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JP7824641B2 - Elements, electronic devices, electronic equipment and systems - Google Patents
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JP7824641B2 - Elements, electronic devices, electronic equipment and systems - Google Patents

Elements, electronic devices, electronic equipment and systems

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JP7824641B2
JP7824641B2 JP2022186128A JP2022186128A JP7824641B2 JP 7824641 B2 JP7824641 B2 JP 7824641B2 JP 2022186128 A JP2022186128 A JP 2022186128A JP 2022186128 A JP2022186128 A JP 2022186128A JP 7824641 B2 JP7824641 B2 JP 7824641B2
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Description

本発明は、素子、電子デバイス、電子機器及びシステムに関する。 The present invention relates to elements, electronic devices, electronic equipment, and systems.

圧電素子の一つである表面弾性波(SAW:Surface Acoustic Wave)素子は、水晶基板などの圧電基板上にすだれ状電極(IDT:Interdigital Transducer)を備えている。すだれ状電極は、一対となっており、櫛型の電極が非接触で対向するように圧電基板上に形成されている。このすだれ状電極に交流電圧を印加することで、圧電基板の有する圧電効果および逆圧電効果により、すだれ状電極が形成されている圧電基板の表面および表面付近を周波数帯で振動させることができる。表面弾性波素子は、すだれ状電極の組合せや構成によって、発振器、帯域フィルタ、ジャイロなど、様々な電子機器を構成する電子回路に幅広く用いられている。 A surface acoustic wave (SAW) element, a type of piezoelectric element, has an interdigital transducer (IDT) on a piezoelectric substrate such as a quartz substrate. The interdigital transducers are paired, with the comb-shaped electrodes facing each other without contacting each other on the piezoelectric substrate. By applying an AC voltage to these interdigital transducers, the piezoelectric effect and inverse piezoelectric effect of the piezoelectric substrate can vibrate the surface or near the surface of the piezoelectric substrate on which the interdigital transducers are formed within a frequency band. Depending on the combination and configuration of interdigital transducers, surface acoustic wave elements are widely used in the electronic circuits that make up a variety of electronic devices, such as oscillators, bandpass filters, and gyros.

また、近年においては、例えば、移動体通信に用いられる携帯端末装置の小型化、軽量化が進むとともに、高い通信品質を実現するために、さらに高い精度を有する表面弾性波素子が求められており、このような要求に応えるべく、球状SAWセンサ(ボールSAWセンサ)等が検討されている(特許文献1)。ボールSAWセンサは、SAWの自然なコリメートビームが多重周回する現象を利用して、相互作用距離を平面型センサよりも著しく増加させることができたため、高感度化に有用である。しかしながら、製造工程が煩雑になるなどコストの問題があり、高周波特性等についてもSAWデバイスには課題が多くあり、まだまだ満足のいくものではなかった。さらには、環境問題等に対する省エネの要求も加わり、これら課題を解決するような新規SAW素子が待ち望まれていた。 Furthermore, in recent years, as mobile terminal devices used in mobile communications have become smaller and lighter, there has been a demand for surface acoustic wave elements with even higher precision to achieve high communication quality. To meet this demand, spherical SAW sensors (ball SAW sensors) and other devices have been considered (Patent Document 1). Ball SAW sensors utilize the phenomenon of SAW's natural collimated beam making multiple round trips, significantly increasing the interaction distance compared to planar sensors, making them useful for achieving high sensitivity. However, there are cost issues, such as a complicated manufacturing process, and SAW devices have many issues with regard to high-frequency characteristics, leaving them far from satisfactory. Furthermore, with the demand for energy conservation to address environmental issues and other factors, a new SAW element that could solve these issues has been eagerly awaited.

特開2015-154015号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-154015

本発明は、環境に優しく、優れた精度を有する素子、電子デバイス、電子機器及びシステムを提供することを目的とする。 The present invention aims to provide elements, electronic devices, electronic equipment, and systems that are environmentally friendly and have excellent precision.

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、金属膜上に圧電体が同一の結晶軸方向に配向して積層されている積層構造体の創製に成功し、このような積層構造体によれば、1以上のすだれ状電極が圧電体に設けられている素子であって、前記圧電体がシート状である素子が容易に実現できることを知見し、このような素子が、上記した従来の問題を一挙に解決できるものであることを見出した。
また、本発明者らは、上記知見を得た後、さらに検討を重ねて、本発明を完成させるに至った。
As a result of extensive research into achieving the above-mentioned object, the inventors have succeeded in creating a laminated structure in which a piezoelectric body is laminated on a metal film with the piezoelectric body oriented in the same crystal axis direction. They have discovered that such a laminated structure can easily realize an element in which one or more interdigital electrodes are provided on a piezoelectric body, and the piezoelectric body is in sheet form, and have found that such an element can solve all of the above-mentioned conventional problems at once.
Furthermore, after obtaining the above findings, the present inventors conducted further studies and completed the present invention.

すなわち、本発明は、以下の発明に関する。
[1] 1以上のすだれ状電極が圧電体に設けられている素子であって、前記圧電体がシート状であることを特徴とする素子。
[2] 前記圧電体が基体に接合されている前記[1]記載の素子。
[3] 前記基体が円柱状、略円柱状、樽状又は略樽状であり、前記圧電体が前記基体に巻回して円状又は略円状を形成し、前記円状又は略円状の円周方向又は略円周方向に表面弾性波が伝搬可能となるように前記すだれ状電極が設置されている前記[2]記載の素子。
[4] 前記表面弾性波の伝搬経路内に反射器が設けられている前記[3]記載の素子。
[5] 前記反射器が2以上設けられており、前記の巻回による前記圧電体同士の接合部が、前記反射器間に設けられている前記[4]記載の素子。
[6] 前記すだれ状電極が前記表面弾性波を発生させるSAW発生手段及び前記表面弾性波を受信するSAW受信手段を備えている前記[3]~[5]のいずれかに記載の素子。
[7] 前記圧電体が、金属膜上に成膜されてなる前記[1]~[6]のいずれかに記載の素子。
[8] 前記圧電体と前記金属膜とがそれぞれ(100)方向に配向している前記[7]記載の素子。
[9] 前記金属膜が2種以上の金属層からなる前記[7]又は[8]に記載の素子。
[10] 前記金属膜が熱処理又は加工によりマルテンサイト変態する金属を含み、前記圧電体と前記金属膜とがそれぞれ略同一の結晶軸方向に配向している前記[7]~[9]のいずれかに記載の素子。
[11] 前記金属膜が、Feを含む前記[10]記載の素子。
[12] 前記金属膜が、Crを含む前記[10]又は[11]に記載の素子。
[13] 前記圧電体が単結晶膜からなる前記[1]~[12]のいずれかに記載の素子。
[14] 素子を含む電子デバイス、電子機器又はシステムであって、前記素子が前記[1]~[13]のいずれかに記載の素子である電子デバイス、電子機器又はシステム。
That is, the present invention relates to the following inventions.
[1] An element in which one or more interdigital transducers are provided on a piezoelectric body, the piezoelectric body being in the form of a sheet.
[2] The element according to [1], wherein the piezoelectric body is bonded to a substrate.
[3] The element according to [2], wherein the base is cylindrical, approximately cylindrical, barrel-shaped, or approximately barrel-shaped, the piezoelectric body is wound around the base to form a circle or an approximately circle, and the interdigital electrode is disposed so that a surface acoustic wave can propagate in a circumferential direction or an approximately circumferential direction of the circle or the approximately circle.
[4] The element according to [3], wherein a reflector is provided in a propagation path of the surface acoustic wave.
[5] The element according to [4], wherein two or more reflectors are provided, and the joints between the piezoelectric bodies formed by the winding are provided between the reflectors.
[6] The element according to any one of [3] to [5], wherein the interdigital transducer comprises a SAW generating means for generating the surface acoustic waves and a SAW receiving means for receiving the surface acoustic waves.
[7] The element according to any one of [1] to [6], wherein the piezoelectric body is formed on a metal film.
[8] The element according to [7], wherein the piezoelectric body and the metal film are each oriented in the (100) direction.
[9] The element according to [7] or [8], wherein the metal film is composed of two or more types of metal layers.
[10] The element according to any one of [7] to [9], wherein the metal film contains a metal that undergoes martensitic transformation by heat treatment or processing, and the piezoelectric body and the metal film are oriented in approximately the same crystal axis direction.
[11] The element according to [10], wherein the metal film contains Fe.
[12] The element according to [10] or [11], wherein the metal film contains Cr.
[13] The element according to any one of [1] to [12], wherein the piezoelectric body is made of a single crystal film.
[14] An electronic device, an electronic equipment, or a system including an element, wherein the element is the element according to any one of [1] to [13] above.

本発明の素子、電子デバイス、電子機器及びシステムは、環境に優しく、優れた精度を有するという効果を奏する。 The elements, electronic devices, electronic equipment, and systems of the present invention have the advantages of being environmentally friendly and having excellent precision.

本発明の素子の好適な実施態様の一例を模式的に示す図である。1 is a diagram schematically illustrating an example of a preferred embodiment of the element of the present invention. 本発明の素子に好適に用いられる反射器の一例を模式的に示す図である。FIG. 2 is a diagram schematically illustrating an example of a reflector that can be suitably used in the element of the present invention. 本発明の素子の別の好適な実施態様の一例を模式的に示す図である。FIG. 2 is a diagram schematically illustrating an example of another preferred embodiment of the element of the present invention. 本発明の素子における表面弾性波の伝搬方向等を模式的に説明する図である。3A and 3B are diagrams for schematically explaining the propagation direction of surface acoustic waves in the element of the present invention. 本発明の積層構造体の好適な実施態様の一例を模式的に示す図である。1 is a diagram schematically illustrating an example of a preferred embodiment of the laminated structure of the present invention. 実施例におけるXRD回折パターンを示す図である。FIG. 2 is a diagram showing XRD diffraction patterns in examples. 試験例における実施例品の試験片を説明する図である。FIG. 1 is a diagram illustrating a test piece of an example product in a test example. 試験例における比較例品の試験片を説明する図である。FIG. 1 is a diagram illustrating a test piece of a comparative example in a test example. 試験例における曲げ強度試験結果を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the results of a bending strength test in a test example. 実施例において好適に用いられる成膜装置を模式的に示す図である。FIG. 2 is a diagram schematically illustrating a film forming apparatus preferably used in the examples.

本発明の素子は、1以上のすだれ状電極がシート状の圧電体に設けられている素子であれば特に限定されない。本発明においては、前記圧電体が基体に接合されているのが好ましい。前記の接合は公知の接合手段が用いられてよく、本発明においては、金属接合手段又は貼付手段であるのが好ましい。前記金属接合手段は公知の金属接合手段であってよく、金属膜を前記圧電体に貼り付けて用いてもよいが、本発明においては、前記金属膜上に前記圧電体を成膜し、得られた積層構造体を用いるのが好ましい。なお、本発明においては、前記圧電体が金属膜上に成膜されてなるのが好ましく、前記圧電体と前記金属膜とがそれぞれ(100)方向に配向しているのがより好ましい。また、本発明においては、前記金属膜が2種以上の金属層からなるのが好ましく、うち一種が、熱処理又は加工によりマルテンサイト変態する金属を含み、前記圧電体と前記金属膜とがそれぞれ略同一の結晶軸方向に配向しているのがより好ましい。このような好ましい範囲によれば、前記素子の精度をより優れたものとすることができる。また、前記金属膜は、Feを含むのが好ましく、さらに、Crを含むのがより好ましい。このような好ましい範囲によれば、可撓性により優れたものとなり、前記圧電体の曲げを伴う素子において、より容易に優れた精度を奏することができる。なお、前記圧電体は単結晶膜からなるのが好ましい。また、前記貼付手段は、特に限定されないが、公知の接着剤を用いる手段などが好適な例として挙げられる。 The element of the present invention is not particularly limited as long as it comprises one or more interdigital transducers mounted on a sheet-like piezoelectric body. In the present invention, the piezoelectric body is preferably bonded to a substrate. This bonding may be achieved by any known bonding method, preferably a metal bonding method or a bonding method. The metal bonding method may be a known metal bonding method, or a metal film may be attached to the piezoelectric body. However, in the present invention, it is preferable to form the piezoelectric body on the metal film and use the resulting laminated structure. In the present invention, the piezoelectric body is preferably formed on a metal film, and more preferably, the piezoelectric body and the metal film are each oriented in the (100) direction. In the present invention, the metal film preferably comprises two or more metal layers, one of which contains a metal that undergoes martensitic transformation upon heat treatment or processing, and more preferably, the piezoelectric body and the metal film are each oriented in approximately the same crystal axis direction. This preferred range improves the precision of the element. The metal film preferably contains Fe, and more preferably contains Cr. Within this preferred range, the piezoelectric element has superior flexibility, making it easier to achieve superior precision in elements that involve bending the piezoelectric element. It is preferable that the piezoelectric element be made of a single crystal film. The attachment means is not particularly limited, but suitable examples include the use of a known adhesive.

また、本発明においては、前記基体が円柱状、略円柱状、樽状又は略樽状であり、前記圧電体が前記基体に巻回して円状又は略円状を形成し、前記円状又は略円状の円周方向又は略円周方向に表面弾性波が伝搬可能となるように前記すだれ状電極が設置されているのが好ましい。このような好ましい範囲によれば、例えばボールSAW等にしなくても、前記素子のSAWデバイスとしての精度をより向上させることができる。また、本発明においては、前記表面弾性波の伝搬経路内に反射器が設けられているのが好ましく、前記反射器が2以上設けられており、前記の巻回による前記圧電体同士の接合部が、前記反射器間に設けられているのがより好ましい。このような好ましい範囲によれば、前記素子の製造工程を大幅に簡易なものとすることができ、また、汎用性もより向上させることができる。また、本発明においては、前記すだれ状電極が前記表面弾性波を発生させるSAW発生手段及び前記表面弾性波を受信するSAW受信手段を備えているのが好ましい。このような好ましい範囲によれば、どのような形状の基体であっても、前記素子の精度をより容易に優れたものにすることができる。 In addition, in the present invention, it is preferable that the base be cylindrical, approximately cylindrical, barrel-shaped, or approximately barrel-shaped, the piezoelectric body be wound around the base to form a circle or approximately circle, and the interdigital transducer be disposed so that surface acoustic waves can propagate in the circumferential direction or approximately circumferential direction of the circle or approximately circle. This preferred range can further improve the precision of the element as a SAW device, without requiring, for example, a ball SAW. In addition, in the present invention, it is preferable that a reflector be disposed in the propagation path of the surface acoustic waves, and more preferably, two or more reflectors are disposed, and the piezoelectric bodies are joined by the winding between the reflectors. This preferred range can significantly simplify the manufacturing process of the element and further improve versatility. In addition, in the present invention, it is preferable that the interdigital transducer include a SAW generating means for generating the surface acoustic waves and a SAW receiving means for receiving the surface acoustic waves. This preferred range can more easily improve the precision of the element, regardless of the shape of the base.

前記素子は、円状又は略円状の圧電体を含み、円周方向又は略円周方向に表面弾性波が伝搬可能となるように1以上のすだれ状電極が前記圧電体に設けられている素子であるのが好ましいが、本発明においては、前記表面弾性波の伝搬経路内となる前記圧電体に反射器が設けられているのがより好ましい。 The element preferably includes a circular or approximately circular piezoelectric body, with one or more interdigital transducers provided on the piezoelectric body so that surface acoustic waves can propagate in the circumferential or approximately circumferential direction. However, in the present invention, it is more preferable that a reflector be provided on the piezoelectric body within the propagation path of the surface acoustic waves.

前記反射器は、前記表面弾性波(以下、「SAW」ともいう。)の伝搬経路内となる前記圧電体に設けられていれば特に限定されず、公知の反射器であってよいが、本発明においては、例えば図1に示すように、SAWの伝搬方向において、すだれ状電極(以下「IDT電極」ともいう。)と隣り合うように位置しているのが好ましい。前記反射器は、例えば、格子状に形成されている電極等であってよく、本発明においては、図2に示すように、互いに対向する1対の反射バスバー11と、前記1対の反射バスバー11間において延びる複数の反射電極指13とを有しているのが好ましい。 The reflector is not particularly limited as long as it is provided on the piezoelectric element within the propagation path of the surface acoustic wave (hereinafter also referred to as "SAW"), and may be a known reflector. However, in the present invention, it is preferable that the reflector be positioned adjacent to an interdigital transducer (hereinafter also referred to as "IDT electrode") in the propagation direction of the SAW, as shown in Figure 1. The reflector may be, for example, an electrode formed in a lattice pattern, and in the present invention, it is preferable that the reflector have a pair of opposing reflection bus bars 11 and a plurality of reflection electrode fingers 13 extending between the pair of reflection bus bars 11, as shown in Figure 2.

図2の反射バスバー11及び反射電極指13の形状および寸法は、各反射電極指13の両端が1対の反射バスバー11に接続されていることを除いては、基本的に、IDT電極のバスバー及び電極指と同様であってよい。例えば、各反射電極指13は、一定の幅でSAWの伝搬方向に直交する方向(D2方向)に直線状に延びる長尺形状を有しており、互いに同等の長さであり、これら複数の反射電極指13は、例えば、SAWの伝搬方向にそれぞれ並べて配列されている。複数の反射電極指13の本数は、通常、利用を意図しているモードのSAWの反射率が概ね100%以上となるように設定されている。その理論的な必要最小限の本数は、例えば、数本~10本程度が好適な例として挙げられ、反射電極指13の本数は、好ましくは20本以上である。 The shape and dimensions of the reflective busbar 11 and reflective electrode fingers 13 in FIG. 2 may be basically the same as those of the busbars and electrode fingers of an IDT electrode, except that both ends of each reflective electrode finger 13 are connected to a pair of reflective busbars 11. For example, each reflective electrode finger 13 has an elongated shape that extends linearly with a constant width in a direction (direction D2) perpendicular to the SAW propagation direction and has the same length. These multiple reflective electrode fingers 13 are, for example, arranged side by side in the SAW propagation direction. The number of multiple reflective electrode fingers 13 is usually set so that the reflectivity of the SAW in the intended mode is approximately 100% or more. A theoretically necessary minimum number is, for example, several to 10, and the number of reflective electrode fingers 13 is preferably 20 or more.

前記反射器は、通常、IDT電極とは電気的に非接続であり、電気的に浮遊状態(外部から電位が付与されない状態)であってもよいし、基準電位等が付与されてもよい。本発明においては、前記反射器が、IDT電極のうちの一方の電極部と電気的に接続されていてもよいが、電気的に浮遊状態(外部から電位が付与されない状態)であるのが好ましい。 The reflector is typically not electrically connected to the IDT electrode and may be in an electrically floating state (a state in which no external potential is applied), or may be supplied with a reference potential or the like. In the present invention, the reflector may be electrically connected to one electrode portion of the IDT electrode, but is preferably in an electrically floating state (a state in which no external potential is applied).

また、本発明においては、前記素子が、前記すだれ状電極が前記表面弾性波を発生させるSAW発生手段及び前記表面弾性波を受信するSAW受信手段を備えているのが好ましい。また、本発明においては、例えば図3に示すように、前記すだれ状電極が前記反射器2つ及び前記圧電体の継ぎ目を挟んで合計で2以上設けられているのがより好ましく、このように構成することで、さらに一段と、前記信号を用いた補正による精度を向上させることができ、より高感度のセンサをより容易に実現することができる。 Furthermore, in the present invention, it is preferable that the element has a SAW generating means for generating the surface acoustic waves and a SAW receiving means for receiving the surface acoustic waves, in which the interdigital transducer is arranged. Furthermore, in the present invention, it is more preferable that a total of two or more interdigital transducers are provided, sandwiching the two reflectors and the joint of the piezoelectric body, as shown in FIG. 3, for example. This configuration further improves the accuracy of correction using the signal, making it easier to realize a more sensitive sensor.

ここで、図3のSAW受信手段19を用いた補正の態様の好適な一例を示す。図4に示すように、すだれ状電極13に電圧が印加されると、すだれ状電極の電極指によって圧電体12に電圧が印加され圧電体12に沿ってD1方向及びD2方向に伝搬する所定のモードのSAWが励起される。励起されたSAWは、すだれ状電極13の電極指及び反射器20によって機械的に反射され、電極指のピッチを半波長とする定在波が形成される。定在波は、当該定在波と同一周波数の電気信号に変換され、すだれ状電極の電極指によって取り出される。ここで、回転角速度が加わったSAWの伝搬するD1方向の波とD2方向の波とに位相差が生じるので、例えば、位相差を表す下記式(1)を利用した補正等が可能となる。
(式中、Ωは角速度を示し、kは波数を示し、Nは積算回数を示し、Aは上部面積を示す。)
Here, a preferred example of a correction mode using the SAW receiving means 19 of FIG. 3 is shown. As shown in FIG. 4, when a voltage is applied to the interdigital transducer 13, the electrode fingers of the interdigital transducer apply the voltage to the piezoelectric element 12, exciting a SAW of a predetermined mode that propagates along the piezoelectric element 12 in the D1 and D2 directions. The excited SAW is mechanically reflected by the electrode fingers of the interdigital transducer 13 and the reflector 20, forming a standing wave with the electrode finger pitch equal to half the wavelength. The standing wave is converted into an electrical signal of the same frequency as the standing wave and extracted by the electrode fingers of the interdigital transducer. A phase difference occurs between the wave propagating in the D1 direction and the wave propagating in the D2 direction of the SAW to which the rotational angular velocity is applied. This allows for correction, for example, using the following equation (1) that represents the phase difference:
(In the formula, Ω represents angular velocity, k represents wave number, N represents number of accumulations, and A represents upper area.)

前記素子は、前記積層構造体を用いて容易に作製することが可能である。なお、本発明においては、前記積層構造体が結晶基板を含む場合には、かかる結晶基板を剥離してから用いるのが好ましい。なお、前記積層構造体は、第1の層上に少なくとも第2の層が積層されており、可撓性を有する積層構造体であって、前記第1の層が金属膜からなり、前記第2の層が前記圧電体からなる圧電体膜(以下、「圧電体層」ともいう)からなるのが好ましい。このような積層構造体によれば、高周波等においてより優れた圧電特性を発揮し得る。 The element can be easily fabricated using the laminated structure. In the present invention, if the laminated structure includes a crystal substrate, it is preferable to peel off the crystal substrate before use. The laminated structure is preferably a flexible laminated structure having at least a second layer stacked on a first layer, with the first layer preferably being a metal film and the second layer preferably being a piezoelectric film (hereinafter also referred to as a "piezoelectric layer") made of the piezoelectric material. Such a laminated structure can exhibit superior piezoelectric properties at high frequencies, etc.

本発明においては、前記圧電体膜と前記金属膜とがそれぞれ(100)方向に配向しているのが好ましい。また、本発明においては、前記圧電体膜が単結晶膜であるのがより優れた圧電特性及び耐久性等を有するので好ましい。なお、本発明においては、前記圧電体膜が、PTO膜又はPZT膜であるのが好ましい。また、本発明においては、前記金属がFeを含むのが好ましく、Crをさらに含むのがより好ましい。このような好ましい範囲によれば、より良好な結晶成長を実現することができ、より高品質の結晶膜を得ることができる。また、本発明においては、前記金属膜と前記圧電体膜との間に導電性酸化膜が、導電性窒化膜上に前記金属膜が積層されているのがそれぞれ好ましい。なお、前記導電性酸化膜が積層される場合には、前記導電性酸化膜が、Sr及び/又はRuを含むのが好ましく、前記導電性窒化膜が積層される場合には、前記導電性窒化膜が、Hfを含むのが好ましい。 In the present invention, it is preferable that the piezoelectric film and the metal film are each oriented in the (100) direction. Furthermore, in the present invention, it is preferable that the piezoelectric film is a single-crystal film, as this provides better piezoelectric properties and durability. It is preferable that the piezoelectric film is a PTO film or a PZT film. Furthermore, in the present invention, it is preferable that the metal contains Fe, and more preferably Cr. This preferable range allows for better crystal growth and a higher-quality crystal film. It is also preferable that a conductive oxide film be layered between the metal film and the piezoelectric film, and that the metal film be layered on a conductive nitride film. If a conductive oxide film is layered, it is preferable that the conductive oxide film contain Sr and/or Ru. If a conductive nitride film is layered, it is preferable that the conductive nitride film contain Hf.

前記金属膜は、金属を主成分として含む膜であれば特に限定されない。なお、「主成分」とは、前記金属膜中の前記金属の原子比が0.5以上の割合であればそれでよい。本発明においては、前記金属膜中の全ての金属元素に対する前記金属の原子比が0.7以上であることが好ましく、0.8以上であるのがより好ましい。前記金属は、熱処理又は加工によりマルテンサイト変態する金属であるのが好ましいが、特に限定されず、公知の金属であってよい。前記のマルテンサイト変態する金属としては、例えば、Fe-Cr-Ni、Fe、Fe-Cr-Ni-Cu-Nb、Fe-Ni、Fe-Ni-Co、Fe-Si、Fe-Cr、Fe-Mn、Fe-Mn-C、Fe-Mn-Ni、Fe-Mn-Cr、Fe-C、Fe-N、Fe-Ni-C、Fe-Cr-C、Fe-Cu-C、Fe-Si-C、Fe-Cr-Ni-C、Co、Co-Ni、Co-Fe、Mn-Cu、In-Tl、In-Tl-Li、Na、Zr、Tl、Hf、Ti、Ti-Al、Ti-Cu、Ti-Cr、Ti-Fe、Ti-Mn、Ti-Mo、Ti-V、Ti-Zr、Ti-Al-V、Zr-U、Cu-Al-Ni、Cu-Al、Ag-Cd、Au-Cd、Au-Cd-Cu、Li、Li-Mg、Cu-Zn、U、U-Cr、Hgなどが挙げられる。本発明においては、前記金属が、Fe、Cr又はNiを含むのが好ましく、Fe及びCrを含むのがより好ましく、ステンレスであるのが最も好ましい。このような好ましい範囲によれば、曲げ強度をより優れたものとすることができる。 The metal film is not particularly limited as long as it contains a metal as its main component. The term "main component" refers to the atomic ratio of the metal in the metal film being 0.5 or greater. In the present invention, the atomic ratio of the metal to all metal elements in the metal film is preferably 0.7 or greater, and more preferably 0.8 or greater. The metal is preferably one that undergoes martensitic transformation upon heat treatment or processing, but is not particularly limited and may be any known metal. Examples of the metals that undergo martensitic transformation include Fe—Cr—Ni, Fe, Fe—Cr—Ni—Cu—Nb, Fe—Ni, Fe—Ni—Co, Fe—Si, Fe—Cr, Fe—Mn, Fe—Mn—C, Fe—Mn—Ni, Fe—Mn—Cr, Fe—C, Fe—N, Fe—Ni—C, Fe—Cr—C, Fe—Cu—C, Fe—Si—C, Fe—Cr—Ni—C, Co, and Co—Ni. , Co-Fe, Mn-Cu, In-Tl, In-Tl-Li, Na, Zr, Tl, Hf, Ti, Ti-Al, Ti-Cu, Ti-Cr, Ti-Fe, Ti-Mn, Ti-Mo, Ti-V, Ti-Zr, Ti-Al-V, Zr-U, Cu-Al-Ni, Cu-Al, Ag-Cd, Au-Cd, Au-Cd-Cu, Li, Li-Mg, Cu-Zn, U, U-Cr, Hg, etc. In the present invention, the metal preferably contains Fe, Cr, or Ni, more preferably contains Fe and Cr, and most preferably is stainless steel. Within these preferred ranges, superior bending strength can be achieved.

前記の「(100)方向に配向」とは、X線回折法により検出される結晶方位角が(100)方向に配向していればそれでよく、より具体的には、X線回折法により検出される前記金属膜の全ピークに対し、(100)方向のピーク比が50%以上であればそれでよく、好ましくは前記ピーク比が90%以上である。 The above-mentioned "orientation in the (100) direction" means that the crystal orientation angle detected by X-ray diffraction is oriented in the (100) direction. More specifically, the peak ratio in the (100) direction of the total peaks of the metal film detected by X-ray diffraction is 50% or more, and preferably this peak ratio is 90% or more.

本発明においては、前記金属膜の膜厚が100μm以下であるのが好ましく、膜厚1μm~10μmであるのがより好ましい。このような好ましい範囲によれば、機能膜の結晶成長用中間膜として、より優れたものとなる。 In the present invention, the thickness of the metal film is preferably 100 μm or less, and more preferably 1 μm to 10 μm. This preferred range makes it an even better intermediate film for crystal growth in functional films.

前記積層構造体は、例えば、結晶基板上に、第1の中間膜としてHfを含む化合物膜を積層し、ついで第2の中間膜として熱処理又は加工によりマルテンサイト変態する金属を含む金属膜を積層した後、直接に又は他の層を介して、結晶成長により、圧電体膜(以下、「圧電体層」ともいう)を積層し、ついで前記結晶基板を剥離することにより、容易に得ることが可能である。前記結晶成長における結晶成長手段としては、例えば、PLD法又はCVD法等の公知の結晶成長手段が挙げられる。なお、前記剥離手段は、前記結晶基板を前記圧電体膜から剥離できればそれでよく、公知の剥離手段を用いてよい。前記剥離手段は、前記結晶基板の除去手段であってよく、本発明の目的を阻害しない限り、ドライエッチング及びウエットエッチング等の公知の除去手段も前記剥離に用いることができる。なお、本発明では、前記結晶基板の剥離を、ウエットエッチングにて行うのが好ましい。前記ウエットエッチング手段には、例えば強アルカリ等の公知のエッチング剤が好適に用いられ得る。 The laminated structure can be easily obtained, for example, by laminating a compound film containing Hf as a first intermediate film on a crystal substrate, followed by a metal film containing a metal that undergoes martensitic transformation upon heat treatment or processing as a second intermediate film, and then laminating a piezoelectric film (hereinafter also referred to as a "piezoelectric layer") by crystal growth, either directly or via another layer, and then peeling off the crystal substrate. Examples of crystal growth methods include known crystal growth methods such as PLD or CVD. The peeling method may be any known method capable of peeling the crystal substrate from the piezoelectric film. The peeling method may also be a method for removing the crystal substrate, and known removal methods such as dry etching and wet etching can also be used for the peeling, as long as they do not impede the objectives of the present invention. In the present invention, the crystal substrate is preferably peeled off by wet etching. Known etching agents, such as strong alkalis, can be suitably used as the wet etching method.

前記結晶基板(以下、単に「基板」ともいう)は、基板材料等、本発明の目的を阻害しない限り特に限定されず、公知の結晶基板であってよい。有機化合物であってもよいし、無機化合物であってもよい。本発明においては、前記結晶基板が無機化合物を含んでいるのが好ましい。本発明においては、前記基板が、表面の一部または全部に結晶を有するものであるのが好ましく、結晶成長側の主面の全部または一部に結晶を有している結晶基板であるのがより好ましく、結晶成長側の主面の全部に結晶を有している結晶基板であるのが最も好ましい。前記結晶は、本発明の目的を阻害しない限り特に限定されず、結晶構造等も特に限定されないが、立方晶系、正方晶系、三方晶系、六方晶系、斜方晶系又は単斜晶系の結晶であるのが好ましく、(100)又は(200)に配向している結晶であるのがより好ましい。また、前記結晶基板は、オフ角を有していてもよく、前記オフ角としては、例えば、0.2°~12.0°のオフ角などが挙げられる。ここで、「オフ角」とは、基板表面と結晶成長面とのなす角度をいう。前記基板形状は、板状であって、前記エピタキシャル膜の支持体となるものであれば特に限定されない。絶縁体基板であってもよいし、半導体基板であってもよいが、本発明においては、前記基板が、Si基板であるのが好ましく、結晶性Si基板であるのがより好ましく、(100)に配向している結晶性Si基板であるのが最も好ましい。なお、前記基板材料としては、例えば、Si基板の他に周期律表第3族~第15族に属する1種若しくは2種以上の金属又はこれらの金属の酸化物等が挙げられる。前記基板の形状は、特に限定されず、略円形状(例えば、円形、楕円形など)であってもよいし、多角形状(例えば、三角形、正方形、長方形、五角形、六角形、七角形、八角形、九角形など)であってもよく、様々な形状を好適に用いることができる。また、本発明においては、大面積の基板を用いることもでき、このような大面積の基板を用いることによって、エピタキシャル膜の面積を大きくすることができる。 The crystal substrate (hereinafter simply referred to as "substrate") is not particularly limited as long as it does not impede the objectives of the present invention, and may be a known crystal substrate. It may be an organic compound or an inorganic compound. In the present invention, it is preferable that the crystal substrate contains an inorganic compound. In the present invention, it is preferable that the substrate has crystals on part or all of its surface, more preferably a crystal substrate having crystals on all or part of the main surface on the crystal growth side, and most preferably a crystal substrate having crystals on the entire main surface on the crystal growth side. The crystal is not particularly limited as long as it does not impede the objectives of the present invention, and the crystal structure is also not particularly limited. However, it is preferable that it be a cubic, tetragonal, trigonal, hexagonal, orthorhombic, or monoclinic crystal, and more preferably a crystal oriented in the (100) or (200) direction. The crystal substrate may also have an off-angle, and examples of the off-angle include an off-angle of 0.2° to 12.0°. Here, "off-angle" refers to the angle between the substrate surface and the crystal growth plane. The substrate shape is not particularly limited as long as it is plate-like and serves as a support for the epitaxial film. It may be an insulating substrate or a semiconductor substrate. However, in the present invention, the substrate is preferably a Si substrate, more preferably a crystalline Si substrate, and most preferably a (100)-oriented crystalline Si substrate. In addition to Si substrates, examples of substrate materials include one or more metals belonging to Groups 3 to 15 of the periodic table, or oxides of these metals. The shape of the substrate is not particularly limited and may be approximately circular (e.g., circular, elliptical, etc.) or polygonal (e.g., triangular, square, rectangular, pentagonal, hexagonal, heptagonal, octagonal, nonagonal, etc.). Various shapes can be suitably used. Furthermore, in the present invention, large-area substrates can be used, which allows for a larger area for the epitaxial film.

また、本発明においては、前記結晶基板が平坦面を有するのが好ましいが、前記結晶基板が表面の一部または全部に凹凸形状を有しているのも、前記エピタキシャル膜の結晶成長の品質をより良好なものとし得るので、好ましい。前記の凹凸形状を有する結晶基板は、表面の一部または全部に凹部または凸部からなる凹凸部が形成されていればそれでよく、前記凹凸部は、凸部または凹部からなるものであれば特に限定されず、凸部からなる凹凸部であってもよいし、凹部からなる凹凸部であってもよいし、凸部および凹部からなる凹凸部であってもよい。また、前記凹凸部は、規則的な凸部または凹部から形成されていてもよいし、不規則な凸部または凹部から形成されていてもよい。本発明においては、前記凹凸部が周期的に形成されているのが好ましく、周期的かつ規則的にパターン化されているのがより好ましい。前記凹凸部の形状としては、特に限定されず、例えば、ストライプ状、ドット状、メッシュ状またはランダム状などが挙げられるが、本発明においては、ドット状またはストライプ状が好ましく、ドット状がより好ましい。また、凹凸部が周期的かつ規則的にパターン化されている場合には、前記凹凸部のパターン形状が、三角形、四角形(例えば正方形、長方形若しくは台形等)、五角形若しくは六角形等の多角形状、円状、楕円状などの形状であるのが好ましい。なお、ドット状に凹凸部を形成する場合には、ドットの格子形状を、例えば正方格子、斜方格子、三角格子、六角格子などの格子形状にするのが好ましく、三角格子の格子形状にするのがより好ましい。前記凹凸部の凹部または凸部の断面形状としては、特に限定されないが、例えば、コの字型、U字型、逆U字型、波型、または三角形、四角形(例えば正方形、長方形若しくは台形等)、五角形若しくは六角形等の多角形等が挙げられる。なお、前記結晶基板の厚さは、特に限定されないが、好ましくは、50~2000μmであり、より好ましくは100~1000μmである。 In addition, in the present invention, it is preferable that the crystal substrate has a flat surface. However, it is also preferable that the crystal substrate have an uneven surface on part or all of its surface, as this can improve the quality of the crystal growth of the epitaxial film. The crystal substrate having an uneven surface may have an uneven surface consisting of concave or convex portions formed on part or all of its surface. The uneven surface is not particularly limited as long as it consists of convex or concave portions. It may be an uneven surface consisting of convex portions, an uneven surface consisting of concave portions, or an uneven surface consisting of convex and concave portions. The uneven surface may also be formed of regular convex or concave portions, or irregular convex or concave portions. In the present invention, it is preferable that the uneven surface be formed periodically, and more preferably, a periodic and regular pattern is formed. The shape of the uneven surface is not particularly limited and may include, for example, a striped, dotted, meshed, or random pattern. In the present invention, a dotted or striped pattern is preferred, and a dotted pattern is more preferred. Furthermore, when the concave-convex portions are patterned periodically and regularly, the pattern shape of the concave-convex portions is preferably a triangle, quadrangle (e.g., square, rectangle, or trapezoid), polygonal shape such as a pentagon or hexagon, circle, or ellipse. When the concave-convex portions are formed in a dotted pattern, the lattice shape of the dots is preferably a square lattice, orthorhombic lattice, triangular lattice, or hexagonal lattice, with a triangular lattice shape being more preferable. The cross-sectional shape of the concave or convex portions of the concave-convex portions is not particularly limited, but examples include a square, U-shape, inverted U-shape, wave-like shape, or a polygonal shape such as a triangle, quadrangle (e.g., square, rectangle, or trapezoid), pentagon, or hexagon. The thickness of the crystal substrate is not particularly limited, but is preferably 50 to 2000 μm, and more preferably 100 to 1000 μm.

前記圧電体層は、前記圧電体からなる圧電体層であれば特に限定されない。前記圧電体も公知の圧電体であってよいが、本発明においては、前記圧電体が、Pb及びTiを含むのが好ましい。なお、本明細書中、「膜」及び「層」の各用語は、それぞれ場合によって、又は状況に応じて、互いに入れ替えてもよい。 The piezoelectric layer is not particularly limited as long as it is a piezoelectric layer made of the piezoelectric material. The piezoelectric material may be a known piezoelectric material, but in the present invention, it is preferable that the piezoelectric material contains Pb and Ti. Note that, in this specification, the terms "film" and "layer" may be used interchangeably depending on the case or situation.

また、本発明においては、結晶基板上に、第1の中間膜を積層し、ついで第2の中間膜を積層した後、そのままで又は他の層を介して、前記圧電体層が積層するのが好ましい。前記他の層としては、例えば、金属膜、導電性酸化膜又は導電性窒化膜などが挙げられる。前記導電性酸化膜は、Sr及び/又はRuを含む導電性酸化膜などが挙げられる。また、前記導電性窒化膜は、Hfを含む導電性窒化膜などが挙げられる。前記他の層における金属膜としては、前記金属とは異なる金属からなるのが好ましく、例えば、金、銀、白金、パラジウム、銀パラジウム、銅、ニッケル、又はこれらの合金等が挙げられる。
前記の積層手段は、いずれも公知の成膜手段を用いて積層することができる。本発明においては、前記成膜手段が、蒸着(MBE含む)又はスパッタであるのが好ましい。各層のそれぞれの厚さは、特に限定されないが、好ましくは、10nm~100μmであり、より好ましくは50nm~30μmである。
In the present invention, it is preferable to laminate a first intermediate film on a crystal substrate, then laminate a second intermediate film, and then laminate the piezoelectric layer directly or via another layer. Examples of the other layer include a metal film, a conductive oxide film, or a conductive nitride film. Examples of the conductive oxide film include a conductive oxide film containing Sr and/or Ru. Examples of the conductive nitride film include a conductive nitride film containing Hf. The metal film in the other layer is preferably made of a metal different from the metal mentioned above, such as gold, silver, platinum, palladium, silver-palladium, copper, nickel, or an alloy thereof.
The above-mentioned lamination means can be used for all of the laminations by known film formation means. In the present invention, the film formation means is preferably vapor deposition (including MBE) or sputtering. The thickness of each layer is not particularly limited, but is preferably 10 nm to 100 μm, and more preferably 50 nm to 30 μm.

以上のようにして得られた積層構造体は、適宜ウエットエッチング等で前記結晶基板から剥離され、圧電体として、公知の手段を用いて、圧電素子等の前記素子に好適に用いられる。例えば、得られた圧電体を、略円柱状の基体に巻回し、接合箇所から順に、反射器とすだれ状電極とを設けることで、高性能な新規圧電体素子を容易に作製することができる。また、前記素子は、常法に従い、電子デバイスに好適に用いられる。例えば、前記積層構造体を、圧電素子として、電源や電気/電子回路と接続し、回路基板に搭載したり、パッケージしたりすることにより様々な電子デバイスを構成することができる。本発明においては、前記電子デバイスが、圧電デバイスであるのが好ましく、例えば、インクジェットプリンタヘッド、マイクロアクチュエータ、ジャイロスコープ、モーションセンサ等の電子機器における圧電デバイスとして利用可能である。また、例えば、増幅器と整流回路を接続しパッケージすれば、磁気センサなどの各種センサに利用可能である。また、定電圧駆動のメモリにも適用できるし、例えば、蓄電素子と整流電力管理回路を接続すれば、外部からの磁場や振動から電力を発電するエネルギー変換デバイス(エネルギーハーベスタ)となる。なお、前記エネルギー変換デバイスは、電源システムやウェアラブル端末(イヤホン/ヒアラブルデバイス、スマートウォッチ、スマートグラス(眼鏡)、スマートコンタクトレンズ、人工内耳、心臓ペースメーカーなど)などに組み込まれ利用される。本発明においては、前記積層構造体を、例えばスマートグラス、ARヘッドセット、LiDARシステム向けのMEMSミラー、先端医療向けの圧電MEMS超音波トランスデューサ(PMUT)、商工業用3Dプリンタ向けのピエゾヘッド等に用いることが好ましい。 The laminated structure obtained as described above can be peeled from the crystal substrate by appropriate wet etching or other methods and used as a piezoelectric body in piezoelectric elements and other devices using known techniques. For example, a new, high-performance piezoelectric element can be easily fabricated by winding the resulting piezoelectric body around a roughly cylindrical substrate and providing a reflector and an interdigital transducer in this order from the joining point. Furthermore, the element can be suitably used in electronic devices using conventional methods. For example, various electronic devices can be constructed by connecting the laminated structure as a piezoelectric element to a power source or an electrical/electronic circuit, mounting it on a circuit board, or packaging it. In the present invention, the electronic device is preferably a piezoelectric device, and can be used as a piezoelectric device in electronic devices such as inkjet printer heads, microactuators, gyroscopes, and motion sensors. Furthermore, by connecting an amplifier and a rectifier circuit and packaging it, it can be used in various sensors such as magnetic sensors. It can also be used in constant-voltage-driven memories, and, for example, by connecting a storage element and a rectifier power management circuit to create an energy conversion device (energy harvester) that generates power from external magnetic fields or vibrations. The energy conversion device is incorporated into power supply systems and wearable devices (earphones/hearable devices, smart watches, smart glasses, smart contact lenses, cochlear implants, cardiac pacemakers, etc.). In the present invention, the laminated structure is preferably used in, for example, smart glasses, AR headsets, MEMS mirrors for LiDAR systems, piezoelectric MEMS ultrasonic transducers (PMUTs) for advanced medical applications, and piezo heads for commercial and industrial 3D printers.

前記電子デバイスは、常法に従い電子機器に好適に用いられる。前記電子機器としては、上記した電子機器以外にも様々な電子機器に適用可能であり、より具体的に例えば、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、振動波モータ、光学機器、振動装置、撮像装置、圧電音響部品や該圧電音響部品を有する音声再生機器、音声録音機器、携帯電話、各種情報端末等が好適な例として挙げられる。 The electronic device is suitable for use in electronic devices in the usual way. The electronic device can be applied to a variety of electronic devices in addition to those mentioned above. Specific examples include liquid ejection heads, liquid ejection devices, vibration wave motors, optical devices, vibration devices, imaging devices, piezoelectric acoustic components, and audio playback devices, audio recording devices, mobile phones, and various information terminals that use such piezoelectric acoustic components.

また、前記電子機器は、常法に従いシステムにも適用され、かかるシステムとしては、例えばセンサーシステム等が挙げられる。 The electronic devices can also be applied to systems in the usual way, such as sensor systems.

以下、本発明の好適な態様を、図面を用いて説明するが、本発明はこれら好適な態様に限定されるものではない。 Preferred embodiments of the present invention are described below with reference to the drawings, but the present invention is not limited to these preferred embodiments.

図1は、本発明の好適な素子の一例を示す。図1の素子は、圧電体12が、円柱状の基体側面に巻回されており、側面の圧電体12上には、すだれ状電極10及び反射器20が形成されている。なお、すだれ状電極10及び反射器20の形成は、それぞれ公知の手段を用いて行われてよい。すだれ状電極10に電圧が印加されると、圧電体12の圧電効果により、すだれ状電極10の隣り合う電極指間の圧電体上にひずみが生じ表面波が励振される。すだれ状電極は、電極指が周期的に配置されており、表面波はその波長と電極指周期が等しい場合に最も強く励振される。表面に形成された電極間隔で周波数が決まるため、フォトリソ加工等することにより、容易に高周波に対応することができる。 Figure 1 shows an example of a suitable element of the present invention. The element in Figure 1 has a piezoelectric element 12 wound around the side of a cylindrical substrate, and an interdigital transducer 10 and a reflector 20 formed on the piezoelectric element 12 on the side. The interdigital transducer 10 and the reflector 20 may be formed using known methods. When a voltage is applied to the interdigital transducer 10, the piezoelectric effect of the piezoelectric element 12 causes strain on the piezoelectric element between adjacent electrode fingers of the interdigital transducer 10, exciting a surface wave. The interdigital transducer has electrode fingers arranged periodically, and the surface wave is excited most strongly when the wavelength is equal to the electrode finger period. Because the frequency is determined by the electrode spacing formed on the surface, high frequencies can be easily accommodated using photolithography or other processing methods.

前記素子は、常法に従い、電子デバイスに好適に用いられる。例えば、前記素子を、圧電素子として、電源や電気/電子回路と接続し、回路基板に搭載したり、パッケージしたりすることにより様々な電子デバイスを構成することができる。本発明においては、前記電子デバイスが、圧電デバイスであるのが好ましく、例えば、ジャイロスコープ、モーションセンサ等の電子機器における圧電デバイスとして利用可能である。また、例えば、増幅器と整流回路を接続しパッケージすれば、磁気センサなどの各種センサに利用可能である。 The element is suitable for use in electronic devices in the usual way. For example, various electronic devices can be constructed by connecting the element as a piezoelectric element to a power source or an electric/electronic circuit, and mounting it on a circuit board or packaging it. In the present invention, the electronic device is preferably a piezoelectric device, and can be used as a piezoelectric device in electronic devices such as gyroscopes and motion sensors. Furthermore, for example, if an amplifier and a rectifier circuit are connected and packaged, it can be used as a variety of sensors such as a magnetic sensor.

前記電子デバイスは、常法に従い電子機器に好適に用いられる。前記電子機器としては、上記した電子機器以外にも様々な電子機器に適用可能であり、より具体的に例えば、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、振動波モータ、光学機器、振動装置、撮像装置、圧電音響部品や該圧電音響部品を有する音声再生機器、音声録音機器、携帯電話、各種情報端末等が好適な例として挙げられる。 The electronic device is suitable for use in electronic devices in the usual way. The electronic device can be applied to a variety of electronic devices in addition to those mentioned above. Specific examples include liquid ejection heads, liquid ejection devices, vibration wave motors, optical devices, vibration devices, imaging devices, piezoelectric acoustic components, and audio playback devices, audio recording devices, mobile phones, and various information terminals that use such piezoelectric acoustic components.

また、前記電子機器は、常法に従いシステムにも適用され、かかるシステムとしては、例えばセンサーシステム等が挙げられる。 The electronic devices can also be applied to systems in the usual way, such as sensor systems.

(実施例1)
Si基板(100)の結晶成長面側をRIEで処理し、窒素の存在下、蒸着法にて、蒸着源の金属と、窒素とを熱反応させ、HfZrN単結晶をSi基板上に形成した。なお、この成膜時の蒸着法の各条件は次の通りであった。
蒸着源 : Hf、Zr
電圧 : 3.5~4.75V
圧力 : 3×10-2~6×10-2Pa
基板温度 : 450~700℃
Example 1
The crystal growth surface of the Si substrate (100) was treated by RIE, and the metal vapor deposition source was thermally reacted with nitrogen to form a HfZrN single crystal on the Si substrate. The deposition conditions for this film formation were as follows:
Vapor deposition source: Hf, Zr
Voltage: 3.5 to 4.75 V
Pressure: 3×10 −2 to 6×10 −2 Pa
Substrate temperature: 450-700℃

HfZrN単結晶の蒸着において用いた蒸着成膜装置を図8に示す。図8の成膜装置は、ルツボに金属源1101a~1101b、アース1102a~1102h、ICP電極1103a~1103b、カットフィルター1104a~1104b、DC電源1105a~1105b、RF電源1106a~1106b、ランプ1107a~1107b、Ar源1108、反応性ガス源1109、電源1110、基板ホルダー1111、基板1112、カットフィルター1113、ICPリング1114、真空槽1115及び回転軸1116を少なくとも備えている。なお、図8のICP電極1103a~1103bは基板1112の中心側に湾曲した略凹曲面形状又はパラボラ形状を有している。 The evaporation deposition apparatus used to deposit the HfZrN single crystal is shown in Figure 8. The deposition apparatus in Figure 8 is equipped with at least metal sources 1101a-1101b in a crucible, earths 1102a-1102h, ICP electrodes 1103a-1103b, cut filters 1104a-1104b, DC power supplies 1105a-1105b, RF power supplies 1106a-1106b, lamps 1107a-1107b, Ar source 1108, reactive gas source 1109, power supply 1110, substrate holder 1111, substrate 1112, cut filter 1113, ICP ring 1114, vacuum chamber 1115, and rotation shaft 1116. The ICP electrodes 1103a-1103b in Figure 8 have a generally concave or parabolic shape curved toward the center of the substrate 1112.

図8に示すように、基板1112を基板ホルダー1111上に係止する。ついで、電源1110と回転機構(図示せず)とを用いて回転軸1116を回転させ、基板1112を回転させる。また、基板112をランプ1107a~1107bによって加熱し、真空ポンプ(図示せず)によって真空槽1115内を排気により真空又は減圧下にする。その後、真空槽1115内にAr源1108からArガスを導入し、DC電源1105a~1105b、RF電源1106a~1106b、ICP電極1103a~1103b、カットフィルター1104a~1104b、及びアース1102a~1102hを用いて基板1112上にアルゴンプラズマを形成することにより、基板1112の表面の清浄化を行う。 As shown in FIG. 8, the substrate 1112 is secured to the substrate holder 1111. Next, the rotary shaft 1116 is rotated using the power supply 1110 and a rotation mechanism (not shown), causing the substrate 1112 to rotate. The substrate 1112 is heated by lamps 1107a-1107b, and the vacuum chamber 1115 is evacuated to a vacuum or reduced pressure using a vacuum pump (not shown). Ar gas is then introduced into the vacuum chamber 1115 from the Ar source 1108, and argon plasma is formed on the substrate 1112 using the DC power supplies 1105a-1105b, RF power supplies 1106a-1106b, ICP electrodes 1103a-1103b, cut filters 1104a-1104b, and earths 1102a-1102h, thereby cleaning the surface of the substrate 1112.

真空槽1115内にArガスを導入するとともに反応性ガス源1109を用いて反応性ガスを導入する。このとき、ランプ7a及び7bはそれぞれ異なる波長を基板12に対して照射することができるように構成されている。また、ランプ7a及び7bはそれぞれランプヒーターであってもよい。前記波長は、本発明の目的を阻害しない限り特に限定されず、紫外線であってもよいし、赤外線であってもよい。また、前記波長は、原料や反応の種類等によって、適宜設定されてよく、膜質や成膜レートを容易により良好なものとすることができる。また、ランプ7a~7bのオンとオフとを交互に繰り返すことで、より良質な結晶成長膜を形成することもできる。 Ar gas is introduced into the vacuum chamber 1115, and a reactive gas is introduced using the reactive gas source 1109. At this time, lamps 7a and 7b are configured to irradiate the substrate 12 with different wavelengths. Lamps 7a and 7b may also be lamp heaters. The wavelength is not particularly limited as long as it does not impede the objectives of the present invention, and may be ultraviolet or infrared. The wavelength may be set appropriately depending on the raw material, type of reaction, etc., making it easy to improve the film quality and film formation rate. Also, by alternately turning lamps 7a to 7b on and off, a better quality crystal growth film can be formed.

次に、蒸着源の金属として、Fe、Cr及びNiを用いたこと以外、上記と同様にして、SUS304単結晶膜を成膜した。 Next, a SUS304 single crystal film was formed in the same manner as above, except that Fe, Cr, and Ni were used as the evaporation source metals.

次に、結晶性金属酸化物の単結晶膜の上に、導電膜として、白金(Pt)の金属膜をスパッタリング法により形成した。この際の条件を、以下に示す。
装置 : ULVAC社製スパッタリング装置QAM-4
圧力 : 1.20×10-1Pa
ターゲット : Pt
電力 : 100W(DC)
厚さ : 100nm
基板温度 : 450~600℃
Next, a platinum (Pt) metal film was formed as a conductive film on the single crystal film of the crystalline metal oxide by sputtering under the following conditions.
Equipment: ULVAC sputtering equipment QAM-4
Pressure: 1.20×10 −1 Pa
Target: Pt
Power: 100W (DC)
Thickness: 100 nm
Substrate temperature: 450-600℃

次に、導電膜上に、SRO膜を、スパッタリング法により形成した。この際の条件を、以下に示す。
装置 : ULVAC社製スパッタリング装置QAM-4
パワー : 150W(RF)
ガス : Ar
圧力 : 1.8Pa
基板温度 : 600℃
厚さ : 20nm
Next, an SRO film was formed on the conductive film by sputtering under the following conditions.
Equipment: ULVAC sputtering equipment QAM-4
Power: 150W (RF)
Gas: Ar
Pressure: 1.8 Pa
Substrate temperature: 600℃
Thickness: 20 nm

次に、SRO膜上に、圧電膜として、PbTiO膜を成膜した。得られた積層構造体は、良好な密着性及び結晶性を有する積層構造体であった。また、積層構造体の結晶基板、結晶性金属酸化物の単結晶膜及び導電膜につき、X線回折装置を用いて、それぞれの結晶を測定した。図2に、XRD測定結果を示す。図2から明らかなように、良好な結晶性を有するSUS304単結晶膜が形成されており、PbTiO膜等の結晶性等も良好であった。 Next, a PbTiO3 film was formed on the SRO film as a piezoelectric film. The resulting laminated structure had good adhesion and crystallinity. Furthermore, the crystallinity of the crystalline substrate of the laminated structure, the single crystal film of the crystalline metal oxide, and the conductive film was measured using an X-ray diffraction device. Figure 2 shows the results of the XRD measurement. As is clear from Figure 2, a SUS304 single crystal film with good crystallinity was formed, and the crystallinity of the PbTiO3 film and other films was also good.

PbTiO膜を成膜した後、水酸化ナトリウムを用いて、Si基板をウエットエッチングにより除去して、PbTiO膜からSi基板を剥離した。なお、得られた積層構造体は、可撓性を有していた。 After the PbTiO3 film was formed, the Si substrate was removed by wet etching using sodium hydroxide, and the Si substrate was peeled off from the PbTiO3 film. The resulting laminated structure was flexible.

(試験例)
試験例として図3及び図4のような微小素子の片持ちはりをFIB FB2100 (日立ハイテクノロジーズ製)を用いて作製し、その破壊強度特性をナノインデンター NanoTest Xtreme(Micro Materials社製)にて破壊強度評価したところ図5のようになった。図5よりSiの破壊強度は約1GPa程度とほぼ一定値を示した。Si単結晶バルク材の曲げ強度が、300MPa程度(論文)であることを考えると、マイクロマテリアルでは大きな強度を持つことがわかった。さらにSUS304単結晶薄膜の場合は、破壊強度約5GPaと、Si単結晶の約5倍の曲げ強度を有していた。このことは、SUS304単結晶薄膜をMEMSデバイスの梁(可動部分、SOI基板の活性層相当)に用いることで、MEMSデバイスの変位量の大幅な改善に加えて、大幅な寿命特性の改善が期待できる。
(Test example)
As a test example, a cantilever microelement like the one shown in Figures 3 and 4 was fabricated using a Hitachi High-Technologies FIB FB2100. Its fracture strength characteristics were evaluated using a NanoTest Xtreme nanoindenter (Micro Materials), resulting in the results shown in Figure 5. Figure 5 shows that the fracture strength of Si was approximately 1 GPa, a fairly constant value. Considering that the bending strength of bulk Si single crystal material is approximately 300 MPa (according to a paper), this micromaterial exhibits significant strength. Furthermore, the fracture strength of a SUS304 single crystal thin film was approximately 5 GPa, approximately five times that of single crystal Si. This suggests that using a SUS304 single crystal thin film for the beams of MEMS devices (moving parts, equivalent to the active layer of an SOI substrate) can be expected to significantly improve not only the displacement of MEMS devices but also their lifespan.

得られた圧電体の素子への適用例を、以下、図を用いてより具体的に説明するが、本発明は、これら適用例に限定されるものではない。なお、本発明においては、特に断りがない限り、公知の手段を用いて、前記圧電体から素子及び電子デバイス等を製造することができる。 Examples of applications of the obtained piezoelectric material to elements are explained in more detail below with reference to the figures, but the present invention is not limited to these application examples. In addition, in the present invention, elements, electronic devices, etc. can be manufactured from the piezoelectric material using known means, unless otherwise specified.

図3は、本発明の好適な態様である素子の一例を示す。図3の素子は、図1とは、SAWを検出するためのSAW受信器を備えている点で異なる。図3の素子は、圧電体12が、円柱状基体側面に巻回されており、基体側面の圧電体12上には、すだれ状電極13及び反射器20がそれぞれ2つずつ公知の手段を用いて形成されている。すだれ状電極13に電圧が印加されると、圧電体12の圧電効果により、すだれ状電極13のそれぞれ隣り合う電極指間の圧電体上にひずみが生じ表面波が励振される。また、すだれ状電極13には、SAW受信器19が接続されており、図1に示すSAW伝搬経路14内に伝搬する表面弾性波を検出できるように構成されている。表面弾性波は、反射器20により、圧電体12の表面を図4に示すD1方向及びD2方向にそれぞれ伝搬し、つまり互いに対向する方向に表面弾性波が伝搬する。これにより、環境にやさしい高精度かつ高感度のセンサを作製することができる。 Figure 3 shows an example of an element according to a preferred embodiment of the present invention. The element in Figure 3 differs from that in Figure 1 in that it includes a SAW receiver for detecting SAW. The element in Figure 3 has a piezoelectric element 12 wound around the side of a cylindrical substrate. Two interdigital transducers 13 and two reflectors 20 are formed on the piezoelectric element 12 on the side of the substrate using known techniques. When a voltage is applied to the interdigital transducers 13, the piezoelectric effect of the piezoelectric element 12 generates strain on the piezoelectric element between adjacent electrode fingers of the interdigital transducer 13, exciting a surface wave. A SAW receiver 19 is connected to the interdigital transducer 13, enabling detection of surface acoustic waves propagating through the SAW propagation path 14 shown in Figure 1. The reflector 20 propagates the surface acoustic waves on the surface of the piezoelectric element 12 in directions D1 and D2 shown in Figure 4, i.e., in opposing directions. This allows the fabrication of an environmentally friendly, highly accurate, and highly sensitive sensor.

本発明の素子は、種々の用途に適用可能であるが、特に圧電センサに好適に用いられ、例えばセンサーシステム用の電子デバイス等に適用される。 The element of the present invention can be used for a variety of purposes, but is particularly suitable for use as a piezoelectric sensor, for example, in electronic devices for sensor systems.

1 結晶基板(Si基板)
2 HfZrN膜
3 SUS膜(FeCrNi膜)
4 Pt膜
5 SRO膜
6 圧電体層(PbTiO膜)
10 すだれ状電極
11 反射バスバー
12 圧電体
13 反射電極指
14 伝搬経路
15 取り出し電極
19 SAW受信器
20 反射器
1101a~101b 金属源
1102a~102j アース
1103a~103b ICP電極
1104a~104b カットフィルター
1105a~105b DC電源
1106a~106b RF電源
1107a~107b ランプ
1108 Ar源
1109 反応性ガス源
1110 電源
1111 基板ホルダー
1112 基板
1113 カットフィルター
1114 ICPリング
1115 真空槽
1116 回転軸

1. Crystal substrate (Si substrate)
2 HfZrN film 3 SUS film (FeCrNi film)
4 Pt film 5 SRO film 6 Piezoelectric layer (PbTiO film)
10 Interdigital electrode 11 Reflection bus bar 12 Piezoelectric body 13 Reflection electrode finger 14 Propagation path 15 Extraction electrode 19 SAW receiver 20 Reflector 1101a to 101b Metal source 1102a to 102j Earth 1103a to 103b ICP electrode 1104a to 104b Cut filter 1105a to 105b DC power supply 1106a to 106b RF power supply 1107a to 107b Lamp 1108 Ar source 1109 Reactive gas source 1110 Power supply 1111 Substrate holder 1112 Substrate 1113 Cut filter 1114 ICP ring 1115 Vacuum chamber 1116 Rotation axis

Claims (13)

円柱状、略円柱状、樽状又は略樽状の基体と、
前記基体に巻回して円状又は略円状を形成する圧電体と、
を含み、
前記円状又は略円状の円周方向又は略円周方向に表面弾性波が伝搬可能となるように1以上のすだれ状電極が前記圧電体に設けられている素子であって、
前記圧電体が前記基体に接合され、
前記表面弾性波の伝搬経路内に反射器が2以上設けられ、
前記の巻回による前記圧電体同士の接合部が、前記反射器間に設けられていることを特徴とする素子。
a cylindrical, approximately cylindrical, barrel-shaped, or approximately barrel-shaped base;
a piezoelectric body wound around the base to form a circular or substantially circular shape;
Including,
An element in which one or more interdigital transducers are provided on the piezoelectric body so that surface acoustic waves can propagate in a circumferential direction or a substantially circumferential direction of the circular or substantially circular shape ,
the piezoelectric body is bonded to the base;
Two or more reflectors are provided in a propagation path of the surface acoustic wave,
An element characterized in that the joints between the piezoelectric bodies formed by the winding are provided between the reflectors .
円柱状、略円柱状、樽状又は略樽状の基体と、
前記基体の側周面に巻回され且つ接合された環状の圧電体と、
を含み、
前記環状の圧電体の周方向に表面弾性波が伝搬可能となるように1以上のすだれ状電極が前記環状の圧電体の外周面に設けられている素子であって、
前記環状の圧電体の前記外周面であって且つ前記表面弾性波の伝搬経路内に2つの反射器が設けられ、
前記環状の圧電体は、帯状の圧電体の一端と他端とが接合された接合部を含み、
前記接合部が、前記2つの反射器の間に設けられていることを特徴とする素子。
a cylindrical, approximately cylindrical, barrel-shaped, or approximately barrel-shaped base;
an annular piezoelectric body wound around and bonded to a side peripheral surface of the base body;
Including,
an element in which one or more interdigital transducers are provided on the outer peripheral surface of the annular piezoelectric body so that surface acoustic waves can propagate in the circumferential direction of the annular piezoelectric body,
two reflectors are provided on the outer peripheral surface of the annular piezoelectric body and within a propagation path of the surface acoustic wave;
the annular piezoelectric element includes a joint portion where one end and the other end of the strip-shaped piezoelectric element are joined together,
The element is characterized in that the joint is provided between the two reflectors .
前記2つの反射器は、前記接合部を挟んで互いに隣り合う請求項2に記載の素子。The element according to claim 2 , wherein the two reflectors are adjacent to each other with the joint portion therebetween. 前記1以上のすだれ状電極が、前記環状の圧電体の前記外周面であって、前記2つの反射器のうち一方の反射器の前記接合部側と反対側であり、且つ、前記2つの反射器のうち他方の反射器の前記接合部側と反対側に設けられている請求項2に記載の素子。3. The element according to claim 2, wherein the one or more interdigital transducers are provided on the outer peripheral surface of the annular piezoelectric body, on a side opposite to the junction side of one of the two reflectors and on a side opposite to the junction side of the other of the two reflectors. 前記すだれ状電極が前記表面弾性波を発生させるSAW発生手段及び前記表面弾性波を受信するSAW受信手段を備えている請求項1~4のいずれかに記載の素子。 5. The element according to claim 1, wherein the interdigital transducer comprises a SAW generating means for generating the surface acoustic waves and a SAW receiving means for receiving the surface acoustic waves. 前記圧電体が、金属膜上に成膜されてなる請求項1~のいずれかに記載の素子。 5. The element according to claim 1, wherein the piezoelectric body is formed on a metal film. 前記圧電体と前記金属膜とがそれぞれ(100)方向に配向している請求項6に記載の素子。 7. The element according to claim 6 , wherein the piezoelectric body and the metal film are oriented in the (100) direction. 前記金属膜が2種以上の金属層からなる請求項に記載の素子。 7. The element according to claim 6 , wherein the metal film comprises two or more metal layers. 前記金属膜が熱処理又は加工によりマルテンサイト変態する金属を含み、前記圧電体と前記金属膜とがそれぞれ略同一の結晶軸方向に配向している請求項に記載の素子。 7. The element according to claim 6 , wherein the metal film contains a metal that undergoes martensitic transformation upon heat treatment or processing, and the piezoelectric body and the metal film are oriented in substantially the same crystal axis direction. 前記金属膜が、Feを含む請求項9に記載の素子。 The device of claim 9 , wherein the metal film comprises Fe. 前記金属膜が、Crを含む請求項に記載の素子。 The device of claim 9 , wherein the metal film comprises Cr. 前記圧電体が単結晶膜からなる請求項1~のいずれかに記載の素子。 5. The element according to claim 1, wherein the piezoelectric body is made of a single crystal film. 素子を含む電子デバイス、電子機器又はシステムであって、前記素子が請求項1~のいずれかに記載の素子である電子デバイス、電子機器又はシステム。 An electronic device, an electronic equipment or a system including an element, wherein the element is the element according to any one of claims 1 to 4 .
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