Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP7827445B2 - Robot Hand - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP7827445B2 - Robot Hand - Google Patents

Robot Hand

Info

Publication number
JP7827445B2
JP7827445B2 JP2021200040A JP2021200040A JP7827445B2 JP 7827445 B2 JP7827445 B2 JP 7827445B2 JP 2021200040 A JP2021200040 A JP 2021200040A JP 2021200040 A JP2021200040 A JP 2021200040A JP 7827445 B2 JP7827445 B2 JP 7827445B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
suction
wafer
robot hand
robot
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021200040A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2023085799A (en
Inventor
敦 中塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Corp filed Critical Disco Corp
Priority to JP2021200040A priority Critical patent/JP7827445B2/en
Priority to TW111145040A priority patent/TWI921627B/en
Priority to KR1020220166199A priority patent/KR20230087386A/en
Priority to CN202211546274.1A priority patent/CN116259573A/en
Publication of JP2023085799A publication Critical patent/JP2023085799A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7827445B2 publication Critical patent/JP7827445B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/70Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
    • H10P72/76Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches
    • H10P72/7602Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches the wafers being placed on a robot blade or gripped by a gripper for conveyance
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/30Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25JMANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
    • B25J11/00Manipulators not otherwise provided for
    • B25J11/0095Manipulators transporting wafers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25JMANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
    • B25J15/00Gripping heads and other end effectors
    • B25J15/0014Gripping heads and other end effectors having fork, comb or plate shaped means for engaging the lower surface on a object to be transported
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25JMANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
    • B25J15/00Gripping heads and other end effectors
    • B25J15/06Gripping heads and other end effectors with vacuum or magnetic holding means
    • B25J15/0616Gripping heads and other end effectors with vacuum or magnetic holding means with vacuum
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/06Apparatus for monitoring, sorting, marking, testing or measuring
    • H10P72/0606Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • H10P72/0608Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/70Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
    • H10P72/78Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using vacuum or suction, e.g. Bernoulli chucks

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Robotics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Manipulator (AREA)

Description

本発明は、ウェーハを保持する板状のロボットハンドに関する。 The present invention relates to a plate-shaped robot hand that holds a wafer.

ドーム状に反ったウェーハをロボットハンドで吸引保持してカセットから搬出する際には、特許文献1に開示されているような吸盤を備えたロボットハンドを用いている。このような吸盤を含めた全体的な厚みが厚いロボットハンドでカセットに収納されたウェーハを搬出するために、カセットのウェーハを載置する棚と棚との距離を大きくしている。そのため、カセットに収納できるウェーハの枚数が少なくなってしまい、カセットを交換する頻度が多くなるという問題がある。 When a dome-shaped warped wafer is held by suction with a robot hand and removed from a cassette, a robot hand equipped with suction cups, as disclosed in Patent Document 1, is used. In order to remove wafers stored in a cassette using a robot hand that is thick overall, including the suction cups, the distance between the shelves on which the cassette wafers are placed is increased. This reduces the number of wafers that can be stored in a cassette, posing the problem of having to replace the cassette more frequently.

このような問題を解消するために、棚と棚との距離が小さいカセットに収納されたウェーハを搬出できるように、例えば特許文献2に開示されているように、ウェーハの外周部分を吸引保持する吸盤を備えたロボットハンドを用いている。 To solve this problem, a robot hand equipped with suction cups that hold the outer periphery of the wafer by suction is used to transport wafers stored in cassettes with small distances between shelves, as disclosed in Patent Document 2, for example.

特開2020-202324号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2020-202324 特開2017-045784号公報JP 2017-045784 A

しかし、特許文献2に開示されているようなロボットハンドでは、ウェーハが薄い場合は、保持したウェーハが割れてしまうという問題がある。
したがって、カセットの棚と棚との距離が小さくても、ウェーハを割らないように出し入れ可能なロボットハンドが求められている。
However, the robot hand disclosed in Patent Document 2 has a problem in that if the wafer is thin, the wafer it holds may break.
Therefore, there is a demand for a robot hand that can take wafers in and out without cracking them even when the distance between cassette shelves is small.

上記課題を解決するための本発明は、ロボットに取り付け、ドーム状に湾曲したウェーハの凸球面を吸引保持する吸引口を吸着面に備えた板状のロボットハンドであって、後端に配置され該ロボットに取り付ける取り付け部と、ロボットハンドの先端側となり二股になるように形成され該ウェーハを吸引する該吸引口を配置した第1吸引部、及び第2吸引部と、を備え、該第1吸引部及び該第2吸引部は、該凸球面の中心側となる内側の側面において開口するスリットと、該内側の反対側の側面において開口するスリットとを、該後端から該先端に向かって互に備え、該ウェーハの該凸球面に沿って屈曲可能であるロボットハンドである。 In order to solve the above problem, the present invention provides a plate-shaped robot hand that is attached to a robot and has suction ports on its suction surface that suction-hold the convex spherical surface of a dome-shaped curved wafer, the robot hand comprising: an attachment section located at the rear end and attached to the robot; a first suction section and a second suction section that are formed so as to be bifurcated at the front end of the robot hand and have suction ports that suction-hold the wafer; the first suction section and the second suction section have slits that open on the inner side surface that is toward the center of the convex spherical surface and slits that open on the side surface opposite the inner side, alternately from the rear end to the front end , and the robot hand is bendable along the convex spherical surface of the wafer.

本発明に係るロボットハンドは、吸盤等を備えない厚みの薄い板状のロボットハンドであるため、棚と棚との距離が小さいカセットの該棚に載置されているウェーハの上方に進入する事ができ、カセット内に進入したロボットハンドを例えば下降させることによって、ロボットハンドが交互に形成された複数のスリットの幅を広げ、ウェーハのドーム状の凸球面に沿って倣うようにウェーハに吸着面を接触させることが可能となる。そして、例えば、ロボットハンドに配置したウェーハ認識センサが反応し、ウェーハ認識センサがONになったら、ロボットハンドの吸引口を吸引源に連通させることで、ドーム状に湾曲したウェーハをバキュームリークさせることなく適切に吸引保持する事が可能となる。また、ドーム状に湾曲したウェーハを例えば研削した後、薄くなったウェーハは湾曲が無くなる。ロボットハンドは、この湾曲が無くなり薄くなったウェーハも吸引保持可能であり、湾曲していないウェーハを収納するカセットに、加工後のウェーハを割らないように搬入できる。 Because the robot hand of the present invention is a thin, plate-like robot hand without suction cups or the like, it can enter above wafers placed on shelves of a cassette with a small distance between shelves. By, for example, lowering the robot hand that has entered the cassette, the robot hand widens the width of the alternating slits, allowing the suction surface to contact the wafer so as to conform to the dome-shaped, convex spherical surface of the wafer. Then, for example, when a wafer recognition sensor located on the robot hand reacts and turns ON, the suction port of the robot hand can be connected to a suction source, allowing the dome-shaped, curved wafer to be properly suction-held without vacuum leakage. Furthermore, after a dome-shaped, curved wafer is, for example, ground, the thinned wafer loses its curve. The robot hand can also suction-hold this uncurved, thinned wafer, allowing it to be transported into a cassette storing uncurved wafers without breaking the processed wafers.

ウェーハを収容するカセット、及び本発明に係るロボットハンドを備えるロボットの一例を示す斜視図である。1 is a perspective view showing an example of a robot equipped with a cassette for accommodating wafers and a robot hand according to the present invention. FIG. カセットに収容されたドーム状の湾曲を備えるウェーハを説明する断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating wafers with a dome-shaped curvature housed in a cassette. 吸着面を上側に向けた状態のロボットハンドの一例を示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view showing an example of a robot hand with its suction surface facing upward. ロボットハンドがドーム状に湾曲したウェーハの凸球面である上面(裏面)に接触するために下降している状態を示す側面図である。FIG. 10 is a side view showing a state in which the robot hand is lowered to contact the upper surface (rear surface) of the dome-shaped curved wafer, which is a convex spherical surface. ロボットハンドがドーム状に湾曲したウェーハの凸球面である上面に、ウェーハの凸球面に沿って指のように屈曲して倣いながら接触した状態を示す側面図である。FIG. 10 is a side view showing a state in which a robot hand comes into contact with the convex spherical upper surface of a dome-shaped curved wafer, bending like a finger to follow the convex spherical surface of the wafer. ロボットハンドがドーム状に湾曲したウェーハの凸球面である上面に、ウェーハの凸球面に沿って指のように屈曲して倣いながら接触した状態を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view showing a state in which a robot hand comes into contact with the convex spherical upper surface of a dome-shaped curved wafer, bending like a finger to follow the convex spherical surface of the wafer. 研削後の平坦なウェーハをロボットハンドが吸引保持している状態を説明する側面図である。FIG. 10 is a side view illustrating a state in which the robot hand holds the flat wafer by suction after grinding.

図1に示すロボット1は、例えばカセット4に収容されるドーム状に湾曲したウェーハ90を、カセット4から搬出したり、図示しないチャックテーブルやセンタリングテーブルに載置したり、カセット4に搬入したりするためのロボットであり、本発明に係るロボットハンド6を備えており、例えば、図示しない研削装置、研磨装置、又はバイト切削装置上に配設されるものである。 The robot 1 shown in Figure 1 is a robot for removing, for example, dome-shaped curved wafers 90 stored in a cassette 4 from the cassette 4, placing them on a chuck table or centering table (not shown), and loading them into the cassette 4. It is equipped with a robot hand 6 according to the present invention and is disposed, for example, on a grinding device, polishing device, or bit cutting device (not shown).

図1に示すカセット4は、例えば、底板40と、天板41と、後壁42と、左右の2枚の側壁43と、前方側(+Y方向側)の開口44とを有しており、開口44からウェーハ90を搬出入できる構成となっている。カセット4の内部には、複数の棚部45が上下方向に所定の間隔を空けて形成されており、棚部45においてウェーハ90を一枚ずつ収容できる。なお、カセット4の構成は本例に限定されるものではない。 The cassette 4 shown in FIG. 1 has, for example, a bottom plate 40, a top plate 41, a rear wall 42, two side walls 43 (left and right), and an opening 44 on the front side (+Y direction side), and is configured so that wafers 90 can be loaded and unloaded through the opening 44. Inside the cassette 4, multiple shelves 45 are formed at predetermined intervals in the vertical direction, and each shelf 45 can accommodate one wafer 90. Note that the configuration of the cassette 4 is not limited to this example.

図1、図2に示す平面視円形状のウェーハ90は、例えばシリコンウェーハ等であって、ウェーハ90の中心から外周縁903に向かって徐々に反っていくことで、ドーム状に湾曲している。即ち、このドーム状の湾曲とは、例えばカセット4の棚部45にウェーハ90を表面900を下側に向けて載置した際に、ウェーハ90の表面900がその中央側の領域から外周側の領域に向かって徐々に低くなっていくような湾曲である。そして、カセット4の棚部45に、ウェーハ90の外周縁903が接触して棚部45にウェーハ90が凸球面である裏面906を上側に向けた状態で載置されている。
ドーム状に湾曲したウェーハ90の一例としては、図示しないデバイス等が形成された表面900が樹脂封止されており、該ドーム状の湾曲は、例えば樹脂封止した際に固まった樹脂の収縮力等を要因とする。
1 and 2 is a silicon wafer or the like, which is circular in plan view and curves in a dome-like shape by gradually warping from the center of the wafer 90 toward its outer periphery 903. That is, this dome-like curvature is a curvature in which, when the wafer 90 is placed on the shelf 45 of the cassette 4 with its front surface 900 facing downward, the front surface 900 of the wafer 90 gradually becomes lower from its central region toward its outer periphery. The outer periphery 903 of the wafer 90 contacts the shelf 45 of the cassette 4, and the wafer 90 is placed on the shelf 45 with its back surface 906, which is a convex spherical surface, facing upward.
An example of a wafer 90 that is curved in a dome shape is when the surface 900, on which devices (not shown) are formed, is sealed with resin, and the dome-shaped curvature is caused by, for example, the contraction force of the resin that hardens when the resin is sealed.

図1に示すロボット1は、多関節ロボットであり、ロボットハンド6を所定の位置に移動させる駆動部3を備えている。駆動部3は、例えば、長尺板状の第1のアーム31と、長尺板状の第2のアーム32と、Z軸方向に延在するロボットハンド連結柱30と、ロボットハンド6を水平方向に移動させるロボットハンド水平移動機構34と、簡略化して示す昇降機構35と、を備えている。 The robot 1 shown in Figure 1 is an articulated robot and includes a drive unit 3 that moves the robot hand 6 to a predetermined position. The drive unit 3 includes, for example, a long, plate-shaped first arm 31, a long, plate-shaped second arm 32, a robot hand connecting column 30 extending in the Z-axis direction, a robot hand horizontal movement mechanism 34 that moves the robot hand 6 horizontally, and a simplified lifting mechanism 35.

ロボットハンド連結柱30の下端には、第1のアーム31の一端の上面が連結されている。第1のアーム31のもう一端の下面には、図示しない旋回軸等を介して第2のアーム32の一端の上面が連結されている。第2のアーム32のもう一端の下面側は、アーム駆動モータ340を介して昇降機構35に連結されている。 The upper surface of one end of a first arm 31 is connected to the lower end of the robot hand connecting column 30. The upper surface of one end of a second arm 32 is connected to the lower surface of the other end of the first arm 31 via a pivot shaft or the like (not shown). The lower surface of the other end of the second arm 32 is connected to the lifting mechanism 35 via an arm drive motor 340.

昇降機構35は、例えば、電動シリンダ等であって、Z軸方向にロボットハンド6を昇降させる。ロボットハンド水平移動機構34は、第1のアーム31及び第2のアーム32内に配設された図示しない無端ベルト、図示しないプーリ、及びアーム駆動モータ340等からなるプーリ機構等である。また、ロボット1全体は図示しないモータが生み出す回転力により、Z軸を軸として水平面内(X軸Y軸平面内)において旋回させることができる。また、アーム駆動モータ340が生み出す回転力によって、第1のアーム31及び第2のアーム32を水平面内において相互に交差するように、又は直線状に並ぶように移動させつつ、ロボットハンド6を水平面内において直動させることができる。 The lifting mechanism 35 is, for example, an electric cylinder, and raises and lowers the robot hand 6 in the Z-axis direction. The robot hand horizontal movement mechanism 34 is, for example, a pulley mechanism consisting of an endless belt (not shown) arranged within the first arm 31 and second arm 32, a pulley (not shown), and an arm drive motor 340. The entire robot 1 can be rotated in a horizontal plane (within the X- and Y-axes) around the Z-axis by the rotational force generated by the motor (not shown). The rotational force generated by the arm drive motor 340 can move the first arm 31 and second arm 32 so that they intersect with each other or are aligned in a straight line in the horizontal plane, while translating the robot hand 6 in the horizontal plane.

ロボットハンド連結柱30の上端側には、図1においては鉛直方向(Z軸方向)に直交するX軸方向の軸心を有するスピンドル36を回転可能に支持するハウジング37が固定されている。例えばハウジング37の内部には、スピンドル36を回転駆動する図示しないモータが収容されている。 A housing 37 is fixed to the upper end of the robot hand connecting column 30. The housing 37 rotatably supports a spindle 36, which has an axis in the X-axis direction, which is perpendicular to the vertical direction (Z-axis direction) in Figure 1. For example, a motor (not shown) that rotates the spindle 36 is housed inside the housing 37.

スピンドル36の先端側はハウジング37から-X方向に突出しており、この先端側に、ロボットハンド6の後端側が装着されるホルダ38が配設されている。図示しないモータがスピンドル36を回転させることに伴って、スピンドル36にホルダ38を介して接続されているロボットハンド6が回転して、ロボットハンド6の吸着面60とロボットハンド6の吸着面60の反対面とを上下反転させる。 The tip of the spindle 36 protrudes from the housing 37 in the -X direction, and a holder 38 is disposed at this tip to which the rear end of the robot hand 6 is attached. As a motor (not shown) rotates the spindle 36, the robot hand 6, which is connected to the spindle 36 via the holder 38, rotates, and the suction surface 60 of the robot hand 6 and the surface opposite the suction surface 60 of the robot hand 6 are turned upside down.

図1、図3に示す本発明に係る板状のロボットハンド6は、ホルダ38側となる後端に配置されロボット1に取り付ける取り付け部61と、ロボットハンド6の先端側となり平面視で二股になるように形成されウェーハ90を吸引する吸引口62を配置した第1吸引部64、及び第2吸引部65と、を備えている。そして、第1吸引部64、及び第2吸引部65の表面が、ドーム状に湾曲したウェーハ90(図2参照)の凸球面である裏面906を吸引保持する吸引口62を有する吸着面60となる。第1吸引部64、及び第2吸引部65に外力が加えられておらず屈曲していない状態においては、それぞれの吸着面60は平坦面となっている。 The plate-shaped robot hand 6 according to the present invention, shown in Figures 1 and 3, includes an attachment section 61 located at the rear end on the holder 38 side for attachment to the robot 1, and a first suction section 64 and a second suction section 65 located at the front end of the robot hand 6 and bifurcated in a plan view, with suction ports 62 for suctioning the wafer 90. The surfaces of the first suction section 64 and the second suction section 65 form suction surfaces 60 with suction ports 62 for suction-holding the convex spherical back surface 906 of the dome-shaped curved wafer 90 (see Figure 2). When no external force is applied to the first suction section 64 and the second suction section 65 and they are not bent, the suction surfaces 60 are flat.

全体が樹脂板等で構成されるロボットハンド6は、第1吸引部64と第2吸引部65との間のU字開口600に吸引保持されるウェーハ90のドーム状の天井部分である中央領域が入りこむ。図3に示すロボットハンド6の後端となる取り付け部61は、例えば、平面視矩形状に形成されている。取り付け部61からロボットハンド6の先端側に向けて一体的に、取り付け部61よりも幅の広い平面視略矩形状の剛性部66が延在している。取り付け部61は、図示しないネジ貫通孔が厚み方向に貫通形成されており、ホルダ38にボルト固定される。 The robot hand 6, which is entirely made of a resin plate or the like, has a U-shaped opening 600 between the first suction part 64 and the second suction part 65, which accommodates the central region of the dome-shaped ceiling of the wafer 90 being suction-held. The mounting part 61 at the rear end of the robot hand 6 shown in Figure 3 is formed, for example, in a rectangular shape in a plan view. A rigid part 66, which is wider than the mounting part 61 and has a generally rectangular shape in a plan view, extends integrally from the mounting part 61 toward the tip of the robot hand 6. The mounting part 61 has a screw through-hole (not shown) formed through it in the thickness direction, and is fixed to the holder 38 with a bolt.

図3に示す剛性部66には、ロボットハンド6がウェーハ90を検知するためのウェーハ検知センサ67の一部であるセンサケース673を取り付けるための取り付け用凹み660が、センサケース673の形状に合わせて取り付け部61近傍まで延在するように切り欠かれて形成されている。 The rigid portion 66 shown in Figure 3 has a mounting recess 660 for mounting a sensor case 673, which is part of the wafer detection sensor 67 used by the robot hand 6 to detect the wafer 90. The mounting recess 660 is cut out to extend near the mounting portion 61 to match the shape of the sensor case 673.

ウェーハ検知センサ67は、例えば、検知光を出射する投光部671と、投光部671から出射された検知光がウェーハ90で反射した反射光を受光する受光部672と、投光部671、受光部672、及び投光部671や受光部672に接続された配線674等を収容したセンサケース673と、を備えている。投光部671と受光部672とは、横に並んで、U字開口600の近傍となる剛性部66の先端の中央領域に位置づけされている。なお、ウェーハ検知センサ67は、上記のような回帰反射型の光電センサに限定されるものではなく、例えば感圧センサ、静電容量センサなどであってもよい。 The wafer detection sensor 67 includes, for example, a light-emitting unit 671 that emits detection light, a light-receiving unit 672 that receives the detection light emitted from the light-emitting unit 671 reflected by the wafer 90, and a sensor case 673 that houses the light-emitting unit 671, the light-receiving unit 672, and wiring 674 connected to the light-emitting unit 671 and the light-receiving unit 672. The light-emitting unit 671 and the light-receiving unit 672 are aligned horizontally and positioned in the central region of the tip of the rigid portion 66 near the U-shaped opening 600. Note that the wafer detection sensor 67 is not limited to the above-described retro-reflective photoelectric sensor, and may also be, for example, a pressure-sensitive sensor or a capacitance sensor.

剛性部66と一体的に平面視二股になるように形成された第1吸引部64と第2吸引部65とは、例えば、ロボットハンド6の中心線602を軸に線対称となっている。第1吸引部64(第2吸引部65)は、接触したウェーハ90の凸球面である裏面906に沿って指のように屈曲可能に複数のスリット640(スリット650)が交互に形成されている。即ち、全体が長尺状に形成された第1吸引部64(第2吸引部65)は、その延在方向に直交する方向に、U字開口600側(内側)から、及び外側から交互に互いに平行に所定長さの直線状のスリット640(スリット650)が切り欠かれており、これによって、第1吸引部64(第2吸引部65)は主に厚み方向に撓むことが可能な柔軟性を有している。なお、複数の直線状のスリット640(スリット650)は、互いに平行に切り欠いて形成されている形態に限定されるものではなく、ウェーハ90のドーム状の凸球面の曲率等に合わせて、その切り欠き方向の角度を変えて設定してもよい。 The first suction portion 64 and the second suction portion 65, which are formed integrally with the rigid portion 66 so as to be bifurcated in a plan view, are, for example, symmetrical about the center line 602 of the robot hand 6. The first suction portion 64 (second suction portion 65) has multiple slits 640 (slits 650) formed alternately to allow the first suction portion 64 (second suction portion 65) to bend like fingers along the convex spherical back surface 906 of the wafer 90 it contacts. That is, the first suction portion 64 (second suction portion 65), which is formed as a long portion, has parallel linear slits 640 (slits 650) of a predetermined length cut out in a direction perpendicular to its extension direction, alternating from the U-shaped opening 600 side (inside) and from the outside. This provides the first suction portion 64 (second suction portion 65) with flexibility, allowing it to bend primarily in the thickness direction. The multiple linear slits 640 (slits 650) are not limited to being formed by cutting out parallel to one another, and the angle of the cutout direction may be changed to match the curvature of the dome-shaped convex spherical surface of the wafer 90, etc.

図3に示すように、例えば略円形である吸引口62は、第1吸引部64及び第2吸引部65の先端側と根本側とにそれぞれ1つずつ、ロボットハンド6全体においては例えば、計4つが吸着面60に開口している。なお、吸引口62の数や配設箇所は、図3に示す例に限定されるものではない。各吸引口62には内部吸引路623がそれぞれ連通している。内部吸引路623は、第1吸引部64(第2吸引部65)の内部にジグザグ状に形成され、さらに、剛性部66及び取り付け部61の内部を通り、取り付け部61の表面にその他端が吸引力伝達口として開口している。そして、該吸引力伝達口には、継手、及びロボットハンド6の旋回動作等を妨げることが無いように可撓性を備える外部配管692を介して、真空発生装置等の吸引源69が連通している。例えば、外部配管692には、吸引口62を吸引源69に連通する状態と非連通の状態とに切り換え可能な図示しないソレノイドバルブが配設されている。 As shown in FIG. 3 , the suction ports 62, each of which is approximately circular, are located on the suction surface 60 of the robot hand 6, one at the tip and one at the base of the first suction unit 64 and the second suction unit 65. A total of four suction ports 62 are located on the suction surface 60 of the robot hand 6. The number and placement of the suction ports 62 are not limited to the example shown in FIG. 3 . Each suction port 62 is connected to an internal suction path 623. The internal suction path 623 is formed in a zigzag pattern inside the first suction unit 64 (second suction unit 65), passes through the rigid portion 66 and the mounting portion 61, and opens at its other end as a suction force transmission port on the surface of the mounting portion 61. The suction force transmission port is connected to a suction source 69, such as a vacuum generator, via a joint and an external piping 692 that is flexible so as not to interfere with the rotational movement of the robot hand 6. For example, the external piping 692 is provided with a solenoid valve (not shown) that can switch the suction port 62 between a state in which it is connected to the suction source 69 and a state in which it is not connected to the suction source 69.

例えば、第1吸引部64、及び第2吸引部65の吸着面60、剛性部66の表面、並びに取り付け用凹み660に埋設されたウェーハ検知センサ67の露出面は面一な平坦面となっている。また、ウェーハ90に接触した場合に、ウェーハ90を傷付けないように第1吸引部64、及び第2吸引部65の端部(稜線)には面取りが施されていてもよい。 For example, the suction surfaces 60 of the first suction portion 64 and the second suction portion 65, the surface of the rigid portion 66, and the exposed surface of the wafer detection sensor 67 embedded in the mounting recess 660 are all flush and flat. Furthermore, the edges (ridges) of the first suction portion 64 and the second suction portion 65 may be chamfered to prevent damage to the wafer 90 when they come into contact with the wafer 90.

以下に、図1、図3に示すロボットハンド6によりウェーハ90を吸引保持し、ロボット1によってウェーハ90を搬送する場合の、ロボットハンド6の動作及びロボット1の動作について説明する。 The following describes the operation of the robot hand 6 and the robot 1 when the robot hand 6 shown in Figures 1 and 3 holds the wafer 90 by suction and the robot 1 transports the wafer 90.

まず、図示しないモータが図1に示すスピンドル36を回転させ、第1吸引部64及び第2吸引部65の吸着面60が下側を向いた状態にロボットハンド6がセットされる。次いで、駆動部3のロボットハンド水平移動機構34がロボットハンド6を水平移動させて、ロボットハンド6が開口44からカセット4の内部の所定の位置まで進入していく。即ち、ロボットハンド6のU字開口600内にドーム状に湾曲したウェーハ90の凸球面である裏面906の中心が位置するようにロボットハンド6が図4に示すウェーハ90の上方に位置づけられる。また、図1に示すロボットハンド6の中心線602上にウェーハ90の裏面906の中心が位置付けられる。 First, a motor (not shown) rotates the spindle 36 shown in FIG. 1, and the robot hand 6 is set in a position where the suction surfaces 60 of the first suction unit 64 and second suction unit 65 face downward. Next, the robot hand horizontal movement mechanism 34 of the drive unit 3 moves the robot hand 6 horizontally, and the robot hand 6 enters the cassette 4 through the opening 44 to a predetermined position inside the cassette 4. That is, the robot hand 6 is positioned above the wafer 90 shown in FIG. 4 so that the center of the back surface 906, which is a convex spherical surface of the dome-shaped curved wafer 90, is located within the U-shaped opening 600 of the robot hand 6. Furthermore, the center of the back surface 906 of the wafer 90 is located on the center line 602 of the robot hand 6 shown in FIG. 1.

次いで、図5、図6に示すロボットハンド6が下降して、図6に示すU字開口600内にウェーハ90の中央のドーム状の天井部分が入り込むとともに、ウェーハ90の裏面906に第1吸引部64及び第2吸引部65を接触させる。さらに、ロボットハンド6が下降することに伴い、第1吸引部64(第2吸引部65)の複数のスリット640(スリット650)の幅が例えば広がっていくことによって、図5、図6に示すようにウェーハ90のドーム状の凸球面である裏面906に沿って指のように第1吸引部64(第2吸引部65)が屈曲していくため、裏面906と下方を向いた吸着面60との接触面積が最大化されていき、第1吸引部64(第2吸引部65)によって、ウェーハ90のドーム状に湾曲した裏面906の主に中間領域がウェーハ90の径方向外側から中心側に向かって押さえられていく。 Next, the robot hand 6 shown in Figures 5 and 6 descends, and the central dome-shaped ceiling portion of the wafer 90 enters the U-shaped opening 600 shown in Figure 6, bringing the first suction unit 64 and the second suction unit 65 into contact with the back surface 906 of the wafer 90. Furthermore, as the robot hand 6 descends, the width of the multiple slits 640 (slits 650) of the first suction unit 64 (second suction unit 65) increases, for example, causing the first suction unit 64 (second suction unit 65) to bend like fingers along the dome-shaped convex spherical back surface 906 of the wafer 90, as shown in Figures 5 and 6. This maximizes the contact area between the back surface 906 and the downward-facing suction surface 60, and the first suction unit 64 (second suction unit 65) presses mainly the middle region of the dome-shaped curved back surface 906 of the wafer 90 from the radial outside toward the center of the wafer 90.

さらに、第1吸引部64(第2吸引部65)が図5、図6に示すように屈曲していくことで、裏面906の+X方向側の外周領域が剛性部66に接触するため、第1吸引部64(第2吸引部65)がウェーハ90の吸引保持を適切に行えない程過度に屈曲してしまうことが無い。 Furthermore, as the first suction portion 64 (second suction portion 65) bends as shown in Figures 5 and 6, the outer peripheral region on the +X direction side of the back surface 906 comes into contact with the rigid portion 66, so the first suction portion 64 (second suction portion 65) does not bend excessively to the point where it is unable to properly hold the wafer 90 by suction.

また、図5、図6に示すようにロボットハンド6がウェーハ90に向かって下降し始めると、図5、図6に示すウェーハ検知センサ67の投光部671が検知光を下方に向かって単位時間ごとに出射し始める。そして、第1吸引部64(第2吸引部65)がウェーハ90に接触して屈曲し始めるのと並行して、剛性部66の先端側の領域に配置されている投光部671の下方にウェーハ90の裏面906の外周領域が位置付けられ、投光部671が出射する検知光が裏面906によって反射するようになる。そして、受光部672に高さ方向において徐々に近づく裏面906からの反射光の受光部672による受光時間(投光部671が検知光を出射してから反射光を受光するまでの時間)が予め設定した所定時間以下となったら、裏面906と第1吸引部64及び第2吸引部65の吸着面60との接触面積が最大化されたと認識される。または、受光部672の高さ方向において徐々に近づく裏面906からの反射光の受光量が、予め設定された受光量以上となったら裏面906と第1吸引部64及び第2吸引部65の吸着面60との接触面積が最大化されたと認識される。
なお、ウェーハ90の裏面906と屈曲する第1吸引部64及び第2吸引部65の吸着面60との接触面積が最大化されたことの認識は、例えば、図1に示すロボットハンド6を昇降させる電動シリンダ等の昇降機構35のモータ制御等によって、ロボットハンド6の高さ位置から認識してもよい。
5 and 6 , when the robot hand 6 starts to descend toward the wafer 90, the light-projecting unit 671 of the wafer detection sensor 67 shown in FIGS. 5 and 6 starts to emit detection light downward at unit time intervals. Then, in parallel with the first suction unit 64 (second suction unit 65) coming into contact with the wafer 90 and starting to bend, the outer circumferential region of the back surface 906 of the wafer 90 is positioned below the light-projecting unit 671, which is disposed in the region on the tip side of the rigid portion 66, and the detection light emitted by the light-projecting unit 671 begins to be reflected by the back surface 906. Then, when the light-receiving unit 672 receives the reflected light from the back surface 906, which gradually approaches the light-receiving unit 672 in the height direction, for a period of time (the period from when the light-projecting unit 671 emits the detection light to when the light-receiving unit 672 receives the reflected light) that is equal to or shorter than a predetermined period of time, it is recognized that the contact area between the back surface 906 and the suction surfaces 60 of the first suction unit 64 and the second suction unit 65 has been maximized. Alternatively, when the amount of reflected light received from the back surface 906, which gradually approaches the light receiving portion 672 in the height direction, becomes equal to or exceeds a predetermined amount of light received, it is recognized that the contact area between the back surface 906 and the suction surfaces 60 of the first suction portion 64 and the second suction portion 65 has been maximized.
In addition, the fact that the contact area between the back surface 906 of the wafer 90 and the suction surfaces 60 of the curved first suction portion 64 and second suction portion 65 has been maximized may be recognized from the height position of the robot hand 6, for example, by motor control of a lifting mechanism 35 such as an electric cylinder that raises and lowers the robot hand 6 shown in Figure 1.

上記認識がなされると、図5、図6に示す外部配管692に配設された図示しないソレノイドバルブが吸引源69とロボットハンド6の吸引口62とを連通させて、吸引源69が生み出す吸引力が、外部配管692、及び内部吸引路623を介して各吸引口62から吸着面60に伝達される。これによって、屈曲した第1吸引部64及び第2吸引部65の吸着面60とウェーハ90の裏面906との接触面積が最大化された状態で、ロボットハンド6がウェーハ90をバキュームリークすること無く吸引保持した状態になる。 Once this is recognized, a solenoid valve (not shown) arranged in the external piping 692 shown in Figures 5 and 6 connects the suction source 69 to the suction ports 62 of the robot hand 6, and the suction force generated by the suction source 69 is transmitted from each suction port 62 to the suction surface 60 via the external piping 692 and the internal suction path 623. This maximizes the contact area between the suction surfaces 60 of the bent first suction section 64 and second suction section 65 and the back surface 906 of the wafer 90, allowing the robot hand 6 to suction-hold the wafer 90 without vacuum leakage.

次いで、図1に示す昇降機構35でロボットハンド6を上昇させ、ロボットハンド6に吸引保持されるウェーハ90の外周縁903が棚部45上から離間された高さで昇降機構35を停止させ、ウェーハ90を吸引保持したロボットハンド6がロボットハンド水平移動機構34によって+Y方向に移動し、ウェーハ90がロボットハンド6によりカセット4から搬出される。 Next, the robot hand 6 is raised by the lifting mechanism 35 shown in Figure 1, and the lifting mechanism 35 is stopped at a height where the outer edge 903 of the wafer 90 held by suction on the robot hand 6 is separated from the shelf portion 45. The robot hand 6 holding the wafer 90 by suction is moved in the +Y direction by the robot hand horizontal movement mechanism 34, and the wafer 90 is removed from the cassette 4 by the robot hand 6.

その後、例えば、ウェーハ90は、ロボット1により搬送され、デバイス等が形成されていない裏面906が上側に露出するようにして、図示しない研削装置のチャックテーブルで吸引保持され、ウェーハ90の上方から回転する研削ホイールを降下させて、ウェーハ90の上側を向いた裏面906に研削砥石を当接させながら研削され、所定の厚みに薄化される。 Then, for example, the wafer 90 is transported by robot 1 and held by suction on the chuck table of a grinding device (not shown) with the back surface 906, on which no devices or the like are formed, exposed upward. A rotating grinding wheel is then lowered from above the wafer 90, and the wafer 90 is ground while the grinding stone is brought into contact with the back surface 906 facing upward, thereby thinning the wafer 90 to a predetermined thickness.

以下に、研削され薄化された図7に示すウェーハ90をロボットハンド6で吸引保持する場合について説明する。薄化されたウェーハ90は、研削されたことでドーム状の湾曲が解消され、平坦なウェーハとなっている。
まず、第1吸引部64及び第2吸引部65の吸着面60が下側を向いた状態にロボットハンド6がセットされ、ロボットハンド6のU字開口600(図3参照)内にウェーハ90の裏面906の中心が位置するようにロボットハンド6が位置づけられる。また、ロボットハンド6の中心線602上にウェーハ90の裏面906の中心が位置付けられるとともに、ウェーハ90の裏面906の外周側の領域が剛性部66の下面に所定面積重なるように位置付けされる。
7 is held by suction with the robot hand 6. The dome-shaped curvature of the thinned wafer 90 is eliminated by grinding, resulting in a flat wafer.
First, the robot hand 6 is set with the suction surfaces 60 of the first suction unit 64 and the second suction unit 65 facing downward, and the robot hand 6 is positioned so that the center of the back surface 906 of the wafer 90 is located within the U-shaped opening 600 (see FIG. 3 ) of the robot hand 6. Furthermore, the center of the back surface 906 of the wafer 90 is positioned on the center line 602 of the robot hand 6, and the outer peripheral region of the back surface 906 of the wafer 90 is positioned so that a predetermined area overlaps the lower surface of the rigid portion 66.

次いで、図7に示すロボットハンド6が下降して、ウェーハ90の裏面906に接触する。例えば図示しないテーブルに保持されている研削後のウェーハ90は、平坦なウェーハとなっているので、第1吸引部64(第2吸引部65)は屈曲せずに、そのまま、平坦な吸着面60がウェーハ90の平坦な裏面906に接触する。また、ウェーハ検知センサ67が、平坦な吸着面60がウェーハ90の平坦な裏面906に接触したことを検知して、吸引源69が生み出す吸引力が、各吸引口62から吸着面60に伝達される。これによって、第1吸引部64及び第2吸引部65のそれぞれの吸着面60で、ロボットハンド6がウェーハ90を吸引保持した状態になる。 Next, the robot hand 6 shown in FIG. 7 descends and comes into contact with the back surface 906 of the wafer 90. For example, since the ground wafer 90 held on a table (not shown) is a flat wafer, the first suction unit 64 (second suction unit 65) does not bend, and the flat suction surface 60 comes into contact with the flat back surface 906 of the wafer 90. The wafer detection sensor 67 detects that the flat suction surface 60 has come into contact with the flat back surface 906 of the wafer 90, and the suction force generated by the suction source 69 is transmitted from each suction port 62 to the suction surface 60. As a result, the robot hand 6 holds the wafer 90 by suction on the suction surfaces 60 of the first suction unit 64 and second suction unit 65.

図1に示す昇降機構35でロボットハンド6を上昇させ、ロボットハンド6に吸引保持されるウェーハ90が図示しないテーブルから搬出される。ここで、図7に示すウェーハ90にかかる重力G1で第1吸引部64(第2吸引部65)が撓み吸引保持するウェーハ90と共に垂れるが、ウェーハ90の裏面906の外周側の領域が剛性部66の下面に所定面積接触しているため、剛性部66の該接触部分に向かってウェーハ90が該接触部分を上方に押す力G2が加わるため、第1吸引部64(第2吸引部65)の撓みによる垂れが過度にならず適切な範囲で収まり、ロボットハンド6による薄く平坦なウェーハ90の適切な吸引保持が継続される。なお、図5に示す湾曲したウェーハ90がロボットハンド6で吸引保持されている場合も、上記と同様の理由によって第1吸引部64(第2吸引部65)の撓みによる垂れが過度にならないようになっている。 The robot hand 6 is raised by the lifting mechanism 35 shown in FIG. 1, and the wafer 90 held by the robot hand 6 is removed from a table (not shown). Here, the first suction unit 64 (second suction unit 65) bends due to gravity G1 acting on the wafer 90 shown in FIG. 7, causing it to sag along with the wafer 90 being held by suction. However, because a peripheral region of the back surface 906 of the wafer 90 is in contact with the underside of the rigid portion 66 over a predetermined area, a force G2 is applied, pushing the wafer 90 upward toward the contact portion of the rigid portion 66. Therefore, sagging due to the bending of the first suction unit 64 (second suction unit 65) is not excessive and is kept within an appropriate range, allowing the robot hand 6 to continue to properly hold the thin, flat wafer 90 by suction. Even when the curved wafer 90 shown in FIG. 5 is being held by the robot hand 6 by suction, excessive sagging due to the bending of the first suction unit 64 (second suction unit 65) is prevented for the same reasons as above.

上記のように、本発明に係るロボットハンド6は、吸盤等を備えない厚みの薄い板状のロボットハンドであるため、棚部45と棚部45との距離が小さいカセット4の棚部45に載置されているウェーハ90の上方に進入する事ができ、カセット4内に進入したロボットハンド6を下降させることによって、ロボットハンド6が交互に形成された複数のスリット640(スリット650)の幅が変化し、ウェーハ90のドーム状の凸球面である裏面906に倣うように吸着面60を接触させることが可能となる。そして、例えば、ロボットハンド6に配置したウェーハ検知センサ67が反応し、ウェーハ検知センサ67がウェーハ90を検知して、ウェーハ90の裏面906と第1吸引部64及び第2吸引部65の吸着面60との接触面積が最大化されたと認識されてから、ロボットハンド6の吸引口62を吸引源69に連通させることで、ドーム状に反ったウェーハ90をバキュームリークさせることなく適切に吸引保持する事が可能となる。また、ドーム状に湾曲したウェーハ90を例えば研削した後、薄くなったウェーハ90は湾曲が無くなる。ロボットハンド6は、この湾曲が無くなり薄くなったウェーハ90も吸引保持する事が可能で、湾曲していないウェーハ90を収納するカセット4に、加工後のウェーハ90を割らないように搬入できる。
なお、ロボットハンド6を取り付けるロボット1のホルダ38に荷重センサを配置して、ウェーハ90にロボットハンド6を押し付けた力を検知するように構成してもよい。つまり、荷重センサの値で、ウェーハ90のドーム状の凸球面である裏面906に吸着面60が倣ったと認識して、吸引口62を吸引源69に連通させてもよい。
As described above, the robot hand 6 according to the present invention is a thin, plate-like robot hand that does not include suction cups or the like, and therefore can enter above the wafers 90 placed on the shelves 45 of the cassette 4, which have a small distance between them. By lowering the robot hand 6 that has entered the cassette 4, the width of the alternating slits 640 (slits 650) of the robot hand 6 changes, and the suction surface 60 can be brought into contact with the dome-shaped convex spherical back surface 906 of the wafer 90. Then, for example, the wafer detection sensor 67 disposed on the robot hand 6 reacts, detects the wafer 90, and recognizes that the contact area between the back surface 906 of the wafer 90 and the suction surfaces 60 of the first suction unit 64 and the second suction unit 65 has been maximized. Then, by connecting the suction port 62 of the robot hand 6 to the suction source 69, the dome-shaped warped wafer 90 can be appropriately suction-held without vacuum leakage. Furthermore, after a dome-shaped curved wafer 90 is ground, for example, the curve is eliminated from the thinned wafer 90. The robot hand 6 can suction and hold the uncurved and thinned wafer 90, and can carry the processed wafer 90 into a cassette 4 that stores uncurved wafers 90 without breaking it.
A load sensor may be disposed in the holder 38 of the robot 1 to which the robot hand 6 is attached, to detect the force with which the robot hand 6 is pressed against the wafer 90. In other words, the load sensor value may be used to recognize that the suction surface 60 has conformed to the back surface 906, which is a dome-shaped convex spherical surface of the wafer 90, and the suction port 62 may be connected to the suction source 69.

本発明に係るロボットハンド6は上記実施形態に限定されず、その技術的思想の範囲内において種々異なる形態にて実施されてよいことは言うまでもない。また、添付図面に図示されているロボット1やカセット4の各構成の形状等、及びロボットハンド6によってウェーハ90を吸引保持し搬出する各工程についても、これに限定されず、本発明に係るロボットハンド6の効果を発揮できる範囲内で適宜変更可能である。
例えば、ロボットハンド6の第1吸引部64と第2吸引部65との、上下両面に吸引口62がそれぞれ形成され、上面および下面がそれぞれ吸着面となっていてもよい。また、本実施形態においては、ウェーハ90の吸引保持をロボットハンド6は下降しつつ行っているが、図2に示すウェーハ90を上下反転させて、ドーム状に湾曲するように天井部分を下方に向けてカセット4の棚部45に載置したウェーハ90の下方から、ロボットハンド6をウェーハ90の凸球面であり下面となっている裏面906に向かって上昇接近させて、ウェーハ90に接触させた第1吸引部64と、第2吸引部65とを、ウェーハ90の凸球面に沿って指のように屈曲させて吸引保持を行ってもよい。
The robot hand 6 according to the present invention is not limited to the above-described embodiment, and may be embodied in various different forms within the scope of its technical concept. Furthermore, the shapes of the components of the robot 1 and cassette 4 shown in the accompanying drawings, and the steps of suction-holding and transporting the wafer 90 by the robot hand 6 are not limited to those shown in the accompanying drawings, and may be modified as appropriate within the scope of the effects of the robot hand 6 according to the present invention.
For example, the suction ports 62 may be formed on both the upper and lower surfaces of the first suction portion 64 and the second suction portion 65 of the robot hand 6, with the upper and lower surfaces serving as suction surfaces. In this embodiment, the robot hand 6 holds the wafer 90 by suction while descending. However, the wafer 90 shown in FIG. 2 may be placed on the shelf 45 of the cassette 4 with the top facing downwards so as to be curved in a dome shape. The robot hand 6 may then be raised from below the wafer 90 toward the back surface 906, which is a convex spherical lower surface, of the wafer 90, and the first suction portion 64 and the second suction portion 65, which are in contact with the wafer 90, may be bent like fingers along the convex spherical surface of the wafer 90 to hold the wafer by suction.

1:ロボット
3:駆動部 30:ロボットハンド連結柱 31:第1のアーム 32:第2のアーム
34:ロボットハンド水平移動機構 35:昇降機構
36:スピンドル 37:ハウジング 38:ホルダ
4:カセット 44:カセットの開口 45:棚部
6:ロボットハンド
60:吸着面 61:取り付け部 62:吸引口 623:内部吸引路
64:第1吸引部 640:スリット 65:第2吸引部 650:スリット
66:剛性部 660:取り付け用凹み
67:ウェーハ検知センサ 671:投光部 672:受光部 673:センサケース
69:吸引源 692:外部配管
90:ドーム状に湾曲したウェーハ 900:ウェーハの表面 903:ウェーハの外周縁 906:ウェーハの凸球面である裏面
1: Robot 3: Drive unit 30: Robot hand connecting column 31: First arm 32: Second arm
34: Robot hand horizontal movement mechanism 35: Elevation mechanism 36: Spindle 37: Housing 38: Holder
4: Cassette 44: Cassette opening 45: Shelf portion 6: Robot hand 60: Suction surface 61: Mounting portion 62: Suction port 623: Internal suction path 64: First suction portion 640: Slit 65: Second suction portion 650: Slit 66: Rigid portion 660: Mounting recess 67: Wafer detection sensor 671: Light-emitting portion 672: Light-receiving portion 673: Sensor case 69: Suction source 692: External piping 90: Dome-shaped curved wafer 900: Front surface of wafer 903: Outer periphery of wafer 906: Convex spherical back surface of wafer

Claims (1)

ロボットに取り付け、ドーム状に湾曲したウェーハの凸球面を吸引保持する吸引口を吸着面に備えた板状のロボットハンドであって、
後端に配置され該ロボットに取り付ける取り付け部と、ロボットハンドの先端側となり二股になるように形成され該ウェーハを吸引する該吸引口を配置した第1吸引部、及び第2吸引部と、を備え、
該第1吸引部及び該第2吸引部は、該凸球面の中心側となる内側の側面において開口するスリットと、該内側の反対側の側面において開口するスリットとを、該後端から該先端に向かって互に備え、該ウェーハの該凸球面に沿って屈曲可能である
ロボットハンド。
A plate-shaped robot hand is attached to a robot and has a suction port on its suction surface for suction-holding the convex spherical surface of a dome-shaped curved wafer,
a mounting part that is disposed at the rear end and is attached to the robot, a first suction part that is formed so as to be bifurcated at the front end of the robot hand and that has the suction port that sucks the wafer disposed therein, and a second suction part,
The first suction portion and the second suction portion are provided with slits that open on an inner side surface that is on the center side of the convex spherical surface and slits that open on a side surface opposite the inner side, alternately from the rear end to the front end , and are bendable along the convex spherical surface of the wafer.
Robot hand.
JP2021200040A 2021-12-09 2021-12-09 Robot Hand Active JP7827445B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021200040A JP7827445B2 (en) 2021-12-09 2021-12-09 Robot Hand
TW111145040A TWI921627B (en) 2021-12-09 2022-11-24 Manipulator
KR1020220166199A KR20230087386A (en) 2021-12-09 2022-12-02 Robot hand
CN202211546274.1A CN116259573A (en) 2021-12-09 2022-12-05 manipulator

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021200040A JP7827445B2 (en) 2021-12-09 2021-12-09 Robot Hand

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2023085799A JP2023085799A (en) 2023-06-21
JP7827445B2 true JP7827445B2 (en) 2026-03-10

Family

ID=86678271

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021200040A Active JP7827445B2 (en) 2021-12-09 2021-12-09 Robot Hand

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7827445B2 (en)
KR (1) KR20230087386A (en)
CN (1) CN116259573A (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117381662A (en) * 2023-10-13 2024-01-12 哈尔滨秋冠光电科技有限公司 A device for recycling a pendulum box after grinding sapphire substrate sheets and a method of using the same
EP4651193A1 (en) * 2024-05-16 2025-11-19 ASML Netherlands B.V. Carrier, assessment apparatus, and method of using the carrier
WO2025218988A1 (en) * 2024-04-16 2025-10-23 Asml Netherlands B.V. Carrier, assessment apparatus, and method of using the carrier

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003184820A (en) 2001-12-18 2003-07-03 Seiko Epson Corp Flexible actuator
JP2004363372A (en) 2003-06-05 2004-12-24 Tokyo Electron Ltd Workpiece mounting mechanism
JP2008046092A (en) 2006-08-21 2008-02-28 Ritsumeikan Motion detection sensor and actuator system
US20100156125A1 (en) 2008-12-22 2010-06-24 Samsung Electronics Co., Ltd. Robot hand and humanoid robot having the same
JP2015013360A (en) 2013-07-08 2015-01-22 株式会社安川電機 Adsorption structure, robot hand and robot
JP2015066395A (en) 2013-10-01 2015-04-13 セイコーエプソン株式会社 Finger assist device
JP2016049596A (en) 2014-08-29 2016-04-11 八千代工業株式会社 Parison conveyance device
JP2017045784A (en) 2015-08-25 2017-03-02 株式会社ディスコ Robot hand
JP2017200712A (en) 2016-05-02 2017-11-09 Towa株式会社 Adsorption unit, plate-shaped member conveying unit, resin sealing device, plate-shaped member conveying method and resin sealing method
JP2019042822A (en) 2017-08-30 2019-03-22 Towa株式会社 Adsorption mechanism, adsorption hand, conveyance mechanism, resin molding apparatus, conveyance method, and method of manufacturing resin molded article
JP2021038466A (en) 2020-11-20 2021-03-11 株式会社荏原製作所 Substrate holder, carrier system carrying substrate in electronic device manufacturing installation and electronic device manufacturing installation

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7396815B2 (en) 2019-06-12 2023-12-12 株式会社ディスコ robot hand

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003184820A (en) 2001-12-18 2003-07-03 Seiko Epson Corp Flexible actuator
JP2004363372A (en) 2003-06-05 2004-12-24 Tokyo Electron Ltd Workpiece mounting mechanism
JP2008046092A (en) 2006-08-21 2008-02-28 Ritsumeikan Motion detection sensor and actuator system
US20100156125A1 (en) 2008-12-22 2010-06-24 Samsung Electronics Co., Ltd. Robot hand and humanoid robot having the same
JP2015013360A (en) 2013-07-08 2015-01-22 株式会社安川電機 Adsorption structure, robot hand and robot
JP2015066395A (en) 2013-10-01 2015-04-13 セイコーエプソン株式会社 Finger assist device
JP2016049596A (en) 2014-08-29 2016-04-11 八千代工業株式会社 Parison conveyance device
JP2017045784A (en) 2015-08-25 2017-03-02 株式会社ディスコ Robot hand
JP2017200712A (en) 2016-05-02 2017-11-09 Towa株式会社 Adsorption unit, plate-shaped member conveying unit, resin sealing device, plate-shaped member conveying method and resin sealing method
JP2019042822A (en) 2017-08-30 2019-03-22 Towa株式会社 Adsorption mechanism, adsorption hand, conveyance mechanism, resin molding apparatus, conveyance method, and method of manufacturing resin molded article
JP2021038466A (en) 2020-11-20 2021-03-11 株式会社荏原製作所 Substrate holder, carrier system carrying substrate in electronic device manufacturing installation and electronic device manufacturing installation

Also Published As

Publication number Publication date
CN116259573A (en) 2023-06-13
JP2023085799A (en) 2023-06-21
KR20230087386A (en) 2023-06-16
TW202324583A (en) 2023-06-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7827445B2 (en) Robot Hand
JP5123851B2 (en) Work piece container for storing the work piece
JP7733152B2 (en) Transport System and Aligner Module
EP3163603B1 (en) Method of operating a robot having an end effector
KR100346773B1 (en) Wafer Tray and Ceramic Blade for Semiconductor Processing Equipment
US6805616B2 (en) Wafer planarization apparatus and planarization method thereof
US7011484B2 (en) End effector with tapered fingertips
JP2002329769A (en) Alignment equipment
KR20200001966A (en) Alignment device, semiconductor wafer processing device, and alignment method
JP7145557B1 (en) Semiconductor die pick-up device and pick-up method
CN112077830B (en) Robot arm
JP7562377B2 (en) How to teach an industrial robot
TWI921627B (en) Manipulator
KR20220094120A (en) Tape mounter
CN105914164B (en) Processing device
JP2002305233A (en) Arm for carrying wafer
JP2022076061A (en) Industrial robot
JP7734168B2 (en) Wafer inventory detection device
JPH11116047A (en) Robot hand for thin substrate carrying robot
KR100827319B1 (en) End effector for wafer alignment with rotary fingers
JP2003168723A (en) Wafer attitude aligning device and automatic guided vehicle mounted with the same
KR20040059478A (en) Wafer transportation handler blade
KR20010017677A (en) Device for moving wafer
JP2001031181A (en) Mechanism and method for housing semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20241018

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20250731

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20250812

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20251006

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20260203

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20260226

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7827445

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150