JP7827664B2 - 蓄電デバイスの製造装置 - Google Patents

Description

本発明は、蓄電デバイスの製造装置に関する。

特許第５５７２６７６号には、シート長手方向に沿って間欠的に複数の積層部が形成された帯状のシートを巻回する巻回装置が開示されている。巻回装置は、巻芯と、第１押さえ手段と、検出手段と、位置調整手段と、第２押さえ手段とを備えている。巻芯は、回転可能に設けられている。第１押さえ手段は、巻芯へ巻き取られたシートを押さえつつ、当該巻芯と一体に回転可能に設けられている。検出手段は、巻芯へ巻き取られるシート上の積層部のシート長手方向の端部の位置を検出する。位置調整手段は、巻芯へ巻き取られるシートを把持しつつ、少なくともシート巻取り方向に沿って移動可能に構成されている。また、位置調整手段は、検出手段の検出結果に基づいて、シート上の積層部のシート長手方向端部位置を予め設定した基準位置に位置合せする。第２押さえ手段は、位置合せをした状態のシートを押さえる。かかる巻回装置によると、複数の積層部の位置を精度良く揃えていくことができるとされている。

特許第５５７２６７６号

本発明者は、蓄電デバイスの電極タブの位置精度を向上させたいと考えている。

ここで開示される蓄電デバイスの製造装置は、巻軸と、第１搬送装置と、第１レーザタブカット処理装置と、第２搬送装置と、第２レーザタブカット処理装置と、巻取装置と、制御装置とを備えている。第１搬送装置は、帯状の正極シートを巻軸に向けて搬送する。第１レーザタブカット処理装置は、第１搬送装置で搬送される正極シートに、予め定められた間隔でタブを形成する。第２搬送装置は、帯状の負極シートを巻軸に向けて搬送する。第２レーザタブカット処理装置は、第２搬送装置で搬送される負極シートに、予め定められた間隔でタブを形成する。巻取装置は、巻軸を回転させ、第１レーザタブカット処理装置によってタブが形成された正極シートと、第２レーザタブカット処理装置によってタブが形成された負極シートを巻き取る。正極シートは、帯状の正極集電箔と、帯状の正極集電箔のうち幅方向の第１縁部に設定された未形成領域を除く領域に形成された正極活物質層とを有している。負極シートは、帯状の負極集電箔と、帯状の負極集電箔のうち幅方向の第１縁部に設定された未形成領域を除く領域に形成された負極活物質層とを有している。制御装置は、巻軸の回転角に対する、巻軸に巻き取られる正極シートのタブピッチを取得する第１処理と、巻軸の回転角に対する、巻軸に巻き取られる負極シートのタブピッチを取得する第２処理と、第１処理で取得された、巻軸の回転角に対する、巻軸に巻き取られる正極シートのタブピッチに基づいて、第１レーザタブカット処理装置が、正極シートに形成するタブの間隔を調整する第３処理と、第２処理で取得された、巻軸の回転角に対する、巻軸に巻き取られる負極シートのタブピッチに基づいて、第２レーザタブカット処理装置が、負極シートに形成するタブの間隔を調整する第４処理とが実行されるように構成されている。かかる蓄電デバイスの製造装置では、タブの損傷が低減される。

図１は、蓄電デバイス１の断面図である。 図２は、巻回電極体２０の模式図である。 図３は、蓄電デバイスの製造装置１００を示す模式図である。 図４は、巻軸１１０の模式図である。 図５は、タブ２１ｄが形成される正極シート２１の模式図である。 図６は、制御装置１８０で実行される処理を示すブロック図である。 図７は、第１タブ検出装置２０１を示す模式図である。 図８は、他の実施形態にかかる、制御装置１８０で実行される処理を示すブロック図である。 図９は、画像検査装置２０４，２０５を示す模式図である。 図１０は、画像検査装置２０６を示す模式図である。 図１１は、仮プレス後の巻回体２０ａを示す模式図である。 図１２は、他の実施形態にかかる、制御装置１８０で実行される処理を示すブロック図である。 図１３は、厚み検査装置２０７を示す模式図である。 図１４は、他の実施形態にかかる、制御装置１８０で実行される処理を示すブロック図である。 図１５は、他の実施形態にかかる、制御装置１８０で実行される処理を示すブロック図である。 図１６は、他の実施形態にかかる、制御装置１８０で実行される処理を示すブロック図である。 図１７は、他の実施形態にかかる、制御装置１８０で実行される処理を示すブロック図である。

以下、ここで開示される技術の一実施形態について図面を参照して説明する。ここで説明される実施形態は、当然ながら特に本発明を限定することを意図したものではない。各図面は模式的に描かれており、必ずしも実物を反映していない。また、同一の作用を奏する部材・部位には、適宜に同一の符号を付し、重複する説明は適宜に省略される。

図１は、蓄電デバイス１の断面図である。図１では、ケース１０の正面側の幅広面が仮想的に取り除かれ、ケース１０の内部が見えるように蓄電デバイス１が模式的に図示されている。蓄電デバイス１は、ここで開示される蓄電デバイスの製造装置１００によって製造される蓄電デバイスの一形態であり、ケース１０の内部に巻回電極体２０が収容されている。ここで開示される蓄電デバイスの製造装置によって製造される蓄電デバイスは、図１に示された形態に限定されない。

《蓄電デバイス１》
蓄電デバイス１は、横長の角形蓄電デバイスである。蓄電デバイス１は、図１に示されているように、ケース１０と、巻回電極体２０と、正極端子５０と、負極端子６０とを有している。ケース１０は、ケース本体１１と、蓋１２とを有している。

〈ケース本体１１〉
ケース本体１１は、有底の角形ケースであり、横長の矩形の収容空間を有している。ケース本体１１は、巻回電極体２０を主として収容している。ケース本体１１は、略長方形の底面と、底面の長辺に沿った対向する一対の幅広面と、底面の短辺に沿った対向する一対の幅狭面とを有している。底面に対向する面には、巻回電極体２０を収容するための開口１１ｆが形成されている。開口１１ｆには、蓋１２が取り付けられている。

〈蓋１２〉
蓋１２は、ケース１０の開口１１ｆに装着されている。蓋１２は、ケース本体１１の開口１１ｆに装着されうる略長方形の板材で構成されている。蓋１２は、略長方形の板材であり、長手方向の片側に正極端子５０を取り付けるための取付孔１２ａが形成されており、反対側に負極端子６０を取り付けるための取付孔１２ｂが形成されている。

蓋１２には、注液孔１２ｃと、ガス排出弁１２ｄとが設けられている。注液孔１２ｃは、密閉後のケース１０の内部に非水電解液を注液するために設けられた貫通孔である。注液孔１２ｃは、非水電解液の注液後に封止部材１２ｅが装着されることによって封止されている。また、ガス排出弁１２ｄは、ケース１０内で大量のガスが発生した際に破断（開口）し、当該ガスを排出するように設計された薄肉部である。

非水電解液には、従来公知の蓄電デバイスにおいて使用されているものを特に制限なく使用できる。例えば、非水電解液は、非水系溶媒に支持塩を溶解させることによって調製される。

〈正極端子５０，負極端子６０〉
正極端子５０と、負極端子６０とは、蓋１２に取り付けられている。巻回電極体２０は、正極端子５０と、負極端子６０とに取り付けられた状態で、ケース本体１１に収容されている。正極端子５０は、外部接続部５１と、軸部５２とを備えている。負極端子６０は、外部接続部６１と、軸部６２とを備えている。正極端子５０および負極端子６０は、それぞれインシュレータ７０を介して接続されている。正極端子５０および負極端子６０は、それぞれケース１０内に設けられた内部端子５３，６３と接続されている。

蓋１２の外側には、インシュレータ７０を介在させて外部接続部５１，６１が配置されている。蓋１２の内側には、ガスケット８０を介在させて内部端子５３，６３が取り付けられている。インシュレータ７０およびガスケット８０は、絶縁材である。インシュレータ７０およびガスケット８０は、所要の剛性を有する樹脂である。内部端子５３，６３は、それぞれ取付孔を有し、正極端子５０とおよび負極端子６０の軸部５２，６２と接続されている。軸部５２，６２の下端は、内部端子５３，６３の取付孔の周りにかしめられている。

正極端子５０と負極端子６０は、インシュレータ７０と、ガスケット８０とを介して電気的に絶縁された状態で、かつ、気密性が確保された状態で、蓋１２に取り付けられている。正極端子５０と負極端子６０は、内部端子５３，６３を介して巻回電極体２０が接続されている。巻回電極体２０は、このように蓋１２に取り付けられた状態で、ケース本体１１に収容される。１つの蓋１２に、複数の巻回電極体２０が取り付けられてもよく、１つのケース１０に、複数の巻回電極体２０が収容されてもよい。

〈巻回電極体２０〉
図２は、巻回電極体２０の模式図である。図２では、巻回電極体２０は、一端が展開された状態で図示されている。巻回電極体２０は、例えば、図２に示されているように、それぞれ長尺の帯状の正極シート２１と、第１のセパレータ３１と、負極シート２２と、第２のセパレータ３２とが、長手方向を揃えて順に重ねられつつ、幅方向に設定された巻回軸ＷＬ回りに巻回されている。正極シート２１および負極シート２２は、それぞれ正極板および負極板とも称される。

正極シート２１は、帯状の正極集電箔２１ａと、正極活物質層２１ｂと、タブ２１ｄとを備えている。正極集電箔２１ａは、正極シート２１の基材である。正極集電箔２１ａは、所定の金属箔（例えば、アルミニウム箔）で形成されている。帯状の正極集電箔２１ａにおいて、幅方向の一端（図２中の左側）には、第１縁部２１ａ１が設定されており、他端（図２中の右側）には、第２縁部２１ａ２が設定されている。帯状の正極集電箔２１ａのうち幅方向の第１縁部２１ａ１には、未形成領域２１ａ３が設定されている。正極活物質層２１ｂは、未形成領域２１ａ３を除く領域に形成されている。正極活物質層２１ｂは、正極集電箔２１ａに、幅方向の片側の端部から一定の幅で形成されている。正極集電箔２１ａのうち正極活物質層２１ｂが形成された部分を除く部分には、絶縁性のセラミック粒子を含む保護層２１ｃが形成されていてもよい。さらに、正極集電箔２１ａには、保護層２１ｃが形成された側において、幅方向に突出したタブ２１ｄが形成されている。タブ２１ｄは、保護層２１ｃが形成された側において部分的に所定の幅で突出した部位である。タブ２１ｄでは、正極集電箔２１ａが露出している。なお、保護層２１ｃは、正極シートの必須の構成要素ではない。

正極活物質層２１ｂは、正極活物質を含む層である。正極活物質は、例えば、リチウムイオン二次電池では、リチウム遷移金属複合材料のように、充電時にリチウムイオンを放出し、放電時にリチウムイオンを吸収しうる材料である。正極活物質は、一般的にリチウム遷移金属複合材料以外にも種々提案されており、特に限定されない。

負極シート２２は、帯状の負極集電箔２２ａと、負極活物質層２２ｂと、タブ２２ｄとを備えている。負極集電箔２２ａは、負極シート２２の基材である。負極集電箔２２ａは、所定の金属箔（例えば、銅箔箔）で形成されている。帯状の負極集電箔２２ａにおいて、幅方向の一端（図２中の左側）には、第１縁部２２ａ１が設定されており、他端（図２中の右側）には、第２縁部２２ａ２が設定されている。帯状の負極集電箔２２ａのうち幅方向の第１縁部２２ａ１には、未形成領域２２ａ３が設定されている。負極活物質層２２ｂは、未形成領域２２ａ３を除く領域に形成されている。負極活物質層２２ｂは、負極集電箔２２ａに、幅方向の片側の端部から一定の幅で形成されている。負極集電箔２２ａには、幅方向の片側に突出したタブ２２ｄが形成されている。タブ２２ｄは、未形成領域２２ａ３が設けられた側において外側に向かって部分的に所定の幅で突出した部位である。タブ２２ｄでは、負極集電箔２２ａが露出している。

この実施形態では、正極シート２１および負極シート２２では、同じ側の第１縁部２１ａ１，２２ａ１に未形成領域２１ａ３，２２ａ３が設定されているが、かかる形態に限定されない。未形成領域２１ａ３，２２ａ３は、正極シート２１および負極シート２２の第２縁部２１ａ２，２２ａ２に設定されていてもよい。未形成領域２１ａ３，２２ａ３のうち、一方は第１縁部２１ａ１，２２ａ１に設定され、他方は第２縁部２１ａ２，２２ａ２に設定されていてもよい。この場合、タブ２１ｄ，２２ｄは、それぞれ正極シート２１および負極シート２２から互いに異なる方向（例えば、反対方向）に突出しうる。

負極活物質層２２ｂは、負極活物質を含む層である。負極活物質には、上述した正極活物質との関係において電荷担体を可逆的に吸蔵・放出できれば特に限定されない。かかる負極活物質としては、炭素材料、シリコン系材料などが挙げられる。

図２に示されているように、負極シート２２の負極活物質層２２ｂは、セパレータ３１，３２を介在させた状態で正極シート２１の正極活物質層２１ｂを覆っているとよい。セパレータ３１，３２は、さらに正極シート２１の正極活物質層２１ｂおよび負極シート２２の負極活物質層２２ｂを覆っているとよい。また、図示は省略するが、正極シート２１と、負極シート２２と、セパレータ３１，３２の長さは、セパレータ３１，３２＞負極シート２２＞正極シート２１であるとよい。正極活物質層２１ｂの幅Ｌａと、負極活物質層２２ｂの幅Ｌｎと、セパレータ３１，３２の幅Ｌｓとは、Ｌｓ＞Ｌｎ＞Ｌａであるとよい。正極シート２１と負極シート２２とが重なる部位で、正極活物質層２１ｂが形成された部位は、負極活物質層２２ｂで覆われている。また、正極シート２１に負極活物質層２２ｂが重なる部位で、正極活物質層２１ｂが対向しない部分には保護層２１ｃが形成されている。

図２に示されているように、正極シート２１のタブ２１ｄは、セパレータ３１，３２の幅方向の片側にはみ出ている。正極シート２１には、長手方向に所定のピッチで複数のタブ２１ｄが設けられている。負極シート２２のタブ２２ｄは、正極シート２１のタブ２１ｄがはみ出ている側と同じ側においてセパレータ３１，３２からはみ出ている。負極シート２２には、長手方向に所定のピッチで複数のタブ２２ｄが設けられている。正極シート２１の複数のタブ２１ｄと、負極シート２２の複数のタブ２２ｄは、巻回電極体２０に巻回された後で、概ね同じ位置になるように予め定められたピッチで設けられている。

巻回電極体２０は、図１および図２に示されているように、蓋１２が装着される開口１１ｆからケース本体１１に収容される。このため、開口１１ｆの形状に合わせて扁平な形状である。巻回電極体２０を作製するときは、かかる巻回される時に扁平な形状の軸に巻回されてもよい。また、巻回電極体２０を作製するときは、円筒形状の軸に巻回された後で、扁平にプレス成形してもよい。巻回電極体２０とケース本体１１とは、巻回電極体２０とケース本体１１との間に配置された樹脂製の絶縁シート（図示省略）によって、電気的に絶縁されている。

ところで、蓄電デバイスに用いられる巻回電極体を製造する方法として、予めタブが形成された正極シートと負極シートを用意し、巻回する方法が考えられる。例えば、正極シートと負極シートを用意する際、予め設定された加工条件に従って正極シートと負極シートにタブを形成する。タブが形成された正極シートと、負極シートとを用意した後に、正極シートと、負極シートとをセパレータを介して巻軸上で巻回する。これに対して、本発明者は、正極シートと負極シートをレーザでカットし、タブを形成しながら巻回することを考えている。また、本発明者の知見では、正極シートと負極シートが巻回される際、必ずしもタブが一定の位置に重ねられず、予め定められた許容範囲内においてタブの位置がずれうる。正極シートと負極シートの面内において厚みのばらつきが大きい場合等には、予め定められた許容範囲を超えてタブのずれが生じうる。また、巻回後の巻回体の加工（プレス等）によってタブがずれる場合がある。特に、巻回電極体が大型化し、巻回数が多くなると、タブのずれが大きくなりやすい。

《蓄電デバイスの製造装置１００》
蓄電デバイスの製造装置１００は、蓄電デバイス１を製造する装置である。図３は、蓄電デバイスの製造装置１００を示す模式図である。図４は、巻軸１１０の模式図である。図３に示されているように、蓄電デバイスの製造装置１００は、巻軸１１０と、第１搬送装置１２０と、第２搬送装置１３０と、第３搬送装置１４０，１４１と、第１レーザタブカット処理装置１５０と、第２レーザタブカット処理装置１６０と、巻取装置１７０と、制御装置１８０とを備えている。蓄電デバイスの製造装置１００は、プレス装置２００を備えていてもよい。

蓄電デバイスの製造装置１００では、第１搬送装置１２０、第２搬送装置１３０および第３搬送装置１４０，１４１によって、正極シート２１、負極シート２２およびセパレータ３１，３２がそれぞれ搬送される。正極シート２１および負極シート２２は、搬送中、第１レーザタブカット処理装置１５０および第２レーザタブカット処理装置１６０によってそれぞれタブ２１ｄ，２２ｄが形成される。タブ２１ｄ，２２ｄが形成された正極シート２１および負極シート２２は、巻取装置１７０によって巻軸１１０に巻き取られ、巻回体２０ａが作製される。このように、蓄電デバイスの製造装置１００では、正極シート２１および負極シート２２にタブ２１ｄ，２２ｄが形成されつつ巻回される。以下、各装置について説明する。

〈巻軸１１０〉
巻軸１１０は、図４に示されているように、正極シート２１と、負極シート２２と、セパレータ３１，３２とを巻き取る軸部材である。正極シート２１と負極シート２２は、間にセパレータ３１，３２が介在するように巻き取られる。

この実施形態では、巻軸１１０は、略円柱軸状の部材である。巻軸１１０の形状は、特に限定されず、断面が真円状であってもよく、扁平状であってもよい。この実施形態では、巻軸１１０には、スリット１１１が形成されている。スリット１１１は、巻軸１１０の中心軸（巻回軸）を通るように形成されている。巻軸１１０は、スリット１１１によって径方向に分割された形状である。なお、巻軸１１０には、必ずしもスリットが形成されていなくてもよい。

なお、巻軸１１０には、種々の追加の構成が設けられていてもよい。例えば、巻軸１１０には、巻軸１１０に巻取られるシート（この実施形態では、正極シート２１、負極シート２２およびセパレータ３１，３２）を吸引するための構成が設けられていてもよい。巻軸１１０の内部には、外部に対して負圧となるような空間が形成されていてもよい。巻軸１１０には、当該空間から巻軸１１０の表面に向かって貫通する孔が形成されていてもよい。当該孔は、巻軸１１０に巻取られるシートを吸引する吸引孔として作用しうる。これによって、シートの巻回の際に、シートの位置がずれにくい。また、巻軸１１０には、巻軸１１０に巻取られるシートを切断する際の受け部となる溝が設けられていてもよい。例えば、シートが巻軸１１０に巻取られた後、シートが切断される際には、当該溝にカッターの刃が下ろされてもよい。これによって、シートの切断の際に巻軸１１０およびカッターの刃が損傷しにくくなる。

巻軸１１０には、正極シート２１と、負極シート２２と、セパレータ３１，３２とが取り付けられる。巻軸１１０には、正極シート２１と負極シート２２が接触しないように、正極シート２１と負極シート２２の間にセパレータ３１，３２が介在するように取り付けられる。正極シート２１、負極シート２２およびセパレータ３１，３２は、それぞれの先端がスリット１１１に挟み込まれることによって巻軸１１０に固定されていてもよい。巻軸１１０は、巻取装置１７０（図３参照）によって周方向に回転駆動される。

〈巻取装置１７０〉
巻取装置１７０は、巻軸１１０を回転させる装置である。巻取装置１７０が巻軸１１０を回転させることによって、正極シート２１および負極シート２２が巻軸１１０に巻き取られる。巻取装置１７０は、巻軸１１０を回転させることができる限りにおいて特に限定されない。巻取装置１７０としては、例えば、モータが用いられうる。

正極シート２１および負極シート２２は、巻軸１１０の回転角に対して予め定められた位置にタブ２１ｄ，２２ｄが配置されるように、巻軸１１０に巻き取られる。正極シート２１および負極シート２２は、正極シート２１のタブ２１ｄおよび負極シート２２のタブ２２ｄがそれぞれ径方向において重なるように、巻軸１１０に巻き取られる。この実施形態では、正極シート２１のタブ２１ｄおよび負極シート２２のタブ２２ｄは、それぞれ周方向の異なる位置において重なるようにタブ２１ｄ，２２ｄの位置が設定されている。この実施形態では、正極シート２１および負極シート２２は、タブ２１ｄ，２２ｄが巻軸１１０の基準線に対して所定の角度において重ねられるように巻き取られる。なお、巻軸１１０の基準線は、巻軸１１０の径方向に沿った任意の線とすることができる。この実施形態では、正極タブ２１ｄと負極シート２２は、スリット１１１を挟んで対称となる位置に重ねられる。重ねられた正極タブ２１ｄと負極シート２２は、それぞれ周方向において２箇所に配置される。

巻軸１１０には、図３に示されているように、第１搬送装置１２０、第２搬送装置１３０および第３搬送装置１４０，１４１によって、正極シート２１、負極シート２２およびセパレータ３１，３２がそれぞれ搬送される。

〈第１搬送装置１２０、第２搬送装置１３０、第３搬送装置１４０，１４１〉
第１搬送装置１２０は、帯状の正極シート２１を巻軸１１０に向けて搬送する装置である。第２搬送装置１３０は、帯状の負極シート２２を巻軸１１０に向けて搬送する装置である。第３搬送装置１４０，１４１は、帯状のセパレータ３１，３２を巻軸１１０に向けて搬送する装置である。

正極シート２１、負極シート２２およびセパレータ３１，３２は、それぞれ巻出軸１２２，１３２，１４２，１４３に巻かれている。第１搬送装置１２０、第２搬送装置１３０、第３搬送装置１４０，１４１は、それぞれ巻出軸１２２，１３２，１４２，１４３に接続されている。巻出軸１２２，１３２，１４２，１４３には、それぞれ正極ロール１２４、負極ロール１３４およびセパレータロール１４４，１４５が巻かれている。正極ロール１２４は、タブ２１ｄが形成される前の帯状の正極シート２１が巻かれたロールである。負極ロール１３４は、タブ２２ｄが形成される前の帯状の負極シート２２が巻かれたロールである。セパレータロール１４４，１４５は、それぞれ帯状のセパレータ３１，３２が巻かれたロールである。

第１搬送装置１２０、第２搬送装置１３０、第３搬送装置１４０，１４１は、それぞれ巻出軸１２２，１３２，１４２，１４３を回転駆動する。これによって、巻出軸１２２，１３２，１４２，１４３から、正極ロール１２４、負極ロール１３４およびセパレータロール１４４，１４５がそれぞれ巻き出される。第１搬送装置１２０、第２搬送装置１３０、第３搬送装置１４０，１４１としては、巻出軸１２２，１３２，１４２，１４３を回転させることができる限りにおいて特に限定されない。第１搬送装置１２０、第２搬送装置１３０、第３搬送装置１４０，１４１としては、例えば、モータ等が用いられうる。

搬送速度は、制御装置１８０に設定された搬送条件に従って制御されうる。正極シート２１、負極シート２２およびセパレータ３１，３２は、それぞれ第１搬送装置１２０、第２搬送装置１３０、第３搬送装置１４０，１４１によって略一定速度で巻軸１１０に搬送されうる。正極シート２１、負極シート２２およびセパレータ３１，３２は、それぞれ予め設定された搬送経路を搬送されうる。搬送経路は、例えば、ニップローラ、アキュームレータ、テンションローラ、ガイドローラ等によって設定されていてもよい。正極シート２１の搬送経路には、第１レーザタブカット処理装置１５０が設けられている。負極シート２２の搬送経路には、第２レーザタブカット処理装置１６０が設けられている。この実施形態では、予め定められた巻回数の巻回体２０ａが作製されると、シートの搬送は停止される。シートが新たに巻軸１１０に取り付けられると、第１搬送装置１２０、第２搬送装置１３０、第３搬送装置１４０，１４１によってシートの搬送が開始される。搬送される正極シート２１および負極シート２２に対してタブ加工が開始される。

〈第１レーザタブカット処理装置１５０、第２レーザタブカット処理装置１６０〉
第１レーザタブカット処理装置１５０は、正極シート２１に予め定められた間隔でタブ２１ｄを形成する装置である。第１レーザタブカット処理装置１５０は、第１搬送装置１２０で搬送される正極シート２１の未形成領域２１ａ３にタブ２１ｄを形成する。第２レーザタブカット処理装置１６０は、負極シート２２に予め定められた間隔でタブ２２ｄを形成する装置である。第２レーザタブカット処理装置１６０は、第２搬送装置１３０で搬送される負極シート２２の未形成領域２２ａ３にタブ２２ｄを形成する。この実施形態では、正極シート２１および負極シート２２には、幅方向において同じ第１縁部２１ａ１，２２ａ１に形成される。しかしながら、かかる形態に限定されず、正極シート２１および負極シート２２のうち、一方には第１縁部にタブが形成され、他方には第２縁部にタブが形成されてもよい。

以下、正極シート２１にタブ２１ｄを形成する第１レーザタブカット処理装置１５０を例にして、タブの形成について説明する。第２レーザタブカット処理装置１６０については、第１レーザタブカット処理装置１５０と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。

第１レーザタブカット処理装置１５０は、例えば、チャンバと、レーザ発振器と、スキャナとを備えうる。チャンバは、正極シート２１にタブ２１ｄを形成する空間を囲っている。正極シート２１は、チャンバ内を搬送されつつレーザが照射され、タブ２１ｄが形成されうる。レーザ発振器は、レーザを照射する装置である。レーザの波長、周波数、出力等は適宜設定される。レーザ発振器は、レーザの照射角度、位置等を制御するスキャナに取り付けられていてもよい。スキャナによってレーザの照射が制御されることによって、正極シート２１に照射されるレーザの軌跡が定められうる。

図５は、タブ２１ｄが形成される正極シート２１の模式図である。図５では、正極シート２１に照射されるレーザの軌跡Ｌは、破線で示されている。図５に示されているように、搬送される正極シート２１は、幅方向の第１縁部２１ａ１に未形成領域２１ａ３が形成されている。幅方向の第２縁部２１ａ２は、未形成領域２１ａ３が形成されておらず、正極活物質層２１ｂに覆われている。レーザは、未形成領域２１ａ３が形成された第１縁部２１ａ１側に照射される。レーザの軌跡Ｌに応じて、正極シート２１の第１縁部２１ａ１側の端部が切断される。

タブ２１ｄが形成される領域では、軌跡Ｌは、タブ２１ｄの形状および寸法に沿うように設定される。タブ２１ｄが形成される領域の間では、軌跡Ｌは、正極シート２１の長さ方向に沿ってタブ２１ｄのピッチに応じた長さ（隣り合うタブ２１ｄの間隔Ｇ）だけ正極シート２１の上流側に向かうように設定されている。これによって、正極シート２１には、予め定められたピッチで予め定められた形状のタブ２１ｄが形成される。

この実施形態では、タブ２１ｄが形成される領域の間では、軌跡Ｌは、長さ方向に沿って正極活物質層２１ｂを通るように設定されている。これによって、正極シート２１には、基端の一部まで正極活物質層２１ｂに覆われたタブ２１ｄが形成される。なお、正極活物質の無駄を減らすため、軌跡Ｌは、未形成領域２１ａ３近傍に設定されうる。かかる形態に限定されず、軌跡Ｌは、未形成領域２１ａ３のみを通るように設定されてもよい。これによって、正極活物質の無駄が減少しうる。レーザによって正極シート２１から切断された破片は、図示しない廃材分離装置によって回収されうる。

タブ２１ｄのピッチ、寸法等は、目的とする巻回電極体２０（図２参照）の構成に応じて適宜設定される。形成されるタブ２１ｄのピッチおよびタブ２１ｄの間隔Ｇは、一定ではなく、巻回体２０ａ（図４参照）が作製された際、巻回された正極シート２１のタブ２１ｄが径方向に重なるように、タブ２１ｄのピッチが設定されている。

図３に示されているように、第１レーザタブカット処理装置１５０によってタブ２１ｄが形成された正極シート２１と、第２レーザタブカット処理装置１６０によってタブ２２ｄが形成された正極シート２１とは、巻取装置１７０によって巻軸１１０に巻き取られる。巻軸１１０に対して予め定められた巻回数、正極シート２１、負極シート２２およびセパレータ３１，３２が巻かれると、巻取装置１７０は停止される。巻軸１１０に巻き取られている正極シート２１、負極シート２２およびセパレータ３１，３２は、図示しないカッター等で切断され、外周面のセパレータ３１，３２がテープ等で留められ、巻回体２０ａが作製される。巻回体２０ａは、図示しない取り出し装置によって巻軸から取り出される。取り出した巻回体２０ａは、略円筒状である。巻回体２０ａは、プレス装置２００に送られる。

〈プレス装置２００〉
プレス装置２００は、巻回体２０ａを仮プレスする装置である。プレス装置２００としては、公知のプレス機等が用いられうる。プレス装置２００では、巻回体２０ａが予め定められた方向に沿ってプレスされる。巻回体２０ａでは、周方向においてそれぞれ２箇所に設けられているタブ２１ｄおよびタブ２２ｄが、プレス後にそれぞれ重なるようにプレスされる。これによって、扁平な巻回体２０ａが作製される。

仮プレスされた巻回体２０ａを、仮プレスよりも強いプレス圧でプレスし、扁平な巻回電極体２０を作製する。作製された巻回電極体２０をケースに収容し、封止し、電解液を注液し、組立体を用意する。組立体に、公知の方法で初期充電処理およびエージング処理を施し、蓄電デバイス１（図１参照）を製造することができる。

〈制御装置１８０〉
制御装置１８０は、第１レーザタブカット処理装置１５０および第２レーザタブカット処理装置１６０の加工条件を制御する。制御装置１８０は、記憶部１８１と、第１取得部１８２と、第１算出部１８３と、第１調整部１８４と、第２取得部１８５と、第２算出部１８６と、第２調整部１８７と、第３取得部１８８と、第３算出部１８９と、第３調整部１９０とを備えている。制御装置１８０は、例えば、ＥＣＵ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｕｎｉｔ）、マイコン搭載回路基板等のコンピュータでありうる。コンピュータは、例えば、予め定められたプログラムに沿って所要の機能を奏する。コンピュータの各機能は、コンピュータの演算装置（プロセッサ、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）、ＭＰＵ（Ｍｉｃｒｏ－Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）とも称される）や記憶装置（メモリやハードディスクなど）と、ソフトウエアとの協働によって処理される。

蓄電デバイスの製造装置１００では、第１レーザタブカット処理装置１５０および第２レーザタブカット処理装置１６０の加工条件は、制御装置１８０の記憶部１８１に記憶されている。レーザの軌跡Ｌは、記憶された加工条件に応じて制御されうる。蓄電デバイスの製造装置１００では、制御装置１８０に記憶された加工条件は、巻回体２０ａの巻回中および巻回後に測定される種々のパラメータに基づいて調整される。

〈実施例１〉
図６は、制御装置１８０で実行される処理を示すブロック図である。図６に示されているように、蓄電デバイスの製造装置１００には、第１タブ検出装置２０１と、第２タブ検出装置２０２と、回転角計測装置２０３が設けられている。第１タブ検出装置２０１は、第１レーザタブカット処理装置１５０と巻軸１１０の間の搬送経路に設けられている。第２タブ検出装置２０２は、第２レーザタブカット処理装置１６０と巻軸１１０の間の搬送経路に設けられている。回転角計測装置２０３は、巻軸１１０に接続されている。

回転角計測装置２０３は、巻取装置１７０によって回転駆動される巻軸１１０の回転角を測定する装置である。回転角計測装置２０３では、巻軸１１０の回転数が検出されてもよい。回転角計測装置２０３は、巻軸１１０の回転角を測定できる装置であれば特に限定されない。回転角計測装置２０３としては、例えば、回転エンコーダ等が用いられうる。回転角計測装置２０３によって測定される巻軸１１０の回転角は、制御装置１８０に送信される。

第１タブ検出装置２０１は、搬送される正極シート２１のタブ２１ｄの通過を検出する装置である。第２タブ検出装置２０２は、搬送される負極シート２２のタブ２２ｄの通過を検出する装置である。以下、第１タブ検出装置２０１について説明する。第２タブ検出装置２０２については、第１タブ検出装置と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。

第１タブ検出装置２０１は、搬送される正極シート２１のタブ２１ｄの通過を検出することができる装置であれば、特に限定されない。第１タブ検出装置２０１としては、例えば、反射型、回帰反射型、透過型のレーザセンサを用いることができる。この実施形態では、第１タブ検出装置２０１として、回帰反射型レーザセンサが用いられている。

図７は、第１タブ検出装置２０１を示す模式図である。図７に示されているように、第１タブ検出装置２０１は、タブ２１ｄが通過する位置にレーザを照射する。第１タブ検出装置２０１では、タブ２１ｄが通過する予め定められた位置にレーザが照射されるように光路が設定されている。図７では、光路は、紙面奥行方向に設定されている。タブ２１ｄが照射位置を通過する際にレーザ光がタブ２１ｄで反射される。第１タブ検出装置２０１は、反射光を検知することによってタブ２１ｄの通過を検知する。第１タブ検出装置２０１によってタブ２１ｄの通過が検知されると、タブ２１ｄの検知は、制御装置１８０（図６参照）に送信される。タブ２１ｄは、正極シート２１に予め定められたピッチで形成されている。このため、タブ２１ｄの通過が検知される度に、タブ２１ｄの検知は、制御装置１８０に送信される。

図６に示されているように、制御装置１８０は、巻軸１１０の回転角に対する、巻軸１１０に巻き取られる正極シート２１のタブピッチを取得する第１処理Ｓ１１が実行されるように構成されている。ここで、タブピッチとは、搬送方向に沿って隣り合うタブ２１ｄの間の間隔のことをいう。ここでは、制御装置１８０の第１取得部１８２は、第１タブ検出装置２０１からタブ２１ｄの通過の情報を取得する。また、制御装置１８０の第１取得部１８２は、回転角計測装置２０３から、タブ２１ｄ通過時の巻軸１１０の回転角を取得する。ここでは、制御装置１８０の第１取得部１８２は、タブ２１ｄ通過時の巻軸１１０の回転角を取得する。

制御装置１８０は、第１処理Ｓ１１と同様、巻軸１１０の回転角に対する、巻軸１１０に巻き取られる負極シート２２のタブピッチを取得する第２処理Ｓ１２が実行されるように構成されている。

制御装置１８０では、正極シート２１のタブ２１ｄが巻軸１１０の基準線に対して所定の角度において重ねられるように、正極シート２１の搬送条件と、タブ２１ｄの加工条件とがプログラムされている。制御装置１８０では、負極シート２２のタブ２２ｄが巻軸１１０の基準線に対して所定の角度において重ねられるように、負極シート２２の搬送条件と、タブ２２ｄの加工条件とがプログラムされている。

制御装置１８０は、第１処理Ｓ１１で取得された、巻軸１１０の回転角に対する、巻軸１１０に巻き取られる正極シート２１のタブピッチに基づいて、タブ２１ｄの間隔を調整する第３処理Ｓ１３が実行されるように構成されている。同様に、制御装置１８０は、第２処理Ｓ１２で取得された、巻軸１１０の回転角に対する、巻軸１１０に巻き取られる負極シート２２のタブピッチに基づいて、タブ２２ｄの間隔を調整する第４処理Ｓ１４が実行されるように構成されている。巻回中の巻回体２０ａにおいて、タブ２１ｄの位置は、巻軸１１０の回転角に応じて移動する。また、タブピッチは、巻回数に応じて変動する。制御装置１８０の第１算出部１８３は、巻回時に取得されたタブ２１ｄ通過時の巻軸１１０の回転角と、プログラムされた加工条件および搬送条件に基づいたタブ２１ｄ通過時の巻軸１１０の回転角の設定値との差を算出する。巻回時に取得されたタブ２１ｄ通過時の巻軸１１０の回転角と、設定値との間に差がある場合には、第１調整部１８４は、記憶部１８１に記憶されているタブ２１ｄ，２２ｄの加工条件を調整する。例えば、ある回転角において取得したタブピッチが、設定値よりも大きい場合には、第１調整部１８４は、当該回転角から特定されるタブ間のタブピッチが小さくなるように調整されうる。ある回転角において取得したタブピッチが、設定値よりも小さい場合には、第１調整部１８４は、当該回転角から特定されるタブ間のタブピッチが大きくなるように調整されうる。

制御装置１８０は、上述した第１処理Ｓ１１～第４処理Ｓ１４が実行されるように構成されている。このように、制御装置１８０では、巻軸１１０の回転角と、取得されたタブピッチがフィードバックされ、タブの加工条件が調整される。これによって、タブの間隔が設定値に近づきやすくなり、巻回体２０ａの巻回時にタブ２１ｄ，２２ｄの位置が揃いやすくなる。その結果、巻回電極体２０が製造された際、タブ２１ｄ，２２ｄの位置精度が向上する。

タブ２１ｄ，２２ｄの位置精度が向上することによって、蓄電デバイス１を組み立てた際にも、タブ２１ｄ，２２ｄが積層方向に揃いやすくなる。これによって、タブ２１ｄ，２２ｄの幅における、タブ２１ｄ，２２ｄの位置精度が向上しうる。その結果、蓋１２に取り付けられている部品等の設計の自由度が向上しうる。例えば、内部端子５３，６３の寸法を小さくでき、製造コストの削減につながりうる。かかる効果は、タブ２１ｄ，２２ｄが同じ方向から突出する巻回電極体２０（図２参照）が用いられた蓄電デバイス１において大きい。

〈実施例２〉
図８は、他の実施形態にかかる、制御装置１８０で実行される処理を示すブロック図である。図８に示されているように、蓄電デバイスの製造装置１００には、画像検査装置２０４～２０６が設けられている。画像検査装置２０４～２０６は、プレス装置２００によってプレスされた巻回電極体２０のタブ２１ｄ，２２ｄの位置を検査する装置である。画像検査装置２０４～２０６としては、タブ２１ｄ，２２ｄの位置を検査できる装置であれば、特に限定されない。画像検査装置２０４～２０６としては、例えば、平面画像の寸法を取得可能な画像センサが用いられうる。

画像検査装置２０４は、正極のタブ２１ｄを検査する装置である。画像検査装置２０５は、負極のタブ２２ｄを検査する装置である。図９は、画像検査装置２０４，２０５を示す模式図である。図９では、タブ２１ｄ，２２ｄが積層されている方向に沿って見た、画像検査装置２０４，２０５とタブ２１ｄ，２２ｄの位置関係が示されている。図９では、プレス装置２００の図示は省略されている。

図９に示されているように、画像検査装置２０４，２０５は、プレス装置２００で仮プレスされた状態の巻回体２０ａのタブ２１ｄ，２２ｄの位置を検出する。画像検査装置２０４，２０５は、それぞれタブ２１ｄ，２２ｄが突出する面におけるタブ２１ｄ，２２ｄの形状データを取得する。画像検査装置２０４，２０５の撮像面は、２１ｄ，２２ｄが突出する面に対して斜めに向いている。巻回体２０ａには、タブの加工条件に基づいてタブ２１ｄ，２２ｄの外側の端部が配置される予定の基準位置Ｐ１，Ｐ２が設定されている。画像検査装置２０４，２０５によって取得された画像データは、制御装置１８０に送信される。

図１０は、画像検査装置２０６を示す模式図である。図１０では、タブ２１ｄ，２２ｄが積層されている方向に沿って見た、画像検査装置２０６とタブ２１ｄ，２２ｄの位置関係が示されている。図１０では、画像検査装置２０６の撮像方向は、紙面奥行方向に設定されている。図１０に示されているように、仮プレス後の巻回体２０ａは、搬送チャック２００ａに把持され、タブ２１ｄ，２２ｄの幅方向に沿って搬送される。画像検査装置２０６は、巻回体２０ａから延びるタブ２１ｄ，２２ｄの積層方向（仮プレスのプレス方向）からタブ２１ｄ，２２ｄの位置を検出する。この実施形態では、画像検査装置２０６は、搬送される巻回体２０ａのタブ２１ｄ，２２ｄの位置データを上方から取得する。画像検査装置２０６によって取得された画像データは、制御装置１８０に送信される。

図８に示されているように、制御装置１８０は、プレス装置２００でプレスされた後の巻回体２０ａの正極シート２１のタブ２１ｄの位置を取得する第１処理Ｓ２１が実行されるように構成されている。制御装置１８０は、第１処理Ｓ２１と同様、プレス装置２００でプレスされた後の巻回体２０ａの負極シート２２のタブ２２ｄの位置を取得する第２処理Ｓ２２が実行されるように構成されている。ここでは、制御装置１８０の第２取得部１８５は、画像検査装置２０４～２０６からタブ２１ｄ，２２ｄの位置データを取得する。

制御装置１８０は、第１処理Ｓ２１で取得された、プレス装置２００でプレスされた後の巻回体２０ａの正極シート２１のタブ２１ｄの位置に基づいて、タブ２１ｄの間隔を調整する第３処理Ｓ２３が実行されるように構成されている。同様に、制御装置１８０は、第２処理Ｓ２２で取得された、プレス装置２００でプレスされた後の巻回体２０ａの負極シート２２のタブ２２ｄの位置に基づいて、タブ２２ｄの間隔を調整する第４処理Ｓ２４が実行されるように構成されている。この実施形態では、制御装置１８０の第２算出部１８６は、幅方向においてタブ２１ｄ，２２ｄが基準位置Ｐ１，Ｐ２からずれている量（長さ）を算出する。

図１１は、仮プレス後の巻回体２０ａを示す模式図である。図１１では、タブ２１ｄ，２２ｄが突出する方向に沿って見たタブ２１ｄ，２２ｄの位置が示されている。図１１に示されているように、画像検査装置２０４，２０５によって取得された画像データより、基準位置Ｐ１，Ｐ２からの巻回体２０ａのタブ２１ｄ，２２ｄのずれが確認される場合がある。第２算出部１８６は、タブ２１ｄ，２２ｄそれぞれについて基準位置Ｐ１，Ｐ２からずれている量を算出してもよい。図１１に示されているように、基準位置Ｐ１，Ｐ２からのずれがタブ２１ｄ，２２ｄそれぞれにおいて異なっている場合、第２算出部１８６は、近似曲線に基づいてタブ２１ｄ，２２ｄのずれを算出してもよい。例えば、第２算出部１８６は、タブ２１ｄ，２２ｄの端部（例えば、外側の端部）を繋いで近似曲線を取得する処理を実行する。第２算出部１８６は、近似曲線と、基準位置Ｐ１，Ｐ２とに基づいて、タブ２１ｄ，２２ｄそれぞれのずれを算出してもよい。

また、画像検査装置２０６によって取得された画像データより、タブ２１ｄ，２２ｄの積層方向に沿ってタブ２１ｄ，２２ｄのずれが算出されてもよい（図１０参照）。このとき、上方から観察可能なタブ２１ｄ，２２ｄのずれが検出されうる。画像検査装置２０６によって取得された画像データより、積層されているタブ２１ｄ，２２ｄのうち、ずれの最大値が算出されうる。

算出したタブ２１ｄ，２２ｄの位置が基準位置Ｐ１，Ｐ２からずれている場合には、第２調整部１８７は、記憶部１８１に記憶されているタブ２１ｄ，２２ｄの加工条件を調整する。例えば、算出したタブ２１ｄ，２２ｄの位置が、巻回体２０ａが巻回される方向に対して基準位置Ｐ１，Ｐ２に対して先行する方向にずれている場合には、タブピッチが小さくなるように調整されうる。算出したタブ２１ｄ，２２ｄの位置が、巻回体２０ａが巻回される方向に対して基準位置Ｐ１，Ｐ２に対して後行する方向にずれている場合には、タブピッチが大きくなるように調整されうる。

制御装置１８０は、第１処理Ｓ２１～第４処理Ｓ２４が実行されるように構成されている。これによって、制御装置１８０では、プレス後の巻回体２０ａのタブ２１ｄ，２２ｄの位置がフィードバックされ、タブの加工条件が調整される。例えば、巻軸１１０にシートが巻回され巻回体２０ａが作製された後、巻回体２０ａがプレスされることによって生じうるタブ２１ｄ，２２ｄの位置のずれがフィードバックされやすい。このため、プレス時にタブ２１ｄ，２２ｄの位置がずれることを踏まえてタブの加工条件が調整されうる。その結果、プレス後の巻回電極体２０におけるタブ２１ｄ，２２ｄの位置精度が向上しやすい。

〈実施例３〉
図１２は、他の実施形態にかかる、制御装置１８０で実行される処理を示すブロック図である。図１２に示されているように、蓄電デバイスの製造装置１００には、厚み検査装置２０７～２１０が設けられている。厚み検査装置２０７～２１０は、それぞれ搬送される正極シート２１、負極シート２２、セパレータ３１，３２の厚みを測定する装置である。厚み検査装置２０７～２１０としては、各シートの厚みを検査できる装置であれば、特に限定されない。厚み検査装置２０７～２１０としては、例えば、非接触式のレーザ変位計が用いられうる。

図１３は、厚み検査装置２０７を示す模式図である。図１３では、正極シート２１が搬送される方向に沿って見た、厚み検査装置２０７と正極シート２１が示されている。図１３に示されているように、厚み検査装置２０７は、正極シート２１に対して略垂直にレーザを照射できるように配置されている。厚み検査装置２０７は、正極集電箔２１ａの未形成領域２１ａ３と、正極集電箔２１ａに形成された正極活物質層２１ｂとの表面にレーザを照射する。厚み検査装置２０７は、未形成領域２１ａ３および正極活物質層２１ｂの表面から反射された反射光を検知し、正極活物質層２１ｂの厚みを測定する。厚み検査装置２０７は、正極活物質層２１ｂの厚みを連続的に測定しうる。この実施形態では、厚み検査装置２０７は、図示しないガイドローラに沿った位置において正極シート２１の厚みを測定できる位置に設けられている。正極シート２１の厚みがガイドローラに沿った状態で測定されることによって、厚み方向のぶれが抑えられ、正極シート２１の厚みの測定精度が向上されうる。

負極シート２２の負極活物質層２２ｂの厚みを検査する厚み検査装置２０８（図１２参照）についても、厚み検査装置２０７と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。厚み検査装置２０９，２１０（図１２参照）は、セパレータ３１，３２の厚みを測定する。測定された正極活物質層２１ｂ、負極活物質層２２ｂの厚みは、制御装置１８０に送信される。

図１２に示されているように、制御装置１８０は、巻軸１１０に巻き取られる正極シート２１の厚みを取得する第１処理Ｓ３１が実行されるように構成されている。制御装置１８０は、第１処理Ｓ３１と同様、巻軸１１０に巻き取られる負極シート２２の厚みを取得する第２処理Ｓ３２が実行されるように構成されている。ここでは、制御装置１８０の第３取得部１８８は、厚み検査装置２０７～２１０から正極シート２１、負極シート２２およびセパレータ３１，３２の厚みのデータを取得する。

制御装置１８０は、第１処理Ｓ３１で取得された、巻軸１１０に巻き取られる正極シート２１の厚みに基づいて、タブ２１ｄの間隔を調整する第３処理Ｓ３３が実行されるように構成されている。同様に、制御装置１８０は、第２処理Ｓ３２で取得された、巻軸１１０に巻き取られる負極シート２２の厚みに基づいて、タブ２２ｄの間隔を調整する第４処理Ｓ３４が実行されるように構成されている。この実施形態では、制御装置１８０の第３算出部１８９は、取得された各シートの厚みと、基準厚みとの差を算出する。

ここで、基準厚みとは、巻回体２０ａを作製する際に、各シートの厚みの設定値のことをいう。準備されたシートは、面内に厚みばらつきが生じる場合がある。例えば、正極活物質層２１ｂおよび負極活物質層２２ｂは、スラリーの状態で基材（正極集電箔２１ａおよび負極集電箔２２ａ）に塗工され、乾燥されることによって形成されうる。このため、正極シート２１および負極シート２２には、厚みばらつきが生じうる。また、正極集電箔２１ａ、負極集電箔２２ａおよびセパレータ３１，３２の厚みは、必ずしも一定ではない。シートの長さ方向に厚みばらつきがある場合には、巻軸１１０に対して巻かれる長さが変わりうる。例えば、シートの厚みが基準厚みよりも薄い場合には、巻軸１１０に巻かれる巻回体２０ａの外径が小さくなる。これによって、タブ２１ｄ，２２ｄの位置は、上述した所定の位置よりも先行する位置にずれうる。シートの厚みが基準厚みよりも厚い場合には、巻軸１１０に巻かれる巻回体２０ａの外径が大きくなる。これによって、タブ２１ｄ，２２ｄの位置は、所定の角度よりも後行する位置にずれうる。

制御装置１８０の第３算出部１８９は、取得された各シートの厚みと、基準厚みとの差に基づいて、タブ２１ｄ，２２ｄのずれを算出しうる。第３調整部１９０は、記憶部１８１に記憶されているタブ２１ｄ，２２ｄの加工条件を調整する。例えば、算出したシートの厚みが基準厚みよりも厚い場合には、タブピッチが大きくなるように調整されうる。算出したシートの厚みが基準厚みよりも薄い場合には、タブピッチが小さくなるように調整されうる。

制御装置１８０は、第１処理Ｓ３１～第４処理Ｓ３４が実行されるように構成されている。これによって、制御装置１８０では、巻回前のシートの厚みの情報がフィードバックされ、タブの加工条件が調整される。例えば、製造ロットごとに、シートの厚みと基準厚みの傾向に差が見られる場合には、同一の製造ロットのシートを巻回する際の加工条件が調整されてもよい。これによって、巻回後の巻回体２０ａの位置精度が向上しうる。また、シートの厚みに応じて巻回中のシートにおけるタブ２１ｄ，２２ｄのピッチが調整されてもよい。これによって、シートの厚みばらつきに起因するタブ２１ｄ，２２ｄの位置のずれが低減されうる。その結果、巻回中の巻回体２０ａにおいても、巻回後のタブ２１ｄ，２２ｄの位置精度が向上しうる。

〈実施例４〉
図１４は、他の実施形態にかかる、制御装置１８０で実行される処理を示すブロック図である。図１４に示されているように、蓄電デバイスの製造装置１００には、実施例１と同様、第１タブ検出装置２０１と、第２タブ検出装置２０２と、回転角計測装置２０３が設けられている。蓄電デバイスの製造装置１００には、さらに、実施例２と同様、画像検査装置２０４～２０６が設けられている。制御装置１８０は、第１処理Ｓ４１～第８処理Ｓ４８が実行されるように構成されている。ここで、第１処理Ｓ４１～第４処理Ｓ４４は、実施例１の第１処理Ｓ１１～第４処理Ｓ１４と同様であり、第５処理Ｓ４５～第８処理Ｓ４８は、実施例２の第１処理Ｓ２１～第４処理Ｓ２４と同様である。

かかる蓄電デバイスの製造装置１００では、制御装置１８０で実行される第１処理Ｓ４１～第４処理Ｓ４４によって、巻軸１１０の回転角と、取得されたタブピッチがフィードバックされ、タブの加工条件が調整される。また、第５処理Ｓ４５～第８処理Ｓ４８によって、プレス後の巻回体２０ａのタブ２１ｄ，２２ｄの位置がフィードバックされ、タブの加工条件が調整される。これによって、タブの間隔が設定値に近づきやすくなることに加えて、巻回後、プレス後の巻回電極体２０におけるタブ２１ｄ，２２ｄの位置精度が向上しやすくなる。その結果、タブ２１ｄ，２２ｄの位置精度がより向上しうる。

〈実施例５〉
図１５は、他の実施形態にかかる、制御装置１８０で実行される処理を示すブロック図である。図１５に示されているように、蓄電デバイスの製造装置１００には、実施例１と同様、第１タブ検出装置２０１と、第２タブ検出装置２０２と、回転角計測装置２０３が設けられている。蓄電デバイスの製造装置１００には、さらに、実施例３と同様、厚み検査装置２０７～２１０が設けられている。制御装置１８０は、第１処理Ｓ５１～第８処理Ｓ５８が実行されるように構成されている。ここで、第１処理Ｓ５１～第４処理Ｓ５４は、実施例１の第１処理Ｓ１１～第４処理Ｓ１４と同様であり、第５処理Ｓ５５～第８処理Ｓ５８は、実施例３の第１処理Ｓ３１～第４処理Ｓ３４と同様である。

かかる蓄電デバイスの製造装置１００では、制御装置１８０で実行される第１処理Ｓ５１～第４処理Ｓ５４によって、巻軸１１０の回転角と、取得されたタブピッチがフィードバックされ、タブの加工条件が調整される。また、第５処理Ｓ５５～第８処理Ｓ５８によって、巻回前のシートの厚みの情報がフィードバックされ、タブの加工条件が調整される。これによって、タブの間隔が設定値に近づきやすくなることに加えて、シートの厚みばらつきに起因するタブ２１ｄ，２２ｄの位置のずれが低減されうる。その結果、タブ２１ｄ，２２ｄの位置精度がより向上しうる。

〈実施例６〉
図１６は、他の実施形態にかかる、制御装置１８０で実行される処理を示すブロック図である。図１６に示されているように、蓄電デバイスの製造装置１００には、実施例２と同様、画像検査装置２０４～２０６が設けられている。蓄電デバイスの製造装置１００には、さらに、実施例３と同様、厚み検査装置２０７～２１０が設けられている。制御装置１８０は、第１処理Ｓ６１～第８処理Ｓ６８が実行されるように構成されている。ここで、第１処理Ｓ６１～第４処理Ｓ６４は、実施例２の第１処理Ｓ２１～第４処理Ｓ２４と同様であり、第５処理Ｓ６５～第８処理Ｓ６８は、実施例３の第１処理Ｓ３１～第４処理Ｓ３４と同様である。

かかる蓄電デバイスの製造装置１００では、制御装置１８０で実行される第１処理Ｓ６１～第４処理Ｓ６４によって、プレス後の巻回体２０ａのタブ２１ｄ，２２ｄの位置がフィードバックされ、タブの加工条件が調整される。また、第５処理Ｓ６５～第８処理Ｓ６８によって、巻回前のシートの厚みの情報がフィードバックされ、タブの加工条件が調整される。これによって、シートの厚みばらつきに起因するタブ２１ｄ，２２ｄの位置のずれが低減されることに加えて、巻回後、プレス後の巻回電極体２０におけるタブ２１ｄ，２２ｄの位置精度が向上しやすくなる。その結果、タブ２１ｄ，２２ｄの位置精度がより向上しうる。

〈実施例７〉
図１７は、他の実施形態にかかる、制御装置１８０で実行される処理を示すブロック図である。図１７に示されているように、蓄電デバイスの製造装置１００には、実施例１と同様、第１タブ検出装置２０１と、第２タブ検出装置２０２と、回転角計測装置２０３が設けられている。蓄電デバイスの製造装置１００には、さらに、実施例２と同様、画像検査装置２０４～２０６が設けられている。蓄電デバイスの製造装置１００には、さらに、実施例３と同様、厚み検査装置２０７～２１０が設けられている。制御装置１８０は、第１処理Ｓ７１～第１２処理Ｓ８２が実行されるように構成されている。ここで、第１処理Ｓ７１～第４処理Ｓ７４は、実施例１の第１処理Ｓ１１～第４処理Ｓ１４と同様であり、第５処理Ｓ７５～第８処理Ｓ７８は、実施例２の第１処理Ｓ２１～第４処理Ｓ２４と同様であり、第９処理Ｓ７９～第１２処理Ｓ８２は、実施例３の第１処理Ｓ３１～第４処理Ｓ３４と同様である。

かかる蓄電デバイスの製造装置１００では、制御装置１８０で実行される第１処理Ｓ７１～第４処理Ｓ７４によって、巻軸１１０の回転角と、取得されたタブピッチがフィードバックされ、タブの加工条件が調整される。また、第５処理Ｓ７５～第８処理Ｓ７８によって、プレス後の巻回体２０ａのタブ２１ｄ，２２ｄの位置がフィードバックされ、タブの加工条件が調整される。さらに、第９処理Ｓ７９～第１２処理Ｓ８２によって、巻回前のシートの厚みの情報がフィードバックされ、タブの加工条件が調整される。これによって、タブの間隔が設定値に近づきやすくなることに加えて、シートの厚みばらつきに起因するタブ２１ｄ，２２ｄの位置のずれが低減されうる。さらに、巻回後、プレス後の巻回電極体２０におけるタブ２１ｄ，２２ｄの位置精度が向上しやすくなる。その結果、タブ２１ｄ，２２ｄの位置精度がより向上しうる。

この実施形態では、タブの加工条件は、第１，２処理Ｓ７１，Ｓ７２で取得された巻回前のシート２１，２２のタブピッチ（変数１）、第５，６処理Ｓ７５，Ｓ７６で取得されたプレス後のタブ２１ｄ，２２ｄの位置（変数２，３）、および、第９，１０処理Ｓ７９，Ｓ８０で取得されたシート２１，２２，３１，３２の厚み（変数４）に基づいて調整されている。巻回前のシート２１，２２のタブピッチ、プレス後のタブ２１ｄ，２２ｄの位置、シート２１，２２，３１，３２の厚みは、それぞれ重み付けられてタブの加工条件に反映されてもよい。ここでは、画像検査装置２０４，２０５から算出されたタブ２１ｄ，２２ｄの位置を変数２とし、画像検査装置２０６から算出されたタブ２１ｄ，２２ｄの位置を変数３とする。

例えば、変数１～変数４には、重み付け係数Ｗ１～Ｗ４が割り当てられていてもよい。重み付け係数Ｗ１～Ｗ４の合計は、１になるように各係数が設定されうる。タブの加工条件を調整するためのタブピッチの補正値は、以下の式に基づいて表されうる。
タブピッチの補正値＝Ｗ１×変数１＋Ｗ２×変数２＋Ｗ３×変数３＋Ｗ４×変数４
なお、重み付け係数Ｗ１～Ｗ４は、製品仕様、加工条件等に応じて適宜設定されうる。このため、重み付け係数Ｗ１～Ｗ４は、生産時、試験時等に蓄積されたデータによって定められてもよい。

なお、タブの位置を安定させる観点から、タブの加工は、等速で連続的に搬送されるシートに対して連続的に実行されうる。例えば、タブが形成されていないシートが巻出ロールから巻取ロールに向かって搬送され、搬送経路上でシートにタブが形成されうる。これによって、タブが形成されたシートが巻き取られたロールが用意されうる。本発明者の試行によると、巻回体の巻回時にタブ加工する場合等、巻回体が作製される度にタブ加工が停止される場合には、タブの位置がずれることがあった。しかしながら、ここで開示される蓄電デバイスの製造装置１００によると、巻回体２０ａが作製される度にタブ２１ｄ，２２ｄの位置等をタブの加工条件にフィードバックすることができる。タブ２１ｄ，２２ｄの加工条件は、巻回体２０ａの巻回時の巻回条件等に応じて調整される。これによって、シートの搬送およびタブ加工が間欠動作となる場合にも、タブ２１ｄ，２２ｄの位置精度を向上させやすい。

以上、ここで開示される技術について、種々説明した。特に言及されない限りにおいて、ここで挙げられた実施形態などは本発明を限定しない。上述した制御装置で実行される第１処理～第１２処理の順序は特に限定されず、蓄電デバイスの製造される工程等に応じて適宜変更されてもよい。また、ここで開示される技術は、種々変更でき、特段の問題が生じない限りにおいて、各構成要素やここで言及された各処理は適宜に省略され、または、適宜に組み合わされうる。

１ 蓄電デバイス
１０ ケース
１１ ケース本体
１１ｆ 開口
１２ 蓋
１２ａ，１２ｂ 取付孔
１２ｃ 注液孔
１２ｄ ガス排出弁
１２ｅ 封止部材
２０ 巻回電極体
２０ａ 巻回体
２１ 正極シート
２１ａ 正極集電箔
２１ａ１，２２ａ１ 第１縁部
２１ａ２，２２ａ２ 第２縁部
２１ａ３，２２ａ３ 未形成領域
２１ｂ 正極活物質層
２１ｃ 保護層
２１ｄ，２２ｄ タブ
２２ 負極シート
２２ａ 負極集電箔
２２ｂ 負極活物質層
３１，３２ セパレータ
５０ 正極端子
５１，６１ 外部接続部
５２，６２ 軸部
５３，６３ 内部端子
６０ 負極端子
７０ インシュレータ
８０ ガスケット
９０ 絶縁シート
１００ 蓄電デバイスの製造装置
１１０ 巻軸
１１１ スリット
１２０ 第１搬送装置
１２２，１３２，１４２，１４３ 巻出軸
１２４ 正極ロール
１３０ 第２搬送装置
１３４ 負極ロール
１４０，１４１ 第３搬送装置
１４４，１４５ セパレータロール
１７０ 巻取装置
１８０ 制御装置
１８１ 記憶部
１８２ 第１取得部
１８３ 第１算出部
１８４ 第１調整部
１８５ 第２取得部
１８６ 第２算出部
１８７ 第２調整部
１８８ 第３取得部
１８９ 第３算出部
１９０ 第３調整部
２００ プレス装置
２００ａ 搬送チャック
２０３ 回転角計測装置
２０４～２０６ 画像検査装置
２０７～２１０ 厚み検査装置
Ｇ 間隔
Ｌ 軌跡

Claims (5)

1. 巻軸と、
   帯状の正極シートを前記巻軸に向けて搬送する第１搬送装置と、
   前記第１搬送装置で搬送される前記正極シートに、予め定められた間隔でタブを形成する第１レーザタブカット処理装置と、
   帯状の負極シートを前記巻軸に向けて搬送する第２搬送装置と、
   前記第２搬送装置で搬送される前記負極シートに、予め定められた間隔でタブを形成する第２レーザタブカット処理装置と、
   前記巻軸を回転させ、前記第１レーザタブカット処理装置によってタブが形成された前記正極シートと、前記第２レーザタブカット処理装置によってタブが形成された前記負極シートを巻き取る巻取装置と、
   前記巻軸から取り出された巻回体をプレスするプレス装置と、
   制御装置と
   を備え、
   前記正極シートは、帯状の正極集電箔と、前記帯状の正極集電箔のうち幅方向の第１縁部に設定された未形成領域を除く領域に形成された正極活物質層とを有し、
   前記負極シートは、帯状の負極集電箔と、前記帯状の負極集電箔のうち幅方向の第１縁部に設定された未形成領域を除く領域に形成された負極活物質層とを有し、
   前記制御装置は、
   前記巻軸の回転角に対する、前記巻軸に巻き取られる前記正極シートのタブピッチを取得する第１処理と、
   前記巻軸の回転角に対する、前記巻軸に巻き取られる前記負極シートのタブピッチを取得する第２処理と、
   前記第１処理で取得された、前記巻軸の回転角に対する、前記巻軸に巻き取られる前記正極シートのタブピッチに基づいて、前記第１レーザタブカット処理装置が、前記正極シートに形成するタブの間隔を調整する第３処理と、
   前記第２処理で取得された、前記巻軸の回転角に対する、前記巻軸に巻き取られる前記負極シートのタブピッチに基づいて、前記第２レーザタブカット処理装置が、前記負極シートに形成するタブの間隔を調整する第４処理と、
   プレス装置でプレスされた後の前記巻回体の前記正極シートのタブの位置を取得する第５処理と、
   プレス装置でプレスされた後の前記巻回体の前記負極シートのタブの位置を取得する第６処理と、
   前記第５処理で取得された、前記プレス装置でプレスされた後の前記巻回体の前記正極シートのタブの位置に基づいて、前記第１レーザタブカット処理装置が、前記正極シートに形成するタブの間隔を調整する第７処理と、
   前記第６処理で取得された、前記プレス装置でプレスされた後の前記巻回体の前記負極シートのタブの位置に基づいて、前記第２レーザタブカット処理装置が、前記負極シートに形成するタブの間隔を調整する第８処理と
   が実行されるように構成された、
   蓄電デバイスの製造装置。
2. 前記制御装置は、
   前記巻軸に巻き取られる前記正極シートの厚さを取得する第９処理と、
   前記巻軸に巻き取られる前記負極シートの厚さを取得する第１０処理と、
   前記第９処理で取得された、前記巻軸の回転角に対する、前記巻軸に巻き取られる前記正極シートの厚さに基づいて、前記第１レーザタブカット処理装置が、前記正極シートの前記未形成領域に形成するタブの間隔を調整する第１１処理と、
   前記第１０処理で取得された、前記巻軸の回転角に対する、前記巻軸に巻き取られる前記負極シートの厚さに基づいて、前記第２レーザタブカット処理装置が、前記負極シートの前記未形成領域に形成するタブの間隔を調整する第１２処理と
   がさらに実行されるように構成された、請求項１に記載された蓄電デバイスの製造装置。
3. 巻軸と、
   帯状の正極シートを前記巻軸に向けて搬送する第１搬送装置と、
   前記第１搬送装置で搬送される前記正極シートに、予め定められた間隔でタブを形成する第１レーザタブカット処理装置と、
   帯状の負極シートを前記巻軸に向けて搬送する第２搬送装置と、
   前記第２搬送装置で搬送される前記負極シートに、予め定められた間隔でタブを形成する第２レーザタブカット処理装置と、
   前記巻軸を回転させ、前記第１レーザタブカット処理装置によってタブが形成された前記正極シートと、前記第２レーザタブカット処理装置によってタブが形成された前記負極シートを巻き取る巻取装置と、
   前記巻軸から取り出された巻回体をプレスするプレス装置と、
   制御装置と
   を備え、
   前記正極シートは、帯状の正極集電箔と、前記帯状の正極集電箔のうち幅方向の第１縁部に設定された未形成領域を除く領域に形成された正極活物質層とを有し、
   前記負極シートは、帯状の負極集電箔と、前記帯状の負極集電箔のうち幅方向の第１縁部に設定された未形成領域を除く領域に形成された負極活物質層とを有し、
   前記制御装置は、
   プレス装置でプレスされた後の前記巻回体の前記正極シートのタブの位置を取得する第１処理と、
   プレス装置でプレスされた後の前記巻回体の前記負極シートのタブの位置を取得する第２処理と、
   前記第１処理で取得された、前記プレス装置でプレスされた後の前記巻回体の前記正極シートのタブの位置に基づいて、前記第１レーザタブカット処理装置が、前記正極シートに形成するタブの間隔を調整する第３処理と、
   前記第２処理で取得された、前記プレス装置でプレスされた後の前記巻回体の前記負極シートのタブの位置に基づいて、前記第２レーザタブカット処理装置が、前記負極シートに形成するタブの間隔を調整する第４処理と
   が実行されるように構成された、
   蓄電デバイスの製造装置。
4. 前記制御装置は、
   前記巻軸に巻き取られる前記正極シートの厚さを取得する第５処理と、
   前記巻軸に巻き取られる前記負極シートの厚さを取得する第６処理と、
   前記第５処理で取得された、前記巻軸の回転角に対する、前記巻軸に巻き取られる前記正極シートの厚さに基づいて、前記第１レーザタブカット処理装置が、前記正極シートの前記未形成領域に形成するタブの間隔を調整する第７処理と、
   前記第６処理で取得された、前記巻軸の回転角に対する、前記巻軸に巻き取られる前記負極シートの厚さに基づいて、前記第２レーザタブカット処理装置が、前記負極シートの前記未形成領域に形成するタブの間隔を調整する第８処理と
   がさらに実行されるように構成された、請求項３に記載された蓄電デバイスの製造装置。
5. 巻軸と、
   帯状の正極シートを前記巻軸に向けて搬送する第１搬送装置と、
   前記第１搬送装置で搬送される前記正極シートに、予め定められた間隔でタブを形成する第１レーザタブカット処理装置と、
   帯状の負極シートを前記巻軸に向けて搬送する第２搬送装置と、
   前記第２搬送装置で搬送される前記負極シートに、予め定められた間隔でタブを形成する第２レーザタブカット処理装置と、
   前記巻軸を回転させ、前記第１レーザタブカット処理装置によってタブが形成された前記正極シートと、前記第２レーザタブカット処理装置によってタブが形成された前記負極シートを巻き取る巻取装置と、
   制御装置と
   を備え、
   前記正極シートは、帯状の正極集電箔と、前記帯状の正極集電箔のうち幅方向の第１縁部に設定された未形成領域を除く領域に形成された正極活物質層とを有し、
   前記負極シートは、帯状の負極集電箔と、前記帯状の負極集電箔のうち幅方向の第１縁部に設定された未形成領域を除く領域に形成された負極活物質層とを有し、
   前記制御装置は、
   前記巻軸の回転角に対する、前記巻軸に巻き取られる前記正極シートのタブピッチを取得する第１処理と、
   前記巻軸の回転角に対する、前記巻軸に巻き取られる前記負極シートのタブピッチを取得する第２処理と、
   前記第１処理で取得された、前記巻軸の回転角に対する、前記巻軸に巻き取られる前記正極シートのタブピッチに基づいて、前記第１レーザタブカット処理装置が、前記正極シートに形成するタブの間隔を調整する第３処理と、
   前記第２処理で取得された、前記巻軸の回転角に対する、前記巻軸に巻き取られる前記負極シートのタブピッチに基づいて、前記第２レーザタブカット処理装置が、前記負極シートに形成するタブの間隔を調整する第４処理と、
   前記巻軸に巻き取られる前記正極シートの厚さを取得する第９処理と、
   前記巻軸に巻き取られる前記負極シートの厚さを取得する第１０処理と、
   前記第９処理で取得された、前記巻軸の回転角に対する、前記巻軸に巻き取られる前記正極シートの厚さに基づいて、前記第１レーザタブカット処理装置が、前記正極シートの前記未形成領域に形成するタブの間隔を調整する第１１処理と、
   前記第１０処理で取得された、前記巻軸の回転角に対する、前記巻軸に巻き取られる前記負極シートの厚さに基づいて、前記第２レーザタブカット処理装置が、前記負極シートの前記未形成領域に形成するタブの間隔を調整する第１２処理と
   が実行されるように構成された、
   蓄電デバイスの製造装置。