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JP7826212B2 - Release film - Google Patents
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JP7826212B2 - Release film - Google Patents

Release film

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JP7826212B2
JP7826212B2 JP2022546992A JP2022546992A JP7826212B2 JP 7826212 B2 JP7826212 B2 JP 7826212B2 JP 2022546992 A JP2022546992 A JP 2022546992A JP 2022546992 A JP2022546992 A JP 2022546992A JP 7826212 B2 JP7826212 B2 JP 7826212B2
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Description

本発明は、離型フィルムに関する。 The present invention relates to a release film.

プリント配線基板、フレキシブル回路基板、多層プリント配線板等の製造工程において離型フィルムが使用されている。
フレキシブル回路基板の製造工程においては、銅回路を形成したフレキシブル回路基板本体に、熱硬化型接着剤又は熱硬化型接着シートを介してカバーレイフィルムが熱プレス接着される。このとき、カバーレイフィルムと熱プレス板との間に離型フィルムを配置することで、カバーレイフィルムと熱プレス板とが接着するのを防止することができ、また、接着剤が染み出して電極部のめっき処理の障害となる等の不具合を防止することができる。
BACKGROUND ART Release films are used in the manufacturing processes of printed wiring boards, flexible circuit boards, multilayer printed wiring boards, and the like.
In the manufacturing process of a flexible circuit board, a coverlay film is heat-press bonded to a flexible circuit board body having a copper circuit formed thereon via a thermosetting adhesive or a thermosetting adhesive sheet. At this time, by placing a release film between the coverlay film and the heat-press plate, it is possible to prevent the coverlay film and the heat-press plate from adhering to each other and also to prevent problems such as adhesive seeping out and interfering with the plating process of the electrode parts.

離型フィルムには、熱プレス接着後に容易に剥離する離型性が求められる。離型性の向上のために、例えば、離型フィルムの結晶化度を調整することが行われている。特許文献1には、少なくとも一方の面に、ポリエステル樹脂を含む離型層を有し、離型層の結晶化度が10%以上50%以下である離型フィルムが記載されている。Release films are required to have releasability that allows them to be easily peeled off after heat press bonding. To improve releasability, for example, the crystallinity of the release film is adjusted. Patent Document 1 describes a release film that has a release layer containing a polyester resin on at least one side, and the crystallinity of the release layer is 10% or more and 50% or less.

特開2016-2730号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2016-2730

近年、フレキシブル回路基板の薄膜化に伴い、離型フィルムには離型性の更なる向上が求められている。また、近年では、フレキシブル回路基板のL/S(ライン/スペース)の細線化にも対応して離型性、凹凸への追従性(埋め込み性)等の性能を確保できるよう、離型層とクッション層とを含む多層からなる離型フィルムも使用されている。
凹凸への追従性を向上させる観点からは、離型フィルム(特にクッション層)をより軟化させることが考えられる。しかしながら、離型フィルム(特にクッション層)を軟化させると弾性率が低下して離型性が悪くなることから、離型性と凹凸への追従性とをいずれも向上させることは困難である。また、クッション層を軟化させすぎると、熱プレス接着時にクッション層を構成する樹脂の染み出しが生じる問題もある。
In recent years, with the trend toward thinner flexible circuit boards, further improvement in the releasability of release films has been required. In addition, in order to ensure performance such as releasability and ability to conform to irregularities (embedding ability) while also dealing with the trend toward thinner L/S (lines/spaces) of flexible circuit boards, release films made of multiple layers including a release layer and a cushion layer have also been used.
From the viewpoint of improving conformability to irregularities, it is conceivable to further soften the release film (particularly the cushion layer). However, softening the release film (particularly the cushion layer) reduces the elastic modulus and deteriorates the release properties, making it difficult to improve both the release properties and the conformability to irregularities. In addition, if the cushion layer is softened too much, there is also the problem of the resin constituting the cushion layer bleeding out during hot press bonding.

本発明は、離型性にも凹凸への追従性にも優れ、樹脂の染み出しが生じにくい離型フィルムを提供することを目的とする。 The object of the present invention is to provide a release film that has excellent releasability and ability to conform to uneven surfaces, and is less likely to cause resin bleeding.

本発明は、パルスNMRにてCPMG法で測定した180℃でのソフト成分の緩和時間(T)が220ミリ秒以上、330ミリ秒以下であり、かつ、下記温度条件に晒した後、パルスNMRにてSolid Echo法で測定した30℃でのソフト成分比が0.1%以上、15%以下である離型フィルムである。
[温度条件]
昇温速度10℃/分で30℃から180℃まで昇温、その後、降温速度10℃/分で180℃から30℃まで降温
以下に本発明を詳述する。
The present invention provides a release film in which the relaxation time ( T2 ) of the soft component at 180°C measured by the CPMG method in pulse NMR is 220 milliseconds or more and 330 milliseconds or less, and the soft component ratio at 30°C measured by the Solid Echo method in pulse NMR after exposure to the following temperature conditions is 0.1% or more and 15% or less.
[Temperature conditions]
The temperature was raised from 30° C. to 180° C. at a rate of 10° C./min, and then lowered from 180° C. to 30° C. at a rate of 10° C./min. The present invention will now be described in detail.

熱プレス接着は、通常、160~180℃程度の高温で行われ、その後、常温に戻した後で離型フィルムが剥離される。離型性と凹凸への追従性とをいずれも向上させるためには、熱プレス接着時の高温では軟化する一方で、常温に戻して剥離する際には硬くなり、適度な弾性率を有する離型フィルムとする必要がある。このような挙動を示す離型フィルムを得るために、本発明者らは、H核を測定するパルスNMRを用いて離型フィルムの解析を行った。パルスNMRでは、得られたデータを結晶性の高いハード成分、結晶性の低いソフト成分等の複数の成分に分割し、それぞれの成分について「緩和時間」を測定することで、分子運動性を評価することができる。具体的には、得られたH核のスピン-スピン緩和の自由誘導減衰曲線を複数の成分に波形分離することで、各成分の緩和時間を得る。なお、スピン-スピン緩和時間は横緩和時間ともいい、一般にTと表現される。一方、スピン-格子緩和時間は縦緩和時間ともいい、一般にTと表現される。
本発明者らは、離型フィルム中の結晶性の低いソフト成分に着目し、パルスNMRにてCPMG法で測定した180℃でのソフト成分の緩和時間(T)と、特定の温度条件に晒した後、パルスNMRにてSolid Echo法で測定した30℃でのソフト成分比とを特定範囲に調整することを検討した。本発明者らは、このような離型フィルムであれば、熱プレス接着時の高温では軟化する一方で、常温に戻して剥離する際には硬くなり、適度な弾性率を有することから、優れた離型性と凹凸への追従性とを発揮できるとともに樹脂の染み出しも生じにくいことを見出し、本発明を完成させるに至った。
Heat press bonding is typically performed at a high temperature of approximately 160 to 180°C, and the release film is then peeled off after returning to room temperature. To improve both releasability and conformability to irregularities, a release film must soften at the high temperature during heat press bonding, but harden when returned to room temperature for peeling, and have an appropriate elastic modulus. To obtain a release film exhibiting such behavior, the inventors analyzed the release film using pulsed NMR, which measures 1H nuclei. Pulse NMR allows the molecular mobility to be evaluated by dividing the obtained data into multiple components, such as hard components with high crystallinity and soft components with low crystallinity, and measuring the "relaxation time" for each component. Specifically, the relaxation time for each component is obtained by waveform-separating the obtained free induction decay curve of the spin-spin relaxation of 1H nuclei into multiple components. The spin-spin relaxation time is also called the transverse relaxation time and is generally expressed as T2 . The spin-lattice relaxation time is also called the longitudinal relaxation time and is generally expressed as T1 .
The present inventors focused on the soft component with low crystallinity in the release film and investigated adjusting, within specific ranges, the relaxation time ( T2 ) of the soft component at 180°C measured by the CPMG method using pulse NMR and the soft component ratio at 30°C measured by the Solid Echo method using pulse NMR after exposure to specific temperature conditions. The present inventors discovered that such a release film softens at high temperatures during hot press bonding, but hardens when returned to room temperature and peeled, and has an appropriate elastic modulus, thereby demonstrating excellent releasability and ability to conform to irregularities and preventing resin exudation, which led to the completion of the present invention.

本発明の離型フィルムは、パルスNMRにてCPMG法で測定した180℃でのソフト成分の緩和時間(T)の下限が220ミリ秒、上限が330ミリ秒である。 The release film of the present invention has a relaxation time (T 2 ) of the soft component at 180° C. measured by the CPMG method in pulse NMR, with a lower limit of 220 milliseconds and an upper limit of 330 milliseconds.

ここで、「ソフト成分」とは、パルスNMRにより得られたデータを、結晶性の高い成分、結晶性の低い成分、及び、これらの中間の性質を有する成分に分割したときの、結晶性の低い成分である。なお、結晶性の高い成分を「ハード成分」、中間の性質を有する成分を「ミドル成分」とする。
「ハード成分」は、分子内結合又は分子間結合を含む部分(例えば、結晶構造、架橋構造等)に相当し、「ソフト成分」は、非晶部分に相当し、「ミドル成分」は、比較的分子運動が可能な部分(例えば、結晶の折り畳み部分等)に相当する。
なお、各成分への分割は、パルスNMRにより得られたデータ(自由誘導減衰曲線)を最小二乗法で解析し、磁化強度がすぐに減衰する分子運動性の低い「ハード成分」、磁化強度の減衰に時間がかかる分子運動性の高い「ソフト成分」、及び、これらの中間の性質を有する「ミドル成分」に3分割することにより行う。
Here, the "soft component" refers to the low-crystalline component when the data obtained by pulsed NMR is divided into a high-crystalline component, a low-crystalline component, and a component with intermediate properties. The high-crystalline component is called the "hard component," and the component with intermediate properties is called the "middle component."
The "hard components" correspond to the parts containing intramolecular or intermolecular bonds (e.g., crystalline structures, cross-linked structures, etc.), the "soft components" correspond to the amorphous parts, and the "middle components" correspond to the parts where molecular movement is relatively possible (e.g., folded parts of crystals, etc.).
The division into components is carried out by analyzing the data (free induction decay curve) obtained by pulse NMR using the least squares method and dividing it into three parts: "hard components" with low molecular mobility, whose magnetization intensity decays quickly; "soft components" with high molecular mobility, whose magnetization intensity decays slowly; and "middle components" with properties intermediate between these two.

「緩和時間」は、磁場をかけた後、電子スピンが励起状態から基底状態に戻るまでの時間である。「緩和時間」が長いほど、分子運動性が高いことを意味する。
上記180℃でのソフト成分の緩和時間(T)が220ミリ秒以上であれば、熱プレス接着時の高温でのソフト成分の分子運動性が高くなることから、離型フィルムが充分に軟化し、優れた凹凸への追従性を発揮することができる。上記180℃でのソフト成分の緩和時間(T)が330ミリ秒以下であれば、ソフト成分の分子運動性が高くなりすぎて樹脂の染み出しが生じることを抑制することができる。上記180℃でのソフト成分の緩和時間(T)の好ましい下限は250ミリ秒、好ましい上限は310ミリ秒であり、より好ましい下限は270ミリ秒、より好ましい上限は290ミリ秒である。
上記180℃でのソフト成分の緩和時間(T)は、例えば、the minispec mq20(BRUKER社製)等のパルスNMR及び解析ソフトウエア(例えば、TD-NMRA、BRUKER社製等)を用い、離型フィルムを測定サンプルとして、昇温速度10℃/分で30℃から180℃まで昇温し、180℃で10分間維持した後でCPMG法にて測定することができる。
The "relaxation time" is the time it takes for the electron spin to return from an excited state to the ground state after a magnetic field is applied. The longer the "relaxation time," the higher the molecular mobility.
If the relaxation time ( T2 ) of the soft component at 180°C is 220 milliseconds or more, the molecular mobility of the soft component at high temperatures during hot press bonding is high, so the release film is sufficiently softened and can exhibit excellent conformability to unevenness. If the relaxation time ( T2 ) of the soft component at 180°C is 330 milliseconds or less, the molecular mobility of the soft component is too high, which can prevent resin from bleeding out. The preferred lower limit of the relaxation time ( T2 ) of the soft component at 180°C is 250 milliseconds, the preferred upper limit is 310 milliseconds, the more preferred lower limit is 270 milliseconds, and the more preferred upper limit is 290 milliseconds.
The relaxation time (T 2 ) of the soft component at 180°C can be measured by, for example, using a pulse NMR such as the minispec mq20 (manufactured by BRUKER) and analysis software (for example, TD-NMR, manufactured by BRUKER), using a release film as a measurement sample, raising the temperature from 30°C to 180°C at a heating rate of 10°C/min, maintaining it at 180°C for 10 minutes, and then measuring it by the CPMG method.

本発明の離型フィルムは、下記温度条件に晒した後、パルスNMRにてSolid Echo法で測定した30℃でのソフト成分比の下限が0.1%、上限が15%である。
[温度条件]
昇温速度10℃/分で30℃から180℃まで昇温、その後、降温速度10℃/分で180℃から30℃まで降温
The release film of the present invention has a soft component ratio at 30° C. measured by the solid echo method using pulse NMR after exposure to the following temperature conditions, with the lower limit being 0.1% and the upper limit being 15%.
[Temperature conditions]
The temperature was increased from 30°C to 180°C at a rate of 10°C/min, and then decreased from 180°C to 30°C at a rate of 10°C/min.

上記温度条件は、熱プレス接着が、通常、160~180℃程度の高温で行われ、その後、常温に戻した後で離型フィルムが剥離される一連の工程を想定して設定した温度条件である。上記30℃でのソフト成分比が上記範囲内であれば、熱プレス接着時の高温に一旦加熱した後で常温に戻した際の離型フィルムの結晶化度が充分に高くなることから、離型フィルムが適度な弾性率を有し、優れた離型性を発揮することができる。上記30℃でのソフト成分比の好ましい下限は1%、好ましい上限は10%であり、より好ましい下限は3%、より好ましい上限は5%である。
上記30℃でのソフト成分比は、例えば、the minispec mq20(BRUKER社製)等のパルスNMR及び解析ソフトウエア(例えば、TD-NMRA、BRUKER社製等)を用いて測定することができる。より詳細には、離型フィルムを測定サンプルとして、昇温速度10℃/分で30℃から180℃まで昇温し、180℃で10分間維持し、その後、降温速度10℃/分で180℃から30℃まで降温し、30℃で10分間維持した後でSolid Echo法にて測定することができる。なお、上記30℃でのソフト成分比の測定は、上記180℃でのソフト成分の緩和時間(T)の測定後に続けて行ってもよい。
なお、上述のCPMG法及びSolid Echo法とは、いずれもパルスNMRにおける電磁波パルスの照射条件の一種である。一般的に緩和時間の長短によって測定方法が選択され、緩和時間の短い成分に着目して測定したい場合にはSolid Echo法が、緩和時間の長い成分を含めて測定したい場合にはCPMG法が適用される。
The above temperature conditions are set assuming a series of steps in which heat press bonding is typically performed at a high temperature of about 160 to 180°C, followed by returning to room temperature and then peeling off the release film. If the soft component ratio at 30°C is within the above range, the crystallinity of the release film will be sufficiently high when it is returned to room temperature after being heated to the high temperature used for heat press bonding, and therefore the release film will have a moderate elastic modulus and can exhibit excellent releasability. The preferred lower limit of the soft component ratio at 30°C is 1%, the preferred upper limit is 10%, the more preferred lower limit is 3%, and the more preferred upper limit is 5%.
The soft component ratio at 30°C can be measured using, for example, a pulse NMR such as the minispec mq20 (manufactured by BRUKER) and analysis software (for example, TD-NMR, manufactured by BRUKER). More specifically, using a release film as a measurement sample, the temperature is increased from 30°C to 180°C at a temperature increase rate of 10°C/min, maintained at 180°C for 10 minutes, and then decreased from 180°C to 30°C at a temperature decrease rate of 10°C/min, and maintained at 30°C for 10 minutes, after which measurement can be performed by a solid echo method. The measurement of the soft component ratio at 30°C may be performed immediately after the measurement of the relaxation time ( T2 ) of the soft component at 180°C.
The CPMG method and the solid echo method are both types of electromagnetic pulse irradiation conditions in pulsed NMR. Generally, the measurement method is selected depending on the length of the relaxation time. The solid echo method is used when it is desired to measure components with short relaxation times, and the CPMG method is used when it is desired to measure components with long relaxation times as well.

上記180℃でのソフト成分の緩和時間(T)を上記範囲に調整する方法は特に限定されないが、離型フィルムを構成する樹脂として、180℃において分子間の相互作用がより小さく、分子運動性がより高い樹脂を使用する方法が好ましい。より具体的には、後述するようにクッション層を構成する樹脂として、直鎖構造を有するポリオレフィン樹脂を使用する方法が挙げられる。更に、クッション層を構成する樹脂として、例えば、分子量の小さい樹脂、非極性高分子、不飽和結合を有さない樹脂等を使用する方法も挙げられる。
上記30℃でのソフト成分比を上記範囲に調整する方法は特に限定されないが、熱プレス接着時の高温に一旦加熱した後で常温に戻す際の結晶化を促進する方法が好ましい。より具体的には、後述するようにクッション層に結晶核剤を添加する方法が挙げられる。更に、冷却条件を調整する方法、クッション層を構成する樹脂の立体規則性を制御する方法、クッション層に結晶化度の高い樹脂と結晶化度の低い樹脂とを組み合わせて配合する方法等も挙げられる。
The method for adjusting the relaxation time ( T2 ) of the soft component at 180°C to the above range is not particularly limited, but a method using a resin that has smaller intermolecular interactions and higher molecular mobility at 180°C as the resin constituting the release film is preferred. More specifically, as will be described later, a method using a polyolefin resin having a linear structure as the resin constituting the cushion layer can be mentioned. Furthermore, a method using, for example, a resin with a small molecular weight, a non-polar polymer, a resin without unsaturated bonds, etc. as the resin constituting the cushion layer can also be mentioned.
The method for adjusting the soft component ratio at 30°C to fall within the above range is not particularly limited, but a method that promotes crystallization when the resin is returned to room temperature after being heated to a high temperature during hot press bonding is preferred. More specifically, a method of adding a crystal nucleating agent to the cushion layer, as described below, can be mentioned. Further examples include a method of adjusting cooling conditions, a method of controlling the stereoregularity of the resin constituting the cushion layer, and a method of blending a resin with a high degree of crystallinity and a resin with a low degree of crystallinity in combination into the cushion layer.

本発明の離型フィルムの構造は特に限定されず、単層構造であっても多層構造であってもよいが、離型層とクッション層とを有することが好ましい。更に、クッション層の両側に離型層を有することがより好ましい。
上記離型層は、離型フィルムに優れた離型性を発揮させる役割を果たす。また、上記クッション層を有することにより、離型フィルムの凹凸への追従性が向上する。上記離型層と上記クッション層とを有し、上記クッション層の両側に上記離型層を有する離型フィルムとすることで、上記180℃でのソフト成分の緩和時間(T)と上記30℃でのソフト成分比とを上記範囲に調整することが容易となり、離型フィルムがより優れた離型性と凹凸への追従性とを発揮することができる。
なお、両側の離型層は同じ樹脂組成であってもよいし、異なる樹脂組成であってもよい。また、両側の離型層は同じ厚みであってもよいし、異なる厚みであってもよい。また、離型層とクッション層とは直接接して一体化している構造であってもよいし、接着層を介して一体化している構造であってもよい。
The structure of the release film of the present invention is not particularly limited and may be a single-layer structure or a multi-layer structure, but it preferably has a release layer and a cushion layer. Furthermore, it is more preferable to have a release layer on both sides of the cushion layer.
The release layer plays a role in providing the release film with excellent releasability. Furthermore, the cushion layer improves the ability of the release film to conform to irregularities. By providing a release film with the release layer and the cushion layer, and with the release layer on both sides of the cushion layer, it becomes easy to adjust the relaxation time ( T2 ) of the soft component at 180°C and the soft component ratio at 30°C within the above ranges, allowing the release film to exhibit even better releasability and conformability to irregularities.
The release layers on both sides may have the same resin composition or different resin compositions. The release layers on both sides may have the same thickness or different thicknesses. The release layer and the cushion layer may be in direct contact with each other and integrated, or may be integrated via an adhesive layer.

上記離型層を構成する樹脂は特に限定されないが、離型フィルムの離型性が向上することから、ポリエステル、ポリオレフィン及びポリスチレンからなる群より選択される少なくとも1種の樹脂であることが好ましい。
上記ポリエステルは、芳香族ポリエステル樹脂を含有することが好ましい。上記ポリオレフィンは、ポリ(4-メチル-1-ペンテン)又は脂環式オレフィン系樹脂を含有することが好ましい。上記ポリスチレンは、シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系樹脂を含有することが好ましい。なかでも、凹凸への追従性に優れ、カバーレイフィルムに形成された接着剤の染み出し防止性に優れることから、上記離型層は、芳香族ポリエステル樹脂を含有することがより好ましい。
なお、ここに例示したような樹脂を用いる場合、離型層は比較的硬いものとなるため、離型層単体(単層)では、30℃でのソフト成分はほとんど含まないと考えられる。
The resin constituting the release layer is not particularly limited, but is preferably at least one resin selected from the group consisting of polyester, polyolefin, and polystyrene, as this improves the releasability of the release film.
The polyester preferably contains an aromatic polyester resin. The polyolefin preferably contains poly(4-methyl-1-pentene) or an alicyclic olefin resin. The polystyrene preferably contains a polystyrene resin having a syndiotactic structure. In particular, the release layer more preferably contains an aromatic polyester resin, as this provides excellent conformability to irregularities and excellent resistance to bleeding of the adhesive formed on the coverlay film.
When the resins exemplified here are used, the release layer becomes relatively hard, and therefore the release layer alone (single layer) is thought to contain almost no soft component at 30°C.

上記芳香族ポリエステル樹脂は特に限定されないが、結晶性芳香族ポリエステル樹脂が好ましい。具体的には例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリヘキサメチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリブチレンナフタレート樹脂、テレフタル酸ブタンジオールポリテトラメチレングリコール共重合体等が挙げられる。これらの芳香族ポリエステル樹脂は単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。なかでも、耐熱性、離型性、凹凸への追従性等のバランスの観点から、ポリブチレンテレフタレート樹脂が好ましい。
また、ポリブチレンテレフタレート樹脂に、ポリブチレンテレフタレートと脂肪族ポリエーテルとのブロック共重合体を混合した混合樹脂も好ましい。上記脂肪族ポリエーテルは特に限定されず、例えば、ポリエチレングリコール、ポリジエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。
The aromatic polyester resin is not particularly limited, but a crystalline aromatic polyester resin is preferred.Specific examples include polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polyhexamethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, polybutylene naphthalate resin, and butanediol terephthalate polytetramethylene glycol copolymer.These aromatic polyester resins may be used alone or in combination of two or more.Among them, polybutylene terephthalate resin is preferred from the viewpoint of a balance of heat resistance, releasability, conformability to uneven surfaces, etc.
Also preferred is a mixed resin obtained by mixing a polybutylene terephthalate resin with a block copolymer of polybutylene terephthalate and an aliphatic polyether. The aliphatic polyether is not particularly limited, and examples thereof include polyethylene glycol, polydiethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol.

上記芳香族ポリエステル樹脂は、フィルム製膜性の観点から、メルトボリュームフローレートが30cm/10min以下であることが好ましく、20cm/10min以下であることがより好ましい。なお、メルトボリュームフローレートは、ISO1133に従って、測定温度250℃、荷重2.16kgで測定することができる。 From the viewpoint of film formability, the aromatic polyester resin preferably has a melt volume flow rate of 30 cm 3 /10 min or less, more preferably 20 cm 3 /10 min or less. The melt volume flow rate can be measured in accordance with ISO 1133 at a temperature of 250°C and a load of 2.16 kg.

上記芳香族ポリエステル樹脂のうち、市販されているものとして、例えば、「ペルプレン(登録商標)」(東洋紡社製)、「ハイトレル(登録商標)」(東レ・デュポン社製)、「ジュラネックス(登録商標)」(ポリプラスチックス社製)、「ノバデュラン(登録商標)」(三菱エンジニアリングプラスチックス社製)等が挙げられる。 Commercially available examples of the above aromatic polyester resins include "Pelprene (registered trademark)" (manufactured by Toyobo Co., Ltd.), "Hytrel (registered trademark)" (manufactured by DuPont-Toray Co., Ltd.), "Duranex (registered trademark)" (manufactured by Polyplastics Co., Ltd.), and "NovaDuran (registered trademark)" (manufactured by Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation).

上記ポリ(4-メチル-1-ペンテン)を含有するポリオレフィンには、ポリ(4-メチル-1-ペンテン)樹脂が90重量%以上含有されていることが好ましい。
上記ポリ(4-メチル-1-ペンテン)樹脂は、例えば、三井化学社製の商品名TPX(登録商標)等の市販品を用いることができる。
The polyolefin containing poly(4-methyl-1-pentene) preferably contains 90% by weight or more of poly(4-methyl-1-pentene) resin.
As the poly(4-methyl-1-pentene) resin, for example, a commercially available product such as TPX (registered trademark) manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. can be used.

上記脂環式オレフィン系樹脂とは、主鎖又は側鎖に環状脂肪族炭化水素を有するオレフィン系樹脂であり、耐熱性、強度等の点から、熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂が好ましい。
上記熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂として、例えば、ノルボルネン系モノマーの開環重合体又は開環共重合体を、(必要に応じてマレイン酸付加やシクロペンタジエン付加のような変性を行った後に)水素添加した樹脂が挙げられる。また、ノルボルネン系モノマーを付加重合させた樹脂、ノルボルネン系モノマーとエチレン又はα-オレフィン等のオレフィン系モノマーとを付加重合させた樹脂、ノルボルネン系モノマーとシクロペンテン、シクロオクテン、5,6-ジヒドロジシクロペンタジエン等の環状オレフィン系モノマーとを付加重合させた樹脂が挙げられる。更に、これらの樹脂の変性物等も挙げられる。
The alicyclic olefin resin is an olefin resin having a cyclic aliphatic hydrocarbon in the main chain or side chain, and from the viewpoints of heat resistance, strength, etc., thermoplastic saturated norbornene resin is preferred.
Examples of the thermoplastic saturated norbornene resin include resins obtained by hydrogenating a ring-opening polymer or ring-opening copolymer of a norbornene monomer (after, if necessary, modification such as maleic acid addition or cyclopentadiene addition). Other examples include resins obtained by addition polymerization of a norbornene monomer, resins obtained by addition polymerization of a norbornene monomer and an olefinic monomer such as ethylene or an α-olefin, and resins obtained by addition polymerization of a norbornene monomer and a cyclic olefinic monomer such as cyclopentene, cyclooctene, or 5,6-dihydrodicyclopentadiene. Modified versions of these resins are also included.

上記シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系樹脂を含有するポリスチレンには、シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系樹脂が70重量%以上、90重量%以下含有されていることが好ましい。
なお、シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系樹脂とは、シンジオタクチック構造、即ち、炭素-炭素シグマ結合から形成される主鎖に対して側鎖であるフェニル基や置換フェニル基が交互に反対方向に位置する立体規則構造を有する樹脂である。
The polystyrene containing the polystyrene resin having a syndiotactic structure preferably contains 70% by weight or more and 90% by weight or less of the polystyrene resin having a syndiotactic structure.
The polystyrene resin having a syndiotactic structure is a resin having a stereoregular structure in which phenyl groups and substituted phenyl groups, which are side chains, are alternately positioned in opposite directions relative to the main chain formed from carbon-carbon sigma bonds.

上記シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系樹脂は、特に限定されない。例えば、ラセミダイアッドで75%以上、又は、ラセミペンタッドで30%以上のシンジオタクティシティーを有するポリスチレン、ポリ(アルキルスチレン)、ポリ(アリールスチレン)、ポリ(ハロゲン化スチレン)、ポリ(ハロゲン化アルキルスチレン)、ポリ(アルコキシスチレン)、ポリ(ビニル安息香酸エステル)等が挙げられる。また、これらの水素化重合体及びこれらの混合物、これらを主成分とする共重合体等が挙げられる。上記シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系樹脂は、例えば、出光興産社製の商品名ザレック(登録商標)(XAREC(登録商標))等の市販を用いることができる。The polystyrene resin having the syndiotactic structure is not particularly limited. Examples include polystyrene, poly(alkylstyrene), poly(arylstyrene), poly(halogenated styrene), poly(halogenated alkylstyrene), poly(alkoxystyrene), and poly(vinyl benzoate ester), each having a syndiotacticity of 75% or more in racemic diads or 30% or more in racemic pentads. Other examples include hydrogenated polymers of these, mixtures of these, and copolymers containing these as the main component. Examples of the polystyrene resin having the syndiotactic structure include commercially available products such as XAREC (registered trademark) manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.

上記離型層は、ゴム成分を含有してもよい。上記離型層がゴム成分を含有することにより、離型フィルムの凹凸への追従性が向上する。
上記ゴム成分は特に限定されず、例えば、天然ゴム、スチレン-ブタジエン共重合体、ポリブタジエン、ポリイソプレン、アクリルニトリル-ブタジエン共重合体、エチレン-プロピレン共重合体(EPM、EPDM)、ポリクロロプレン、ブチルゴム、アクリルゴム、シリコンゴム、ウレタンゴム等が挙げられる。また、上記ゴム成分として、例えば、オレフィン系熱可塑性エラストマー、スチレン系熱可塑性エラストマー、塩ビ系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
The release layer may contain a rubber component, which improves the ability of the release layer to conform to the irregularities of the release film.
The rubber component is not particularly limited, and examples thereof include natural rubber, styrene-butadiene copolymer, polybutadiene, polyisoprene, acrylonitrile-butadiene copolymer, ethylene-propylene copolymer (EPM, EPDM), polychloroprene, butyl rubber, acrylic rubber, silicone rubber, urethane rubber, etc. Further, examples of the rubber component include olefin-based thermoplastic elastomer, styrene-based thermoplastic elastomer, vinyl chloride-based thermoplastic elastomer, ester-based thermoplastic elastomer, amide-based thermoplastic elastomer, etc.

上記離型層は、安定剤を含有してもよい。
上記安定剤は特に限定されず、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、熱安定剤等が挙げられる。
上記ヒンダードフェノール系酸化防止剤は特に限定されず、例えば、1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)ベンゼン、3,9-ビス{2-〔3-(3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)-プロピオニロキシ〕-1,1-ジメチルエチル}-2,4,8,10-テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン等が挙げられる。上記熱安定剤は特に限定されず、例えば、トリス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)ホスファイト、トリラウリルホスファイト、2-t-ブチル-α-(3-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)-p-クメニルビス(p-ノニルフェニル)ホスファイト、ジミリスチル3,3’-チオジプロピオネート、ジステアリル3,3’-チオジプロピオネート、ペンタエリスチリルテトラキス(3-ラウリルチオプロピオネート)、ジトリデシル3,3’-チオジプロピオネート等が挙げられる。
The release layer may contain a stabilizer.
The stabilizer is not particularly limited, and examples thereof include hindered phenol-based antioxidants and heat stabilizers.
The hindered phenol-based antioxidant is not particularly limited, and examples thereof include 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris(3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)benzene and 3,9-bis{2-[3-(3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)-propionyloxy]-1,1-dimethylethyl}-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5,5]undecane. The heat stabilizer is not particularly limited, and examples thereof include tris(2,4-di-t-butylphenyl)phosphite, trilauryl phosphite, 2-t-butyl-α-(3-t-butyl-4-hydroxyphenyl)-p-cumenylbis(p-nonylphenyl)phosphite, dimyristyl 3,3′-thiodipropionate, distearyl 3,3′-thiodipropionate, pentaerythryl tetrakis(3-laurylthiopropionate), and ditridecyl 3,3′-thiodipropionate.

上記離型層は、更に、繊維、無機充填剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無機物、高級脂肪酸塩等の従来公知の添加剤を含有してもよい。 The release layer may further contain conventional additives such as fibers, inorganic fillers, flame retardants, ultraviolet absorbers, antistatic agents, inorganic substances, and salts of higher fatty acids.

上記離型層の厚みは特に限定されないが、相対的に上記離型層の厚みを薄く、上記クッション層の厚みを厚くすることで、離型フィルム全体に対する上記クッション層の寄与を増大させ、ソフト成分比を増大させることができる。これにより、離型フィルムがより優れた凹凸への追従性を発揮することができる。上記離型層の厚みの好ましい下限は10μm、好ましい上限は40μmである。上記離型層の厚みが10μm以上であれば、離型フィルムの耐熱性が向上する。上記離型層の厚みが40μm以下であれば、離型フィルムの凹凸への追従性が向上する。上記離型層の厚みのより好ましい下限は15μm、より好ましい上限は30μmである。 The thickness of the release layer is not particularly limited, but by making the thickness of the release layer relatively thin and the thickness of the cushion layer relatively thick, the contribution of the cushion layer to the entire release film can be increased, and the soft component ratio can be increased. This allows the release film to exhibit better conformability to uneven surfaces. The preferred lower limit of the thickness of the release layer is 10 μm, and the preferred upper limit is 40 μm. If the thickness of the release layer is 10 μm or more, the heat resistance of the release film is improved. If the thickness of the release layer is 40 μm or less, the conformability of the release film to uneven surfaces is improved. The more preferred lower limit of the thickness of the release layer is 15 μm, and the more preferred upper limit is 30 μm.

上記クッション層を構成する樹脂は特に限定されないが、ポリオレフィン樹脂が好ましい。
上記ポリオレフィン樹脂は特に限定されず、例えば、ポリエチレン樹脂(例えば、高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン)、ポリプロピレン樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。また、エチレン-メチルメタクリレート共重合体、エチレン-エチルアクリレート共重合体、エチレン-アクリル酸共重合体等のエチレン-アクリル系モノマー共重合体等も挙げられる。これらのポリオレフィン樹脂は単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。なかでも、より優れた離型性と凹凸への追従性とを発揮できる離型フィルムが得られることから、ポリエチレン樹脂が好ましい。
The resin constituting the cushion layer is not particularly limited, but polyolefin resin is preferred.
The polyolefin resin is not particularly limited, and examples thereof include polyethylene resins (e.g., high-density polyethylene, low-density polyethylene, linear low-density polyethylene), polypropylene resins, ethylene-vinyl acetate copolymers, etc. Further examples include ethylene-acrylic monomer copolymers such as ethylene-methyl methacrylate copolymers, ethylene-ethyl acrylate copolymers, and ethylene-acrylic acid copolymers. These polyolefin resins may be used alone or in combination of two or more. Among these, polyethylene resins are preferred because they can provide a release film that exhibits superior releasability and ability to conform to uneven surfaces.

上記ポリオレフィン樹脂は、直鎖構造を有するポリオレフィン樹脂を含有することが好ましい。
具体的には例えば、上記ポリオレフィン樹脂が上記ポリエチレン樹脂を含有する場合、従来からクッション層によく用いられている分岐の多い低密度ポリエチレン(LDPE)に加えて、直鎖構造の高密度ポリエチレン(HDPE)を適切な配合量で使用することが好ましい。これにより、上記180℃でのソフト成分の緩和時間(T)を上記範囲に調整することが容易となり、離型フィルムがより優れた凹凸への追従性を発揮することができる。これは、分岐の多い低密度ポリエチレン(LDPE)に比べて、直鎖構造の高密度ポリエチレン(HDPE)は、融点以上の温度での分子間の相互作用が小さく、分子運動性が高いためである。
また、直鎖構造の高密度ポリエチレン(HDPE)は、融点以下の温度に冷却して常温に戻した際には結晶構造をとりやすく、結晶化度を高めることができる。このため、高密度ポリエチレン(HDPE)を使用することで、上記30℃でのソフト成分比を上記範囲に調整することも容易となり、離型フィルムがより優れた離型性を発揮することもできる。
The polyolefin resin preferably contains a polyolefin resin having a linear structure.
Specifically, for example, when the polyolefin resin contains the polyethylene resin, it is preferable to use an appropriate amount of linear high-density polyethylene (HDPE) in addition to the highly branched low-density polyethylene (LDPE) that has traditionally been used in cushion layers. This makes it easy to adjust the relaxation time ( T2 ) of the soft component at 180°C within the above range, allowing the release film to exhibit better conformability to uneven surfaces. This is because, compared to highly branched low-density polyethylene (LDPE), linear high-density polyethylene (HDPE) has weaker intermolecular interactions and higher molecular mobility at temperatures above its melting point.
Furthermore, high density polyethylene (HDPE) with a linear structure easily assumes a crystalline structure when cooled to a temperature below its melting point and then returned to room temperature, thereby increasing the degree of crystallinity. Therefore, by using high density polyethylene (HDPE), it becomes easy to adjust the soft component ratio at 30°C to fall within the above range, and the release film can also exhibit better releasability.

上記クッション層における上記直鎖構造を有するポリオレフィン樹脂の含有量は特に限定されないが、上記180℃でのソフト成分の緩和時間(T)と上記30℃でのソフト成分比とを上記範囲に調整する観点から、好ましい下限は5重量%、好ましい上限は25重量%である。上記直鎖構造を有するポリオレフィン樹脂の含有量が5重量%以上であると、離型フィルムがより優れた離型性と凹凸への追従性とを発揮しやすくなる。上記直鎖構造を有するポリオレフィン樹脂の含有量が25重量%以下であれば、ソフト成分の分子運動性が高くなりすぎて樹脂の染み出しが生じることをより抑制することができる。上記直鎖構造を有するポリオレフィン樹脂の含有量のより好ましい下限は10重量%、より好ましい上限は20重量%であり、更に好ましい下限は15重量%である。 The content of the polyolefin resin having a linear structure in the cushion layer is not particularly limited, but from the viewpoint of adjusting the relaxation time ( T2 ) of the soft component at 180°C and the soft component ratio at 30°C within the above ranges, a preferred lower limit is 5% by weight and a preferred upper limit is 25% by weight. When the content of the polyolefin resin having a linear structure is 5% by weight or more, the release film is more likely to exhibit excellent releasability and conformability to unevenness. When the content of the polyolefin resin having a linear structure is 25% by weight or less, the molecular mobility of the soft component is too high, which can further prevent the resin from bleeding out. A more preferred lower limit of the content of the polyolefin resin having a linear structure is 10% by weight, a more preferred upper limit is 20% by weight, and an even more preferred lower limit is 15% by weight.

上記クッション層における上記ポリオレフィン樹脂の含有量は特に限定されないが、好ましい下限が50重量%、好ましい上限が90重量%である。上記ポリオレフィン樹脂の含有量が50重量%以上であれば、上記クッション層の柔軟性が充分となり、離型フィルムの凹凸への追従性が向上する。上記ポリオレフィン樹脂の含有量が90重量%以下であれば、上記離型層と上記クッション層との密着性が向上する。上記ポリオレフィン樹脂の含有量のより好ましい下限は60重量%、更に好ましい下限は65重量%である。上記ポリオレフィン樹脂の含有量のより好ましい上限は80重量%、更に好ましい上限は75重量%である。 The content of the polyolefin resin in the cushion layer is not particularly limited, but a preferred lower limit is 50% by weight and a preferred upper limit is 90% by weight. If the content of the polyolefin resin is 50% by weight or more, the cushion layer will have sufficient flexibility and will have improved ability to conform to the irregularities of the release film. If the content of the polyolefin resin is 90% by weight or less, the adhesion between the release layer and the cushion layer will be improved. A more preferred lower limit of the polyolefin resin content is 60% by weight, and an even more preferred lower limit is 65% by weight. A more preferred upper limit of the polyolefin resin content is 80% by weight, and an even more preferred upper limit is 75% by weight.

上記クッション層は、上記離型層を構成する樹脂を含有していてもよい。上記クッション層が上記離型層を構成する樹脂を含有することにより、上記離型層と上記クッション層との密着性が向上する。上記クッション層は、上記離型層の主成分樹脂を含有することがより好ましい。ここで、上記離型層の主成分樹脂とは、上記離型層に含まれる樹脂の中で含有量が最も多い樹脂のことを意味する。 The cushion layer may contain the resin that constitutes the release layer. When the cushion layer contains the resin that constitutes the release layer, the adhesion between the release layer and the cushion layer is improved. It is more preferable that the cushion layer contains the main component resin of the release layer. Here, the main component resin of the release layer means the resin that is contained in the largest amount among the resins contained in the release layer.

上記クッション層における上記離型層を構成する樹脂の含有量は特に限定されないが、好ましい下限が10重量%、好ましい上限が50重量%である。上記離型層を構成する樹脂の含有量が10重量%以上であれば、上記離型層と上記クッション層との密着性が向上する。上記離型層を構成する樹脂の含有量が50重量%以下であれば、上記クッション層の柔軟性が充分となり、離型フィルムの凹凸への追従性が向上する。上記離型層を構成する樹脂の含有量のより好ましい下限は20重量%、更に好ましい下限は25重量%である。上記離型層を構成する樹脂の含有量のより好ましい上限は40重量%、更に好ましい上限は35重量%である。 The content of the resin constituting the release layer in the cushion layer is not particularly limited, but a preferred lower limit is 10% by weight and a preferred upper limit is 50% by weight. If the content of the resin constituting the release layer is 10% by weight or more, the adhesion between the release layer and the cushion layer is improved. If the content of the resin constituting the release layer is 50% by weight or less, the cushion layer will have sufficient flexibility and will have improved ability to conform to the unevenness of the release film. A more preferred lower limit for the content of the resin constituting the release layer is 20% by weight, and an even more preferred lower limit is 25% by weight. A more preferred upper limit for the content of the resin constituting the release layer is 40% by weight, and an even more preferred upper limit is 35% by weight.

上記クッション層は、更に、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエステル等の樹脂を含有してもよい。 The cushioning layer may further contain resins such as polystyrene, polyvinyl chloride, polyamide, polycarbonate, polysulfone, polyester, etc.

上記クッション層は、更に、結晶核剤を含有することが好ましい。
上記クッション層が上記結晶核剤を含有することで、熱プレス接着時の高温に一旦加熱した後で常温に戻す際の上記クッション層を構成する樹脂の結晶化が促進される。これにより、上記30℃でのソフト成分比を上記範囲に調整することが容易となり、離型フィルムがより優れた離型性を発揮することができる。
The cushion layer preferably further contains a crystal nucleating agent.
The inclusion of the crystal nucleating agent in the cushion layer promotes crystallization of the resin constituting the cushion layer when the temperature is returned to room temperature after being heated to a high temperature during hot press bonding, which makes it easy to adjust the soft component ratio at 30°C within the above range, and allows the release film to exhibit better releasability.

上記結晶核剤は、高分子化合物の結晶化を促進する化合物であれば特に限定されない。例えば、上記ポリプロピレン樹脂に対する結晶核剤として、リン酸エステル金属塩、カルボン酸金属塩系核剤、ピメリン酸金属塩、ロジン金属塩、ソルビトール系核剤、キナクリドン、シアニンブルー、タルク等が挙げられる。
上記カルボン酸金属塩系核剤として、例えば、安息香酸ナトリウム、アルミニウムジベンゾエート、カリウムベンゾエート等が挙げられる。上記ソルビトール系核剤として、例えば、ジベンジリデンソルビトール、ジ-アルキル-ベンジリデンソルビトール等が挙げられる。
また、上記ポリエチレン樹脂に対する結晶核剤として、シクロヘキサン-1,2-ジカルボン酸塩、アントラセン、フタル酸水素カリウム、安息香酸系化合物、超高分子量ポリエチレン、リン酸エステル金属塩、タルク、炭酸カルシウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素、硫酸バリウム、バーミキュライト、カーボンナノチューブ等が挙げられる。
The crystal nucleating agent is not particularly limited as long as it is a compound that promotes the crystallization of a polymer compound. Examples of crystal nucleating agents for polypropylene resin include metal phosphates, metal carboxylates, metal pimelic acids, metal rosins, sorbitol nucleating agents, quinacridone, cyanine blue, and talc.
Examples of the metal carboxylate nucleating agent include sodium benzoate, aluminum dibenzoate, potassium benzoate, etc. Examples of the sorbitol nucleating agent include dibenzylidene sorbitol, di-alkyl-benzylidene sorbitol, etc.
Examples of crystal nucleating agents for the polyethylene resin include cyclohexane-1,2-dicarboxylate, anthracene, potassium hydrogen phthalate, benzoic acid compounds, ultra-high molecular weight polyethylene, metal phosphate salts, talc, calcium carbonate, titanium dioxide, silicon dioxide, barium sulfate, vermiculite, and carbon nanotubes.

上記クッション層における上記結晶核剤の含有量は特に限定されないが、好ましい下限は0.5重量%、好ましい上限は5重量%であり、より好ましい下限は1重量%、より好ましい上限は3重量%である。上記結晶核剤の含有量が1重量%以上であれば、離型フィルムがより優れた離型性を発揮することができる。上記結晶核剤の含有量が3重量%以下であれば、上記クッション層の柔軟性を保ちつつ、樹脂の染み出しが生じることを抑制することができる。上記結晶核剤の含有量の更に好ましい下限は1.5重量%、更に好ましい上限は2重量%である。 The content of the nucleating agent in the cushion layer is not particularly limited, but a preferred lower limit is 0.5% by weight, a preferred upper limit is 5% by weight, a more preferred lower limit is 1% by weight, and a more preferred upper limit is 3% by weight. If the content of the nucleating agent is 1% by weight or more, the release film can exhibit better release properties. If the content of the nucleating agent is 3% by weight or less, the flexibility of the cushion layer can be maintained while suppressing resin exudation. An even more preferred lower limit of the content of the nucleating agent is 1.5% by weight, and an even more preferred upper limit is 2% by weight.

上記クッション層は、更に、繊維、無機充填剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無機物、高級脂肪酸塩等の添加剤を含有してもよい。なかでも、上記クッション層が上記無機充填剤を含有することで、上記180℃でのソフト成分の緩和時間(T)と上記30℃でのソフト成分比とに悪影響を及ぼすことなく、樹脂の染み出しをより抑制することができる。 The cushion layer may further contain additives such as fibers, inorganic fillers, flame retardants, ultraviolet absorbers, antistatic agents, inorganic substances, higher fatty acid salts, etc. In particular, when the cushion layer contains the inorganic fillers, the exudation of resin can be further suppressed without adversely affecting the relaxation time ( T2 ) of the soft component at 180°C and the soft component ratio at 30°C.

上記クッション層は、単独の層からなる単層構造であってもよいし、複数の層の積層体からなる多層構造であってもよい。クッション層が多層構造である場合は、複数の層が接着層を介して積層一体化していてもよい。 The cushion layer may have a single-layer structure consisting of a single layer, or a multi-layer structure consisting of a laminate of multiple layers. If the cushion layer has a multi-layer structure, the multiple layers may be laminated together via an adhesive layer.

上記クッション層の厚みは特に限定されないが、相対的に上記離型層の厚みを薄く、上記クッション層の厚みを厚くすることで、離型フィルム全体に対する上記クッション層の寄与を増大させ、ソフト成分比を増大させることができる。これにより、離型フィルムがより優れた凹凸への追従性を発揮することができる。
上記クッション層の好ましい下限は15μm、好ましい上限は200μmである。上記クッション層の厚みが15μm以上であれば、離型フィルムの凹凸への追従性が向上する。上記クッション層の厚みが200μm以下であれば、熱プレス接着時におけるフィルム端部で生じる上記クッション層からの樹脂の染み出しを抑制できる。上記クッション層の厚みのより好ましい下限は30μm、より好ましい上限は150μmである。
Although the thickness of the cushion layer is not particularly limited, by making the thickness of the release layer relatively thin and the thickness of the cushion layer relatively thick, the contribution of the cushion layer to the entire release film can be increased and the soft component ratio can be increased, thereby allowing the release film to exhibit better conformability to unevenness.
The cushion layer preferably has a lower limit of 15 μm and an upper limit of 200 μm. If the cushion layer has a thickness of 15 μm or more, the ability to conform to the irregularities of the release film is improved. If the cushion layer has a thickness of 200 μm or less, exudation of resin from the cushion layer at the film edge during heat press bonding can be suppressed. The cushion layer more preferably has a lower limit of 30 μm and an upper limit of 150 μm.

本発明の離型フィルムを製造する方法は特に限定されず、例えば、水冷式又は空冷式共押出インフレーション法、共押出Tダイ法で製膜する方法、溶剤キャスティング法、熱プレス成形法等が挙げられる。
上記クッション層の両側に上記離型層を有する構造を有する場合には、一方の離型層となるフィルムを作製した後、このフィルムにクッション層を押出ラミネート法にて積層し、次いで他方の離型層をドライラミネーションする方法が挙げられる。また、一方の離型層となるフィルム、クッション層となるフィルム及び他方の離型層となるフィルムをドライラミネーションする方法が挙げられる。
なかでも、各層の厚み制御に優れる点から、共押出Tダイ法で製膜する方法が好適である。
The method for producing the release film of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a water-cooled or air-cooled coextrusion inflation method, a coextrusion T-die film-forming method, a solvent casting method, and a hot press molding method.
In the case of a structure having the release layers on both sides of the cushion layer, a method of preparing a film to be one of the release layers, laminating the cushion layer on this film by extrusion lamination, and then dry laminating the other release layer can be used. Alternatively, a method of dry laminating the film to be one of the release layers, the film to be the cushion layer, and the film to be the other release layer can be used.
Among these, the co-extrusion T-die method is preferred because it allows excellent control of the thickness of each layer.

本発明の離型フィルムの用途は特に限定されないが、プリント配線基板、フレキシブル回路基板、多層プリント配線板等の製造工程において好適に用いることができる。具体的には例えば、フレキシブル回路基板の製造工程において、銅回路を形成したフレキシブル回路基板本体に、熱硬化型接着剤又は熱硬化型接着シートを介してカバーレイフィルムを熱プレス接着する際に本発明の離型フィルムを用いることができる。 The use of the release film of the present invention is not particularly limited, but it can be suitably used in the manufacturing processes of printed wiring boards, flexible circuit boards, multilayer printed wiring boards, etc. Specifically, for example, in the manufacturing process of flexible circuit boards, the release film of the present invention can be used when hot-press bonding a coverlay film to a flexible circuit board main body having a copper circuit formed thereon via a thermosetting adhesive or a thermosetting adhesive sheet.

本発明によれば、離型性にも凹凸への追従性にも優れ、樹脂の染み出しが生じにくい離型フィルムを提供することができる。 According to the present invention, a release film can be provided that has excellent releasability and ability to conform to uneven surfaces, and is less likely to cause resin bleeding.

以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。 The following examples further illustrate aspects of the present invention, but the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
(1)離型フィルムの製造
ポリブチレンテレフタレート樹脂(PBT)60重量部と、ポリブチレンテレフタレートとポリテトラメチレングリコールとの共重合体(PBT/PTMG共重合体)40重量部とを混合し、離型層用樹脂組成物を得た。
低密度ポリエチレン(LDPE)(サンテック-LD(M2102)、旭化成社製)39重量部と、エチレン-メチルメタクリレート共重合体(EMMA1)(アクリフトWH401、住友化学社製)59.5重量部と、PE結晶核剤(リケマスターCN、理研ビタミン社製)1.5重量部とを混合し、クッション層用樹脂組成物を得た。
得られた離型層用樹脂組成物及びクッション層用樹脂組成物を、押出機を用いて、Tダイ幅400mmにて三層共押出することにより、クッション層(厚み90μm)の両側に離型層(片面の厚み15μm)を有する離型フィルムを得た。押出機はジーエムエンジニアリング社製、GM30-28を用い、スクリュー径30mm、L/D28とした。
Example 1
(1) Production of release film 60 parts by weight of polybutylene terephthalate resin (PBT) and 40 parts by weight of a copolymer of polybutylene terephthalate and polytetramethylene glycol (PBT/PTMG copolymer) were mixed to obtain a resin composition for a release layer.
A resin composition for a cushion layer was obtained by mixing 39 parts by weight of low-density polyethylene (LDPE) (Suntec-LD (M2102), manufactured by Asahi Kasei Corporation), 59.5 parts by weight of ethylene-methyl methacrylate copolymer (EMMA1) (Acryft WH401, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), and 1.5 parts by weight of a PE crystal nucleating agent (Rikemaster CN, manufactured by Riken Vitamin Co., Ltd.).
The obtained resin composition for the release layer and the resin composition for the cushion layer were co-extruded into a three-layer structure using an extruder with a T-die width of 400 mm, to obtain a release film having a cushion layer (thickness 90 μm) and a release layer (thickness 15 μm on each side) on both sides. The extruder used was a GM30-28 extruder manufactured by GM Engineering, with a screw diameter of 30 mm and an L/D of 28.

(2)パルスNMR測定
測定サンプルとして離型フィルム約10gを筒状に丸め、直径10mmのガラス製のサンプル管(BRUKER社製、品番1824511、長さ180mm、フラットボトム)に高さ20mmになるように導入した。
(2) Pulse NMR Measurement As a measurement sample, about 10 g of the release film was rolled into a cylindrical shape and introduced into a glass sample tube with a diameter of 10 mm (manufactured by BRUKER, product number 1824511, length 180 mm, flat bottom) so as to have a height of 20 mm.

パルスNMR「the minispec mq20」(BRUKER社製)を用い、上記サンプル管内の離型フィルムを昇温速度10℃/分で30℃から180℃まで昇温し、180℃で10分間維持した後でCPMG法にて180℃でのソフト成分の緩和時間(T)を求めた。
[CPMG法測定条件]
Scans:128times
Recycle Deray:2sec
90-180 plus searation:0.05
Total number of acquired echoes:3000
Using a pulse NMR "the minispec mq20" (manufactured by BRUKER), the release film in the sample tube was heated from 30°C to 180°C at a heating rate of 10°C/min, and after maintaining at 180°C for 10 minutes, the relaxation time ( T2 ) of the soft component at 180°C was determined by the CPMG method.
[CPMG method measurement conditions]
Scans: 128 times
Recycle Delay: 2sec
90-180 plus searation: 0.05
Total number of acquired echoes: 3000

また、パルスNMR「the minispec mq20」(BRUKER社製)を用い、30℃でのソフト成分比を求めた。より詳細には、上記サンプル管内の離型フィルムを昇温速度10℃/分で30℃から180℃まで昇温し、180℃で10分間維持し、その後、降温速度10℃/分で180℃から30℃まで降温し、30℃で10分間維持した後でSolid Echo法にて30℃でのソフト成分比を求めた。
[Solid Echo法測定条件]
Scans:64times
Recycle Deray:2sec
Acquisition scale:1ms
Furthermore, using a pulse NMR "the minispec mq20" (manufactured by BRUKER), the soft component ratio at 30°C was determined. More specifically, the release film in the sample tube was heated from 30°C to 180°C at a heating rate of 10°C/min, maintained at 180°C for 10 minutes, and then cooled from 180°C to 30°C at a cooling rate of 10°C/min, maintained at 30°C for 10 minutes, and then the soft component ratio at 30°C was determined by a solid echo method.
[Solid Echo method measurement conditions]
Scans:64times
Recycle Delay: 2sec
Acquisition scale: 1ms

CPMG法による180℃でのソフト成分の緩和時間(T)、及び、Solid Echo法による30℃でのソフト成分比は、以下の方法により算出した。
パルスNMRの測定結果として得られたH核のスピン-スピン緩和の自由誘導減衰曲線(縦軸:磁化強度、横軸:時間)を、ソフト成分、ミドル成分及びハード成分の3成分に由来する3つの曲線に波形分離し、ソフト成分、ミドル成分及びハード成分の成分比率及び緩和時間を求めた。波形分離は、ガウシアン型とエクスポーネンシャル型との両方を用いて、フィッティングさせることで行った。具体的には、BRUKER社製の解析ソフトウエア「TD-NMRA(Version 4.3 Rev 0.8)」を用い、製品マニュアルに従って、30℃でのSolid Echo法ではハード成分はガウシアン型、ミドル成分及びソフト成分はエクスポーネンシャル型を用いてフィッティングを行った。180℃でのCPMG法ではハード成分、ミドル成分及びソフト成分の全てについてエクスポーネンシャル型を用いてフィッティングを行った。また、Solid Echo法では得られた自由誘導減衰曲線(緩和曲線)の0.5ミリ秒までのポイントを用いてフィッティングを行い、CPMG法では全てのポイントを用いてフィッティングを行った。フィッティングには以下の式を用い、最小二乗法により行った。
The relaxation time (T 2 ) of the soft component at 180° C. by the CPMG method and the soft component ratio at 30° C. by the Solid Echo method were calculated by the following methods.
The free induction decay curve of spin-spin relaxation of 1H nuclei obtained as a result of pulsed NMR measurement (vertical axis: magnetization intensity, horizontal axis: time) was waveform separated into three curves derived from the three components of soft, middle, and hard components, and the component ratios and relaxation times of the soft, middle, and hard components were determined. Waveform separation was performed by fitting using both Gaussian and exponential types. Specifically, using the analysis software "TD-NMRA (Version 4.3 Rev 0.8)" manufactured by BRUKER, fitting was performed using Gaussian type for the hard component and exponential type for the middle and soft components according to the product manual in the Solid Echo method at 30°C. In the CPMG method at 180°C, fitting was performed using exponential type for all of the hard, middle, and soft components. In the solid echo method, fitting was performed using points up to 0.5 milliseconds on the obtained free induction decay curve (relaxation curve), while in the CPMG method, fitting was performed using all points. The following equation was used for fitting, and the method of least squares was used.

ここで、Yは自由誘導減衰曲線であり、w1、w2及びw3はワイブル係数である。Solid Echo法のw1は2、w2及びw3は1の値を取り、CPMG法のw1~w3は1の値を取る。A1はハード成分の、B1はミドル成分の、C1はソフト成分のそれぞれ成分比(単位:%)であり、A1+B1+C1=100を満たす。T2Aはハード成分の、T2Bはミドル成分の、T2Cはソフト成分のそれぞれ緩和時間(単位:ミリ秒)であり、T2A<T2B<T2Cを満たす。tは時間(単位:ミリ秒)である。 Here, Y is the free induction decay curve, and w1, w2, and w3 are Weibull coefficients. In the Solid Echo method, w1 takes a value of 2, and w2 and w3 take a value of 1, while w1 to w3 take a value of 1 in the CPMG method. A1 is the component ratio (unit: %) of the hard component, B1 is the middle component, and C1 is the soft component, and A1 + B1 + C1 = 100 is satisfied. T2A is the relaxation time (unit: milliseconds) of the hard component, T2B is the middle component, and T2C is the relaxation time (unit: milliseconds) of the soft component, and T2A < T2B < T2C is satisfied. t is time (unit: milliseconds).

なお、本発明の実施例においてはRecycle Derayの値は2secとしたが、適切な測定結果(緩和曲線)が得られない場合は、T(スピン-格子緩和時間;縦緩和時間)の5倍の値を設定する。T測定には、一般的に、飽和回復法や反転回復法が適用される。 In the examples of the present invention, the Recycle Delay value is set to 2 seconds, but if an appropriate measurement result (relaxation curve) cannot be obtained, a value five times the T1 (spin-lattice relaxation time; longitudinal relaxation time) is set. Generally, the saturation recovery method or the inversion recovery method is applied to T1 measurement.

(実施例2~5、比較例1~6)
クッション層の組成を表1に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、離型フィルムを得た。なお、表1に示す各材料は下記のとおりであった。
(Examples 2 to 5, Comparative Examples 1 to 6)
A release film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the composition of the cushion layer was changed as shown in Table 1. The materials shown in Table 1 were as follows.

高密度ポリエチレン(HDPE)(サンテック-HD(F371)、旭化成社製)
EMMA2(アクリフトWD106、住友化学社製)
High-density polyethylene (HDPE) (Suntec-HD (F371), manufactured by Asahi Kasei Corporation)
EMMA2 (Acryft WD106, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)

<評価>
実施例及び比較例で得られた離型フィルムについて、以下の評価を行った。結果を表1に示した。
<Evaluation>
The release films obtained in the examples and comparative examples were evaluated as follows. The results are shown in Table 1.

(1)離型性の評価
離型フィルムをエポキシ接着シート(ニッカン工業社製、CISV2535)に重ね、180℃、30kgf/cmの条件で5分間熱プレスした。その後、幅25mmにカットし、試験速度500mm/分、剥離角度180°で剥離試験を行った。剥離強度が20gf/cm以下であった場合を○、20gf/cmを超えて30gf/cm以下であった場合を×、30gf/cmを超えた場合を××とした。
(1) Evaluation of releasability The release film was placed on an epoxy adhesive sheet (CISV2535, manufactured by Nikkan Industries Co., Ltd.) and hot-pressed for 5 minutes at 180°C and 30 kgf/ cm² . It was then cut to a width of 25 mm and subjected to a peel test at a test speed of 500 mm/min and a peel angle of 180°. A peel strength of 20 gf/ cm² or less was evaluated as ○, a peel strength of more than 20 gf/ cm² to 30 gf/ cm² or less was evaluated as ×, and a peel strength of more than 30 gf/ cm² was evaluated as XX.

(2)凹凸への追従性の評価
銅張積層板(CCL)(12.5cm×12.5cm、ポリイミド厚み25μm、銅箔厚み35μm)の銅箔面に、φ=1mmの穴を空けたカバーレイフィルム(12.5cm×12.5cm、ポリイミド厚み25μm、エポキシ接着剤層厚み35μm)をエポキシ接着剤層が接するようにして積層させた。更に、離型フィルムをカバーレイフィルムに積層した。この積層体を、180℃、30kgf/cmの条件で2分間熱プレスした。その後、離型フィルムを剥離し、銅張積層板(CCL)上に流れ出したエポキシ接着剤を光学顕微鏡にて観察した。エポキシ接着剤の染み出し幅を12点測定してその平均値を算出し、離型フィルムの凹凸への追従性を評価した。エポキシ接着剤の染み出し幅の平均値が55μm未満であった場合を○、55μm以上、65μm以下であった場合を△、65μmを超えた場合を×とした。
(2) Evaluation of Conformability to Uneven Surfaces A coverlay film (12.5 cm x 12.5 cm, polyimide thickness 25 μm, epoxy adhesive layer thickness 35 μm) with a φ = 1 mm hole was laminated onto the copper foil surface of a copper-clad laminate (CCL) (12.5 cm x 12.5 cm, polyimide thickness 25 μm, copper foil thickness 35 μm) so that the epoxy adhesive layer was in contact with the coverlay film. A release film was then laminated onto the coverlay film. This laminate was heat-pressed for 2 minutes at 180 °C and 30 kgf/cm². The release film was then peeled off, and the epoxy adhesive that had flowed onto the copper-clad laminate (CCL) was observed under an optical microscope. The exudation width of the epoxy adhesive was measured at 12 points and the average value was calculated to evaluate the conformability of the release film to uneven surfaces. When the average width of the exuded epoxy adhesive was less than 55 μm, it was evaluated as ◯, when it was 55 μm or more and 65 μm or less, it was evaluated as Δ, and when it exceeded 65 μm, it was evaluated as ×.

(3)樹脂の染み出しの評価
離型フィルムを10cm四方にカットした。25cm四方のSUS板、クッション紙、SiPETシート、離型フィルム、SiPETシート、クッション紙、25cm四方のSUS板をこの順で積層し、スライド式真空ヒータープレス(MKP-3000v-MH-ST、ミカドテクノス社製)により熱プレスした。離型フィルムから染み出したクッション層を構成する樹脂の端部と、離型フィルムの離型層の端部との距離を測定し、染み出し距離とした。染み出し距離が1mm以下であった場合を〇、1mmを超えて2mm以下であった場合を△、2mmを超えた場合を×とした。
(3) Evaluation of resin seepage The release film was cut into 10 cm squares. A 25 cm square SUS plate, cushion paper, SiPET sheet, release film, SiPET sheet, cushion paper, and a 25 cm square SUS plate were laminated in this order and heat-pressed using a slide-type vacuum heater press (MKP-3000v-MH-ST, manufactured by Mikado Technos Co., Ltd.). The distance between the end of the resin constituting the cushion layer that had seeped out of the release film and the end of the release layer of the release film was measured and used as the seepage distance. A seepage distance of 1 mm or less was evaluated as ◯, a seepage distance of more than 1 mm but not more than 2 mm was evaluated as △, and a seepage distance of more than 2 mm was evaluated as ×.

本発明によれば、離型性にも凹凸への追従性にも優れ、樹脂の染み出しが生じにくい離型フィルムを提供することができる。 According to the present invention, a release film can be provided that has excellent releasability and ability to conform to uneven surfaces, and is less likely to cause resin bleeding.

Claims (5)

パルスNMRにてCPMG法で測定した180℃でのソフト成分の緩和時間(T)が220ミリ秒以上、330ミリ秒以下であり、かつ、
下記温度条件に晒した後、パルスNMRにてSolid Echo法で測定した30℃でのソフト成分比が0.1%以上、15%以下であり、
離型層とクッション層とを有し、前記クッション層の両側に前記離型層を有し、
前記クッション層は、ポリオレフィン樹脂を含有する
ことを特徴とする離型フィルム。
[温度条件]
昇温速度10℃/分で30℃から180℃まで昇温、その後、降温速度10℃/分で180℃から30℃まで降温
The relaxation time (T 2 ) of the soft component at 180° C., as measured by the CPMG method in pulsed NMR, is 220 milliseconds or more and 330 milliseconds or less, and
After exposure to the following temperature conditions, the soft component ratio at 30°C measured by pulse NMR using the Solid Echo method is 0.1% or more and 15% or less,
a release layer and a cushion layer, the release layer being disposed on both sides of the cushion layer;
The cushion layer contains a polyolefin resin.
A release film characterized by:
[Temperature conditions]
The temperature was increased from 30°C to 180°C at a rate of 10°C/min, and then decreased from 180°C to 30°C at a rate of 10°C/min.
ポリオレフィン樹脂は、ポリエチレン樹脂を含有することを特徴とする請求項記載の離型フィルム。 2. The release film according to claim 1 , wherein the polyolefin resin contains a polyethylene resin. ポリオレフィン樹脂は、直鎖構造を有するポリオレフィン樹脂を含有することを特徴とする請求項1又は2記載の離型フィルム。 3. The release film according to claim 1 , wherein the polyolefin resin contains a polyolefin resin having a linear structure. クッション層は、結晶核剤を含有することを特徴とする請求項1、2又は3記載の離型フィルム。 4. The release film according to claim 1 , wherein the cushion layer contains a crystal nucleating agent. 離型層は、ポリエステル、ポリオレフィン及びポリスチレンからなる群より選択される少なくとも1種の樹脂を含有することを特徴とする請求項1、2、3又は4記載の離型フィルム。 5. The release film according to claim 1 , wherein the release layer contains at least one resin selected from the group consisting of polyester, polyolefin, and polystyrene.
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