の中央部との深さの差を変形量（ｍｍ）とする。当該変形量が０．０１ｍｍ～０．０９ｍｍである。
エレクトロクロミックシート１００を用いて、電解質層４を中央部とし、封止材８を外縁とする試験片（最大長さが２０ｍｍ以上）を作製し、当該試験片の両端をチャッキング部でチャッキングして、当該試験片の中央部を３０Ｎで３０秒間押圧し、押圧前の当該試験片の中央部と、押圧後の当該試験片の中央部との深さの差を変形量（ｍｍ）とする。当該変形量が０．０１ｍｍ～０．０９ｍｍである。
条件４において、変形量は０．０１ｍｍ～０．０９ｍｍであり、好ましくは０．０２～０．０８ｍｍであり、より好ましくは０．０３～０．０７ｍｍである。
これにより、良好な加工性を保持しつつ、機械的強度を向上できる。より具体的には、例えば、エレクトロクロミックシート１００の打ち抜き加工時や湾曲形状への変形時、度付きレンズとする際の表面加工、レンズ切削加工時のチャッキング等、電解質層４に負荷がかかる場合であっても、電解質層４の変形、凹みを抑制できる。
さらに、エレクトロクロミックシート１００は、条件４の測定において、降伏点を有さないことが好ましい。これにより、より安定的に良好な加工性が得られる。
上記条件４において、試験片の形状は、電解質層４の形状および電解質層４の側面を覆う封止部８に応じて適宜調整されるが、少なくとも最大長さが２０ｍｍ以上である。試験片の形状が四角形である場合は、一辺が２０ｍｍ以上であり、他方の辺が３０ｍｍ以上であることが好ましい。また試験片の形状の上限値は、特に限定されず、測定機器のステージからはみ出さないものであればよい。中央部とは、試験片の平面視における中心点を含む領域である。
本実施形態において、上記の条件１～４を満たすエレクトロクロミックシート１００は、公知の方法を組み合わせることにより、当業者が適宜調整できるものである。
例えば、第１透明電極層２および第２透明電極層６の構成材料や層構成、厚み、第１透明電極層２および第２透明電極層６の組み合わせ、封止材９の材料の選択、電解質層４の材料や作製手順、エレクトロクロミックシート１００の製造手順、製造条件等を調整することにより実現できる。具体的には、第１透明電極層２および第２透明電極層６の構成材料としてＩＴＯ以外のものを用いたり、多層構造とすること等が挙げられる。
例えば、第１透明電極層２および第２透明電極層６の構成材料や層構成、厚み、第１透明電極層２および第２透明電極層６の組み合わせ、封止材９の材料の選択、電解質層４の材料や作製手順、エレクトロクロミックシート１００の製造手順、製造条件等を調整することにより実現できる。具体的には、第１透明電極層２および第２透明電極層６の構成材料としてＩＴＯ以外のものを用いたり、多層構造とすること等が挙げられる。
以下、エレクトロクロミックシート１００の各構成の詳細について説明する。
［透明電極層］
本実施形態において、第１透明電極層２と第２透明電極層６は、第１エレクトロクロミック層３、電解質層４および第２エレクトロクロミック層５を挟む一対の電極層である。
本実施形態において、第１透明電極層２と第２透明電極層６は、第１エレクトロクロミック層３、電解質層４および第２エレクトロクロミック層５を挟む一対の電極層である。
第１透明電極層２および第２透明電極層６は、それぞれ第１エレクトロクロミック層３、電解質層４、第２エレクトロクロミック層５にプラス電圧またはマイナス電圧を印加した際に、第１透明電極層２と第２透明電極層６との間に電子を供給するか、または、第１透明電極層２と第２透明電極層６との間から電子を受け取る電極である。
第１透明電極層２は第１エレクトロクロミック層３の電解質層４側とは反対側の面上に設けられている。第２透明電極層６は第２エレクトロクロミック層５の電解質層４側とは反対側の面上に設けられている。
第１透明電極層２は第１エレクトロクロミック層３の電解質層４側とは反対側の面上に設けられている。第２透明電極層６は第２エレクトロクロミック層５の電解質層４側とは反対側の面上に設けられている。
第１透明電極層２および第２透明電極層６は、単層または２層以上が積層した多層構造のいずれであってもよく、少なくともいずれか一方が多層構造であることが好ましい。
また、第１透明電極層２および第２透明電極層６の層構造は互いに同一であってもよく、異なっていてもよく、また、電解層４を中心に対称構造であってもよい。
また、第１透明電極層２および第２透明電極層６の層構造は互いに同一であってもよく、異なっていてもよく、また、電解層４を中心に対称構造であってもよい。
第１透明電極層２および第２透明電極層６は、その平均厚さが、第１エレクトロクロミック層３、および第２エレクトロクロミック層５の酸化還元反応に必要な電気抵抗値が得られ、かつ設計の自由度を向上させる点から調整される。
第１透明電極層２および第２透明電極層６の厚みが、４０～２００ｎｍであることが好ましく、７０～１７５ｎｍであることがより好ましく、１００～１５０ｎｍであることがさらに好ましい。
第１透明電極層２および第２透明電極層６の厚みを上記下限値以上とすることにより、抵抗値が上がり過ぎることを防ぎ、エレクトロクロミックシートとしての性能を維持することができる。一方、第１透明電極層２および第２透明電極層６の厚みを上記上限値以下とすることにより、透過率が下がり過ぎることを防ぎ、外観の設計の自由度を向上させることができる。また、第１透明電極層２および第２透明電極層６の厚みを上記下限値以上、上限値以下の範囲に収めることで、反射光の色合いを透明に保ち、レンズの設計の自由度を向上させることができる。
第１透明電極層２および第２透明電極層６の厚みが、４０～２００ｎｍであることが好ましく、７０～１７５ｎｍであることがより好ましく、１００～１５０ｎｍであることがさらに好ましい。
第１透明電極層２および第２透明電極層６の厚みを上記下限値以上とすることにより、抵抗値が上がり過ぎることを防ぎ、エレクトロクロミックシートとしての性能を維持することができる。一方、第１透明電極層２および第２透明電極層６の厚みを上記上限値以下とすることにより、透過率が下がり過ぎることを防ぎ、外観の設計の自由度を向上させることができる。また、第１透明電極層２および第２透明電極層６の厚みを上記下限値以上、上限値以下の範囲に収めることで、反射光の色合いを透明に保ち、レンズの設計の自由度を向上させることができる。
また、例えば、第１透明電極層２および第２透明電極層６の構成材料としてＩＴＯを用いた場合には、それぞれ独立して、好ましくは５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下、より好ましくは１００ｎｍ以上１５０ｎｍ以下に設定される。
なお、第１透明電極層２および第２透明電極層６との間における各層の間には、例えば、絶縁性多孔質層、保護層等の中間層が設けられていてもよい。
第１透明電極層２および第２透明電極層６の厚みは互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。また、第１透明電極層２および第２透明電極層６の厚みは後述する構成材料に応じて、設定されることが好ましい。
第１透明電極層２および第２透明電極層６の構成材料としては、透明性を有する導電材料であれば、特に限定されるものではないが、例えば、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）、銀（Ａｇ）および銀合金、ならびにポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリ（ｐ－フェニレン）、ポリフルオレンおよびそれらの誘導体の中から選ばれる１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
第１透明電極層２および第２透明電極層６の構成材料は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。なかでも、設計の自由度を向上する点からは、第１透明電極層２および第２透明電極層６の一方がスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）を含む場合、他方はスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）を含まないものとすることが好ましく、両方がスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）を含むものとすることがより好ましい。
具体的には、第１透明電極層２および第２透明電極層６は、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）、および銀（Ａｇ）、銀合金、ならびにポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリ（ｐ－フェニレン）、ポリフルオレンおよびそれらの誘導体の中から選ばれるいずれかの材料を用いてなる層を備える、単層または多層構造であることが好ましい。なかでも、設計の自由度を向上する点からは、第１透明電極層２および第２透明電極層６の一方がスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）からなる層を含む場合、他方はスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）からなる層を含まないものとすることが好ましく、両方がスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）を含む層とすることがより好ましく、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）を２以上含む層とすることがさらに好ましい。
第１透明電極層２および第２透明電極層６の各々の作製方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等が挙げられる。また、第１透明電極層２および第２透明電極層６の各々の材料が塗布形成できるものであれば、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の各種印刷法等が挙げられる。
［電解質層］
電解質層４は、第１エレクトロクロミック層３と第２エレクトロクロミック層５との間に配置され、イオン電導性を有する電解質を含有するものである。
電解質層４は、第１エレクトロクロミック層３と第２エレクトロクロミック層５との間に配置され、イオン電導性を有する電解質を含有するものである。
電解質層４の平均厚さは、特に限定されないが、好ましくは２０μｍ以上１００μｍ以下程度、より好ましくは４０μｍ以上８０μｍ以下程度に設定される。
電解質層４は、バインダー樹脂、および電解質を含む。
前記バインダー樹脂は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、重合膜としての相分離温度、膜強度の点で、ウレタン樹脂ユニットを含むことが好ましい。またポリエチレンオキシド（ＰＥＯ）鎖を含むことで、電解質との相溶性が向上し、相分離温度を高めることができる。また、ポリメチルメタリクレート（ＰＭＭＡ）鎖を含むことで、ＰＥＯ鎖を含むのと同様に、電解質との相溶性が向上し、相分離温度を高めることができる。
電解質としては、特に限定されないが、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の無機イオン塩、４級アンモニウム塩や酸類、アルカリ類の支持塩等が挙げられ、具体的には、ＬｉＣｌＯ４、ＬｉＢＦ４、ＬｉＡｓＦ６、ＬｉＰＦ６、ＬｉＣＦ３ＳＯ３、ＬｉＣＦ３ＣＯＯ、ＫＣｌ、ＮａＣｌＯ３、ＮａＣｌ、ＮａＢＦ４、ＮａＳＣＮ、ＫＢＦ４、Ｍｇ（ＣｌＯ４）２、Ｍｇ（ＢＦ４）２等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの他、電解質の材料としては、イオン性液体を用いることもできる。このイオン性液体の中でも、有機のイオン性液体は、室温を含む幅広い温度領域で液体を示す分子構造を有していることから、取り扱いが容易であるため好ましく用いられる。
有機のイオン性液体の分子構造として、カチオン成分としては、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルイミダゾール塩、Ｎ，Ｎ－メチルエチルイミダゾール塩、Ｎ，Ｎ－メチルプロピルイミダゾール塩等のイミダゾール誘導体；Ｎ，Ｎ－ジメチルピリジニウム塩、Ｎ，Ｎ－メチルプロピルピリジニウム塩等のピリジニウム誘導体；トリメチルプロピルアンモニウム塩、トリメチルヘキシルアンモニウム塩、トリエチルヘキシルアンモニウム塩等の脂肪族４級アンモニウム系等が挙げられる。また、アニオン成分としては、大気中での安定性を考慮して、フッ素を含んだ化合物を用いることが好ましく、例えば、ＢＦ４
－、ＣＦ３ＳＯ３
－、ＰＦ４
－、（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ－等が挙げられる。
このような電解質の材料としては、カチオン成分とアニオン成分とを任意に組み合わせたイオン性液体であることが好ましい。
イオン性液体は、光重合性モノマー、オリゴマー、および液晶材料のいずれかに直接溶解させてもよい。なお、これらの材料に対する溶解性が悪い場合には、少量の溶媒に溶解させた溶液を得た後に、この溶液を光重合性モノマー、オリゴマー、および液晶材料のいずれかと混合することで溶解させてもよい。
溶媒としては、例えば、プロピレンカーボネート、アセトニトリル、γ－ブチロラクトン、エチレンカーボネート、スルホラン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、１，２－ジメトキシエタン、１，２－エトキシメトキシエタン、ポリエチレングリコール、アルコール類、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
電解質層４として充填される電解質は、固体、液体のいずれであってもよいが、電解質が低粘性の液体である場合の他、例えば、ゲル状や高分子架橋型、液晶分散型等の様々な形態をとることが可能である。中でも、電解質は、ゲル状、固体状に形成することが好ましい。これによりエレクトロクロミック素子１０の素子強度向上や、信頼性向上等を図ることができる。
電解質層４を、固体状をなすものとする方法としては、例えば、電解質と溶媒とを含む液体をバインダー樹脂中に保持する方法が好ましい。これにより、電解質層４の高いイオン伝導度と固体強度との双方を得ることができる。また、ポリマー樹脂としては、例えば、光硬化性樹脂であることが好ましい。これにより、熱重合や、溶媒の気化により固体状をなす電解質層４を得る場合と比較して、低温かつ短時間で、固体状をなす電解質層４を得ることができる。
電解質層４がゲル状である場合、例えば、以下のようにして作製することができる。
まず、組成物溶液を作製し、作製した組成物溶液を型やフィルムに挟んで重合させるキャスト重合法等を用いた重合反応により製造することができる。前記組成物溶液は、前記イオン液体あるいは固体電解質を溶媒と混合した電解液と、重合性材料とウレタンアクリレートモノマー、及び必要に応じて、ＰＥＯ鎖を有するアクリレートモノマー、及び必要に応じて、ＰＭＭＡ鎖を有するアクリレートモノマーを所望比率で混合し、必要に応じて、前記重合開始剤、及びその他の成分を混合することができる。
その他の作製方法としては、重合前の組成物溶液を、一方のエレクトロクロミック層上に塗布し、紫外線照射や加熱によって重合させる方法も用いることができる。また、前記エレクトロクロミック層を形成した前記支持体を５μｍ以上１５０μｍ以下のギャップを保持した状態で対向させ、組成物溶液を充填した後で紫外線照射や加熱によって重合させる方法も用いることができる。
まず、組成物溶液を作製し、作製した組成物溶液を型やフィルムに挟んで重合させるキャスト重合法等を用いた重合反応により製造することができる。前記組成物溶液は、前記イオン液体あるいは固体電解質を溶媒と混合した電解液と、重合性材料とウレタンアクリレートモノマー、及び必要に応じて、ＰＥＯ鎖を有するアクリレートモノマー、及び必要に応じて、ＰＭＭＡ鎖を有するアクリレートモノマーを所望比率で混合し、必要に応じて、前記重合開始剤、及びその他の成分を混合することができる。
その他の作製方法としては、重合前の組成物溶液を、一方のエレクトロクロミック層上に塗布し、紫外線照射や加熱によって重合させる方法も用いることができる。また、前記エレクトロクロミック層を形成した前記支持体を５μｍ以上１５０μｍ以下のギャップを保持した状態で対向させ、組成物溶液を充填した後で紫外線照射や加熱によって重合させる方法も用いることができる。
［エレクトロクロミック層］
第１エレクトロクロミック層３および第２エレクトロクロミック層５は、エレクトロクロミック材料を含む層であり、電解質層４の上下面において電解質層４を挟むように配置される。
第１エレクトロクロミック層３および第２エレクトロクロミック層５は、エレクトロクロミック材料を含む層であり、電解質層４の上下面において電解質層４を挟むように配置される。
以下、第２エレクトロクロミック層５が金属ナノ粒子と、エレクトロクロミック材料を含む場合について説明するが、第１エレクトロクロミック層３が金属ナノ粒子と、エレクトロクロミック材料を含む場合であっても、酸化還元の作用が異なるものの、その他の構成、効果等は同様である。
（金属ナノ粒子）
金属ナノ粒子は、優れた導電性をし、エレクトロクロミック材料を通電することができる。
金属ナノ粒子としては、導電性を有する金属粒子であればよく、具体的には、例えば酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アンチモン（Ｖ）、酸化ジルコニウム、および酸化イットリウムの中から選ばれる１種または２種以上が挙げられる。なかでも、酸化錫、酸化チタンが好ましい。
金属ナノ粒子は、優れた導電性をし、エレクトロクロミック材料を通電することができる。
金属ナノ粒子としては、導電性を有する金属粒子であればよく、具体的には、例えば酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アンチモン（Ｖ）、酸化ジルコニウム、および酸化イットリウムの中から選ばれる１種または２種以上が挙げられる。なかでも、酸化錫、酸化チタンが好ましい。
金属ナノ粒子の平均一次粒子径（以下、「粒径」とも称する）は、１ｎｍ～１００ｎｍであることが好ましく、３～８ｎｍであることがより好ましい。
粒径を上記下限値以上とすることで良好な発消色性能を得ることができる。一方、粒径を上記上限値以下とすることで、第２エレクトロクロミック層５の透明性を保持したり、比表面積を高めることでエレクトロクロミック材料の担持量を増加させることができる。
粒径を上記下限値以上とすることで良好な発消色性能を得ることができる。一方、粒径を上記上限値以下とすることで、第２エレクトロクロミック層５の透明性を保持したり、比表面積を高めることでエレクトロクロミック材料の担持量を増加させることができる。
金属ナノ粒子が担持するエレクトロクロミック材料は、１種類または２種以上の化合物であってもよい。
なお、第２エレクトロクロミック層５は、金属ナノ粒子のゾル溶液から形成することが好ましい。これにより、良好なヘイズ値を得たり、反射率を高めることができる。
（エレクトロクロミック材料）
エレクトロクロミック材料は、電圧により、酸化還元反応を生じ、発色および消色を可逆的に行うことができるエレクトロクロミック化合物により構成されるものである。
エレクトロクロミック材料は、電圧により、酸化還元反応を生じ、発色および消色を可逆的に行うことができるエレクトロクロミック化合物により構成されるものである。
エレクトロクロミック材料としては、無機エレクトロクロミック化合物、有機エレクトロクロミック化合物のいずれであってもよく、色素系、ポリマー系、金属錯体系、および金属酸化物系等の公知のエレクトロクロミック化合物を用いることができる。
上記エレクトロクロミック材料としては、無機エレクトロクロミック化合物及び有機エレクトロクロミック化合物のいずれであっても構わない。また、エレクトロクロミズムを示すことで知られる導電性ポリマーを用いてもよい。
第１エレクトロクロミック層３と第２エレクトロクロミック層５には、これらエレクトロクロミック材料から適宜選択することが可能であるが、一方が酸化発色性を有するエレクトロクロミック材料を用いた場合には、他方は還元発色性を有するエレクトロクロミック材料を用いることが好ましい。
酸化発色性を有するエレクトロクロミック材料としては、ラジカル重合性化合物を含む酸化発色性エレクトロクロミック組成物を重合した重合物が好ましく、トリアリールアミンを有するラジカル重合性化合物を含有するエレクトロクロミック組成物が特に好ましい。
第１エレクトロクロミック層３と第２エレクトロクロミック層５には、これらエレクトロクロミック材料から適宜選択することが可能であるが、一方が酸化発色性を有するエレクトロクロミック材料を用いた場合には、他方は還元発色性を有するエレクトロクロミック材料を用いることが好ましい。
酸化発色性を有するエレクトロクロミック材料としては、ラジカル重合性化合物を含む酸化発色性エレクトロクロミック組成物を重合した重合物が好ましく、トリアリールアミンを有するラジカル重合性化合物を含有するエレクトロクロミック組成物が特に好ましい。
エレクトロクロミック材料の単分子の長さは、５ｎｍ以下であることが好ましい。
（第１エレクトロクロミック層）
第１エレクトロクロミック層３は、酸化反応によって着色を呈するエレクトロクロミック材料を主材料として含有し、これにより、着色がなされる層である。
第１エレクトロクロミック層３は、酸化反応によって着色を呈するエレクトロクロミック材料を主材料として含有し、これにより、着色がなされる層である。
第１エレクトロクロミック層３の平均厚さは、特に限定されないが、０．１μｍ以上３０μｍ以下程度であるのが好ましく、０．４μｍ以上１０μｍ以下程度であるのがより好ましい。
第１エレクトロクロミック層３に、主材料として含まれる、酸化反応によって着色を呈するエレクトロクロミック材料としては、特に限定されず、例えば、トリアリールアミンを有するラジカル重合性化合物を含む組成物を重合した重合物、ビスアクリダン化合物、プルシアンブルー型錯体、および酸化ニッケルが挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
トリアリールアミンを有するラジカル重合性化合物を含む組成物を重合した重合物としては、例えば、特開２０２２－２５２４３号公報、特開２０１６－４５４６４号公報、特開２０２０－１３８９２５号公報等に記載のものが挙げられる。
また、プルシアンブルー型錯体としては、例えば、Ｆｅ（ＩＩＩ）４［Ｆｅ（ＩＩ）（ＣＮ）６］３からなる材料が挙げられる。
これらの中でも、定電圧で動作可能であり、繰返し耐久性に優れ、高コントラストなエレクトロクロミック素子が得られる点から、特に、トリアリールアミンを有するラジカル重合性化合物を含む組成物を重合した重合物が好ましく用いられる。
なお、トリアリールアミンを有するラジカル重合性化合物を含む組成物は、トリアリールアミンを有するラジカル重合性化合物とは異なる他のラジカル重合性化合物を含み、かかる組成物を重合した重合物は、これらのラジカル重合性化合物が架橋した架橋物で構成されていてもよい。
（第２エレクトロクロミック層）
第２エレクトロクロミック層５は、還元反応によって透明から着色を呈するエレクトロクロミック材料を主材料として含有し、これにより、着色がなされる層である。
第２エレクトロクロミック層５は、還元反応によって透明から着色を呈するエレクトロクロミック材料を主材料として含有し、これにより、着色がなされる層である。
第２エレクトロクロミック層５の平均厚さは、特に限定されないが、０．２μｍ以上５．０μｍ以下程度であるのが好ましく、１．０μｍ以上４．０μｍ以下程度であるのがより好ましい。前記平均厚さが、０．２μｍ未満であると、エレクトロクロミック材料の種類によっては、発色濃度が得にくくなるおそれがあり、５．０μｍを超えると、製造コストが増大すると共に、エレクトロクロミック材料の種類によっては、着色によって視認性が低下するおそれがある。
第２エレクトロクロミック層５は、第１エレクトロクロミック層３と同じ色調のエレクトロクロミック材料を用いることが好ましい。これにより、最大発色濃度の向上が図られ、その結果、コントラストを改善することできる。
また、これに対して、異なる色調の材料を用いた場合には、混色が可能となる。また、第１透明電極層２および第２透明電極層６との両極側で、酸化反応と還元反応とにより着色させることで、エレクトロクロミック層３、電解質層４、および第２エレクトロクロミック層５における駆動電圧を効果的に低減し得ることから、エレクトロクロミックシート１００の繰返し耐久性の向上が図れる。
第２エレクトロクロミック層５に、主材料として含まれる、還元反応によって着色を呈するエレクトロクロミック材料としては、特に限定されず、例えば、無機エレクトロクロミック化合物、有機エレクトロクロミック化合物、導電性ポリマー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
無機エレクトロクロミック化合物としては、例えば、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化イリジウム、酸化チタン等が挙げられ、中でも、酸化タングステンが好ましい。酸化タングステンは、還元電位が低いことに基づいて、発消色電位が低く、さらに、無機材料であるため耐久性に優れることから、好ましく用いられる。
また、有機エレクトロクロミック化合物としては、例えば、アゾベンゼン系、アントラキノン系、ジアリールエテン系、ジヒドロプレン系、ジピリジン系、スチリル系、スチリルスピロピラン系、スピロオキサジン系、スピロチオピラン系、チオインジゴ系、テトラチアフルバレン系、テレフタル酸系、トリフェニルメタン系、トリフェニルアミン系、ナフトピラン系、ビオロゲン系、ピラゾリン系、フェナジン系、フェニレンジアミン系、フェノキサジン系、フェノチアジン系、フタロシアニン系、フルオラン系、フルギド系、ベンゾピラン系、メタロセン系等の低分子系有機エレクトロクロミック化合物等が挙げられ、中でも、ビオロゲン系化合物、ジピリジン系化合物が好ましい。これらの化合物は、発消色電位が低く、良好な色値を示すことから好ましく、用いられる。
ビオロゲン系化合物としては、例えば、特開２０２２－０２５２４３号公報、特許第３９５５６４１号公報、特開２００７－１７１７８１号公報等に記載のものが挙げられる。また、ジピリジン系化合物としては、例えば、特開２００７－１７１７８１号公報、特開２００８－１１６７１８号公報等に記載のものが挙げられる。
導電性ポリマーとしては、例えば、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、またはこれらの誘導体等が挙げられる。
［透明基材層（支持体層）］
第１透明基材層１および第２透明基材層７は、第１透明電極層２、第１エレクトロクロミック層３、電解質層４、第２エレクトロクロミック層５、第２透明電極層６、および封止材８を支持する機能を有する。
第１透明基材層１および第２透明基材層７は、第１透明電極層２、第１エレクトロクロミック層３、電解質層４、第２エレクトロクロミック層５、第２透明電極層６、および封止材８を支持する機能を有する。
また、第１透明基材層１および第２透明基材層７は、エレクトロクロミックシート１００の最外層を構成する。すなわち、少なくとも第１エレクトロクロミック層３、電解質層４、第２エレクトロクロミック層５は、外部に露出しないこととなる。そのため、第１エレクトロクロミック層３、電解質層４、第２エレクトロクロミック層５を外部からの水分や酸素ガス、物理的な衝撃・摩擦等から保護することができる。
第１透明基材層１および第２透明基材層７は、透明性を有する樹脂材料を主材料で構成されるものであれば、特に限定されないが、熱可塑性を有する透明樹脂（ベース樹脂）を主材料として含有するものであることが好ましい。
透明樹脂としては、特に限定されないが、例えば、エピスルフィド系樹脂、チオウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース系樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、ノルボルネン系樹脂、シリコーン系樹脂の中から選ばれる１種または２種以上が挙げられる。
これらの中でも、ポリカーボネート系樹脂またはポリアミド系樹脂であるのが好ましく、特にポリカーボネート系樹脂であるのが好ましい。ポリカーボネート系樹脂は、透明性（透光性）や剛性等の機械的強度に富み、さらに耐熱性も高いため、透明樹脂にポリカーボネート系樹脂を用いることで、第１透明基材層１および第２透明基材層７における透明性や耐衝撃性、耐熱性を向上させることができる。
このポリカーボネート系樹脂としては、各種の樹脂を用いることができるが、中でも、芳香族系ポリカーボネート系樹脂であることが好ましい。芳香族系ポリカーボネート系樹脂は、その主鎖に芳香族環を備えており、これにより、より優れた強度を有する第１透明基材層１および第２透明基材層７を得ることができる。
この芳香族系ポリカーボネート系樹脂は、例えば、ビスフェノールとホスゲンとの界面重縮合反応、ビスフェノールとジフェニルカーボネートとのエステル交換反応等により合成される。
ビスフェノールとしては、例えば、ビスフェノールＡや、以下の式（１Ａ）に示すポリカーボネートの繰り返し単位の起源となるビスフェノール（変性ビスフェノール）等が挙げられる。
（式（１Ａ）中、Ｘは、炭素数１～１８のアルキル基、芳香族基または環状脂肪族基であり、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立して、炭素数１～１２のアルキル基であり、ｍおよびｎは、それぞれ０～４の整数であり、ｐは、繰り返し単位の数である。）
なお、式（１Ａ）に示すポリカーボネートの繰り返し単位の起源となるビスフェノールとしては、具体的には、例えば４，４’－（ペンタン－２，２－ジイル）ジフェノール、４，４’－（ペンタン－３，３－ジイル）ジフェノール、４，４’－（ブタン－２，２－ジイル）ジフェノール、１，１’－（シクロヘキサンジイル）ジフェノール、２－シクロヘキシル－１，４－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ベンゼン、２，３－ビスシクロヘキシル－１，４－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１’－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）シクロヘキサン、２，２’－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）プロパン等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
なかでもポリカーボネート系樹脂としては、ビスフェノールに由来する骨格を有するビスフェノール型ポリカーボネート系樹脂を主成分とするのが好ましい。かかるビスフェノール型ポリカーボネート系樹脂を用いることにより、第１透明基材層１および第２透明基材層７は、さらに優れた強度を発揮する。
本実施形態において、第２透明基材層７の波長３２０ｎｍにおける吸光度は、好ましくは１以下であり、より好ましくは０．８以下である。
第２透明基材層７の波長２９５ｎｍにおける吸光度は、好ましくは１以下であり、より好ましくは０．８以下である。
また、本実施形態において、第２透明基材層７は紫外線吸収剤を含まないものとしてもよい。この場合、本実施形態のエレクトロクロミックシート１００を用いたアイウエア等において、紫外線カット機能を付与することができる。
一方、本実施形態において、第１透明基材層１は、公知の紫外線吸収剤を含んでもよい。
第２透明基材層７の波長２９５ｎｍにおける吸光度は、好ましくは１以下であり、より好ましくは０．８以下である。
また、本実施形態において、第２透明基材層７は紫外線吸収剤を含まないものとしてもよい。この場合、本実施形態のエレクトロクロミックシート１００を用いたアイウエア等において、紫外線カット機能を付与することができる。
一方、本実施形態において、第１透明基材層１は、公知の紫外線吸収剤を含んでもよい。
・着色剤
第１透明基材層１および第２透明基材層７は、光透過性を有していれば、さらに着色剤を含んでもよく、その色は、無色であっても、赤色、青色、黄色等、如何なる色であってもよい。
第１透明基材層１および第２透明基材層７は、光透過性を有していれば、さらに着色剤を含んでもよく、その色は、無色であっても、赤色、青色、黄色等、如何なる色であってもよい。
これらの色の選択は、第１透明基材層１および第２透明基材層７に染料または顔料といった着色剤を含有させることにより可能になる。
染料としては、例えば、酸性染料、直接染料、反応性染料、および塩基性染料等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
染料としては、例えば、酸性染料、直接染料、反応性染料、および塩基性染料等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
染料の具体例としては、例えば、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー１７，２３，４２，４４，７９，１４２、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド５２，８０，８２，２４９，２５４，２８９、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー９，４５，２４９、Ｃ．Ｉ．アシッドブラック１，２，２４，９４、Ｃ．Ｉ．フードブラック１，２、Ｃ．Ｉ．ダイレクトイエロー１，１２，２４，３３，５０，５５，５８，８６，１３２，１４２，１４４，１７３、Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド１，４，９，８０，８１，２２５，２２７、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー１，２，１５，７１，８６，８７，９８，１６５，１９９，２０２、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブラック１９，３８，５１，７１，１５４，１６８，１７１，１９５、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１４，３２，５５，７９，２４９、Ｃ．Ｉ．リアクティブブラック３，４，３５等が挙げられる。
第１透明基材層１および第２透明基材層７は、必要に応じて、上述した、透明樹脂、染料または顔料の他に、さらに、酸化防止剤、フィラー、可塑剤、光安定剤、紫外線吸収剤、熱線吸収剤、難燃剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。
また、第１透明基材層１および第２透明基材層７は、延伸されたものであってもよいし、非延伸のものであってもよい。
さらに、第１透明基材層１および第２透明基材層７の波長５８９ｎｍでの屈折率は、１．３以上１．８以下であるのが好ましく、１．４以上１．６５以下であるのがより好ましい。第１透明基材層１および第２透明基材層７の屈折率ｎ１を上記数値範囲とすることにより、エレクトロクロミックシート１００の発消色機能が視認されやすくなる。
第１透明基材層１および第２透明基材層７の平均厚さは、好ましくは０．１ｍｍ以上１０．０ｍｍ以下、より好ましくは０．３ｍｍ以上５．０ｍｍ以下に設定される。
第１透明基材層１および第２透明基材層７の平均厚さがかかる範囲内に設定されることで、エレクトロクロミックシート１００の薄型化を図りつつ、エレクトロクロミックシート１００に撓みが生じるのを的確に抑制または防止することができる。
第１透明基材層１および第２透明基材層７の平均厚さがかかる範囲内に設定されることで、エレクトロクロミックシート１００の薄型化を図りつつ、エレクトロクロミックシート１００に撓みが生じるのを的確に抑制または防止することができる。
第１透明基材層と第２透明基材層７は、互いに同じ構成材料としてもよく、また、異なるものとしてもよい。また、いずれも延伸されたものであってもよいし、一方のみを未延伸のものとしてもよい。
第１透明基材層と第２透明基材層７は、互いに同じ屈折率としてもよく、また、異なるものとしてもよい。また、第１透明基材層と第２透明基材層７は、互いに同じ厚みとしてもよく、また、異なるものとしてもよい。
［封止材］
封止材８は、電解質層４の側面と、第１エレクトロクロミック層３および第２エレクトロクロミック層５の側面とを一体に覆い、外部からエレクトロクロミック素子１０への水分や酸素ガスの侵入を防ぐとともに、第１透明基材層１および第２透明基材層７と接着しエレクトロクロミック素子１０との剥離を防ぐために用いられる。また、対向する第１透明電極層２および第２透明電極層６の間に形成された第１エレクトロクロミック層３および第２エレクトロクロミック層５の位置がずれると、動作時に発色品質が低下してしまうため、これを抑止するために用いられる。
封止材８は、電解質層４の側面と、第１エレクトロクロミック層３および第２エレクトロクロミック層５の側面とを一体に覆い、外部からエレクトロクロミック素子１０への水分や酸素ガスの侵入を防ぐとともに、第１透明基材層１および第２透明基材層７と接着しエレクトロクロミック素子１０との剥離を防ぐために用いられる。また、対向する第１透明電極層２および第２透明電極層６の間に形成された第１エレクトロクロミック層３および第２エレクトロクロミック層５の位置がずれると、動作時に発色品質が低下してしまうため、これを抑止するために用いられる。
封止材８の平均厚さ（積層方向の長さ）は、エレクトロクロミック素子１０の平均厚さに応じて調整されるが、例えば、好ましくは２０μｍ以上１００μｍ以下程度、より好ましくは４０μｍ以上８０μｍ以下程度に設定される。
封止材８は、後述の封止材料を用いて形成される。
（封止材料）
本実施形態の封止材料としては、絶縁性材料であれば、特に限定されないが、硬化性樹脂を含むことが好ましい。
本実施形態の封止材料としては、絶縁性材料であれば、特に限定されないが、硬化性樹脂を含むことが好ましい。
・硬化性樹脂
硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、マレイミド樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、シアネート樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、および不飽和ポリエステル樹脂の中から選ばれる１種または２種以上が挙げられる。紫外線反応性官能基、および熱反応性官能基の少なくとも一方を有するものが好ましく、（メタ）アクリロイル基および／またはエポキシ基を有するものがより好ましい。硬化性樹脂としては、例えば、（メタ）アクリレート、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂等が挙げられる。
硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、マレイミド樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、シアネート樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、および不飽和ポリエステル樹脂の中から選ばれる１種または２種以上が挙げられる。紫外線反応性官能基、および熱反応性官能基の少なくとも一方を有するものが好ましく、（メタ）アクリロイル基および／またはエポキシ基を有するものがより好ましい。硬化性樹脂としては、例えば、（メタ）アクリレート、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂等が挙げられる。
上記（メタ）アクリレートとしては特に限定されず、例えば、ウレタン結合を有するウレタン（メタ）アクリレート、グリシジル基を有する化合物と（メタ）アクリル酸とから誘導されるエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
上記ウレタン（メタ）アクリレートとしては特に限定されず、例えば、イソホロンジイソシアネート等のジイソシアネートと、アクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレート等のイソシアネートと付加反応する反応性化合物との誘導体等が挙げられる。これらの誘導体はカプロラクトンやポリオール等で鎖延長させてもよい。
上記エポキシ（メタ）アクリレートとしては特に限定されず、例えば、エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応することにより得られるもの等が挙げられる。例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂やプロピレングリコールジグリシジルエーテル等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸とから誘導されたエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
その他の（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、（ポリ）エチレングリコールジメタクリレート、１，４－ブタンジオールジメタクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリストールトリアクリレート、およびグリセリンジメタクリレート等の中から選ばれる１種または２種以上が挙げられる。
上記エポキシ樹脂としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂などのノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂などのビスフェノール型エポキシ樹脂、Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジグリシジルトルイジン、ジアミノジフェニルメタン型グリシジルアミン、アミノフェノール型グリシジルアミンなどの芳香族グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、トリフェノールプロパン型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、トリアジン核含有エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェニレンおよび／またはビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂、フェニレンおよび／またはビフェニレン骨格を有するナフトールアラルキル型エポキシ樹脂などのアラルキル型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂、ビニルシクロヘキセンジオキシド、ジシクロペンタジエンオキシド、アリサイクリックジエポキシ－アジペイドなどの脂環式エポキシなどの脂肪族エポキシ樹脂等の中から選ばれる１種または２種以上が挙げられる。
本実施形態の封止材料は、さらに無機粒子を含んでもよい。
・無機粒子
無機粒子としては、シリカ、タルク、ガラスビーズ、石綿、石膏、珪藻土、スメクタイト、ベントナイト、モンモリロナイト、セリサイト、活性白土、アルミナ、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化錫、酸化チタン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化珪素、硫酸バリウム、珪酸カルシウム等の中から選ばれる１種または２種以上が挙げられる。
無機粒子としては、シリカ、タルク、ガラスビーズ、石綿、石膏、珪藻土、スメクタイト、ベントナイト、モンモリロナイト、セリサイト、活性白土、アルミナ、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化錫、酸化チタン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化珪素、硫酸バリウム、珪酸カルシウム等の中から選ばれる１種または２種以上が挙げられる。
無機粒子は、表面を疎水処理したものであってもよい。例えば、エポキンシラン、アミノシラン、（メタ）アクリルシラン、ビニルシラン、メチルクロロシラン、ジメチルポリシロキサン等を用いて、無機粒子を公知の方法で表面処理できる。無機粒子としては、疎水処理をしたものと、そうでないものとを混合して用いてもよい。
無機粒子の含有量は、封止材料全量に対して、１～８０質量％であり、好ましくは３～７０質量％であり、２０～６０質量％である。
・その他
本実施形態の封止材料は、上記硬化性樹脂、無機粒子の他、有機粒子、重合開始剤、熱硬化剤等を含んでもよい。
本実施形態の封止材料は、上記硬化性樹脂、無機粒子の他、有機粒子、重合開始剤、熱硬化剤等を含んでもよい。
上記有機粒子としては、例えば、ポリエステル微粒子、ポリウレタン微粒子、ビニル重合体微粒子、アクリル重合体微粒子、シリコーン微粒子、コアシェル型ゴム微粒子等の中から選ばれる１種または２種以上が挙げられる。
上記重合開始剤としては、例えば、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤等が挙げられる。
上記ラジカル重合開始剤としては、光照射によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤、加熱によりラジカルを発生する熱ラジカル重合開始剤等が挙げられる。
上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、チタノセン系化合物、オキシムエステル系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、チオキサントン等が挙げられる。
上記熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、アゾ化合物、有機過酸化物等からなるものが挙げられる。なかでも、高分子アゾ化合物からなる高分子アゾ開始剤が好ましい。
上記カチオン重合開始剤としては、光カチオン重合開始剤を好適に用いることができる。
上記光カチオン重合開始剤は、光照射によりプロトン酸またはルイス酸を発生するものであれば特に限定されず、イオン性光酸発生タイプのものであってもよいし、非イオン性光酸発生タイプであってもよい。
上記光カチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ハロニウム塩、芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩類、鉄－アレン錯体、チタノセン錯体、アリールシラノール－アルミニウム錯体等の有機金属錯体類等が挙げられる。
上記光カチオン重合開始剤は、光照射によりプロトン酸またはルイス酸を発生するものであれば特に限定されず、イオン性光酸発生タイプのものであってもよいし、非イオン性光酸発生タイプであってもよい。
上記光カチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ハロニウム塩、芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩類、鉄－アレン錯体、チタノセン錯体、アリールシラノール－アルミニウム錯体等の有機金属錯体類等が挙げられる。
上記重合開始剤の含有量は、硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．１～３０重量部であり、より好ましくは１～１０重量部である。
上記重合開始剤の含有量が上記下限値以上であることにより、封止材料が硬化性により優れるものとなる。一方、上記重合開始剤の含有量が上記上限値以下であることにより、封止材料が保存安定性により優れるものとなる。
上記重合開始剤の含有量が上記下限値以上であることにより、封止材料が硬化性により優れるものとなる。一方、上記重合開始剤の含有量が上記上限値以下であることにより、封止材料が保存安定性により優れるものとなる。
上記熱硬化剤は、加熱により上記硬化性樹脂中の熱反応官能基を反応させ、架橋させるためのものであり、硬化後の硬化性樹脂組成物の接着性、耐湿性を向上させる役割を有する。
上記熱硬化剤としては、例えば、有機酸ヒドラジド、イミダゾール誘導体、アミン化合物、多価フェノール系化合物、酸無水物等が挙げられる。なかでも、固形の有機酸ヒドラジドが好適に用いられる。
上記熱硬化剤としては、例えば、有機酸ヒドラジド、イミダゾール誘導体、アミン化合物、多価フェノール系化合物、酸無水物等が挙げられる。なかでも、固形の有機酸ヒドラジドが好適に用いられる。
上記熱硬化剤の含有量は、硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．１～５０重量部であり、より好ましくは１～３０重量部である。
上記重合開始剤の含有量が上記下限値以上であることにより、封止材料が硬化性により優れるものとなる。一方、上記重合開始剤の含有量が上記上限値以下であることにより、封止材料の塗布性がより優れるものとなる。
上記重合開始剤の含有量が上記下限値以上であることにより、封止材料が硬化性により優れるものとなる。一方、上記重合開始剤の含有量が上記上限値以下であることにより、封止材料の塗布性がより優れるものとなる。
その他、必要に応じて、シランカップリング剤、遮光剤、反応性希釈剤、スペーサー、硬化促進剤、消泡剤、レベリング剤、重合禁止剤、その他のカップリング剤等の添加剤を含有してもよい。
（封止材料の製法）
本実施形態の封止材料を製造する方法としては、例えば、混合機を用いて、硬化性樹脂と、必要に応じて添加する、無機粒子と、重合開始剤および／または熱硬化剤やシランカップリング剤等の添加剤とを混合する方法等が挙げられる。
上記混合機としては、例えば、ホモディスパー、ホモミキサー、万能ミキサー、プラネタリーミキサー、ニーダー、３本ロール、自転公転式ミキサー等が挙げられる。
本実施形態の封止材料を製造する方法としては、例えば、混合機を用いて、硬化性樹脂と、必要に応じて添加する、無機粒子と、重合開始剤および／または熱硬化剤やシランカップリング剤等の添加剤とを混合する方法等が挙げられる。
上記混合機としては、例えば、ホモディスパー、ホモミキサー、万能ミキサー、プラネタリーミキサー、ニーダー、３本ロール、自転公転式ミキサー等が挙げられる。
［柱状導電部］
第１の柱状導電部２２は、配線として、エレクトロクロミック素子１０から延伸して設けられた第１透明電極層２に、平面視で重なり、封止材８を貫通して設けられている（図１参照）。そして、第１の柱状導電部２２は、第１の補助電極層２１を介して、第１透明電極層２に、電気的に接続されている。
第１の柱状導電部２２は、配線として、エレクトロクロミック素子１０から延伸して設けられた第１透明電極層２に、平面視で重なり、封止材８を貫通して設けられている（図１参照）。そして、第１の柱状導電部２２は、第１の補助電極層２１を介して、第１透明電極層２に、電気的に接続されている。
第１の柱状導電部２２は、エレクトロクロミックシート１００をメガネレンズに適用するためエレクトロクロミックシート１００の外形をメガネレンズ形状となるように加工した際、メガネレンズの端部に露出するものである。これにより、第１の柱状導電部２２を介して、エレクトロクロミック素子１０に外部から通電することができる。
第２の柱状導電部６２も、第１の柱状導電部２２と同様に、エレクトロクロミックシート１００をメガネレンズに適用するためエレクトロクロミックシート１００の外形をメガネレンズ形状となるように加工した際、メガネレンズの端部に露出するものである。これにより、第２の柱状導電部６２を介して、エレクトロクロミック素子１０に外部から通電することができる。
この場合、メガネレンズのブリッジ側に第１の柱状導電部２２が位置し、メガネレンズのテンプル側（ブリッジ側とは反対側）に第２の柱状導電部６２を位置することができる。
第２の柱状導電部６２も、第１の柱状導電部２２と同様に、エレクトロクロミックシート１００をメガネレンズに適用するためエレクトロクロミックシート１００の外形をメガネレンズ形状となるように加工した際、メガネレンズの端部に露出するものである。これにより、第２の柱状導電部６２を介して、エレクトロクロミック素子１０に外部から通電することができる。
この場合、メガネレンズのブリッジ側に第１の柱状導電部２２が位置し、メガネレンズのテンプル側（ブリッジ側とは反対側）に第２の柱状導電部６２を位置することができる。
また、第１の柱状導電部２２および第２の柱状導電部６２は、それぞれ独立して、その平均厚さが好ましくは１０μｍ以上１００μｍ以下程度、より好ましくは２０μｍ以上８０μｍ以下、更に好ましくは３０μｍ以上７０μｍ以下程度に設定される。
第１の柱状導電部２２および第２の柱状導電部６２の構成材料としては、導電性を有する導電性ペーストであればよい。これにより、第１の柱状導電部２２および第２の柱状導電部６２と封止材８との密着性を高めることができる。
（その他の電極）
第１の補助電極層２１は、配線として、第１透明電極層２の第１透明基材層１とは反対側の表面において積層して設けられ、第１の柱状導電部２２に、電気的に接続されている。
同様に、第２の補助電極層６１は、配線として、第２透明電極層６の第２透明基材層７とは反対側の表面において積層して設けられ、かつ、第２の柱状導電部６２に、電気的に接続されている。
第１の補助電極層２１は、配線として、第１透明電極層２の第１透明基材層１とは反対側の表面において積層して設けられ、第１の柱状導電部２２に、電気的に接続されている。
同様に、第２の補助電極層６１は、配線として、第２透明電極層６の第２透明基材層７とは反対側の表面において積層して設けられ、かつ、第２の柱状導電部６２に、電気的に接続されている。
第１の補助電極層２１および第２の補助電極層６１は、それぞれ、第１透明電極層２および第２透明電極層６の抵抗値よりも、その抵抗値が低く設定されている。そのため、第１透明電極層２と第１の補助電極層２１との積層体、および、第２透明電極層６と第２の補助電極層６１との積層体で、それぞれ、エレクトロクロミック素子１０に電気的に接続された配線を構成することで、これら配線（積層体）に、より優れた電気導電性を付与することができる。
第１の補助電極層２１および第２の補助電極層６１の構成材料としては、それぞれ、第１透明電極層２および第２透明電極層６よりも抵抗値が低いものであれば、特に限定されないが、優れた導電性を備えるものが用いられ、例えば、銀、アルミニウム、銅、クロムおよびモリブデン等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
また、第１の補助電極層２１および第２の補助電極層６１は、それぞれ独立して、その平均厚さが好ましくは１ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度、より好ましくは５ｎｍ以上５０ｎｍ以下程度に設定される。これにより、第１の補助電極層２１および第２の補助電極層６１に、補助電極としての機能を確実に付与することができる。
［エレクトロクロミックシートの構成、厚み等］
本実施形態のエレクトロクロミックシート１００の総厚は、特に限定されないが、０．１ｍｍ以上１０．０ｍｍ以下であるのが好ましく、０．３ｍｍ以上５．０ｍｍ以下であるのがより好ましい。
エレクトロクロミックシート１００の総厚を上記下限値以上とすることにより、強度を保持しつつ、層厚を上記上限値以下とすることで、エレクトロクロミックシート１００を切断したり、湾曲させる等の加工性を良好にすることができる。
本実施形態のエレクトロクロミックシート１００の総厚は、特に限定されないが、０．１ｍｍ以上１０．０ｍｍ以下であるのが好ましく、０．３ｍｍ以上５．０ｍｍ以下であるのがより好ましい。
エレクトロクロミックシート１００の総厚を上記下限値以上とすることにより、強度を保持しつつ、層厚を上記上限値以下とすることで、エレクトロクロミックシート１００を切断したり、湾曲させる等の加工性を良好にすることができる。
なお、エレクトロクロミックシート１００が備える各層は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換し、または他の層をさらに備えるものであってもよい。
＜エレクトロクロミックシートの製造方法＞
エレクトロクロミックシート１００の製造方法は、以下の工程を有する。
第１透明基材層１上に第１透明電極層２を形成し、第１透明電極層２上に第１エレクトロクロミック層３を積層する工程と、
第２透明基材層７上に第２透明電極層６を形成し、第２透明電極層６上に、第２エレクトロクロミック層５を形成する工程と、
第１エレクトロクロミック層３の外縁を囲うように第１透明電極層２上に封止材料を塗布する、または、第２エレクトロクロミック層５の外縁を囲うように第２透明電極層６上に封止材料を塗布する工程と、
電解質層４を準備し、電解質層４が介在するように第１エレクトロクロミック層３および第２エレクトロクロミック層５を対向させて、第１透明基材層１および第２透明基材層２を貼り合わせる工程と、
前記封止材料を硬化させて封止材８を形成する工程と、
を有し、
前記貼り合わせる工程において、前記封止材料を押し広げることによって、第１エレクトロクロミック層３および第２エレクトロクロミック層５が当該封止材料によって覆われるものである。
これにより、エレクトロクロミックシート１００が得られる。
エレクトロクロミックシート１００の製造方法は、以下の工程を有する。
第１透明基材層１上に第１透明電極層２を形成し、第１透明電極層２上に第１エレクトロクロミック層３を積層する工程と、
第２透明基材層７上に第２透明電極層６を形成し、第２透明電極層６上に、第２エレクトロクロミック層５を形成する工程と、
第１エレクトロクロミック層３の外縁を囲うように第１透明電極層２上に封止材料を塗布する、または、第２エレクトロクロミック層５の外縁を囲うように第２透明電極層６上に封止材料を塗布する工程と、
電解質層４を準備し、電解質層４が介在するように第１エレクトロクロミック層３および第２エレクトロクロミック層５を対向させて、第１透明基材層１および第２透明基材層２を貼り合わせる工程と、
前記封止材料を硬化させて封止材８を形成する工程と、
を有し、
前記貼り合わせる工程において、前記封止材料を押し広げることによって、第１エレクトロクロミック層３および第２エレクトロクロミック層５が当該封止材料によって覆われるものである。
これにより、エレクトロクロミックシート１００が得られる。
＜エレクトロクロミックレンズの製造方法＞
次に、本実施形態のエレクトロクロミックシート１００を曲形状とした湾曲シート１２０を備えるレンズ３０の製造方法の各工程を詳述する。
図２は、本実施形態のエレクトロクロミックシートを用いてレンズを製造する方法を示す模式図である。図２の上側を「上」、図２の下側を「下」として、以下、説明する。図２に示すように、エレクトロクロミックシート１１０は、複数のエレクトロクロミック素子１０と、これを囲う封止材８とを有する、換言すると封止材８により区画された複数のエレクトロクロミック素子１０を有する。
次に、本実施形態のエレクトロクロミックシート１００を曲形状とした湾曲シート１２０を備えるレンズ３０の製造方法の各工程を詳述する。
図２は、本実施形態のエレクトロクロミックシートを用いてレンズを製造する方法を示す模式図である。図２の上側を「上」、図２の下側を「下」として、以下、説明する。図２に示すように、エレクトロクロミックシート１１０は、複数のエレクトロクロミック素子１０と、これを囲う封止材８とを有する、換言すると封止材８により区画された複数のエレクトロクロミック素子１０を有する。
（工程１）
まず、エレクトロクロミックシート１１０の両面に、保護フィルム５０（マスキングテープ）を貼付することで、エレクトロクロミックシート１１０の両面に保護フィルム５０が貼付された連結シート積層体２１０を得る（図２（ａ）参照）。
まず、エレクトロクロミックシート１１０の両面に、保護フィルム５０（マスキングテープ）を貼付することで、エレクトロクロミックシート１１０の両面に保護フィルム５０が貼付された連結シート積層体２１０を得る（図２（ａ）参照）。
（工程２）
次に、図２（ｂ）に示すように、連結シート積層体２１０を、各エレクトロクロミック素子１０に対応するようにして、その厚さ方向に打ち抜くことで、連結シート積層体２１０が平面視で略長方形形状をなすものに個片化された、素子積層体２５０を得る。すなわち、両面に保護フィルム５０を貼付した状態をなして、各エレクトロクロミック素子１０およびこの外縁を覆う封止材９に対応して、略長方形形状に個片化されたエレクトロクロミックシート１００を得る（図１参照）。
次に、図２（ｂ）に示すように、連結シート積層体２１０を、各エレクトロクロミック素子１０に対応するようにして、その厚さ方向に打ち抜くことで、連結シート積層体２１０が平面視で略長方形形状をなすものに個片化された、素子積層体２５０を得る。すなわち、両面に保護フィルム５０を貼付した状態をなして、各エレクトロクロミック素子１０およびこの外縁を覆う封止材９に対応して、略長方形形状に個片化されたエレクトロクロミックシート１００を得る（図１参照）。
個片化されたエレクトロクロミックシート１００の形状として、長方形形状、円形形状、楕円形状等各種の形状を採用しうる。どのような形状を採用するかは最終的なレンズ３０に応じて、適宜選択されうる。
（工程３）
次に、図２（ｃ）に示すように、個片化された素子積層体２５０に対して、加熱下で熱曲げ加工を施すことで、素子積層体２５０を、一方の面側が湾曲凹面とされ、他方の面側が湾曲凸面とされた湾曲形状をなす湾曲素子積層体２２０とする。これにより、平板状をなすエレクトロクロミックシート１００を、両面に保護フィルム５０が貼付された状態で、湾曲形状をなす湾曲シート１２０とすることができる。
次に、図２（ｃ）に示すように、個片化された素子積層体２５０に対して、加熱下で熱曲げ加工を施すことで、素子積層体２５０を、一方の面側が湾曲凹面とされ、他方の面側が湾曲凸面とされた湾曲形状をなす湾曲素子積層体２２０とする。これにより、平板状をなすエレクトロクロミックシート１００を、両面に保護フィルム５０が貼付された状態で、湾曲形状をなす湾曲シート１２０とすることができる。
この熱曲げ加工は、通常、プレス成形または真空成形により実施される。
この際の素子積層体２５０（エレクトロクロミックシート１００）の加熱温度（成形温度）は、好ましくは１１０℃以上１７０℃以下程度、より好ましくは１３０℃以上１６０℃以下程度に設定される。加熱温度をかかる範囲内に設定することにより、エレクトロクロミックシート１００の変質・劣化を防止しつつ、エレクトロクロミックシート１００を軟化または溶融状態として、エレクトロクロミックシート１００を確実に熱曲げして、湾曲形状をなす湾曲シート１２０とすることができる。
この際の素子積層体２５０（エレクトロクロミックシート１００）の加熱温度（成形温度）は、好ましくは１１０℃以上１７０℃以下程度、より好ましくは１３０℃以上１６０℃以下程度に設定される。加熱温度をかかる範囲内に設定することにより、エレクトロクロミックシート１００の変質・劣化を防止しつつ、エレクトロクロミックシート１００を軟化または溶融状態として、エレクトロクロミックシート１００を確実に熱曲げして、湾曲形状をなす湾曲シート１２０とすることができる。
（工程４）
次に、熱曲げがなされた湾曲シート１２０から、保護フィルム５０を剥離させる。その後、図２（ｄ）に示すように、湾曲形状とされた湾曲凹面を備える金型４０に、金型４０の湾曲凹面と湾曲シート１２０の湾曲凸面とが当接するようにして、湾曲シート１２０を吸着させた状態で、例えば、インサート射出成形法等を用いて、この湾曲シート１２０の湾曲凹面に、樹脂材料を主材料として構成される樹脂層３５（成形層）を射出成形する。より詳細には、湾曲シート１２０を下型４２に吸着させた状態で、上型４１を取り付け、例えば、インサート射出成形法等を用いて、下型４２と上型４１とにより形成された空間であるキャビティ４３に、樹脂材料を主材料として構成される樹脂層３５を成形する。
すなわち、溶融状態とされた樹脂層３５の構成材料を、湾曲シート１２０の湾曲凹面に、接触させた状態で冷却して固化させることにより、湾曲シート１２０の湾曲凹面に、接着剤層等を介することなく、樹脂層３５を、直接、接触させた状態で成形する。これにより、熱曲げがなされた湾曲シート１２０と、樹脂層３５とを備える素レンズ３０が製造される。
次に、熱曲げがなされた湾曲シート１２０から、保護フィルム５０を剥離させる。その後、図２（ｄ）に示すように、湾曲形状とされた湾曲凹面を備える金型４０に、金型４０の湾曲凹面と湾曲シート１２０の湾曲凸面とが当接するようにして、湾曲シート１２０を吸着させた状態で、例えば、インサート射出成形法等を用いて、この湾曲シート１２０の湾曲凹面に、樹脂材料を主材料として構成される樹脂層３５（成形層）を射出成形する。より詳細には、湾曲シート１２０を下型４２に吸着させた状態で、上型４１を取り付け、例えば、インサート射出成形法等を用いて、下型４２と上型４１とにより形成された空間であるキャビティ４３に、樹脂材料を主材料として構成される樹脂層３５を成形する。
すなわち、溶融状態とされた樹脂層３５の構成材料を、湾曲シート１２０の湾曲凹面に、接触させた状態で冷却して固化させることにより、湾曲シート１２０の湾曲凹面に、接着剤層等を介することなく、樹脂層３５を、直接、接触させた状態で成形する。これにより、熱曲げがなされた湾曲シート１２０と、樹脂層３５とを備える素レンズ３０が製造される。
この樹脂層３５を射出成形する際における、溶融状態とするための樹脂層３５の構成材料の加熱温度（成形温度）は、樹脂層３５の構成材料の種類に応じて適宜設定されるが、樹脂層３５の構成材料が、湾曲シート１２０が備える透明基材層（第１透明基材層１、および第２透明基材層７）の構成材料と、同種もしくは同一である場合、好ましくは１８０℃以上３２０℃以下程度、より好ましくは２３０℃以上３００℃以下程度に設定される。加熱温度をかかる範囲内に設定することにより、湾曲シート１２０の湾曲凹面に、溶融状態とされた樹脂層３５の構成材料を、確実に供給することができる。
また、インサート射出成形法の中でも、射出圧縮成形法が好ましく用いられる。射出圧縮成形法は、金型４０の中に樹脂層３５を形成するための樹脂材料を低圧で射出した後、金型を４０高圧で閉じてこの樹脂材料に圧縮力を加える方法をとるため、成形体としての樹脂層３５ひいては素レンズ３０に成形歪みや成形時の樹脂分子の局所的配向に起因する光学的異方性が生じにくいことから好ましく用いられる。また、樹脂材料に対して均一に加わる金型圧縮力を制御することにより、一定比容で樹脂材料を冷却することができるので、寸法精度の高い樹脂層３５を得ることができる。
そして、製造された素レンズ３０の縁部を切削するトリミング加工を施す。これにより、所望の形状のエレクトロクロミックレンズを得ることができる。
＜エレクトロクロミックレンズ＞
本実施形態のエレクトロクロミックレンズは、上記のエレクトロクロミックシート１００を用いて得られる。
本実施形態のエレクトロクロミックレンズは、上記のエレクトロクロミックシート１００を用いて得られる。
＜エレクトロクロミック装置＞
本実施形態のエレクトロクロミック装置は、上記のエレクトロクロミックレンズを有し、更に必要に応じてその他の手段を有する。その他の手段としては、特に制限はなく、用途に応じて適宜選択することができ、例えば、電源、固定手段、制御手段などが挙げられる。
エレクトロクロミック装置としては、例えば、アイウエア、調光眼鏡、双眼鏡、オペラグラス、自転車用ゴーグル、時計、電子ペーパー、電子アルバム、電子広告板、自動車用防眩ミラーなどが挙げられる。
本実施形態のエレクトロクロミック装置は、上記のエレクトロクロミックレンズを有し、更に必要に応じてその他の手段を有する。その他の手段としては、特に制限はなく、用途に応じて適宜選択することができ、例えば、電源、固定手段、制御手段などが挙げられる。
エレクトロクロミック装置としては、例えば、アイウエア、調光眼鏡、双眼鏡、オペラグラス、自転車用ゴーグル、時計、電子ペーパー、電子アルバム、電子広告板、自動車用防眩ミラーなどが挙げられる。
以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
次に、実施例により本発明を詳しく説明するが、本発明の内容は実施例に限られるものではない。
（１）封止材料の準備
以下の封止材料を準備した。
・封止材料１；エポキシアクリレート樹脂（「フォトレックＳ－ＷＦ１７」積水マテリアルソリューションズ株式会社製）、加熱処理なし
以下の封止材料を準備した。
・封止材料１；エポキシアクリレート樹脂（「フォトレックＳ－ＷＦ１７」積水マテリアルソリューションズ株式会社製）、加熱処理なし
（２）エレクトロクロミックシートの作製
＜実施例１＞
図１に示すようなエレクトロクロミックシートを以下の手順で作製した。
－第１透明電極層の形成－
第１の支持体として厚み０．５ｍｍのポリカーボネート樹脂基板（ポリカエース、荷重たわみ温度１４０℃、住友ベークライト社製）を準備した。
前記第１の支持体上に、ＩＴＯ膜をスパッタ法により厚み約５０ｎｍに製膜し、その上に銀合金を５ｎｍ、その上に再度IＴＯ膜を５０ｎｍ積層して多層（ＩＡＩ）とし、第１透明電極層を形成した。
別途、酸化チタン（石原産業株式会社製、ＳＴ－２１）３ｇ、アセチルアセトン０．２ｇ、界面活性剤（和光純薬工業株式会社製、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル）０．３ｇを、水５．５ｇ、エタノール１．０ｇと共に１２時間ビーズミル処理した。得られた分散液にポリエチレングリコール（＃２０，０００、日油株式会社製）１．２ｇを加えてペーストを作製した。
第１透明電極層上に、得られたペーストを、厚みが２μｍになるようにスクリーン印刷法によって塗布し、８０℃で乾燥させた後、ＵＶオゾン処理９０℃で２０分間実施し、多孔質酸化チタン粒子膜からなる電子輸送層を形成した。
＜実施例１＞
図１に示すようなエレクトロクロミックシートを以下の手順で作製した。
－第１透明電極層の形成－
第１の支持体として厚み０．５ｍｍのポリカーボネート樹脂基板（ポリカエース、荷重たわみ温度１４０℃、住友ベークライト社製）を準備した。
前記第１の支持体上に、ＩＴＯ膜をスパッタ法により厚み約５０ｎｍに製膜し、その上に銀合金を５ｎｍ、その上に再度IＴＯ膜を５０ｎｍ積層して多層（ＩＡＩ）とし、第１透明電極層を形成した。
別途、酸化チタン（石原産業株式会社製、ＳＴ－２１）３ｇ、アセチルアセトン０．２ｇ、界面活性剤（和光純薬工業株式会社製、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル）０．３ｇを、水５．５ｇ、エタノール１．０ｇと共に１２時間ビーズミル処理した。得られた分散液にポリエチレングリコール（＃２０，０００、日油株式会社製）１．２ｇを加えてペーストを作製した。
第１透明電極層上に、得られたペーストを、厚みが２μｍになるようにスクリーン印刷法によって塗布し、８０℃で乾燥させた後、ＵＶオゾン処理９０℃で２０分間実施し、多孔質酸化チタン粒子膜からなる電子輸送層を形成した。
－第１エレクトロクロミック層の形成－
続いて、以下の化学式で示される還元発色性のエレクトロクロミック化合物Ｉを１．５質量％含む２，２，３，３－テトラフロロプロパノール溶液をスピンコート法により塗布した後、８０℃で１０分間アニール処理を行うことにより、上記の多孔質酸化チタン粒子膜に担持（吸着）させて、第１エレクトロクロミック層を形成した。
続いて、以下の化学式で示される還元発色性のエレクトロクロミック化合物Ｉを１．５質量％含む２，２，３，３－テトラフロロプロパノール溶液をスピンコート法により塗布した後、８０℃で１０分間アニール処理を行うことにより、上記の多孔質酸化チタン粒子膜に担持（吸着）させて、第１エレクトロクロミック層を形成した。
－第２透明電極層の形成－
第２の支持体として上記の第１の支持体と同形状及び同厚みのポリカーボネート樹脂基板を準備した。第２の支持体上に、第１透明電極と同様に、ＩＴＯ膜をスパッタ法により厚み約５０ｎｍに製膜し、その上に銀合金を５ｎｍ、その上に再度IＴＯ膜を５０ｎｍ積層して多層（ＩＡＩ）とし、第２透明電極層を形成した。
第２の支持体として上記の第１の支持体と同形状及び同厚みのポリカーボネート樹脂基板を準備した。第２の支持体上に、第１透明電極と同様に、ＩＴＯ膜をスパッタ法により厚み約５０ｎｍに製膜し、その上に銀合金を５ｎｍ、その上に再度IＴＯ膜を５０ｎｍ積層して多層（ＩＡＩ）とし、第２透明電極層を形成した。
－第２エレクトロクロミック層の形成－
第２透明電極層上に、ポリエチレングリコールジアクリレート（日本化薬株式会社製、ＰＥＧ４００ＤＡ）と、光開始剤（ＢＡＳＦ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４）
と、酸化発色性のエレクトロクロミック材料として、以下の式で示されるトリアリールアミンを有するラジカル重合性化合物ＩＩと、２－ブタノンとを質量比（５７：３：１４０：８００）で混合した溶液を調製した。その後、調製した溶液をＩＴＯガラス基板上にスピンコート法により塗布した。
第２透明電極層上に、ポリエチレングリコールジアクリレート（日本化薬株式会社製、ＰＥＧ４００ＤＡ）と、光開始剤（ＢＡＳＦ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４）
と、酸化発色性のエレクトロクロミック材料として、以下の式で示されるトリアリールアミンを有するラジカル重合性化合物ＩＩと、２－ブタノンとを質量比（５７：３：１４０：８００）で混合した溶液を調製した。その後、調製した溶液をＩＴＯガラス基板上にスピンコート法により塗布した。
次に、窒素雰囲気下で、Ｃｒ層のパターンがついた石英基板を介して、ＵＶ硬化させて第２透明電極層上に上記のラジカル重合性化合物ＩＩで表される化合物を含む厚み１．２μｍのパターン化された第２エレクトロクロミック層を選択形成した。
－ゲル電解質の作製－
離型処理したＰＥＴフィルム（ＮＰ７５Ｃ、パナック株式会社製）表面に、重合性材料（Ｖ３８７７、大同化成工業株式会社製）と、電解質（１－エチル－３－メチルイミダゾリウムテトラシアノボレート（ＥＭＩＭＴＣＢ））とを質量比（２０：８０）で混合し、光重合開始剤（ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、日本化薬株式会社製）を前記重合性材料に対して０．５質量％混合した溶液を塗布し、離型処理したＰＥＴフィルム（ＮＰ７５Ａ、パナック株式会社製）と貼り合わせて、紫外線（ＵＶ）硬化させてゲル電解質を作製した。
離型処理したＰＥＴフィルム（ＮＰ７５Ｃ、パナック株式会社製）表面に、重合性材料（Ｖ３８７７、大同化成工業株式会社製）と、電解質（１－エチル－３－メチルイミダゾリウムテトラシアノボレート（ＥＭＩＭＴＣＢ））とを質量比（２０：８０）で混合し、光重合開始剤（ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、日本化薬株式会社製）を前記重合性材料に対して０．５質量％混合した溶液を塗布し、離型処理したＰＥＴフィルム（ＮＰ７５Ａ、パナック株式会社製）と貼り合わせて、紫外線（ＵＶ）硬化させてゲル電解質を作製した。
－貼合プロセス－
作製したゲル電解質について、離型フィルムを剥離し、第１エレクトロクロミック層の表面に貼合処理した。
続いて、準備した封止材料１を、第１エレクトロクロミック層の側面周辺を囲うように、ディスペンサ方式により塗布した。
その後、第２の支持体の第２のエレクトロミック層とゲル電解質の表面とを合わせて貼合し、封止材料を押し広げることで、第１のエレクトロミック層および第２のエレクトロミック層の側面を封止材料によって覆い、紫外線を３Ｊ／ｃｍ２照射（仮硬化）し、１００℃で１時間の熱硬化処理（本硬化）を行い、封止材料を硬化させて封止部を形成し、エレクトロクロミックシートを作製した。
作製したゲル電解質について、離型フィルムを剥離し、第１エレクトロクロミック層の表面に貼合処理した。
続いて、準備した封止材料１を、第１エレクトロクロミック層の側面周辺を囲うように、ディスペンサ方式により塗布した。
その後、第２の支持体の第２のエレクトロミック層とゲル電解質の表面とを合わせて貼合し、封止材料を押し広げることで、第１のエレクトロミック層および第２のエレクトロミック層の側面を封止材料によって覆い、紫外線を３Ｊ／ｃｍ２照射（仮硬化）し、１００℃で１時間の熱硬化処理（本硬化）を行い、封止材料を硬化させて封止部を形成し、エレクトロクロミックシートを作製した。
＜実施例２＞
実施例１の第１透明電極層を、ＩＴＯ膜をスパッタ法により厚み約１００ｎｍに製膜して形成した以外は、実施例１と同様にしてエレクトロクロミックシートを作製した。
実施例１の第１透明電極層を、ＩＴＯ膜をスパッタ法により厚み約１００ｎｍに製膜して形成した以外は、実施例１と同様にしてエレクトロクロミックシートを作製した。
＜実施例３＞
実施例１の第１透明電極層及び第２透明電極層を、ＩＴＯ膜をスパッタ法により厚み約１３０ｎｍに製膜して形成した以外は、実施例１と同様にしてエレクトロクロミックシートを作製した。
実施例１の第１透明電極層及び第２透明電極層を、ＩＴＯ膜をスパッタ法により厚み約１３０ｎｍに製膜して形成した以外は、実施例１と同様にしてエレクトロクロミックシートを作製した。
＜比較例１＞
実施例１の第１透明電極層及び第２透明電極層を、ＩＴＯ膜をスパッタ法により厚み約１００ｎｍに製膜して形成した以外は、実施例１と同様にしてエレクトロクロミックシートを作製した。
実施例１の第１透明電極層及び第２透明電極層を、ＩＴＯ膜をスパッタ法により厚み約１００ｎｍに製膜して形成した以外は、実施例１と同様にしてエレクトロクロミックシートを作製した。
（３）測定・評価
次に、得られたエレクトロクロミックシートについて、以下の測定・評価を行った。結果を表１に示した。
次に、得られたエレクトロクロミックシートについて、以下の測定・評価を行った。結果を表１に示した。
［光学特性］
得られた各エレクトロクロミックシートの第１の支持体層側の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られた反射光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、反射率（％）および当該反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標におけるＬ＊値ａ＊値ｂ＊値をそれぞれ求めた。
同様に、各エレクトロクロミックシートの第１の支持体層側の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られた透過光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、透過率（％）および当該反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標におけるＬ＊値ａ＊値ｂ＊値をそれぞれ求めた。
・分光光度計「Ｖ－６７０」日本分光社製
得られた各エレクトロクロミックシートの第１の支持体層側の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られた反射光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、反射率（％）および当該反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標におけるＬ＊値ａ＊値ｂ＊値をそれぞれ求めた。
同様に、各エレクトロクロミックシートの第１の支持体層側の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られた透過光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、透過率（％）および当該反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標におけるＬ＊値ａ＊値ｂ＊値をそれぞれ求めた。
・分光光度計「Ｖ－６７０」日本分光社製
［変形量］
得られた各エレクトロクロミックシートを用いて、電解質層を中央部とし、封止材を外縁とする試験片（最大長さが２０ｍｍ以上）を作製し、当該試験片の両端をチャッキング部でチャッキングして、当該試験片の中央部を３０Ｎで３０秒間押圧し、押圧前の当該試験片の中央部と、押圧後の当該試験片の中央部との深さの差を求め、変形量（ｍｍ）とした。
得られた各エレクトロクロミックシートを用いて、電解質層を中央部とし、封止材を外縁とする試験片（最大長さが２０ｍｍ以上）を作製し、当該試験片の両端をチャッキング部でチャッキングして、当該試験片の中央部を３０Ｎで３０秒間押圧し、押圧前の当該試験片の中央部と、押圧後の当該試験片の中央部との深さの差を求め、変形量（ｍｍ）とした。
［反射色色味・透明度（設計の自由度）］
晴天の太陽光の下で、熟練した技術者が得られた各エレクトロクロミックシートを手に取り透かしてみたときに感じられるエレクトロクロミックシートの「反射色色味」「透明度」それぞれについて、以下の基準に従い評価した。
Ａ：非常に良い。メガネレンズとして違和感がない。
Ｂ：やや違和感があるがメガネレンズとして問題ない。
Ｃ：メガネレンズとして明らかに違和感がある
晴天の太陽光の下で、熟練した技術者が得られた各エレクトロクロミックシートを手に取り透かしてみたときに感じられるエレクトロクロミックシートの「反射色色味」「透明度」それぞれについて、以下の基準に従い評価した。
Ａ：非常に良い。メガネレンズとして違和感がない。
Ｂ：やや違和感があるがメガネレンズとして問題ない。
Ｃ：メガネレンズとして明らかに違和感がある
１ 第１透明基材層
２ 第１透明電極層
３ 第１エレクトロクロミック層
４ 電解質層
５ 第２エレクトロクロミック層
６ 第２透明電極層
７ 第２透明基材層
８ 封止材
１０ エレクトロクロミック素子
２１ 補助電極層
２２ 柱状導電部
３０ 素レンズ
３５ 樹脂層
４０ 金型
４１ 上金型
４２ 下金型
５０ 保護フィルム
６１ 補助電極層
６２ 柱状導電部
１００ エレクトロクロミックシート
１１０ エレクトロクロミックシート
１２０ 湾曲シート
２１０ 連結シート積層体
２２０ 湾曲素子積層体
２５０ 素子積層体
２ 第１透明電極層
３ 第１エレクトロクロミック層
４ 電解質層
５ 第２エレクトロクロミック層
６ 第２透明電極層
７ 第２透明基材層
８ 封止材
１０ エレクトロクロミック素子
２１ 補助電極層
２２ 柱状導電部
３０ 素レンズ
３５ 樹脂層
４０ 金型
４１ 上金型
４２ 下金型
５０ 保護フィルム
６１ 補助電極層
６２ 柱状導電部
１００ エレクトロクロミックシート
１１０ エレクトロクロミックシート
１２０ 湾曲シート
２１０ 連結シート積層体
２２０ 湾曲素子積層体
２５０ 素子積層体
Claims (13)
- 支持体層と、
前記支持体層上に設けられた電解質層と、
前記電解質層の少なくとも一方の面に設けられたエレクトロクロミック層と、
前記支持体層上であって、前記電解質層および前記エレクトロクロミック層を挟むように位置する一対の透明電極層と、
を備えるエレクトロクロミックシートであって、以下の条件１を満たすように構成された、アイウエアに用いられるエレクトロクロミックシート。
（条件１）
当該エレクトロクロミックシートの前記支持体層側の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られる反射光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、当該反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標におけるＬ ＊ が３６．７以上４２．３以下であり、ａ＊が２．１以上１２．６以下であり、ｂ＊が－１３．２以上６．９以下である。 - 請求項１に記載のエレクトロクロミックシートであって、
さらに以下の条件３を満たすように構成された、エレクトロクロミックシート。
（条件３）
当該エレクトロクロミックシートの前記支持体層側の面に対し、Ｄ６５光源による光を入射角９０°で照射して得られる透過光を視野角１０°で分光光度計を用いて測定したときの、透過率が７０～９９％である。 - 請求項１または２に記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記支持体層上であって、前記電解質層および前記エレクトロクロミック層の側面を覆う封止材をさらに有し、
さらに以下の条件４を満たすように構成された、エレクトロクロミックシート。
（条件４）
当該エレクトロクロミックシートを用いて、前記電解質層を中央部とし、前記封止材を外縁とする試験片（最大長さが２０ｍｍ以上）を作製し、当該試験片の両端をチャッキング部でチャッキングして、当該試験片の中央部を３０Ｎで３０秒間押圧し、押圧前の当該試験片の中央部と、押圧後の当該試験片の中央部との深さの差を変形量（ｍｍ）とする。当該変形量が０．０１ｍｍ～０．０９ｍｍである。 - 請求項１または２に記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記透明電極層の厚みが、４０～２００ｎｍである、エレクトロクロミックシート。 - 請求項１または２に記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記一対の前記透明電極層の少なくとも一方が多層構造である、エレクトロクロミックシート。 - 請求項１または２に記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記透明電極層が、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）、銀（Ａｇ）および銀合金、ならびにポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリ（ｐ－フェニレン）、ポリフルオレンおよびそれらの誘導体の中から選ばれる１種または２種以上を含有する、エレクトロクロミックシート。 - 請求項１または２に記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記透明電極層が、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）、および銀（Ａｇ）、銀合金、ならびにポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリ（ｐ－フェニレン）、ポリフルオレンおよびそれらの誘導体の中から選ばれるいずれかの材料を用いてなる層を備える、単層または多層構造である、エレクトロクロミックシート。 - 請求項１または２に記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記一対の透明電極層を構成する材料が互い異なる、エレクトロクロミックシート。 - 請求項１または２に記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記一対の透明電極層を構成する材料が同一である、エレクトロクロミックシート。 - 請求項１または２に記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記支持体層は、エピスルフィド系樹脂、チオウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース系樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、ノルボルネン系樹脂、およびシリコーン系樹脂の中から選ばれる１種または２種以上を含む、エレクトロクロミックシート。 - 請求項１または２に記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記透明電極層の厚みが、１００～２００ｎｍである、エレクトロクロミックシート。 - 請求項１または２に記載のエレクトロクロミックシートであって、
前記透明電極層が、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）と、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）、銀（Ａｇ）および銀合金、ならびにポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリ（ｐ－フェニレン）、ポリフルオレンおよびそれらの誘導体の中から選ばれる１種または２種以上と、を含有する、エレクトロクロミックシート。 - 請求項１または２に記載のエレクトロクロミックシートを用いた、エレクトロクロミック装置。
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