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JP7823652B2 - Charge-transporting varnish - Google Patents
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JP7823652B2 - Charge-transporting varnish - Google Patents

Charge-transporting varnish

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JP7823652B2 JP2023510909A JP2023510909A JP7823652B2 JP 7823652 B2 JP7823652 B2 JP 7823652B2 JP 2023510909 A JP2023510909 A JP 2023510909A JP 2023510909 A JP2023510909 A JP 2023510909A JP 7823652 B2 JP7823652 B2 JP 7823652B2
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Description

本発明は、電荷輸送性ワニスに関する。 The present invention relates to a charge transport varnish.

有機エレクトロルミネッセンス(以下、有機ELという)素子には、発光層や電荷注入層として、有機化合物からなる有機機能膜が用いられる。特に、正孔注入層は、陽極と、正孔輸送層あるいは発光層との電荷の授受を担い、有機EL素子の低電圧駆動および高輝度を達成するために重要な機能を果たす。
正孔注入層の形成方法は、蒸着法に代表されるドライプロセスと、スピンコート法に代表されるウェットプロセスとに大別され、これら各プロセスを比べると、ウェットプロセスの方が大面積に平坦性の高い薄膜を効率的に製造できる。それゆえ、有機ELディスプレイの大面積化が進められている現在、ウェットプロセスで形成可能な正孔注入層が望まれており、ウェットプロセスで成膜可能な正孔注入材料に関する技術の報告がなされている(特許文献1)。
In organic electroluminescence (hereinafter referred to as organic EL) devices, organic functional films made of organic compounds are used as the light-emitting layer and charge injection layer. In particular, the hole injection layer is responsible for transferring charges between the anode and the hole transport layer or light-emitting layer, and plays an important role in achieving low-voltage operation and high brightness of the organic EL device.
Methods for forming hole injection layers are roughly divided into dry processes, typified by vapor deposition, and wet processes, typified by spin coating. Comparing these processes, wet processes are more efficient at producing thin films with high flatness over large areas. Therefore, as organic EL displays are currently being made larger, there is a demand for hole injection layers that can be formed by wet processes, and technology related to hole injection materials that can be formed by wet processes has been reported (Patent Document 1).

また、有機EL素子に用いられる電荷輸送性薄膜の着色が、有機EL素子の色純度および色再現性を低下させる等の事情から、有機EL素子用の電荷輸送性薄膜は、可視領域での透過率が高く、高透明性を有することが望まれている。
この点、本出願人は、電荷輸送性薄膜形成用の組成物中に、シリカやジルコニア等の金属酸化物ナノ粒子を添加することで、高透明な電荷輸送性薄膜が得られることをすでに報告している(特許文献2,3参照)。
Furthermore, because coloration of a charge-transporting thin film used in an organic EL element reduces the color purity and color reproducibility of the organic EL element, it is desirable for the charge-transporting thin film for an organic EL element to have high transmittance in the visible region and high transparency.
In this regard, the present applicant has already reported that highly transparent charge-transporting thin films can be obtained by adding nanoparticles of metal oxides such as silica and zirconia to a composition for forming a charge-transporting thin film (see Patent Documents 2 and 3).

しかし、上記特許文献2,3の電荷輸送性薄膜は、絶縁物である金属酸化物ナノ粒子を含んでいることから、膜の透明性をより高めるために金属酸化物ナノ粒子の含有量を増大したり、厚膜化したりした場合に、電荷輸送性薄膜の電気特性が低下してしまうという問題があり、この点の改善が求められている。However, the charge transport thin films in Patent Documents 2 and 3 contain metal oxide nanoparticles, which are insulating materials. Therefore, if the content of metal oxide nanoparticles is increased or the film is made thicker to improve the transparency of the film, the electrical properties of the charge transport thin film will deteriorate, and improvements in this area are needed.

国際公開第2008/032616号International Publication No. 2008/032616 国際公開第2019/124413号International Publication No. 2019/124413 国際公開第2020/262418号International Publication No. 2020/262418

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、透明性および電気特性に優れた電荷輸送性薄膜を与える電荷輸送性ワニスを提供することを目的とする。 The present invention was made in consideration of the above circumstances, and aims to provide a charge transport varnish that provides a charge transport thin film with excellent transparency and electrical properties.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、導電性官能基を有するシランカップリング剤で表面処理された金属酸化物ナノ粒子を含む電荷輸送性ワニスを用いることで、透明性および電気特性に優れた電荷輸送性薄膜が得られることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of extensive research to solve the above-mentioned problems, the inventors discovered that a charge-transporting thin film with excellent transparency and electrical properties can be obtained by using a charge-transporting varnish containing metal oxide nanoparticles that have been surface-treated with a silane coupling agent having conductive functional groups, and thus completed the present invention.

すなわち、本発明は、
1. 電荷輸送性物質と、ドーパント物質と、導電性官能基を有するシランカップリング剤で表面処理された金属酸化物ナノ粒子と、溶媒とを含むことを特徴とする電荷輸送性ワニス、
2. 前記シランカップリング剤が、下記式(S1)で表される化合物である1の電荷輸送性ワニス、
(式中、Rは、炭素数1~10のアルキル基を表し、A1は、単結合または炭素数1~10のアルキレン基を表し、A2は、単結合またはアルキレン基以外の2価の連結基を表し、A3は、導電性官能基を有する1価の有機基を表す。)
3. 前記Rが、炭素数1~5のアルキル基を表し、A1は、炭素数2~5のアルキレン基を表し、A2は、-O-、-S-、-NH-、アミド結合、またはウレア結合を表し、A3は、フェニルカルバゾール構造を有するアリール基を表す2の電荷輸送性ワニス、
4. 前記シランカップリング剤が、下記式(S1-1)で表される化合物である3の電荷輸送性ワニス、
(式中、Rは、炭素数1~5のアルキル基を表し、A1は、炭素数2~5のアルキレン基を表し、A4は、アリーレン基を表す。)
5. 前記金属酸化物ナノ粒子が、シリカおよびジルコニアから選ばれる少なくとも1種である1~4のいずれかの電荷輸送性ワニス、
6. 前記電荷輸送性物質が、アリールアミン誘導体である1~5のいずれかの電荷輸送性ワニス、
7. 前記ドーパント物質が、アリールスルホン酸化合物である1~6のいずれかの電荷輸送性ワニス、
8. 1~7のいずれかの電荷輸送性ワニスから得られた電荷輸送性薄膜、
9. 8の電荷輸送性薄膜を備える電子素子、
10. 8の電荷輸送性薄膜を備える有機EL素子、
11. 前記電荷輸送性薄膜が、正孔注入層または正孔輸送層である10の有機EL素子
を提供する。
That is, the present invention provides:
1. A charge-transporting varnish comprising a charge-transporting substance, a dopant substance, metal oxide nanoparticles surface-treated with a silane coupling agent having a conductive functional group, and a solvent;
2. The charge-transporting varnish of 1, wherein the silane coupling agent is a compound represented by the following formula (S1):
(In the formula, R represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, A1 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, A2 represents a single bond or a divalent linking group other than an alkylene group, and A3 represents a monovalent organic group having a conductive functional group.)
3. The charge transporting varnish of 2, wherein R represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, A 1 represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, A 2 represents —O—, —S—, —NH—, an amide bond, or a urea bond, and A 3 represents an aryl group having a phenylcarbazole structure.
4. The charge-transporting varnish of 3, wherein the silane coupling agent is a compound represented by the following formula (S1-1):
(In the formula, R represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, A 1 represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, and A 4 represents an arylene group.)
5. The charge-transporting varnish according to any one of 1 to 4, wherein the metal oxide nanoparticles are at least one selected from silica and zirconia.
6. The charge-transporting varnish according to any one of 1 to 5, wherein the charge-transporting substance is an arylamine derivative.
7. The charge-transporting varnish according to any one of 1 to 6, wherein the dopant substance is an arylsulfonic acid compound.
8. A charge-transporting thin film obtained from the charge-transporting varnish according to any one of 1 to 7.
9. An electronic device comprising the charge transport thin film of 8.
10. An organic EL device comprising the charge transport thin film of 8.
11. The organic EL device of 10, wherein the charge transporting thin film is a hole injection layer or a hole transport layer.

本発明の電荷輸送性ワニスは、導電性官能基を有するシランカップリング剤で表面処理された金属酸化物ナノ粒子を含んでいるため、透明性および電気特性に優れた電荷輸送性薄膜を与えるのみならず、金属酸化物ナノ粒子の添加量を増やした場合でも、粒子添加効果である透明性を維持しつつ、電気特性の低下が抑制された電荷輸送性薄膜を与える。
このような特性を有する本発明の電荷輸送性ワニスは、有機EL素子をはじめとする電子素子用薄膜、特に有機ELディスプレイ用薄膜の製造に好適に用いることができる。
The charge-transporting varnish of the present invention contains metal oxide nanoparticles that have been surface-treated with a silane coupling agent having a conductive functional group, and therefore not only provides a charge-transporting thin film with excellent transparency and electrical properties, but also provides a charge-transporting thin film that maintains the transparency that is the effect of adding particles and suppresses deterioration in electrical properties, even when the amount of metal oxide nanoparticles added is increased.
The charge transporting varnish of the present invention having such properties can be suitably used for producing thin films for electronic devices such as organic EL devices, particularly thin films for organic EL displays.

実施例2-1~2-2および比較例2-1~2-2で得られた50nmの薄膜付き石英基板の400~800nmの平均透過率を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing the average transmittance of quartz substrates with 50 nm thin films obtained in Examples 2-1 and 2-2 and Comparative Examples 2-1 and 2-2 in the range of 400 to 800 nm. 実施例2-3~2-4および比較例2-3~2-4で得られた100nmの薄膜付き石英基板の400~800nmの平均透過率を示す図である。FIG. 10 is a graph showing the average transmittance of the quartz substrates with 100 nm thin films obtained in Examples 2-3 to 2-4 and Comparative Examples 2-3 to 2-4 in the range of 400 to 800 nm. 実施例2-5~2-8および比較例2-5~2-6で得られた50nmの薄膜付き石英基板の400~800nmの平均透過率を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the average transmittance of the quartz substrates with a 50 nm thin film obtained in Examples 2-5 to 2-8 and Comparative Examples 2-5 to 2-6 in the range of 400 to 800 nm.

以下、本発明についてさらに詳しく説明する。
本発明に係る電荷輸送性ワニスは、電荷輸送性物質と、ドーパント物質と、導電性官能基を有するシランカップリング剤で表面処理された金属酸化物ナノ粒子(以下、表面処理金属酸化物ナノ粒子という場合もある。)と、溶媒とを含むことを特徴とする。
なお、本発明において、電荷輸送性とは、導電性と同義であり、正孔輸送性と同義である。電荷輸送性ワニスとは、それ自体に電荷輸送性があるものでもよく、それにより得られる固体膜が電荷輸送性を有するものでもよい。
The present invention will be described in more detail below.
The charge-transporting varnish according to the present invention is characterized by comprising a charge-transporting substance, a dopant substance, metal oxide nanoparticles that have been surface-treated with a silane coupling agent having a conductive functional group (hereinafter, also referred to as surface-treated metal oxide nanoparticles), and a solvent.
In the present invention, the term "charge transportability" is synonymous with "electrical conductivity" and "hole transportability." The charge transporting varnish may itself have charge transportability, or the solid film obtained from the varnish may have charge transportability.

[1]表面処理金属酸化物ナノ粒子
本発明の電荷輸送性ワニスの特徴的な成分である、導電性官能基を有するシランカップリング剤で表面処理された金属酸化物ナノ粒子は、通常、絶縁物である金属酸化物ナノ粒子の表面を、導電性官能基を有するシランカップリング剤で処理することで、電荷輸送性物質との導電パスを形成可能としたものである。
なお、ナノ粒子とは、一次粒子についての平均粒子径がナノメートルのオーダー(典型的には500nm以下)である微粒子を意味する。金属酸化物ナノ粒子とは、ナノ粒子に成形された金属酸化物を意味する。
[1] Surface-treated metal oxide nanoparticles Metal oxide nanoparticles that are surface-treated with a silane coupling agent having a conductive functional group, which are a characteristic component of the charge-transporting varnish of the present invention, are made capable of forming a conductive path with a charge-transporting substance by treating the surface of metal oxide nanoparticles, which are normally insulating, with a silane coupling agent having a conductive functional group.
The term "nanoparticles" refers to fine particles whose primary particles have an average particle size on the order of nanometers (typically 500 nm or less). The term "metal oxide nanoparticles" refers to metal oxides formed into nanoparticles.

本発明において、金属酸化物ナノ粒子の一次粒子径は、ナノサイズであれば特に限定されるものではないが、通常5nm以上であり、粒子の良好な分散性や製造容易性等を確保する観点から、通常200nm以下、好ましくは100nm以下、より好ましくは30nm以下である。In the present invention, the primary particle diameter of the metal oxide nanoparticles is not particularly limited as long as it is nano-sized, but is typically 5 nm or more, and from the viewpoint of ensuring good particle dispersibility and ease of production, it is typically 200 nm or less, preferably 100 nm or less, and more preferably 30 nm or less.

上記金属酸化物ナノ粒子を構成する金属は、通常の意味での金属に加え、半金属も包含する。
通常の意味での金属としては、特に限定されるものではないが、スズ(Sn)、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)、ジルコニウム(Zr)、亜鉛(Zn)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)およびW(タングステン)からなる群より選択される1種または2種以上が挙げられる。
一方、半金属とは、化学的および/または物理的性質が金属と非金属の中間である元素を意味する。半金属の普遍的な定義は確立されていないが、本発明では、ホウ素(B)、ケイ素(Si)、ゲルマニウム(Ge)、ヒ素(As)、アンチモン(Sb)およびテルル(Te)の計6元素を半金属とする。これらの半金属は、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよく、また通常の意味での金属と組み合わせて用いてもよい。
The metals constituting the metal oxide nanoparticles include metals in the usual sense as well as semimetals.
The metal in the ordinary sense is not particularly limited, but may include one or more selected from the group consisting of tin (Sn), titanium (Ti), aluminum (Al), zirconium (Zr), zinc (Zn), niobium (Nb), tantalum (Ta), and W (tungsten).
On the other hand, a metalloid refers to an element whose chemical and/or physical properties are intermediate between those of a metal and a nonmetal. Although a universal definition of a metalloid has not been established, in the present invention, a total of six elements, namely, boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), and tellurium (Te), are defined as metalloids. These metalloids may be used alone or in combination with two or more of them, or may be used in combination with metals in the usual sense.

特に、金属酸化物ナノ粒子は、ホウ素(B)、ケイ素(Si)、ゲルマニウム(Ge)、ヒ素(As)、アンチモン(Sb)、テルル(Te)、スズ(Sn)、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)、ジルコニウム(Zr)、亜鉛(Zn)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)およびW(タングステン)から選ばれる1種または2種以上の金属の酸化物を含むことが好ましい。なお、金属が2種以上の組み合わせである場合、金属酸化物は、個々の単独の金属の酸化物の混合物であってもよく、複数の金属を含む複合酸化物であってもよい。In particular, the metal oxide nanoparticles preferably contain an oxide of one or more metals selected from boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te), tin (Sn), titanium (Ti), aluminum (Al), zirconium (Zr), zinc (Zn), niobium (Nb), tantalum (Ta), and tungsten (W). When two or more metals are used in combination, the metal oxide may be a mixture of oxides of individual metals or a composite oxide containing multiple metals.

金属酸化物の具体例としては、B23、B2O、SiO2、SiO、GeO2、GeO、As24、As23、As25、Sb23、Sb25、TeO2、SnO2、ZrO2、Al23、ZnO等が挙げられるが、B23、B2O、SiO2、SiO、GeO2、GeO、As24、As23、As25、SnO2、SnO、Sb23、TeO2、TiO2およびこれらの混合物が好ましく、SiO2、ZrO2がより好ましい。 Specific examples of metal oxides include B2O3 , B2O , SiO2 , SiO, GeO2, GeO , As2O4 , As2O3 , As2O5 , Sb2O3, Sb2O5 , TeO2 , SnO2 , ZrO2 , Al2O3 , and ZnO , and B2O3, B2O , SiO2 , SiO , GeO2 , GeO , As2O4 , As2O3 , As2O5 , SnO2 , SnO , Sb2O3 , TeO2 , TiO2 , and mixtures thereof are preferred , and SiO2 , ZrO 2 is more preferred.

表面処理剤として用いられる導電性官能基を有するシランカップリング剤としては、例えば、アルコキシシリル基と導電性官能基とを有するシランカップリング剤を用いることができるが、本発明では、トリアルコキシシリル基を有するシランカップリング剤が好ましく、下記式(S1)で表されるトリアルコキシシリル基を有する化合物が好適に用いられる。 Silane coupling agents having conductive functional groups that can be used as surface treatment agents include, for example, silane coupling agents having an alkoxysilyl group and a conductive functional group. However, in the present invention, silane coupling agents having trialkoxysilyl groups are preferred, and compounds having trialkoxysilyl groups represented by the following formula (S1) are preferably used.

式(S1)において、Rは、炭素数1~10のアルキル基を表し、A1は、単結合または炭素数1~10のアルキレン基を表し、A2は、単結合またはアルキレン基以外の2価の連結基を表し、A3は、導電性官能基を有する1価の有機基を表す。 In formula (S1), R represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, A1 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, A2 represents a single bond or a divalent linking group other than an alkylene group, and A3 represents a monovalent organic group having a conductive functional group.

Rの炭素数1~10のアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、シクロペンチル、n-ヘキシル、シクロヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニル、n-デシル基等が挙げられるが、これらの中でも、炭素数1~5のアルキル基が好ましく、炭素数1~3のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基がより一層好ましい。
1の炭素数1~10のアルキレン基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、デシレン基等が挙げられるが、これらの中でも、炭素数2~5のアルキレン基が好ましく、炭素数2~4のアルキル基がより好ましく、エチレン基、トリメチレン基がより一層好ましい。
The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R may be linear, branched, or cyclic, and specific examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, cyclopentyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, and n-decyl groups. Among these, alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms are preferred, alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms are more preferred, and methyl and ethyl groups are even more preferred.
The alkylene group having 1 to 10 carbon atoms for A1 may be linear, branched, or cyclic. Specific examples thereof include methylene, ethylene, propylene, trimethylene, tetramethylene, pentamethylene, hexamethylene, heptamethylene, octamethylene, nonamethylene, and decylene groups. Among these, alkylene groups having 2 to 5 carbon atoms are preferred, alkyl groups having 2 to 4 carbon atoms are more preferred, and ethylene and trimethylene groups are even more preferred.

2の2価の連結基としては、例えば、-O-、-S-、-O-(CH2k-O-、-S-(CH2k-S-、-O-(CH2k-S-、-S-(CH2k-O-(これらの式中、kは1~5の整数を表す。)、-NH-、-CO-、-NHCO-、-CONH-、-SO2NH-、-NHSO2-、-NHCONH-、-COO-、-OCO-、下記式(A2-1)で示される2,5-ピロリジンジオン環等が挙げられるが、これらの中でも、-O-、-S-、-NH-、アミド結合(-NHCO-、-CONH-)、またはウレア結合(-NHCONH-)が好ましい。 Examples of the divalent linking group for A2 include -O-, -S-, -O-( CH2 ) k- O-, -S-(CH2)k - S-, -O-( CH2 ) k -S-, -S-( CH2 ) k - O- (in these formulas, k represents an integer of 1 to 5), -NH-, -CO-, -NHCO-, -CONH-, -SO2NH-, -NHSO2-, -NHCONH- , -COO-, -OCO-, and a 2,5 -pyrrolidinedione ring represented by the following formula (A2-1), and among these, -O-, -S-, -NH-, an amide bond (-NHCO-, -CONH-), or a urea bond (-NHCONH-) is preferred.

(式中、アスタリスク*は、結合手を表す。以下同様。) (In the formula, an asterisk * represents a bond. The same applies hereinafter.)

3の導電性官能基を有する1価の有機基としては、導電性を発現する構造として従来知られている化学構造を含む1価の基であればよく、例えば、オリゴアニリン構造を有する1価の基、トリアリールアミン構造を有する1価の基、N,N’-ジアリールベンジジン構造を有する1価の基、N,N,N’,N’-テトラアリールベンジジン構造を有する1価の基、カルバゾール構造を有する1価の基、オリゴチオフェン構造を有する1価の基、チエノチオフェン構造を有する1価の基、チエノベンゾチオフェン構造を有する1価の基、オリゴピロール構造を有する1価の基等が挙げられるが、これら1種または2種以上の導電性官能基を有するアリール基が好ましく、トリアリールアミン構造を有するアリール基、カルバゾール構造を有するアリール基がより好ましく、フェニルカルバゾール構造を有するアリール基がより一層好ましい。 The monovalent organic group having a conductive functional group for A3 may be a monovalent group containing a chemical structure conventionally known as a structure that exhibits conductivity, and examples thereof include a monovalent group having an oligoaniline structure, a monovalent group having a triarylamine structure, a monovalent group having an N,N'-diarylbenzidine structure, a monovalent group having an N,N,N',N'-tetraarylbenzidine structure, a monovalent group having a carbazole structure, a monovalent group having an oligothiophene structure, a monovalent group having a thienothiophene structure, a monovalent group having a thienobenzothiophene structure, and a monovalent group having an oligopyrrole structure. Aryl groups having one or more of these conductive functional groups are preferred, with aryl groups having a triarylamine structure and aryl groups having a carbazole structure being more preferred, and aryl groups having a phenylcarbazole structure being even more preferred.

上記導電性官能基を有する1価の有機基の具体例としては、下記式で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
これらの中でも、式(A3-9)および(A3-10)で表さる基が好ましい。
Specific examples of the monovalent organic group having the conductive functional group include, but are not limited to, those represented by the following formulae:
Among these, groups represented by formulae (A3-9) and (A3-10) are preferred.

(式中、アスタリスク*およびkは、上記と同じ意味を表し、A4は、アリーレン基を表す。) (In the formula, the asterisk * and k have the same meanings as above, and A4 represents an arylene group.)

特に結合手が下記位置のものが好適である。 Particularly preferred are those in which the bonds are in the following positions:

(式中、アスタリスク*、kおよびA4は、上記と同じ意味を表す。) (In the formula, the asterisk *, k, and A4 have the same meanings as above.)

上記各式中、A4は、アリーレン基を表すが、炭素数6~40のアリーレン基が好ましい。
アリーレン基の具体例としては、下記式で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
In the above formulas, A 4 represents an arylene group, preferably an arylene group having 6 to 40 carbon atoms.
Specific examples of the arylene group include, but are not limited to, those represented by the following formulae:

(式中、アスタリスク*は、上記と同じ意味を表す。) (In the formula, the asterisk * has the same meaning as above.)

アリーレン基としては、特に結合手が下記位置のものが好適である。 As arylene groups, those with the bonds at the following positions are particularly preferred.

(式中、アスタリスク*は、上記と同じ意味を表す。) (In the formula, the asterisk * has the same meaning as above.)

特に、本発明で用いるシランカップリング剤としては、下記式(S1-1)で表される化合物が好ましく、下記式(S1-1-1)で表される化合物がより好ましい。In particular, the silane coupling agent used in the present invention is preferably a compound represented by the following formula (S1-1), and more preferably a compound represented by the following formula (S1-1-1).

(式中、Rは、炭素数1~5のアルキル基を表し、A1は、炭素数2~5のアルキレン基を表し、A4は、アリーレン基を表す。) (In the formula, R represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, A 1 represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, and A 4 represents an arylene group.)

(式中、Rは、炭素数1~5のアルキル基を表し、A1は、炭素数2~5のアルキレン基を表し、A4は、アリーレン基を表す。) (In the formula, R represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, A 1 represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, and A 4 represents an arylene group.)

シランカップリング剤の具体例としては、下記式で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of silane coupling agents include, but are not limited to, those represented by the following formula:

なお、上記シランカップリング剤は、末端にハロゲン原子、NCO、NH2、SH、2,5-ジオキソテトラヒドロ-3-イル基等の反応性基を有するトリアルコキシシラン化合物と、アリール基上にこれらの反応性基と反応する官能基(NH2基、NCO基、カルボン酸ハロゲン化物基、スルホン酸ハロゲン化物基等)を有するアリール化合物とを、アミド化、ウレア化、エステル化等の2価の連結基を形成する公知の手法で反応させて得ることができる。
また、末端にSH基を有するトリアルコキシシラン化合物と、炭素-炭素二重結合と導電性官能基とを有する化合物とを、公知のエン-チオール反応させて得ることもできる。
さらに、Si-H基を有するトリアルコキシシラン化合物と、炭素-炭素二重結合と導電性官能基とを有する化合物とを、公知のヒドロシリル化反応させて得ることもできる。
また、テトラエトキシシラン等のテトラアルコキシシランとアリール基上に塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子とを有する化合物とを公知の条件で反応させて得ることもできる。
The above-mentioned silane coupling agent can be obtained by reacting a trialkoxysilane compound having a reactive group such as a halogen atom, NCO, NH2 , SH, or 2,5-dioxotetrahydro-3-yl group at the end with an aryl compound having a functional group on the aryl group that reacts with these reactive groups ( NH2 group, NCO group, carboxylic acid halide group, sulfonic acid halide group, etc.) using a known method for forming a divalent linking group such as amidation, urea conversion, or esterification.
Alternatively, it can also be obtained by subjecting a trialkoxysilane compound having an SH group at its terminal to a compound having a carbon-carbon double bond and a conductive functional group in a known ene-thiol reaction.
Furthermore, it can also be obtained by subjecting a trialkoxysilane compound having an Si—H group to a known hydrosilylation reaction with a compound having a carbon-carbon double bond and a conductive functional group.
Alternatively, it can be obtained by reacting a tetraalkoxysilane such as tetraethoxysilane with a compound having a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom on an aryl group under known conditions.

本発明で用いるシランカップリング剤の製造に用いられるアルコキシシラン化合物としては、3-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、α-グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β-グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ-グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ-グリシドキシブチルトリエトキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン等のトリアルコキシシランが挙げられる。
これらの化合物は、市販品を用いてもよい。
Examples of the alkoxysilane compound used in the production of the silane coupling agent of the present invention include 3-isocyanatepropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatepropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, glycidoxymethyltriethoxysilane, α-glycidoxyethyltrimethoxysilane, α-glycidoxyethyltriethoxysilane, β-glycidoxyethyltrimethoxysilane, β-glycidoxyethyltriethoxysilane, α-glycidoxypropyltrimethoxysilane, α-glycidoxypropyltriethoxysilane, β-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyl Examples of trialkoxysilanes include butyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltripropoxysilane, γ-glycidoxypropyltributoxysilane, α-glycidoxybutyltriethoxysilane, β-glycidoxybutyltriethoxysilane, γ-glycidoxybutyltrimethoxysilane, γ-glycidoxybutyltriethoxysilane, δ-glycidoxybutyltrimethoxysilane, δ-glycidoxybutyltriethoxysilane, chloromethyltrimethoxysilane, chloromethyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, trimethoxysilane, and triethoxysilane.
These compounds may be commercially available products.

表面処理された金属酸化物ナノ粒子の一次粒子径は、特に制限はないが、通常5nm以上であり、粒子の良好な分散性や製造容易性等を確保する観点から、通常200nm以下、好ましくは100nm以下、より好ましくは30nm以下である。この粒子径は、動的光散乱法による体積基準の粒度分布測定における累積頻度分布が50%になる粒子径(メジアン径D50)である。 The primary particle diameter of the surface-treated metal oxide nanoparticles is not particularly limited, but is usually 5 nm or more, and is usually 200 nm or less, preferably 100 nm or less, and more preferably 30 nm or less, from the viewpoint of ensuring good particle dispersibility, ease of production, etc. This particle diameter is the particle diameter (median diameter D50 ) at which the cumulative frequency distribution in volume-based particle size distribution measurement by dynamic light scattering method is 50%.

本発明で用いる表面処理された金属酸化物ナノ粒子における、金属酸化物ナノ粒子表面のシランカップリング剤修飾量は特に限定されるものではないが、金属酸化物ナノ粒子の分散性および得られる薄膜の透明性の観点から、0.1個/nm以上2.0個/nm2未満が好ましく、0.2~1.9個/nm2がより好ましく、0.3~1.7個/nm2がより一層好ましい。
なお、修飾量X(個/nm2)は、金属酸化物ナノ粒子の粒径(nm)、比重(g/cm3)にて算出した粒子1個の比表面積SA(nm2/g)と、金属酸化物粒子の総量M(g)、シランカップリング材の分子量Mw、シランカップリング材の量Y(g)、アボガドロ定数Lを用い、Y=X*SA*M*Mw/Lにて、算出される値である。
In the surface-treated metal oxide nanoparticles used in the present invention, the amount of silane coupling agent modification on the surface of the metal oxide nanoparticles is not particularly limited, but from the viewpoint of the dispersibility of the metal oxide nanoparticles and the transparency of the resulting thin film, it is preferably 0.1 particles/nm or more and less than 2.0 particles/ nm² , more preferably 0.2 to 1.9 particles/ nm² , and even more preferably 0.3 to 1.7 particles/ nm² .
The modification amount X (number of particles/ nm2 ) is calculated using the particle size (nm) of the metal oxide nanoparticles, the specific surface area SA ( nm2 /g) of each particle calculated from the specific gravity (g/ cm3 ), the total amount M (g) of metal oxide particles, the molecular weight Mw of the silane coupling agent, the amount Y (g) of the silane coupling agent, and Avogadro's constant L, as Y = X*SA*M*Mw/L.

本発明の電荷輸送性ワニスに含まれる金属酸化物ナノ粒子の量は、特に限定されるものではないが、得られる薄膜の透明性を向上させる観点、膜の均一性を高める観点等から、固形分中、その下限値は、通常20質量%、好ましくは30質量%、より好ましくは40質量%であり、その上限値は、通常95質量%、好ましくは90質量%である。 The amount of metal oxide nanoparticles contained in the charge-transporting varnish of the present invention is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the transparency of the resulting thin film and increasing the uniformity of the film, the lower limit of the solid content is typically 20% by mass, preferably 30% by mass, and more preferably 40% by mass, and the upper limit is typically 95% by mass, preferably 90% by mass.

また、本発明で用いる表面処理金属酸化物ナノ粒子は、分散媒に分散したゾルの形態で用いてもよい。
分散媒としては、例えば、水、メタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、N,N-ジメチルアセトアミド、エチレングリコール、イソプロパノール、メタノール、エチレングリコールモノプロピルエーテル、シクロヘキサノン、酢酸エチル、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート等が挙げられる。
The surface-treated metal oxide nanoparticles used in the present invention may also be used in the form of a sol dispersed in a dispersion medium.
Examples of the dispersion medium include water, methanol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, N,N-dimethylacetamide, ethylene glycol, isopropanol, methanol, ethylene glycol monopropyl ether, cyclohexanone, ethyl acetate, toluene, and propylene glycol monomethyl ether acetate.

ゾルの固形分濃度は特に限定されるものではないが、5~60質量%が好ましく、10~50質量%がより好ましく、15~30質量%がより一層好ましい。
用いるゾルの量は、最終的にワニスに含まれる表面処理金属酸化物ナノ粒子の量が、上述の金属酸化物ナノ粒子の配合量となるように、その濃度を考慮して適宜決定される。
The solid content concentration of the sol is not particularly limited, but is preferably 5 to 60% by mass, more preferably 10 to 50% by mass, and even more preferably 15 to 30% by mass.
The amount of sol used is appropriately determined taking into consideration the concentration so that the amount of surface-treated metal oxide nanoparticles finally contained in the varnish will be the blend amount of the metal oxide nanoparticles described above.

[2]電荷輸送性物質
電荷輸送性物質としては、特に限定されるものではなく、例えば、有機ELの分野等で用いられる電荷輸送性化合物、電荷輸送性オリゴマー、電荷輸送性ポリマー等から適宜選択して用いることができる。
その具体例としては、オリゴアニリン誘導体、N,N’-ジアリールベンジジン誘導体、N,N,N’,N’-テトラアリールベンジジン誘導体等のアリールアミン誘導体;オリゴチオフェン誘導体、チエノチオフェン誘導体、チエノベンゾチオフェン誘導体等のチオフェン誘導体;オリゴピロール等のピロール誘導体などの各種電荷輸送性化合物や、電荷輸送性オリゴマー、ポリチオフェン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリピロール誘導体等の電荷輸送性ポリマー等が挙げられ、これらの中でも、ポリチオフェン誘導体、アリールアミン誘導体が好ましい。
[2] Charge transporting substance The charge transporting substance is not particularly limited and can be appropriately selected from, for example, charge transporting compounds, charge transporting oligomers, charge transporting polymers, and the like used in the field of organic electroluminescence.
Specific examples thereof include various charge transporting compounds such as arylamine derivatives, such as oligoaniline derivatives, N,N'-diarylbenzidine derivatives, and N,N,N',N'-tetraarylbenzidine derivatives; thiophene derivatives, such as oligothiophene derivatives, thienothiophene derivatives, and thienobenzothiophene derivatives; and pyrrole derivatives, such as oligopyrrole; and charge transporting polymers, such as charge transporting oligomers, polythiophene derivatives, polyaniline derivatives, and polypyrrole derivatives. Of these, polythiophene derivatives and arylamine derivatives are preferred.

また、例えば、後述する式(A1)または(A2)で表される3級アリールアミン化合物のような電荷輸送性化合物(低分子化合物)または電荷輸送性オリゴマーは、平坦性の高い薄膜を作製するという観点から、単分散である(すなわち、分子量分布が1である)ことが好ましい。この場合、電荷輸送性物質の分子量は、平坦性の高い薄膜を与える均一なインクを調製する観点から、通常200~9,000程度であるが、より電荷輸送性に優れる薄膜を得る観点から、300以上が好ましく、400以上がより好ましく、平坦性の高い薄膜をより再現性よく与える均一なインクを調製する観点から、8,000以下が好ましく、7,000以下がより好ましく、6,000以下がより一層好ましく、5,000以下がさらに好ましい。Furthermore, charge-transporting compounds (low-molecular-weight compounds) or charge-transporting oligomers, such as tertiary arylamine compounds represented by formula (A1) or (A2) described below, are preferably monodisperse (i.e., have a molecular weight distribution of 1) from the viewpoint of producing thin films with high flatness. In this case, the molecular weight of the charge-transporting substance is typically about 200 to 9,000 from the viewpoint of preparing a uniform ink that gives thin films with high flatness. However, from the viewpoint of obtaining thin films with even better charge transport properties, it is preferably 300 or more, and more preferably 400 or more. From the viewpoint of preparing a uniform ink that gives thin films with high flatness and good reproducibility, it is preferably 8,000 or less, more preferably 7,000 or less, even more preferably 6,000 or less, and even more preferably 5,000 or less.

電荷輸送性物質としては、例えば、特開2002-151272号公報、国際公開第2004/105446号、国際公開第2005/043962号、国際公開第2008/032617号、国際公開第2008/032616号、国際公開第2013/042623号、国際公開第2014/141998号、国際公開第2014/185208号、国際公開第2015/050253号、国際公開第2015/137391号、国際公開第2015/137395号、国際公開第2015/146912号、国際公開第2015/146965号、国際公開第2016/190326号、国際公開第2016/136544号、国際公開第2016/204079号等に開示されたものが挙げられる。 Examples of charge transport materials include those described in JP 2002-151272 A, WO 2004/105446 A, WO 2005/043962 A, WO 2008/032617 A, WO 2008/032616 A, WO 2013/042623 A, WO 2014/141998 A, WO 2014/185208 A, Examples of such compounds include those disclosed in International Publication Nos. WO 2015/050253, WO 2015/137391, WO 2015/137395, WO 2015/146912, WO 2015/146965, WO 2016/190326, WO 2016/136544, and WO 2016/204079.

電荷輸送性物質の好ましい一態様としては、少なくとも1つの窒素原子を有し、かつ全ての窒素原子が3級アリールアミン構造を有する3級アリールアミン化合物が挙げられる。すなわち、この3級アリールアミン化合物は、少なくとも1つの窒素原子を有し、全ての窒素原子に3つの芳香族基が結合した構造を有するものである。上記3級アリールアミン化合物中、窒素原子は、2つ以上あることが好ましい。One preferred embodiment of the charge-transporting material is a tertiary arylamine compound that has at least one nitrogen atom, all of which have a tertiary arylamine structure. In other words, this tertiary arylamine compound has at least one nitrogen atom, and has a structure in which three aromatic groups are bonded to all of the nitrogen atoms. It is preferable that the tertiary arylamine compound have two or more nitrogen atoms.

3級アリールアミン化合物の好適な例としては、下記式(A1)または(A2)で表される化合物等が挙げられる。 Suitable examples of tertiary arylamine compounds include compounds represented by the following formula (A1) or (A2):

式(A2)中、R1およびR2は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基もしくはシアノ基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、炭素数2~20のアルキニル基、炭素数6~20のアリール基もしくは炭素数2~20のヘテロアリール基である。 In formula (A2), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, or a cyano group, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms, each of which may be substituted with a halogen atom.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
炭素数1~20のアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、n-ヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニル、n-デシル基等の炭素数1~20の直鎖状または分岐状アルキル基;シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、ビシクロブチル、ビシクロペンチル、ビシクロヘキシル、ビシクロヘプチル、ビシクロオクチル、ビシクロノニル、ビシクロデシル基等の炭素数3~20の環状アルキル基等が挙げられる。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms may be linear, branched, or cyclic, and specific examples thereof include linear or branched alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, n-hexyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, and n-decyl groups; and cyclic alkyl groups having 3 to 20 carbon atoms, such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, cyclononyl, cyclodecyl, bicyclobutyl, bicyclopentyl, bicyclohexyl, bicycloheptyl, bicyclooctyl, bicyclononyl, and bicyclodecyl groups.

炭素数2~20のアルケニル基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、ビニル、n-1-プロペニル、n-2-プロペニル、1-メチルビニル、n-1-ブテニル、n-2-ブテニル、n-3-ブテニル、2-メチル-1-プロペニル、2-メチル-2-プロペニル、1-エチルビニル、1-メチル-1-プロペニル、1-メチル-2-プロペニル、n-1-ペンテニル、n-1-デセニル、n-1-エイコセニル基等が挙げられる。 Alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms may be linear, branched, or cyclic, and specific examples include vinyl, n-1-propenyl, n-2-propenyl, 1-methylvinyl, n-1-butenyl, n-2-butenyl, n-3-butenyl, 2-methyl-1-propenyl, 2-methyl-2-propenyl, 1-ethylvinyl, 1-methyl-1-propenyl, 1-methyl-2-propenyl, n-1-pentenyl, n-1-decenyl, and n-1-eicosenyl groups.

炭素数2~20のアルキニル基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、エチニル、n-1-プロピニル、n-2-プロピニル、n-1-ブチニル、n-2-ブチニル、n-3-ブチニル、1-メチル-2-プロピニル、n-1-ペンチニル、n-2-ペンチニル、n-3-ペンチニル、n-4-ペンチニル、1-メチル-n-ブチニル、2-メチル-n-ブチニル、3-メチル-n-ブチニル、1,1-ジメチル-n-プロピニル、n-1-ヘキシニル、n-1-デシニル、n-1-ペンタデシニル、n-1-エイコシニル基等が挙げられる。 Alkynyl groups having 2 to 20 carbon atoms may be linear, branched, or cyclic, and specific examples include ethynyl, n-1-propynyl, n-2-propynyl, n-1-butynyl, n-2-butynyl, n-3-butynyl, 1-methyl-2-propynyl, n-1-pentynyl, n-2-pentynyl, n-3-pentynyl, n-4-pentynyl, 1-methyl-n-butynyl, 2-methyl-n-butynyl, 3-methyl-n-butynyl, 1,1-dimethyl-n-propynyl, n-1-hexynyl, n-1-decynyl, n-1-pentadecinyl, and n-1-eicosynyl groups.

炭素数6~20のアリール基としては、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチル、1-アントリル、2-アントリル、9-アントリル、1-フェナントリル、2-フェナントリル、3-フェナントリル、4-フェナントリル、9-フェナントリル基等が挙げられる。
炭素数2~20のヘテロアリール基としては、2-チエニル、3-チエニル、2-フラニル、3-フラニル、2-オキサゾリル、4-オキサゾリル、5-オキサゾリル、3-イソオキサゾリル、4-イソオキサゾリル、5-イソオキサゾリル、2-チアゾリル、4-チアゾリル、5-チアゾリル、3-イソチアゾリル、4-イソチアゾリル、5-イソチアゾリル、2-イミダゾリル、4-イミダゾリル、2-ピリジル、3-ピリジル、4-ピリジル基等が挙げられる。
Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include phenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, 1-anthryl, 2-anthryl, 9-anthryl, 1-phenanthryl, 2-phenanthryl, 3-phenanthryl, 4-phenanthryl, and 9-phenanthryl groups.
Examples of heteroaryl groups having 2 to 20 carbon atoms include 2-thienyl, 3-thienyl, 2-furanyl, 3-furanyl, 2-oxazolyl, 4-oxazolyl, 5-oxazolyl, 3-isoxazolyl, 4-isoxazolyl, 5-isoxazolyl, 2-thiazolyl, 4-thiazolyl, 5-thiazolyl, 3-isothiazolyl, 4-isothiazolyl, 5-isothiazolyl, 2-imidazolyl, 4-imidazolyl, 2-pyridyl, 3-pyridyl, and 4-pyridyl groups.

これらのうち、R1およびR2としては、水素原子、フッ素原子、シアノ基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~20のアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数6~20のアリール基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数2~20のヘテロアリール基が好ましく、水素原子、フッ素原子、シアノ基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~10のアルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基がより好ましく、水素原子またはフッ素原子がより一層好ましく、水素原子が最適である。 Of these, R 1 and R 2 are preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a cyano group, an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, an aryl group of 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, or a heteroaryl group of 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a cyano group, an alkyl group of 1 to 10 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, or a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, still more preferably a hydrogen atom or a fluorine atom, and most preferably a hydrogen atom.

式(A1)および(A2)中、Ph1は、式(P1)で表される基である。 In formulae (A1) and (A2), Ph 1 is a group represented by formula (P1).

式(P1)中、破線は、結合手である。R3~R6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基もしくはシアノ基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、炭素数2~20のアルキニル基、炭素数6~20のアリール基もしくは炭素数2~20のヘテロアリール基である。これらの具体例としては、R1およびR2の説明において述べたものと同様のものが挙げられる。 In formula (P1), the dashed lines represent bonds. R3 to R6 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, or a cyano group, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms, each of which may be substituted with a halogen atom. Specific examples of these groups include those described in the description of R1 and R2 .

特に、R3~R6としては、水素原子、フッ素原子、シアノ基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~20のアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数6~20のアリール基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数2~20のヘテロアリール基が好ましく、水素原子、フッ素原子、シアノ基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~10のアルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基がより好ましく、水素原子またはフッ素原子がより一層好ましく、水素原子が最適である。 In particular, R3 to R6 are preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a cyano group, an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, an aryl group of 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, or a heteroaryl group of 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a cyano group, an alkyl group of 1 to 10 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, or a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, still more preferably a hydrogen atom or a fluorine atom, and most preferably a hydrogen atom.

Ph1として好適な基としては、1,4-フェニレン基が挙げられるが、これに限定されない。 Suitable groups for Ph 1 include, but are not limited to, 1,4-phenylene groups.

式(A1)中、Ar1は、それぞれ独立に、下記式(Ar1-1)~(Ar1-11)のいずれかで表される基であるが、特に下記式(Ar1-1')~(Ar1-11')のいずれかで表される基が好ましい。 In formula (A1), Ar 1 is each independently a group represented by any one of the following formulae (Ar1-1) to (Ar1-11), and is particularly preferably a group represented by any one of the following formulae (Ar1-1') to (Ar1-11').

式(Ar1-1)~(Ar1-11)および式(Ar1-1')~(Ar1-11')中、破線は、結合手である。R7~R27、R30~R51およびR53~R154は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基もしくはシアノ基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい、ジフェニルアミノ基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、炭素数2~20のアルキニル基、炭素数6~20のアリール基もしくは炭素数2~20のヘテロアリール基である。R28およびR29は、それぞれ独立に、Z1で置換されていてもよい、炭素数6~20のアリール基または炭素数2~20のヘテロアリール基である。R52は、Z1で置換されていてもよい、炭素数6~20のアリール基もしくは炭素数2~20のヘテロアリール基である。 In formulae (Ar1-1) to (Ar1-11) and formulae (Ar1-1') to (Ar1-11'), dashed lines represent bonds. R 7 to R 27 , R 30 to R 51 and R 53 to R 154 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, or a cyano group, or a diphenylamino group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms, each optionally substituted with a halogen atom. R 28 and R 29 each independently represent an aryl group having 6 to 20 carbon atoms or a heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms, each optionally substituted with Z 1 . R 52 is an aryl group having 6 to 20 carbon atoms or a heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms, which may be substituted with Z 1 .

1は、ハロゲン原子、ニトロ基もしくはシアノ基、またはZ2で置換されていてもよい、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基もしくは炭素数2~20のアルキニル基である。Z2は、ハロゲン原子、ニトロ基もしくはシアノ基、またはZ3で置換されていてもよい、炭素数6~20のアリール基もしくは炭素数2~20のヘテロアリール基である。Z3は、ハロゲン原子、ニトロ基またはシアノ基である。 Z1 is a halogen atom, a nitro group or a cyano group, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms or an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, which may be substituted with Z2. Z2 is a halogen atom, a nitro group or a cyano group, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms or a heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms, which may be substituted with Z3 . Z3 is a halogen atom, a nitro group or a cyano group.

特に、R7~R27、R30~R51およびR53~R154としては、水素原子、フッ素原子、シアノ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいジフェニルアミノ基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~20のアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数6~20のアリール基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数2~20のヘテロアリール基が好ましく、水素原子、フッ素原子、シアノ基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~10のアルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基がより好ましく、水素原子またはフッ素原子がより一層好ましく、水素原子が最適である。 In particular, R 7 to R 27 , R 30 to R 51 and R 53 to R 154 are preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a cyano group, a diphenylamino group which may be substituted with a halogen atom, an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, an aryl group of 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, or a heteroaryl group of 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a cyano group, an alkyl group of 1 to 10 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, or a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, still more preferably a hydrogen atom or a fluorine atom, and most preferably a hydrogen atom.

28およびR29としては、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数6~14のアリール基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数2~14のヘテロアリール基が好ましく、ハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいナフチル基がより好ましく、ハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基がより一層好ましく、フェニル基がさらに好ましい。 R 28 and R 29 are preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, or a heteroaryl group having 2 to 14 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, more preferably a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, or a naphthyl group which may be substituted with a halogen atom, still more preferably a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, and even more preferably a phenyl group.

52としては、水素原子、Z1で置換されていてもよい炭素数6~20のアリール基が好ましく、水素原子、Z1で置換されていてもよいフェニル基、またはZ1で置換されてもよいナフチル基がより好ましく、Z1で置換されていてもよいフェニル基がより一層好ましく、フェニル基がさらに好ましい。 R52 is preferably a hydrogen atom or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z1 , more preferably a hydrogen atom, a phenyl group which may be substituted with Z1 , or a naphthyl group which may be substituted with Z1 , still more preferably a phenyl group which may be substituted with Z1 , and even more preferably a phenyl group.

式(Ar1-10)、(Ar1-11)、(Ar1-10')および(Ar1-11')中、Ar4は、それぞれ独立に、各々のアリール基が炭素数6~20のアリール基であるジアリールアミノ基で置換されていてもよい炭素数6~20のアリール基である。炭素数6~20のアリール基の具体例としては、上記R1’およびR2’で説明したものと同様のものが挙げられる。上記ジアリールアミノ基の具体例としては、ジフェニルアミノ基、1-ナフチルフェニルアミノ基、ジ(1-ナフチル)アミノ基、1-ナフチル-2-ナフチルアミノ基、ジ(2-ナフチル)アミノ基等が挙げられる。 In formulas (Ar1-10), (Ar1-11), (Ar1-10'), and (Ar1-11'), Ar 4 's each independently represent an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with a diarylamino group, each aryl group being an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. Specific examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include those described above for R 1' and R 2' . Specific examples of the diarylamino group include a diphenylamino group, a 1-naphthylphenylamino group, a di(1-naphthyl)amino group, a 1-naphthyl-2-naphthylamino group, and a di(2-naphthyl)amino group.

Ar4としては、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチル、1-アントリル、2-アントリル、9-アントリル、1-フェナントリ、2-フェナントリル、3-フェナントリル、4-フェナントリル、9-フェナントリル、p-(ジフェニルアミノ)フェニル、p-(1-ナフチルフェニルアミノ)フェニル、p-(ジ(1-ナフチル)アミノ)フェニル基、p-(1-ナフチル-2-ナフチルアミノ)フェニル、p-[ジ(2-ナフチル)アミノ]フェニル基等が好ましく、p-(ジフェニルアミノ)フェニル基がより好ましい。 Ar4 is preferably phenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, 1-anthryl, 2-anthryl, 9-anthryl, 1-phenanthryl, 2-phenanthryl, 3-phenanthryl, 4-phenanthryl, 9-phenanthryl, p-(diphenylamino)phenyl, p-(1-naphthylphenylamino)phenyl, p-(di(1-naphthyl)amino)phenyl group, p-(1-naphthyl-2-naphthylamino)phenyl, p-[di(2-naphthyl)amino]phenyl group, or the like, more preferably p-(diphenylamino)phenyl group.

式(A1)中、Ar2は、それぞれ独立に、式(Ar2-1)~(Ar2-18)のいずれかで表される基であるが、特に式(Ar2-1'-1)~(Ar2-18'-2)のいずれかで表される基が好ましい。なお、下記式中、Ar4は上記と同じ意味を表し、DPAはジフェニルアミノ基であり、破線は結合手である。 In formula (A1), Ar 2 's are each independently a group represented by any one of formulas (Ar2-1) to (Ar2-18), and are particularly preferably a group represented by any one of formulas (Ar2-1'-1) to (Ar2-18'-2). In the following formula, Ar 4 has the same meaning as above, DPA is a diphenylamino group, and the dashed lines represent bonds.

式(Ar2-16)、(Ar2-16'-1)および(Ar2-16'-2)中、R155は、水素原子、Z1で置換されていてもよい炭素数6~14のアリール基、またはZ1で置換されていてもよい炭素数2~14のヘテロアリール基である。アリール基およびヘテロアリール基としては、R1’およびR2’の説明において述べたものと同様のものが挙げられる。これらのうち、R155としては、水素原子、Z1で置換されていてもよいフェニル基、Z1で置換されていてもよい1-ナフチル基、Z1で置換されていてもよい2-ナフチル基、Z1で置換されていてもよい2-ピリジル基、Z1で置換されていてもよいフェニル基により置換されていてもよい3-ピリジル基、またはZ1で置換されていてもよい4-ピリジル基が好ましく、Z1で置換されていてもよいフェニル基がより一層好ましく、フェニル基または(2,3,5,6-テトラフルオロ-4-(トリフルオロメチル)フェニル)基がさらに好ましい。 In formulae (Ar2-16), (Ar2-16'-1) and (Ar2-16'-2), R 155 is a hydrogen atom, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may be substituted with Z 1 , or a heteroaryl group having 2 to 14 carbon atoms which may be substituted with Z 1. Examples of the aryl group and heteroaryl group include those similar to those described in the description of R 1' and R 2' . Of these, R 155 is preferably a hydrogen atom, a phenyl group which may be substituted with Z 1 , a 1-naphthyl group which may be substituted with Z 1 , a 2-naphthyl group which may be substituted with Z 1 , a 2-pyridyl group which may be substituted with Z 1 , a 3-pyridyl group which may be substituted with a phenyl group which may be substituted with Z 1 , or a 4-pyridyl group which may be substituted with Z 1 , more preferably a phenyl group which may be substituted with Z 1 , and even more preferably a phenyl group or a (2,3,5,6-tetrafluoro-4-(trifluoromethyl)phenyl) group.

式(Ar2-17)、(Ar2-17'-1)および(Ar2-17'-2)中、R156およびR157は、Z1で置換されていてもよいフェニル基により置換されていてもよい炭素数6~14のアリール基、Z1で置換されていてもよいフェニル基により置換されていてもよい炭素数2~14のヘテロアリール基である。これらアリール基およびヘテロアリール基としては、R1’およびR2’の説明において述べたものと同様のものが挙げられる。これらのうち、R156およびR157としては、Z1で置換されていてもよいフェニル基により置換されていてもよい炭素数6~14のアリール基が好ましく、Z1で置換されていてもよいフェニル基により置換されていてもよいフェニル基、Z1で置換されていてもよいフェニル基により置換されていてもよい1-ナフチル基、またはZ1で置換されていてもよい2-ナフチル基がより好ましい。 In formulae (Ar2-17), (Ar2-17'-1), and (Ar2-17'-2), R 156 and R 157 are an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may be substituted with a phenyl group which may be substituted with Z 1 , or a heteroaryl group having 2 to 14 carbon atoms which may be substituted with a phenyl group which may be substituted with Z 1. Examples of these aryl groups and heteroaryl groups include those similar to those described in the description of R 1' and R 2' . Of these, R 156 and R 157 are preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may be substituted with a phenyl group which may be substituted with Z 1 , and more preferably a phenyl group which may be substituted with a phenyl group which may be substituted with Z 1 , a 1-naphthyl group which may be substituted with a phenyl group which may be substituted with Z 1, or a 2-naphthyl group which may be substituted with Z 1 .

式(A2)中、Ar3は、式(Ar3-1)~(Ar3-8)のいずれかで表される基であるが、特に式(Ar3-1')~(Ar3-8')のいずれかで表される基が好ましい。なお、下記式中、DPAは上記と同じ意味を表し、破線は結合手である。 In formula (A2), Ar 3 is a group represented by any one of formulas (Ar3-1) to (Ar3-8), and is particularly preferably a group represented by any one of formulas (Ar3-1') to (Ar3-8'). In the following formula, DPA has the same meaning as above, and the dashed line represents a bond.

式(A1)中、pは、1~10の整数であるが、化合物の有機溶媒に対する溶解性を高める観点から、1~5が好ましく、1~3がより好ましく、1または2がより一層好ましく、1が最適である。式(A2)中、qは、1または2である。In formula (A1), p is an integer between 1 and 10, but from the viewpoint of increasing the solubility of the compound in organic solvents, it is preferably between 1 and 5, more preferably between 1 and 3, even more preferably 1 or 2, and optimally 1. In formula (A2), q is 1 or 2.

式(A1)で表されるアニリン誘導体および式(A2)で表されるアニリン誘導体は、例えば、国際公開第2015/050253号に記載の方法に従って製造することができる。 The aniline derivatives represented by formula (A1) and formula (A2) can be prepared, for example, according to the method described in WO 2015/050253.

上記3級アリールアミン化合物は、少なくとも1つの窒素原子を有し、全ての窒素原子が3級アリールアミン構造を有するものであれば、前述したものに限定されない。本発明において使用可能なその他の3級アリールアミン化合物としては、例えば、国際公開第2005/094133号に記載されたアリールアミン化合物、特許第5287455号公報に記載されたトリアリールアミン部分構造と重合性基とを有する重合性化合物、特許第5602191号公報に記載されたトリアリールアミン化合物、特許第6177771号公報の段落[0054]に記載された化合物等が挙げられる。The tertiary arylamine compound is not limited to the compounds described above, as long as it has at least one nitrogen atom and all of the nitrogen atoms have a tertiary arylamine structure. Other tertiary arylamine compounds that can be used in the present invention include, for example, the arylamine compounds described in WO 2005/094133, the polymerizable compound having a triarylamine partial structure and a polymerizable group described in Japanese Patent No. 5287455, the triarylamine compounds described in Japanese Patent No. 5602191, and the compounds described in paragraph [0054] of Japanese Patent No. 6177771.

上記3級アリールアミン化合物として好ましくは、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。 Preferred examples of the above-mentioned tertiary arylamine compounds include, but are not limited to, the following:

[3]ドーパント物質
ドーパント物質としては、電荷輸送性ワニスに使用する少なくとも1種の溶媒に溶解するものであれば特に限定されず、無機系のドーパント物質、有機系のドーパント物質のいずれも使用できる。無機系および有機系のドーパント物質は、1種類単独で用いてもよく、2種類以上組み合わせて用いてもよい。
ドーパント物質の量は、その種類や所望の電荷輸送性の程度等を勘案して適宜決定されるため一概に規定できないが、通常、質量比で、の電荷輸送性物質1に対して0.0001~100.0の範囲内である。
[3] Dopant substance The dopant substance is not particularly limited as long as it dissolves in at least one solvent used in the charge transport varnish, and both inorganic and organic dopant substances can be used. The inorganic and organic dopant substances may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the dopant substance cannot be generally specified because it is determined appropriately taking into consideration the type of dopant substance, the desired degree of charge transportability, etc., but is usually within the range of 0.0001 to 100.0 parts by mass per 1 part of the charge transport substance.

本発明で用いる無機系のドーパント物質としては、ヘテロポリ酸が好ましい。
ヘテロポリ酸とは、代表的に式(H1)で表されるKeggin型あるいは式(H2)で表されるDawson型の化学構造で示される、ヘテロ原子が分子の中心に位置する構造を有し、バナジウム(V)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)等の酸素酸であるイソポリ酸と、異種元素の酸素酸とが縮合してなるポリ酸である。このような異種元素の酸素酸としては、主にケイ素(Si)、リン(P)、ヒ素(As)の酸素酸が挙げられる。
The inorganic dopant substance used in the present invention is preferably a heteropolyacid.
Heteropolyacids are polyacids that have a structure in which a heteroatom is located at the center of the molecule, typically represented by a Keggin type chemical structure represented by formula (H1) or a Dawson type chemical structure represented by formula (H2), and are formed by condensation of an isopolyacid, which is an oxyacid of vanadium (V), molybdenum (Mo), tungsten (W), etc., with an oxyacid of a different element. Examples of such oxyacids of different elements include oxyacids of silicon (Si), phosphorus (P), and arsenic (As).

ヘテロポリ酸の具体例としては、リンモリブデン酸、ケイモリブデン酸、リンタングステン酸、ケイタングステン酸、リンタングストモリブデン酸等が挙げられ、これらは単独で用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。なお、これらのヘテロポリ酸は、市販品として入手可能であり、また、公知の方法により合成することもできる。
特に、1種類のヘテロポリ酸を用いる場合、その1種類のヘテロポリ酸は、リンタングステン酸またはリンモリブデン酸が好ましく、リンタングステン酸が最適である。また、2種類以上のヘテロポリ酸を用いる場合、その2種類以上のヘテロポリ酸の1つは、リンタングステン酸またはリンモリブデン酸が好ましく、リンタングステン酸がより好ましい。
なお、ヘテロポリ酸は、元素分析等の定量分析において、一般式で示される構造から元素の数が多いもの、または少ないものであっても、それが市販品として入手したもの、あるいは、公知の合成方法にしたがって適切に合成したものである限り、本発明において用いることができる。
すなわち、例えば、一般的には、リンタングステン酸は化学式H3(PW1240)・nH2Oで、リンモリブデン酸は化学式H3(PMo1240)・nH2Oでそれぞれ示されるが、定量分析において、この式中のP(リン)、O(酸素)またはW(タングステン)もしくはMo(モリブデン)の数が多いもの、または少ないものであっても、それが市販品として入手したもの、あるいは、公知の合成方法にしたがって適切に合成したものである限り、本発明において用いることができる。この場合、本発明に規定されるヘテロポリ酸の質量とは、合成物や市販品中における純粋なリンタングステン酸の質量(リンタングステン酸含量)ではなく、市販品として入手可能な形態および公知の合成法にて単離可能な形態において、水和水やその他の不純物等を含んだ状態での全質量を意味する。
Specific examples of heteropolyacids include phosphomolybdic acid, silicomolybdic acid, phosphotungstic acid, silicotungstic acid, and phosphotungstomolybdic acid, which may be used alone or in combination of two or more. These heteropolyacids are commercially available or can be synthesized by known methods.
In particular, when one type of heteropolyacid is used, the one type of heteropolyacid is preferably phosphotungstic acid or phosphomolybdic acid, and most preferably phosphotungstic acid. When two or more types of heteropolyacids are used, one of the two or more types of heteropolyacids is preferably phosphotungstic acid or phosphomolybdic acid, and most preferably phosphotungstic acid.
In addition, the heteropolyacid may be used in the present invention regardless of whether it has a large or small number of elements in the structure represented by the general formula in quantitative analysis such as elemental analysis, as long as it is a commercially available product or is appropriately synthesized according to a known synthesis method.
That is, for example, phosphotungstic acid is generally represented by the chemical formula H3 ( PW12O40nH2O , and phosphomolybdic acid is represented by the chemical formula H3 ( PMo12O40nH2O , but quantitative analysis shows that compounds having a high or low number of P (phosphorus), O (oxygen), W (tungsten), or Mo (molybdenum) in these formulas can be used in the present invention as long as they are commercially available or appropriately synthesized according to a known synthesis method. In this case, the mass of the heteropolyacid specified in the present invention does not refer to the mass of pure phosphotungstic acid (phosphotungstic acid content) in a synthesized or commercially available product, but rather refers to the total mass, including water of hydration and other impurities, in a commercially available form or in a form that can be isolated by a known synthesis method.

ヘテロポリ酸の使用量は、質量比で、ポリチオフェン誘導体やアリールアミン誘導体等の電荷輸送性物質1に対して0.001~50.0程度とすることができるが、好ましくは0.01~20.0程度、より好ましくは0.1~10.0程度である。The amount of heteropolyacid used can be approximately 0.001 to 50.0 parts by mass of charge-transporting substance such as polythiophene derivatives or arylamine derivatives per 1 part, but is preferably approximately 0.01 to 20.0 parts, and more preferably approximately 0.1 to 10.0 parts.

一方、有機系のドーパント物質としては、テトラシアノキノジメタン誘導体やベンゾキノン誘導体を用いることができる。
テトラシアノキノジメタン誘導体の具体例としては、7,7,8,8-テトラシアノキノジメタン(TCNQ)や、式(H3)で表されるハロテトラシアノキノジメタンなどが挙げられる。
また、ベンゾキノン誘導体の具体例としては、2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-1,4-ベンゾキノン(DDQ)、テトラクロロ-1,4-ベンゾキノン(クロラニル)、トリフルオロ-1,4-ベンゾキノン、テトラフルオロ-1,4-ベンゾキノン、テトラブロモ-1,4-ベンゾキノン、テトラシアノ-1,4-ベンゾキノン等が挙げられる。これらのうち、2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-p-ベンゾキノン、トリフルオロベンゾキノン、テトラフルオロベンゾキノン、テトラシアノベンゾキノンが好ましく、DDQ、クロラニル、テトラフルオロ-1,4-ベンゾキノン、テトラシアノ-1,4-ベンゾキノンがより好ましく、DDQがより一層好ましい。
On the other hand, as organic dopant substances, tetracyanoquinodimethane derivatives and benzoquinone derivatives can be used.
Specific examples of the tetracyanoquinodimethane derivative include 7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane (TCNQ) and halotetracyanoquinodimethane represented by formula (H3).
Specific examples of the benzoquinone derivative include 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone (DDQ), tetrachloro-1,4-benzoquinone (chloranil), trifluoro-1,4-benzoquinone, tetrafluoro-1,4-benzoquinone, tetrabromo-1,4-benzoquinone, tetracyano-1,4-benzoquinone, etc. Of these, 2,3-dichloro-5,6-dicyano-p-benzoquinone, trifluorobenzoquinone, tetrafluorobenzoquinone, and tetracyanobenzoquinone are preferred, DDQ, chloranil, tetrafluoro-1,4-benzoquinone, and tetracyano-1,4-benzoquinone are more preferred, and DDQ is even more preferred.

式中、R500~R503は、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表すが、少なくとも1つはハロゲン原子であり、少なくとも2つがハロゲン原子であることが好ましく、少なくとも3つがハロゲン原子であることがより好ましく、全てがハロゲン原子であることが最も好ましい。
ハロゲン原子としては上記と同じものが挙げられるが、フッ素原子または塩素原子が好ましく、フッ素原子がより好ましい。
In the formula, R 500 to R 503 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom, and at least one is a halogen atom, preferably at least two are halogen atoms, more preferably at least three are halogen atoms, and most preferably all are halogen atoms.
Examples of the halogen atom include the same as those mentioned above, but a fluorine atom or a chlorine atom is preferred, and a fluorine atom is more preferred.

このようなハロテトラシアノキノジメタンの具体例としては、2-フルオロ-7,7,8,8-テトラシアノキノジメタン、2,5-ジフルオロ-7,7,8,8-テトラシアノキノジメタン、テトラフルオロ-7,7,8,8-テトラシアノキノジメタン(F4TCNQ)、テトラクロロ-7,7,8,8-テトラシアノキノジメタン、2-フルオロ-7,7,8,8-テトラシアノキノジメタン、2-クロロ-7,7,8,8-テトラシアノキノジメタン、2,5-ジフルオロ-7,7,8,8-テトラシアノキノジメタン、2,5-ジクロロ-7,7,8,8-テトラシアノキノジメタン等が挙げられるが、F4TCNQが好ましい。 Specific examples of such halotetracyanoquinodimethanes include 2-fluoro-7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane, 2,5-difluoro-7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane, tetrafluoro-7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane (F4TCNQ), tetrachloro-7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane, 2-fluoro-7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane, 2-chloro-7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane, 2,5-difluoro-7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane, and 2,5-dichloro-7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane, with F4TCNQ being preferred.

テトラシアノキノジメタン誘導体およびベンゾキノン誘導体の使用量は、ポリチオフェン誘導体やアリールアミン誘導体等の有機機能材料に対して、好ましくは0.0001~100当量、より好ましくは0.01~50当量、より一層好ましくは1~20当量である。The amount of tetracyanoquinodimethane derivatives and benzoquinone derivatives used is preferably 0.0001 to 100 equivalents, more preferably 0.01 to 50 equivalents, and even more preferably 1 to 20 equivalents relative to the organic functional material such as a polythiophene derivative or an arylamine derivative.

また、有機系ドーパント物質としてアリールスルホン酸化合物を用いることもできる。
アリールスルホン酸化合物の具体例としては、ベンゼンスルホン酸、トシル酸、p-スチレンスルホン酸、2-ナフタレンスルホン酸、4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸、5-スルホサリチル酸、p-ドデシルベンゼンスルホン酸、ジヘキシルベンゼンスルホン酸、2,5-ジヘキシルベンゼンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、6,7-ジブチル-2-ナフタレンスルホン酸、ドデシルナフタレンスルホン酸、3-ドデシル-2-ナフタレンスルホン酸、ヘキシルナフタレンスルホン酸、4-ヘキシル-1-ナフタレンスルホン酸、オクチルナフタレンスルホン酸、2-オクチル-1-ナフタレンスルホン酸、ヘキシルナフタレンスルホン酸、7-へキシル-1-ナフタレンスルホン酸、6-ヘキシル-2-ナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸、2,7-ジノニル-4-ナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸、2,7-ジノニル-4,5-ナフタレンジスルホン酸、国際公開第2005/000832号記載の1,4-ベンゾジオキサンジスルホン酸化合物、国際公開第2006/025342号記載のアリールスルホン酸化合物、国際公開第2009/096352号記載のアリールスルホン酸化合物等が挙げられる。
Furthermore, an arylsulfonic acid compound can also be used as the organic dopant material.
Specific examples of the arylsulfonic acid compound include benzenesulfonic acid, tosylic acid, p-styrenesulfonic acid, 2-naphthalenesulfonic acid, 4-hydroxybenzenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, p-dodecylbenzenesulfonic acid, dihexylbenzenesulfonic acid, 2,5-dihexylbenzenesulfonic acid, dibutylnaphthalenesulfonic acid, 6,7-dibutyl-2-naphthalenesulfonic acid, dodecylnaphthalenesulfonic acid, 3-dodecyl-2-naphthalenesulfonic acid, hexylnaphthalenesulfonic acid, 4-hexyl-1-naphthalenesulfonic acid, octylnaphthalenesulfonic acid, 2-octyl-1- ... Examples of the arylsulfonic acid include octyl-1-naphthalenesulfonic acid, hexylnaphthalenesulfonic acid, 7-hexyl-1-naphthalenesulfonic acid, 6-hexyl-2-naphthalenesulfonic acid, dinonylnaphthalenesulfonic acid, 2,7-dinonyl-4-naphthalenesulfonic acid, dinonylnaphthalenedisulfonic acid, 2,7-dinonyl-4,5-naphthalenedisulfonic acid, the 1,4-benzodioxanedisulfonic acid compounds described in WO 2005/000832, the arylsulfonic acid compounds described in WO 2006/025342, and the arylsulfonic acid compounds described in WO 2009/096352.

好ましいアリールスルホン酸化合物の例としては、式(H4)または(H5)で表されるアリールスルホン酸化合物が挙がられる。 Examples of preferred aryl sulfonic acid compounds include aryl sulfonic acid compounds represented by formula (H4) or (H5).

1は、OまたはSを表すが、Oが好ましい。
2は、ナフタレン環またはアントラセン環を表すが、ナフタレン環が好ましい。
3は、2~4価のパーフルオロビフェニル基を表し、sは、D1とD3との結合数を示し、2≦s≦4を満たす整数であるが、D3がパーフルオロビフェニルジイル基、好ましくはパーフルオロビフェニル-4,4’-ジイル基であり、かつ、sが2であることが好ましい。
tは、D2に結合するスルホン酸基数を表し、1≦t≦4を満たす整数であるが、2が最適である。
D 1 represents O or S, with O being preferred.
D2 represents a naphthalene ring or an anthracene ring, with a naphthalene ring being preferred.
D3 represents a divalent to tetravalent perfluorobiphenyl group, s represents the number of bonds between D1 and D3 and is an integer satisfying 2≦s≦4, but it is preferred that D3 is a perfluorobiphenyldiyl group, preferably a perfluorobiphenyl-4,4′-diyl group, and s is 2.
t represents the number of sulfonic acid groups bonded to D2 and is an integer satisfying 1≦t≦4, with 2 being optimal.

4~D8は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のハロゲン化アルキル基、または炭素数2~20のハロゲン化アルケニル基を表すが、D4~D8のうち少なくとも3つは、ハロゲン原子である。 D4 to D8 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogenated alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, provided that at least three of D4 to D8 are halogen atoms.

炭素数1~20のハロゲン化アルキル基としては、トリフルオロメチル、2,2,2-トリフルオロエチル、1,1,2,2,2-ペンタフルオロエチル、3,3,3-トリフルオロプロピル、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル、1,1,2,2,3,3,3-ヘプタフルオロプロピル、4,4,4-トリフルオロブチル、3,3,4,4,4-ペンタフルオロブチル、2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロブチル、1,1,2,2,3,3,4,4,4-ノナフルオロブチル基等が挙げられる。 Examples of halogenated alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms include trifluoromethyl, 2,2,2-trifluoroethyl, 1,1,2,2,2-pentafluoroethyl, 3,3,3-trifluoropropyl, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl, 1,1,2,2,3,3,3-heptafluoropropyl, 4,4,4-trifluorobutyl, 3,3,4,4,4-pentafluorobutyl, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl, and 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutyl groups.

炭素数2~20のハロゲン化アルケニル基としては、パーフルオロビニル、パーフルオロプロペニル(パーフルオロアリル)、パーフルオロブテニル基等が挙げられる。
その他、ハロゲン原子、炭素数1~20のアルキル基の例としては上記と同様のものが挙げられるが、ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
Examples of the halogenated alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms include perfluorovinyl, perfluoropropenyl (perfluoroallyl), and perfluorobutenyl groups.
Other examples of the halogen atom and the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include those similar to those mentioned above, but the halogen atom is preferably a fluorine atom.

これらの中でも、D4~D8は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のハロゲン化アルキル基、または炭素数2~10のハロゲン化アルケニル基であり、かつ、D4~D8のうち少なくとも3つは、フッ素原子であることが好ましく、水素原子、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1~5のアルキル基、炭素数1~5のフッ化アルキル基、または炭素数2~5のフッ化アルケニル基であり、かつ、D4~D8のうち少なくとも3つはフッ素原子であることがより好ましく、水素原子、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1~5のパーフルオロアルキル基、または炭素数1~5のパーフルオロアルケニル基であり、かつ、D4、D5およびD8がフッ素原子であることがより一層好ましい。
なお、パーフルオロアルキル基とは、アルキル基の水素原子全てがフッ素原子に置換された基であり、パーフルオロアルケニル基とは、アルケニル基の水素原子全てがフッ素原子に置換された基である。
Among these, it is preferred that D 4 to D 8 are hydrogen atoms, halogen atoms, cyano groups, nitro groups, alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, halogenated alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, or halogenated alkenyl groups having 2 to 10 carbon atoms, and at least three of D 4 to D 8 are fluorine atoms, more preferred are hydrogen atoms, fluorine atoms, cyano groups, nitro groups, alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, fluorinated alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, or fluorinated alkenyl groups having 2 to 5 carbon atoms, and at least three of D 4 to D 8 are fluorine atoms, and even more preferred are hydrogen atoms, fluorine atoms, cyano groups, nitro groups, perfluoroalkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, or perfluoroalkenyl groups having 1 to 5 carbon atoms, and D 4 , D 5 , and D 8 are fluorine atoms.
The perfluoroalkyl group is a group in which all hydrogen atoms of an alkyl group have been substituted with fluorine atoms, and the perfluoroalkenyl group is a group in which all hydrogen atoms of an alkenyl group have been substituted with fluorine atoms.

uは、ナフタレン環に結合するスルホン酸基数を表し、1≦u≦4を満たす整数であるが、2~4が好ましく、2が最適である。 u represents the number of sulfonic acid groups bonded to the naphthalene ring and is an integer satisfying the relationship 1≦u≦4, with 2 to 4 being preferred and 2 being optimal.

以下、好適なアリールスルホン酸化合物の具体例を挙げるが、これらに限定されるわけではない。 Specific examples of suitable aryl sulfonic acid compounds are listed below, but are not limited to these.

アリールスルホン酸化合物の使用量は、物質量(モル)比で、ポリチオフェン誘導体やアリールアミン誘導体等の有機機能材料1に対して、好ましくは0.01~20.0程度、より好ましくは0.4~5.0程度である。
アリールスルホン酸化合物は市販品を用いてもよいが、国際公開第2006/025342号、国際公開第2009/096352号等に記載の公知の方法で合成することもできる。
The amount of the arylsulfonic acid compound used is preferably about 0.01 to 20.0, more preferably about 0.4 to 5.0, in terms of mole ratio per 1 part of the organic functional material such as a polythiophene derivative or an arylamine derivative.
The arylsulfonic acid compound may be a commercially available product, but can also be synthesized by known methods described in WO 2006/025342, WO 2009/096352, and the like.

また、ドーパント物質は、ワニスから固体膜である電荷輸送性薄膜を得る過程で、例えば焼成時の加熱といった外部からの刺激によって、例えば分子内の一部が外れることによってドーパント物質としての機能が初めて発現または向上するようになる物質、例えばスルホン酸基が脱離しやすい基で保護されたアリールスルホン酸エステル化合物であってもよい。 The dopant substance may also be a substance whose function as a dopant substance is first manifested or improved when a part of the molecule is removed by an external stimulus, such as heating during baking, during the process of obtaining a charge-transporting thin film, which is a solid film, from the varnish, for example, an arylsulfonic acid ester compound protected by a group that easily removes the sulfonic acid group.

アリールスルホン酸エステル化合物は、芳香環上にスルホン酸エステル基が結合したものであれば特に限定されない。本発明の好ましい一態様において、上記アリールスルホン酸エステル化合物の分子量は、好ましくは100以上、より好ましくは200以上であり、好ましくは5,000以下、より好ましくは4,000以下、より一層好ましくは3,000以下、さらに好ましくは2,000以下である。本発明の好ましい一態様において、上記アリールスルホン酸エステル化合物が有するスルホン酸エステル基の数は、好ましくは2以上、より好ましくは3以上であり、好ましくは6以下、より好ましくは5以下である。本発明の好ましい一態様において、上記アリールスルホン酸エステル化合物は、好ましくはフッ素で置換された芳香環を含む。The aryl sulfonate ester compound is not particularly limited as long as it has a sulfonate ester group bonded to an aromatic ring. In a preferred embodiment of the present invention, the molecular weight of the aryl sulfonate ester compound is preferably 100 or more, more preferably 200 or more, and preferably 5,000 or less, more preferably 4,000 or less, even more preferably 3,000 or less, and even more preferably 2,000 or less. In a preferred embodiment of the present invention, the number of sulfonate ester groups in the aryl sulfonate ester compound is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, and preferably 6 or less, more preferably 5 or less. In a preferred embodiment of the present invention, the aryl sulfonate ester compound preferably contains an aromatic ring substituted with fluorine.

アリールスルホン酸エステル化合物としては、国際公開第2017/217455号に開示されたアリールスルホン酸エステル化合物、国際公開第2017/217457号に開示されたアリールスルホン酸エステル化合物、国際公開2019/124412号に記載のアリールスルホン酸エステル化合物等が挙げられる。
アリールスルホン酸エステル化合物としては、下記式(B1)または(B1')で表されるものが好ましい。
Examples of the aryl sulfonate ester compound include the aryl sulfonate ester compounds disclosed in WO 2017/217455, the aryl sulfonate ester compounds disclosed in WO 2017/217457, and the aryl sulfonate ester compounds described in WO 2019/124412.
The arylsulfonic acid ester compound is preferably one represented by the following formula (B1) or (B1').

式(B1)および(B1')中、A01は、置換基を有していてもよい、1つ以上の芳香環を含む炭素数6~20のm価の炭化水素基、または下記式(B1a)もしくは(B1b)で表される化合物から誘導されるm価の基(すなわち、下記式(B1a)または(B1b)で表される化合物の芳香環上のm個の水素原子を取り除いて得られる基)である。 In formulas (B1) and (B1'), A 01 is an m-valent hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms and containing one or more aromatic rings, which may have a substituent, or an m-valent group derived from a compound represented by formula (B1a) or (B1b) below (i.e., a group obtained by removing m hydrogen atoms on the aromatic rings of a compound represented by formula (B1a) or (B1b) below).

(式中、W1およびW2は、それぞれ独立に、-O-、-S-、-S(O)-もしくは-S(O2)-、または置換基を有していてもよい-N-、-Si-、-P-もしくは-P(O)-である。) (In the formula, W 1 and W 2 each independently represent —O—, —S—, —S(O)—, —S(O 2 )—, or —N—, —Si—, —P—, or —P(O)— which may have a substituent.)

1つ以上の芳香環を含む炭素数6~20のm価の炭化水素基は、1つ以上の芳香環を含む炭素数6~20の炭化水素からm個の水素原子を取り除いて得られる基である。上記1つ以上の芳香環を含む炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ビフェニル、ナフタレン、アントラセン、ピレン等が挙げられる。これらのうち、m価炭化水素基としては、ベンゼン、ビフェニル等から誘導される基が好ましい。An m-valent hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms and containing one or more aromatic rings is a group obtained by removing m hydrogen atoms from a hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms and containing one or more aromatic rings. Examples of hydrocarbons containing one or more aromatic rings include benzene, toluene, xylene, biphenyl, naphthalene, anthracene, and pyrene. Of these, groups derived from benzene, biphenyl, etc. are preferred as m-valent hydrocarbon groups.

上記炭化水素基は、その水素原子の一部または全部が、さらに置換基で置換されていてもよい。この置換基としては、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、シラノール、チオール、カルボキシ、スルホン酸エステル、リン酸、リン酸エステル、エステル、チオエステル、アミド、1価炭化水素、オルガノオキシ、オルガノアミノ、オルガノシリル、オルガノチオ、アシル、スルホ基等が挙げられる。The above hydrocarbon groups may further have some or all of their hydrogen atoms substituted with a substituent. Examples of such substituents include halogen atoms (fluorine, chlorine, bromine, and iodine), nitro, cyano, hydroxy, amino, silanol, thiol, carboxy, sulfonate esters, phosphoric acid, phosphate esters, esters, thioesters, amides, monovalent hydrocarbons, organooxy, organoamino, organosilyl, organothio, acyl, and sulfo groups.

ここで、上記1価炭化水素基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、シクロペンチル、n-ヘキシル、シクロヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニル、n-デシル基等の炭素数1~10のアルキル基;ビニル、1-プロペニル、2-プロペニル、イソプロペニル、1-メチル-2-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニ基、ヘキセニル基等の炭素数2~10のアルケニル基;フェニル、キシリル、トリル、1-ナフチル、2-ナフチル基等の炭素数6~20のアリール基;ベンジル、フェニルエチル基等の炭素数7~20アラルキル基等が挙げられる。 Here, the monovalent hydrocarbon group may be linear, branched, or cyclic. Specific examples include alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, cyclopentyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, and n-decyl; alkenyl groups having 2 to 10 carbon atoms, such as vinyl, 1-propenyl, 2-propenyl, isopropenyl, 1-methyl-2-propenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, and hexenyl; aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, such as phenyl, xylyl, tolyl, 1-naphthyl, and 2-naphthyl; and aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms, such as benzyl and phenylethyl.

上記オルガノオキシ基の具体例としては、アルコキシ、アルケニルオキシ、アリールオキシ基等が挙げられる。これらに含まれるアルキル基、アルケニル基およびアリール基としては、前述したものと同様のものが挙げられる。 Specific examples of the organoxy group include alkoxy, alkenyloxy, and aryloxy groups. The alkyl, alkenyl, and aryl groups contained therein are the same as those described above.

上記オルガノアミノ基の具体例としては、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、シクロヘキシルアミノ、ヘプチルアミノ、オクチルアミノ、ノニルアミノ、デシルアミノ、ドデシルアミノ基等の炭素数1~12のアルキルアミノ基;ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ、ジシクロヘキシルアミノ、ジヘプチルアミノ、ジオクチルアミノ、ジノニルアミノ、ジデシルアミノ基等の各アルキル基が炭素数1~12のアルキル基であるジアルキルアミノ基;モルホリノ基等が挙げられる。 Specific examples of the organoamino group include alkylamino groups having 1 to 12 carbon atoms, such as methylamino, ethylamino, propylamino, butylamino, pentylamino, hexylamino, cyclohexylamino, heptylamino, octylamino, nonylamino, decylamino, and dodecylamino; dialkylamino groups in which the alkyl group has 1 to 12 carbon atoms, such as dimethylamino, diethylamino, dipropylamino, dibutylamino, dipentylamino, dihexylamino, dicyclohexylamino, diheptylamino, dioctylamino, dinonylamino, and didecylamino; and morpholino groups.

上記オルガノシリル基の具体例としては、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリブチルシリル、トリペンチルシリル、トリヘキシルシリル、ペンチルジメチルシリル、ヘキシルジメチルシリル、オクチルジメチルシリル、デシルジメチルシリル基等の各アルキル基が炭素数1~10のアルキル基であるトリアルキルシリル基が挙げられる。
上記オルガノチオ基の具体例としては、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、オクチルチオ、ノニルチオ、デシルチオ、ドデシルチオ基等の炭素数1~12のアルキルチオ基が挙げられる。
上記アシル基としては、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ベンゾイル基等の炭素数1~10のアシル基が挙げられる。
Specific examples of the organosilyl group include trialkylsilyl groups, each of which is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, such as trimethylsilyl, triethylsilyl, tripropylsilyl, tributylsilyl, tripentylsilyl, trihexylsilyl, pentyldimethylsilyl, hexyldimethylsilyl, octyldimethylsilyl, and decyldimethylsilyl groups.
Specific examples of the organothio group include alkylthio groups having 1 to 12 carbon atoms, such as methylthio, ethylthio, propylthio, butylthio, pentylthio, hexylthio, heptylthio, octylthio, nonylthio, decylthio, and dodecylthio groups.
Examples of the acyl group include acyl groups having 1 to 10 carbon atoms, such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, and benzoyl groups.

なお、これら1価炭化水素基、オルガノオキシ基、オルガノアミノ基、オルガノシリル基、オルガノチオ基およびアシル基の炭素数は、1~8が好ましい。 The carbon number of these monovalent hydrocarbon groups, organooxy groups, organoamino groups, organosilyl groups, organothio groups, and acyl groups is preferably 1 to 8.

これら各置換基の中でも、フッ素原子、スルホン酸基、アルキル基、オルガノオキシ基、オルガノシリル基がより好ましい。 Of these substituents, fluorine atoms, sulfonic acid groups, alkyl groups, organooxy groups, and organosilyl groups are more preferred.

式(B1)中、A02は、-O-、-S-または-NH-である。これらのうち、合成が容易であることから、-O-が好ましい。 In formula (B1), A 02 is —O—, —S— or —NH—, and among these, —O— is preferred because of ease of synthesis.

式(B1)中、A03は、炭素数6~20の(n+1)価の芳香族基である。(n+1)価の芳香族基は、炭素数6~20の芳香族化合物から芳香環上の(n+1)個の水素原子を取り除いて得られる基である。なお、本発明において芳香族化合物は、芳香族炭化水素および芳香族複素環式化合物を意味する。
上記芳香族化合物としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ビフェニル、ナフタレン、アントラセン、ピレン等が挙げられるが、これらのうち、A3で表される芳香族基としては、ナフタレンまたはアントラセンから誘導される基が好ましい。
In formula (B1), A 03 is an (n+1)-valent aromatic group having 6 to 20 carbon atoms. The (n+1)-valent aromatic group is a group obtained by removing (n+1) hydrogen atoms on the aromatic ring of an aromatic compound having 6 to 20 carbon atoms. In the present invention, the aromatic compound means an aromatic hydrocarbon or an aromatic heterocyclic compound.
Examples of the aromatic compound include benzene, toluene, xylene, biphenyl, naphthalene, anthracene, and pyrene. Of these, the aromatic group represented by A3 is preferably a group derived from naphthalene or anthracene.

式(B1)および(B1')中、X1は、炭素数2~5のアルキレン基であり、また、このアルキレン基は、その炭素原子(炭素-炭素結合)間に、-O-、-S-またはカルボニル基が介在していてもよく、その水素原子の一部または全部が、さらに炭素数1~20のアルキル基で置換されていてもよい。
1としては、エチレン、トリメチレン、メチレンオキシメチレン、メチレンチオメチレン基等が好ましく、これらの基の水素原子の一部または全部が、さらに炭素数1~20のアルキル基で置換されていてもよい。このアルキル基としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、シクロペンチル、n-ヘキシル、シクロヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニル、n-デシル、n-ウンデシル、n-ドデシル、ビシクロヘキシル基等が挙げられる。
In formulas (B1) and (B1'), X1 is an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, and this alkylene group may have —O—, —S— or a carbonyl group interposed between its carbon atoms (carbon-carbon bonds), and some or all of its hydrogen atoms may be further substituted with alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms.
X1 is preferably an ethylene, trimethylene, methyleneoxymethylene, or methylenethiomethylene group, and some or all of the hydrogen atoms in these groups may be further substituted with an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Examples of this alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, cyclopentyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, n-decyl, n-undecyl, n-dodecyl, and bicyclohexyl groups.

式(B1)および(B1')中、X2は、単結合、-O-、-S-またはNR-である。Rは、水素原子または炭素数1~10の1価炭化水素基である。この1価炭化水素基としては、メチル、エチル、n-プロピル基等のアルキル基が好ましい。
2としては、単結合、-O-または-S-が好ましく、単結合または-O-がより好ましい。
In formulas (B1) and (B1'), X2 is a single bond, —O—, —S—, or NR—. R is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. This monovalent hydrocarbon group is preferably an alkyl group such as methyl, ethyl, or n-propyl.
X2 is preferably a single bond, —O— or —S—, more preferably a single bond or —O—.

式(B1)および(B1')中、X3は、置換されていてもよい炭素数1~20の1価炭化水素基である。この1価炭化水素基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、シクロペンチル、n-ヘキシル、シクロヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニル、n-デシル、n-ウンデシル、n-ドデシル、ビシクロヘキシル基等の炭素数1~20のアルキル基;ビニル、1-プロペニル、2-プロペニル、イソプロペニル、1-メチル-2-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、ヘキセニル基等の炭素数2~20のアルケニル基;フェニル、キシリル、トリル、1-ナフチル、2-ナフチル、1-アントリル、2-アントリル、9-アントリル、1-フェナントリル、2-フェナントリル、3-フェナントリル、4-フェナントリル、9-フェナントリル、2-ビフェニリル、3-ビフェニリル、4-ビフェニリル基等の炭素数6~20のアリール基;ベンジル、フェニルエチル、フェニルシクロヘキシル基等の炭素数7~20のアラルキル基等が挙げられる。また、上記1価炭化水素基の水素原子の一部または全部は、さらに置換基で置換されていてもよい。この置換基としては、A01の説明において述べたものと同様のものが挙げられる。X3としては、炭素数1~20のアルキル基、または炭素数6~20のアリール基が好ましい。 In formulas (B1) and (B1'), X3 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted. This monovalent hydrocarbon group may be linear, branched, or cyclic, and specific examples thereof include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, cyclopentyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, n-decyl, n-undecyl, n-dodecyl, and bicyclohexyl groups; vinyl, 1-propenyl, 2-propenyl, isopropenyl, 1-methyl-2-propenyl, and 1-butene. Examples of suitable substituents include alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms, such as phenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, and hexenyl; aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, such as phenyl, xylyl, tolyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, 1-anthryl, 2-anthryl, 9-anthryl, 1-phenanthryl, 2-phenanthryl, 3-phenanthryl, 4-phenanthryl, 9-phenanthryl, 2-biphenylyl, 3-biphenylyl, and 4-biphenylyl; and aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms, such as benzyl, phenylethyl, and phenylcyclohexyl. Some or all of the hydrogen atoms in the monovalent hydrocarbon group may be further substituted with a substituent. Examples of such substituents include those similar to those described in the description of A 01. X 3 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms.

式(B1)および(B1')中、mは、1≦m≦4を満たす整数であるが、2が好ましい。nは、1≦n≦4を満たす整数であるが、2が好ましい。 In formulas (B1) and (B1'), m is an integer satisfying 1≦m≦4, preferably 2. n is an integer satisfying 1≦n≦4, preferably 2.

式(B1)および(B1')で表されるアリールスルホン酸エステル化合物は、低極性溶媒を含む広範囲の溶媒に対して高溶解性を示すため、多種多様な溶媒を使用して溶液の物性を調製することが可能であり、塗布特性が高い。そのため、スルホン酸エステルの状態で塗布し、塗膜の乾燥時または焼成時にスルホン酸を発生させることが好ましい。スルホン酸エステルからスルホン酸が発生する温度は、室温で安定、かつ焼成温度以下であることが好ましいため、40~260℃がよい。さらに、ワニス内での高い安定性と焼成時の脱離の容易性を考慮すると、80~230℃が好ましく、120~180℃がより好ましい。 The arylsulfonate ester compounds represented by formulas (B1) and (B1') exhibit high solubility in a wide range of solvents, including low-polarity solvents, making it possible to tailor the physical properties of the solution using a wide variety of solvents, resulting in excellent coating properties. Therefore, it is preferable to apply the compound in the form of a sulfonate ester and generate sulfonic acid when the coating film is dried or baked. The temperature at which sulfonic acid is generated from the sulfonate ester is stable at room temperature and preferably below the baking temperature, so a temperature between 40 and 260°C is preferred. Furthermore, considering high stability in the varnish and ease of desorption during baking, a temperature between 80 and 230°C is preferred, with 120 and 180°C being even more preferred.

式(B1)で表されるアリールスルホン酸エステル化合物としては、下記式(B1-1)~(B1-3)のいずれかで表されるものが好ましい。 The aryl sulfonate ester compound represented by formula (B1) is preferably one represented by any of the following formulas (B1-1) to (B1-3).

式(B1-1)中、A11は、パーフルオロビフェニルから誘導されるm価の基(すなわち、パーフルオロビフェニルからm個のフッ素原子を取り除いて得られる基)である。A12は、-O-または-S-であるが、-O-が好ましい。A13は、ナフタレンまたはアントラセンから誘導される(n+1)価の基(すなわち、ナフタレンまたはアントラセンから(n+1)個の水素原子を取り除いて得られる基)であるが、ナフタレンから誘導される基が好ましい。 In formula (B1-1), A 11 is an m-valent group derived from perfluorobiphenyl (i.e., a group obtained by removing m fluorine atoms from perfluorobiphenyl). A 12 is -O- or -S-, with -O- being preferred. A 13 is an (n+1)-valent group derived from naphthalene or anthracene (i.e., a group obtained by removing (n+1) hydrogen atoms from naphthalene or anthracene), with a group derived from naphthalene being preferred.

式(B1-1)中、Rs1~Rs4は、それぞれ独立に、水素原子、または直鎖状もしくは分岐状の炭素数1~6のアルキル基であり、Rs5は、置換されていてもよい炭素数2~20の1価炭化水素基である。 In formula (B1-1), R s1 to R s4 each independently represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R s5 represents an optionally substituted monovalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms.

上記直鎖状または分岐状の炭素数1~6のアルキル基の具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ヘキシル基等が挙げられる。これらのうち、炭素数1~3のアルキル基が好ましい。 Specific examples of the linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, and n-hexyl groups. Of these, alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms are preferred.

上記炭素数2~20の1価炭化水素基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル基等のアルキル基;フェニル、ナフチル、フェナントリル基等のアリール基等が挙げられる。 The monovalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms may be linear, branched, or cyclic, and specific examples include alkyl groups such as ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, and tert-butyl; and aryl groups such as phenyl, naphthyl, and phenanthryl.

s1~Rs4のうち、Rs1またはRs3が炭素数1~3の直鎖アルキル基であり、残りが水素原子であることが好ましい。さらに、Rs1が炭素数1~3の直鎖アルキル基であり、Rs2~Rs4が水素原子であることが好ましい。上記炭素数1~3の直鎖アルキル基としては、メチル基が好ましい。また、Rs5としては、炭素数2~4の直鎖アルキル基またはフェニル基が好ましい。 Of R s1 to R s4 , it is preferable that R s1 or R s3 is a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and the remainder are hydrogen atoms. Furthermore, it is preferable that R s1 is a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R s2 to R s4 are hydrogen atoms. As the linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a methyl group is preferable. Furthermore, R s5 is preferably a linear alkyl group having 2 to 4 carbon atoms or a phenyl group.

式(B1-1)中、mは、1≦m≦4を満たす整数であるが、2が好ましい。nは、1≦n≦4を満たす整数であるが、2が好ましい。 In formula (B1-1), m is an integer that satisfies 1≦m≦4, preferably 2. n is an integer that satisfies 1≦n≦4, preferably 2.

式(B1-2)中、A14は、置換されていてもよい、1つ以上の芳香環を含む炭素数6~20のm価の炭化水素基である。m価の炭化水素基は、1つ以上の芳香環を含む炭素数6~20の炭化水素からm個の水素原子を取り除いて得られる基である。炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ビフェニル、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等が挙げられる。 In formula (B1-2), A 14 is an m-valent hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms and containing one or more aromatic rings, which may be substituted. The m-valent hydrocarbon group is a group obtained by removing m hydrogen atoms from a hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms and containing one or more aromatic rings. Examples of the hydrocarbon include benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, biphenyl, naphthalene, anthracene, and phenanthrene.

また、上記炭化水素基は、その水素原子の一部または全部が、さらに置換基で置換されていてもよく、このような置換基としては、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、シラノール、チオール、カルボキシ、スルホン酸エステル、リン酸、リン酸エステル、エステル、チオエステル、アミド、1価炭化水素、オルガノオキシ、オルガノアミノ、オルガノシリル、オルガノチオ、アシル、スルホ基等が挙げられる。これらのうち、A14としては、ベンゼン、ビフェニル等から誘導される基が好ましい。 In addition, some or all of the hydrogen atoms in the hydrocarbon group may be further substituted with a substituent, and such substituents include halogen atoms (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), nitro, cyano, hydroxy, amino, silanol, thiol, carboxy, sulfonate ester, phosphoric acid, phosphate ester, ester, thioester, amide, monovalent hydrocarbon, organooxy, organoamino, organosilyl, organothio, acyl, sulfo group, etc. Among these, groups derived from benzene, biphenyl, etc. are preferred as A14 .

式(B1-2)中、A15は、-O-または-S-であるが、-O-が好ましい。 In formula (B1-2), A 15 is —O— or —S—, with —O— being preferred.

式(B1-2)中、A16は、炭素数6~20の(n+1)価の芳香族炭化水素基である。(n+1)価の芳香族炭化水素基は、炭素数6~20の芳香族炭化水素化合物の芳香環上から(n+1)個の水素原子を取り除いて得られる基である。この芳香族炭化水素化合物としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ビフェニル、ナフタレン、アントラセン、ピレン等が挙げられる。これらのうち、A16としては、ナフタレンまたはアントラセンから誘導される基が好ましく、ナフタレンから誘導される基がより好ましい。 In formula (B1-2), A 16 is an (n+1)-valent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. The (n+1)-valent aromatic hydrocarbon group is a group obtained by removing (n+1) hydrogen atoms from the aromatic ring of an aromatic hydrocarbon compound having 6 to 20 carbon atoms. Examples of this aromatic hydrocarbon compound include benzene, toluene, xylene, biphenyl, naphthalene, anthracene, and pyrene. Of these, A 16 is preferably a group derived from naphthalene or anthracene, and more preferably a group derived from naphthalene.

式(B1-2)中、Rs6およびRs7は、それぞれ独立に、水素原子、または直鎖状もしくは分岐状の1価脂肪族炭化水素基である。Rs8は、直鎖状または分岐状の1価脂肪族炭化水素基である。ただし、Rs6、Rs7およびRs8の炭素数の合計は6以上である。Rs6、Rs7およびRs8の炭素数の合計の上限は、特に限定されないが、20以下が好ましく、10以下がより好ましい。 In formula (B1-2), R s6 and R s7 each independently represent a hydrogen atom or a linear or branched monovalent aliphatic hydrocarbon group. R s8 represents a linear or branched monovalent aliphatic hydrocarbon group. The total number of carbon atoms in R s6 , R s7 , and R s8 is 6 or more. There is no particular upper limit to the total number of carbon atoms in R s6 , R s7 , and R s8 , but it is preferably 20 or less, and more preferably 10 or less.

上記直鎖状または分岐状の1価脂肪族炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ヘキシル、n-オクチル、2-エチルヘキシル、デシル基等の炭素数1~20のアルキル基;ビニル、1-プロペニル、2-プロペニル、イソプロペニル、1-メチル-2-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、ヘキセニル基等の炭素数2~20のアルケニル基等が挙げられる。 Specific examples of the above-mentioned linear or branched monovalent aliphatic hydrocarbon groups include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-hexyl, n-octyl, 2-ethylhexyl, and decyl groups; and alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms, such as vinyl, 1-propenyl, 2-propenyl, isopropenyl, 1-methyl-2-propenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, and hexenyl groups.

s6としては水素原子が好ましく、Rs7およびRs8としては炭素数1~6のアルキル基が好ましい。この場合、Rs7およびRs8は、同一であっても異なっていてもよい。 R s6 is preferably a hydrogen atom, and R s7 and R s8 are preferably alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms. In this case, R s7 and R s8 may be the same or different.

式(B1-2)中、mは、1≦m≦4を満たす整数であるが、2が好ましい。nは、1≦n≦4を満たす整数であるが、2が好ましい。 In formula (B1-2), m is an integer satisfying 1≦m≦4, preferably 2. n is an integer satisfying 1≦n≦4, preferably 2.

式(B1-3)中、Rs9~Rs13は、それぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のハロゲン化アルキル基、または炭素数2~10のハロゲン化アルケニル基である。 In formula (B1-3), R s9 to R s13 each independently represent a hydrogen atom, a nitro group, a cyano group, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogenated alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms.

上記炭素数1~10のアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、シクロペンチル、n-ヘキシル、シクロヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニル、n-デシル基等が挙げられる。 The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms may be linear, branched, or cyclic, and specific examples include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, cyclopentyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, and n-decyl groups.

上記炭素数1~10のハロゲン化アルキル基は、炭素数1~10のアルキル基の水素原子の一部または全部がハロゲン原子で置換された基であれば、特に限定されない。ハロゲン化アルキル基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、トリフルオロメチル、2,2,2-トリフルオロエチル、1,1,2,2,2-ペンタフルオロエチル、3,3,3-トリフルオロプロピル、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル、1,1,2,2,3,3,3-ヘプタフルオロプロピル、4,4,4-トリフルオロブチル、3,3,4,4,4-ペンタフルオロブチル、2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロブチル、1,1,2,2,3,3,4,4,4-ノナフルオロブチル基等が挙げられる。The halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is not particularly limited, as long as it is a group in which some or all of the hydrogen atoms of an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms have been substituted with halogen atoms. The halogenated alkyl group may be linear, branched, or cyclic, and specific examples include trifluoromethyl, 2,2,2-trifluoroethyl, 1,1,2,2,2-pentafluoroethyl, 3,3,3-trifluoropropyl, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl, 1,1,2,2,3,3,3-heptafluoropropyl, 4,4,4-trifluorobutyl, 3,3,4,4,4-pentafluorobutyl, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl, and 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutyl.

上記炭素数2~10のハロゲン化アルケニル基としては、炭素数2~10のアルケニル基の水素原子の一部または全部がハロゲン原子で置換された基であれば、特に限定されない。その具体例としては、パーフルオロビニル、パーフルオロ-1-プロペニル、パーフルオロ-2-プロペニル、パーフルオロ-1-ブテニル、パーフルオロ-2-ブテニル、パーフルオロ-3-ブテニル基等が挙げられる。 The halogenated alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms is not particularly limited, as long as it is a group in which some or all of the hydrogen atoms of an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms have been substituted with halogen atoms. Specific examples include perfluorovinyl, perfluoro-1-propenyl, perfluoro-2-propenyl, perfluoro-1-butenyl, perfluoro-2-butenyl, and perfluoro-3-butenyl groups.

これらのうち、Rs9としては、ニトロ基、シアノ基、炭素数1~10のハロゲン化アルキル基、炭素数2~10のハロゲン化アルケニル基等が好ましく、ニトロ基、シアノ基、炭素数1~4のハロゲン化アルキル基、炭素数2~4のハロゲン化アルケニル基等がより好ましく、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、パーフルオロプロペニル基等がより一層好ましい。また、Rs10~Rs13としては、ハロゲン原子が好ましく、フッ素原子がより好ましい。 Of these, R s9 is preferably a nitro group, a cyano group, a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenated alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, etc., more preferably a nitro group, cyano group, a halogenated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a halogenated alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, etc., and even more preferably a nitro group, cyano group, trifluoromethyl group, perfluoropropenyl group, etc. Furthermore, R s10 to R s13 are preferably halogen atoms, more preferably a fluorine atom.

式(B1-3)中、A17は、-O-、-S-または-NH-であるが、-O-が好ましい。 In formula (B1-3), A 17 is —O—, —S— or —NH—, with —O— being preferred.

式(B1-3)中、A18は、炭素数6~20の(n+1)価の芳香族炭化水素基である。(n+1)価の芳香族炭化水素基は、炭素数6~20の芳香族炭化水素化合物の芳香環上から(n+1)個の水素原子を取り除いて得られる基である。上記芳香族炭化水素化合物としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ビフェニル、ナフタレン、アントラセン、ピレン等が挙げられる。これらのうち、A18としては、ナフタレンまたはアントラセンから誘導される基が好ましく、ナフタレンから誘導される基がより好ましい。 In formula (B1-3), A 18 is an (n+1)-valent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. The (n+1)-valent aromatic hydrocarbon group is a group obtained by removing (n+1) hydrogen atoms from the aromatic ring of an aromatic hydrocarbon compound having 6 to 20 carbon atoms. Examples of the aromatic hydrocarbon compound include benzene, toluene, xylene, biphenyl, naphthalene, anthracene, and pyrene. Of these, A 18 is preferably a group derived from naphthalene or anthracene, and more preferably a group derived from naphthalene.

式(B1-3)中、Rs14~Rs17は、それぞれ独立に、水素原子、または直鎖状もしくは分岐状の炭素数1~20の1価脂肪族炭化水素基である。上記1価脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、シクロペンチル、n-ヘキシル、シクロヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニル、n-デシル、n-ウンデシル、n-ドデシル基等の炭素数1~20のアルキル基;ビニル、1-プロペニル、2-プロペニル、イソプロペニル、1-メチル-2-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、ヘキセニル基等の炭素数2~20のアルケニル基等が挙げられる。これらのうち、炭素数1~20のアルキル基が好ましく、炭素数1~10のアルキル基がより好ましく、炭素数1~8のアルキル基がより一層好ましい。 In formula (B1-3), R s14 to R s17 each independently represent a hydrogen atom or a linear or branched monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. The monovalent aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched, or cyclic, and specific examples thereof include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, cyclopentyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, n-decyl, n-undecyl, and n-dodecyl; and alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms, such as vinyl, 1-propenyl, 2-propenyl, isopropenyl, 1-methyl-2-propenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, and hexenyl. Of these, alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms are preferred, alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms are more preferred, and alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms are even more preferred.

式(B1-3)中、Rs18は、直鎖状もしくは分岐状の炭素数1~20の1価脂肪族炭化水素基、またはORs19である。Rs19は、置換されていてもよい炭素数2~20の1価炭化水素基である。 In formula (B1-3), R s18 is a linear or branched monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or OR s19 . R s19 is an optionally substituted monovalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms.

s18で表される直鎖状または分岐状の炭素数1~20の1価脂肪族炭化水素基としては、Rs14~Rs17の説明において述べたものと同様のものが挙げられる。Rs18が1価脂肪族炭化水素基である場合、Rs18としては、炭素数1~20のアルキル基が好ましく、炭素数1~10のアルキル基がより好ましく、炭素数1~8のアルキル基がより一層好ましい。 Examples of the linear or branched monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R s18 include those similar to those described in the description of R s14 to R s17 . When R s18 is a monovalent aliphatic hydrocarbon group, R s18 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and even more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.

s19で表される炭素数2~20の1価炭化水素基としては、前述した1価脂肪族炭化水素基のうちメチル基以外のもののほか、フェニル基、ナフチル基、フェナントリル基等のアリール基等が挙げられる。これらのうち、Rs19としては、炭素数2~4の直鎖アルキル基またはフェニル基が好ましい。なお、上記1価炭化水素基が有していてもよい置換基としては、フッ素原子、炭素数1~4のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。 Examples of the monovalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms represented by R s19 include the monovalent aliphatic hydrocarbon groups described above other than methyl, as well as aryl groups such as phenyl, naphthyl, and phenanthryl. Of these, R s19 is preferably a linear alkyl group having 2 to 4 carbon atoms or a phenyl group. Examples of the substituent that the monovalent hydrocarbon group may have include a fluorine atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a nitro group, and a cyano group.

式(B1-3)中、nは、1≦n≦4を満たす整数であるが、2が好ましい。 In formula (B1-3), n is an integer satisfying the condition 1≦n≦4, with 2 being preferred.

式(B1-3)で表されるアリールスルホン酸エステル化合物としては、特に、下記式(B1-3-1)または(B1-3-2)で表されるものが好ましい。 As the aryl sulfonate ester compound represented by formula (B1-3), those represented by the following formula (B1-3-1) or (B1-3-2) are particularly preferred.

式(B1-3-1)および(B1-3-2)中、A17、A18、Rs9~Rs17、Rs19およびnは、上記と同じ意味を表す。Rs20は、直鎖状または分岐状の炭素数1~20の1価脂肪族炭化水素基であり、その具体例としては、Rs18の説明において述べたものと同様のものが挙げられる。 In formulas (B1-3-1) and (B1-3-2), A 17 , A 18 , R s9 to R s17 , R s19 and n are as defined above. R s20 is a linear or branched monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include those similar to those described in the description of R s18 .

式(B1-3-1)で表されるアリールスルホン酸エステル化合物においては、Rs14~Rs17のうち、Rs14またはRs16が炭素数1~3の直鎖アルキル基であり、残りが水素原子であることが好ましい。さらに、Rs14が、炭素数1~3の直鎖アルキル基であり、Rs15~Rs17が水素原子であることが好ましい。この炭素数1~3の直鎖アルキル基としては、メチル基が好ましい。また、Rs19としては、炭素数2~4の直鎖アルキル基またはフェニル基が好ましい。 In the arylsulfonate ester compound represented by formula (B1-3-1), among R s14 to R s17 , it is preferable that R s14 or R s16 is a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and the remainder are hydrogen atoms. Furthermore, it is preferable that R s14 is a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R s15 to R s17 are hydrogen atoms. As this linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a methyl group is preferred. Furthermore, R s19 is preferably a linear alkyl group having 2 to 4 carbon atoms or a phenyl group.

式(B1-3-2)で表されるアリールスルホン酸エステル化合物においては、Rs14、Rs16およびRs20の炭素数の合計は6以上が好ましい。Rs14、Rs16およびRs20の炭素数の合計の上限は、20以下が好ましく、10以下がより好ましい。この場合、Rs14としては、水素原子が好ましく、Rs16およびRs20としては、炭素数1~6のアルキル基が好ましい。また、Rs16およびRs20は、互いに同一であっても異なっていてもよい。 In the arylsulfonate compound represented by formula (B1-3-2), the total number of carbon atoms in R s14 , R s16 , and R s20 is preferably 6 or more. The upper limit of the total number of carbon atoms in R s14 , R s16 , and R s20 is preferably 20 or less, and more preferably 10 or less. In this case, R s14 is preferably a hydrogen atom, and R s16 and R s20 are preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Furthermore, R s16 and R s20 may be the same or different.

式(B1)で表されるアリールスルホン酸エステル化合物は、1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。The aryl sulfonate ester compounds represented by formula (B1) may be used alone or in combination of two or more.

好適なアリールスルホン酸エステル化合物の具体例としては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。 Specific examples of suitable aryl sulfonate ester compounds include, but are not limited to, the following:

アリールスルホン酸エステル化合物の使用量は、物質量(モル)比で、ポリチオフェン誘導体やアリールアミン誘導等の有機機能材料1に対して、好ましくは0.01~20.0程度、より好ましくは0.05~15程度である。The amount of aryl sulfonate ester compound used is preferably approximately 0.01 to 20.0, more preferably approximately 0.05 to 15, in terms of molar ratio, per 1 part of organic functional material such as a polythiophene derivative or an arylamine derivative.

アリールスルホン酸化合物、アリールスルホン酸エステル化合物等の有機系ドーパントの分子量は、特に限定されるものではないが、電荷輸送性物質とともに用いた場合における有機溶媒への溶解性を考慮すると、好ましくは4000以下、より好ましくは3000以下、より一層好ましくは2000以下である。 The molecular weight of organic dopants such as arylsulfonic acid compounds and arylsulfonic acid ester compounds is not particularly limited, but taking into consideration solubility in organic solvents when used together with a charge transport material, it is preferably 4,000 or less, more preferably 3,000 or less, and even more preferably 2,000 or less.

本発明においては、透明性に優れ、高屈折率の電荷輸送性薄膜を作製することを考慮すると、ドーパント物質として、アリールスルホン酸化合物、アリールスルホン酸エステル化合物を用いることが好ましく、溶媒に対する溶解性等を考慮すると、アリールスルホン酸エステル化合物を用いることがより好ましい。 In the present invention, in order to produce a charge-transporting thin film with excellent transparency and a high refractive index, it is preferable to use an aryl sulfonic acid compound or an aryl sulfonic acid ester compound as the dopant substance, and in consideration of solubility in solvents, etc., it is more preferable to use an aryl sulfonic acid ester compound.

[4]溶媒
本発明の電荷輸送性ワニスを調製する際に用いられる溶媒としては、使用する電荷輸送性物質等を良好に溶解し得る高極性溶媒を用いることができる。また、必要に応じて、高極性溶媒よりもプロセス適合性に優れている点で低極性溶媒を用いてもよい。本発明において、低極性溶媒とは周波数100kHzでの比誘電率が7未満のものを、高極性溶媒とは周波数100kHzでの比誘電率が7以上のものと定義する。
[4] Solvent The solvent used in preparing the charge-transporting varnish of the present invention may be a highly polar solvent capable of dissolving the charge-transporting material used. If necessary, a low-polarity solvent may be used because it has better process compatibility than a high-polarity solvent. In the present invention, a low-polarity solvent is defined as one having a dielectric constant of less than 7 at a frequency of 100 kHz, and a high-polarity solvent is defined as one having a dielectric constant of 7 or more at a frequency of 100 kHz.

低極性溶媒としては、例えば、
クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素系溶媒;
トルエン、キシレン、テトラリン、シクロヘキシルベンゼン、デシルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒;
1-オクタノール、1-ノナノール、1-デカノール等の脂肪族アルコール系溶媒;
テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール、4-メトキシトルエン、3-フェノキシトルエン、ジベンジルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒;
安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸ブチル、安息香酸イソアミル、フタル酸ビス(2-エチルヘキシル)、マレイン酸ジブチル、シュウ酸ジブチル、酢酸ヘキシル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒
等が挙げられる。
Examples of low polarity solvents include:
Chlorinated solvents such as chloroform and chlorobenzene;
aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, tetralin, cyclohexylbenzene, and decylbenzene;
Aliphatic alcohol solvents such as 1-octanol, 1-nonanol, and 1-decanol;
Ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, anisole, 4-methoxytoluene, 3-phenoxytoluene, dibenzyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol butyl methyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, and triethylene glycol butyl methyl ether;
Examples of the solvent include ester solvents such as methyl benzoate, ethyl benzoate, butyl benzoate, isoamyl benzoate, bis(2-ethylhexyl) phthalate, dibutyl maleate, dibutyl oxalate, hexyl acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, and diethylene glycol monobutyl ether acetate.

また、高極性溶媒としては、例えば、
N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルイソブチルアミド、N-メチルピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のアミド系溶媒;
エチルメチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;
アセトニトリル、3-メトキシプロピオニトリル等のシアノ系溶媒;
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、1,3-ブタンジオール、2,3-ブタンジオール等の多価アルコール系溶媒;
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ベンジルアルコール、2-フェノキシエタノール、2-ベンジルオキシエタノール、3-フェノキシベンジルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール等の脂肪族アルコール以外の1価アルコール系溶媒;
ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒
等が挙げられる。
Furthermore, examples of highly polar solvents include:
Amide solvents such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylisobutyramide, N-methylpyrrolidone, and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone;
Ketone solvents such as ethyl methyl ketone, isophorone, and cyclohexanone;
Cyano solvents such as acetonitrile and 3-methoxypropionitrile;
polyhydric alcohol solvents such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, dipropylene glycol, 1,3-butanediol, and 2,3-butanediol;
monohydric alcohol solvents other than aliphatic alcohols, such as diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monophenyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, benzyl alcohol, 2-phenoxyethanol, 2-benzyloxyethanol, 3-phenoxybenzyl alcohol, and tetrahydrofurfuryl alcohol;
Examples include sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide.

[5]シラン化合物
得られる薄膜を有機EL素子の正孔注入層として用いる場合、正孔輸送層への注入性の向上、素子の寿命特性等の改善を目的として、上記電荷輸送性ワニスは、有機シラン化合物を含んでいてもよい。その含有量は、電荷輸送性物質およびドーパント物質の合計質量に対して、通常1~30質量%程度である。
[5] Silane Compound When the resulting thin film is used as a hole injection layer of an organic EL device, the charge transport varnish may contain an organosilane compound for the purposes of improving injection into the hole transport layer, improving the life characteristics of the device, etc. The content of the organosilane compound is usually about 1 to 30% by mass based on the total mass of the charge transport substance and the dopant substance.

[6]電荷輸送性ワニスおよび電荷輸送性薄膜
電荷輸送性ワニスの粘度は、作製する薄膜の厚み等や固形分濃度に応じて適宜定まるものではあるが、通常、25℃で1~50mPa・sである。なお、本発明において固形分とは、電荷輸送性ワニスに含まれる溶媒以外の成分を意味する。
また、電荷輸送性ワニスの固形分濃度は、ワニスの粘度および表面張力等や、作製する薄膜の厚み等を勘案して適宜決定されるものではあるが、通常、0.1~10.0質量%程度であり、ワニスの塗布性を向上させることを考慮すると、好ましくは0.5~5.0質量%程度、より好ましくは1.0~3.0質量%程度である。
[6] Charge-Transporting Varnish and Charge-Transporting Thin Film The viscosity of the charge-transporting varnish is determined appropriately depending on the thickness of the thin film to be produced and the solid content concentration, but is usually 1 to 50 mPa·s at 25° C. In the present invention, the solid content refers to the components other than the solvent contained in the charge-transporting varnish.
The solids concentration of the charge-transporting varnish is determined appropriately taking into consideration the viscosity and surface tension of the varnish, the thickness of the thin film to be produced, and the like, but is usually about 0.1 to 10.0 mass %, and in consideration of improving the coatability of the varnish, it is preferably about 0.5 to 5.0 mass %, and more preferably about 1.0 to 3.0 mass %.

電荷輸送性ワニスの調製法としては、特に限定されるものではないが、例えば、電荷輸送性物質およびドーパント物質を高極性溶媒に溶解させ、そこへ低極性溶媒および表面処理金属酸化物ナノ粒子等を加える手法や、高極性溶媒と低極性溶媒を混合し、そこへ電荷輸送性物質およびドーパント物質を溶解させ、さらに表面処理金属酸化物ナノ粒子を加える手法などが挙げられる。 There are no particular limitations on the method for preparing the charge-transporting varnish. Examples include dissolving the charge-transporting substance and dopant substance in a high-polarity solvent, and then adding a low-polarity solvent and surface-treated metal oxide nanoparticles, or mixing a high-polarity solvent and a low-polarity solvent, dissolving the charge-transporting substance and dopant substance in the mixture, and then adding surface-treated metal oxide nanoparticles.

特に、電荷輸送性ワニスの調製の際、より平坦性の高い薄膜を再現性よく得る観点から、電荷輸送性物質、ドーパント物質等を有機溶媒に溶解させた後、サブマイクロメートルオーダーのフィルター等を用いて濾過したから用いることが望ましい。 In particular, when preparing charge-transporting varnish, in order to obtain a thin film with a higher degree of flatness and with good reproducibility, it is desirable to dissolve the charge-transporting substance, dopant substance, etc. in an organic solvent and then filter the resultant using a sub-micrometer filter or the like.

以上説明した電荷輸送性ワニスは、これを用いることで容易に電荷輸送性薄膜を製造できることから、電子素子、特に有機EL素子を製造する際に好適に用いることができる。
この場合、電荷輸送性薄膜は、上述した電荷輸送性ワニスを基材上に塗布して焼成して形成することができる。
ワニスの塗布方法としては、特に限定されるものではなく、ディップ法、スピンコート法、転写印刷法、ロールコート法、刷毛塗り、インクジェット法、スプレー法、スリットコート法等が挙げられ、塗布方法に応じてワニスの粘度および表面張力を調節することが好ましい。
The charge transporting varnish described above can be used to easily produce a charge transporting thin film, and is therefore suitable for use in producing electronic devices, particularly organic EL devices.
In this case, the charge transporting thin film can be formed by applying the above-mentioned charge transporting varnish onto a substrate and baking it.
The method for applying the varnish is not particularly limited, and examples thereof include dipping, spin coating, transfer printing, roll coating, brush coating, inkjet coating, spraying, and slit coating. It is preferable to adjust the viscosity and surface tension of the varnish depending on the application method.

また、塗布後の電荷輸送性ワニスの焼成雰囲気も特に限定されるものではなく、大気雰囲気だけでなく、窒素等の不活性ガスや真空中でも均一な成膜面および高い電荷輸送性を有する薄膜を得ることができるが、用いるドーパント物質の種類によっては、ワニスを大気雰囲気下で焼成することで、電荷輸送性を有する薄膜が再現性よく得られる場合がある。 In addition, the atmosphere in which the charge-transporting varnish is baked after application is not particularly limited; a uniform film surface and a thin film with high charge transport properties can be obtained not only in an air atmosphere, but also in an inert gas such as nitrogen or in a vacuum. However, depending on the type of dopant substance used, a thin film with charge transport properties may be reproducibly obtained by baking the varnish in an air atmosphere.

焼成温度は、得られる薄膜の用途、得られる薄膜に付与する電荷輸送性の程度、溶媒の種類や沸点等を勘案して、100~260℃程度の範囲内で適宜決定され、例えば得られる薄膜を有機EL素子の正孔注入層として用いる場合、140~250℃程度が好ましく、145~240℃程度がより好ましいが、上述したアリールアミン化合物を電荷輸送性物質として用いる場合、200℃以下という低温焼成でも、良好な電荷輸送性を有する薄膜を得ることができる。
なお、焼成の際、より高い均一成膜性を発現させたり、基材上で反応を進行させたりする目的で、2段階以上の温度変化をつけてもよく、加熱は、例えば、ホットプレートやオーブン等、適当な機器を用いて行えばよい。
The baking temperature is appropriately determined within a range of about 100 to 260°C, taking into consideration the use of the resulting thin film, the degree of charge transport property to be imparted to the resulting thin film, the type and boiling point of the solvent, etc. For example, when the resulting thin film is used as a hole injection layer of an organic EL device, the baking temperature is preferably about 140 to 250°C, and more preferably about 145 to 240°C. However, when the above-mentioned arylamine compound is used as the charge transport material, a thin film having good charge transport property can be obtained even by baking at a low temperature of 200°C or less.
During firing, the temperature may be changed in two or more stages in order to achieve a more uniform film formation or to promote the reaction on the substrate, and heating may be carried out using an appropriate device such as a hot plate or an oven.

電荷輸送性薄膜の膜厚は、特に限定されないが、有機EL素子の正孔注入層、正孔輸送層、正孔注入輸送層等の陽極と発光層との間に設けられる機能層として用いる場合、5~300nmが好ましい。膜厚を変化させる方法としては、ワニス中の固形分濃度を変化させたり、塗布時の基板上の溶液量を変化させたりする等の方法がある。 There are no particular limitations on the film thickness of the charge-transporting thin film, but when used as a functional layer between the anode and light-emitting layer of an organic EL device, such as a hole injection layer, hole transport layer, or hole injection transport layer, a thickness of 5 to 300 nm is preferred. Methods for changing the film thickness include changing the solids concentration in the varnish or changing the amount of solution on the substrate during application.

以上説明した本発明の電荷輸送性薄膜は、膜厚50nmにおいて、400~800nmの波長領域で、90%以上の平均透過率を示し、ある態様においては92%以上の平均透過率を、その他のある態様においては95%以上の平均透過率を示す。 The charge transport thin film of the present invention described above exhibits an average transmittance of 90% or more in the wavelength range of 400 to 800 nm at a film thickness of 50 nm, and in some embodiments exhibits an average transmittance of 92% or more, and in other embodiments exhibits an average transmittance of 95% or more.

[7]有機EL素子
上記電荷輸送性薄膜を有機EL素子に適用する場合、有機EL素子を構成する一対の電極の間に、上述の電荷輸送性薄膜を備える構成とすることができる。
有機EL素子の代表的な構成としては、以下(a)~(f)が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。なお、下記構成において、必要に応じて、発光層と陽極の間に電子ブロック層等を、発光層と陰極の間にホール(正孔)ブロック層等を設けることもできる。また、正孔注入層、正孔輸送層あるいは正孔注入輸送層が電子ブロック層等としての機能を兼ね備えていてもよく、電子注入層、電子輸送層あるいは電子注入輸送層がホール(正孔)ブロック層等としての機能を兼ね備えていてもよい。さらに、必要に応じて各層の間に任意の機能層を設けることも可能である。
(a)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
(b)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入輸送層/陰極
(c)陽極/正孔注入輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
(d)陽極/正孔注入輸送層/発光層/電子注入輸送層/陰極
(e)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/陰極
(f)陽極/正孔注入輸送層/発光層/陰極
[7] Organic EL Device When the charge transporting thin film is applied to an organic EL device, the organic EL device may be configured to include the charge transporting thin film between a pair of electrodes.
Representative configurations of organic EL elements include, but are not limited to, the following (a) to (f). In the following configurations, an electron blocking layer or the like can be provided between the light-emitting layer and the anode, and a hole blocking layer or the like can be provided between the light-emitting layer and the cathode, as necessary. Furthermore, the hole injection layer, the hole transport layer, or the hole injection transport layer may also function as an electron blocking layer or the like, and the electron injection layer, the electron transport layer, or the electron injection transport layer may also function as a hole blocking layer or the like. Furthermore, an arbitrary functional layer can be provided between each layer as necessary.
(a) anode/hole injection layer/hole transport layer/light-emitting layer/electron transport layer/electron injection layer/cathode (b) anode/hole injection layer/hole transport layer/light-emitting layer/electron injection transport layer/cathode (c) anode/hole injection transport layer/light-emitting layer/electron transport layer/electron injection layer/cathode (d) anode/hole injection transport layer/light-emitting layer/electron injection transport layer/cathode (e) anode/hole injection layer/hole transport layer/light-emitting layer/cathode (f) anode/hole injection transport layer/light-emitting layer/cathode

「正孔注入層」、「正孔輸送層」および「正孔注入輸送層」とは、発光層と陽極との間に形成される層であって、正孔を陽極から発光層へ輸送する機能を有するものであり、発光層と陽極の間に、正孔輸送性材料の層が1層のみ設けられる場合、それが「正孔注入輸送層」であり、発光層と陽極の間に、正孔輸送性材料の層が2層以上設けられる場合、陽極に近い層が「正孔注入層」であり、それ以外の層が「正孔輸送層」である。特に、正孔注入(輸送)層は、陽極からの正孔受容性だけでなく、正孔輸送(発光)層への正孔注入性にも優れる薄膜が用いられる。
「電子注入層」、「電子輸送層」および「電子注入輸送層」とは、発光層と陰極との間に形成される層であって、電子を陰極から発光層へ輸送する機能を有するものであり、発光層と陰極の間に、電子輸送性材料の層が1層のみ設けられる場合、それが「電子注入輸送層」であり、発光層と陰極の間に、電子輸送性材料の層が2層以上設けられる場合、陰極に近い層が「電子注入層」であり、それ以外の層が「電子輸送層」である。
「発光層」とは、発光機能を有する有機層であって、ドーピングシステムを採用する場合、ホスト材料とドーパント材料を含んでいる。このとき、ホスト材料は、主に電子と正孔の再結合を促し、励起子を発光層内に閉じ込める機能を有し、ドーパント材料は、再結合で得られた励起子を効率的に発光させる機能を有する。燐光素子の場合、ホスト材料は主にドーパントで生成された励起子を発光層内に閉じ込める機能を有する。
The terms "hole injection layer,""hole transport layer," and "hole injection transport layer" refer to layers formed between the light-emitting layer and the anode, which have the function of transporting holes from the anode to the light-emitting layer. When only one layer of a hole-transporting material is provided between the light-emitting layer and the anode, it is the "hole injection transport layer." When two or more layers of a hole-transporting material are provided between the light-emitting layer and the anode, the layer closest to the anode is the "hole injection layer," and the remaining layers are "hole transport layers." In particular, the hole injection (transport) layer is a thin film that is excellent not only in the ability to accept holes from the anode but also in the ability to inject holes into the hole transport (light-emitting) layer.
The terms "electron injection layer,""electron transport layer," and "electron injection transport layer" refer to layers formed between a light-emitting layer and a cathode, which have the function of transporting electrons from the cathode to the light-emitting layer. When only one layer of an electron-transporting material is provided between the light-emitting layer and the cathode, it is the "electron injection transport layer." When two or more layers of an electron-transporting material are provided between the light-emitting layer and the cathode, the layer closest to the cathode is the "electron injection layer," and the other layers are "electron transport layers."
The "light-emitting layer" is an organic layer that has a light-emitting function, and when a doping system is used, it contains a host material and a dopant material. In this case, the host material mainly functions to promote the recombination of electrons and holes and confine excitons within the light-emitting layer, while the dopant material functions to efficiently emit light from the excitons obtained by the recombination. In the case of a phosphorescent element, the host material mainly functions to confine excitons generated by the dopant within the light-emitting layer.

本発明の電荷輸送性薄膜は、有機EL素子において、陽極と発光層との間に設けられる機能層として用い得るが、正孔注入層、正孔輸送層、正孔注入輸送層として好適であり、正孔注入層または正孔輸送層としてより好適であり、正孔注入層としてより一層好適である。 The charge transport thin film of the present invention can be used as a functional layer disposed between the anode and the light-emitting layer in an organic EL element, but is suitable as a hole injection layer, hole transport layer, or hole injection transport layer, more suitable as a hole injection layer or hole transport layer, and even more suitable as a hole injection layer.

本発明の電荷輸送性ワニスを用いてEL素子を作製する場合の使用材料や、作製方法としては、下記のようなものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本発明の電荷輸送性ワニスから得られる薄膜からなる正孔注入層を有するOLED素子の作製方法の一例は、以下のとおりである。なお、電極は、電極に悪影響を与えない範囲で、アルコール、純水等による洗浄や、UVオゾン処理、酸素-プラズマ処理等による表面処理を予め行うことが好ましい。
陽極基板上に、上記の方法により、本発明の電荷輸送性薄膜からなる正孔注入層を形成する。これを真空蒸着装置内に導入し、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子輸送層/ホールブロック層、陰極金属を順次蒸着する。あるいは、当該方法において蒸着で正孔輸送層と発光層を形成する代わりに、正孔輸送性高分子を含む正孔輸送層形成用組成物と発光性高分子を含む発光層形成用組成物を用いてウェットプロセスによってこれらの層を形成する。なお、必要に応じて、発光層と正孔輸送層との間に電子ブロック層を設けてよい。
When an EL device is produced using the charge transporting varnish of the present invention, the materials to be used and the production method thereof are as follows, but are not limited thereto.
An example of a method for producing an OLED device having a hole injection layer made of a thin film obtained from the charge-transporting varnish of the present invention is as follows: It is preferable to previously perform a surface treatment on the electrodes, such as washing with alcohol, pure water, or the like, or UV ozone treatment, oxygen-plasma treatment, or the like, within a range that does not adversely affect the electrodes.
A hole injection layer made of the charge transport thin film of the present invention is formed on an anode substrate by the above-described method. This is then introduced into a vacuum deposition apparatus, and a hole transport layer, a light-emitting layer, an electron transport layer, an electron transport layer/hole blocking layer, and a cathode metal are sequentially deposited. Alternatively, instead of forming the hole transport layer and the light-emitting layer by deposition in this method, these layers are formed by a wet process using a hole transport layer-forming composition containing a hole transport polymer and a light-emitting layer-forming composition containing a light-emitting polymer. If necessary, an electron blocking layer may be provided between the light-emitting layer and the hole transport layer.

陽極材料としては、インジウム錫酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)に代表される透明電極や、アルミニウムに代表される金属やこれらの合金等から構成される金属陽極が挙げられ、平坦化処理を行ったものが好ましい。高電荷輸送性を有するポリチオフェン誘導体やポリアニリン誘導体を用いることもできる。
なお、金属陽極を構成するその他の金属としては、金、銀、銅、インジウムやこれらの合金等が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
Examples of anode materials include transparent electrodes such as indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO), and metal anodes made of metals such as aluminum or alloys thereof, and preferably those that have been subjected to a planarization treatment.Polythiophene derivatives and polyaniline derivatives having high charge transport properties can also be used.
Other metals that may be used to form the metal anode include, but are not limited to, gold, silver, copper, indium, and alloys thereof.

正孔輸送層を形成する材料としては、(トリフェニルアミン)ダイマー誘導体、[(トリフェニルアミン)ダイマー]スピロダイマー、N,N’-ビス(ナフタレン-1-イル)-N,N’-ビス(フェニル)-ベンジジン(α-NPD)、4,4’,4”-トリス[3-メチルフェニル(フェニル)アミノ]トリフェニルアミン(m-MTDATA)、4,4’,4”-トリス[1-ナフチル(フェニル)アミノ]トリフェニルアミン(1-TNATA)等のトリアリールアミン類、5,5”-ビス-{4-[ビス(4-メチルフェニル)アミノ]フェニル}-2,2’:5’,2”-ターチオフェン(BMA-3T)等のオリゴチオフェン類などが挙げられる。 Materials for forming the hole transport layer include triarylamines such as (triphenylamine) dimer derivatives, [(triphenylamine) dimer] spiro dimer, N,N'-bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidine (α-NPD), 4,4',4"-tris[3-methylphenyl(phenyl)amino]triphenylamine (m-MTDATA), and 4,4',4"-tris[1-naphthyl(phenyl)amino]triphenylamine (1-TNATA), and oligothiophenes such as 5,5"-bis-{4-[bis(4-methylphenyl)amino]phenyl}-2,2':5',2"-terthiophene (BMA-3T).

発光層を形成する材料としては、8-ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体等の金属錯体、10-ヒドロキシベンゾ[h]キノリンの金属錯体、ビススチリルベンゼン誘導体、ビススチリルアリーレン誘導体、(2-ヒドロキシフェニル)ベンゾチアゾールの金属錯体、シロール誘導体等の低分子発光材料;ポリ(p-フェニレンビニレン)、ポリ[2-メトキシ-5-(2-エチルヘキシルオキシ)-1,4-フェニレンビニレン]、ポリ(3-アルキルチオフェン)、ポリビニルカルバゾール等の高分子化合物に発光材料と電子移動材料を混合した系等が挙げられるが、これらに限定されない。
また、蒸着で発光層を形成する場合、発光性ドーパントと共蒸着してもよく、発光性ドーパントとしては、トリス(2-フェニルピリジン)イリジウム(III)(Ir(ppy)3)等の金属錯体や、ルブレン等のナフタセン誘導体、キナクリドン誘導体、ペリレン等の縮合多環芳香族環等が挙げられるが、これらに限定されない。
Examples of materials for forming the light-emitting layer include, but are not limited to, low-molecular-weight light-emitting materials such as metal complexes such as aluminum complexes of 8-hydroxyquinoline, metal complexes of 10-hydroxybenzo[h]quinoline, bisstyrylbenzene derivatives, bisstyrylarylene derivatives, metal complexes of (2-hydroxyphenyl)benzothiazole, and silole derivatives; and systems in which a light-emitting material and an electron transfer material are mixed with a polymer compound such as poly(p-phenylenevinylene), poly[2-methoxy-5-(2-ethylhexyloxy)-1,4-phenylenevinylene], poly(3-alkylthiophene), or polyvinylcarbazole.
Furthermore, when forming the light-emitting layer by vapor deposition, it may be co-deposited with a light-emitting dopant. Examples of the light-emitting dopant include, but are not limited to, metal complexes such as tris( 2 -phenylpyridine)iridium(III) (Ir(ppy)), naphthacene derivatives such as rubrene, quinacridone derivatives, and fused polycyclic aromatic rings such as perylene.

電子輸送層/ホールブロック層を形成する材料としては、オキシジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナントロリン誘導体、フェニルキノキサリン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、ピリミジン誘導体等が挙げられるが、これらに限定されない。 Materials for forming the electron transport layer/hole blocking layer include, but are not limited to, oxydiazole derivatives, triazole derivatives, phenanthroline derivatives, phenylquinoxaline derivatives, benzimidazole derivatives, pyrimidine derivatives, etc.

電子注入層を形成する材料としては、酸化リチウム(Li2O)、酸化マグネシウム(MgO)、アルミナ(Al23)等の金属酸化物、フッ化リチウム(LiF)、フッ化ナトリウム(NaF)の金属フッ化物が挙げられるが、これらに限定されない
陰極材料としては、アルミニウム、マグネシウム-銀合金、アルミニウム-リチウム合金等が挙げられるが、これらに限定されない。
電子ブロック層を形成する材料としては、トリス(フェニルピラゾール)イリジウム等が挙げられるが、これに限定されない。
Materials for forming the electron injection layer include, but are not limited to, metal oxides such as lithium oxide ( Li2O ), magnesium oxide ( MgO), and alumina (Al2O3 ) , and metal fluorides such as lithium fluoride (LiF) and sodium fluoride (NaF).Cathode materials include, but are not limited to, aluminum, magnesium-silver alloy, and aluminum-lithium alloy.
Examples of materials for forming the electron blocking layer include, but are not limited to, tris(phenylpyrazole)iridium.

正孔輸送性高分子としては、ポリ[(9,9-ジヘキシルフルオレニル-2,7-ジイル)-co-(N,N’-ビス{p-ブチルフェニル}-1,4-ジアミノフェニレン)]、ポリ[(9,9-ジオクチルフルオレニル-2,7-ジイル)-co-(N,N’-ビス{p-ブチルフェニル}-1,1’-ビフェニレン-4,4-ジアミン)]、ポリ[(9,9-ビス{1’-ペンテン-5’-イル}フルオレニル-2,7-ジイル)-co-(N,N’-ビス{p-ブチルフェニル}-1,4-ジアミノフェニレン)]、ポリ[N,N’-ビス(4-ブチルフェニル)-N,N’-ビス(フェニル)-ベンジジン]-エンドキャップド ウィズ ポリシルシスキノキサン、ポリ[(9,9-ジジオクチルフルオレニル-2,7-ジイル)-co-(4,4’-(N-(p-ブチルフェニル))ジフェニルアミン)]等が挙げられる。 Examples of hole-transporting polymers include poly[(9,9-dihexylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(N,N'-bis{p-butylphenyl}-1,4-diaminophenylene)], poly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(N,N'-bis{p-butylphenyl}-1,1'-biphenylene-4,4-diamine)], poly[(9,9-bis{1'-penten-5'-yl}fluorenyl-2,7-diyl)-co-(N,N'-bis{p-butylphenyl}-1,4-diaminophenylene)], and poly[N,N'-bis(4-butylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidine]-end-capped with Examples include polysilcisquinoxane and poly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(4,4'-(N-(p-butylphenyl))diphenylamine)].

発光性高分子としては、ポリ(9,9-ジアルキルフルオレン)(PDAF)等のポリフルオレン誘導体、ポリ(2-メトキシ-5-(2’-エチルヘキソキシ)-1,4-フェニレンビニレン)(MEH-PPV)等のポリフェニレンビニレン誘導体、ポリ(3-アルキルチオフェン)(PAT)等のポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール(PVCz)等が挙げられる。 Examples of luminescent polymers include polyfluorene derivatives such as poly(9,9-dialkylfluorene) (PDAF), polyphenylenevinylene derivatives such as poly(2-methoxy-5-(2'-ethylhexoxy)-1,4-phenylenevinylene) (MEH-PPV), polythiophene derivatives such as poly(3-alkylthiophene) (PAT), and polyvinylcarbazole (PVCz).

本発明の電荷輸送性ワニスは、上述した通り有機EL素子の正孔注入層、正孔輸送層、正孔注入輸送層等の陽極と発光層との間に設けられる機能層の形成に好適に用いられるが、その他にも有機光電変換素子、有機薄膜太陽電池、有機ペロブスカイト光電変換素子、有機集積回路、有機電界効果トランジスタ、有機薄膜トランジスタ、有機発光トランジスタ、有機光学検査器、有機光受容器、有機電場消光素子、発光電子化学電池、量子ドット発光ダイオード、量子レーザー、有機レーザーダイオードおよび有機プラスモン発光素子等の電子素子における電荷輸送性薄膜の形成にも利用することができる。As described above, the charge transport varnish of the present invention is suitable for use in forming functional layers such as hole injection layers, hole transport layers, and hole injection transport layers that are disposed between the anode and light-emitting layer of organic EL devices. It can also be used to form charge transport thin films in electronic devices such as organic photoelectric conversion devices, organic thin-film solar cells, organic perovskite photoelectric conversion devices, organic integrated circuits, organic field-effect transistors, organic thin-film transistors, organic light-emitting transistors, organic optical inspectors, organic photoreceptors, organic field quenching devices, light-emitting electrochemical cells, quantum dot light-emitting diodes, quantum lasers, organic laser diodes, and organic plasmon light-emitting devices.

以下、製造例、調製例、実施例および比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。なお、使用した装置は以下のとおりである。
(1)基板洗浄:長州産業(株)製 基板洗浄装置(減圧プラズマ方式)
(2)ワニスの塗布:ミカサ(株)製 スピンコーターMS-A100
(3)膜厚測定:(株)小坂研究所製 微細形状測定機サーフコーダET-4000
(4)ホールオンリー素子の作製:長州産業(株)製 多機能蒸着装置システムC-E2L1G1-N
(5)ホールオンリー素子の電流密度の測定:(株)イーエッチシー製 多チャンネルIVL測定装置
(6)透過率の測定:島津サイエンス(株)製 紫外可視近赤外分光光度計UV-3600
The present invention will be described in more detail below with reference to Production Examples, Preparation Examples, Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. The apparatuses used are as follows.
(1) Substrate cleaning: Substrate cleaning equipment (low-pressure plasma method) manufactured by Choshu Sangyo Co., Ltd.
(2) Varnish application: Spin coater MS-A100 manufactured by Mikasa Co., Ltd.
(3) Film thickness measurement: Micro-shape measuring instrument Surfcorder ET-4000 manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd.
(4) Fabrication of hole-only element: Multifunctional deposition system C-E2L1G1-N manufactured by Choshu Sangyo Co., Ltd.
(5) Measurement of current density of hole-only element: Multi-channel IVL measurement device manufactured by EHC Corporation (6) Measurement of transmittance: Ultraviolet-visible-near-infrared spectrophotometer UV-3600 manufactured by Shimadzu Science Corporation

[1]導電性官能基を有するシランカップリング剤の製造
[製造例1]シランカップリング剤(Si1)の製造
[1] Production of a silane coupling agent having a conductive functional group [Production Example 1] Production of silane coupling agent (Si1)

300mLフラスコに、ブロモ体1(7.71g,15.00mmol,YURUI (SHANGHAI) CHEMICAL CO., LTD製)、Pd(dba)2(863.0mg,5mol%,東京化成工業(株)製)、(tBu3P)3HBF4(435.0mg,5mol%,関東化学(株)製)、トルエン(120mL)、LiN(SiMe32 1Mトルエン溶液(33mL,33mmol,アルドリッチ製)を入れ、室温で20時間撹拌した。その後、0℃に冷やし、1MHClaq.(66mL,66mmol、富士フイルム和光純薬(株)製)を加えて1.5時間撹拌し、1NNaOH水溶液を反応溶液がpH7より大きくなるまで加えた。その後、分液し、水層を除いた後、飽和食塩水を用いて有機層を洗浄した。得られた有機層からトルエンを減圧除去し、得られた固体にトルエンを30mL加え溶解させたあと、ヘキサン200mLを加えた。得られた固体をろ過し、乾燥させ、アミン体2を4.86g(収率72%)得た。 Brominated compound 1 (7.71 g, 15.00 mmol, manufactured by Yurui (Shanghai) Chemical Co., Ltd.), Pd(dba) ( 863.0 mg, 5 mol%, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), ( tBu3P ) 3HBF (435.0 mg , 5 mol%, manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.), toluene (120 mL), and a 1 M toluene solution of LiN( SiMe3 ) (33 mL, 33 mmol, manufactured by Aldrich) were placed in a 300 mL flask and stirred at room temperature for 20 hours. The mixture was then cooled to 0°C, and 1 M aqueous HCl (66 mL, 66 mmol, manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added and stirred for 1.5 hours. 1 N aqueous NaOH was then added until the pH of the reaction solution was greater than 7. The mixture was then separated, the aqueous layer was removed, and the organic layer was washed with saturated brine. Toluene was removed from the resulting organic layer under reduced pressure, and 30 mL of toluene was added to dissolve the resulting solid, followed by the addition of 200 mL of hexane. The resulting solid was filtered and dried to obtain 4.86 g (72% yield) of amine 2.

300mLフラスコに、アミン体2(2.80g,6.23mmol)にTHF(130mL)とシラン化合物3(6.66g,26.91mmol)を加え、60℃で19時間撹拌した。室温まで冷やし、THFを減圧除去した。得られた固体をシリカゲルクロマトグラフィー(溶媒:トルエン:酢酸エチル=4/1→2/1(v/v))で精製し、目的物であるシランカップリング剤(Si1)を2.81g(収率65%)得た。Amine 2 (2.80 g, 6.23 mmol), THF (130 mL), and silane compound 3 (6.66 g, 26.91 mmol) were added to a 300 mL flask and stirred at 60°C for 19 hours. The mixture was cooled to room temperature, and the THF was removed under reduced pressure. The resulting solid was purified by silica gel chromatography (solvent: toluene:ethyl acetate = 4/1 → 2/1 (v/v)), yielding 2.81 g (yield 65%) of the desired silane coupling agent (Si1).

[製造例2]シランカップリング材(Si2)の製造
[Production Example 2] Production of silane coupling material (Si2)

ブロモ体1のかわりにブロモ体4(11.95g,30.00mmol)を用いた以外は、製造例1と同様の方法で目的とするアミン体5を5.52g(収率99%)得た。 5.52 g (99% yield) of the desired amine 5 was obtained in the same manner as in Preparation Example 1, except that bromo compound 4 (11.95 g, 30.00 mmol) was used instead of bromo compound 1.

アミン体2のかわりにアミン体5(9.00g,26.91mmol)を用いた以外は、製造例1と同様の方法で目的物であるシランカップリング剤(Si2)を7.84g(収率50%)得た。 7.84 g (yield 50%) of the desired silane coupling agent (Si2) was obtained in the same manner as in Example 1, except that amine 5 (9.00 g, 26.91 mmol) was used instead of amine 2.

[2]金属酸化物ナノ粒子(ゾル)の調製(比較粒子)
[調製例1]
500mlのナスフラスコに、MEK分散シリカゾル(日産化学(株)製、MEK-ST、粒子径10-15nm、SiO230質量%)250gとトリエチレングリコールブチルメチルエーテル170gを入れ、ロータリーエバポレーターにセットした。質量が250gとなるまで減圧濃縮し、SiO230質量%のトリエチレングリコールブチルメチルエーテル分散シリカゾルを得た。
[2] Preparation of metal oxide nanoparticles (sol) (comparison particles)
[Preparation Example 1]
A 500 ml recovery flask was charged with 250 g of MEK-dispersed silica sol (Nissan Chemical Industries, Ltd., MEK-ST, particle size 10-15 nm, SiO 30 % by mass) and 170 g of triethylene glycol butyl methyl ether, and the flask was set in a rotary evaporator. The mixture was concentrated under reduced pressure until the mass reached 250 g, yielding a triethylene glycol butyl methyl ether-dispersed silica sol containing 30% SiO 2 by mass.

[調製例2]
300mlのナスフラスコに、ジルコニア粒子のPGMEA分散液(Pixelligent Technologies社製PixClear、平均粒子径7~10nm、ジルコニア濃度:50質量%)12gとトリエチレングリコールブチルメチルエーテル24gを入れ、ロータリーエバポレーターにセットした。質量が30gとなるまで減圧濃縮し、ZrO220質量%のトリエチレングリコールブチルメチルエーテル分散ジルコニアゾルを得た。
[Preparation Example 2]
12 g of a PGMEA dispersion of zirconia particles (PixClear manufactured by Pixelligent Technologies, average particle size 7 to 10 nm, zirconia concentration: 50% by mass) and 24 g of triethylene glycol butyl methyl ether were placed in a 300 ml recovery flask and placed in a rotary evaporator. The mixture was concentrated under reduced pressure to a mass of 30 g, yielding a triethylene glycol butyl methyl ether-dispersed zirconia sol containing 20% by mass of ZrO.

[3]表面処理された金属酸化物ナノ粒子(ゾル)の調製
各調製例中の「修飾量計算値」は、次の方法で求めた。
粒子の半径をrとし、粒子の1個当たりの表面積を4πr2から算出し、粒子の1個当たりの体積を4πr3/3から算出した。
算出した粒子の体積とSiO2またはZrO2の比重とを用いて粒子1個当たりの重さを算出た。
算出した粒子1個当たりの重さと粒子1個当たりの表面積から、粒子1個当たりの比表面積を算出した。
そして、修飾量X(個/nm2)を、比表面積SA(nm2/g)と、金属酸化物粒子の総量M(g)、シランカップリング材の分子量Mw、シランカップリング材の量Y(g)およびアボガドロ定数Lを用い、Y=X*SA*M*Mw/Lの式に従い算出した。
なお、SiO2の比重として2.2g/cm3を、ZrO2の比重として6.0g/cm3を用い、調製例3、4および比較調製例1で用いた粒子の半径rは12nmと、調製例5および6で用いた粒子の半径rは7nmとした。
[3] Preparation of Surface-Treated Metal Oxide Nanoparticles (Sol) The "calculated modification amount" in each preparation example was determined by the following method.
The radius of the particle was taken as r, the surface area per particle was calculated from 4πr 2 , and the volume per particle was calculated from 4πr 3 /3.
The weight per particle was calculated using the calculated particle volume and the specific gravity of SiO 2 or ZrO 2 .
The specific surface area per particle was calculated from the calculated weight per particle and the surface area per particle.
The modification amount X (number of particles/ nm2 ) was calculated using the specific surface area SA ( nm2 /g), the total amount of metal oxide particles M (g), the molecular weight Mw of the silane coupling agent, the amount Y (g) of the silane coupling agent, and the Avogadro constant L according to the formula Y = X * SA * M * Mw/L.
The specific gravity of SiO2 was 2.2 g/ cm3 , and the specific gravity of ZrO2 was 6.0 g/ cm3 . The radius r of the particles used in Preparation Examples 3 and 4 and Comparative Preparation Example 1 was 12 nm, and the radius r of the particles used in Preparation Examples 5 and 6 was 7 nm.

[調製例3]
50mlのナスフラスコに、メタノール分散シリカゾル(日産化学(株)製、MT-ST、粒子径10-15nm、SiO230質量%、比重2.2g/cm3)5.0g、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル10.0g、Si1 0.2gを入れ、60℃で4時間加熱還流を行い、シリカゾル表面をSi1にて修飾した(修飾量計算値、0.5個/nm2)。反応後、ロータリーエバポレーターにてメタノールを減圧除去し、SiO215.9質量%のトリエチレングリコールブチルメチルエーテル分散Si1修飾シリカゾル(Si1-ST)を得た。
[Preparation Example 3]
5.0 g of methanol-dispersed silica sol (MT-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., particle size 10-15 nm, 30% by mass of SiO2 , specific gravity 2.2 g/ cm3 ), 10.0 g of triethylene glycol butyl methyl ether, and 0.2 g of Si1 were placed in a 50 ml recovery flask and heated under reflux at 60°C for 4 hours to modify the silica sol surface with Si1 (calculated modification amount: 0.5 particles/ nm2 ). After the reaction, the methanol was removed under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain a triethylene glycol butyl methyl ether-dispersed Si1-modified silica sol (Si1-ST) with 15.9% by mass of SiO2 .

[調製例4]
50mlのナスフラスコに、メタノール分散シリカゾル(日産化学(株)製、MT-ST、粒子径10-15nm、SiO230質量%、比重2.2g/cm3)5.0g、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル10.0g、Si2 0.32gを入れ、60℃で4時間加熱還流を行い、シリカゾル表面をSi2にて修飾した(修飾量計算値、1.0個/nm2)。反応後、ロータリーエバポレーターにてメタノールを減圧除去し、SiO216.4質量%のトリエチレングリコールブチルメチルエーテル分散Si2修飾シリカゾル(Si2-ST)を得た。
[Preparation Example 4]
5.0 g of methanol-dispersed silica sol (MT-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., particle size 10-15 nm, 30 mass% SiO2 , specific gravity 2.2 g/ cm3 ), 10.0 g of triethylene glycol butyl methyl ether, and 0.32 g of Si2 were placed in a 50 ml recovery flask and heated under reflux at 60°C for 4 hours to modify the silica sol surface with Si2 (calculated modification amount: 1.0 particles/ nm2 ). After the reaction, the methanol was removed under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain a triethylene glycol butyl methyl ether-dispersed Si2-modified silica sol (Si2-ST) with 16.4 mass% SiO2 .

[比較調製例1]
50mlのナスフラスコに、メタノール分散シリカゾル(日産化学(株)製、MT-ST、粒子径10-15nm、SiO230質量%、比重2.2g/cm3)5.0g、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル10.0g、Si2 0.66g入れ、60℃で4時間加熱還流を行い、シリカゾル表面をSi2にて修飾した(修飾量計算値、2.0個/nm2)。しかし反応後数時間で粒子の沈降が確認され、修飾シリカゾルを得ることはできなかった。
Comparative Preparation Example 1
5.0 g of methanol-dispersed silica sol (MT-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., particle size 10-15 nm, 30% by mass of SiO2 , specific gravity 2.2 g/ cm3 ), 10.0 g of triethylene glycol butyl methyl ether, and 0.66 g of Si2 were placed in a 50 ml recovery flask and heated under reflux at 60°C for 4 hours to modify the surface of the silica sol with Si2 (calculated modification amount: 2.0 particles/ nm2 ). However, settling of the particles was observed several hours after the reaction, and a modified silica sol could not be obtained.

[調製例5]
50mlのナスフラスコに、ジルコニア粒子のPGMEA分散液(Pixelligent Technologies社製PixClear、平均粒子径7~10nm、ジルコニア濃度:50質量%、比重6.0g/cm3)2g、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル5.67g、Si1 0.09g入れ、60℃で4時間加熱還流を行い、ジルコニア表面をSi1にて修飾した(修飾量計算値、0.5個/nm2)。反応後、ロータリーエバポレーターにてPGMEAを減圧除去し、SiO215.8質量%のトリエチレングリコールブチルメチルエーテル分散Si1修飾ジルコニアゾル(Si1-ZrO2)を得た。
[Preparation Example 5]
A 50 ml recovery flask was charged with 2 g of a PGMEA dispersion of zirconia particles (PixClear manufactured by Pixelligent Technologies, average particle size 7-10 nm, zirconia concentration: 50 mass%, specific gravity 6.0 g/cm 3 ), 5.67 g of triethylene glycol butyl methyl ether, and 0.09 g of Si1, and the mixture was heated under reflux at 60°C for 4 hours to modify the zirconia surface with Si1 (calculated modification amount: 0.5 particles/nm 2 ). After the reaction, the PGMEA was removed under reduced pressure using a rotary evaporator, yielding a triethylene glycol butyl methyl ether-dispersed Si1-modified zirconia sol (Si1-ZrO2) containing 15.8 mass% SiO 2 .

[調製例6]
50mlのナスフラスコに、ジルコニア粒子のPGMEA分散液(Pixelligent Technologies社製PixClear、平均粒子径7~10nm、ジルコニア濃度:50質量%、比重6.0g/cm3)2g、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル5.67g、Si1 0.15g入れ、60℃で4時間加熱還流を行い、ジルコニア表面をSi2にて修飾した(修飾量計算値、1個/nm2)。反応後、ロータリーエバポレーターにてPGMEAを減圧除去し、SiO217.1質量%のトリエチレングリコールブチルメチルエーテル分散Si2修飾ジルコニアゾル(Si2-ZrO2)を得た。
[Preparation Example 6]
A 50 ml recovery flask was charged with 2 g of a PGMEA dispersion of zirconia particles (PixClear manufactured by Pixelligent Technologies, average particle size 7-10 nm, zirconia concentration: 50 mass%, specific gravity 6.0 g/cm 3 ), 5.67 g of triethylene glycol butyl methyl ether, and 0.15 g of Si1, and the mixture was heated under reflux at 60°C for 4 hours to modify the zirconia surface with Si2 (calculated modification amount: 1 particle/nm 2 ). After the reaction, the PGMEA was removed under reduced pressure using a rotary evaporator, yielding a triethylene glycol butyl methyl ether-dispersed Si2-modified zirconia sol (Si2-ZrO2) containing 17.1 mass% SiO 2 .

[4]電荷輸送性ワニスの調製
[実施例1-1]
窒素雰囲気下で、国際公開第2015/050253号に記載の方法に従って合成した下記アリールアミン化合物(A1)0.034g、国際公開第2017/217455号に記載された方法に従って合成した下記アリールスルホン酸エステル(D1)0.091gを、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル1.71g、安息香酸ブチル1.43gおおびフタル酸ジメチル0.95gの混合溶媒に溶解させた。そこへ、調製例3で得られたSi1-ST0.79gを加え撹拌し、電荷輸送性ワニスを得た。
[4] Preparation of charge-transporting varnish [Example 1-1]
Under a nitrogen atmosphere, 0.034 g of the following arylamine compound (A1) synthesized according to the method described in WO 2015/050253 and 0.091 g of the following arylsulfonate ester (D1) synthesized according to the method described in WO 2017/217455 were dissolved in a mixed solvent of 1.71 g of triethylene glycol butyl methyl ether, 1.43 g of butyl benzoate, and 0.95 g of dimethyl phthalate. To this was added 0.79 g of Si1-ST obtained in Preparation Example 3, and the mixture was stirred to obtain a charge-transporting varnish.

[実施例1-2]
窒素雰囲気下で、アリールアミン化合物(A1)0.034g、アリールスルホン酸エステル(D1)0.091gを、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル1.67g、安息香酸ブチル1.43gおよびフタル酸ジメチル0.95gの混合溶媒に溶解させた。そこへ、調製例4で得られたSi2-ST0.83gを加え撹拌し、電荷輸送性ワニスを得た。
[Example 1-2]
Under a nitrogen atmosphere, 0.034 g of the arylamine compound (A1) and 0.091 g of the arylsulfonic acid ester (D1) were dissolved in a mixed solvent of 1.67 g of triethylene glycol butyl methyl ether, 1.43 g of butyl benzoate, and 0.95 g of dimethyl phthalate. 0.83 g of Si2-ST obtained in Preparation Example 4 was added thereto and stirred to obtain a charge-transporting varnish.

[実施例1-3]
窒素雰囲気下で、アリールアミン化合物(A1)0.068g、アリールスルホン酸エステル(D1)0.18gを、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル0.93g、安息香酸ブチル1.35gおよびフタル酸ジメチル0.90gの混合溶媒に溶解させた。そこへ、調製例3で得られたSi1-ST1.57gを加え撹拌し、電荷輸送性ワニスを得た。
[Examples 1-3]
Under a nitrogen atmosphere, 0.068 g of the arylamine compound (A1) and 0.18 g of the arylsulfonic acid ester (D1) were dissolved in a mixed solvent of 0.93 g of triethylene glycol butyl methyl ether, 1.35 g of butyl benzoate, and 0.90 g of dimethyl phthalate. To this solution, 1.57 g of Si1-ST obtained in Preparation Example 3 was added and stirred to obtain a charge-transporting varnish.

[実施例1-4]
窒素雰囲気下で、アリールアミン化合物(A1)0.068g、アリールスルホン酸エステル(D1)0.18gを、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル0.83g、安息香酸ブチル1.35gおよびフタル酸ジメチル0.90gの混合溶媒に溶解させた。そこへ、調製例4で得られたSi2-ST1.67gを加えて撹拌し、電荷輸送性ワニスを得た。
[Examples 1-4]
Under a nitrogen atmosphere, 0.068 g of the arylamine compound (A1) and 0.18 g of the arylsulfonic acid ester (D1) were dissolved in a mixed solvent of 0.83 g of triethylene glycol butyl methyl ether, 1.35 g of butyl benzoate, and 0.90 g of dimethyl phthalate. To this solution, 1.67 g of Si2-ST obtained in Preparation Example 4 was added and stirred to obtain a charge-transporting varnish.

[比較例1-1]
窒素雰囲気下で、アリールアミン化合物(A1)0.041g、アリールスルホン酸エステル(D1)0.109gを、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル1.81g、安息香酸ブチル1.43gおよびフタル酸ジメチル0.95gの混合溶媒に溶解させた。そこへ、調製例1で得られたトリエチレングリコールブチルメチルエーテル分散シリカゾル0.67gを加え撹拌し、電荷輸送性ワニスを得た。
[Comparative Example 1-1]
Under a nitrogen atmosphere, 0.041 g of the arylamine compound (A1) and 0.109 g of the arylsulfonic acid ester (D1) were dissolved in a mixed solvent of 1.81 g of triethylene glycol butyl methyl ether, 1.43 g of butyl benzoate, and 0.95 g of dimethyl phthalate, and 0.67 g of the triethylene glycol butyl methyl ether-dispersed silica sol obtained in Preparation Example 1 was added thereto and stirred to obtain a charge-transporting varnish.

[比較例1-2]
窒素雰囲気下で、アリールアミン化合物(A1)0.034g、アリールスルホン酸エステル(D1)0.091gを、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル1.67g、安息香酸ブチル1.43gおよびフタル酸ジメチル0.95gの混合溶媒に溶解させた。そこへ、調製例1で得られたトリエチレングリコールブチルメチルエーテル分散シリカゾル0.83gを加え撹拌し、電荷輸送性ワニスを得た。
[Comparative Example 1-2]
Under a nitrogen atmosphere, 0.034 g of the arylamine compound (A1) and 0.091 g of the arylsulfonic acid ester (D1) were dissolved in a mixed solvent of 1.67 g of triethylene glycol butyl methyl ether, 1.43 g of butyl benzoate, and 0.95 g of dimethyl phthalate, and 0.83 g of the triethylene glycol butyl methyl ether-dispersed silica sol obtained in Preparation Example 1 was added thereto and stirred to obtain a charge-transporting varnish.

[比較例1-3]
窒素雰囲気下で、アリールアミン化合物(A1)0.082g、アリールスルホン酸エステル(D1)0.218gを、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル1.12g、安息香酸ブチル1.35gおよびフタル酸ジメチル0.90gの混合溶媒に溶解させた。そこへ、調製例1で得られたトリエチレングリコールブチルメチルエーテル分散シリカゾル1.33gを加え撹拌し、電荷輸送性ワニスを得た。
[Comparative Examples 1-3]
Under a nitrogen atmosphere, 0.082 g of the arylamine compound (A1) and 0.218 g of the arylsulfonic acid ester (D1) were dissolved in a mixed solvent of 1.12 g of triethylene glycol butyl methyl ether, 1.35 g of butyl benzoate, and 0.90 g of dimethyl phthalate. 1.33 g of the triethylene glycol butyl methyl ether-dispersed silica sol obtained in Preparation Example 1 was added thereto and stirred to obtain a charge-transporting varnish.

[比較例1-4]
窒素雰囲気下で、アリールアミン化合物(A1)0.068g、アリールスルホン酸エステル(D1)0.182gを、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル0.83g、安息香酸ブチル1.35gおよびフタル酸ジメチル0.90gの混合溶媒に溶解させた。そこへ、調製例1で得られたトリエチレングリコールブチルメチルエーテル分散シリカゾル1.67gを加え撹拌し、電荷輸送性ワニスを得た。
[Comparative Examples 1-4]
Under a nitrogen atmosphere, 0.068 g of the arylamine compound (A1) and 0.182 g of the arylsulfonic acid ester (D1) were dissolved in a mixed solvent of 0.83 g of triethylene glycol butyl methyl ether, 1.35 g of butyl benzoate, and 0.90 g of dimethyl phthalate, to which 1.67 g of the triethylene glycol butyl methyl ether-dispersed silica sol obtained in Preparation Example 1 was added and stirred to obtain a charge-transporting varnish.

[実施例1-5]
窒素雰囲気下で、アリールアミン化合物(A1)0.048g、アリールスルホン酸エステル(D1)0.127gを、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル1.98g、安息香酸ブチル1.43gおよびフタル酸ジメチル0.95gの混合溶媒に溶解させた。そこへ、調製例5で得られたSi1-ZrO2 0.47gを加え撹拌し、電荷輸送性ワニスを得た。
[Examples 1-5]
Under a nitrogen atmosphere, 0.048 g of the arylamine compound (A1) and 0.127 g of the arylsulfonic acid ester (D1) were dissolved in a mixed solvent of 1.98 g of triethylene glycol butyl methyl ether, 1.43 g of butyl benzoate, and 0.95 g of dimethyl phthalate. 0.47 g of the Si1-ZrO2 obtained in Preparation Example 5 was added thereto and stirred to obtain a charge-transporting varnish.

[実施例1-6]
窒素雰囲気下で、アリールアミン化合物(A1)0.041g、アリールスルホン酸エステル(D1)0.11gを、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル1.84g、安息香酸ブチル1.43gおよびフタル酸ジメチル0.95gの混合溶媒に溶解させた。そこへ、調製例5で得られたSi1-ZrO2 0.63を加え撹拌し、電荷輸送性ワニスを得た。
[Examples 1-6]
Under a nitrogen atmosphere, 0.041 g of the arylamine compound (A1) and 0.11 g of the arylsulfonic acid ester (D1) were dissolved in a mixed solvent of 1.84 g of triethylene glycol butyl methyl ether, 1.43 g of butyl benzoate, and 0.95 g of dimethyl phthalate. 0.63 g of the Si1-ZrO2 obtained in Preparation Example 5 was added thereto and stirred to obtain a charge-transporting varnish.

[実施例1-7]
窒素雰囲気下で、アリールアミン化合物(A1)0.048g、アリールスルホン酸エステル(D1)0.13gを、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル2.01g、安息香酸ブチル1.43gおよびフタル酸ジメチル0.95gの混合溶媒に溶解させた。そこへ、調製例6で得られたSi2-ZrO2 0.44gを加え撹拌し、電荷輸送性ワニスを得た。
[Examples 1-7]
Under a nitrogen atmosphere, 0.048 g of the arylamine compound (A1) and 0.13 g of the arylsulfonic acid ester (D1) were dissolved in a mixed solvent of 2.01 g of triethylene glycol butyl methyl ether, 1.43 g of butyl benzoate, and 0.95 g of dimethyl phthalate. 0.44 g of the Si2-ZrO2 obtained in Preparation Example 6 was added thereto and stirred to obtain a charge-transporting varnish.

[実施例1-8]
窒素雰囲気下で、アリールアミン化合物(A1)0.041g、アリールスルホン酸エステル(D1)0.11gを、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル1・89g、安息香酸ブチル1.43gおよびフタル酸ジメチル0.95gの混合溶媒に溶解させた。そこへ、調製例6で得られたSi2-ZrO2 0.58gを加え撹拌し、電荷輸送性ワニスを得た。
[Examples 1-8]
Under a nitrogen atmosphere, 0.041 g of the arylamine compound (A1) and 0.11 g of the arylsulfonic acid ester (D1) were dissolved in a mixed solvent of 1.89 g of triethylene glycol butyl methyl ether, 1.43 g of butyl benzoate, and 0.95 g of dimethyl phthalate. 0.58 g of the Si2-ZrO2 obtained in Preparation Example 6 was added thereto and stirred to obtain a charge-transporting varnish.

[比較例1-5]
窒素雰囲気下で、アリールアミン化合物(A1)0.048g、アリールスルホン酸エステル(D1)0.13gを、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル2.08g、安息香酸ブチル1.43gおいよびフタル酸ジメチル0.95gの混合溶媒に溶解させた。そこへ、調製例2で得られたトリエチレングリコールブチルメチルエーテル分散ジルコニアゾル0.37gを加え撹拌し、電荷輸送性ワニスを得た。
[Comparative Examples 1-5]
Under a nitrogen atmosphere, 0.048 g of the arylamine compound (A1) and 0.13 g of the arylsulfonic acid ester (D1) were dissolved in a mixed solvent of 2.08 g of triethylene glycol butyl methyl ether, 1.43 g of butyl benzoate, and 0.95 g of dimethyl phthalate, and 0.37 g of the triethylene glycol butyl methyl ether-dispersed zirconia sol obtained in Preparation Example 2 was added thereto and stirred to obtain a charge-transporting varnish.

[比較例1-6]
窒素雰囲気下で、アリールアミン化合物(A1)0.041g、アリールスルホン酸エステル(D1)0.11gを、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル1.98g、安息香酸ブチル1.43gおよびフタル酸ジメチル0.95gの混合溶媒に溶解させた。そこへ、調製例2で得られたトリエチレングリコールブチルメチルエーテル分散ジルコニアゾル0.49gを加え撹拌し、電荷輸送性ワニスを得た。
[Comparative Examples 1-6]
Under a nitrogen atmosphere, 0.041 g of the arylamine compound (A1) and 0.11 g of the arylsulfonic acid ester (D1) were dissolved in a mixed solvent of 1.98 g of triethylene glycol butyl methyl ether, 1.43 g of butyl benzoate, and 0.95 g of dimethyl phthalate, and 0.49 g of the triethylene glycol butyl methyl ether-dispersed zirconia sol obtained in Preparation Example 2 was added thereto and stirred to obtain a charge-transporting varnish.

[5]電荷輸送性薄膜の製造および透過率評価
[実施例2-1]
実施例1-1で得られたワニスを、スピンコーターを用いて石英基板に塗布した後、大気焼成下、120℃で1分間乾燥した。次に、乾燥させた石英基板を大気雰囲気下、230℃で15分間焼成し、石英基板上に50nmの均一な薄膜を形成した。
[5] Production of charge transport thin film and evaluation of transmittance [Example 2-1]
The varnish obtained in Example 1-1 was applied to a quartz substrate using a spin coater, and then dried in air at 120°C for 1 minute. Next, the dried quartz substrate was baked in air at 230°C for 15 minutes to form a uniform thin film of 50 nm on the quartz substrate.

[実施例2-2、比較例2-1および比較例2-2]
実施例1-1で得られたワニスの代わりに、実施例1-2、比較例1-1および比較例1-2で得られたワニスをそれぞれ用いた以外は、実施例2-1と同様の方法で、薄膜を形成した。
[Example 2-2, Comparative Example 2-1, and Comparative Example 2-2]
Thin films were formed in the same manner as in Example 2-1, except that the varnishes obtained in Example 1-2, Comparative Example 1-1 and Comparative Example 1-2 were used instead of the varnish obtained in Example 1-1.

[実施例2-3]
実施例1-3で得られたワニスを、スピンコーターを用いて石英基板に塗布した後、大気焼成下、120℃で1分間乾燥した。次に、乾燥させた石英基板を大気雰囲気下、230℃で15分間焼成し、石英基板上に100nmの均一な薄膜を形成した。
[Example 2-3]
The varnish obtained in Example 1-3 was applied to a quartz substrate using a spin coater and then dried in air at 120°C for 1 minute. The dried quartz substrate was then baked in air at 230°C for 15 minutes to form a uniform thin film of 100 nm on the quartz substrate.

[実施例2-4、比較例2-3および比較例2-4]
実施例1-3で得られたワニスの代わりに、実施例1-4、比較例1-3および比較例1-4で得られたワニスをそれぞれ用いた以外は、実施例2-1と同様の方法で、薄膜を形成した。
[Examples 2-4, Comparative Examples 2-3 and 2-4]
Thin films were formed in the same manner as in Example 2-1, except that the varnishes obtained in Example 1-4, Comparative Example 1-3 and Comparative Example 1-4 were used instead of the varnish obtained in Example 1-3.

[実施例2-5~2-8、および比較例2-5~2-6]
実施例1-1で得られたワニスの代わりに、実施例1-5~1-8、比較例1-5、および比較例1-6で得られたワニスをそれぞれ用いた以外は、実施例2-1と同様の方法で、薄膜を形成した。
[Examples 2-5 to 2-8 and Comparative Examples 2-5 to 2-6]
Thin films were formed in the same manner as in Example 2-1, except that the varnishes obtained in Examples 1-5 to 1-8, Comparative Example 1-5, and Comparative Example 1-6 were used instead of the varnish obtained in Example 1-1.

上記各実施例および比較例で得られた薄膜付き石英基板を用いて、分光光度計にて光透過率の測定を行った。結果を図1~3および表1,2に示す。 The light transmittance of the thin-film-coated quartz substrates obtained in each of the above examples and comparative examples was measured using a spectrophotometer. The results are shown in Figures 1 to 3 and Tables 1 and 2.

図1,2および表1に示されるとおり、シランカップリング材Si1、Si2にて修飾したオルガノシリカゾル(Si1-ST,Si2-ST)を添加した場合においても、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル分散シリカゾルを添加した場合と比較し、可視領域の平均光透過率は同程度であることがわかる。
すなわち、シランカップリング材にて修飾したシリカ粒子を含む本発明の電荷輸送性薄膜は、可視領域において優れた透過性を維持できていることが示された。
As shown in Figures 1 and 2 and Table 1, even when organosilica sol modified with silane coupling agents Si1 and Si2 (Si1-ST, Si2-ST) was added, the average light transmittance in the visible region was found to be similar to that when triethylene glycol butyl methyl ether-dispersed silica sol was added.
That is, it was shown that the charge transporting thin film of the present invention containing silica particles modified with a silane coupling agent can maintain excellent transmittance in the visible region.

一方、図3および表2に示されるとおり、シランカップリング材Si1、Si2にて修飾したジルコニアゾルゾル(Si1-ZrO2,ZrO2)を添加した場合においても、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル分散ジルコニアゾルを添加した場合と比較し、可視領域の平均光透過率は同程度であることがわかる。
すなわち、シランカップリング材にて修飾したジルコニア粒子を含む本発明の電荷輸送性薄膜は、可視領域において優れた透過性を維持できていることが示された。
On the other hand, as shown in FIG. 3 and Table 2, even when zirconia sol modified with silane coupling agents Si1 and Si2 (Si1-ZrO2, ZrO2) was added, the average light transmittance in the visible region was found to be similar to that when triethylene glycol butyl methyl ether dispersed zirconia sol was added.
That is, it was shown that the charge transporting thin film of the present invention containing zirconia particles modified with a silane coupling agent can maintain excellent transmittance in the visible region.

[6]ホールオンリー素子(HOD)の作製および特性評価
[実施例3-1]
実施例1-1で得られたワニスを、スピンコーターを用いてITO基板に塗布した後、大気下、120℃で1分間乾燥した。次に、乾燥させたITO基板を大気雰囲気下、230℃で15分間焼成し、ITO基板上に50nmの均一な薄膜を形成した。ITO基板としては、パターニングされた厚さ150nmのインジウム錫酸化物(ITO)膜が表面に形成された、25mm×25mm×0.7tのガラス基板を用い、使用前にO2プラズマ洗浄装置(150W、30秒間)によって表面上の不純物を除去した。
次いで、薄膜を形成したITO基板に対し、蒸着装置(真空度1.0×10-5Pa)を用いて、α-NPD(N,N’-ジ(1-ナフチル)-N,N’-ジフェニルベンジジン)を0.2nm/秒にて30nm成膜した。次いで、アルミニウムを0.2nm/秒にて80nm成膜することで、ホールオンリー素子を作製した。
なお、空気中の酸素、水等の影響による特性劣化を防止するため、素子は封止基板により封止した後、その特性を評価した。封止は、以下の手順で行った。酸素濃度2ppm以下、露点-76℃以下の窒素雰囲気中で、素子を封止基板の間に収め、封止基板を接着剤((株)MORESCO製モレスコモイスチャーカットWB90US(P))により貼り合わせた。この際、捕水剤(ダイニック(株)製HD-071010W-40)を素子と共に封止基板内に収めた。貼り合わせた封止基板に対し、UV光を照射(波長:365nm、照射量:6,000mJ/cm2)した後、80℃で1時間、アニーリング処理して接着剤を硬化させた。
[6] Fabrication and Characterization of Hole-Only Device (HOD) [Example 3-1]
The varnish obtained in Example 1-1 was applied to an ITO substrate using a spin coater and then dried in air at 120°C for 1 minute. The dried ITO substrate was then baked in air at 230°C for 15 minutes to form a uniform 50 nm thin film on the ITO substrate. The ITO substrate was a 25 mm x 25 mm x 0.7 mm glass substrate with a patterned 150 nm thick indium tin oxide (ITO) film formed on its surface. Prior to use, impurities on the surface were removed using an O2 plasma cleaning device (150 W, 30 seconds).
Next, a 30 nm film of α-NPD (N,N'-di(1-naphthyl)-N,N'-diphenylbenzidine) was formed at 0.2 nm/sec on the ITO substrate with the thin film formed thereon using a vapor deposition apparatus (vacuum degree 1.0 × 10 -5 Pa). Next, an 80 nm film of aluminum was formed at 0.2 nm/sec to prepare a hole-only device.
To prevent performance degradation due to the effects of oxygen and water in the air, the device was sealed with a sealing substrate before its performance evaluation. Sealing was performed using the following procedure. In a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 2 ppm or less and a dew point of -76°C or less, the device was placed between sealing substrates, which were then bonded together with an adhesive (Moresco Moisture Cut WB90US(P) manufactured by MORESCO Corporation). A moisture scavenger (HD-071010W-40 manufactured by DYNIC Corporation) was placed inside the sealing substrate along with the device. The bonded sealing substrates were then irradiated with UV light (wavelength: 365 nm, dose: 6,000 mJ/ cm2 ) and annealed at 80°C for 1 hour to cure the adhesive.

[実施例3-2、比較例3-1および比較例3-2]
実施例1-1で得られたワニスの代わりに、実施例1-2、比較例1-1および比較例1-2で得られたワニスをそれぞれ用いた以外は、実施例3-1と同様の方法でHODを得た。
[Example 3-2, Comparative Example 3-1, and Comparative Example 3-2]
HOD was obtained in the same manner as in Example 3-1, except that the varnish obtained in Example 1-2, Comparative Example 1-1, and Comparative Example 1-2 were used instead of the varnish obtained in Example 1-1.

[実施例3-3]
実施例1-1で得られたワニスの代わりに、実施例1-3で得られたワニスを用い、膜厚を100nmとした以外は、実施例3-1と同様の方法でHODを得た。
[Example 3-3]
HOD was obtained in the same manner as in Example 3-1, except that the varnish obtained in Example 1-3 was used instead of the varnish obtained in Example 1-1 and the film thickness was set to 100 nm.

[実施例3-4、比較例3-3および比較例3-4]
実施例1-1で得られたワニスの代わりに、実施例1-4、比較例1-3および比較例1~4で得られたワニスをそれぞれ用いた以外は、実施例3-3と同様の方法でHODを得た。
[Examples 3-4, Comparative Examples 3-3 and 3-4]
HOD was obtained in the same manner as in Example 3-3, except that the varnish obtained in Example 1-4, Comparative Example 1-3, and Comparative Examples 1 to 4 were used instead of the varnish obtained in Example 1-1.

[実施例3-5~3-8および比較例3-5~3-6]
実施例1-1で得られたワニスの代わりに、実施例1-5~1-8、および比較例1-5~1-6で得られたワニスをそれぞれ用いた以外は、実施例3-1と同様の方法でHODを得た。
[Examples 3-5 to 3-8 and Comparative Examples 3-5 to 3-6]
HOD was obtained in the same manner as in Example 3-1, except that the varnish obtained in Examples 1-5 to 1-8 and Comparative Examples 1-5 to 1-6 were used instead of the varnish obtained in Example 1-1.

得られたHODについて、5Vで駆動した場合の電流密度を測定した。結果を表3,4に示す。The current density of the obtained HOD was measured when driven at 5 V. The results are shown in Tables 3 and 4.

表3に示されるように、導電性官能基を有するシランカップリング材に修飾されたシリカを用いた本発明の電荷輸送性ワニスから作製した薄膜は、比較例の薄膜に比べ、良好な電荷輸送性を示すことがわかる。
一方、表4に示されるように、特定の導電性官能基を有するシランカップリング材に修飾されたジルコニアを用いた本発明の電荷輸送性ワニスから作製した薄膜は、比較例の薄膜に比べ、良好な電荷輸送性を示すことがわかる。
As shown in Table 3, it can be seen that the thin film prepared from the charge transport varnish of the present invention, which uses silica modified with a silane coupling agent having a conductive functional group, exhibits better charge transport properties than the thin film of the comparative example.
On the other hand, as shown in Table 4, it can be seen that the thin film prepared from the charge transport varnish of the present invention, which uses zirconia modified with a silane coupling agent having a specific conductive functional group, exhibits better charge transport properties than the thin film of the comparative example.

Claims (10)

電荷輸送性物質と、ドーパント物質と、導電性官能基を有するシランカップリング剤で表面処理された金属酸化物ナノ粒子と、溶媒とを含み、
前記シランカップリング剤が、下記式(S1)で表される化合物であることを特徴とする電荷輸送性ワニス。
(式中、Rは、炭素数1~5のアルキル基を表し、A1は、炭素数2~5のアルキレン基を表し、A2は、-O-、-S-、-NH-、アミド結合、ウレア結合およびこれらの組み合わせを表し、A3は、フェニルカルバゾール構造を有するアリール基を表す。)
A charge transporting material, a dopant material, metal oxide nanoparticles that have been surface-treated with a silane coupling agent having a conductive functional group, and a solvent,
A charge-transporting varnish characterized in that the silane coupling agent is a compound represented by the following formula (S1):
(In the formula, R represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, A 1 represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, A 2 represents —O—, —S—, —NH—, an amide bond, a urea bond, or a combination thereof, and A 3 represents an aryl group having a phenylcarbazole structure.)
前記A3が、式(A3-1)、式(A3-4)、および式(A3-9)から選ばれる少なくとも1種である請求項1記載の電荷輸送性ワニス。
(式中、アスタリスク*は、結合手を表し、A4は、アリーレン基を表す。)
2. The charge-transporting varnish according to claim 1, wherein A3 is at least one selected from the group consisting of formulas (A3-1), (A3-4), and (A3-9).
(In the formula, the asterisk * represents a bond, and A4 represents an arylene group.)
前記シランカップリング剤が、下記式(S1-1)で表される化合物である請求項1記載の電荷輸送性ワニス。
(式中、Rは、炭素数1~5のアルキル基を表し、A1は、炭素数2~5のアルキレン基を表し、A4は、アリーレン基を表す。)
2. The charge-transporting varnish according to claim 1, wherein the silane coupling agent is a compound represented by the following formula (S1-1):
(In the formula, R represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, A 1 represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, and A 4 represents an arylene group.)
前記金属酸化物ナノ粒子が、シリカおよびジルコニアから選ばれる少なくとも1種である請求項1~3のいずれか1項記載の電荷輸送性ワニス。 The charge-transporting varnish according to any one of claims 1 to 3, wherein the metal oxide nanoparticles are at least one selected from silica and zirconia. 前記電荷輸送性物質が、アリールアミン誘導体である請求項1~4のいずれか1項記載の電荷輸送性ワニス。 The charge-transporting varnish according to any one of claims 1 to 4, wherein the charge-transporting substance is an arylamine derivative. 前記ドーパント物質が、アリールスルホン酸化合物である請求項1~5のいずれか1項記載の電荷輸送性ワニス。 The charge-transporting varnish according to any one of claims 1 to 5, wherein the dopant substance is an arylsulfonic acid compound. 請求項1~6のいずれか1項記載の電荷輸送性ワニスから得られた電荷輸送性薄膜。 A charge-transporting thin film obtained from the charge-transporting varnish described in any one of claims 1 to 6. 請求項7記載の電荷輸送性薄膜を備える電子素子。 An electronic device comprising the charge transport thin film of claim 7. 請求項7記載の電荷輸送性薄膜を備える有機エレクトロルミネッセンス素子。 An organic electroluminescence device comprising the charge transport thin film according to claim 7. 前記電荷輸送性薄膜が、正孔注入層または正孔輸送層である請求項9記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The organic electroluminescence device according to claim 9, wherein the charge transport thin film is a hole injection layer or a hole transport layer.
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