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JP7829403B2 - Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist patterns - Google Patents
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JP7829403B2 - Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist patterns - Google Patents

Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist patterns

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JP7829403B2
JP7829403B2 JP2022081081A JP2022081081A JP7829403B2 JP 7829403 B2 JP7829403 B2 JP 7829403B2 JP 2022081081 A JP2022081081 A JP 2022081081A JP 2022081081 A JP2022081081 A JP 2022081081A JP 7829403 B2 JP7829403 B2 JP 7829403B2
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卓哉 中川
英晃 池田
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Description

本発明は、塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法に関する。 This invention relates to salts, acid generators, resist compositions, and methods for producing resist patterns.

特許文献1には、下記式で表される塩及び該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物が記載されている。
特許文献2には、下記式で表される塩及び該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物が記載されている。
特許文献3には、下記式で表される塩及び該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物が記載されている。
特許文献4には、下記式で表される塩及び該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物が記載されている。
Patent Document 1 describes a salt represented by the following formula and a resist composition containing the salt as an acid generator.
Patent Document 2 describes a salt represented by the following formula and a resist composition containing the salt as an acid generator.
Patent Document 3 describes a salt represented by the following formula and a resist composition containing the salt as an acid generator.
Patent Document 4 describes a salt represented by the following formula and a resist composition containing the salt as an acid generator.

特開2017-155038号公報Japanese Patent Publication No. 2017-155038 特開2018-024642号公報Japanese Patent Publication No. 2018-024642 特開2018-005224号公報Japanese Patent Publication No. 2018-005224 特開2018-025789号公報Japanese Patent Publication No. 2018-025789

本発明は、上記の塩を含有するレジスト組成物から形成されたレジストパターンよりも、CD均一性(CDU)が良好なレジストパターンを形成する塩を提供することを課題とする。 The present invention aims to provide a salt that forms a resist pattern with better CD uniformity (CDU) than a resist pattern formed from a resist composition containing the above-mentioned salt.

本発明は、以下の発明を含む。
[1]式(I)で表される塩を含む酸発生剤。
[式(I)中、
及びQは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。
11及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。
zは、0~6のいずれかの整数を表し、zが2以上のとき、複数のR11及びR12は互いに同一であっても異なってもよい。
1は、*-CO-O-、*-O-CO-、*-O-CO-O-又は*-O-を表し、*は、C(R11)(R12)もしくはC(Q)(Q)との結合部位を表す。
1は、単結合又は置換基を有してもよい炭素数1~60の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-SO-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
及びXは、それぞれ独立に、-O-又は-S-を表す。
環W1は、置換基を有してもよい炭素数3~36の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。
環Wは、置換基を有してもよい炭素数3~36の環状炭化水素基を表し、該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。
及びRは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~12のハロアルキル基又は炭素数1~12のアルキル基を表し、該ハロアルキル基及び該アルキル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。
は、*-O-R10、*-O-CO-R10、*-CO-O-R10、*-O-CO-O-R10、*-O-L10-CO-O-R10又は*-O-L10-O-CO-R10を表し、*は、環Wとの結合部位を表す。
10は、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。
10は、ヨウ素原子あるいは炭素数1~12のヨウ素化アルキル基を有する炭素数1~36の炭化水素基、又は、フッ素原子あるいは炭素数1~12のフッ素化アルキル基を有する炭素数3~36の環状炭化水素基を表し、該炭化水素基及び該環状炭化水素基は、置換基を有してもよく、該炭化水素基及び該環状炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。
m1は、0~6のいずれかの整数を表し、m1が2以上のとき、複数のRは互いに同一であっても異なってもよい。
m2は、0~6のいずれかの整数を表し、m2が2以上のとき、複数のRは互いに同一であっても異なってもよい。
m3は、1~6のいずれかの整数を表し、m3が2以上のとき、複数のRは互いに同一であっても異なってもよい。
は、有機カチオンを表す。]
[2]Lが、単結合、*-L-又は*-L-X-L-(Lは、置換基を有してもよい炭素数1~10の鎖式炭化水素基、置換基を有してもよい炭素数3~24の環状炭化水素基又は置換基を有してもよい炭素数3~24の環状炭化水素基と置換基を有してもよい炭素数1~8の鎖式炭化水素基とを組み合わせた基を表し、該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-に置き換わっていてもよく、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。*は、X1との結合部位を表す。Xは、**-CO-O-、**-O-CO-、**-O-CO-O-又は**-O-を表し、**は、Lとの結合部位を表す。Lは、単結合又は置換基を有してもよい炭素数1~8の鎖式炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)である[1]に記載の酸発生剤。
[3]環W1が、式(w1-1)で表される環に由来する基、式(w1-2)で表される環に由来する基、式(w1-3)で表される環に由来する基、式(w1-6)で表される環に由来する基又は式(w1-15)で表される環に由来する基である[1]又は[2]に記載の酸発生剤。
[式(w1-1)、式(w1-2)、式(w1-3)、式(w1-6)及び式(w1-15)中、
該基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。結合部位は任意の位置である。]
[4]環Wが、式(w1-1)で表される環に由来する基、式(w1-2)で表される環に由来する基、式(w1-3)で表される環に由来する基、式(w1-6)で表される環に由来する基、式(w1-12)で表される環に由来する基、式(w1-22)で表される環に由来する基、式(w1-23)で表される環に由来する基又は式(w1-24)で表される環に由来する基である[1]~[3]のいずれかに記載の酸発生剤。
[式(w1-1)、式(w1-2)、式(w1-3)、式(w1-6)、式(w1-12)、式(w1-22)、式(w1-23)及び式(w1-24)中、
該基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。結合部位は任意の位置である。]
[5]R10が、ヨウ素原子を有する炭素数1~6の鎖式炭化水素基、ヨウ素原子を有する炭素数3~12の脂環式炭化水素基と炭素数1~6の鎖式炭化水素基を組み合わせた基、ヨウ素原子を有する炭素数6~14の芳香族炭化水素基と炭素数1~6の鎖式炭化水素基を組み合わせた基、フッ素原子、ヨウ素原子あるいはトリフルオロメチル基を有する炭素数3~12の脂環式炭化水素基、又は、フッ素原子、ヨウ素原子あるいはトリフルオロメチル基を有する炭素数6~14の芳香族炭化水素基(該鎖式炭化水素基、該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基は、置換基を有してもよく、該鎖式炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。)である[1]~[4]のいずれかに記載の酸発生剤。
[6][1]~[5]のいずれかに記載の酸発生剤と酸不安定基を有する樹脂とを含有するレジスト組成物。
[7]酸不安定基を有する樹脂が、式(a1-0)で表される構造単位、式(a1-1)で表される構造単位及び式(a1-2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1種を含む[6]に記載のレジスト組成物。
[式(a1-0)、式(a1-1)及び式(a1-2)中、
a01、La1及びLa2は、それぞれ独立に、-O-又は*-O-(CHk1-CO-O-を表し、k1は1~7のいずれかの整数を表し、*は-CO-との結合部位を表す。
a01、Ra4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。
a02、Ra03及びRa04は、それぞれ独立に、炭素数1~8のアルキル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。
a6及びRa7は、それぞれ独立に、炭素数1~8のアルキル基、炭素数2~8のアルケニル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
m1は0~14のいずれかの整数を表す。
n1は0~10のいずれかの整数を表す。
n1’は0~3のいずれかの整数を表す。]
[8]酸不安定基を有する樹脂が、式(a2-A)で表される構造単位を含む[6]又は[7]に記載のレジスト組成物。
[式(a2-A)中、
a50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。
a51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~12のアルコキシアルキル基、炭素数2~12のアルコキシアルコキシ基、炭素数2~4のアルキルカルボニル基、炭素数2~4のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
a50は、単結合又は-Xa51-(Aa52-Xa52nb-を表し、*は-Ra50が結合する炭素原子との結合部位を表す。
a52は、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。
a51及びXa52は、それぞれ独立に、-O-、-CO-O-又は-O-CO-を表す。
nbは、0又は1を表す。
mbは0~4のいずれかの整数を表す。mbが2以上のいずれかの整数である場合、複数のRa51は互いに同一であっても異なってもよい。]
[9]酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩をさらに含有する[6]~[8]のいずれかに記載のレジスト組成物。
[10](1)[6]~[9]のいずれかに記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程、を含むレジストパターンの製造方法。
[11]式(I)で表される塩。
[式(I)中、
及びQは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。
11及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。
zは、0~6のいずれかの整数を表し、zが2以上のとき、複数のR11及びR12は互いに同一であっても異なってもよい。
1は、*-CO-O-、*-O-CO-、*-O-CO-O-又は*-O-を表し、*は、C(R11)(R12)もしくはC(Q)(Q)との結合部位を表す。
1は、単結合又は置換基を有してもよい炭素数1~60の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-SO-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
及びXは、それぞれ独立に、-O-又は-S-を表す。
環W1は、置換基を有してもよい炭素数3~36の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。
環Wは、置換基を有してもよい炭素数3~36の環状炭化水素基を表し、該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。
及びRは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~12のハロアルキル基又は炭素数1~12のアルキル基を表し、該ハロアルキル基及び該アルキル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。
は、*-O-R10、*-O-CO-R10、*-CO-O-R10、*-O-CO-O-R10、*-O-L10-CO-O-R10又は*-O-L10-O-CO-R10を表し、*は、環Wとの結合部位を表す。
10は、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。
10は、ヨウ素原子あるいは炭素数1~12のヨウ素化アルキル基を有する炭素数1~36の炭化水素基、又は、フッ素原子あるいは炭素数1~12のフッ素化アルキル基を有する炭素数3~36の環状炭化水素基を表し、該炭化水素基及び該環状炭化水素基は、置換基を有してもよく、該炭化水素基及び該環状炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。
m1は、0~6のいずれかの整数を表し、m1が2以上のとき、複数のRは互いに同一であっても異なってもよい。
m2は、0~6のいずれかの整数を表し、m2が2以上のとき、複数のRは互いに同一であっても異なってもよい。
m3は、1~6のいずれかの整数を表し、m3が2以上のとき、複数のRは互いに同一であっても異なってもよい。
は、有機カチオンを表す。]
[12]Lが、単結合、*-L-又は*-L-X-L-(Lは、置換基を有してもよい炭素数1~10の鎖式炭化水素基、置換基を有してもよい炭素数3~24の環状炭化水素基又は置換基を有してもよい炭素数3~24の環状炭化水素基と置換基を有してもよい炭素数1~8の鎖式炭化水素基とを組み合わせた基を表し、該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-に置き換わっていてもよく、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。*は、X1との結合部位を表す。Xは、**-CO-O-、**-O-CO-、**-O-CO-O-又は**-O-を表し、**は、Lとの結合部位を表す。Lは、単結合又は置換基を有してもよい炭素数1~8の鎖式炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)である[11]に記載の塩。
[13]環W1が、式(w1-1)で表される環に由来する基、式(w1-2)で表される環に由来する基、式(w1-3)で表される環に由来する基、式(w1-6)で表される環に由来する基又は式(w1-15)で表される環に由来する基である[11]又は[12]に記載の塩。
[式(w1-1)、式(w1-2)、式(w1-3)、式(w1-6)及び式(w1-15)中、
該基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。結合部位は任意の位置である。]
[14]環Wが、式(w1-1)で表される環に由来する基、式(w1-2)で表される環に由来する基、式(w1-3)で表される環に由来する基、式(w1-6)で表される環に由来する基、式(w1-12)で表される環に由来する基、式(w1-22)で表される環に由来する基、式(w1-23)で表される環に由来する基又は式(w1-24)で表される環に由来する基である[11]~[13]のいずれかに記載の塩。
[式(w1-1)、式(w1-2)、式(w1-3)、式(w1-6)、式(w1-12)、式(w1-22)、式(w1-23)及び式(w1-24)中、
該基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。結合部位は任意の位置である。]
[15]R10が、ヨウ素原子を有する炭素数1~6の鎖式炭化水素基、ヨウ素原子を有する炭素数3~12の脂環式炭化水素基と炭素数1~6の鎖式炭化水素基を組み合わせた基、ヨウ素原子を有する炭素数6~14の芳香族炭化水素基と炭素数1~6の鎖式炭化水素基を組み合わせた基、フッ素原子、ヨウ素原子あるいはトリフルオロメチル基を有する炭素数3~12の脂環式炭化水素基、又は、フッ素原子、ヨウ素原子あるいはトリフルオロメチル基を有する炭素数6~14の芳香族炭化水素基(該鎖式炭化水素基、該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基は、置換基を有してもよく、該鎖式炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。)である[11]~[14]のいずれかに記載の塩。
This invention includes the following inventions.
[1] An acid generator containing a salt represented by formula (I).
[In formula (I),
Q1 and Q2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 perfluoroalkyl group.
R11 and R12 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 perfluoroalkyl group.
z represents an integer from 0 to 6, and when z is 2 or greater, multiple R11 and R12 may be the same or different from each other.
X1 represents *-CO-O-, *-O-CO-, *-O-CO-O-, or *-O-, where * represents a binding site with C( R11 )( R12 ) or C( Q1 )( Q2 ).
L1 represents a hydrocarbon group having 1 to 60 carbon atoms, which may have a single bond or substituents, and the -CH2- contained in the hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -SO2-, or -CO- .
X a and X b each independently represent -O- or -S-.
Ring W1 represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, which may have substituents, and the -CH2- contained in the alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- .
Ring W represents a cyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, which may have substituents, and the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- .
R1 and R2 each independently represent a halogen atom, a hydroxyl group, a C1-C12 haloalkyl group, or a C1-C12 alkyl group, and the -CH2- contained in the haloalkyl group and the alkyl group may be replaced with -O- or -CO-.
R 3 represents *-O-R 10 , *-O-CO-R 10 , *-CO-O-R 10 , *-O-CO-O-R 10 , *-O-L 10 -CO-O-R 10 , or *-O-L 10 -O-CO-R 10 , where * represents the bonding site with ring W.
L10 represents an alkanediyl group with 1 to 6 carbon atoms.
R 10 represents a C1-C36 hydrocarbon group having an iodine atom or a C1-C12 iodate alkyl group, or a C3-C36 cyclic hydrocarbon group having a fluorine atom or a C1-C12 fluoride alkyl group, wherein the hydrocarbon group and the cyclic hydrocarbon group may have substituents, and the -CH2- contained in the hydrocarbon group and the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- .
m1 represents an integer between 0 and 6, and when m1 is 2 or greater, multiple R1s may be the same or different from each other.
m² represents an integer between 0 and 6, and when m² is 2 or greater, multiple values may be the same or different from each other.
m3 represents an integer from 1 to 6, and when m3 is 2 or greater, multiple R3s may be the same or different from each other.
Z + represents an organic cation.
[2] L1 is a single bond, * -L2- or * -L2 - X3 - L3- ( L2 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may have substituents, a cyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have substituents, or a group formed by a combination of a cyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have substituents and a chain hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms which may have substituents, and the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO2- , and the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-. * represents the bonding site with X1 . X3 represents **-CO-O-, **-O-CO-, **-O-CO-O- or **-O-, and ** represents the bonding site with L2 . The acid generator according to [1], wherein 3 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, which may have single bonds or substituents, and the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
[3] The acid generator according to [1] or [2], wherein ring W1 is a group derived from a ring represented by formula (w1-1), a group derived from a ring represented by formula (w1-2), a group derived from a ring represented by formula (w1-3), a group derived from a ring represented by formula (w1-6), or a group derived from a ring represented by formula (w1-15).
[In formulas (w1-1), (w1-2), (w1-3), (w1-6), and (w1-15),
The -CH₂- contained in the group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO₂- . The bonding site is at any position.
[4] The acid generator according to any one of [1] to [3], wherein ring W is a group derived from a ring represented by formula (w1-1), a group derived from a ring represented by formula (w1-2), a group derived from a ring represented by formula (w1-3), a group derived from a ring represented by formula (w1-6), a group derived from a ring represented by formula (w1-12), a group derived from a ring represented by formula (w1-22), a group derived from a ring represented by formula (w1-23), or a group derived from a ring represented by formula (w1-24).
[In formulas (w1-1), (w1-2), (w1-3), (w1-6), (w1-12), (w1-22), (w1-23), and (w1-24),
The -CH₂- contained in the group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO₂- . The bonding site is at any position.
[5] An acid generator according to any one of [1] to [4], wherein R 10 is a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms having an iodine atom, a group combining a cycloaliphatic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms having an iodine atom and a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a group combining an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms having an iodine atom and a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloaliphatic hydrocarbon group having a fluorine atom, an iodine atom or a trifluoromethyl group, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms having a fluorine atom, an iodine atom or a trifluoromethyl group (the chain hydrocarbon group, the cycloaliphatic hydrocarbon group and the aromatic hydrocarbon group may have substituents, and the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group and the cycloaliphatic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO2- ).
A resist composition containing an acid generator according to any one of [6] [1] to [5] and a resin having an acid-unstable group.
[7] The resist composition according to [6], wherein the resin having an acid-unstable group comprises at least one selected from the group consisting of a structural unit represented by formula (a1-0), a structural unit represented by formula (a1-1), and a structural unit represented by formula (a1-2).
[In formulas (a1-0), (a1-1), and (a1-2),
L a01 , L a1 , and L a2 each independently represent -O- or *-O-(CH 2 ) k1 -CO-O-, where k1 is an integer from 1 to 7, and * represents the bond site with -CO-.
Ra01 , Ra4 , and Ra5 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a C1-C6 alkyl group which may contain a halogen atom.
R a02 , R a03 , and R a04 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a combination thereof.
Ra6 and Ra7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group formed by a combination of these.
m1 represents an integer between 0 and 14.
n1 represents an integer between 0 and 10.
n1' represents an integer between 0 and 3.
[8] The resist composition according to [6] or [7], wherein the resin having an acid-unstable group comprises a structural unit represented by formula (a2-A).
[In formula (a2-A),
R a50 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms that may contain a halogen atom.
R a51 represents a halogen atom, a hydroxyl group, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C2-C12 alkoxyalkyl group, a C2-C12 alkoxyalkoxy group, a C2-C4 alkylcarbonyl group, a C2-C4 alkylcarbonyloxy group, an acryloyloxy group, or a methacryloyloxy group.
A a50 represents a single bond or * -X a51 - (A a52 -X a52 ) nb -, where * represents the bonding site with the carbon atom to which -R a50 is bonded.
A a52 represents an alkanediyl group with 1 to 6 carbon atoms.
X a51 and X a52 independently represent -O-, -CO-O-, or -O-CO-, respectively.
nb represents either 0 or 1.
mb represents an integer between 0 and 4. If mb is an integer greater than or equal to 2, multiple R a51s may be identical or different from each other.
[9] The resist composition according to any one of [6] to [8], further comprising a salt that generates an acid with a lower acidity than the acid generated from the acid generator.
[10] (1) A step of applying the resist composition described in any of [6] to [9] onto a substrate,
(2) A step of drying the coated composition to form a composition layer,
(3) Exposure step of the composition layer,
A method for manufacturing a resist pattern, comprising the steps of (4) heating the composition layer after exposure and (5) developing the composition layer after heating.
[11] A salt represented by formula (I).
[In formula (I),
Q1 and Q2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 perfluoroalkyl group.
R11 and R12 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 perfluoroalkyl group.
z represents an integer from 0 to 6, and when z is 2 or greater, multiple R11 and R12 may be the same or different from each other.
X1 represents *-CO-O-, *-O-CO-, *-O-CO-O-, or *-O-, where * represents a binding site with C( R11 )( R12 ) or C( Q1 )( Q2 ).
L1 represents a hydrocarbon group having 1 to 60 carbon atoms, which may have a single bond or substituents, and the -CH2- contained in the hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -SO2-, or -CO- .
X a and X b each independently represent -O- or -S-.
Ring W1 represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, which may have substituents, and the -CH2- contained in the alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- .
Ring W represents a cyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, which may have substituents, and the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- .
R1 and R2 each independently represent a halogen atom, a hydroxyl group, a C1-C12 haloalkyl group, or a C1-C12 alkyl group, and the -CH2- contained in the haloalkyl group and the alkyl group may be replaced with -O- or -CO-.
R 3 represents *-O-R 10 , *-O-CO-R 10 , *-CO-O-R 10 , *-O-CO-O-R 10 , *-O-L 10 -CO-O-R 10 , or *-O-L 10 -O-CO-R 10 , where * represents the bonding site with ring W.
L10 represents an alkanediyl group with 1 to 6 carbon atoms.
R 10 represents a C1-C36 hydrocarbon group having an iodine atom or a C1-C12 iodate alkyl group, or a C3-C36 cyclic hydrocarbon group having a fluorine atom or a C1-C12 fluoride alkyl group, wherein the hydrocarbon group and the cyclic hydrocarbon group may have substituents, and the -CH2- contained in the hydrocarbon group and the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- .
m1 represents an integer between 0 and 6, and when m1 is 2 or greater, multiple R1s may be the same or different from each other.
m² represents an integer between 0 and 6, and when m² is 2 or greater, multiple values may be the same or different from each other.
m3 represents an integer from 1 to 6, and when m3 is 2 or greater, multiple R3s may be the same or different from each other.
Z + represents an organic cation.
[12] L1 is a single bond, * -L2- or * -L2 - X3 - L3- ( L2 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may have substituents, a cyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have substituents, or a group formed by a combination of a cyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have substituents and a chain hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms which may have substituents, and the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO2- , and the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-. * represents the bonding site with X1 . X3 represents **-CO-O-, **-O-CO-, **-O-CO-O- or **-O-, and ** represents the bonding site with L2 . The salt according to [11], wherein 3 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, which may have single bonds or substituents, and the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
[13] The salt according to [11] or [12], wherein ring W1 is a group derived from a ring represented by formula (w1-1), a group derived from a ring represented by formula (w1-2), a group derived from a ring represented by formula (w1-3), a group derived from a ring represented by formula (w1-6), or a group derived from a ring represented by formula (w1-15).
[In formulas (w1-1), (w1-2), (w1-3), (w1-6), and (w1-15),
The -CH₂- contained in the group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO₂- . The bonding site is at any position.
[14] The salt according to any one of [11] to [13], wherein ring W is a group derived from the ring represented by formula (w1-1), a group derived from the ring represented by formula (w1-2), a group derived from the ring represented by formula (w1-3), a group derived from the ring represented by formula (w1-6), a group derived from the ring represented by formula (w1-12), a group derived from the ring represented by formula (w1-22), a group derived from the ring represented by formula (w1-23), or a group derived from the ring represented by formula (w1-24).
[In formulas (w1-1), (w1-2), (w1-3), (w1-6), (w1-12), (w1-22), (w1-23), and (w1-24),
The -CH₂- contained in the group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO₂- . The bonding site is at any position.
[15] The salt according to any one of [11] to [14], wherein R 10 is a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms having an iodine atom, a group combining a cycloaliphatic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms having an iodine atom and a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a group combining an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms having an iodine atom and a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloaliphatic hydrocarbon group having a fluorine atom, an iodine atom or a trifluoromethyl group, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms having a fluorine atom, an iodine atom or a trifluoromethyl group (the chain hydrocarbon group, the cycloaliphatic hydrocarbon group and the aromatic hydrocarbon group may have substituents, and the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group and the cycloaliphatic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO2- ).

本発明の塩を含有するレジスト組成物を用いることにより、良好なCD均一性(CDU)でレジストパターンを製造することができる。 By using a resist composition containing the salt of the present invention, resist patterns can be manufactured with good CD uniformity (CDU).

本明細書において、「(メタ)アクリル系モノマー」とは、「アクリル系モノマー及びメタクリル系モノマーの少なくとも一種」を意味する。「(メタ)アクリレート」及び「(メタ)アクリル酸」等の表記も、同様の意味を表す。本明細書中に記載する基において、直鎖構造と分岐構造の両方をとり得るものについては、そのいずれでもよい。炭化水素基等に含まれる-CH2-が-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わる場合、各基において同様の例を適用するものとする。「組み合わせた基」とは、例示した基を2種以上結合させた基を意味し、それら基の価数は結合形態によって適宜変更してもよい。「由来する」又は「誘導される」とは、その分子中に含まれる重合性C=C結合が重合により-C-C-基(単結合)となることを指す。立体異性体が存在する場合は、全ての立体異性体を含む。 In this specification, "(meth)acrylic monomer" means "at least one of acrylic monomers and methacrylic monomers." The notations "(meth)acrylate" and "(meth)acrylic acid" have the same meaning. For groups described herein that can take both linear and branched structures, either is acceptable. When the -CH2- contained in hydrocarbon groups, etc., is replaced by -O-, -S-, -CO- or -SO2- , the same example shall apply to each group. "Combined group" means a group formed by bonding two or more of the exemplified groups, and the valences of these groups may be appropriately changed depending on the bonding configuration. "Derived from" or "induced from" means that the polymerizable C=C bond contained in the molecule becomes a -C-C- group (single bond) through polymerization. If stereoisomers exist, all stereoisomers are included.

〔式(I)で表される塩〕
本発明は、式(I)で表される塩(以下「塩(I)」という場合がある)に関する。
塩(I)のうち、負電荷を有する側を「アニオン(I)」、正電荷を有する側を「カチオン(I)」と称することがある。
[式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。]
[Salt represented by formula (I)]
This invention relates to a salt represented by formula (I) (hereinafter sometimes referred to as "salt (I)").
In salts (I), the side with a negative charge is sometimes called an "anion (I)," and the side with a positive charge is sometimes called a "cation (I)."
[In the formula, all signs have the same meaning as described above.]

式(I)において、Q、Q、R11及びR12のペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基などが挙げられる。ペルフルオロアルキル基の炭素数は、好ましくは1~4であり、より好ましくは1~3である。
、Q、R11及びR12のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは1~4であり、より好ましくは1~3である。
及びQは、少なくとも一方が、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基であることが好ましく、それぞれ独立に、トリフルオロメチル基又はフッ素原子であることがより好ましく、ともにフッ素原子であることがさらに好ましい。
11及びR12は、それぞれ独立に、好ましくは水素原子、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であり、より好ましくは水素原子又はトリフルオロメチル基である。
zは、0~4のいずれかの整数あることが好ましく、0~3のいずれかの整数あることがより好ましく、0又は1であることがさらに好ましい。
1は、*-CO-O-、*-O-CO-O-又は*-O-CO-であることが好ましく、*-CO-O-又は*-O-CO-O-であることがより好ましい(*はC(R11)(R12)又はC(Q)(Q)との結合部位を表す。)。
In formula (I), examples of perfluoroalkyl groups for Q1 , Q2 , R11 , and R12 include trifluoromethyl, perfluoroethyl, perfluoropropyl, perfluoroisopropyl, perfluorobutyl, perfluorosec-butyl, perfluorotert-butyl, perfluoropentyl, and perfluorohexyl groups. The number of carbon atoms in the perfluoroalkyl group is preferably 1 to 4, and more preferably 1 to 3.
Examples of alkyl groups for Q1 , Q2 , R11 , and R12 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, and hexyl groups. The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 4, and more preferably 1 to 3.
Q1 and Q2 are preferably at least one of which is a fluorine atom or a perfluoroalkyl group, more preferably independently a trifluoromethyl group or a fluorine atom, and even more preferably both are fluorine atoms.
R11 and R12 are each independently preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, or a trifluoromethyl group, and more preferably a hydrogen atom or a trifluoromethyl group.
z is preferably an integer from 0 to 4, more preferably an integer from 0 to 3, and even more preferably 0 or 1.
X1 is preferably *-CO-O-, *-O-CO-O-, or *-O-CO-, and more preferably *-CO-O- or *-O-CO-O- (where * represents a bonding site with C( R11 )( R12 ) or C( Q1 )( Q2 )).

における炭化水素基としては、鎖式炭化水素基、単環式又は多環式(スピロ環、縮合環又は橋掛け環等を含む)の脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基等の環状炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組み合わせた基(例えば脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基と鎖式炭化水素基とから形成される炭化水素基)でもよい。炭化水素基の炭素数は、好ましくは1~54であり、より好ましくは1~48であり、さらに好ましくは1~42であり、より一層好ましくは1~38であり、さらに一層より好ましくは1~36であり、さらにより好ましくは1~32であり、さらにより一層好ましくは1~28である。
鎖式炭化水素基としては、アルカンジイル基、アルケンジイル基、アルキンジイル基等の2価の鎖式炭化水素基等が挙げられる。
アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ヘプタン-1,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-1,9-ジイル基、デカン-1,10-ジイル基、ウンデカン-1,11-ジイル基、ドデカン-1,12-ジイル基、トリデカン-1,13-ジイル基、テトラデカン-1,14-ジイル基、ペンタデカン-1,15-ジイル基、ヘキサデカン-1,16-ジイル基及びヘプタデカン-1,17-ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基及び
エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,1-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、プロパン-2,2-ジイル基、ペンタン-2,4-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
アルケンジイル基としては、エテンジイル基、プロペンジイル基、イソプロペンジイル基、ブテンジイル基、イソブテンジイル基、tert-ブテンジイル基、ペンテンジイル基、ヘキセンジイル基、ヘプテンジイル基、オクテンジイル基、イソオクテンジイル基、ノネニンジイル基等が挙げられる。
アルキンジイル基としては、エチンジイル基、プロピンジイル基、イソプロピンジイル基、ブチンジイル基、イソブチンジイル基、tert-ブチンジイル基、ペンチンジイル基、ヘキシンジイル基、オクチンジイル基、ノニンジイル基等が挙げられる。
鎖式炭化水素基の炭素数は、好ましくは1~18であり、より好ましくは1~12であり、さらに好ましくは1~10であり、より一層好ましくは1~8であり、さらに一層好ましくは1~7であり、さらにより好ましくは1~6であり、さらにより一層好ましくは1~5であり、特に好ましくは1~4である。
Examples of hydrocarbon groups in L1 include cyclic hydrocarbon groups such as chain hydrocarbon groups, monocyclic or polycyclic (including spiro rings, fused rings, or cross-linking rings) alicyclic hydrocarbon groups, and aromatic hydrocarbon groups. Groups formed by combining two or more of these groups (for example, hydrocarbon groups formed from an alicyclic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group and a chain hydrocarbon group) are also acceptable. The number of carbon atoms in the hydrocarbon group is preferably 1 to 54, more preferably 1 to 48, even more preferably 1 to 42, even more preferably 1 to 38, even more preferably 1 to 36, even more preferably 1 to 32, and even more preferably 1 to 28.
Examples of chain-like hydrocarbon groups include divalent chain-like hydrocarbon groups such as alkanediyl groups, alkenediyl groups, and alkynediyl groups.
Examples of alkanediyl groups include linear alkanediyl groups such as methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, dodecane-1,12-diyl group, tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group and heptadecane-1,17-diyl group, and Examples of branched alkanediyl groups include ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, and 2-methylbutane-1,4-diyl group.
Examples of alkenediyl groups include ethendiyl group, propendiyl group, isopropendiyl group, butendiyl group, isobutendiyl group, tert-butendiyl group, pentendiyl group, hexendiyl group, heptendiyl group, octendiyl group, isooctenediyl group, and nonenindiyl group.
Examples of alkynediyl groups include ethindiyl group, propindiyl group, isopropindiyl group, butindiyl group, isobutindiyl group, tert-butindiyl group, pentindiyl group, hexindiyl group, octindiyl group, and nonindiyl group.
The number of carbon atoms in the chain-like hydrocarbon group is preferably 1 to 18, more preferably 1 to 12, even more preferably 1 to 10, even more preferably 1 to 8, even more preferably 1 to 7, even more preferably 1 to 6, even more preferably 1 to 5, and particularly preferably 1 to 4.

単環式又は多環式の脂環式炭化水素基としては、以下の脂環式炭化水素基等が挙げられる。結合部位は任意の位置とすることができる。
例えば、シクロアルカンジイル基等の2価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。
具体的には、シクロブタン-1,3-ジイル基、シクロペンタン-1,3-ジイル基、シクロヘキサン-1,4-ジイル基、シクロオクタン-1,5-ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の脂環式炭化水素基及び
ノルボルナン-1,4-ジイル基、ノルボルナン-2,5-ジイル基、アダマンタン-1,5-ジイル基、アダマンタン-2,6-ジイル基、デカヒドロナフタレンジイル基、ビシクロ[3.3.0]オクタンジイル基等の多環式の脂環式炭化水素基、
スピロシクロヘキサン-1,2’シクロペンタン、スピロアダマンタン-2,3’-シクロペンタン基等のシクロアルキル基、ノルボニル基もしくはアダマンチル基とそれぞれにスピロで結合したシクロアルキル基を有するスピロ環等が挙げられる。
脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは3~36であり、より好ましくは3~24であり、さらに好ましくは3~20であり、より一層好ましくは3~18であり、さらに一層好ましくは3~16であり、さらにより好ましくは3~12である。
芳香族炭化水素基としては、アレーンジイル基等の2価の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
具体的には、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、ビフェニレン基、フェナントリレン基等の芳香族炭化水素基が挙げられる。
芳香族炭化水素基の炭素数は、好ましくは3~36であり、より好ましくは6~24であり、さらに好ましくは6~20であり、より一層好ましくは6~18であり、さらに一層好ましくは6~14であり、さらにより好ましくは6~10である。
Examples of monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon groups include the following alicyclic hydrocarbon groups. The bonding site can be at any position.
Examples include divalent alicyclic hydrocarbon groups such as cycloalkanediyl groups.
Specifically, monocyclic alicyclic hydrocarbon groups such as cycloalkanediyl groups like cyclobutane-1,3-diyl, cyclopentane-1,3-diyl, cyclohexane-1,4-diyl, and cyclooctane-1,5-diyl, and polycyclic alicyclic hydrocarbon groups such as norbornane-1,4-diyl, norbornane-2,5-diyl, adamantane-1,5-diyl, adamantane-2,6-diyl, decahydronaphthalenediyl, and bicyclo[3.3.0]octanediyl.
Examples include cycloalkyl groups such as spirocyclohexane-1,2'cyclopentane and spiroadamantane-2,3'-cyclopentane, and spiro rings having a cycloalkyl group attached by a spiro to a norbonyl group or an adamantyl group.
The number of carbon atoms in the alicyclic hydrocarbon group is preferably 3 to 36, more preferably 3 to 24, even more preferably 3 to 20, even more preferably 3 to 18, even more preferably 3 to 16, and even more preferably 3 to 12.
Examples of aromatic hydrocarbon groups include divalent aromatic hydrocarbon groups such as arenediyl groups.
Specifically, examples include aromatic hydrocarbon groups such as phenylene groups, naphthylene groups, anthrylene groups, biphenylene groups, and phenanthrylene groups.
The number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group is preferably 3 to 36, more preferably 6 to 24, even more preferably 6 to 20, even more preferably 6 to 18, even more preferably 6 to 14, and even more preferably 6 to 10.

2種以上を組み合わせた基としては、脂環式炭化水素基と鎖式炭化水素基とを組み合わせた基、芳香族炭化水素基と鎖式炭化水素基とを組み合わせた基、脂環式炭化水素基と芳香族炭化水素基とを組み合わせた基、脂環式炭化水素基と鎖式炭化水素基と芳香族炭化水素基とを組み合わせた基等が挙げられる。組み合わせにおいて、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、鎖式炭化水素基は、それぞれ2種以上を組み合わせてもよい。また、いずれの基がX1に結合していてもよい。
脂環式炭化水素基と鎖式炭化水素基とを組み合わせた基としては、例えば、鎖式炭化水素基に脂環式炭化水素基が結合した基(例えば、*-鎖式炭化水素基-脂環式炭化水素基-等)、脂環式炭化水素基に鎖式炭化水素基が結合した基(例えば、*-脂環式炭化水素基-鎖式炭化水素基-等)、鎖式炭化水素基に脂環式炭化水素基と鎖式炭化水素基が結合した基(例えば、*-鎖式炭化水素基-脂環式炭化水素基-鎖式炭化水素基-等)、脂環式炭化水素基に鎖式炭化水素基と脂環式炭化水素基が結合した基(例えば、*-脂環式炭化水素基-鎖式炭化水素基-脂環式炭化水素基-等)、鎖式炭化水素基に脂環式炭化水素基と鎖式炭化水素基と脂環式炭化水素基が結合した基(例えば、*-鎖式炭化水素基-脂環式炭化水素基-鎖式炭化水素基-脂環式炭化水素基-等)、脂環式炭化水素基に鎖式炭化水素基と脂環式炭化水素基と鎖式炭化水素基が結合した基(例えば、*-脂環式炭化水素基-鎖式炭化水素基-脂環式炭化水素基-鎖式炭化水素基-等)等が挙げられる。
芳香族炭化水素基と鎖式炭化水素基とを組み合わせた基としては、例えば、鎖式炭化水素基に芳香族炭化水素基が結合した基(例えば、*-鎖式炭化水素基-芳香族炭化水素基-等)、芳香族炭化水素基に鎖式炭化水素基が結合した基(例えば、*-芳香族炭化水素基-鎖式炭化水素基-等)、鎖式炭化水素基に芳香族炭化水素基と鎖式炭化水素基が結合した基(例えば、*-鎖式炭化水素基-芳香族炭化水素基-鎖式炭化水素基-等)等が挙げられる。
脂環式炭化水素基と芳香族炭化水素基とを組み合わせた基としては、脂環式炭化水素基に芳香族炭化水素基が結合した基(例えば、*-脂環式炭化水素基-芳香族炭化水素基-等)、芳香族炭化水素基に脂環式炭化水素基が結合した基(例えば、*-芳香族炭化水素基-脂環式炭化水素基-等)、脂環式炭化水素基と芳香族炭化水素基とが縮合した基(例えば、以下の基(結合部位は任意の位置である)等)等が挙げられる。
脂環式炭化水素基と鎖式炭化水素基と芳香族炭化水素基とを組み合わせた基としては、脂環式炭化水素基に芳香族炭化水素基と鎖式炭化水素基が結合した基(例えば、*-脂環式炭化水素基-芳香族炭化水素基-鎖式炭化水素基-等)、芳香族炭化水素基に脂環式炭化水素基と鎖式炭化水素基が結合した基(例えば、*-芳香族炭化水素基-脂環式炭化水素基-鎖式炭化水素基-等)等が挙げられる。
*はXとの結合部位を表す。
Examples of groups formed by combining two or more types include groups formed by combining an alicyclic hydrocarbon group and a chain hydrocarbon group, groups formed by combining an aromatic hydrocarbon group and a chain hydrocarbon group, groups formed by combining an alicyclic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group, and groups formed by combining an alicyclic hydrocarbon group, a chain hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group. In the combinations, two or more types of alicyclic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, and chain hydrocarbon groups may be combined. Furthermore, any of these groups may be bonded to X1 .
Examples of groups combining alicyclic hydrocarbon groups and chain hydrocarbon groups include groups in which an alicyclic hydrocarbon group is bonded to a chain hydrocarbon group (e.g., *-chain hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-, etc.), groups in which a chain hydrocarbon group is bonded to an alicyclic hydrocarbon group (e.g., *-alicyclic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-, etc.), groups in which an alicyclic hydrocarbon group and a chain hydrocarbon group are bonded to a chain hydrocarbon group (e.g., *-chain hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-, etc.), and groups in which an alicyclic hydrocarbon group and a chain hydrocarbon group are bonded to an alicyclic hydrocarbon group. Examples include groups to which a hydrogenated group is bonded (e.g., *-alicyclic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-, etc.), groups to which a chain hydrocarbon group is bonded with an alicyclic hydrocarbon group, a chain hydrocarbon group and another alicyclic hydrocarbon group (e.g., *-chain hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-, etc.), and groups to which a chain hydrocarbon group is bonded with an alicyclic hydrocarbon group and another alicyclic hydrocarbon group (e.g., *-alicyclic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-, etc.).
Examples of groups combining aromatic hydrocarbon groups and chain hydrocarbon groups include groups in which an aromatic hydrocarbon group is bonded to a chain hydrocarbon group (e.g., *-chain hydrocarbon group-aromatic hydrocarbon group-, etc.), groups in which a chain hydrocarbon group is bonded to an aromatic hydrocarbon group (e.g., *-aromatic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-, etc.), and groups in which an aromatic hydrocarbon group and a chain hydrocarbon group are bonded to a chain hydrocarbon group (e.g., *-chain hydrocarbon group-aromatic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-, etc.).
Groups combining alicyclic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups include groups in which an aromatic hydrocarbon group is bonded to an alicyclic hydrocarbon group (e.g., *-alicyclic hydrocarbon group-aromatic hydrocarbon group-, etc.), groups in which an alicyclic hydrocarbon group is bonded to an aromatic hydrocarbon group (e.g., *-aromatic hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-, etc.), and groups in which an alicyclic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group are condensed (e.g., the following groups (the bonding site is at any position)).
Examples of groups combining alicyclic hydrocarbon groups, chain hydrocarbon groups, and aromatic hydrocarbon groups include groups in which aromatic hydrocarbon groups and chain hydrocarbon groups are bonded to an alicyclic hydrocarbon group (for example, *-alicyclic hydrocarbon group-aromatic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-, etc.) and groups in which alicyclic hydrocarbon groups and chain hydrocarbon groups are bonded to an aromatic hydrocarbon group (for example, *-aromatic hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-, etc.).
* indicates the connection site with X1 .

の炭素数1~60の炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-SO-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
の炭素数1~60の炭化水素基に含まれる-CH-が-O-、-S-、-SO-又は-CO-に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該炭化水素基の炭素数とする。
炭化水素基に含まれる-CH2-が、-O-、-S-、-SO-又は-CO-に置き換わった基としては、ヒドロキシ基(メチル基中に含まれる-CH2-が、-O-に置き換わった基)、カルボキシ基(エチル基中に含まれる-CH2-CH2-が、-O-CO-に置き換わった基)、チオール基(メチル基中に含まれる-CH2-が、-S-に置き換わった基)、アルコキシ基(アルキル基中に含まれる任意の位置の-CH2-が、-O-に置き換わった基)、アルキルチオ基(アルキル基中に含まれる任意の位置の-CH2-が、-S-に置き換わった基)、アルコキシカルボニル基(アルキル基中に含まれる任意の位置の-CH2-CH2-が、-O-CO-に置き換わった基)、アルキルスルホニル基(アルキル基中に含まれる任意の位置の-CH2-が、-SO-に置き換わった基)、アルキルカルボニル基(アルキル基中に含まれる任意の位置の-CH2-が、-CO-に置き換わった基)、アルキルカルボニルオキシ基(アルキル基中に含まれる任意の位置の-CH2-CH2-が、-CO-O-に置き換わった基)、オキシ基(メチレン基中に含まれる-CH2-が、-O-に置き換わった基)、カルボニル基(メチレン基中に含まれる-CH2-が、-CO-に置き換わった基)、アルカンジイルオキシ基(アルカンジイル基中に含まれる任意の位置の-CH2-が、-O-に置き換わった基)、アルカンジイルオキシカルボニル基(アルカンジイル基中に含まれる任意の位置の-CH2-CH2-が、-O-CO-に置き換わった基)、アルカンジイルカルボニル基(アルカンジイル基中に含まれる任意の位置の-CH2-が、-CO-に置き換わった基)、アルカンジイルカルボニルオキシ基(アルカンジイル基中に含まれる任意の位置の-CH2-CH2-が、-CO-O-に置き換わった基)、アルカンジイルスルホニル基(アルカンジイル基中に含まれる任意の位置の-CH2-が、-SO-に置き換わった基)、アルカンジイルチオ基(アルカンジイル基中に含まれる任意の位置の-CH2-が、-S-に置き換わった基)、シクロアルコキシ基、シクロアルキルアルコキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、芳香族炭化水素基-カルボニルオキシ基、芳香族炭化水素基-カルボニル基、芳香族炭化水素基-オキシ基、これらの基のうち2種以上を組み合わせた基等が挙げられる。
The -CH2- contained in the hydrocarbon group having 1 to 60 carbon atoms in L1 may be replaced with -O-, -S-, -SO2- , or -CO-.
If the -CH2- contained in a hydrocarbon group with 1 to 60 carbon atoms in L1 is replaced with -O-, -S-, -SO2- , or -CO-, the number of carbon atoms before the replacement shall be considered the number of carbon atoms in the hydrocarbon group.
Groups in which the -CH2- contained in a hydrocarbon group is replaced with -O-, -S-, -SO2- , or -CO- include: hydroxyl group (a group in which the -CH2- contained in a methyl group is replaced with -O-), carboxyl group (a group in which the -CH2 - CH2- contained in an ethyl group is replaced with -O-CO-), thiol group (a group in which the -CH2- contained in a methyl group is replaced with -S-), alkoxy group (a group in which the -CH2- at any position in an alkyl group is replaced with -O-), alkylthio group (a group in which the -CH2- at any position in an alkyl group is replaced with -S-), alkoxycarbonyl group (a group in which the -CH2 - CH2- at any position in an alkyl group is replaced with -O-CO-), and alkylsulfonyl group (a group in which the -CH2- at any position in an alkyl group is replaced with -SO2- ال Examples include groups in which - is replaced by -CO-), alkanediylcarbonyloxy groups (groups in which -CH2 - CH2- at any position in an alkanediyl group is replaced by -CO-O-), alkanediylsulfonyl groups (groups in which -CH2- at any position in an alkanediyl group is replaced by -SO2- ), alkanediylthio groups (groups in which -CH2- at any position in an alkanediyl group is replaced by -S-), cycloalkoxy groups, cycloalkylalkoxy groups, alkoxycarbonyloxy groups, aromatic hydrocarbon group-carbonyloxy groups, aromatic hydrocarbon group-carbonyl groups, aromatic hydrocarbon group-oxy groups, and groups that combine two or more of these groups.

アルコキシ基としては、炭素数1~17のアルコキシ基が挙げられ、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基等が挙げられる。アルコキシ基の炭素数は、好ましくは1~11であり、より好ましくは1~6であり、さらに好ましくは1~4であり、さらにより好ましくは1~3である。
アルキルチオ基としては、炭素数1~17のアルキルチオ基が挙げられ、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基等が挙げられる。アルキルチオ基の炭素数は、好ましくは1~11であり、より好ましくは1~6であり、さらに好ましくは1~4であり、さらにより好ましくは1~3である。
アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基及びアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基を表す。
アルコキシカルボニル基としては、炭素数2~17のアルコキシカルボニル基が挙げられ、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられる。アルキルカルボニル基としては、炭素数2~18のアルキルカルボニル基が挙げられ、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。アルキルカルボニルオキシ基としては、炭素数2~17のアルキルカルボニルオキシ基が挙げられ、例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。アルコキシカルボニル基の炭素数は、好ましくは2~11であり、より好ましくは2~6であり、さらに好ましくは2~4であり、さらにより好ましくは2又は3である。アルキルカルボニル基の炭素数は、好ましくは2~12であり、より好ましくは2~6であり、さらに好ましくは2~4であり、さらにより好ましくは2又は3である。アルキルカルボニルオキシ基の炭素数は、好ましくは2~11であり、より好ましくは2~6であり、さらに好ましくは2~4であり、さらにより好ましくは2又は3である。
アルキルスルホニル基としては、炭素数1~17のアルキルスルホニル基が挙げられ、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基等が挙げられる。アルキルスルホニル基の炭素数は、好ましくは1~11であり、より好ましくは1~6であり、さらに好ましくは1~4であり、さらにより好ましくは1~3である。
アルカンジイルオキシ基としては、炭素数1~17のアルカンジイルオキシ基が挙げられ、例えば、メチレンオキシ基、エチレンオキシ基、プロパンジイルオキシ基、ブタンジイルオキシ基、ペンタンジイルオキシ基等が挙げられる。アルカンジイルオキシ基の炭素数は、好ましくは1~11であり、より好ましくは1~6であり、さらに好ましくは1~4であり、さらにより好ましくは1~3である。
アルカンジイルオキシカルボニル基としては、炭素数2~17のアルカンジイルオキシカルボニル基が挙げられ、例えば、メチレンオキシカルボニル基、エチレンオキシカルボニル基、プロパンジイルオキシカルボニル基、ブタンジイルオキシカルボニル基等が挙げられる。アルカンジイルカルボニル基としては、炭素数2~18のアルカンジイルカルボニル基が挙げられ、例えば、メチレンカルボニル基、エチレンカルボニル基、プロパンジイルカルボニル基、ブタンジイルカルボニル基、ペンタンジイルカルボニル基等が挙げられる。アルカンジイルカルボニルオキシ基としては、炭素数2~17のアルカンジイルカルボニルオキシ基が挙げられ、例えば、メチレンカルボニルオキシ基、エチレンカルボニルオキシ基、プロパンジイルカルボニルオキシ基、ブタンジイルカルボニルオキシ基等が挙げられる。アルカンジイルオキシカルボニル基の炭素数は、好ましくは2~11であり、より好ましくは2~6であり、さらに好ましくは2~4であり、さらにより好ましくは2又は3である。アルカンジイルカルボニル基の炭素数は、好ましくは2~12であり、より好ましくは2~6であり、さらに好ましくは2~4であり、さらにより好ましくは2又は3である。アルカンジイルカルボニルオキシ基の炭素数は、好ましくは2~11であり、より好ましくは2~6であり、さらに好ましくは2~4であり、さらにより好ましくは2又は3である。
アルカンジイルチオ基としては、炭素数1~17のアルカンジイルチオ基が挙げられ、例えば、メチレンチオ基、エチレンチオ基、プロピレンチオ基等が挙げられる。アルカンジイルチオ基の炭素数は、好ましくは1~11であり、より好ましくは1~6であり、さらに好ましくは1~4であり、さらにより好ましくは1~3である。
アルカンジイルスルホニル基としては、炭素数1~17のアルカンジイルスルホニル基が挙げられ、例えば、メチレンスルホニル基、エチレンスルホニル基、プロピレンスルホニル基等が挙げられる。アルカンジイルスルホニル基の炭素数は、好ましくは1~11であり、より好ましくは1~6であり、さらに好ましくは1~4であり、さらにより好ましくは1~3である。
Examples of alkoxy groups include alkoxy groups having 1 to 17 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, nonyloxy, decyloxy, and undecyloxy groups. The number of carbon atoms in the alkoxy group is preferably 1 to 11, more preferably 1 to 6, even more preferably 1 to 4, and even more preferably 1 to 3.
Examples of alkylthio groups include alkylthio groups having 1 to 17 carbon atoms, such as methylthio groups, ethylthio groups, propylthio groups, and butylthio groups. The number of carbon atoms in the alkylthio group is preferably 1 to 11, more preferably 1 to 6, even more preferably 1 to 4, and even more preferably 1 to 3.
Alkoxycarbonyl groups, alkylcarbonyl groups, and alkylcarbonyloxy groups represent groups in which a carbonyl group or carbonyloxy group is bonded to an alkyl group or alkoxy group as described above.
Examples of alkoxycarbonyl groups include alkoxycarbonyl groups having 2 to 17 carbon atoms, such as methoxycarbonyl groups, ethoxycarbonyl groups, and butoxycarbonyl groups. Examples of alkylcarbonyl groups include alkylcarbonyl groups having 2 to 18 carbon atoms, such as acetyl groups, propionyl groups, and butyryl groups. Examples of alkylcarbonyloxy groups include alkylcarbonyloxy groups having 2 to 17 carbon atoms, such as acetyloxy groups, propionyloxy groups, and butyryloxy groups. The number of carbon atoms in the alkoxycarbonyl group is preferably 2 to 11, more preferably 2 to 6, even more preferably 2 to 4, and even more preferably 2 or 3. The number of carbon atoms in the alkylcarbonyl group is preferably 2 to 12, more preferably 2 to 6, even more preferably 2 to 4, and even more preferably 2 or 3. The number of carbon atoms in the alkylcarbonyloxy group is preferably 2 to 11, more preferably 2 to 6, even more preferably 2 to 4, and even more preferably 2 or 3.
Examples of alkylsulfonyl groups include alkylsulfonyl groups having 1 to 17 carbon atoms, such as methylsulfonyl groups, ethylsulfonyl groups, and propylsulfonyl groups. The number of carbon atoms in the alkylsulfonyl group is preferably 1 to 11, more preferably 1 to 6, even more preferably 1 to 4, and even more preferably 1 to 3.
Examples of alkanediyloxy groups include alkanediyloxy groups having 1 to 17 carbon atoms, such as methyleneoxy, ethyleneoxy, propanediyloxy, butanediyloxy, and pentanediyloxy groups. The number of carbon atoms in the alkanediyloxy group is preferably 1 to 11, more preferably 1 to 6, even more preferably 1 to 4, and even more preferably 1 to 3.
Examples of alkanediyloxycarbonyl groups include alkanediyloxycarbonyl groups having 2 to 17 carbon atoms, such as methyleneoxycarbonyl groups, ethyleneoxycarbonyl groups, propanediyloxycarbonyl groups, and butanediyloxycarbonyl groups. Examples of alkanediylcarbonyl groups include alkanediylcarbonyl groups having 2 to 18 carbon atoms, such as methylenecarbonyl groups, ethylenecarbonyl groups, propanediylcarbonyl groups, butanediylcarbonyl groups, and pentanediylcarbonyl groups. Examples of alkanediylcarbonyloxy groups include alkanediylcarbonyloxy groups having 2 to 17 carbon atoms, such as methylenecarbonyloxy groups, ethylenecarbonyloxy groups, propanediylcarbonyloxy groups, and butanediylcarbonyloxy groups. The number of carbon atoms in the alkanediyloxycarbonyl group is preferably 2 to 11, more preferably 2 to 6, even more preferably 2 to 4, and even more preferably 2 or 3. The number of carbon atoms in the alkanediylcarbonyl group is preferably 2 to 12, more preferably 2 to 6, even more preferably 2 to 4, and even more preferably 2 or 3. The number of carbon atoms in the alkanediylcarbonyloxy group is preferably 2 to 11, more preferably 2 to 6, even more preferably 2 to 4, and even more preferably 2 or 3.
Examples of alkanediylthio groups include alkanediylthio groups having 1 to 17 carbon atoms, such as methylenethio groups, ethylenethio groups, and propylenethio groups. The number of carbon atoms in the alkanediylthio group is preferably 1 to 11, more preferably 1 to 6, even more preferably 1 to 4, and even more preferably 1 to 3.
Examples of alkanediylsulfonyl groups include alkanediylsulfonyl groups having 1 to 17 carbon atoms, such as methylenesulfonyl groups, ethylenesulfonyl groups, and propylenesulfonyl groups. The number of carbon atoms in the alkanediylsulfonyl group is preferably 1 to 11, more preferably 1 to 6, even more preferably 1 to 4, and even more preferably 1 to 3.

シクロアルコキシ基としては、炭素数3~17のシクロアルコキシ基が挙げられ、例えば、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。シクロアルキルアルコキシ基としては、炭素数4~17のシクロアルキルアルコキシ基が挙げられ、例えば、シクロヘキシルメトキシ基等が挙げられる。アルコキシカルボニルオキシ基としては、炭素数2~16のアルコキシカルボニルオキシ基が挙げられ、例えば、ブトキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。芳香族炭化水素基-カルボニルオキシ基としては、炭素数7~17の芳香族炭化水素基-カルボニルオキシ基が挙げられ、例えば、ベンゾイルオキシ基等が挙げられる。芳香族炭化水素基-カルボニル基としては、炭素数7~17の芳香族炭化水素基-カルボニル基が挙げられ、例えば、ベンゾイル基等が挙げられる。芳香族炭化水素基-オキシ基としては、炭素数6~16の芳香族炭化水素基-オキシ基が挙げられ、例えば、フェニルオキシ基等が挙げられる。 Examples of cycloalkoxy groups include cycloalkoxy groups having 3 to 17 carbon atoms, such as the cyclohexyloxy group. Examples of cycloalkylalkoxy groups include cycloalkylalkoxy groups having 4 to 17 carbon atoms, such as the cyclohexylmethoxy group. Examples of alkoxycarbonyloxy groups include alkoxycarbonyloxy groups having 2 to 16 carbon atoms, such as the butoxycarbonyloxy group. Examples of aromatic hydrocarbon group-carbonyloxy groups include aromatic hydrocarbon group-carbonyloxy groups having 7 to 17 carbon atoms, such as the benzoyloxy group. Examples of aromatic hydrocarbon group-carbonyl groups include aromatic hydrocarbon group-carbonyl groups having 7 to 17 carbon atoms, such as the benzoyl group. Examples of aromatic hydrocarbon group-oxy groups include aromatic hydrocarbon group-oxy groups having 6 to 16 carbon atoms, such as the phenyloxy group.

また、脂環式炭化水素基に含まれる-CH-が、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わった基としては、以下の基等が挙げられる。以下に表される基の-O-又は-CO-は、それぞれ-S-又は-SO-に置き換わってもよい。結合部位は任意の位置とすることができる。
組み合わせた基に含まれる-CH-が、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わった基としては、以下の基等も挙げられる。結合部位は任意の位置とすることができる。
Furthermore, the following groups are examples of groups in which the -CH2- contained in an alicyclic hydrocarbon group is replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- . The -O- or -CO- in the groups shown below may be replaced with -S- or -SO2- , respectively. The bonding site can be at any position.
The following groups are examples of groups in which the -CH2- contained in the combined group is replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- . The bonding site can be at any position.

が有してもよい置換基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数2~13のアルコキシカルボニル基、炭素数2~13のアルキルカルボニル基、炭素数2~13のアルキルカルボニルオキシ基又はこれらを組み合わせた基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
炭素数1~12のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基等が挙げられる。
炭素数1~12のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられる。
炭素数2~13のアルコキシカルボニル基、炭素数2~13のアルキルカルボニル基及び炭素数2~13のアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基を表す。
炭素数2~13のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられ、炭素数2~13のアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられ、炭素数2~13のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
置換基は、炭素数1~4のアルキル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子又はこれらを組み合わせた基であることが好ましい。
Substituents that L1 may have include hydroxyl groups, carboxyl groups, halogen atoms, cyano groups, C1-C12 alkyl groups, C1-C12 alkoxy groups, C2-C13 alkoxycarbonyl groups, C2-C13 alkylcarbonyl groups, C2-C13 alkylcarbonyloxy groups, or groups combining these.
Examples of halogen atoms include fluorine, chlorine, bromine, and iodine atoms.
Examples of alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, octyl, and nonyl groups.
Examples of alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, nonyloxy, decyloxy, undecyloxy, and dodecyloxy groups.
The alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, the alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, and the alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms represent groups in which a carbonyl group or carbonyloxy group is bonded to the alkyl group or alkoxy group described above.
Examples of alkoxycarbonyl groups having 2 to 13 carbon atoms include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, and butoxycarbonyl groups. Examples of alkylcarbonyl groups having 2 to 13 carbon atoms include acetyl, propionyl, and butyryl groups. Examples of alkylcarbonyloxy groups having 2 to 13 carbon atoms include acetyloxy, propionyloxy, and butyryloxy groups.
The substituent is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, a halogen atom, or a group consisting of a combination thereof.

は、単結合、置換基を有してもよい炭素数1~10の鎖式炭化水素基(但し、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)、置換基を有してもよい炭素数3~24の環状炭化水素基(但し、該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-に置き換わっていてもよい。)又は置換基を有してもよい炭素数1~8の鎖式炭化水素基と置換基を有してもよい炭素数3~24の環状炭化水素基とを組み合わせてなる基(但し、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-SO-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)であることが好ましく、単結合、置換基を有してもよい炭素数1~8の鎖式炭化水素基(但し、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)、置換基を有してもよい炭素数3~20の環状炭化水素基(但し、該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-に置き換わっていてもよい。)又は置換基を有してもよい炭素数1~6の鎖式炭化水素基と置換基を有してもよい炭素数3~20の環状炭化水素基とを組み合わせてなる基(但し、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-SO-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)であることがより好ましく、単結合、置換基を有してもよい炭素数1~7の鎖式炭化水素基(但し、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)、置換基を有してもよい炭素数3~18の環状炭化水素基(但し、該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)又は置換基を有してもよい炭素数1~5の鎖式炭化水素基と置換基を有してもよい炭素数3~18の環状炭化水素基とを組み合わせてなる基(但し、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)であることがさらに好ましい。 L1 is preferably a single bond, a chain hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may have substituents (however, the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-), a cyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have substituents (however, the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO2- ), or a group formed by combining a chain hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms which may have substituents and a cyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have substituents (however, the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-, and the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -SO2- or -CO-), and is preferably a single bond, a chain hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms which may have substituents (however, the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -SO2- or -CO-). 2 - may be replaced with -O- or -CO-. ), a cyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms which may have substituents (however, the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO2-), or a group formed by combining a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have substituents and a cyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms which may have substituents (however, the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-, and the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -SO2- or -CO-), more preferably a single bond, a chain hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms which may have substituents (however, the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -SO2- or -CO-), a single bond, a chain hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms which may have substituents (however, the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -SO2- or -CO-), It is more preferable that the group is a cyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms that may have substituents (however, the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-), or a group formed by combining a chain hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms that may have substituents and a cyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms that may have substituents (however, the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-, and the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-).

また、Lは、単結合、*-L-又は*-L-X-L-(Lは、置換基を有してもよい炭素数1~10の鎖式炭化水素基、置換基を有してもよい炭素数3~24の環状炭化水素基又は置換基を有してもよい炭素数3~24の環状炭化水素基と置換基を有してもよい炭素数1~8の鎖式炭化水素基とを組み合わせた基を表し、該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-に置き換わっていてもよく、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。*は、X1との結合部位を表す。Xは、**-CO-O-、**-O-CO-、**-O-CO-O-又は**-O-を表し、**は、Lとの結合部位を表す。Lは、単結合又は置換基を有してもよい炭素数1~8の鎖式炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)であることも好ましい。
鎖式炭化水素基と環状炭化水素基との組み合わせは、*-鎖式炭化水素基-脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基-、*-脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基-鎖式炭化水素基-、*-鎖式炭化水素基-脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基-鎖式炭化水素基-、*-脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基-鎖式炭化水素基-脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基-、*-鎖式炭化水素基-脂環式炭化水素基と芳香族炭化水素基が縮合した基-、*-脂環式炭化水素基と芳香族炭化水素基が縮合した基-鎖式炭化水素基-、*-鎖式炭化水素基-脂環式炭化水素基と芳香族炭化水素基が縮合した基-鎖式炭化水素基-等が挙げられる。*はXとの結合部位を表す。
Furthermore, L1 represents a single bond, * -L2- or * -L2 - X3 - L3- ( L2 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may have substituents, a cyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have substituents, or a group formed by a combination of a cyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have substituents and a chain hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms which may have substituents, and the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO2- , and the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-. * represents the bonding site with X1 . X3 represents **-CO-O-, **-O-CO-, **-O-CO-O- or **-O-, and ** represents the bonding site with L2 . 3 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, which may have single bonds or substituents, and the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
Examples of combinations of chain hydrocarbon groups and cyclic hydrocarbon groups include: *-chain hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group or aromatic hydrocarbon group-, *-alicyclic hydrocarbon group or aromatic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-, *-chain hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group or aromatic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-, *-alicyclic hydrocarbon group or aromatic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group or aromatic hydrocarbon group-, *-chain hydrocarbon group-group formed by the condensation of an alicyclic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group-, *-group formed by the condensation of an alicyclic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-, *-chain hydrocarbon group-group formed by the condensation of an alicyclic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-, etc. * represents the bonding site with X 1 .

各基が有してもよい置換基としては、Lが有してもよい置換基として挙げた基と同様のものが挙げられる。
の環状炭化水素基としては、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基又はこれらを縮合させた基等が挙げられ、Lで例示された基と同様のものが挙げられる。
及びLの鎖式炭化水素基としては、Lで例示された基と同様のものが挙げられる。
は、置換基を有してもよい炭素数1~8の鎖式炭化水素基(該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)、置換基を有してもよい炭素数3~20の環状炭化水素基(該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-に置き換わっていてもよい。)又は置換基を有してもよい炭素数3~20の環状炭化水素基と置換基を有してもよい炭素数1~6の鎖式炭化水素基とを組み合わせた基(該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-に置き換わっていてもよく、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)が好ましく、置換基を有してもよい炭素数1~6の鎖式炭化水素基(該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)、置換基を有してもよい炭素数3~18の環状炭化水素基(該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-に置き換わっていてもよい。)又は置換基を有してもよい炭素数3~18の環状炭化水素基と置換基を有してもよい炭素数1~4の鎖式炭化水素基とを組み合わせた基(該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-に置き換わっていてもよく、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)がより好ましい。
は、単結合又は置換基を有してもよい炭素数1~6の鎖式炭化水素基が好ましく、単結合又は炭素数1~4の鎖式炭化水素基がより好ましく、単結合、メチレン基又はエチレン基がさらに好ましく、単結合又はメチレン基がさらにより好ましい。
Examples of substituents that each group may have include the same groups as those listed as substituents that L1 may have.
Examples of the cyclic hydrocarbon group L2 include alicyclic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, or groups obtained by condensing these, similar to the groups exemplified in L1 .
Examples of chain-like hydrocarbon groups for L2 and L3 include those similar to those exemplified in L1 .
L2 is preferably a chain hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms which may have substituents (the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-), a cyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms which may have substituents (the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO2- ), or a group combining a cyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms which may have substituents and a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have substituents (the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO2- , and the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-), and a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have substituents (the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-) A cyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms that may have substituents (the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- ) or a group formed by combining a cyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms that may have substituents and a chain hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms that may have substituents (the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- , and the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-) is more preferred.
L3 is preferably a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, which may have a single bond or substituents; more preferably a chain hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, even more preferably a single bond, a methylene group, or an ethylene group; and even more preferably a single bond or a methylene group.

環W1における脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式(スピロ環、縮合環又は橋掛け環等を含む)のいずれでもよく、飽和及び不飽和のいずれでもよい。
脂環式炭化水素基としては、以下の脂環式炭化水素基等が挙げられる。結合部位は任意の位置とすることができる。
例えば、シクロアルカントリイル基等の3価以上の脂環式炭化水素基等が挙げられる。
具体的に、単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロプロパントリイル基、シクロブタントリイル基、シクロペンタントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロヘプタントリイル基、シクロオクタントリイル基、シクロデカントリイル基等が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフタレントリイル基、アダマンタントリイル基、ノルボルナントリイル基、ビシクロ[3.3.0]オクタントリイル基等が挙げられる。
また、上述した基の水素原子の1つ以上を結合部位に置き換えた基等も挙げられる。
The alicyclic hydrocarbon group in ring W1 may be monocyclic or polycyclic (including spiro rings, fused rings, or bridged rings), and may be saturated or unsaturated.
Examples of alicyclic hydrocarbon groups include the following. The bonding site can be at any position.
Examples include trivalent or higher alicyclic hydrocarbon groups such as cycloalkanetriyl groups.
Specifically, monocyclic alicyclic hydrocarbon groups include cyclopropanetriyl, cyclobutanetriyl, cyclopentanetriyl, cyclohexanetriyl, cycloheptanetriyl, cyclooctanetriyl, and cyclodecanetriyl. Polycyclic alicyclic hydrocarbon groups include decahydronaphthalentriyl, adamantanetriyl, norbornanetriyl, and bicyclo[3.3.0]octanetriyl.
Other examples include groups in which one or more hydrogen atoms of the aforementioned group are replaced by bonding sites.

脂環式炭化水素基に含まれる-CH-が、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わった基としては、以下の基等が挙げられる。以下に表される基の-O-又は-CO-は、-S-又は-SO-に置き換わってもよい。結合部位は任意の位置とすることができる。
脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは3~24であり、より好ましくは3~20であり、さらに好ましくは3~18であり、より一層好ましくは3~16であり、さらに一層好ましくは3~12である。
環W1が有してもよい置換基としては、Lが有してもよい置換基として挙げた基と同様の基が挙げられる。
環W1は、炭素数3~20の脂環式炭化水素基(該脂環式炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。)が好ましく、炭素数3~18の脂環式炭化水素基(該脂環式炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。)がより好ましく、式(w1-1)~式(w1-21)のいずれかで表される環に由来する基がさらに好ましく、式(w1-1)で表される環に由来する基、式(w1-2)で表される環に由来する基、式(w1-3)で表される環に由来する基、式(w1-6)で表される環に由来する基又は式(w1-15)で表される環に由来する基がより一層好ましく、式(w1-1)で表される環に由来する基又は式(w1-2)で表される環に由来する基がさらに一層好ましい。
[式(w1-1)~式(w1-21)中、
該基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。結合部位は任意の位置である。]
ここで、環に由来する基とは、環において任意の位置に結合部位を有し、環に含まれる-CH-が、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい基を意味する。
The following are examples of groups in which the -CH₂- contained in an alicyclic hydrocarbon group is replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO₂- . The -O- or -CO- in the groups shown below may be replaced with -S- or -SO₂- . The bonding site can be at any position.
The number of carbon atoms in the alicyclic hydrocarbon group is preferably 3 to 24, more preferably 3 to 20, even more preferably 3 to 18, even more preferably 3 to 16, and even more preferably 3 to 12.
The substituents that ring W1 may have are the same groups as those listed as substituents that L1 may have.
Ring W1 is preferably an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms (the -CH2- contained in the alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- ), more preferably an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms (the -CH2- contained in the alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- ), even more preferably a group derived from a ring represented by any of formulas (w1-1) to (w1-21), even more preferably a group derived from a ring represented by formula (w1-1), a group derived from a ring represented by formula (w1-2), a group derived from a ring represented by formula (w1-3), a group derived from a ring represented by formula (w1-6), or a group derived from a ring represented by formula (w1-15), and even more preferably a group derived from a ring represented by formula (w1-1) or a group derived from a ring represented by formula (w1-2).
[In formulas (w1-1) to (w1-21),
The -CH₂- contained in the group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO₂- . The bonding site is at any position.
Here, a ring-derived group means a group that has a bonding site at any position in the ring, and in which the -CH2- contained in the ring may be replaced by -O-, -S-, -CO-, or -SO2- .

a及びXbは、同じ原子であることが好ましく、ともに酸素原子であることがより好ましい。
及び環Wが結合する炭素原子と、X及び環Wが結合する炭素原子とは異なることが好ましい。
X a and X b are preferably the same atom, and more preferably both are oxygen atoms.
It is preferable that the carbon atom to which X a and ring W are bonded is different from the carbon atom to which X b and ring W are bonded.

環Wは、炭素数3~36の環状炭化水素基を表す。環Wにおける環状炭化水素基は、飽和及び不飽和のいずれでもよく、単環であってもよいし、多環であってもよい。環状炭化水素基としては、脂環式炭化水素基(該脂環式炭化水素基基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-に置き換わっていてもよい。)又は芳香族炭化水素基が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、以下の脂環式炭化水素基等が挙げられる。結合部位は任意の位置とすることができる。
例えば、シクロアルカントリイル基等の3価以上の脂環式炭化水素基等が挙げられる。
具体的に、単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロプロパントリイル基、シクロブタントリイル基、シクロペンタントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロヘプタントリイル基、シクロオクタントリイル基、シクロデカントリイル基等が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフタレントリイル基、アダマンタントリイル基、ノルボルナントリイル基、ビシクロ[3.3.0]オクタントリイル基等が挙げられる。
また、上述した基の水素原子の1つ以上を結合部位に置き換えた基等も挙げられる。
Ring W represents a cyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms. The cyclic hydrocarbon group in ring W may be saturated or unsaturated, and may be monocyclic or polycyclic. Examples of cyclic hydrocarbon groups include alicyclic hydrocarbon groups (where the -CH2- contained in the alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- ) or aromatic hydrocarbon groups.
Examples of alicyclic hydrocarbon groups include the following. The bonding site can be at any position.
Examples include trivalent or higher alicyclic hydrocarbon groups such as cycloalkanetriyl groups.
Specifically, monocyclic alicyclic hydrocarbon groups include cyclopropanetriyl, cyclobutanetriyl, cyclopentanetriyl, cyclohexanetriyl, cycloheptanetriyl, cyclooctanetriyl, and cyclodecanetriyl. Polycyclic alicyclic hydrocarbon groups include decahydronaphthalentriyl, adamantanetriyl, norbornanetriyl, and bicyclo[3.3.0]octanetriyl.
Other examples include groups in which one or more hydrogen atoms of the aforementioned group are replaced by bonding sites.

また、脂環式炭化水素基に含まれる-CH-が、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わった基としては、以下の基等が挙げられる。以下に表される基の-O-又は-CO-は、-S-又は-SO-に置き換わってもよい。結合部位は任意の位置とすることができる。
脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは3~24であり、より好ましくは3~20であり、さらに好ましくは3~18であり、より一層好ましくは3~16であり、さらに一層好ましくは3~12である。
芳香族炭化水素基としては、アレーントリイル基等の3価以上の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
具体的に、芳香族炭化水素基としては、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基、アントラセントリイル基、ビフェニレントリイル基、フェナントレントリイル基等が挙げられる。
また、上述した基の水素原子の1つ以上を結合部位に置き換えた基等も挙げられる。
芳香族炭化水素基の炭素数は、好ましくは6~24であり、より好ましくは6~18であり、さらに好ましくは6~14であり、さらにより好ましくは6~10である。
Furthermore, the following groups are examples of groups in which the -CH2- contained in an alicyclic hydrocarbon group is replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- . The -O- or -CO- in the groups shown below may be replaced with -S- or -SO2- . The bonding site can be at any position.
The number of carbon atoms in the alicyclic hydrocarbon group is preferably 3 to 24, more preferably 3 to 20, even more preferably 3 to 18, even more preferably 3 to 16, and even more preferably 3 to 12.
Examples of aromatic hydrocarbon groups include trivalent or higher aromatic hydrocarbon groups such as arenetriyl groups.
Specifically, examples of aromatic hydrocarbon groups include benzenetriyl groups, naphthalentriyl groups, anthracenatelyyl groups, biphenylentriyl groups, and phenanthrentriyl groups.
Other examples include groups in which one or more hydrogen atoms of the aforementioned group are replaced by bonding sites.
The number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 24, more preferably 6 to 18, even more preferably 6 to 14, and even more preferably 6 to 10.

環Wが有してもよい置換基としては、Lが有してもよい置換基として挙げた基と同様の基が挙げられる。
環Wは、炭素数3~24の環状炭化水素基(該環状炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。)が好ましく、炭素数3~18の環状炭化水素基(該環状炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。)がより好ましく、式(w1-1)~式(w1-25)のいずれかで表される環に由来する基がより好ましく、式(w1-1)で表される環に由来する基、式(w1-2)で表される環に由来する基、式(w1-3)で表される環に由来する基、式(w1-6)で表される環に由来する基、式(w1-12)で表される環に由来する基、式(w1-22)で表される環に由来する基、式(w1-23)で表される環に由来する基又は式(w1-24)で表される環に由来する基がさらに好ましく、式(w1-2)で表される環に由来する基、式(w1-6)で表される環に由来する基、式(w1-12)で表される環に由来する基、式(w1-22)で表される環に由来する基、式(w1-23)で表される環に由来する基又は式(w1-24)で表される環に由来する基がさらにより好ましい。
[式(w1-1)~式(w1-25)中、
該基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。結合部位は任意の位置である。]
ここで、環に由来する基とは、環において任意の位置に結合部位を有し、環に含まれる-CH-が、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい基を意味する。
The substituents that ring W may have are the same groups as those listed as substituents that L1 may have.
Ring W is preferably a cyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms (the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- ), and preferably a cyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms (the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- ). It may be replaced by -. ) is more preferred, and a group derived from a ring represented by any of formulas (w1-1) to (w1-25) is more preferred, and a group derived from a ring represented by formula (w1-1), a group derived from a ring represented by formula (w1-2), a group derived from a ring represented by formula (w1-3), a group derived from a ring represented by formula (w1-6), a group derived from a ring represented by formula (w1-12), a group derived from a ring represented by formula (w1-22), a group derived from a ring represented by formula (w1-23), or a group derived from a ring represented by formula (w1-24) is even more preferred, and a group derived from a ring represented by formula (w1-2), a group derived from a ring represented by formula (w1-6), a group derived from a ring represented by formula (w1-12), a group derived from a ring represented by formula (w1-22), a group derived from a ring represented by formula (w1-23), or a group derived from a ring represented by formula (w1-24) is even more preferred.
[In formulas (w1-1) to (w1-25),
The -CH₂- contained in the group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO₂- . The bonding site is at any position.
Here, a ring-derived group means a group that has a bonding site at any position in the ring, and in which the -CH2- contained in the ring may be replaced by -O-, -S-, -CO-, or -SO2- .

及びRのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
及びRにおける炭素数1~12のハロアルキル基とは、ハロゲン原子を有する炭素数1~12のアルキル基を表し、炭素数1~12のフッ化アルキル基、炭素数1~12の塩化アルキル基、炭素数1~12の臭化アルキル基、炭素数1~12のヨウ化アルキル基等が挙げられる。ハロアルキル基としては、炭素数1~12のペルフルオロアルキル基(トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等)、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、4,4,4-トリフルオロブチル基、及び3,3,4,4,4-ペンタフルオロブチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基等が挙げられる。ハロアルキル基の炭素数は、好ましくは1~9であり、より好ましくは1~6であり、さらに好ましくは1~4であり、さらにより好ましくは1~3である。
及びRの炭素数1~12のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基等のアルキル基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは1~9であり、より好ましくは1~6であり、さらに好ましくは1~4であり、さらにより好ましくは1~3である。
Examples of halogen atoms for R1 and R2 include fluorine, chlorine, bromine, and iodine.
In R1 and R2 , the C1-C12 haloalkyl group refers to an alkyl group having a halogen atom and having C1-C12 atoms, and examples include C1-C12 alkyl fluorides, C1-C12 alkyl chlorides, C1-C12 alkyl bromides, and C1-C12 alkyl iodides. Examples of haloalkyl groups include C1-C12 perfluoroalkyl groups (trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, heptafluoropropyl group, nonafluorobutyl group, etc.), 2,2,2-trifluoroethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, and 3,3,4,4,4-pentafluorobutyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, and iodomethyl group. The number of carbon atoms in the haloalkyl group is preferably 1-9, more preferably 1-6, even more preferably 1-4, and even more preferably 1-3.
Examples of C1 to C12 alkyl groups for R1 and R2 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, octyl, and nonyl groups. The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 9, more preferably 1 to 6, even more preferably 1 to 4, and even more preferably 1 to 3.

及びRで表されるハロアルキル基又はアルキル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該ハロアルキル基又は該アルキル基の総炭素数とする。置き換わった基としては、ヒドロキシ基(メチル基中に含まれる-CH2-が、-O-に置き換わった基)、カルボキシ基(エチル基中に含まれる-CH2-CH2-が、-O-CO-に置き換わった基)、アルコキシ基(アルキル基中に含まれる任意の位置の-CH2-が、-O-に置き換わった基)、アルコキシカルボニル基(アルキル基中に含まれる任意の位置の-CH2-CH2-が、-O-CO-に置き換わった基)、アルキルカルボニル基(アルキル基中に含まれる任意の位置の-CH2-が、-CO-に置き換わった基)、アルキルカルボニルオキシ基(アルキル基中に含まれる任意の位置の-CH2-CH2-が、-CO-O-に置き換わった基)、ハロアルコキシ基(ハロアルキル基中に含まれる任意の位置の-CH2-が、-O-に置き換わった基)、ハロアルコキシカルボニル基(ハロアルキル基中に含まれる任意の位置の-CH2-CH2-が、-O-CO-に置き換わった基)、ハロアルキルカルボニル基(ハロアルキル基中に含まれる任意の位置の-CH2-が、-CO-に置き換わった基)、ハロアルキルカルボニルオキシ基(ハロアルキル基中に含まれる任意の位置の-CH2-CH2-が、-CO-O-に置き換わった基)、これらの基のうち2種以上を組み合わせた基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、炭素数1~11のアルコキシ基が挙げられ、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基等が挙げられる。アルコキシ基の炭素数は、好ましくは1~6であり、より好ましくは1~4であり、さらに好ましくは1~3である。
アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基及びアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基を表す。
アルコキシカルボニル基としては、炭素数2~11のアルコキシカルボニル基が挙げられ、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられ、アルキルカルボニル基としては、炭素数2~12のアルキルカルボニル基が挙げられ、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられ、アルキルカルボニルオキシ基としては、炭素数2~11のアルキルカルボニルオキシ基が挙げられ、例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。アルコキシカルボニル基の炭素数は、好ましくは2~6であり、より好ましくは2~4であり、さらに好ましくは2又は3である。アルキルカルボニル基の炭素数は、好ましくは2~6であり、より好ましくは2~4であり、さらに好ましくは2又は3である。アルキルカルボニルオキシ基の炭素数は、好ましくは2~6であり、より好ましくは2~4であり、さらに好ましくは2又は3である。
ハロアルコキシ基、ハロアルコキシカルボニル基、ハロアルキルカルボニル基、ハロアルキルカルボニルオキシ基としては、炭素数1~11のハロアルコキシ基、炭素数2~11のハロアルコキシカルボニル基、炭素数2~12のハロアルキルカルボニル基、炭素数2~11のハロアルキルカルボニルオキシ基が挙げられ、例えば、上記に例示した基の1以上の水素原子をハロゲン原子に置き換えた基が挙げられる。
m1は、0~5のいずれかの整数であることが好ましく、0~4のいずれかの整数であることがより好ましく、0~3のいずれかの整数であることがさらに好ましく、0、1又は2であることがより一層好ましく、0であることがさらに一層好ましい。
m2は、0~5のいずれかの整数であることが好ましく、0~4のいずれかの整数であることがより好ましく、0、1、2又は4であることがさらに好ましく、0又は1であることがさらにより好ましい。
及びRは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のハロアルキル基又は炭素数1~6のアルキル基(該ハロアルキル基及び該アルキル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい)が好ましく、ヒドロキシ基、炭素数1~4のアルキル基、炭素数1~4のハロアルキル基又は炭素数1~3のアルコキシ基がより好ましく、ヒドロキシ基又は炭素数1~3のアルコキシ基がさらに好ましく、ヒドロキシ基がさらにより好ましい。
If the -CH2- contained in the haloalkyl group or alkyl group represented by R1 and R2 is replaced with -O- or -CO-, the number of carbon atoms before the replacement shall be the total number of carbon atoms in the haloalkyl group or alkyl group. The replaced groups include: hydroxyl group (a group in which the -CH2- contained in a methyl group is replaced with -O-), carboxyl group (a group in which the -CH2 - CH2- contained in an ethyl group is replaced with -O-CO-), alkoxy group (a group in which any position of -CH2- contained in an alkyl group is replaced with -O-), alkoxycarbonyl group (a group in which any position of -CH2 - CH2- contained in an alkyl group is replaced with -O-CO-), alkylcarbonyl group (a group in which any position of -CH2- contained in an alkyl group is replaced with -CO-), alkylcarbonyloxy group (a group in which any position of -CH2 - CH2- contained in an alkyl group is replaced with -CO-O-), haloalkoxy group (a group in which any position of -CH2- contained in a haloalkyl group is replaced with -O-), haloalkoxycarbonyl group (a group in which any position of -CH2- contained in a haloalkyl group is replaced with -O-) Examples include groups in which 2 - CH2- is replaced by -O-CO-, haloalkylcarbonyl groups (groups in which -CH2- at any position within a haloalkyl group is replaced by -CO-), haloalkylcarbonyloxy groups (groups in which -CH2 - CH2- at any position within a haloalkyl group is replaced by -CO-O-), and groups that combine two or more of these groups.
Examples of alkoxy groups include alkoxy groups having 1 to 11 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, nonyloxy, decyloxy, and undecyloxy groups. The number of carbon atoms in the alkoxy group is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4, and even more preferably 1 to 3.
Alkoxycarbonyl groups, alkylcarbonyl groups, and alkylcarbonyloxy groups represent groups in which a carbonyl group or carbonyloxy group is bonded to an alkyl group or alkoxy group as described above.
Examples of alkoxycarbonyl groups include alkoxycarbonyl groups having 2 to 11 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, and butoxycarbonyl groups. Examples of alkylcarbonyl groups include alkylcarbonyl groups having 2 to 12 carbon atoms, such as acetyl, propionyl, and butyryl groups. Examples of alkylcarbonyloxy groups include alkylcarbonyloxy groups having 2 to 11 carbon atoms, such as acetyloxy, propionyloxy, and butyryloxy groups. The number of carbon atoms in the alkoxycarbonyl group is preferably 2 to 6, more preferably 2 to 4, and even more preferably 2 or 3. The number of carbon atoms in the alkylcarbonyl group is preferably 2 to 6, more preferably 2 to 4, and even more preferably 2 or 3. The number of carbon atoms in the alkylcarbonyloxy group is preferably 2 to 6, more preferably 2 to 4, and even more preferably 2 or 3.
Examples of haloalkoxy groups, haloalkoxycarbonyl groups, haloalkylcarbonyl groups, and haloalkylcarbonyloxy groups include haloalkoxy groups having 1 to 11 carbon atoms, haloalkoxycarbonyl groups having 2 to 11 carbon atoms, haloalkylcarbonyl groups having 2 to 12 carbon atoms, and haloalkylcarbonyloxy groups having 2 to 11 carbon atoms. For example, groups obtained by replacing one or more hydrogen atoms of the above-mentioned groups with halogen atoms are also included.
m1 is preferably an integer from 0 to 5, more preferably an integer from 0 to 4, even more preferably an integer from 0 to 3, even more preferably 0, 1, or 2, and even more preferably 0.
m2 is preferably an integer from 0 to 5, more preferably an integer from 0 to 4, even more preferably 0, 1, 2, or 4, and even more preferably 0 or 1.
R1 and R2 are preferably a halogen atom, a hydroxyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C1-C6 alkyl group (the -CH2- contained in the haloalkyl group and the alkyl group may be replaced with -O- or -CO-), more preferably a hydroxyl group, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 haloalkyl group, or a C1-C3 alkoxy group, even more preferably a hydroxyl group or a C1-C3 alkoxy group, and even more preferably a hydroxyl group.

に含まれるL10におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;及び
エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,1-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、プロパン-2,2-ジイル基、ペンタン-2,4-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
10は、炭素数1~4のアルカンジイル基であることが好ましく、炭素数1~3のアルカンジイル基であることがより好ましく、メチレン基であることがさらに好ましい。
Examples of alkanediyl groups in L10 contained in R3 include linear alkanediyl groups such as methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, and hexane-1,6-diyl group; and branched alkanediyl groups such as ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, and 2-methylbutane-1,4-diyl group.
L10 is preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms, and even more preferably a methylene group.

に含まれるR10における炭化水素基としては、アルキル基等の鎖式炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基が挙げられる。また、Rに含まれるR10における環状炭化水素基としては、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、2-エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等が挙げられる。
鎖式炭化水素基の炭素数は、好ましくは1~18であり、より好ましくは1~12であり、さらに好ましくは1~9であり、より一層好ましくは1~6であり、さらに一層好ましくは1~4であり、さらにより一層好ましくは1~3である。
脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、以下に表される基等が挙げられる。結合部位は任意の位置とすることができる。
具体的には、単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基等の単環式シクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基等の多環式シクロアルキル基が挙げられる。脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは3~24であり、より好ましくは3~20であり、さらに好ましくは3~18であり、より一層好ましくは3~16であり、さらに一層好ましくは3~12である。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基、フェナントリル基、ビナフチル基等が挙げられる。芳香族炭化水素基の炭素数は、好ましくは6~24であり、より好ましくは6~18であり、さらに好ましくは6~14であり、さらにより好ましくは6~10である。
Examples of hydrocarbon groups in R10 contained in R3 include chain hydrocarbon groups such as alkyl groups, alicyclic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, and groups formed by combining these. Furthermore, examples of cyclic hydrocarbon groups in R10 contained in R3 include alicyclic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, and groups formed by combining these.
Examples of alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, 2-ethylhexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, and dodecyl group.
The number of carbon atoms in the chain-like hydrocarbon group is preferably 1 to 18, more preferably 1 to 12, even more preferably 1 to 9, even more preferably 1 to 6, even more preferably 1 to 4, and even more preferably 1 to 3.
The alicyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic, and examples include the groups shown below. The bonding site can be at any position.
Specifically, monocyclic alicyclic hydrocarbon groups include monocyclic cycloalkyl groups such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, and cyclodecyl. Polycyclic alicyclic hydrocarbon groups include polycyclic cycloalkyl groups such as decahydronaphthyl, adamantyl, and norbornyl. The number of carbon atoms in the alicyclic hydrocarbon group is preferably 3 to 24, more preferably 3 to 20, even more preferably 3 to 18, even more preferably 3 to 16, and even more preferably 3 to 12.
Examples of aromatic hydrocarbon groups include phenyl groups, naphthyl groups, biphenyl groups, anthryl groups, phenanthryl groups, and binaphthyl groups. The number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 24, more preferably 6 to 18, even more preferably 6 to 14, and even more preferably 6 to 10.

組み合わせることにより形成される基としては、芳香族炭化水素基と鎖式炭化水素基とを組み合わせた基(例えば、芳香族炭化水素基-鎖式炭化水素基-*、鎖式炭化水素基-芳香族炭化水素基-*)、脂環式炭化水素基と鎖式炭化水素基とを組み合わせた基(例えば、脂環式炭化水素基-鎖式炭化水素基-*、鎖式炭化水素基-脂環式炭化水素基-*)、芳香族炭化水素基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基(例えば、芳香族炭化水素基-脂環式炭化水素基-*、脂環式炭化水素基-芳香族炭化水素基-*)が挙げられる。*は結合部位を表す。
芳香族炭化水素基-鎖式炭化水素基-*としては、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基が挙げられる。
鎖式炭化水素基-芳香族炭化水素基-*としては、トリル基、キシリル基、クメニル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基-鎖式炭化水素基-*としては、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、1-(アダマンタン-1-イル)メチル基、1-(アダマンタン-1-イル)-1-メチルエチル基等のシクロアルキルアルキル基等が挙げられる。
鎖式炭化水素基-脂環式炭化水素基-*としては、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、2-アルキルアダマンタン-2-イル基等のアルキル基を有するシクロアルキル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基-脂環式炭化水素基-*としては、フェニルシクロヘキシル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基-芳香族炭化水素基-*としては、シクロヘキシルフェニル基等が挙げられる。
なお、組み合わせにおいて、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、鎖式炭化水素基は、それぞれ2種以上を組み合わせてもよい。
Groups formed by combining these groups include groups formed by combining an aromatic hydrocarbon group with a chain hydrocarbon group (e.g., aromatic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-*, chain hydrocarbon group-aromatic hydrocarbon group-*), groups formed by combining an alicyclic hydrocarbon group with a chain hydrocarbon group (e.g., alicyclic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-*, chain hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-*), and groups formed by combining an aromatic hydrocarbon group with an alicyclic hydrocarbon group (e.g., aromatic hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-*, alicyclic hydrocarbon group-aromatic hydrocarbon group-*). * indicates the bonding site.
Examples of aromatic hydrocarbon groups—chain hydrocarbon groups—* include aralkyl groups such as benzyl and phenethyl groups.
Examples of chain-type hydrocarbon groups—aromatic hydrocarbon groups—* include tolyl groups, xylyl groups, and cumenyl groups.
Examples of alicyclic hydrocarbon group-chain hydrocarbon group-* include cycloalkylalkyl groups such as cyclohexylmethyl group, cyclohexylethyl group, 1-(adamantan-1-yl)methyl group, and 1-(adamantan-1-yl)-1-methylethyl group.
Examples of chain-type hydrocarbon groups - alicyclic hydrocarbon groups - * include methylcyclohexyl group, dimethylcyclohexyl group, cycloalkyl groups having alkyl groups such as 2-alkyladamantan-2-yl group, etc.
Examples of aromatic hydrocarbon groups—alicyclic hydrocarbon groups—* include phenylcyclohexyl groups.
Examples of alicyclic hydrocarbon groups—aromatic hydrocarbon groups—* include cyclohexylphenyl groups.
In addition, in the combinations, two or more types of alicyclic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, and chain hydrocarbon groups may be combined.

炭化水素基に含まれる-CH2-が、-O-、-S-、-CO-又は-SO-に置き換わった基としては、Lで例示した基と同様の基が挙げられる。
10の炭化水素基又は環状炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1~12のアルキル基(該アルキル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい)又はこれらを組み合わせた基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、上述した基と同様の基が挙げられる。
炭素数1~12のアルキル基としては、上述した基と同様の基が挙げられる。
置換基として、アルキル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該アルキル基の総炭素数とする。置き換わった基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基及びアルキルカルボニルオキシ基としては、炭素数1~11のアルコキシ基、炭素数2~11のアルコキシカルボニル基、炭素数2~12のアルキルカルボニル基及び炭素数2~11のアルキルカルボニルオキシ基が挙げられ、上述した基と同様の基が挙げられる。
組み合わせた基としては、炭素数1~12のハロゲン化アルキル基等が挙げられる。ハロゲン化アルキル基とは、ハロゲン原子を有するアルキル基を表し、炭素数1~12のフッ素化アルキル基、炭素数1~12の塩素化アルキル基、炭素数1~12の臭素化アルキル基、炭素数1~12のヨウ素化アルキル基等が挙げられ、上述した基又は後述する基と同様の基が挙げられる。
炭化水素基は、1つの置換基又は複数の置換基を有していてもよい。
置換基は、ハロゲン原子、炭素数1~12のアルキル基(該アルキル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい)又はこれらを組み合わせた基であることが好ましく、ヨウ素原子、フッ素原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~11のアルコキシ基、炭素数1~12のフッ素化アルキル基又は炭素数1~12のヨウ素化アルキル基であることがより好ましく、ヨウ素原子、フッ素原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~5のアルコキシ基、炭素数1~6のフッ素化アルキル基又は炭素数1~6のヨウ素化アルキル基であることがさらに好ましい。
Groups in which the -CH2- contained in the hydrocarbon group is replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- include the same groups as those exemplified in L1 .
Substituents that the hydrocarbon group or cyclic hydrocarbon group of R 10 may have include halogen atoms, cyano groups, C1 to C12 alkyl groups (the -CH2- contained in the alkyl group may be replaced with -O- or -CO-), or groups that combine these.
Examples of halogen atoms include the same groups as those described above.
Examples of alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms include the same groups as those described above.
If the -CH2- group in an alkyl group is replaced with -O- or -CO- as a substituent, the number of carbon atoms before the replacement shall be the total number of carbon atoms in the alkyl group. Examples of the replaced group include hydroxyl group, carboxyl group, alkoxy group, alkoxycarbonyl group, alkylcarbonyl group, alkylcarbonyloxy group, etc.
Examples of alkoxy groups, alkoxycarbonyl groups, alkylcarbonyl groups, and alkylcarbonyloxy groups include alkoxy groups having 1 to 11 carbon atoms, alkoxycarbonyl groups having 2 to 11 carbon atoms, alkylcarbonyl groups having 2 to 12 carbon atoms, and alkylcarbonyloxy groups having 2 to 11 carbon atoms, and are the same groups as those described above.
Examples of combined groups include C1-C12 halogenated alkyl groups. A halogenated alkyl group refers to an alkyl group having a halogen atom, and examples include C1-C12 fluorinated alkyl groups, C1-C12 chlorinated alkyl groups, C1-C12 brominated alkyl groups, C1-C12 iodate alkyl groups, etc., and other groups similar to those described above or described later.
The hydrocarbon group may have one substituent or more substituents.
The substituent is preferably a halogen atom, a C1-C12 alkyl group (the -CH2- contained in the alkyl group may be replaced with -O- or -CO-), or a group combining these, more preferably an iodine atom, a fluorine atom, a hydroxyl group, a carboxyl group, a C1-C12 alkyl group, a C1-C11 alkoxy group, a C1-C12 fluorinated alkyl group, or a C1-C12 iodized alkyl group, and even more preferably an iodine atom, a fluorine atom, a hydroxyl group, a carboxyl group, a C1-C6 alkyl group, a C1-C5 alkoxy group, a C1-C6 fluorinated alkyl group, or a C1-C6 iodized alkyl group.

10におけるフッ素化アルキル基、ヨウ素化アルキル基とは、フッ素原子を有するアルキル基、ヨウ素原子を有するアルキル基を表す。フッ素化アルキル基及びヨウ素化アルキル基としては、炭素数1~12のペルフルオロアルキル基(トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等)、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、4,4,4-トリフルオロブチル基、及び3,3,4,4,4-ペンタフルオロブチル基、ヨードメチル基等が挙げられる。フッ素化アルキル基及びヨウ素化アルキル基の炭素数は、好ましくは1~9であり、より好ましくは1~6であり、さらに好ましくは1~4であり、さらにより好ましくは1~3である。
10の炭化水素基又は環状炭化水素基は、ヨウ素原子、フッ素原子、炭素数1~12のフッ素化アルキル基又は炭素数1~12のヨウ素化アルキル基を少なくとも1つ有していればよく、2つ以上有していてもよい。
In R 10 , fluorinated alkyl groups and iodized alkyl groups refer to alkyl groups having a fluorine atom and alkyl groups having an iodine atom. Examples of fluorinated alkyl groups and iodized alkyl groups include perfluoroalkyl groups having 1 to 12 carbon atoms (trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, heptafluoropropyl group, nonafluorobutyl group, etc.), 2,2,2-trifluoroethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, and 3,3,4,4,4-pentafluorobutyl group, iodomethyl group, etc. The number of carbon atoms in the fluorinated alkyl groups and iodized alkyl groups is preferably 1 to 9, more preferably 1 to 6, even more preferably 1 to 4, and even more preferably 1 to 3.
The hydrocarbon group or cyclic hydrocarbon group of R 10 may have at least one iodine atom, a fluorine atom, a fluorinated alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an iodized alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and may have two or more.

10は、ヨウ素原子あるいは炭素数1~6のヨウ素化アルキル基を有する炭素数1~24の炭化水素基、フッ素原子あるいは炭素数1~6のフッ素化アルキル基を有する炭素数3~24の脂環式炭化水素基、又は、フッ素原子あるいは炭素数1~6のフッ素化アルキル基を有する炭素数6~24の芳香族炭化水素基であることが好ましく、ヨウ素原子を有する炭素数1~12の鎖式炭化水素基、ヨウ素原子あるいは炭素数1~6のヨウ素化アルキル基を有する炭素数3~18の脂環式炭化水素基と炭素数1~12の鎖式炭化水素基を組み合わせた基、ヨウ素原子あるいは炭素数1~6のヨウ素化アルキル基を有する炭素数6~18の芳香族炭化水素基と炭素数1~12の鎖式炭化水素基を組み合わせた基、フッ素原子、ヨウ素原子、炭素数1~6のフッ素化アルキル基あるいは炭素数1~6のヨウ素化アルキル基を有する炭素数3~18の脂環式炭化水素基、又は、フッ素原子、ヨウ素原子、炭素数1~6のフッ素化アルキル基あるいは炭素数1~6のヨウ素化アルキル基を有する炭素数6~18の芳香族炭化水素基であることがより好ましく、ヨウ素原子を有する炭素数1~6の鎖式炭化水素基、ヨウ素原子を有する炭素数3~12の脂環式炭化水素基と炭素数1~6の鎖式炭化水素基を組み合わせた基、ヨウ素原子を有する炭素数6~14の芳香族炭化水素基と炭素数1~6の鎖式炭化水素基を組み合わせた基、フッ素原子、ヨウ素原子あるいはトリフルオロメチル基を有する炭素数3~12の脂環式炭化水素基、又は、フッ素原子、ヨウ素原子あるいはトリフルオロメチル基を有する炭素数6~14の芳香族炭化水素基であることがさらに好ましく、ヨウ素原子を有する炭素数1~6の鎖式炭化水素基、ヨウ素原子を有する炭素数6~14の芳香族炭化水素基と炭素数1~6の鎖式炭化水素基を組み合わせた基、又は、フッ素原子、ヨウ素原子あるいはトリフルオロメチル基を有する炭素数6~14の芳香族炭化水素基であることがさらにより好ましい。ここで、炭化水素基、鎖式炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基は、上記以外の置換基を有していてもよく、炭化水素基、鎖式炭化水素基及び脂環式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。
は、*-O-CO-R10、*-O-CO-O-R10又は*-O-L-CO-O-R10であることが好ましい。
R 10 is preferably a C1-C24 hydrocarbon group having an iodine atom or an iodized alkyl group having C1-C6, an alicyclic hydrocarbon group having C3-C24 having a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having C1-C6, or an aromatic hydrocarbon group having C6-C24 having a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having C1-C6. A group combining a 3-18 alicyclic hydrocarbon group and a chain hydrocarbon group having 1-12 carbon atoms, a group combining a 6-18 aromatic hydrocarbon group having an iodine atom or an iodized alkyl group having 1-6 carbon atoms and a chain hydrocarbon group having 1-12 carbon atoms, a 3-18 alicyclic hydrocarbon group having a fluorine atom, an iodine atom, a fluorinated alkyl group having 1-6 carbon atoms, or an iodized alkyl group having 1-6 carbon atoms, or a group having a fluorine atom, an iodine atom, a fluorinated alkyl group having 1-6 carbon atoms It is more preferably an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms and an iodized alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; it is even more preferably a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms and an iodine atom; a group combining an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms and an iodine atom with a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms; a group combining an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms and an iodine atom with a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms; an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms and a fluorine atom, an iodine atom, or a trifluoromethyl group; and it is even more preferably an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms and an iodine atom and an aromatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms and an iodine atom with a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms; or it is even more preferably an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms and a fluorine atom, an iodine atom, or a trifluoromethyl group. Here, the hydrocarbon group, chain hydrocarbon group, alicyclic hydrocarbon group, and aromatic hydrocarbon group may have substituents other than those mentioned above, and the -CH2- contained in the hydrocarbon group, chain hydrocarbon group, and alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- .
R3 is preferably *-O-CO-R 10 , *-O-CO-O-R 10 , or *-O-L 1 -CO-O-R 10 .

アニオン(I)としては、例えば、以下のアニオンが挙げられる。なかでも、式(Ia-1)~式(Ia-6)、式(Ia-10)~式(Ia-19)、式(Ia-26)~式(Ia-51)、式(Ia-55)~式(Ia-62)で表されるアニオンが好ましい。
Examples of anion (I) include the following anions. Among these, the anions represented by formulas (Ia-1) to (Ia-6), (Ia-10) to (Ia-19), (Ia-26) to (Ia-51), and (Ia-55) to (Ia-62) are preferred.

の有機カチオンとしては、有機オニウムカチオン、有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらの中でも、有機スルホニウムカチオン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ましい。具体的には、式(b2-1)~式(b2-4)のいずれかで表されるカチオン(以下、式番号に応じて「カチオン(b2-1)」等という場合がある。)が挙げられる。
式(b2-1)~式(b2-4)において、
b4~Rb6は、それぞれ独立に、炭素数1~30の鎖式炭化水素基、炭素数3~36の脂環式炭化水素基又は炭素数6~36の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数3~12の脂環式炭化水素基又は炭素数6~18の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数1~18の脂肪族炭化水素基、炭素数2~4のアルキルカルボニル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~18の脂肪族炭化水素基、炭素数1~12のフッ化アルキル基又は炭素数1~12のアルコキシ基で置換されていてもよい。
b4とRb5とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる-CH2-は、-O-、-S-又は-CO-に置き換わってもよい。
b7及びRb8は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~12の脂肪族炭化水素基、炭素数1~12のフッ化アルキル基又は炭素数1~12のアルコキシ基を表す。
m2及びn2は、それぞれ独立に0~5のいずれかの整数を表す。
m2が2以上のとき、複数のRb7は同一でも異なってもよく、n2が2以上のとき、複数のRb8は同一でも異なってもよい。
b9及びRb10は、それぞれ独立に、炭素数1~36の鎖式炭化水素基又は炭素数3~36の脂環式炭化水素基を表す。
b9とRb10とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる-CH2-は、-O-、-S-又は-CO-に置き換わってもよい。
b11は、水素原子、炭素数1~36の鎖式炭化水素基、炭素数3~36の脂環式炭化水素基又は炭素数6~18の芳香族炭化水素基を表す。
b12は、炭素数1~12の鎖式炭化水素基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基又は炭素数6~18の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素数6~18の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素数1~12のアルコキシ基又は炭素数1~12のアルキルカルボニルオキシ基で置換されていてもよい。
b11とRb12とは、互いに結合してそれらが結合する-CH-CO-を含めて環を形成していてもよく、該環に含まれる-CH2-は、-O-、-S-又は-CO-に置き換わってもよい。
b13~Rb18は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~12の脂肪族炭化水素基、炭素数1~12のフッ化アルキル基又は炭素数1~12のアルコキシ基を表す。
b13とRb14とは、互いに結合してそれらが結合するベンゼン環と一緒になって硫黄原子を含む環を形成してもよく、該環に含まれる-CH2-は、-O-、-S-又は-CO-に置き換わってもよい。
b31は、硫黄原子又は酸素原子を表す。
o2、p2、s2、及びt2は、それぞれ独立に、0~5のいずれかの整数を表す。
q2及びr2は、それぞれ独立に、0~4のいずれかの整数を表す。
u2は0又は1を表す。
o2が2以上のとき、複数のRb13は同一又は相異なり、p2が2以上のとき、複数のRb14は同一又は相異なり、q2が2以上のとき、複数のRb15は同一又は相異なり、r2が2以上のとき、複数のRb16は同一又は相異なり、s2が2以上のとき、複数のRb17は同一又は相異なり、t2が2以上のとき、複数のRb18は同一又は相異なる。
u2が0のとき、o2、p2、q2及びr2のうちいずれか1つは1以上であり、Rb13~Rb16のうち少なくとも1つはハロゲン原子であることが好ましく、u2が1のとき、o2、p2、s2、t2、q2及びr2のうちいずれか1つは1以上であり、Rb13~Rb18のうち少なくとも1つはハロゲン原子であることが好ましい。
さらに、u2が0のとき、r2は1以上であることが好ましく、1であることがさらに好ましい。また、u2が0、かつ、r2が1以上のとき、Rb16がハロゲン原子であることが好ましい。
Examples of Z + organic cations include organic onium cations, organic sulfonium cations, organic iodonium cations, organic ammonium cations, benzothiazolium cations, and organic phosphonium cations. Among these, organic sulfonium cations and organic iodonium cations are preferred, and aryl sulfonium cations are more preferred. Specifically, examples include cations represented by any of formulas (b2-1) to (b2-4) (hereinafter, depending on the formula number, they may be referred to as "cation (b2-1)," etc.).
In equations (b2-1) to (b2-4),
R b4 to R b6 each independently represent a chain hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 36 carbon atoms. The hydrogen atoms in the chain hydrocarbon group may be substituted with a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms. The hydrogen atoms in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, or a glycidyloxy group. The hydrogen atoms in the aromatic hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom, a hydroxyl group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an alkyl fluoride group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
R b4 and R b5 may bond to each other and form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded, and the -CH2- contained in the ring may be replaced with -O-, -S-, or -CO-.
R b7 and R b8 each independently represent a halogen atom, a hydroxyl group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, a fluorinated alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
m² and n² each independently represent an integer between 0 and 5.
When m2 is 2 or greater, multiple R b7s may be the same or different, and when n2 is 2 or greater, multiple R b8s may be the same or different.
R b9 and R b10 each independently represent a chain-type hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms.
R b9 and R b10 may bond to each other and form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded, and the -CH2- contained in the ring may be replaced with -O-, -S-, or -CO-.
R b11 represents a hydrogen atom, a chain hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms.
R b12 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms. The hydrogen atoms in the chain hydrocarbon group may be substituted with an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the aromatic hydrocarbon group may be substituted with an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms or an alkylcarbonyloxy group having 1 to 12 carbon atoms.
R b11 and R b12 may bond to each other and form a ring including the -CH-CO- to which they are bonded, and the -CH2- contained in the ring may be replaced with -O-, -S-, or -CO-.
R b13 to R b18 each independently represent a halogen atom, a hydroxyl group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, a fluorinated alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
R b13 and R b14 may bond to each other and, together with the benzene ring to which they are bonded, form a ring containing a sulfur atom, and the -CH2- contained in the ring may be replaced with -O-, -S-, or -CO-.
L b31 represents a sulfur atom or an oxygen atom.
o2, p2, s2, and t2 each independently represent an integer between 0 and 5.
q2 and r2 each independently represent an integer between 0 and 4.
u2 represents either 0 or 1.
When o2 is 2 or more, multiple R b13 are the same or different; when p2 is 2 or more, multiple R b14 are the same or different; when q2 is 2 or more, multiple R b15 are the same or different; when r2 is 2 or more, multiple R b16 are the same or different; when s2 is 2 or more, multiple R b17 are the same or different; when t2 is 2 or more, multiple R b18 are the same or different.
When u2 is 0, it is preferable that one of o2, p2, q2, and r2 is 1 or more, and at least one of R b13 to R b16 is a halogen atom. When u2 is 1, it is preferable that one of o2, p2, s2, t2, q2, and r2 is 1 or more, and at least one of R b13 to R b18 is a halogen atom.
Furthermore, when u2 is 0, r2 is preferably 1 or greater, and more preferably 1. Also, when u2 is 0 and r2 is 1 or greater, R b16 is preferably a halogen atom.

脂肪族炭化水素基とは、鎖式炭化水素基及び脂環式炭化水素基を表す。
鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2-エチルヘキシル基のアルキル基が挙げられる。
特に、Rb9~Rb12の鎖式炭化水素基は、好ましくは炭素数1~12である。
脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基等が挙げられる。
特に、Rb9~Rb12の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数3~18、より好ましくは炭素数4~12である。
Aliphatic hydrocarbon groups refer to both chain-type hydrocarbon groups and alicyclic hydrocarbon groups.
Examples of chain-type hydrocarbon groups include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, octyl, and 2-ethylhexyl.
In particular, the chain-like hydrocarbon groups R b9 to R b12 preferably have 1 to 12 carbon atoms.
The alicyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. Examples of monocyclic alicyclic hydrocarbon groups include cycloalkyl groups such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, and cyclodecyl. Examples of polycyclic alicyclic hydrocarbon groups include decahydronaphthyl, adamantyl, norbornyl, and the groups listed below.
In particular, the alicyclic hydrocarbon groups R b9 to R b12 preferably have 3 to 18 carbon atoms, and more preferably 4 to 12 carbon atoms.

水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基としては、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、2-メチルアダマンタン-2-イル基、2-エチルアダマンタン-2-イル基、2-イソプロピルアダマンタン-2-イル基、メチルノルボルニル基、イソボルニル基等が挙げられる。水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基においては、脂環式炭化水素基と脂肪族炭化水素基との合計炭素数が好ましくは20以下である。 Examples of alicyclic hydrocarbon groups in which a hydrogen atom is substituted with an aliphatic hydrocarbon group include methylcyclohexyl group, dimethylcyclohexyl group, 2-methyladamantan-2-yl group, 2-ethyladamantan-2-yl group, 2-isopropyladamantan-2-yl group, methylnorbornyl group, and isobornyl group. In alicyclic hydrocarbon groups in which a hydrogen atom is substituted with an aliphatic hydrocarbon group, the total number of carbon atoms in the alicyclic hydrocarbon group and the aliphatic hydrocarbon group is preferably 20 or less.

フッ化アルキル基とは、フッ素原子を有する炭素数1~12のアルキル基を表し、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペルフルオロブチル基等が挙げられる。フッ化アルキル基の炭素数は、好ましくは1~9であり、より好ましくは1~6であり、さらに好ましくは1~4である。 A fluorinated alkyl group refers to an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and containing a fluorine atom, such as a fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, or perfluorobutyl group. The number of carbon atoms in the fluorinated alkyl group is preferably 1 to 9, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 4.

芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。芳香族炭化水素基は、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよく、鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、p-エチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、2,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-6-エチルフェニル基等)及び脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p-シクロへキシルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基等)等が挙げられる。
なお、芳香族炭化水素基が、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有する場合は、炭素数1~18の鎖式炭化水素基及び炭素数3~18の脂環式炭化水素基が好ましい。
水素原子がアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基としては、p-メトキシフェニル基等が挙げられる。
水素原子が芳香族炭化水素基で置換された鎖式炭化水素基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、トリチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等のアラルキル基が挙げられる。
Examples of aromatic hydrocarbon groups include aryl groups such as phenyl, biphenyl, naphthyl, and phenanthryl groups. Aromatic hydrocarbon groups may have a chain-type hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, and examples include aromatic hydrocarbon groups having a chain-type hydrocarbon group (tolyl, xylyl, cumenyl, mesityl, p-ethylphenyl, p-tert-butylphenyl, 2,6-diethylphenyl, 2-methyl-6-ethylphenyl, etc.) and aromatic hydrocarbon groups having an alicyclic hydrocarbon group (p-cyclohexylphenyl, p-adamantylphenyl, etc.).
Furthermore, if the aromatic hydrocarbon group has a chain-type hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, a chain-type hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms are preferred.
Examples of aromatic hydrocarbon groups in which a hydrogen atom is substituted with an alkoxy group include the p-methoxyphenyl group.
Examples of chain-like hydrocarbon groups in which a hydrogen atom is substituted with an aromatic hydrocarbon group include aralkyl groups such as benzyl, phenethyl, phenylpropyl, trityl, naphthylmethyl, and naphthylethyl groups.

アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、sec-ブチルカルボニルオキシ基、tert-ブチルカルボニルオキシ基、ペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基及び2-エチルヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
Examples of alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy, heptyloxy, octyloxy, decyloxy, and dodecyloxy groups.
Examples of alkylcarbonyl groups include acetyl, propionyl, and butyryl groups.
Examples of halogen atoms include fluorine, chlorine, bromine, and iodine atoms.
Examples of alkylcarbonyloxy groups include methylcarbonyloxy group, ethylcarbonyloxy group, propylcarbonyloxy group, isopropylcarbonyloxy group, butylcarbonyloxy group, sec-butylcarbonyloxy group, tert-butylcarbonyloxy group, pentylcarbonyloxy group, hexylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group, and 2-ethylhexylcarbonyloxy group.

b4とRb5とが互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、炭素数3~18の環が挙げられ、好ましくは炭素数4~18の環である。また、硫黄原子を含む環は、3員環~12員環が挙げられ、好ましくは3員環~7員環であり、例えば下記の環が挙げられる。*は結合部位を表す。
b9とRb10とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、3員環~12員環が挙げられ、好ましくは3員環~7員環である。例えば、チオラン-1-イウム環(テトラヒドロチオフェニウム環)、チアン-1-イウム環、1,4-オキサチアン-4-イウム環等が挙げられる。
b11とRb12とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、3員環~12員環が挙げられ、好ましくは3員環~7員環である。オキソシクロヘプタン環、オキソシクロヘキサン環、オキソノルボルナン環、オキソアダマンタン環等が挙げられる。
The ring formed by R b4 and R b5 bonding to each other and together with the sulfur atom to which they are bonded may be monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated, or unsaturated. This ring may have 3 to 18 carbon atoms, preferably 4 to 18 carbon atoms. The ring containing the sulfur atom may have 3 to 12 membered rings, preferably 3 to 7 membered rings, and examples of such rings are shown below. * indicates a bonding site.
The ring formed by R b9 and R b10 together may be monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated, or unsaturated. This ring may be a 3-membered to 12-membered ring, preferably a 3-membered to 7-membered ring. Examples include a thioran-1-ium ring (tetrahydrothiophenium ring), a thian-1-ium ring, and a 1,4-oxathian-4-ium ring.
The ring formed by R b11 and R b12 together may be monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated, or unsaturated. This ring may be a 3-membered to 12-membered ring, preferably a 3-membered to 7-membered ring. Examples include oxocycloheptane rings, oxocyclohexane rings, oxonorbornane rings, and oxoadamantane rings.

カチオン(b2-1)~カチオン(b2-4)の中でも、好ましくは、カチオン(b2-1)である。
カチオン(b2-1)としては、以下のカチオンが挙げられる。
Among cations (b2-1) to (b2-4), cation (b2-1) is preferred.
The following cations can be considered as cations (b2-1):

カチオン(b2-2)としては、以下のカチオンが挙げられる。
The following cations can be considered as cations (b2-2):

カチオン(b2-3)としては、以下のカチオンが挙げられる。
Examples of cations (b2-3) include the following:

カチオン(b2-4)としては、以下のカチオンが挙げられる。
Examples of cations (b2-4) include the following:

塩(I)は、上述のアニオン及び上述の有機カチオンの組合せであり、これらは任意に組合せることができる。塩(I)としては、好ましくは、式(Ia-1)~式(Ia-6)、式(Ia-10)~式(Ia-19)、式(Ia-26)~式(Ia-51)、式(Ia-55)~式(Ia-62)のいずれかで表されるアニオンと、カチオン(b2-1)、カチオン(b2-2)、カチオン(b2-3)又はカチオン(b2-4)との組合せが挙げられる。 Salt (I) is a combination of the anion and the organic cation described above, and these can be combined arbitrarily. Preferably, salt (I) is a combination of an anion represented by any of the formulas (Ia-1) to (Ia-6), (Ia-10) to (Ia-19), (Ia-26) to (Ia-51), or (Ia-55) to (Ia-62) and a cation (b2-1), cation (b2-2), cation (b2-3), or cation (b2-4).

塩(I)としては、表1記載の塩が挙げられる。下記表において、各符号は、上述のアニオンやカチオンを表す構造に付した符号を表す。たとえば、塩(I-1)は、式(Ia-1)で示されるアニオンと式(b2-c-1)で表されるカチオンとからなる塩を意味し、以下に示す塩を表す。


























なかでも、塩(I)は、塩(I-1)~塩(I-6)、塩(I-10)~塩(I-19)、塩(I-26)~塩(I-51)、塩(I-55)~塩(I-60)、塩(I-64)~塩(I-73)、塩(I-80)~塩(I-105)、塩(I-109)~塩(I-114)、塩(I-118)~塩(I-127)、塩(I-134)~塩(I-159)、塩(I-163)~塩(I-168)、塩(I-172)~塩(I-181)、塩(I-188)~塩(I-213)、塩(I-217)~塩(I-222)、塩(I-226)~塩(I-235)、塩(I-242)~塩(I-267)、塩(I-271)~塩(I-276)、塩(I-280)~塩(I-289)、塩(I-296)~塩(I-321)、塩(I-325)~塩(I-330)、塩(I-334)~塩(I-343)、塩(I-350)~塩(I-375)、塩(I-379)~塩(I-384)、塩(I-388)~塩(I-397)、塩(I-404)~塩(I-429)、塩(I-433)~塩(I-438)、塩(I-442)~塩(I-451)、塩(I-458)~塩(I-483)、塩(I-487)~塩(I-492)、塩(I-496)~塩(I-505)、塩(I-512)~塩(I-537)、塩(I-541)~塩(I-546)、塩(I-550)~塩(I-559)、塩(I-566)~塩(I-591)、塩(I-595)~塩(I-600)、塩(I-604)~塩(I-613)、塩(I-620)~塩(I-645)、塩(I-649)~塩(I-654)、塩(I-658)~塩(I-667)、塩(I-674)~塩(I-699)、塩(I-703)~塩(I-708)、塩(I-712)~塩(I-721)、塩(I-728)~塩(I-753)、塩(I-757)~塩(I-762)、塩(I-766)~塩(I-775)、塩(I-782)~塩(I-807)、塩(I-811)~塩(I-816)、塩(I-820)~塩(I-829)、塩(I-836)~塩(I-861)、塩(I-865)~塩(I-992)が好ましい。
Examples of salt (I) are the salts listed in Table 1. In the table below, each symbol represents the symbol attached to the structure representing the anion or cation described above. For example, salt (I-1) means a salt consisting of the anion represented by formula (Ia-1) and the cation represented by formula (b2-c-1), and represents the salts shown below.


























In particular, salt (I) is as follows: salt (I-1) to salt (I-6), salt (I-10) to salt (I-19), salt (I-26) to salt (I-51), salt (I-55) to salt (I-60), salt (I-64) to salt (I-73), salt (I-80) to salt (I-105), salt (I-109) to salt (I-114), salt (I-118) to salt (I-127), salt (I-134) to salt (I-159), salt (I-163) to salt (I-168), salt (I-172) to salt (I-181), salt (I-188) to salt (I-213), salt (I-217) ) ~ Salt (I-222), Salt (I-226) ~ Salt (I-235), Salt (I-242) ~ Salt (I-267), Salt (I-271) ~ Salt (I-276), Salt (I-280) ~ Salt (I-289), Salt (I-296) ~ Salt (I-321), Salt (I-325) ~ Salt (I-330), Salt (I-334) ~ Salt (I-343), Salt (I-350) ~ Salt (I-375), Salt (I-379) ~ Salt (I-384), Salt (I-388) ~ Salt (I-397), Salt (I-404) ~ Salt (I-429), Salt (I-433) ~ Salt (I -438), Salt (I-442) to Salt (I-451), Salt (I-458) to Salt (I-483), Salt (I-487) to Salt (I-492), Salt (I-496) to Salt (I-505), Salt (I-512) to Salt (I-537), Salt (I-541) to Salt (I-546), Salt (I-550) to Salt (I-559), Salt (I-566) to Salt (I-591), Salt (I-595) to Salt (I-600), Salt (I-604) to Salt (I-613), Salt (I-620) to Salt (I-645), Salt (I-649) to Salt (I-654) Preferably, salts (I-658) to salt (I-667), salt (I-674) to salt (I-699), salt (I-703) to salt (I-708), salt (I-712) to salt (I-721), salt (I-728) to salt (I-753), salt (I-757) to salt (I-762), salt (I-766) to salt (I-775), salt (I-782) to salt (I-807), salt (I-811) to salt (I-816), salt (I-820) to salt (I-829), salt (I-836) to salt (I-861), and salt (I-865) to salt (I-992) are used.

<塩(I)の製造方法>
塩(I)において、Rが、*-O-R10‘である塩(式(I1)で表される塩)は、式(I-a)で表される塩と式(I-b)で表される化合物とを、塩基触媒存在下、溶剤中で反応させることにより製造することができる。
[式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。R10´は、-R10、-CO-R10、-CO-O-R10、-L10-CO-O-R10、-L10-O-CO-R10を表す。]
塩基としては、炭酸カリウム、ヨウ化カリウム、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどが挙げられる。
溶剤としては、クロロホルム、モノクロロベンゼン、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ジメチルホルムアミドなどが挙げられる。
反応温度は、通常0℃~80℃であり、反応時間は、通常0.5~24時間である。
<Method for producing salt (I)>
In salt (I), a salt in which R3 is *-O-R10 ' (a salt represented by formula (I1)) can be produced by reacting a salt represented by formula (I-a) with a compound represented by formula (I-b) in a solvent in the presence of a base catalyst.
[In the formula, all signs have the same meaning as described above. R 10 ' represents -R 10 , -CO-R 10 , -CO-O-R 10 , -L 10 -CO-O-R 10 , and -L 10 -O-CO-R 10. ]
Examples of bases include potassium carbonate, potassium iodide, pyridine, triethylamine, and diisopropylethylamine.
Examples of solvents include chloroform, monochlorobenzene, dimethylformamide, acetonitrile, and dimethylformamide.
The reaction temperature is typically between 0°C and 80°C, and the reaction time is typically between 0.5 and 24 hours.

式(I-a)で表される塩は、例えば、以下で表される塩などが挙げられ、市場より容易に入手することができ、また、公知の製法により容易に製造することもできる。
式(I-b)で表される化合物は、例えば、以下で表される化合物などが挙げられ、市場より容易に入手することができ、また、公知の製法により容易に製造することもできる。
Salts represented by formula (I-a) include, for example, the salts shown below, which are readily available from the market and can also be easily manufactured by known methods.
Compounds represented by formula (I-b) include, for example, the compounds shown below, which are readily available on the market and can also be easily manufactured by known methods.

塩(I)において、Rが、*-O-CO-R10である塩(式(I2)で表される塩)は、式(I-c)で表される化合物とカルボニルジイミダゾールとを溶剤中で反応させた後、さらに、式(I-a)で表される塩を反応させることにより製造することもできる。
[式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。]
溶剤としては、クロロホルム、モノクロロベンゼン、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ジメチルホルムアミドなどが挙げられる。
反応温度は、通常0℃~80℃であり、反応時間は、通常0.5~24時間である。
式(I-c)で表される化合物は、例えば、以下で表される化合物などが挙げられ、市場より容易に入手することができ、また、公知の製法により容易に製造することもできる。
In salt (I), a salt in which R3 is *-O-CO- R10 (a salt represented by formula (I2)) can also be produced by reacting the compound represented by formula (I-c) with carbonyldiimidazole in a solvent, and then further reacting it with the salt represented by formula (I-a).
[In the formula, all signs have the same meaning as described above.]
Examples of solvents include chloroform, monochlorobenzene, dimethylformamide, acetonitrile, and dimethylformamide.
The reaction temperature is typically between 0°C and 80°C, and the reaction time is typically between 0.5 and 24 hours.
Compounds represented by formula (I-c) include, for example, the compounds shown below, which are readily available on the market and can also be easily manufactured by known methods.

塩(I)において、Rが、*-O-CO-O-R10である塩(式(I3)で表される塩)は、式(I-d)で表される化合物とカルボニルジイミダゾールとを溶剤中で反応させた後、さらに、式(I-a)で表される塩を反応させることにより製造することもできる。
[式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。]
溶剤としては、クロロホルム、モノクロロベンゼン、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ジメチルホルムアミドなどが挙げられる。
反応温度は、通常0℃~80℃であり、反応時間は、通常0.5~24時間である。
式(I-d)で表される化合物は、例えば、以下で表される化合物などが挙げられ、市場より容易に入手することができ、また、公知の製法により容易に製造することもできる。
In salt (I), a salt in which R3 is *-O-CO-O- R10 (a salt represented by formula (I3)) can also be produced by reacting the compound represented by formula (I-d) with carbonyldiimidazole in a solvent, and then reacting it with the salt represented by formula (I-a).
[In the formula, all signs have the same meaning as described above.]
Examples of solvents include chloroform, monochlorobenzene, dimethylformamide, acetonitrile, and dimethylformamide.
The reaction temperature is typically between 0°C and 80°C, and the reaction time is typically between 0.5 and 24 hours.
Compounds represented by formula (I-d) include, for example, the compounds shown below, which are readily available on the market and can also be easily manufactured by known methods.

〔酸発生剤〕
本発明の酸発生剤は、塩(I)を含有する酸発生剤である。塩(I)を1種含んでいてもよいし、塩(I)を2種以上含んでいてもよい。
本発明の酸発生剤は、塩(I)に加えて、レジスト分野で公知の酸発生剤(以下「酸発生剤(B)」という場合がある)を含有していてもよい。酸発生剤(B)は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
[Acid Generator]
The acid generator of the present invention is an acid generator containing salt (I). It may contain one type of salt (I), or it may contain two or more types of salt (I).
The acid generator of the present invention may contain, in addition to salt (I), an acid generator known in the resist field (hereinafter sometimes referred to as "acid generator (B)"). Acid generator (B) may be used alone or in combination of two or more types.

酸発生剤(B)は、非イオン系又はイオン系のいずれを用いてもよい。非イオン系酸発生剤としては、スルホネートエステル類(例えば2-ニトロベンジルエステル、芳香族スルホネート、オキシムスルホネート、N-スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケトン、ジアゾナフトキノン 4-スルホネート)、スルホン類(例えばジスルホン、ケトスルホン、スルホニルジアゾメタン)等が挙げられる。イオン系酸発生剤としては、オニウムカチオンを含むオニウム塩(例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩)が代表的である。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン等が挙げられる。 The acid generator (B) may be either nonionic or ionic. Examples of nonionic acid generators include sulfonate esters (e.g., 2-nitrobenzyl ester, aromatic sulfonate, oxime sulfonate, N-sulfonyloxyimide, sulfonyloxyketone, diazonaphthoquinone 4-sulfonate) and sulfones (e.g., disulfone, ketosulfone, sulfonyldiazomethane). Typical ionic acid generators include onium salts containing onium cations (e.g., diazonium salts, phosphonium salts, sulfonium salts, iodonium salts). Examples of onium salt anions include sulfonic acid anions, sulfonylimide anions, and sulfonylmethide anions.

酸発生剤(B)としては、特開昭63-26653号、特開昭55-164824号、特開昭62-69263号、特開昭63-146038号、特開昭63-163452号、特開昭62-153853号、特開昭63-146029号、米国特許第3,779,778号、米国特許第3,849,137号、独国特許第3914407号、欧州特許第126,712号等に記載の放射線によって酸を発生する化合物を使用することができる。また、公知の方法で製造した化合物を使用してもよい。酸発生剤(B)は、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 As the acid generator (B), compounds that generate acid by radiation as described in Japanese Patent Publication Nos. 63-26653, 55-164824, 62-69263, 63-146038, 63-163452, 62-153853, 63-146029, U.S. Patent Nos. 3,779,778 and 3,849,137, German Patent No. 3914407, European Patent No. 126,712, etc., can be used. Compounds manufactured by known methods may also be used. Two or more types of acid generators (B) may be used in combination.

酸発生剤(B)は、好ましくは式(B1)で表される塩(以下「酸発生剤(B1)」という場合がある。)である。
[式(B1)中、
b1及びQb2は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数1~6のペルフルオロアルキル基又は炭素数1~6のアルキル基を表す。
b1は、炭素数1~24の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Yは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数3~24の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-SO-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
Z1は、有機カチオンを表す。]
The acid generator (B) is preferably a salt represented by formula (B1) (hereinafter sometimes referred to as "acid generator (B1)").
[In formula (B1),
Q b1 and Q b2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and the -CH2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-, and the hydrogen atoms contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms or hydroxyl groups.
Y represents a methyl group which may have substituents or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have substituents, and the -CH2- contained in the alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -SO2- , or -CO-.
Z1 + represents an organic cation.

b1及びQb2のペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
b1及びQb2のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
酸発生剤(B)は、フッ素含有酸発生剤であることが好ましく、Qb1及びQb2は、少なくとも一方に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を含むことが好ましく、少なくとも一方が、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基であることがより好ましく、それぞれ独立に、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であることがさらに好ましく、ともにフッ素原子であることがさらにより好ましい。
Examples of perfluoroalkyl groups in Q b1 and Q b2 include trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoroisopropyl group, perfluorobutyl group, perfluorosec-butyl group, perfluorotert-butyl group, perfluoropentyl group, and perfluorohexyl group.
Examples of alkyl groups for Q b1 and Q b2 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, and hexyl groups.
The acid generator (B) is preferably a fluorine-containing acid generator, and Q b1 and Q b2 preferably contain at least one fluorine atom or a perfluoroalkyl group, more preferably at least one is a fluorine atom or a perfluoroalkyl group, more preferably each is independently a fluorine atom or a trifluoromethyl group, and even more preferably both are fluorine atoms.

b1における2価の飽和炭化水素基としては、直鎖状アルカンジイル基、分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組合せることにより形成される基でもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ヘプタン-1,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-1,9-ジイル基、デカン-1,10-ジイル基、ウンデカン-1,11-ジイル基、ドデカン-1,12-ジイル基、トリデカン-1,13-ジイル基、テトラデカン-1,14-ジイル基、ペンタデカン-1,15-ジイル基、ヘキサデカン-1,16-ジイル基及びヘプタデカン-1,17-ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;
エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,1-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、プロパン-2,2-ジイル基、ペンタン-2,4-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;
シクロブタン-1,3-ジイル基、シクロペンタン-1,3-ジイル基、シクロヘキサン-1,4-ジイル基、シクロオクタン-1,5-ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の2価の脂環式飽和炭化水素基;
ノルボルナン-1,4-ジイル基、ノルボルナン-2,5-ジイル基、アダマンタン-1,5-ジイル基、アダマンタン-2,6-ジイル基等の多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
Examples of divalent saturated hydrocarbon groups in L b1 include linear alkanediyl groups, branched alkanediyl groups, and monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon groups, and may also be groups formed by combining two or more of these groups.
Specifically, linear alkane diyl groups such as methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, dodecane-1,12-diyl group, tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group, and heptadecane-1,17-diyl group;
Branched alkanediyl groups such as ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, and 2-methylbutane-1,4-diyl group;
Monocyclic, divalent, alicyclic saturated hydrocarbon groups such as cycloalkanediyl groups, cyclobutane-1,3-diyl groups, cyclopentane-1,3-diyl groups, cyclohexane-1,4-diyl groups, and cyclooctane-1,5-diyl groups;
Examples include polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon groups such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, and adamantane-2,6-diyl group.

b1で表される2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH-が-O-又は-CO-で置き換わった基としては、例えば、式(b1-1)~式(b1-3)のいずれかで表される基が挙げられる。なお、式(b1-1)~式(b1-3)で表される基及びそれらの具体例である式(b1-4)~式(b1-11)で表される基において、*及び**は結合部位を表し、*は-Yとの結合部位を表す。 Examples of groups in which the -CH2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L b1 is replaced with -O- or -CO- include the group represented by any of the formulas (b1-1) to (b1-3). In the groups represented by formulas (b1-1) to (b1-3) and their specific examples, the groups represented by formulas (b1-4) to (b1-11), * and ** represent bonding sites, and * represents the bonding site with -Y.

[式(b1-1)中、
b2は、単結合又は炭素数1~22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b3は、単結合又は炭素数1~22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb2とLb3との炭素数合計は、22以下である。
式(b1-2)中、
b4は、単結合又は炭素数1~22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b5は、単結合又は炭素数1~22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb4とLb5との炭素数合計は、22以下である。
式(b1-3)中、
b6は、単結合又は炭素数1~23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
b7は、単結合又は炭素数1~23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb6とLb7との炭素数合計は、23以下である。]
[In formula (b1-1),
L b2 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms.
L b3 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms or hydroxyl groups, and the -CH2- in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
However, the total number of carbon atoms in L b2 and L b3 is 22 or less.
In formula (b1-2),
L b4 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms.
L b5 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms or hydroxyl groups, and the -CH2- in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
However, the total number of carbon atoms in L b4 and L b5 is 22 or less.
In formula (b1-3),
L b6 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms or hydroxyl groups.
L b7 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms or hydroxyl groups, and the -CH2- in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
However, the total number of carbon atoms in L b6 and L b7 is 23 or less.

式(b1-1)~式(b1-3)で表される基においては、飽和炭化水素基に含まれる-CH-が-O-又は-CO-に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。
2価の飽和炭化水素基としては、Lb1の2価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。
In the groups represented by formulas (b1-1) to (b1-3), if the -CH2- contained in the saturated hydrocarbon group is replaced by -O- or -CO-, the number of carbon atoms before the replacement shall be the number of carbon atoms of the saturated hydrocarbon group.
Examples of divalent saturated hydrocarbon groups include those similar to the divalent saturated hydrocarbon group of L b1 .

b2は、好ましくは単結合、メチレン基、-CH(CF)-、-C(CF-である。
b3は、好ましくは炭素数1~4の2価の飽和炭化水素基である。
b4は、好ましくは炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基であり、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよく、より好ましくはメチレン基、-CH(CF)-、-C(CF-である。
b5は、好ましくは単結合又は炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基である。
b6は、好ましくは単結合又は炭素数1~4の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b7は、好ましくは単結合又は炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH-は-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
L b2 is preferably a single bond, a methylene group, -CH( CF3 )-, or -C( CF3 ) 2- .
L b3 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L b4 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms, and more preferably a methylene group, -CH( CF3 )-, or -C( CF3 ) 2- .
L b5 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b6 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms.
L b7 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms or hydroxyl groups, and the -CH2- in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.

b1で表される2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH-が-O-又は-CO-で置き換わった基としては、式(b1-1)又は式(b1-3)で表される基が好ましい。
式(b1-1)で表される基としては、式(b1-4)~式(b1-8)でそれぞれ表される基が挙げられる。
[式(b1-4)中、
b8は、単結合又は炭素数1~22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
式(b1-5)中、
b9は、炭素数1~20の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH-は-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
b10は、単結合又は炭素数1~19の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb9及びLb10の合計炭素数は20以下である。
式(b1-6)中、
b11は、炭素数1~21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b12は、単結合又は炭素数1~20の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb11及びLb12の合計炭素数は21以下である。
式(b1-7)中、
b13は、炭素数1~19の2価の飽和炭化水素基を表す。
b14は、単結合又は炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH-は-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
b15は、単結合又は炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb13~Lb15の合計炭素数は19以下である。
式(b1-8)中、
b16は、炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH-は-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
b17は、炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表す。
b18は、単結合又は炭素数1~17の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb16~Lb18の合計炭素数は19以下である。]
b8は、好ましくは炭素数1~4の2価の飽和炭化水素基である。
b9は、好ましくは炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基である。
b10は、好ましくは単結合又は炭素数1~19の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基である。
b11は、好ましくは炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基である。
b12は、好ましくは単結合又は炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基である。
b13は、好ましくは炭素数1~12の2価の飽和炭化水素基である。
b14は、好ましくは単結合又は炭素数1~6の2価の飽和炭化水素基である。
b15は、好ましくは単結合又は炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1~8の2価の飽和炭化水素基である。
b16は、好ましくは炭素数1~12の2価の飽和炭化水素基である。
b17は、好ましくは炭素数1~6の2価の飽和炭化水素基である。
b18は、好ましくは単結合又は炭素数1~17の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1~4の2価の飽和炭化水素基である。
As for the group in which the -CH2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L b1 is replaced with -O- or -CO-, the group represented by formula (b1-1) or formula (b1-3) is preferred.
The group represented by formula (b1-1) includes the groups represented by formulas (b1-4) to (b1-8), respectively.
[In formula (b1-4),
L b8 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms or hydroxyl groups.
In formula (b1-5),
L b9 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the -CH2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
L b10 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms or hydroxyl groups.
However, the total number of carbon atoms in L b9 and L b10 is 20 or less.
In formula (b1-6),
L b11 represents a divalent saturated hydrocarbon group with 1 to 21 carbon atoms.
L b12 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms or hydroxyl groups.
However, the total number of carbon atoms in L b11 and L b12 is 21 or less.
In formula (b1-7),
L b13 represents a divalent saturated hydrocarbon group with 1 to 19 carbon atoms.
L b14 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the -CH2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced by -O- or -CO-.
L b15 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms or hydroxyl groups.
However, the total number of carbon atoms in L b13 to L b15 is 19 or less.
In formula (b1-8),
L b16 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the -CH2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
L b17 represents a divalent saturated hydrocarbon group with 1 to 18 carbon atoms.
L b18 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms or hydroxyl groups.
However, the total number of carbon atoms in L b16 to L b18 is 19 or less.
L b8 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L b9 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b10 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b11 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b12 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b13 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L b14 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
L b15 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b16 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L b17 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
L b18 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.

式(b1-3)で表される基としては、式(b1-9)~式(b1-11)でそれぞれ表される基が挙げられる。
[式(b1-9)中、
b19は、単結合又は炭素数1~23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b20は、単結合又は炭素数1~23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb19及びLb20の合計炭素数は23以下である。
式(b1-10)中、
b21は、単結合又は炭素数1~21の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b22は、単結合又は炭素数1~21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b23は、単結合又は炭素数1~21の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb21、Lb22及びLb23の合計炭素数は21以下である。
式(b1-11)中、
b24は、単結合又は炭素数1~20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b25は、炭素数1~21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b26は、単結合又は炭素数1~20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb24、Lb25及びLb26の合計炭素数は21以下である。]
The groups represented by formula (b1-3) include those represented by formulas (b1-9) to (b1-11), respectively.
[In formula (b1-9),
L b19 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms.
L b20 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, a hydroxyl group, or an alkylcarbonyloxy group. The -CH2- in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with -O- or -CO-, and the hydrogen atoms in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxyl group.
However, the total number of carbon atoms in L b19 and L b20 must be 23 or less.
In formula (b1-10),
L b21 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms.
L b22 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b23 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, a hydroxyl group, or an alkylcarbonyloxy group. The -CH2- in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with -O- or -CO-, and the hydrogen atoms in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxyl group.
However, the total number of carbon atoms in L b21 , L b22 , and L b23 is 21 or less.
In formula (b1-11),
L b24 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with fluorine atoms.
L b25 represents a divalent saturated hydrocarbon group with 1 to 21 carbon atoms.
L b26 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atoms in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, a hydroxyl group, or an alkylcarbonyloxy group. The -CH2- in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with -O- or -CO-, and the hydrogen atoms in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxyl group.
However, the total number of carbon atoms in L b24 , L b25 , and L b26 is 21 or less.

なお、式(b1-9)で表される基から式(b1-11)で表される基においては、飽和炭化水素基に含まれる水素原子がアルキルカルボニルオキシ基に置換されている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。
アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アダマンチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
In addition, in the group represented by formula (b1-9) to the group represented by formula (b1-11), if a hydrogen atom in a saturated hydrocarbon group is substituted with an alkylcarbonyloxy group, the number of carbon atoms before the substitution shall be the number of carbon atoms in the saturated hydrocarbon group.
Examples of alkylcarbonyloxy groups include acetyloxy group, propionyloxy group, butyryloxy group, cyclohexylcarbonyloxy group, and adamantylcarbonyloxy group.

式(b1-4)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
The following are examples of bases represented by formula (b1-4):

式(b1-5)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
The following are examples of bases represented by formula (b1-5):

式(b1-6)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
The following are examples of bases represented by formula (b1-6):

式(b1-7)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
The following are examples of bases represented by formula (b1-7):

式(b1-8)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
The following are examples of bases represented by formula (b1-8):

式(b1-2)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
The following are examples of bases represented by formula (b1-2):

式(b1-9)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
The following are examples of bases represented by formula (b1-9):

式(b1-10)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
The following are examples of bases represented by formula (b1-10):

式(b1-11)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
The following are examples of bases represented by formula (b1-11):

Yで表される脂環式炭化水素基としては、式(Y1)~式(Y11)、式(Y36)~式(Y38)で表される基が挙げられる。
Yで表される脂環式炭化水素基に含まれる-CH-が-O-、-S-、-SO-又は-CO-で置き換わる場合、その数は1つでもよいし、2以上でもよい。そのような基としては、式(Y12)~式(Y35)、式(Y39)~式(Y43)で表される基が挙げられる。以下に表される基の-O-又は-CO-は、-S-又は-SO-に置き換わっていてもよい。*はLb1との結合部位を表す。
Yで表される脂環式炭化水素基としては、好ましくは式(Y1)~式(Y20)、式(Y26)、式(Y27)、式(Y30)、式(Y31)、式(Y39)~式(Y43)のいずれかで表される基であり、より好ましくは式(Y11)、式(Y15)、式(Y16)、式(Y20)、式(Y26)、式(Y27)、式(Y30)、式(Y31)、式(Y39)、式(Y40)、式(Y42)又は式(Y43)で表される基であり、さらに好ましくは式(Y11)、式(Y15)、式(Y20)、式(Y26)、式(Y27)、式(Y30)、式(Y31)、式(Y39)、式(Y40)、式(Y42)又は式(Y43)で表される基である。
Yで表される脂環式炭化水素基が式(Y28)~式(Y35)、式(Y39)、式(Y40)、式(Y42)、式(Y43)等の酸素原子を有するスピロ環である場合には、2つの酸素原子間のアルカンジイル基は、1以上のフッ素原子を有することが好ましい。また、ケタール構造に含まれるアルカンジイル基のうち、酸素原子に隣接するメチレン基には、フッ素原子が置換されていないのが好ましい。
Examples of alicyclic hydrocarbon groups represented by Y include those represented by formulas (Y1) to (Y11) and (Y36) to (Y38).
When the -CH2- contained in the alicyclic hydrocarbon group represented by Y is replaced by -O-, -S-, -SO2- , or -CO-, the number of replacements may be one or two or more. Examples of such groups include those represented by formulas (Y12) to (Y35) and (Y39) to (Y43). The -O- or -CO- in the groups shown below may also be replaced by -S- or -SO2- . * indicates a bonding site with L b1 .
The alicyclic hydrocarbon group represented by Y is preferably a group represented by any of the formulas (Y1) to (Y20), (Y26), (Y27), (Y30), (Y31), (Y39) to (Y43), more preferably a group represented by formula (Y11), (Y15), (Y16), (Y20), (Y26), (Y27), (Y30), (Y31), (Y39), (Y40), (Y42), or (Y43), and even more preferably a group represented by formula (Y11), (Y15), (Y20), (Y26), (Y27), (Y30), (Y31), (Y39), (Y40), (Y42), or (Y43).
When the alicyclic hydrocarbon group represented by Y is a spiro ring having an oxygen atom, such as formulas (Y28) to (Y35), (Y39), (Y40), (Y42), and (Y43), it is preferable that the alkanediyl group between the two oxygen atoms has one or more fluorine atoms. Furthermore, it is preferable that the methylene group adjacent to the oxygen atom among the alkanediyl groups contained in the ketal structure is not substituted with a fluorine atom.

Yで表されるメチル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数3~16の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基、グリシジルオキシ基、-(CHja-CO-O-Rb1基又は-(CHja-O-CO-Rb1基(式中、Rb1は、炭素数1~16のアルキル基、炭素数3~16の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。jaは、0~4のいずれかの整数を表す。該アルキル基及び該脂環式炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-SO-又は-CO-で置き換わっていてもよく、該アルキル基、該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基又はフッ素原子に置き換わっていてもよい。)等が挙げられる。
Yで表される脂環式炭化水素基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基で置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基(該アルキル基に含まれる-CH-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。)、炭素数3~16の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基、炭素数7~21のアラルキル基、グリシジルオキシ基、-(CHja-CO-O-Rb1基又は-(CHja-O-CO-Rb1基(式中、Rb1は、炭素数1~16のアルキル基、炭素数3~16の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。jaは、0~4のいずれかの整数を表す。該アルキル基及び該脂環式炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-SO-又は-CO-で置き換わっていてもよく、該アルキル基、該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基又はフッ素原子に置き換わっていてもよい。)等が挙げられる。
Substituents for the methyl group represented by Y include halogen atoms, hydroxyl groups, alicyclic hydrocarbon groups having 3 to 16 carbon atoms, aromatic hydrocarbon groups having 6 to 18 carbon atoms, glycidyloxy groups, -( CH2 ) ja- CO-O- Rb1 groups or -( CH2 ) ja -O-CO- Rb1 groups (wherein Rb1 represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group combining these. ja represents an integer from 0 to 4. The -CH2- contained in the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -SO2- , or -CO-, and the hydrogen atoms contained in the alkyl group, the alicyclic hydrocarbon group, and the aromatic hydrocarbon group may be replaced with hydroxyl groups or fluorine atoms).
Substituents for the alicyclic hydrocarbon group represented by Y include halogen atoms, hydroxyl groups, C1-C16 alkyl groups which may be substituted with hydroxyl groups (the -CH2- contained in the alkyl group may be replaced with -O- or -CO-), C3-C16 alicyclic hydrocarbon groups, C6-C18 aromatic hydrocarbon groups, C7-C21 aralkyl groups, glycidyloxy groups, -( CH2 ) ja- CO-O-R b1 group or -( CH2 ) ja -O-CO-R b1 group (wherein R b1 represents an alkyl group with C1-C16, a C3-C16 alicyclic hydrocarbon group, a C6-C18 aromatic hydrocarbon group, or a group combining these. ja represents an integer from 0 to 4. The -CH2- contained in the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group may be -O- or -SO2 Examples include: - or -CO-, and the hydrogen atoms contained in the alkyl group, the alicyclic hydrocarbon group, and the aromatic hydrocarbon group may be replaced with hydroxyl groups or fluorine atoms.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。脂環式炭化水素基は、鎖式炭化水素基を有していてもよく、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基等が挙げられる。脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは3~12であり、より好ましくは3~10である。
芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、フェナントリル基等のアリール基等が挙げられる。芳香族炭化水素基は、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよく、鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基としては、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、p-エチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、2,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-6-エチルフェニル基等が挙げられ、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基としては、p-シクロへキシルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基等が挙げられる。芳香族炭化水素基の炭素数は、好ましくは6~14であり、より好ましくは6~10である。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、2-エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは1~12であり、より好ましくは1~6であり、さらに好ましくは1~4である。
ヒドロキシ基で置換されているアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基及びナフチルエチル基等が挙げられる。
アルキル基に含まれる-CH-が-O-、-SO-又は-CO-等で置き換わった基としては、アルコキシ基、アルキルスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基又はこれらを組み合わせた基などが挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。アルコキシ基の炭素数は、好ましくは1~12であり、より好ましくは1~6であり、さらに好ましくは1~4である。
アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられる。アルコキシカルボニル基の炭素数は、好ましくは2~12であり、より好ましくは2~6であり、さらに好ましくは2~4である。
アルキルカルボニル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。アルキルカルボニル基の炭素数は、好ましくは2~12であり、より好ましくは2~6であり、さらに好ましくは2~4である。
アルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基等が挙げられる。アルキルスルホニル基の炭素数は、好ましくは1~12であり、より好ましくは1~6であり、さらに好ましくは1~4である。
アルキルカルボニルオキシ基としては、例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。アルキルカルボニルオキシ基の炭素数は、好ましくは2~12であり、より好ましくは2~6であり、さらに好ましくは2~4である。
組み合わせた基としては、例えば、アルコキシ基とアルキル基とを組み合わせた基、アルコキシ基とアルコキシ基とを組み合わせた基、アルコキシ基とアルキルカルボニル基とを組み合わせた基、アルコキシ基とアルキルカルボニルオキシ基とを組み合わせた基等が挙げられる。
アルコキシ基とアルキル基とを組み合わせた基としては、例えば、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、エトキシメチル基等のアルコキシアルキル基等が挙げられる。アルコキシアルキル基の炭素数は、好ましくは2~12であり、より好ましくは2~6であり、さらに好ましくは2~4である。
アルコキシ基とアルコキシ基とを組み合わせた基としては、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシメトキシ基、エトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基等が挙げられる。アルコキシアルコキシ基の炭素数は、好ましくは2~12であり、より好ましくは2~6であり、さらに好ましくは2~4である。
アルコキシ基とアルキルカルボニル基とを組み合わせた基としては、メトキシアセチル基、メトキシプロピオニル基、エトキシアセチル基、エトキシプロピオニル基等のアルコキシアルキルカルボニル基等が挙げられる。アルコキシアルキルカルボニル基の炭素数は、好ましくは3~13であり、より好ましくは3~7であり、さらに好ましくは3~5である。
アルコキシ基とアルキルカルボニルオキシ基とを組み合わせた基としては、メトキシアセチルオキシ基、メトキシプロピオニルオキシ基、エトキシアセチルオキシ基、エトキシプロピオニルオキシ基等のアルコキシアルキルカルボニルオキシ基等が挙げられる。アルコキシアルキルカルボニルオキシ基の炭素数は、好ましくは3~13であり、より好ましくは3~7であり、さらに好ましくは3~5である。
脂環式炭化水素基に含まれる-CH-が-O-、-SO-又は-CO-等で置き換わった基としては、式(Y12)~式(Y35)、式(Y39)~式(Y43)で表される基等が挙げられる。
Examples of halogen atoms include fluorine, chlorine, bromine, and iodine atoms.
Examples of alicyclic hydrocarbon groups include cyclopentyl group, cyclohexyl group, methylcyclohexyl group, dimethylcyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, norbornyl group, and adamantyl group. Alicyclic hydrocarbon groups may also have chain hydrocarbon groups, such as methylcyclohexyl group and dimethylcyclohexyl group. The number of carbon atoms in the alicyclic hydrocarbon group is preferably 3 to 12, and more preferably 3 to 10.
Examples of aromatic hydrocarbon groups include phenyl groups, naphthyl groups, anthryl groups, biphenyl groups, phenanthryl groups, and other aryl groups. Aromatic hydrocarbon groups may have a chain-like hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group. Examples of aromatic hydrocarbon groups having a chain-like hydrocarbon group include tolyl groups, xylyl groups, cumenyl groups, mesityl groups, p-ethylphenyl groups, p-tert-butylphenyl groups, 2,6-diethylphenyl groups, and 2-methyl-6-ethylphenyl groups. Examples of aromatic hydrocarbon groups having an alicyclic hydrocarbon group include p-cyclohexylphenyl groups and p-adamantylphenyl groups. The number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 14, and more preferably 6 to 10.
Examples of alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, 2-ethylhexyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, and dodecyl groups. The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 12, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 4.
Examples of alkyl groups substituted with a hydroxyl group include hydroxymethyl groups, hydroxyethyl groups, and other hydroxyalkyl groups.
Examples of aralkyl groups include benzyl groups, phenethyl groups, phenylpropyl groups, naphthylmethyl groups, and naphthylethyl groups.
Groups in which the -CH2- contained in an alkyl group is replaced with -O-, -SO2- , or -CO- include alkoxy groups, alkylsulfonyl groups, alkoxycarbonyl groups, alkylcarbonyl groups, alkylcarbonyloxy groups, or groups that combine these.
Examples of alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy, heptyloxy, octyloxy, decyloxy, and dodecyloxy groups. The number of carbon atoms in the alkoxy group is preferably 1 to 12, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 4.
Examples of alkoxycarbonyl groups include methoxycarbonyl groups, ethoxycarbonyl groups, and butoxycarbonyl groups. The number of carbon atoms in the alkoxycarbonyl group is preferably 2 to 12, more preferably 2 to 6, and even more preferably 2 to 4.
Examples of alkylcarbonyl groups include acetyl groups, propionyl groups, and butyryl groups. The number of carbon atoms in the alkylcarbonyl group is preferably 2 to 12, more preferably 2 to 6, and even more preferably 2 to 4.
Examples of alkylsulfonyl groups include methylsulfonyl groups, ethylsulfonyl groups, and propylsulfonyl groups. The number of carbon atoms in the alkylsulfonyl group is preferably 1 to 12, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 4.
Examples of alkylcarbonyloxy groups include acetyloxy groups, propionyloxy groups, and butyryloxy groups. The number of carbon atoms in the alkylcarbonyloxy group is preferably 2 to 12, more preferably 2 to 6, and even more preferably 2 to 4.
Examples of combined groups include groups combining an alkoxy group and an alkyl group, groups combining two alkoxy groups, groups combining an alkoxy group and an alkylcarbonyl group, and groups combining an alkoxy group and an alkylcarbonyloxy group.
Examples of groups combining an alkoxy group and an alkyl group include alkoxyalkyl groups such as methoxymethyl, methoxyethyl, ethoxyethyl, and ethoxymethyl groups. The number of carbon atoms in the alkoxyalkyl group is preferably 2 to 12, more preferably 2 to 6, and even more preferably 2 to 4.
Examples of groups formed by combining alkoxy groups include alkoxyalkoxy groups such as methoxymethoxy, methoxyethoxy, ethoxymethoxy, and ethoxyethoxy. The number of carbon atoms in the alkoxyalkoxy group is preferably 2 to 12, more preferably 2 to 6, and even more preferably 2 to 4.
Examples of groups combining an alkoxy group and an alkylcarbonyl group include alkoxyalkylcarbonyl groups such as methoxyacetyl group, methoxypropionyl group, ethoxyacetyl group, and ethoxypropionyl group. The number of carbon atoms in the alkoxyalkylcarbonyl group is preferably 3 to 13, more preferably 3 to 7, and even more preferably 3 to 5.
Examples of groups combining an alkoxy group and an alkylcarbonyloxy group include alkoxyalkylcarbonyloxy groups such as methoxyacetyloxy group, methoxypropionyloxy group, ethoxyacetyloxy group, and ethoxypropionyloxy group. The number of carbon atoms in the alkoxyalkylcarbonyloxy group is preferably 3 to 13, more preferably 3 to 7, and even more preferably 3 to 5.
Groups in which the -CH2- contained in an alicyclic hydrocarbon group is replaced with -O-, -SO2- , or -CO-, etc., include the groups represented by formulas (Y12) to (Y35) and (Y39) to (Y43).

Yとしては、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数3~24の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは置換基を有していてもよい炭素数3~20の脂環式炭化水素基であり、さらに好ましくは置換基を有していてもよい炭素数3~18の脂環式炭化水素基であり、さらにより好ましくは置換基を有していてもよいアダマンチル基又は置換基を有していてもよいノルボルニル基であり、該脂環式炭化水素基、アダマンチル基及びノルボルニル基を構成する-CH-は-O-、-S-、-SO-又は-CO-に置き換わっていてもよく、具体的には、以下のものが挙げられる。
Y is preferably a cyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have substituents, more preferably a cyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms which may have substituents, even more preferably a cyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have substituents, and even more preferably an adamantyl group which may have substituents or a norbornyl group which may have substituents, and the -CH2- constituting the cyclic hydrocarbon group, adamantyl group and norbornyl group may be replaced with -O-, -S-, -SO2- or -CO-, specifically the following:

なかでも、Yは、好ましくはアダマンチル基、ヒドロキシアダマンチル基、オキソアダマンチル基、ノルボルナンラクトン基又は式(Y42)、式(Y100)~式(Y114)、式(Y134)~式(Y139)で表される基である。 In particular, Y is preferably an adamantyl group, a hydroxyadamantyl group, an oxoadamantyl group, a norbornane lactone group, or a group represented by formulas (Y42), (Y100) to (Y114), (Y134) to (Y139).

式(B1)で表される塩におけるアニオンとしては、式(B1-A-1)~式(B1-A-65)で表されるアニオン〔以下、式番号に応じて「アニオン(B1-A-1)」等という場合がある。〕が好ましく、式(B1-A-1)~式(B1-A-4)、式(B1-A-9)、式(B1-A-10)、式(B1-A-24)~式(B1-A-33)、式(B1-A-36)~式(B1-A-40)、式(B1-A-47)~式(B1-A-65)のいずれかで表されるアニオンがより好ましい。
The anions in the salt represented by formula (B1) are preferably the anions represented by formulas (B1-A-1) to (B1-A-65) [hereinafter, depending on the formula number, they may be referred to as "anion (B1-A-1)," etc.], and more preferably the anions represented by any of formulas (B1-A-1) to (B1-A-4), formula (B1-A-9), formula (B1-A-10), formula (B1-A-24) to (B1-A-33), formula (B1-A-36) to (B1-A-40), or formula (B1-A-47) to (B1-A-65).

ここでRi2~Ri7は、互いに独立に、例えば、炭素数1~4のアルキル基、好ましくはメチル基又はエチル基である。Ri8は、例えば、炭素数1~12の鎖式炭化水素基、好ましくは炭素数1~4のアルキル基、炭素数5~12の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。LA41は、単結合又は炭素数1~4のアルカンジイル基である。Qb1及びQb2は、上記と同じ意味を表す。
式(B1)で表される塩におけるアニオンとしては、具体的には、特開2010-204646号公報に記載されたアニオンが挙げられる。
Here, Ri2 to Ri7 are, independently of each other, for example, C1-C4 alkyl groups, preferably methyl or ethyl groups. Ri8 is, for example, a C1-C12 chain hydrocarbon group, preferably a C1-C4 alkyl group, a C5-C12 alicyclic hydrocarbon group, or a group formed by a combination thereof, more preferably a methyl group, ethyl group, cyclohexyl group, or adamantyl group. L A41 is a single bond or a C1-C4 alkanediyl group. Q b1 and Q b2 have the same meaning as above.
Specific examples of anions in the salt represented by formula (B1) include the anions described in Japanese Patent Publication No. 2010-204646.

式(B1)で表される塩におけるアニオンとして好ましくは、式(B1a-1)~式(B1a-43)でそれぞれ表されるアニオンが挙げられる。
Preferred anions in the salt represented by formula (B1) are the anions represented by formulas (B1a-1) to (B1a-43), respectively.

なかでも、式(B1a-1)~式(B1a-3)、式(B1a-7)~式(B1a-16)、式(B1a-18)、式(B1a-19)、式(B1a-22)~式(B1a-41)のいずれかで表されるアニオンが好ましい。
Z1の有機カチオンとしては、有機オニウムカチオン、有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらの中でも、有機スルホニウムカチオン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ましい。アリールスルホニウムカチオンとしては、式(I)におけるZのカチオンと同様のものが挙げられる。
Among these, anions represented by any of the following formulas are preferred: (B1a-1) to (B1a-3), (B1a-7) to (B1a-16), (B1a-18), (B1a-19), and (B1a-22) to (B1a-41).
Examples of organic cations for Z1 + include organic onium cations, organic sulfonium cations, organic iodonium cations, organic ammonium cations, benzothiazolium cations, and organic phosphonium cations. Among these, organic sulfonium cations and organic iodonium cations are preferred, and aryl sulfonium cations are more preferred. Examples of aryl sulfonium cations include those similar to the Z + cation in formula (I).

酸発生剤(B)は、上述のアニオン及び上述の有機カチオンの組合せであり、これらは任意に組合せることができる。酸発生剤(B)としては、好ましくは式(B1a-1)~式(B1a-3)、式(B1a-7)~式(B1a-16)、式(B1a-18)、式(B1a-19)、式(B1a-22)~式(B1a-41)のいずれかで表されるアニオンと、カチオン(b2-1)、カチオン(b2-2)、カチオン(b2-3)又はカチオン(b2-4)との組合せが挙げられる。 The acid generator (B) is a combination of the anion and the organic cation described above, and these can be combined arbitrarily. Preferred examples of the acid generator (B) include a combination of an anion represented by any of the formulas (B1a-1) to (B1a-3), (B1a-7) to (B1a-16), (B1a-18), (B1a-19), (B1a-22) to (B1a-41) and a cation (b2-1), cation (b2-2), cation (b2-3), or cation (b2-4).

酸発生剤(B)としては、好ましくは式(B1-1)~式(B1-60)でそれぞれ表されるものが挙げられる。中でもアリールスルホニウムカチオンを含むものが好ましく、式(B1-1)~式(B1-3)、式(B1-5)~式(B1-7)、式(B1-11)~式(B1-14)、式(B1-20)~式(B1-26)、式(B1-29)、式(B1-31)~式(B1-60)で表されるものがとりわけ好ましい。
Preferably, the acid generator (B) is represented by formulas (B1-1) to (B1-60). Among these, those containing arylsulfonium cations are preferred, and those represented by formulas (B1-1) to (B1-3), (B1-5) to (B1-7), (B1-11) to (B1-14), (B1-20) to (B1-26), (B1-29), and (B1-31) to (B1-60) are particularly preferred.

酸発生剤として塩(I)及び酸発生剤(B)を含有する場合、塩(I)と酸生剤(B)との含有量の比(質量比;塩(I):酸発生剤(B))は、通常、1:99~99:1であり、好ましくは2:98~98:2であり、より好ましくは5:95~95:5であり、さらに好ましくは10:90~90:10であり、特に好ましくは15:85~85:15である。 When the acid generator contains both salt (I) and acid generator (B), the ratio of salt (I) to acid generator (B) (mass ratio; salt (I): acid generator (B)) is typically 1:99 to 99:1, preferably 2:98 to 98:2, more preferably 5:95 to 95:5, even more preferably 10:90 to 90:10, and particularly preferably 15:85 to 85:15.

〔レジスト組成物〕
本発明のレジスト組成物は、塩(I)を含む酸発生剤と、酸不安定基を有する樹脂(以下「樹脂(A)」という場合がある)とを含有する。ここで、「酸不安定基」とは、脱離基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、構成単位が親水性基(例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基)を有する構成単位に変換する基を意味する。
本発明のレジスト組成物は、酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩等のクエンチャー(以下「クエンチャー(C)」という場合がある)を含有することが好ましく、溶剤(以下「溶剤(E)」という場合がある)を含有することが好ましい。
[Resist composition]
The resist composition of the present invention contains an acid generator containing salt (I) and a resin having an acid-unstable group (hereinafter sometimes referred to as "resin (A)"). Here, "acid-unstable group" means a group having a leaving group, in which the leaving group is removed upon contact with an acid, and the constituent unit is converted into a constituent unit having a hydrophilic group (for example, a hydroxyl group or a carboxyl group).
The resist composition of the present invention preferably contains a quencher such as a salt that generates an acid with a lower acidity than the acid generated from the acid generator (hereinafter sometimes referred to as "quencher (C)"), and preferably contains a solvent (hereinafter sometimes referred to as "solvent (E)").

<酸発生剤>
本発明のレジスト組成物においては、酸発生剤の合計の含有率は、後述の樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは1質量部以上45質量部以下、より好ましくは1質量部以上40質量部以下、さらに好ましくは3質量部以上40質量部以下、より一層好ましくは3質量部以上35質量部以下、さらに一層好ましくは5質量部以上35質量部以下である。
<Acid Generator>
In the resist composition of the present invention, the total content of the acid generator is preferably 1 to 45 parts by mass, more preferably 1 to 40 parts by mass, even more preferably 3 to 40 parts by mass, even more preferably 3 to 35 parts by mass, and even more preferably 5 to 35 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin (A) described below.

<樹脂(A)>
樹脂(A)は、酸不安定基を有する構造単位(以下「構造単位(a1)」という場合がある)を含む。樹脂(A)は、さらに、構造単位(a1)以外の構造単位を含むことが好ましい。構造単位(a1)以外の構造単位としては、酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(s)」という場合がある)、構造単位(a1)及び構造単位(s)以外の構造単位(例えば、後述するハロゲン原子を有する構造単位(以下「構造単位(a4)」という場合がある)、後述する非脱離炭化水素基を有する構造単位(以下「構造単位(a5)」という場合がある)及びその他の当該分野で公知のモノマーに由来する構造単位等が挙げられる。
<Resin (A)>
Resin (A) contains structural units having acid-unstable groups (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a1)"). Preferably, resin (A) further contains structural units other than structural unit (a1). Examples of structural units other than structural unit (a1) include structural units that do not have acid-unstable groups (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (s)"), structural units other than structural unit (a1) and structural unit (s) (for example, structural units having halogen atoms as described later (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a4)"), structural units having non-eliminating hydrocarbon groups as described later (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a5)"), and structural units derived from other monomers known in the art.

〈構造単位(a1)〉
構造単位(a1)は、酸不安定基を有するモノマー(以下「モノマー(a1)」という場合がある)から導かれる。
樹脂(A)に含まれる酸不安定基は、式(1)で表される基(以下、基(1)とも記す)及び/又は式(2)で表される基(以下、基(2)とも記す)が好ましい。
[式(1)中、Ra1、Ra2及びRa3は、それぞれ独立に、炭素数1~8のアルキル基、炭素数2~8のアルケニル基、炭素数3~20の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表すか、Ra1及びRa2は互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともに炭素数3~20の非芳香族炭化水素環を形成する。
ma及びnaは、それぞれ独立して、0又は1を表し、ma及びnaの少なくとも一方は1を表す。
*は結合部位を表す。]
[式(2)中、Ra1’及びRa2’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~12の炭化水素基を表し、Ra3’は、炭素数1~20の炭化水素基を表すか、Ra2’及びRa3’は互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びXとともに炭素数3~20の複素環を形成し、該炭化水素基及び該複素環に含まれる-CH-は、-O-又は-S-で置き換わってもよい。
Xは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
na’は、0又は1を表す。
*は結合部位を表す。]
<Structural unit (a1)>
The structural unit (a1) is derived from a monomer having an acid-unstable group (hereinafter sometimes referred to as "monomer (a1)").
The acid-unstable group contained in resin (A) is preferably the group represented by formula (1) (hereinafter also referred to as group (1)) and/or the group represented by formula (2) (hereinafter also referred to as group (2)).
[In formula (1), Ra1 , Ra2 , and Ra3 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group having a combination thereof. Alternatively, Ra1 and Ra2 are bonded to each other to form a non-aromatic hydrocarbon ring having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atoms to which they are bonded.
ma and na each independently represent either 0 or 1, and at least one of ma and na represents 1.
* indicates a connection site.
[In formula (2), R a1' and R a2' each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, R a3' represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or R a2' and R a3' are bonded to each other to form a heterocycle having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atoms to which they are bonded and X, and the -CH2- contained in the hydrocarbon group and the heterocycle may be replaced with -O- or -S-.
X represents either an oxygen atom or a sulfur atom.
'na' represents 0 or 1.
* indicates a connection site.

a1、Ra2及びRa3におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が挙げられる。
a1、Ra2及びRa3におけるアルケニル基としては、エテニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、tert-ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、イソオクテニル基、ノネニル基が挙げられる。
a1、Ra2及びRa3における脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等が挙げられる。Ra1、Ra2及びRa3の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは3~16である。
a1、Ra2及びRa3における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基(例えば、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、シクロヘキシルメチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニルエチル基等のアルキルシクロアルキル基又はシクロアルキルアルキル基)、ベンジル基等のアラルキル基、アルキル基を有する芳香族炭化水素基(p-メチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、2,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-6-エチルフェニル基等)、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p-シクロヘキシルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基等)、フェニルシクロヘキシル基等のアリール-シクロアルキル基等が挙げられる。
好ましくは、maは0であり、naは1である。
a1及びRa2が互いに結合して非芳香族炭化水素環を形成する場合の-C(Ra1)(Ra2)(Ra3)としては、下記の環が挙げられる。非芳香族炭化水素環は、好ましくは炭素数3~12である。*は-O-との結合部位を表す。
Examples of alkyl groups in Ra1 , Ra2 , and Ra3 include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, and octyl groups.
Examples of alkenyl groups in R a1 , R a2 , and R a3 include ethenyl, propenyl, isopropenyl, butenyl, isobutenyl, tert-butenyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl, octenyl, isooctenyl, and nonenyl groups.
The alicyclic hydrocarbon groups in R a1 , R a2 , and R a3 may be monocyclic or polycyclic. Examples of monocyclic alicyclic hydrocarbon groups include cycloalkyl groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, and cyclooctyl. Examples of polycyclic alicyclic hydrocarbon groups include decahydronaphthyl, adamantyl, norbornyl, and the following groups (* indicates a bonding site). The number of carbon atoms in the alicyclic hydrocarbon groups of R a1 , R a2 , and R a3 is preferably 3 to 16.
Aromatic hydrocarbon groups in R a1 , R a2 , and R a3 include aryl groups such as phenyl, naphthyl, anthryl, biphenyl, and phenanthryl groups.
Examples of combined groups include groups that combine alkyl groups and alicyclic hydrocarbon groups as described above (for example, alkylcycloalkyl groups or cycloalkylalkyl groups such as methylcyclohexyl group, dimethylcyclohexyl group, methylnorbornyl group, cyclohexylmethyl group, adamantylmethyl group, adamantyldimethyl group, norbornylethyl group, etc.), aralkyl groups such as benzyl group, aromatic hydrocarbon groups having alkyl groups (p-methylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), aromatic hydrocarbon groups having alicyclic hydrocarbon groups (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.), and aryl-cycloalkyl groups such as phenylcyclohexyl group.
Preferably, ma is 0 and na is 1.
When R a1 and R a2 are bonded to each other to form a non-aromatic hydrocarbon ring, the following rings are examples of -C (R a1 ) (R a2 ) (R a3 ). The non-aromatic hydrocarbon ring preferably has 3 to 12 carbon atoms. * indicates a bond site with -O-.

a1’、Ra2’及びRa3’における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、Ra1、Ra2及びRa3で挙げた基と同様のものが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基(例えば、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、シクロヘキシルメチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニルエチル基等のアルキルシクロアルキル基又はシクロアルキルアルキル基)、ベンジル基等のアラルキル基、アルキル基を有する芳香族炭化水素基(p-メチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、2,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-6-エチルフェニル基等)、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p-シクロヘキシルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基等)、フェニルシクロヘキシル基等のアリール-シクロアルキル基等が挙げられる。
a2’及びRa3’が互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びXとともに複素環を形成する場合、-C(Ra1’)(Ra2’)-X-Ra3’としては、下記の環が挙げられる。*は、結合部位を表す。
a1’及びRa2’のうち、少なくとも1つは水素原子であることが好ましい。
na’は、好ましくは0である。
Examples of hydrocarbon groups in R a1' , R a2' , and R a3' include alkyl groups, alicyclic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, and groups formed by combining these.
Examples of alkyl groups and alicyclic hydrocarbon groups are the same as those listed in Ra1 , Ra2 , and Ra3 .
Examples of aromatic hydrocarbon groups include aryl groups such as phenyl, naphthyl, anthryl, biphenyl, and phenanthryl groups.
Examples of combined groups include groups that combine alkyl groups and alicyclic hydrocarbon groups as described above (for example, alkylcycloalkyl groups or cycloalkylalkyl groups such as methylcyclohexyl group, dimethylcyclohexyl group, methylnorbornyl group, cyclohexylmethyl group, adamantylmethyl group, adamantyldimethyl group, norbornylethyl group, etc.), aralkyl groups such as benzyl group, aromatic hydrocarbon groups having alkyl groups (p-methylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), aromatic hydrocarbon groups having alicyclic hydrocarbon groups (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.), and aryl-cycloalkyl groups such as phenylcyclohexyl group.
When R a2' and R a3' bond to each other and form a heterocycle with the carbon atom to which they are bonded and X, the following rings can be considered as -C(R a1' )(R a2' )-X- R a3' . * indicates a bonding site.
It is preferable that at least one of R a1' and R a2' is a hydrogen atom.
na' is preferably 0.

基(1)としては、以下の基が挙げられる。
式(1)においてRa1、Ra2及びRa3がアルキル基であり、ma=0であり、na=1である基。当該基としては、tert-ブトキシカルボニル基が好ましい。
式(1)において、Ra1、Ra2が、これらが結合する炭素原子と一緒になってアダマンチル基を形成し、Ra3がアルキル基であり、ma=0であり、na=1である基。
式(1)において、Ra1及びRa2がそれぞれ独立してアルキル基であり、Ra3がアダマンチル基であり、ma=0であり、na=1である基。
基(1)としては、具体的には以下の基が挙げられる。*は結合部位を表す。
基(2)の具体例としては、以下の基が挙げられる。*は結合部位を表す。
The following are examples of base (1):
In formula (1), Ra1 , Ra2 , and Ra3 are alkyl groups, with ma = 0 and na = 1. A tert-butoxycarbonyl group is preferred as the group.
In formula (1), Ra1 and Ra2 , together with the carbon atoms to which they are bonded, form an adamantyl group, and Ra3 is an alkyl group with ma = 0 and na = 1.
In formula (1), Ra1 and Ra2 are each independently alkyl groups, and Ra3 is an adamantyl group with ma = 0 and na = 1.
The following are specific examples of group (1). * indicates a bonding site.
The following are specific examples of group (2). * indicates a bonding site.

モノマー(a1)は、好ましくは、酸不安定基とエチレン性不飽和結合とを有するモノマー、より好ましくは酸不安定基を有する(メタ)アクリル系モノマーである。 The monomer (a1) is preferably a monomer having an acid-unstable group and an ethylenically unsaturated bond, and more preferably a (meth)acrylic monomer having an acid-unstable group.

酸不安定基を有する(メタ)アクリル系モノマーのうち、好ましくは、炭素数5~20の脂環式炭化水素基を有するものが挙げられる。脂環式炭化水素基のような嵩高い構造を有するモノマー(a1)に由来する構造単位を有する樹脂(A)をレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度を向上させることができる。 Among (meth)acrylic monomers having acid-unstable groups, those having alicyclic hydrocarbon groups with 5 to 20 carbon atoms are preferred. Using a resin (A) having structural units derived from a monomer (a1) with a bulky structure such as an alicyclic hydrocarbon group in the resist composition can improve the resolution of the resist pattern.

基(1)を有する(メタ)アクリル系モノマーに由来する構造単位として、式(a1-0)で表される構造単位(以下、構造単位(a1-0)という場合がある。)、式(a1-1)で表される構造単位(以下、構造単位(a1-1)という場合がある。)又は式(a1-2)で表される構造単位(以下、構造単位(a1-2)という場合がある。)が挙げられる。好ましくは、構造単位(a1-0)、構造単位(a1-1)及び構造単位(a1-2)からなる群から選ばれる少なくとも1種又は2種の構造単位であり、より好ましくは、構造単位(a1-1)及び構造単位(a1-2)からなる群から選ばれる少なくとも1種又は2種の構造単位である。これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
[式(a1-0)、式(a1-1)及び式(a1-2)中、
a01、La1及びLa2は、それぞれ独立に、-O-又は*-O-(CHk1-CO-O-を表し、k1は1~7のいずれかの整数を表し、*は-CO-との結合部位を表す。
a01、Ra4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。
a02、Ra03及びRa04は、それぞれ独立に、炭素数1~8のアルキル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。
a6及びRa7は、それぞれ独立に、炭素数1~8のアルキル基、炭素数2~8のアルケニル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
m1は0~14のいずれかの整数を表す。
n1は0~10のいずれかの整数を表す。
n1’は0~3のいずれかの整数を表す。]
Structural units derived from (meth)acrylic monomers having group (1) include structural units represented by formula (a1-0) (hereinafter sometimes referred to as structural unit (a1-0)), structural units represented by formula (a1-1) (hereinafter sometimes referred to as structural unit (a1-1)), or structural units represented by formula (a1-2) (hereinafter sometimes referred to as structural unit (a1-2)). Preferably, at least one or two structural units selected from the group consisting of structural unit (a1-0), structural unit (a1-1), and structural unit (a1-2), and more preferably, at least one or two structural units selected from the group consisting of structural unit (a1-1) and structural unit (a1-2). These may be used individually or in combination of two or more.
[In formulas (a1-0), (a1-1), and (a1-2),
L a01 , L a1 , and L a2 each independently represent -O- or *-O-(CH 2 ) k1 -CO-O-, where k1 is an integer from 1 to 7, and * represents the bond site with -CO-.
Ra01 , Ra4 , and Ra5 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a C1-C6 alkyl group which may contain a halogen atom.
R a02 , R a03 , and R a04 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a combination thereof.
Ra6 and Ra7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group formed by a combination of these.
m1 represents an integer between 0 and 14.
n1 represents an integer between 0 and 10.
n1' represents an integer between 0 and 3.

a01、Ra4及びRa5は、好ましくは水素原子又はメチル基であり、より好ましくはメチル基である。
a01、La1及びLa2は、好ましくは酸素原子又は*-O-(CHk01-CO-O-であり(但し、k01は、好ましくは1~4のいずれかの整数、より好ましくは1である。)、より好ましくは酸素原子である。
a02、Ra03、Ra04、Ra6及びRa7におけるアルキル基、アルケニル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組合せた基としては、基(1)のRa1、Ra2及びRa3で挙げた基と同様の基が挙げられる。
a02、Ra03、及びRa04におけるアルキル基は、好ましくは炭素数1~6のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基であり、さらに好ましくはメチル基である。
a6及びRa7におけるアルキル基は、好ましくは炭素数1~6のアルキル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基又はt-ブチル基であり、さらに好ましくはエチル基、イソプロピル基又はt-ブチル基である。
a6及びRa7におけるアルケニル基は、好ましくは炭素数2~6のアルケニル基であり、より好ましくはエテニル基、プロペニル基、イソプロペニル基又はブテニル基である。
a02、Ra03、Ra04、Ra6及びRa7の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは5~12であり、より好ましくは5~10である。
a02、Ra03、Ra04、Ra6及びRa7の芳香族炭化水素基の炭素数は、好ましくは6~12であり、より好ましくは6~10である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基は、これらアルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた合計炭素数が、18以下であることが好ましい。
アルキル基と芳香族炭化水素基とを組合せた基は、これらアルキル基と芳香族炭化水素基とを組合せた合計炭素数が、18以下であることが好ましい。
a02及びRa03は、好ましくは炭素数1~6のアルキル基又は炭素数6~12の芳香族炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、フェニル基又はナフチル基である。
a04は、好ましくは炭素数1~6のアルキル基又は炭素数5~12の脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。
a6及びRa7は、それぞれ独立に、好ましくは炭素数1~6のアルキル基、炭素数2~6のアルケニル基又は炭素数6~12の芳香族炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、エテニル基、フェニル基又はナフチル基であり、さらに好ましくはエチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、エテニル基又はフェニル基である。
m1は、好ましくは0~3のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
n1は、好ましくは0~3のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
n1’は好ましくは0又は1である。
R a01 , R a4 , and R a5 are preferably hydrogen atoms or methyl groups, and more preferably methyl groups.
L a01 , L a1 , and L a2 are preferably oxygen atoms or *-O-( CH2 ) k01 -CO-O- (wherein k01 is preferably an integer from 1 to 4, more preferably 1), and more preferably oxygen atoms.
Examples of alkyl groups, alkenyl groups, alicyclic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, and combinations thereof in R a02 , R a03 , R a04 , R a6 , and R a7 include the same groups as those listed for R a1 , R a2 , and R a3 in group (1).
The alkyl groups in R a02 , R a03 , and R a04 are preferably alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, more preferably methyl or ethyl groups, and even more preferably methyl groups.
The alkyl groups in Ra6 and Ra7 are preferably alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, more preferably methyl, ethyl, isopropyl, or t-butyl groups, and even more preferably ethyl, isopropyl, or t-butyl groups.
The alkenyl group in R a6 and R a7 is preferably an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, and more preferably an ethenyl group, propenyl group, isopropenyl group, or butenyl group.
The number of carbon atoms in the alicyclic hydrocarbon groups of Ra02, Ra03 , Ra04 , Ra6 , and Ra7 is preferably 5 to 12, and more preferably 5 to 10.
The number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon groups of Ra02, Ra03 , Ra04 , Ra6 , and Ra7 is preferably 6 to 12, and more preferably 6 to 10.
In groups formed by combining an alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group, it is preferable that the total number of carbon atoms in the combined alkyl group and alicyclic hydrocarbon group is 18 or less.
In groups formed by combining an alkyl group and an aromatic hydrocarbon group, it is preferable that the total number of carbon atoms in the combined alkyl group and aromatic hydrocarbon group is 18 or less.
R a02 and R a03 are preferably C1-C6 alkyl groups or C6-C12 aromatic hydrocarbon groups, and more preferably methyl, ethyl, phenyl, or naphthyl groups.
R a04 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, and more preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group, or an adamantyl group.
Ra6 and Ra7 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms, more preferably a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, an ethenyl group, a phenyl group, or a naphthyl group, and even more preferably an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, an ethenyl group, or a phenyl group.
m1 is preferably an integer between 0 and 3, and more preferably 0 or 1.
n1 is preferably an integer from 0 to 3, and more preferably 0 or 1.
n1' is preferably 0 or 1.

構造単位(a1-0)としては、例えば、式(a1-0-1)~式(a1-0-18)のいずれかで表される構造単位及び構造単位(a1-0)におけるRa01に相当するメチル基が水素原子、ハロゲン原子、ハロアルキル基(ハロゲン原子を有するアルキル基)又は他のアルキル基に置き換わった構造単位が挙げられ、式(a1-0-1)~式(a1-0-10)、式(a1-0-13)、式(a1-0-14)のいずれかで表される構造単位が好ましい。
Examples of structural units (a1-0) include structural units represented by any of the formulas (a1-0-1) to (a1-0-18) and structural units in which the methyl group corresponding to R a01 in structural unit (a1-0) is replaced by a hydrogen atom, a halogen atom, a haloalkyl group (an alkyl group having a halogen atom), or another alkyl group. Structural units represented by any of the formulas (a1-0-1) to (a1-0-10), (a1-0-13), or (a1-0-14) are preferred.

構造単位(a1-1)としては、例えば、特開2010-204646号公報に記載されたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。中でも、式(a1-1-1)~式(a1-1-7)のいずれかで表される構造単位及び構造単位(a1-1)におけるRa4に相当するメチル基が水素原子、ハロゲン原子、ハロアルキル基又は他のアルキル基に置き換わった構造単位が好ましく、式(a1-1-1)~式(a1-1-4)のいずれかで表される構造単位がより好ましい。
Examples of structural units (a1-1) include structural units derived from monomers described in Japanese Patent Publication No. 2010-204646. Among these, structural units represented by any of formulas (a1-1-1) to (a1-1-7) and structural units in which the methyl group corresponding to R a4 in structural unit (a1-1) is replaced with a hydrogen atom, a halogen atom, a haloalkyl group, or another alkyl group are preferred, and structural units represented by any of formulas (a1-1-1) to (a1-1-4) are more preferred.

構造単位(a1-2)としては、式(a1-2-1)~式(a1-2-14)のいずれかで表される構造単位及び構造単位(a1-2)におけるRa5に相当するメチル基が水素原子、ハロゲン原子、ハロアルキル基又は他のアルキル基に置き換わった構造単位が挙げられ、式(a1-2-2)、式(a1-2-5)、式(a1-2-6)及び式(a1-2-10)~式(a1-2-14)のいずれかで表される構造単位が好ましい。
Examples of structural units (a1-2) include structural units represented by any of formulas (a1-2-1) to (a1-2-14) and structural units in which the methyl group corresponding to R a5 in structural unit (a1-2) is replaced by a hydrogen atom, a halogen atom, a haloalkyl group, or another alkyl group. Structural units represented by any of formulas (a1-2-2), (a1-2-5), (a1-2-6), and (a1-2-10) to (a1-2-14) are preferred.

樹脂(A)が構造単位(a1-0)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、5モル%以上が挙げられ、好ましくは10モル%以上である。また、80モル%以下が挙げられ、好ましくは75モル%以下であり、より好ましくは70モル%以下である。具体的には、5~80モル%が挙げられ、好ましくは5~75モル%であり、より好ましくは10~70モル%である。
樹脂(A)が構造単位(a1-1)及び/又は構造単位(a1-2)を含む場合、これらの合計含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、10モル%以上が挙げられ、好ましくは15モル%以上であり、より好ましくは20モル%以上であり、さらに好ましくは25モル%以上であり、さらにより好ましくは30モル%以上である。また、95モル%以下が挙げられ、好ましくは90モル%以下であり、より好ましくは85モル%以下であり、さらに好ましくは80モル%以下でであり、より一層好ましくは75モル%以下であり、さらに一層好ましくは70モル%以下である。具体的には、10~90モル%が挙げられ、好ましくは15~85モル%であり、より好ましくは20~80モル%であり、さらに好ましくは20~75モル%であり、さらにより好ましくは20~70モル%である。
When resin (A) contains structural units (a1-0), the content is 5 mol% or more, preferably 10 mol% or more, relative to the total structural units of resin (A). Alternatively, it can be 80 mol% or less, preferably 75 mol% or less, and more preferably 70 mol% or less. Specifically, it can be 5 to 80 mol%, preferably 5 to 75 mol%, and more preferably 10 to 70 mol%.
When resin (A) contains structural unit (a1-1) and/or structural unit (a1-2), the total content of these is 10 mol% or more, preferably 15 mol% or more, more preferably 20 mol% or more, even more preferably 25 mol% or more, and even more preferably 30 mol% or more, relative to the total structural units of resin (A). Alternatively, it may be 95 mol% or less, preferably 90 mol% or less, more preferably 85 mol% or less, even more preferably 80 mol% or less, even more preferably 75 mol% or less, and even more preferably 70 mol% or less. Specifically, it may be 10 to 90 mol%, preferably 15 to 85 mol%, more preferably 20 to 80 mol%, even more preferably 20 to 75 mol%, and even more preferably 20 to 70 mol%.

構造単位(a1)において基(2)を有する構造単位としては、式(a1-4)で表される構造単位(以下、「構造単位(a1-4)」という場合がある。)が挙げられる。
[式(a1-4)中、
a32は、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。
a33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~12のアルコキシアルキル基、炭素数2~12のアルコキシアルコキシ基、炭素数2~4のアルキルカルボニル基、炭素数2~4のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
a30は、単結合又は-Xa31-(Aa32-Xa32nc-を表し、*は-Ra32が結合する炭素原子との結合部位を表す。
a32は、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。
a31及びXa32は、それぞれ独立に、-O-、-CO-O-又は-O-CO-を表す。
ncは、0又は1を表す。
laは0~4のいずれかの整数を表す。laが2以上のいずれかの整数である場合、複数のRa33は互いに同一であっても異なっていてもよい。
a34及びRa35はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~12の炭化水素基を表し、Ra36は、炭素数1~20の炭化水素基を表すか、Ra35及びRa36は互いに結合してそれらが結合する-C-O-とともに炭素数2~20の2価の炭化水素基を形成し、該炭化水素基及び該2価の炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-S-で置き換わってもよい。]
Examples of structural units having a base (2) in structural unit (a1) include the structural unit represented by formula (a1-4) (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a1-4)").
[In formula (a1-4),
R a32 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms that may contain a halogen atom.
R a33 represents a halogen atom, a hydroxyl group, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C2-C12 alkoxyalkyl group, a C2-C12 alkoxyalkoxy group, a C2-C4 alkylcarbonyl group, a C2-C4 alkylcarbonyloxy group, an acryloyloxy group, or a methacryloyloxy group.
A a30 represents a single bond or * -X a31- (A a32 -X a32 ) nc- , where * represents the bonding site with the carbon atom to which -R a32 is bonded.
A a32 represents an alkanediyl group with 1 to 6 carbon atoms.
X a31 and X a32 independently represent -O-, -CO-O-, or -O-CO-, respectively.
nc represents 0 or 1.
'la' represents an integer between 0 and 4. If 'la' is an integer greater than or equal to 2, multiple R a33s may be identical or different from one another.
R a34 and R a35 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R a36 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or R a35 and R a36 are bonded to each other to form a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms together with the -C-O- to which they are bonded, and the -CH2- contained in the hydrocarbon group and the divalent hydrocarbon group may be replaced with -O- or -S-.

a32及びRa33におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
a32におけるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5-ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基及びペルフルオロヘキシル基が挙げられる。
a32は、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基がさらに好ましい。
a33におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられる。アルキル基は、炭素数1~4のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
a33におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基が挙げられる。アルコキシ基は、炭素数1~4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
a33におけるアルコキシアルキル基としては、メトキシメチル基、エトキシエチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、sec-ブトキシメチル基、tert-ブトキシメチル基が挙げられる。アルコキシアルキル基は、炭素数2~8のアルコキシアルキル基が好ましく、メトキシメチル基又はエトキシエチル基がより好ましく、メトキシメチル基がさらに好ましい。
a33におけるアルコキシアルコキシ基としては、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシメトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシメトキシ基、イソプロポキシメトキシ基、ブトキシメトキシ基、sec-ブトキシメトキシ基、tert-ブトキシメトキシ基が挙げられる。アルコキシアルコキシ基は、炭素数2~8のアルコキシアルコキシ基が好ましく、メトキシエトキシ基又はエトキシエトキシ基がより好ましい。
a33におけるアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。アルキルカルボニル基は、炭素数2~3のアルキルカルボニル基が好ましく、アセチル基がより好ましい。
a33におけるアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基及びブチリルオキシ基が挙げられる。アルキルカルボニルオキシ基は、炭素数2~3のアルキルカルボニルオキシ基が好ましく、アセチルオキシ基がより好ましい。
a33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~4のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基又は炭素数2~8のアルコキシアルコキシ基が好ましく、フッ素原子、ヨウ素原子、ヒドロキシ基、メチル基、メトキシ基、エトキシ基、エトキシエトキシ基又はエトキシメトキシ基がより好ましく、フッ素原子、ヨウ素原子、ヒドロキシ基、メチル基、メトキシ基又はエトキシエトキシ基がさらに好ましい。
Examples of halogen atoms in R a32 and R a33 include fluorine atoms, chlorine atoms, and bromine atoms.
Examples of C1-C6 alkyl groups that may have halogen atoms in R a32 include trifluoromethyl, difluoromethyl, methyl, perfluoroethyl, 2,2,2-trifluoroethyl, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl, ethyl, perfluoropropyl, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl, propyl, perfluorobutyl, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl, butyl, perfluoropentyl, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl, pentyl, hexyl, and perfluorohexyl groups.
R a32 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and even more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
Examples of alkyl groups in R a33 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, and hexyl groups. The alkyl group is preferably a C1-C4 alkyl group, more preferably a methyl or ethyl group, and even more preferably a methyl group.
Examples of alkoxy groups in R a33 include methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, sec-butoxy, and tert-butoxy groups. The alkoxy group is preferably a carbon-1 to carbon-4 alkoxy group, more preferably a methoxy or ethoxy group, and even more preferably a methoxy group.
Examples of alkoxyalkyl groups in R a33 include methoxymethyl group, ethoxyethyl group, propoxymethyl group, isopropoxymethyl group, butoxymethyl group, sec-butoxymethyl group, and tert-butoxymethyl group. The alkoxyalkyl group is preferably an alkoxyalkyl group having 2 to 8 carbon atoms, more preferably a methoxymethyl group or an ethoxyethyl group, and even more preferably a methoxymethyl group.
Examples of alkoxyalkoxy groups in R a33 include methoxymethoxy group, methoxyethoxy group, ethoxymethoxy group, ethoxyethoxy group, propoxymethoxy group, isopropoxymethoxy group, butoxymethoxy group, sec-butoxymethoxy group, and tert-butoxymethoxy group. The alkoxyalkoxy group is preferably an alkoxyalkoxy group having 2 to 8 carbon atoms, and more preferably a methoxyethoxy group or an ethoxyethoxy group.
Examples of alkylcarbonyl groups in R a33 include acetyl groups, propionyl groups, and butyryl groups. The alkylcarbonyl group is preferably one having 2 to 3 carbon atoms, and more preferably an acetyl group.
Examples of alkylcarbonyloxy groups in R a33 include acetyloxy groups, propionyloxy groups, and butyryloxy groups. The alkylcarbonyloxy group is preferably an alkylcarbonyloxy group having 2 to 3 carbon atoms, and more preferably an acetyloxy group.
R a33 is preferably a halogen atom, a hydroxyl group, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 alkoxy group, or a C2-C8 alkoxyalkoxy group; more preferably a fluorine atom, an iodine atom, a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an ethoxyethoxy group, or an ethoxymethoxy group; and even more preferably a fluorine atom, an iodine atom, a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, or an ethoxyethoxy group.

*-Xa31-(Aa32-Xa32nc-としては、*-O-、*-CO-O-、*-O-CO-、*-CO-O-Aa32-CO-O-、*-O-CO-Aa32-O-、*-O-Aa32-CO-O-、*-CO-O-Aa32-O-CO-、*-O-CO-Aa32-O-CO-、が挙げられる。なかでも、*-CO-O-、*-CO-O-Aa32-CO-O-又は*-O-Aa32-CO-O-が好ましい。
a32におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基及び2-メチルブタン-1,4-ジイル基等が挙げられる。
a32は、メチレン基又はエチレン基であることが好ましい。
a30は、単結合、*-CO-O-又は*-CO-O-Aa32-CO-O-であることが好ましく、単結合、*-CO-O-又は*-CO-O-CH2-CO-O-であることがより好ましく、単結合又は*-CO-O-であることがさらに好ましい。
Examples of *-X a31- (A a32 -X a32 ) nc- include *-O-, *-CO-O-, *-O-CO-, *-CO-O-A a32 -CO-O-, *-O-CO-A a32 -O-, *-O-A a32 -CO-O-, *-CO-O-A a32 -O-CO-, and *-O-CO-A a32 -O-CO-. Among these, *-CO-O-, *-CO-O-A a32 -CO-O-, or *-O-A a32 -CO-O- are preferred.
Examples of alkanediyl groups in A a32 include methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, and 2-methylbutane-1,4-diyl group.
A a32 is preferably a methylene group or an ethylene group.
A a30 is preferably a single bond, *-CO-O- or *-CO-O-A a32 -CO-O-, more preferably a single bond, *-CO-O- or *-CO-O- CH2 -CO-O-, and even more preferably a single bond or *-CO-O-.

laは、0、1又は2が好ましく、0又は1がより好ましく、0がさらに好ましい。
a34、Ra35及びRa36における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、及びこれらを組み合わせた基が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基(例えば、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、シクロヘキシルメチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニルエチル基等のアルキルシクロアルキル基又はシクロアルキルアルキル基)、ベンジル基等のアラルキル基、アルキル基を有する芳香族炭化水素基(p-メチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、2,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-6-エチルフェニル基等)、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p-シクロヘキシルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基等)、フェニルシクロヘキシル基等のアリール-シクロアルキル基等が挙げられる。特に、Ra36としては、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基が挙げられる。
la is preferably 0, 1, or 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0.
Examples of hydrocarbon groups in R a34 , R a35 , and R a36 include alkyl groups, alicyclic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, and groups combining these.
Examples of alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, and octyl groups.
Alicyclic hydrocarbon groups may be monocyclic or polycyclic. Examples of monocyclic alicyclic hydrocarbon groups include cycloalkyl groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, and cyclooctyl groups. Examples of polycyclic alicyclic hydrocarbon groups include decahydronaphthyl, adamantyl, norbornyl, and the following groups (* indicates a bonding site).
Examples of aromatic hydrocarbon groups include aryl groups such as phenyl, naphthyl, anthryl, biphenyl, and phenanthryl groups.
Examples of combined groups include groups that combine the alkyl group and alicyclic hydrocarbon group as described above (for example, alkylcycloalkyl groups or cycloalkylalkyl groups such as methylcyclohexyl group, dimethylcyclohexyl group, methylnorbornyl group, cyclohexylmethyl group, adamantylmethyl group, adamantyldimethyl group, norbornylethyl group, etc.), aralkyl groups such as benzyl group, aromatic hydrocarbon groups having alkyl groups (p-methylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), aromatic hydrocarbon groups having alicyclic hydrocarbon groups (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.), and aryl-cycloalkyl groups such as phenylcyclohexyl group. In particular, R a36 can be alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms, alicyclic hydrocarbon groups having 3 to 18 carbon atoms, aromatic hydrocarbon groups having 6 to 18 carbon atoms, or groups formed by combining these.

a34は、好ましくは、水素原子である。
a35は、好ましくは、水素原子、炭素数1~12のアルキル基又は炭素数3~12の脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
a36の炭化水素基は、好ましくは、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基であり、より好ましくは、炭素数1~18のアルキル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基又は炭素数7~18のアラルキル基である。Ra36におけるアルキル基及び脂環式炭化水素基は、無置換であることが好ましい。Ra36における芳香族炭化水素基は、炭素数6~10のアリールオキシ基を有する芳香環が好ましい。
構造単位(a1-4)における-OC(Ra34)(Ra35)-O-Ra36は、酸(例えばp-トルエンスルホン酸)と接触して脱離し、ヒドロキシ基を形成する。
-OC(Ra34)(Ra35)-O-Ra36は、ベンゼン環のo-位又はp-位に結合することが好ましく、p-位に結合することがより好ましい。
R a34 is preferably a hydrogen atom.
R a35 is preferably a hydrogen atom, a C1-C12 alkyl group, or a C3-C12 alicyclic hydrocarbon group, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
The hydrocarbon group of R a36 is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group formed by a combination thereof, and more preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms. The alkyl group and alicyclic hydrocarbon group in R a36 are preferably unsubstituted. The aromatic hydrocarbon group in R a36 is preferably an aromatic ring having an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms.
In structural units (a1-4), -OC(R a34 )(R a35 )-O-R a36 is eliminated upon contact with an acid (e.g., p-toluenesulfonic acid) to form a hydroxyl group.
-OC(R a34 )(R a35 )-O-R a36 is preferably bonded to the ortho- or para-position of the benzene ring, and more preferably bonded to the para-position.

構造単位(a1-4)としては、例えば、特開2010-204646号公報に記載されたモノマー由来の構造単位が挙げられる。好ましくは、式(a1-4-1)~式(a1-4-24)でそれぞれ表される構造単位及び構造単位(a1-4)におけるRa32に相当する水素原子が、ハロゲン原子、ハロアルキル基又はアルキル基に置き換わった構造単位が挙げられ、より好ましくは、式(a1-4-1)~式(a1-4-5)、式(a1-4-10)、式(a1-4-13)、式(a1-4-14)、式(a1-4-19)、式(a1-4-20)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。
Examples of structural units (a1-4) include monomer-derived structural units described in Japanese Patent Publication No. 2010-204646. Preferably, examples include structural units represented by formulas (a1-4-1) to (a1-4-24) and structural units in which the hydrogen atom corresponding to R a32 in structural unit (a1-4) is replaced by a halogen atom, a haloalkyl group, or an alkyl group. More preferably, examples include structural units represented by formulas (a1-4-1) to (a1-4-5), (a1-4-10), (a1-4-13), (a1-4-14), (a1-4-19), and (a1-4-20).

樹脂(A)が、構造単位(a1-4)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、3~80モル%であることが好ましく、5~75モル%であることがより好ましく、7~70モル%であることがさらに好ましく、7~65モル%であることがより一層好ましく、10~60モル%であることがさらに一層好ましい。 When resin (A) contains structural units (a1-4), the content of these units is preferably 3 to 80 mol%, more preferably 5 to 75 mol%, even more preferably 7 to 70 mol%, even more preferably 7 to 65 mol%, and even more preferably 10 to 60 mol% relative to the total amount of all structural units in resin (A).

基(2)を有する(メタ)アクリル系モノマーに由来する構造単位としては、式(a1-5)で表される構造単位(以下「構造単位(a1-5)」という場合がある)も挙げられる。
式(a1-5)中、
a8は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
a1は、単結合又は*-(CH2h3-CO-L54-を表し、h3は1~4のいずれかの整数を表し、*は、L51との結合部位を表す。
51、L52、L53及びL54は、それぞれ独立に、-O-又は-S-を表す。
s1は、1~3のいずれかの整数を表す。
s1’は、0~3のいずれかの整数を表す。
Structural units derived from (meth)acrylic monomers having group (2) include the structural unit represented by formula (a1-5) (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a1-5)").
In formula (a1-5),
R a8 represents a C1-C6 alkyl group, a hydrogen atom, or a halogen atom, which may contain a halogen atom.
Z a1 represents a single bond or *-( CH2 ) h3 -CO- L54- , h3 represents an integer from 1 to 4, and * represents the bond site with L51 .
L 51 , L 52 , L 53 , and L 54 each independently represent -O- or -S-.
s1 represents an integer between 1 and 3.
s1' represents an integer between 0 and 3.

ハロゲン原子としては、フッ素原子及び塩素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、フルオロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
式(a1-5)においては、Ra8は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基が好ましい。
51は、酸素原子が好ましい。
52及びL53のうち、一方が-O-であり、他方が-S-であることが好ましい。
s1は、1が好ましい。
s1’は、0~2のいずれかの整数が好ましい。
a1は、単結合又は*-CH2-CO-O-が好ましい。
Examples of halogen atoms include fluorine atoms and chlorine atoms, with fluorine atoms being preferred.
Examples of C1-C6 alkyl groups that may contain halogen atoms include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, fluoromethyl, and trifluoromethyl groups.
In formula (a1-5), Ra8 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group.
L 51 is preferably an oxygen atom.
It is preferable that one of L 52 and L 53 is -O- and the other is -S-.
s1 is preferably 1.
s1' is preferably an integer between 0 and 2.
Z a1 is preferably a single bond or * -CH2 -CO-O-.

構造単位(a1-5)としては、例えば、特開2010-61117号公報に記載されたモノマー由来の構造単位が挙げられる。中でも、式(a1-5-1)~式(a1-5-4)でそれぞれ表される構造単位が好ましく、式(a1-5-1)又は式(a1-5-2)で表される構造単位がより好ましい。
Examples of structural units (a1-5) include monomer-derived structural units described in Japanese Patent Publication No. 2010-61117. Among these, structural units represented by formulas (a1-5-1) to (a1-5-4) are preferred, and structural units represented by formula (a1-5-1) or formula (a1-5-2) are more preferred.

樹脂(A)が、構造単位(a1-5)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1~50モル%が好ましく、3~45モル%がより好ましく、5~40モル%がさらに好ましく、5~30モル%がさらにより好ましい。 When resin (A) contains structural units (a1-5), the content is preferably 1 to 50 mol%, more preferably 3 to 45 mol%, even more preferably 5 to 40 mol%, and even more preferably 5 to 30 mol%, relative to the total structural units of resin (A).

また、構造単位(a1)としては、以下の構造単位も挙げられる。
Furthermore, the following structural units can also be listed as structural units (a1).

樹脂(A)が上記、(a1-3-1)~(a1-3-7)のような構造単位を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、10~95モル%が好ましく、15~90モル%がより好ましく、20~85モル%がさらに好ましく、20~70モル%がさらにより好ましく、20~60モル%が特に好ましい。 When resin (A) contains structural units such as (a1-3-1) to (a1-3-7) above, the content of these structural units is preferably 10 to 95 mol%, more preferably 15 to 90 mol%, even more preferably 20 to 85 mol%, even more preferably 20 to 70 mol%, and particularly preferably 20 to 60 mol% relative to the total structural units of resin (A).

また、構造単位(a1)としては、以下の構造単位も挙げられる。
樹脂(A)が上記、(a1-6-1)~(a1-6-3)のような構造単位を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、10~60モル%が好ましく、15~55モル%がより好ましく、20~50モル%がさらに好ましく、20~45モル%がさらにより好ましく、20~40モル%が特に好ましい。
Furthermore, the following structural units can also be listed as structural units (a1).
When resin (A) contains structural units such as (a1-6-1) to (a1-6-3) above, the content of these structural units is preferably 10 to 60 mol%, more preferably 15 to 55 mol%, even more preferably 20 to 50 mol%, even more preferably 20 to 45 mol%, and particularly preferably 20 to 40 mol% relative to the total structural units of resin (A).

〈構造単位(s)〉
構造単位(s)は、酸不安定基を有さないモノマー(以下「モノマー(s)」という場合がある)から導かれる。構造単位(s)を導くモノマーは、レジスト分野で公知の酸不安定基を有さないモノマーを使用できる。
構造単位(s)としては、ヒドロキシ基又はラクトン環を有するのが好ましい。ヒドロキシ基を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(a2)」という場合がある)及び/又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(a3)」という場合がある)を含む樹脂を本発明のレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度及び基板との密着性を向上させることができる。
<Structural unit (s)>
The structural unit (s) is derived from a monomer that does not have an acid-unstable group (hereinafter sometimes referred to as "monomer (s)"). The monomer used to derive the structural unit (s) can be any monomer known in the resist field that does not have an acid-unstable group.
The structural unit (s) preferably has a hydroxyl group or a lactone ring. If a resin containing a structural unit having a hydroxyl group and not having an acid-unstable group (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a2)") and/or a structural unit having a lactone ring and not having an acid-unstable group (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a3)") is used in the resist composition of the present invention, the resolution of the resist pattern and the adhesion to the substrate can be improved.

〈構造単位(a2)〉
構造単位(a2)が有するヒドロキシ基は、アルコール性ヒドロキシ基でも、フェノール性ヒドロキシ基でもよい。
本発明のレジスト組成物からレジストパターンを製造するとき、露光光源としてKrFエキシマレーザ(248nm)、電子線又はEUV(超紫外光)等の高エネルギー線を用いる場合には、構造単位(a2)として、フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2)が好ましく、後述する構造単位(a2-A)を用いることがより好ましい。また、ArFエキシマレーザ(193nm)等を用いる場合には、構造単位(a2)として、アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2)が好ましく、後述する構造単位(a2-1)を用いることがより好ましい。構造単位(a2)としては、1種を単独で含んでいてもよく、2種以上を含んでいてもよい。
<Structural Unit (a2)>
The hydroxyl group in structural unit (a2) may be either an alcoholic hydroxyl group or a phenolic hydroxyl group.
When manufacturing a resist pattern from the resist composition of the present invention, if a high-energy beam such as a KrF excimer laser (248 nm), electron beam, or EUV (ultra-ultraviolet light) is used as the exposure light source, a structural unit (a2) having a phenolic hydroxyl group is preferred, and it is more preferable to use the structural unit (a2-A) described later. Furthermore, if an ArF excimer laser (193 nm) or the like is used, a structural unit (a2) having an alcoholic hydroxyl group is preferred, and it is more preferable to use the structural unit (a2-1) described later. The structural unit (a2) may consist of one type alone, or it may consist of two or more types.

構造単位(a2)においてフェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位としては式(a2-A)で表される構造単位(以下「構造単位(a2-A)」という場合がある)が挙げられる。
[式(a2-A)中、
a50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。
a51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~12のアルコキシアルキル基、炭素数2~12のアルコキシアルコキシ基、炭素数2~4のアルキルカルボニル基、炭素数2~4のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
a50は、単結合又は*-Xa51-(Aa52-Xa52nb-を表し、*は-Ra50が結合する炭素原子との結合部位を表す。
a52は、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。
a51及びXa52は、それぞれ独立に、-O-、-CO-O-又は-O-CO-を表す。
nbは、0又は1を表す。
mbは0~4のいずれかの整数を表す。mbが2以上のいずれかの整数である場合、複数のRa51は互いに同一であっても異なっていてもよい。]
A structural unit having a phenolic hydroxyl group in structural unit (a2) is the structural unit represented by formula (a2-A) (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a2-A)").
[In formula (a2-A),
R a50 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms that may contain a halogen atom.
R a51 represents a halogen atom, a hydroxyl group, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C2-C12 alkoxyalkyl group, a C2-C12 alkoxyalkoxy group, a C2-C4 alkylcarbonyl group, a C2-C4 alkylcarbonyloxy group, an acryloyloxy group, or a methacryloyloxy group.
A a50 represents a single bond or *-X a51- (A a52 -X a52 ) nb- , where * represents the bonding site with the carbon atom to which -R a50 is bonded.
A a52 represents an alkanediyl group with 1 to 6 carbon atoms.
X a51 and X a52 independently represent -O-, -CO-O-, or -O-CO-, respectively.
nb represents either 0 or 1.
mb represents an integer between 0 and 4. If mb is an integer greater than or equal to 2, multiple R a51s may be identical or different from each other.

a50及びRa51におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
a50におけるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5-ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基及びペルフルオロヘキシル基が挙げられる。
a50は、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基がさらに好ましい。
a51におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられる。アルキル基は、炭素数1~4のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
a51におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基が挙げられる。アルコキシ基は、炭素数1~4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
a51におけるアルコキシアルキル基としては、メトキシメチル基、エトキシエチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、sec-ブトキシメチル基、tert-ブトキシメチル基が挙げられる。アルコキシアルキル基は、炭素数2~8のアルコキシアルキル基が好ましく、メトキシメチル基又はエトキシエチル基がより好ましく、メトキシメチル基がさらに好ましい。
a51におけるアルコキシアルコキシ基としては、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシメトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシメトキシ基、イソプロポキシメトキシ基、ブトキシメトキシ基、sec-ブトキシメトキシ基、tert-ブトキシメトキシ基が挙げられる。アルコキシアルコキシ基は、炭素数2~8のアルコキシアルコキシ基が好ましく、メトキシエトキシ基又はエトキシエトキシ基がより好ましい。
a51におけるアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。アルキルカルボニル基は、炭素数2~3のアルキルカルボニル基が好ましく、アセチル基がより好ましい。
a51におけるアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基及びブチリルオキシ基が挙げられる。アルキルカルボニルオキシ基は、炭素数2~3のアルキルカルボニルオキシ基が好ましく、アセチルオキシ基がより好ましい。
a51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~4のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基又は炭素数2~8のアルコキシアルコキシ基が好ましく、フッ素原子、ヨウ素原子、ヒドロキシ基、メチル基、メトキシ基、エトキシ基、エトキシエトキシ基又はエトキシメトキシ基がより好ましく、フッ素原子、ヨウ素原子、ヒドロキシ基、メチル基、メトキシ基又はエトキシエトキシ基がさらに好ましい。
Examples of halogen atoms in R a50 and R a51 include fluorine atoms, chlorine atoms, and bromine atoms.
Examples of C1-C6 alkyl groups that may have halogen atoms in R a50 include trifluoromethyl group, difluoromethyl group, methyl group, perfluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group, and perfluorohexyl group.
R a50 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and even more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
Examples of alkyl groups in R a51 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, and hexyl groups. The alkyl group is preferably a C1-C4 alkyl group, more preferably a methyl or ethyl group, and even more preferably a methyl group.
Examples of alkoxy groups in R a51 include methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, sec-butoxy, and tert-butoxy groups. The alkoxy group is preferably a carbon-1 to carbon-4 alkoxy group, more preferably a methoxy or ethoxy group, and even more preferably a methoxy group.
Examples of alkoxyalkyl groups in R a51 include methoxymethyl group, ethoxyethyl group, propoxymethyl group, isopropoxymethyl group, butoxymethyl group, sec-butoxymethyl group, and tert-butoxymethyl group. The alkoxyalkyl group is preferably an alkoxyalkyl group having 2 to 8 carbon atoms, more preferably a methoxymethyl group or an ethoxyethyl group, and even more preferably a methoxymethyl group.
Examples of alkoxyalkoxy groups in R a51 include methoxymethoxy group, methoxyethoxy group, ethoxymethoxy group, ethoxyethoxy group, propoxymethoxy group, isopropoxymethoxy group, butoxymethoxy group, sec-butoxymethoxy group, and tert-butoxymethoxy group. The alkoxyalkoxy group is preferably an alkoxyalkoxy group having 2 to 8 carbon atoms, and more preferably a methoxyethoxy group or an ethoxyethoxy group.
Examples of alkylcarbonyl groups in R a51 include acetyl groups, propionyl groups, and butyryl groups. The alkylcarbonyl group is preferably one having 2 to 3 carbon atoms, and more preferably an acetyl group.
Examples of alkylcarbonyloxy groups in R a51 include acetyloxy groups, propionyloxy groups, and butyryloxy groups. The alkylcarbonyloxy group is preferably an alkylcarbonyloxy group having 2 to 3 carbon atoms, and more preferably an acetyloxy group.
R a51 is preferably a halogen atom, a hydroxyl group, a C1-C4 alkyl group, a C1-C4 alkoxy group, or a C2-C8 alkoxyalkoxy group; more preferably a fluorine atom, an iodine atom, a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an ethoxyethoxy group, or an ethoxymethoxy group; and even more preferably a fluorine atom, an iodine atom, a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, or an ethoxyethoxy group.

*-Xa51-(Aa52-Xa52nb-としては、*-O-、*-CO-O-、*-O-CO-、*-CO-O-Aa52-CO-O-、*-O-CO-Aa52-O-、*-O-Aa52-CO-O-、*-CO-O-Aa52-O-CO-、*-O-CO-Aa52-O-CO-、が挙げられる。なかでも、*-CO-O-、*-CO-O-Aa52-CO-O-又は*-O-Aa52-CO-O-が好ましい。
a52におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基及び2-メチルブタン-1,4-ジイル基等が挙げられる。
a52は、メチレン基又はエチレン基であることが好ましい。
a50は、単結合、*-CO-O-又は*-CO-O-Aa52-CO-O-であることが好ましく、単結合、*-CO-O-又は*-CO-O-CH2-CO-O-であることがより好ましく、単結合又は*-CO-O-であることがさらに好ましい。
Examples of *-X a51- (A a52 -X a52 ) nb- include *-O-, *-CO-O-, *-O-CO-, *-CO-O-A a52 -CO-O-, *-O-CO-A a52 -O-, *-O-A a52 -CO-O-, *-CO-O-A a52 -O-CO-, and *-O-CO-A a52 -O-CO-. Among these, *-CO-O-, *-CO-O-A a52 -CO-O-, or *-O-A a52 -CO-O- are preferred.
Examples of alkanediyl groups in A a52 include methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, and 2-methylbutane-1,4-diyl group.
A a52 is preferably a methylene group or an ethylene group.
A a50 is preferably a single bond, *-CO-O- or *-CO-O-A a52 -CO-O-, more preferably a single bond, *-CO-O- or *-CO-O- CH2 -CO-O-, and even more preferably a single bond or *-CO-O-.

mbは0、1又は2が好ましく、0又は1がより好ましく、0がさらに好ましい。
ヒドロキシ基は、少なくとも1つが、ベンゼン環のm-位又はp-位に結合することが好ましく、m-位に結合することがより好ましい。フェニル基が2つ以上のヒドロキシ基を有する場合、2つのヒドロキシ基は、m-位とp-位にそれぞれ結合していることが好ましい。
MB is preferably 0, 1, or 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0.
Preferably, at least one hydroxyl group is bonded to the m- or p-position of the benzene ring, and more preferably to the m-position. If the phenyl group has two or more hydroxyl groups, it is preferable that the two hydroxyl groups are bonded to the m- and p-positions, respectively.

構造単位(a2-A)としては、特開2010-204634号公報、特開2012-12577号公報に記載されているモノマー由来の構造単位が挙げられる。 Examples of structural units (a2-A) include monomer-derived structural units described in Japanese Patent Publication No. 2010-204634 and Japanese Patent Publication No. 2012-12577.

構造単位(a2-A)としては、式(a2-2-1)~式(a2-2-24)で表される構造単位及び式(a2-2-1)~式(a2-2-24)で表される構造単位において構造単位(a2-A)におけるRa50に相当するメチル基が水素原子、ハロゲン原子、ハロアルキル基又は他のアルキル基に置き換わった構造単位が挙げられる。構造単位(a2-A)は、式(a2-2-1)~式(a2-2-4)で表される構造単位、式(a2-2-6)で表される構造単位、式(a2-2-8)で表される構造単位及び式(a2-2-12)~式(a2-2-18)で表される構造単位ならびにこれらの構造単位において、構造単位(a2-A)におけるRa50に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位であることが好ましく、式(a2-2-3)で表される構造単位、式(a2-2-4)で表される構造単位、式(a2-2-8)で表される構造単位、式(a2-2-12)~式(a2-2-14)で表される構造単位、式(a2-2-18)で表される構造単位及び式(a2-2-3)で表される構造単位、式(a2-2-4)で表される構造単位、式(a2-2-8)で表される構造単位、式(a2-2-12)~式(a2-2-14)で表される構造単位、式(a2-2-18)で表される構造単位において、構造単位(a2-A)におけるRa50に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位であることがより好ましく、式(a2-2-3)で表される構造単位、式(a2-2-4)で表される構造単位、式(a2-2-8)で表される構造単位及び式(a2-2-3)で表される構造単位、式(a2-2-4)で表される構造単位、式(a2-2-8)で表される構造単位において、構造単位(a2-A)におけるRa50に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位であることがさらに好ましい。
Structural units (a2-A) include structural units represented by formulas (a2-2-1) to (a2-2-24) and structural units in which the methyl group corresponding to R a50 in structural unit (a2-A) is replaced by a hydrogen atom, a halogen atom, a haloalkyl group, or another alkyl group. Structural units (a2-A) include structural units represented by formulas (a2-2-1) to (a2-2-4), structural units represented by formula (a2-2-6), structural units represented by formula (a2-2-8), and structural units represented by formulas (a2-2-12) to (a2-2-18), and in these structural units, R Preferably, the structural unit is one in which the methyl group corresponding to a50 is replaced by a hydrogen atom, and in the structural unit represented by formula (a2-2-3), the structural unit represented by formula (a2-2-4), the structural unit represented by formula (a2-2-8), the structural unit represented by formulas (a2-2-12) to (a2-2-14), the structural unit represented by formula (a2-2-18), and the structural unit represented by formula (a2-2-3), the structural unit represented by formula (a2-2-4), the structural unit represented by formula (a2-2-8), the structural unit represented by formulas (a2-2-12) to (a2-2-14), and the structural unit represented by formula (a2-2-18), R in structural unit (a2-A) It is more preferable that the structural unit is one in which the methyl group corresponding to a50 is replaced by a hydrogen atom, and in the structural units represented by formula (a2-2-3), formula (a2-2-4), formula (a2-2-8), and the structural units represented by formula (a2-2-3), formula (a2-2-4), and formula (a2-2-8), it is even more preferable that the structural unit is one in which the methyl group corresponding to R a50 in structural unit (a2-A) is replaced by a hydrogen atom.

樹脂(A)中に構造単位(a2-A)が含まれる場合の構造単位(a2-A)の含有率は、全構造単位に対して、好ましくは5モル%以上であり、より好ましくは10モル%以上であり、さらに好ましくは15モル%以上であり、より一層好ましくは20モル%以上である。また、好ましくは80モル%以下であり、より好ましくは70モル%以下であり、さらに好ましくは65モル%以下である。具体的には、好ましくは5~80モル%であり、より好ましくは10~70モル%であり、さらに好ましくは15~65モル%であり、さらにより好ましくは20~65モル%である。
構造単位(a2-A)は、例えば構造単位(a1-4)を用いて重合した後、p-トルエンスルホン酸等の酸で処理することにより、樹脂(A)に含ませることができる。また、アセトキシスチレン等を用いて重合した後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のアルカリで処理することにより、構造単位(a2-A)を樹脂(A)に含ませることができる。
When the resin (A) contains structural units (a2-A), the content of structural units (a2-A) is preferably 5 mol% or more, more preferably 10 mol% or more, even more preferably 15 mol% or more, and even more preferably 20 mol% or more, relative to the total structural units. Furthermore, it is preferably 80 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, and even more preferably 65 mol% or less. Specifically, it is preferably 5 to 80 mol%, more preferably 10 to 70 mol%, even more preferably 15 to 65 mol%, and even more preferably 20 to 65 mol%.
The structural unit (a2-A) can be incorporated into resin (A) by polymerizing using structural unit (a1-4), for example, and then treating with an acid such as p-toluenesulfonic acid. Alternatively, the structural unit (a2-A) can be incorporated into resin (A) by polymerizing using acetoxystyrene, for example, and then treating with an alkali such as tetramethylammonium hydroxide.

構造単位(a2)においてアルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位としては、式(a2-1)で表される構造単位(以下「構造単位(a2-1)」という場合がある。)が挙げられる。
式(a2-1)中、
a3は、-O-又は*-O-(CH2k2-CO-O-を表し、
k2は1~7のいずれかの整数を表す。*は-CO-との結合部位を表す。
a14は、水素原子又はメチル基を表す。
a15及びRa16は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。
o1は、0~10のいずれかの整数を表す。
A structural unit having an alcoholic hydroxyl group in structural unit (a2) is the structural unit represented by formula (a2-1) (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a2-1)").
In formula (a2-1),
L a3 represents -O- or *-O-( CH2 ) k2 -CO-O-,
k2 represents an integer between 1 and 7. * represents a bond site with -CO-.
R a14 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a15 and R a16 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, or a hydroxyl group.
o1 represents an integer between 0 and 10.

式(a2-1)では、La3は、好ましくは、-O-、-O-(CH2f1-CO-O-であり(前記f1は、1~4のいずれかの整数を表す)、より好ましくは-O-である。
a14は、好ましくはメチル基である。
a15は、好ましくは水素原子である。
a16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。
o1は、好ましくは0~3のいずれかの整数、より好ましくは0又は1である。
In formula (a2-1), L a3 is preferably -O-, -O-( CH2 ) f1 -CO-O- (where f1 represents an integer from 1 to 4), and more preferably -O-.
R a14 is preferably a methyl group.
R a15 is preferably a hydrogen atom.
R a16 is preferably a hydrogen atom or a hydroxyl group.
o1 is preferably an integer from 0 to 3, more preferably 0 or 1.

構造単位(a2-1)としては、例えば、特開2010-204646号公報に記載されたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。式(a2-1-1)~式(a2-1-6)のいずれかで表される構造単位が好ましく、式(a2-1-1)~式(a2-1-4)のいずれかで表される構造単位がより好ましく、式(a2-1-1)又は式(a2-1-3)で表される構造単位がさらに好ましい。
Examples of structural units (a2-1) include structural units derived from monomers described in Japanese Patent Publication No. 2010-204646. Structural units represented by any of formulas (a2-1-1) to (a2-1-6) are preferred, structural units represented by any of formulas (a2-1-1) to (a2-1-4) are more preferred, and structural units represented by formula (a2-1-1) or (a2-1-3) are even more preferred.

樹脂(A)が構造単位(a2-1)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1モル%以上が挙げられ、2モル%以上が好ましい。また、45モル%以下が挙げられ、好ましくは40モル%以下であり、より好ましくは35モル%以下であり、さらに好ましくは20モル%以下であり、より一層好ましくは10モル%以下である。具体的には、1~45モル%が挙げられ、好ましくは1~40モル%であり、より好ましくは1~35モル%であり、さらに好ましくは1~20モル%であり、さらにより好ましくは1~10モル%である。 When resin (A) contains structural unit (a2-1), its content is preferably 1 mol% or more, and more preferably 2 mol% or more, relative to the total structural units of resin (A). It is also preferably 45 mol% or less, more preferably 40 mol% or less, more preferably 35 mol% or less, even more preferably 20 mol% or less, and even more preferably 10 mol% or less. Specifically, it is 1 to 45 mol%, preferably 1 to 40 mol%, more preferably 1 to 35 mol%, even more preferably 1 to 20 mol%, and even more preferably 1 to 10 mol%.

〈構造単位(a3)〉
構造単位(a3)が有するラクトン環は、β-プロピオラクトン環、γ-ブチロラクトン環、δ-バレロラクトン環のような単環でもよく、単環式のラクトン環と他の環との縮合環でもよい。好ましくは、γ-ブチロラクトン環、アダマンタンラクトン環、又は、γ-ブチロラクトン環構造を含む橋かけ環(例えば下式(a3-2)で表される構造単位)が挙げられる。
<Structural Unit (a3)>
The lactone ring of the structural unit (a3) may be a monocyclic ring such as a β-propiolactone ring, a γ-butyrolactone ring, or a δ-valerolactone ring, or it may be a fused ring of a monocyclic lactone ring and another ring. Preferably, it may be a γ-butyrolactone ring, an adamantane lactone ring, or a bridging ring containing a γ-butyrolactone ring structure (for example, a structural unit represented by the following formula (a3-2)).

構造単位(a3)は、好ましくは、式(a3-1)、式(a3-2)、式(a3-3)又は式(a3-4)で表される構造単位である。これらの1種を単独で含有してもよく、2種以上を含有していてもよい。
[式(a3-1)、式(a3-2)、式(a3-3)及び式(a3-4)中、
a4、La5及びLa6は、それぞれ独立に、-O-又は*-O-(CHk3-CO-O-(k3は1~7のいずれかの整数を表す。)で表される基を表す。
a7は、-O-、*-O-La8-O-、*-O-La8-CO-O-、*-O-La8-CO-O-La9-CO-O-又は*-O-La8-O-CO-La9-O-を表す。
a8及びLa9は、それぞれ独立に、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。
*はカルボニル基との結合部位を表す。
a18、Ra19及びRa20は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
a24は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。
a3は、-CH-又は酸素原子を表す。
a21は炭素数1~4の脂肪族炭化水素基を表す。
a22、Ra23及びRa25は、それぞれ独立に、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数1~4の脂肪族炭化水素基を表す。
p1は0~5のいずれかの整数を表す。
q1は、0~3のいずれかの整数を表す。
r1は、0~3のいずれかの整数を表す。
w1は、0~8のいずれかの整数を表す。
p1、q1、r1及び/又はw1が2以上のとき、複数のRa21、Ra22、Ra23及び/又はRa25は互いに同一であっても異なっていてもよい。]
The structural unit (a3) is preferably a structural unit represented by formula (a3-1), formula (a3-2), formula (a3-3), or formula (a3-4). One of these may be included alone, or two or more may be included.
[In formulas (a3-1), (a3-2), (a3-3), and (a3-4),
L a4 , L a5 , and L a6 each independently represent a base represented by -O- or *-O-( CH2 ) k3 -CO-O- (where k3 is an integer from 1 to 7).
L a7 represents -O-, *-OL a8 -O-, *-OL a8 -CO-O-, *-OL a8 -CO-O-L a9 -CO-O-, or *-OL a8 -O-CO-L a9 -O-.
L a8 and L a9 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
* indicates a bonding site with a carbonyl group.
R a18 , R a19 , and R a20 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a24 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms that may contain a halogen atom.
X a3 represents -CH2- or an oxygen atom.
R a21 represents an aliphatic hydrocarbon group with 1 to 4 carbon atoms.
Ra22 , Ra23 , and Ra25 each independently represent a carboxyl group, a cyano group, or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
p1 represents an integer between 0 and 5.
q1 represents an integer between 0 and 3.
r1 represents an integer between 0 and 3.
w1 represents an integer between 0 and 8.
When p1, q1, r1 and/or w1 are 2 or more, the multiple R a21 , R a22 , R a23 and/or R a25 may be the same or different from each other.

a21、Ra22、Ra23及びRa25における脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基及びtert-ブチル基等のアルキル基が挙げられる。
a24におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
a24におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられ、好ましくは炭素数1~4のアルキル基が挙げられ、より好ましくはメチル基又はエチル基が挙げられる。
a24におけるハロゲン原子を有するアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、トリヨードメチル基等が挙げられる。
Examples of aliphatic hydrocarbon groups in Ra21 , Ra22 , Ra23 , and Ra25 include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, and tert-butyl groups.
Examples of halogen atoms in R a24 include fluorine, chlorine, bromine, and iodine atoms.
Examples of alkyl groups in R a24 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, and hexyl groups, with alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms being preferred, and methyl or ethyl groups being more preferred.
Examples of alkyl groups having a halogen atom in R a24 include trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoroisopropyl group, perfluorobutyl group, perfluorosec-butyl group, perfluorotert-butyl group, perfluoropentyl group, perfluorohexyl group, trichloromethyl group, tribromomethyl group, and triiodomethyl group.

a8及びLa9におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基及び2-メチルブタン-1,4-ジイル基等が挙げられる。 Examples of alkanediyl groups in L a8 and L a9 include methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, and 2-methylbutane-1,4-diyl group.

式(a3-1)~式(a3-3)において、La4~La6は、それぞれ独立に、好ましくは-O-又は、*-O-(CHk3-CO-O-において、k3が1~4のいずれかの整数である基、より好ましくは-O-及び、*-O-CH-CO-O-、さらに好ましくは酸素原子である。
a18~Ra21は、好ましくはメチル基である。
a22及びRa23は、それぞれ独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
p1、q1及びr1は、それぞれ独立に、好ましくは0~2のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
In formulas (a3-1) to (a3-3), L a4 to L a6 are each independently preferably -O- or *-O-( CH2 ) k3 -CO-O-, where k3 is an integer from 1 to 4, more preferably -O- and *-O- CH2 -CO-O-, and even more preferably an oxygen atom.
R a18 to R a21 are preferably methyl groups.
Ra22 and Ra23 are each independently preferably a carboxyl group, a cyano group, or a methyl group.
p1, q1, and r1 are each independently, preferably integers from 0 to 2, and more preferably 0 or 1.

式(a3-4)において、Ra24は、好ましくは水素原子又は炭素数1~4のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基又はエチル基であり、さらに好ましくは水素原子又はメチル基である。
a25は、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
a7は、好ましくは-O-又は*-O-La8-CO-O-であり、より好ましくは-O-、-O-CH-CO-O-又は-O-C-CO-O-である。
w1は、好ましくは0~2のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
特に、式(a3-4)は、式(a3-4)’が好ましい。
(式中、Ra24、La7は、上記と同じ意味を表す。)
In formula (a3-4), R a24 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and even more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
Ra25 is preferably a carboxyl group, a cyano group, or a methyl group.
L a7 is preferably -O- or *-O-L a8 -CO-O-, and more preferably -O-, -O- CH2 -CO-O- or -O- C2H4 -CO -O-.
w1 is preferably an integer between 0 and 2, and more preferably 0 or 1.
In particular, formula (a3-4) is preferred over formula (a3-4)'.
(In the formula, R a24 and L a7 have the same meaning as above.)

構造単位(a3)としては、特開2010-204646号公報に記載されたモノマー、特開2000-122294号公報に記載されたモノマー、特開2012-41274号公報に記載されたモノマーに由来の構造単位が挙げられる。構造単位(a3)としては、式(a3-1-1)、式(a3-1-2)、式(a3-2-1)、式(a3-2-2)、式(a3-3-1)、式(a3-3-2)及び式(a3-4-1)~式(a3-4-12)のいずれかで表される構造単位及び、前記構造単位において、式(a3-1)~式(a3-4)におけるRa18、Ra19、Ra20及びRa24に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましい。
Examples of structural units (a3) include those derived from monomers described in Japanese Patent Publication No. 2010-204646, Japanese Patent Publication No. 2000-122294, and Japanese Patent Publication No. 2012-41274. Preferred structural units (a3) include those represented by any of the formulas (a3-1-1), (a3-1-2), (a3-2-1), (a3-2-2), (a3-3-1), (a3-3-2), and (a3-4-1) to (a3-4-12), and structural units in which the methyl groups corresponding to R a18 , R a19 , R a20 , and R a24 in formulas (a3-1) to (a3-4) are replaced with hydrogen atoms.

樹脂(A)が構造単位(a3)を含む場合、その合計含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1モル%以上が挙げられ、好ましくは3モル%以上であり、より好ましくは5モル%以上であり、さらに好ましくは10モル%以上である。また、70モル%以下が挙げられ、好ましくは65モル%以下であり、より好ましくは60モル%以下である。具体的には、1~70モル%であり、好ましくは3~65モル%であり、より好ましくは5~60モル%である。
また、構造単位(a3-1)、構造単位(a3-2)、構造単位(a3-3)又は構造単位(a3-4)の含有率は、それぞれ、樹脂(A)の全構造単位に対して、好ましくは1モル%以上であり、より好ましくは3モル%以上であり、さらに好ましくは5モル%以上である。また、好ましくは60モル%以下であり、より好ましくは55モル%以下であり、さらに好ましくは50モル%以下である。具体的には、1~60モル%が好ましく、3~50モル%がより好ましく、5~50モル%がさらに好ましい。
When resin (A) contains structural units (a3), the total content is 1 mol% or more, preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, and even more preferably 10 mol% or more, relative to the total structural units of resin (A). Alternatively, it may be 70 mol% or less, preferably 65 mol% or less, and more preferably 60 mol% or less. Specifically, it is 1 to 70 mol%, preferably 3 to 65 mol%, and more preferably 5 to 60 mol%.
Furthermore, the content of structural unit (a3-1), structural unit (a3-2), structural unit (a3-3), or structural unit (a3-4) is preferably 1 mol% or more, more preferably 3 mol% or more, and even more preferably 5 mol% or more, relative to the total structural units of resin (A). Also preferably 60 mol% or less, more preferably 55 mol% or less, and even more preferably 50 mol% or less. Specifically, 1 to 60 mol% is preferred, 3 to 50 mol% is more preferred, and 5 to 50 mol% is even more preferred.

〈構造単位(a4)〉
構造単位(a4)としては、以下の構造単位が挙げられる。
[式(a4)中、
41は、水素原子又はメチル基を表す。
42は、炭素数1~24のハロゲン原子を有する飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。]
42で表される飽和炭化水素基は、鎖式飽和炭化水素基及び単環又は多環の脂環式飽和炭化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
<Structural Unit (a4)>
The following structural units (a4) can be considered:
[In formula (a4),
R 41 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 42 represents a saturated hydrocarbon group having a halogen atom with 1 to 24 carbon atoms, and the -CH2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
The saturated hydrocarbon group represented by R 42 includes chain-type saturated hydrocarbon groups, monocyclic or polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon groups, and groups formed by combining these.

鎖式飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。
単環又は多環の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基;デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等の多環式の脂環式飽和炭化水素基が挙げられる。
組み合わせにより形成される基としては、1以上のアルキル基又は1以上のアルカンジイル基と、1以上の脂環式飽和炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、-アルカンジイル基-脂環式飽和炭化水素基、-脂環式飽和炭化水素基-アルキル基、-アルカンジイル基-脂環式飽和炭化水素基-アルキル基等が挙げられる。
Examples of chain-type saturated hydrocarbon groups include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, decyl, dodecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl, and octadecyl groups.
Examples of monocyclic or polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon groups include cycloalkyl groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, and cyclooctyl groups; and polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon groups such as decahydronaphthyl, adamantyl, norbornyl, and the following groups (* indicates the bonding site).
Examples of groups formed by combinations include groups formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups with one or more alicyclic saturated hydrocarbon groups, such as -alkanediyl group-alicyclic saturated hydrocarbon group, -alicyclic saturated hydrocarbon group-alkyl group, and -alkanediyl group-alicyclic saturated hydrocarbon group-alkyl group.

構造単位(a4)としては、式(a4-0)で表される構造単位、式(a4-1)で表される構造単位、及び式(a4-4)で表される構造単位が挙げられる。
[式(a4-0)中、
54は、水素原子又はメチル基を表す。
4aは、単結合又は炭素数1~4のアルカンジイル基を表す。
3aは、炭素数1~8のペルフルオロアルカンジイル基又は炭素数3~12のペルフルオロシクロアルカンジイル基を表す。
64は、水素原子又はフッ素原子を表す。]
Examples of structural units (a4) include the structural unit represented by formula (a4-0), the structural unit represented by formula (a4-1), and the structural unit represented by formula (a4-4).
[In formula (a4-0),
R 54 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 4a represents a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
L3a represents a perfluoroalkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms or a perfluorocycloalkanediyl group having 3 to 12 carbon atoms.
R 64 represents a hydrogen atom or a fluorine atom.

4aにおけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基、エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基及び2-メチルプロパン-1,2-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。 Examples of alkanediyl groups in L 4a include linear alkanediyl groups such as methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, and butane-1,4-diyl group, and branched alkanediyl groups such as ethane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, and 2-methylpropane-1,2-diyl group.

3aにおけるペルフルオロアルカンジイル基としては、ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロエチルフルオロメチレン基、ペルフルオロプロパン-1,3-ジイル基、ペルフルオロプロパン-1,2-ジイル基、ペルフルオロプロパン-2,2-ジイル基、ペルフルオロブタン-1,4-ジイル基、ペルフルオロブタン-2,2-ジイル基、ペルフルオロブタン-1,2-ジイル基、ペルフルオロペンタン-1,5-ジイル基、ペルフルオロペンタン-2,2-ジイル基、ペルフルオロペンタン-3,3-ジイル基、ペルフルオロヘキサン-1,6-ジイル基、ペルフルオロヘキサン-2,2-ジイル基、ペルフルオロヘキサン-3,3-ジイル基、ペルフルオロヘプタン-1,7-ジイル基、ペルフルオロヘプタン-2,2-ジイル基、ペルフルオロヘプタン-3,4-ジイル基、ペルフルオロヘプタン-4,4-ジイル基、ペルフルオロオクタン-1,8-ジイル基、ペルフルオロオクタン-2,2-ジイル基、ペルフルオロオクタン-3,3-ジイル基、ペルフルオロオクタン-4,4-ジイル基等が挙げられる。
3aにおけるペルフルオロシクロアルカンジイル基としては、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基、ペルフルオロシクロペンタンジイル基、ペルフルオロシクロヘプタンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
In L 3a , the perfluoroalkanediyl group includes difluoromethylene group, perfluoroethylene group, perfluoroethylfluoromethylene group, perfluoropropane-1,3-diyl group, perfluoropropane-1,2-diyl group, perfluoropropane-2,2-diyl group, perfluorobutane-1,4-diyl group, perfluorobutane-2,2-diyl group, perfluorobutane-1,2-diyl group, perfluoropentane-1,5-diyl group, perfluoropentane-2,2-diyl group, and perfluoropentane- Examples include 3,3-diyl group, perfluorohexane-1,6-diyl group, perfluorohexane-2,2-diyl group, perfluorohexane-3,3-diyl group, perfluoroheptane-1,7-diyl group, perfluoroheptane-2,2-diyl group, perfluoroheptane-3,4-diyl group, perfluoroheptane-4,4-diyl group, perfluorooctane-1,8-diyl group, perfluorooctane-2,2-diyl group, perfluorooctane-3,3-diyl group, and perfluorooctane-4,4-diyl group.
Examples of perfluorocycloalkanediyl groups in L 3a include perfluorocyclohexanediyl group, perfluorocyclopentanediyl group, perfluorocycloheptanediyl group, and perfluoroadamantanediyl group.

4aは、好ましくは単結合、メチレン基又はエチレン基であり、より好ましくは、単結合、メチレン基である。
3aは、好ましくは炭素数1~6のペルフルオロアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数1~3のペルフルオロアルカンジイル基である。
L 4a is preferably a single bond, a methylene group, or an ethylene group, and more preferably a single bond or a methylene group.
L3a is preferably a perfluoroalkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a perfluoroalkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms.

構造単位(a4-0)としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位(a4-0)におけるR54に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
Examples of structural units (a4-0) include the structural units shown below and structural units in which the methyl group corresponding to R 54 in structural unit (a4-0) below is replaced by a hydrogen atom.

[式(a4-1)中、
a41は、水素原子又はメチル基を表す。
a42は、置換基を有していてもよい炭素数1~20の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
a41は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルカンジイル基又は式(a-g1)で表される基を表す。ただし、Aa41及びRa42のうち少なくとも1つは、置換基としてハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)を有する。
〔式(a-g1)中、
sは0又は1を表す。
a42及びAa44は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1~5の2価の飽和炭化水素基を表す。
a43は、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1~5の2価の飽和炭化水素基を表す。
a41及びXa42は、それぞれ独立に、-O-、-CO-、-CO-O-又は-O-CO-を表す。
ただし、Aa42、Aa43、Aa44、Xa41及びXa42の炭素数の合計は7以下である。〕
*は結合部位であり、右側の*が-O-CO-Ra42との結合部位である。]
[In formula (a4-1),
R a41 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a42 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, which may have substituents, and the -CH2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
A a41 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, which may have substituents, or a group represented by formula (a-g1). However, at least one of A a41 and R a42 has a halogen atom (preferably a fluorine atom) as a substituent.
[In formula (a-g1),
s represents either 0 or 1.
A a42 and A a44 each independently represent a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, which may have substituents.
A a43 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, which may have a single bond or substituents.
X a41 and X a42 independently represent -O-, -CO-, -CO-O-, or -O-CO-, respectively.
However, the total number of carbon atoms in A a42 , A a43 , A a44 , X a41 , and X a42 is 7 or less.
* indicates a binding site, and the * on the right is the binding site with -O-CO-R a42 .

a42における飽和炭化水素基としては、鎖式飽和炭化水素基及び単環又は多環の脂環式飽和炭化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。 Examples of saturated hydrocarbon groups in R a42 include chain-type saturated hydrocarbon groups, monocyclic or polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon groups, and groups formed by combining these.

鎖式飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基等が挙げられる。
単環又は多環の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基;デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等の多環式の脂環式飽和炭化水素基が挙げられる。
組み合わせにより形成される基としては、1以上のアルキル基又は1以上のアルカンジイル基と、1以上の脂環式飽和炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、-アルカンジイル基-脂環式飽和炭化水素基、-脂環式飽和炭化水素基-アルキル基、-アルカンジイル基-脂環式飽和炭化水素基-アルキル基等が挙げられる。
Examples of chain-type saturated hydrocarbon groups include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, decyl, dodecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl, and octadecyl groups.
Examples of monocyclic or polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon groups include cycloalkyl groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, and cyclooctyl groups; and polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon groups such as decahydronaphthyl, adamantyl, norbornyl, and the following groups (* indicates the bonding site).
Examples of groups formed by combinations include groups formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups with one or more alicyclic saturated hydrocarbon groups, such as -alkanediyl group-alicyclic saturated hydrocarbon group, -alicyclic saturated hydrocarbon group-alkyl group, and -alkanediyl group-alicyclic saturated hydrocarbon group-alkyl group.

a42が有する置換基として、ハロゲン原子及び式(a-g3)で表される基からなる群からなる群より選択される少なくとも1種が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子である。
[式(a-g3)中、
a43は、酸素原子、カルボニル基、*-O-CO-又は*-CO-O-を表す。
a45は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~17の飽和炭化水素基を表す。
*はRa42との結合部位を表す。]
ただし、Ra42-Xa43-Aa45において、Ra42がハロゲン原子を有しない場合は、Aa45は、少なくとも1つのハロゲン原子を有する炭素数1~17の飽和炭化水素基を表す。
The substituents on R a42 include at least one selected from the group consisting of halogen atoms and groups represented by formula (a-g3). Examples of halogen atoms include fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, and iodine atoms, with fluorine atoms being preferred.
[In formula (a-g3),
X a43 represents an oxygen atom, a carbonyl group, *-O-CO-, or *-CO-O-.
A a45 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, which may contain a halogen atom.
* indicates the binding site with R a42 .
However, in R a42 - X a43 - A a45 , if R a42 does not have a halogen atom, then A a45 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms and having at least one halogen atom.

a45における飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基等のアルキル基;
シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の単環式の脂環式炭化水素基;並びにデカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。
組み合わせにより形成される基としては、1以上のアルキル基又は1以上のアルカンジイル基と、1以上の脂環式炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、-アルカンジイル基-脂環式炭化水素基、-脂環式炭化水素基-アルキル基、-アルカンジイル基-脂環式炭化水素基-アルキル基等が挙げられる。
In A a45 , saturated hydrocarbon groups include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, decyl, dodecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl, and octadecyl;
Examples include monocyclic alicyclic hydrocarbon groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, and cyclooctyl groups, as well as polycyclic alicyclic hydrocarbon groups such as decahydronaphthyl, adamantyl, norbornyl, and the following groups (* indicates the bonding site).
Examples of groups formed by combinations include groups formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups with one or more alicyclic hydrocarbon groups, such as -alkanediyl group-alicyclic hydrocarbon group, -alicyclic hydrocarbon group-alkyl group, and -alkanediyl group-alicyclic hydrocarbon group-alkyl group.

a42は、ハロゲン原子を有していてもよい飽和炭化水素基が好ましく、ハロゲン原子を有するアルキル基及び/又は式(a-g3)で表される基を有する飽和炭化水素基がより好ましい。
a42がハロゲン原子を有する飽和炭化水素基である場合、好ましくはフッ素原子を有する飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルキル基又はペルフルオロシクロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数が1~6のペルフルオロアルキル基であり、特に好ましくは炭素数1~3のペルフルオロアルキル基である。ペルフルオロアルキル基としては、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基等が挙げられる。ペルフルオロシクロアルキル基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基等が挙げられる。
a42が、式(a-g3)で表される基を有する飽和炭化水素基である場合、式(a-g3)で表される基に含まれる炭素数を含めて、Ra42の総炭素数は、15以下が好ましく、12以下がより好ましい。式(a-g3)で表される基を置換基として有する場合、その数は1個が好ましい。
R a42 is preferably a saturated hydrocarbon group which may have a halogen atom, and more preferably a saturated hydrocarbon group which has an alkyl group having a halogen atom and/or a group represented by formula (a-g3).
When R a42 is a saturated hydrocarbon group having a halogen atom, it is preferably a saturated hydrocarbon group having a fluorine atom, more preferably a perfluoroalkyl group or a perfluorocycloalkyl group, even more preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Examples of perfluoroalkyl groups include perfluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluorobutyl group, perfluoropentyl group, perfluorohexyl group, perfluoroheptyl group, and perfluorooctyl group. Examples of perfluorocycloalkyl groups include perfluorocyclohexyl group.
When R a42 is a saturated hydrocarbon group having a group represented by formula (a-g3), the total number of carbon atoms in R a42 , including the number of carbon atoms in the group represented by formula (a-g3), is preferably 15 or less, and more preferably 12 or less. If the group represented by formula (a-g3) is present as a substituent, the number of substituents is preferably one.

a42が式(a-g3)で表される基を有する飽和炭化水素基である場合、Ra42は、さらに好ましくは式(a-g2)で表される基である。
[式(a-g2)中、
a46は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~17の2価の飽和炭化水素基を表す。
a44は、**-O-CO-又は**-CO-O-を表す(**はAa46との結合部位を表す。)。
a47は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~17の飽和炭化水素基を表す。
ただし、Aa46、Aa47及びXa44の炭素数の合計は18以下であり、Aa46及びAa47のうち、少なくとも一方は、少なくとも1つのハロゲン原子を有する。
*はカルボニル基との結合部位を表す。]
If R a42 is a saturated hydrocarbon group having a group represented by formula (a-g3), then R a42 is more preferably a group represented by formula (a-g2).
[In formula (a-g2),
A a46 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, which may contain a halogen atom.
X a44 represents **-O-CO- or **-CO-O- (where ** represents the bonding site with A a46 ).
A a47 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, which may contain a halogen atom.
However, the total number of carbon atoms in A a46 , A a47 , and X a44 is 18 or less, and at least one of A a46 and A a47 has at least one halogen atom.
* indicates the bonding site with the carbonyl group.

a46の飽和炭化水素基の炭素数は1~6が好ましく、1~3がより好ましい。
a47の飽和炭化水素基の炭素数は4~15が好ましく、5~12がより好ましく、Aa47は、シクロヘキシル基又はアダマンチル基がさらに好ましい。
The saturated hydrocarbon group of A a46 preferably has 1 to 6 carbon atoms, and more preferably 1 to 3 carbon atoms.
The saturated hydrocarbon group of A a47 preferably has 4 to 15 carbon atoms, more preferably 5 to 12, and A a47 is even more preferably a cyclohexyl group or an adamantyl group.

式(a-g2)で表される基の好ましい構造は、以下の構造である(*はカルボニル基との結合部位である)。
The preferred structure of the group represented by formula (a-g2) is as follows (* indicates the bonding site with the carbonyl group).

a41におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、1-メチルブタン-1,4-ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
a41の表すアルカンジイル基における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1~6のアルコキシ基等が挙げられる。
a41は、好ましくは炭素数1~4のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数2~4のアルカンジイル基であり、さらに好ましくはエチレン基である。
Examples of alkanediyl groups in A a41 include linear alkanediyl groups such as methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, and hexane-1,6-diyl group; and branched alkanediyl groups such as propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, 1-methylbutane-1,4-diyl group, and 2-methylbutane-1,4-diyl group.
Examples of substituents on the alkanediyl group represented by A a41 include hydroxyl groups and alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms.
A a41 is preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms, and even more preferably an ethylene group.

式(a-g1)で表される基におけるAa42、Aa43及びAa44の表す2価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐のアルカンジイル基及び単環又は多環の2価の脂環式飽和炭化水素基、並びに、アルカンジイル基及び2価の脂環式飽和炭化水素基を組合せることにより形成される2価の飽和炭化水素基等が挙げられる。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、1-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基等が挙げられる。
a42、Aa43及びAa44の表す2価の飽和炭化水素基の置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1~6のアルコキシ基等が挙げられる。
sは、0であることが好ましい。
Examples of divalent saturated hydrocarbon groups represented by A a42 , A a43 , and A a44 in the group represented by formula (a-g1) include linear or branched alkanediyl groups and monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon groups, as well as divalent saturated hydrocarbon groups formed by combining alkanediyl groups and divalent alicyclic saturated hydrocarbon groups. Specifically, examples include methylene groups, ethylene groups, propane-1,3-diyl groups, propane-1,2-diyl groups, butane-1,4-diyl groups, 1-methylpropane-1,3-diyl groups, 2-methylpropane-1,3-diyl groups, and 2-methylpropane-1,2-diyl groups.
Examples of substituents on the divalent saturated hydrocarbon groups represented by A a42 , A a43 , and A a44 include hydroxyl groups and alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms.
s is preferably 0.

式(a-g1)で表される基において、Xa42が-O-、-CO-、-CO-O-又は-O-CO-である基としては、以下の基等が挙げられる。以下の例示において、*及び**はそれぞれ結合部位を表わし、**が-O-CO-Ra42との結合部位である。
In the group represented by formula (a-g1), the following groups are examples of groups where X a42 is -O-, -CO-, -CO-O-, or -O-CO-. In the following examples, * and ** represent bonding sites, and ** is the bonding site with -O-CO-R a42 .

式(a4-1)で表される構造単位としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の式(a4-1)で表される構造単位におけるRa41に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
Structural units represented by formula (a4-1) include the structural units shown below and structural units in which the methyl group corresponding to R a41 in the structural unit represented by formula (a4-1) below is replaced by a hydrogen atom.

式(a4-1)で表される構造単位としては、式(a4-2)で表される構造単位及び式(a4-3)で表される構造単位が挙げられる。
[式(a4-2)中、
f5は、水素原子又はメチル基を表す。
44は、炭素数1~6のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
f6は、炭素数1~20のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表す。
ただし、L44及びRf6の合計炭素数の上限は21である。]
Examples of structural units represented by formula (a4-1) include the structural units represented by formula (a4-2) and the structural units represented by formula (a4-3).
[In formula (a4-2),
R f5 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 44 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, and the -CH2- contained in the alkanediyl group may be replaced with -O- or -CO-.
R f6 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 20 fluorine atoms.
However, the upper limit for the total number of carbon atoms in L 44 and R f6 is 21.

44の炭素数1~6のアルカンジイル基は、Aa41で例示したものと同様の基が挙げられる。
f6の飽和炭化水素基は、R42で例示したものと同様の基が挙げられる。
44におけるアルカンジイル基としては、炭素数2~4のアルカンジイル基が好ましく、エチレン基がより好ましい。
Examples of the alkanediyl groups with 1 to 6 carbon atoms in L 44 include those similar to those exemplified in A a41 .
The saturated hydrocarbon group of R f6 is similar to the group exemplified in R 42 .
In L 44 , an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms is preferred, and an ethylene group is more preferred.

式(a4-2)で表される構造単位としては、例えば、式(a4-1-1)~式(a4-1-11)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位(a4-2)におけるRf5に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式(a4-2)で表される構造単位として挙げられる。 Examples of structural units represented by formula (a4-2) include those represented by formulas (a4-1-1) to (a4-1-11), respectively. Structural units in which the methyl group corresponding to R f5 in structural unit (a4-2) is replaced by a hydrogen atom can also be listed as structural units represented by formula (a4-2).

[式(a4-3)中、
f7は、水素原子又はメチル基を表す。
5は、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。
f13は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表す。
f12は、*-O-CO-又は*-CO-O-を表す(*はAf13との結合部位を表す。)。
f14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~17の飽和炭化水素基を表す。
但し、Af13及びAf14の少なくとも1つは、フッ素原子を有し、L5、Af13及びAf14の合計炭素数の上限は20である。]
[In formula (a4-3),
R f7 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L5 represents an alkanediyl group with 1 to 6 carbon atoms.
A f13 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, which may contain a fluorine atom.
X f12 represents *-O-CO- or *-CO-O- (where * represents the bonding site with A f13 ).
A f14 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, which may contain a fluorine atom.
However, at least one of A f13 and A f14 has a fluorine atom, and the upper limit of the total number of carbon atoms in L 5 , A f13 , and A f14 is 20.

5におけるアルカンジイル基としては、Aa41のアルカンジイル基で例示したものと同様の基が挙げられる。 Examples of alkanediyl groups in L 5 include those similar to those exemplified in the alkanediyl group of A a41 .

f13におけるフッ素原子を有していてもよい2価の飽和炭化水素基としては、好ましくはフッ素原子を有していてもよい2価の鎖式飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい2価の脂環式飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルカンジイル基である。
フッ素原子を有していてもよい2価の鎖式飽和炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基;ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパンジイル基、ペルフルオロブタンジイル基及びペルフルオロペンタンジイル基等のペルフルオロアルカンジイル基等が挙げられる。
フッ素原子を有していてもよい2価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の基としては、シクロヘキサンジイル基及びペルフルオロシクロヘキサンジイル基等が挙げられる。多環式の基としては、アダマンタンジイル基、ノルボルナンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
In A f13 , the optionally fluorine-containing divalent saturated hydrocarbon group is preferably an optionally fluorine-containing divalent chain-type saturated hydrocarbon group and an optionally fluorine-containing divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and more preferably a perfluoroalkanediyl group.
Examples of divalent chain-type saturated hydrocarbon groups that may contain a fluorine atom include methylene groups, ethylene groups, propanediyl groups, butanediyl groups, and pentanediyl groups, as well as perfluoroalkanediyl groups such as difluoromethylene groups, perfluoroethylene groups, perfluoropropanediyl groups, perfluorobutanediyl groups, and perfluoropentanediyl groups.
The divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, which may contain a fluorine atom, may be monocyclic or polycyclic. Examples of monocyclic groups include cyclohexanediyl and perfluorocyclohexanediyl groups. Examples of polycyclic groups include adamantanediyl, norbornanediyl, and perfluoroadamantanediyl groups.

f14の飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい飽和炭化水素基は、Ra42で例示したものと同様の基が挙げられる。なかでも、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4-オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5-ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基、ヘプチル基、ペルフルオロヘプチル基、オクチル基及びペルフルオロオクチル基等のフッ化アルキル基、シクロプロピルメチル基、シクロプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ペルフルオロシクロヘキシル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニル基、ノルボルニルメチル基、ペルフルオロアダマンチル基、ペルフルオロアダマンチルメチル基等が好ましい。 A f14 may have saturated hydrocarbon groups and saturated hydrocarbon groups having fluorine atoms, and these may be the same groups as those exemplified in R a42 . Among them are trifluoromethyl group, difluoromethyl group, methyl group, perfluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, pentyl group, Preferred groups include alkyl fluorides such as hexyl group, perfluorohexyl group, heptyl group, perfluoroheptyl group, octyl group, and perfluorooctyl group, cyclopropylmethyl group, cyclopropyl group, cyclobutylmethyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, perfluorocyclohexyl group, adamantyl group, adamantylmethyl group, adamantyldimethyl group, norbornyl group, norbornylmethyl group, perfluoroadamantyl group, and perfluoroadamantylmethyl group.

式(a4-3)において、L5は、エチレン基が好ましい。
f13の2価の飽和炭化水素基は、炭素数1~6の2価の鎖式飽和炭化水素基及び炭素数3~12の2価の脂環式飽和炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数2~3の2価の鎖式飽和炭化水素基がさらに好ましい。
f14の飽和炭化水素基は、炭素数3~12の鎖式飽和炭化水素基及び炭素数3~12の脂環式飽和炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数3~10の鎖式飽和炭化水素基及び炭素数3~10の脂環式飽和炭化水素基を含む基がさらに好ましい。なかでも、Af14は、好ましくは炭素数3~12の脂環式飽和炭化水素基を含む基であり、より好ましくは、シクロプロピルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基及びアダマンチル基である。
In formula (a4-3), L5 is preferably an ethylene group.
The divalent saturated hydrocarbon group of A f13 is preferably a group containing a divalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms and a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and more preferably a divalent chain saturated hydrocarbon group having 2 to 3 carbon atoms.
The saturated hydrocarbon group of A f14 is preferably a group containing a chain-type saturated hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms and an alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and more preferably a group containing a chain-type saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms and an alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms. In particular, A f14 is preferably a group containing an alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and more preferably a cyclopropylmethyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a norbornyl group, and an adamantyl group.

式(a4-3)で表される構造単位としては、例えば、式(a4-1’-1)~式(a4-1’-11)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位(a4-3)におけるRf7に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式(a4-3)で表される構造単位として挙げられる。 Examples of structural units represented by formula (a4-3) include those represented by formulas (a4-1'-1) to (a4-1'-11), respectively. Structural units in which the methyl group corresponding to R f7 in structural unit (a4-3) is replaced with a hydrogen atom can also be cited as structural units represented by formula (a4-3).

構造単位(a4)としては、式(a4-4)で表される構造単位も挙げられる。
[式(a4-4)中、
f21は、水素原子又はメチル基を表す。
f21は、-(CH2j1-、-(CH2j2-O-(CH2j3-又は-(CH2j4-CO-O-(CH2j5-を表す。
j1~j5は、それぞれ独立に、1~6のいずれかの整数を表す。
f22は、フッ素原子を有する炭素数1~10の飽和炭化水素基を表す。]
Another example of a structural unit (a4) is the structural unit represented by formula (a4-4).
[In formula (a4-4),
R f21 represents a hydrogen atom or a methyl group.
A f21 represents -( CH2 ) j1- , -( CH2 ) j2 -O-( CH2 ) j3- , or -( CH2 ) j4 -CO-O-( CH2 ) j5- .
j1 through j5 each independently represent an integer from 1 to 6.
R f22 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and containing a fluorine atom.

f22の飽和炭化水素基は、Ra42で表される飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。Rf22は、フッ素原子を有する炭素数1~10のアルキル基又はフッ素原子を有する炭素数1~10の脂環式飽和炭化水素基が好ましく、フッ素原子を有する炭素数1~10のアルキル基がより好ましく、フッ素原子を有する炭素数1~6のアルキル基がさらに好ましい。 The saturated hydrocarbon group of R f22 is similar to the saturated hydrocarbon group represented by R a42 . R f22 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom, or an alicyclic saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom, more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom, and even more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and a fluorine atom.

式(a4-4)においては、Af21としては、-(CH2j1-が好ましく、エチレン基又はメチレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。 In formula (a4-4), A f21 is preferably -( CH2 ) j1- , more preferably an ethylene group or a methylene group, and even more preferably a methylene group.

式(a4-4)で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及び以下の式で表される構造単位において、構造単位(a4-4)におけるRf21に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
Examples of structural units represented by formula (a4-4) include the following structural units and structural units in which the methyl group corresponding to R f21 in structural unit (a4-4) is replaced by a hydrogen atom.

樹脂(A)が、構造単位(a4)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1~20モル%が好ましく、2~15モル%がより好ましく、3~10モル%がさらに好ましい。 If resin (A) contains structural units (a4), the content of these units is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 2 to 15 mol%, and even more preferably 3 to 10 mol%, relative to the total structural units of resin (A).

〈構造単位(a5)〉
構造単位(a5)が有する非脱離炭化水素基としては、直鎖、分岐又は環状の炭化水素基を有する基が挙げられる。なかでも、構造単位(a5)は、脂環式炭化水素基を有する基が好ましい。
構造単位(a5)としては、例えば、式(a5-1)で表される構造単位が挙げられる。
[式(a5-1)中、
51は、水素原子又はメチル基を表す。
52は、炭素数3~18の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は炭素数1~8の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。
55は、単結合又は炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。]
<Structural Unit (a5)>
Examples of non-eliminating hydrocarbon groups in structural unit (a5) include groups having linear, branched, or cyclic hydrocarbon groups. Among these, structural unit (a5) is preferably a group having an alicyclic hydrocarbon group.
An example of a structural unit (a5) is the structural unit represented by formula (a5-1).
[In formula (a5-1),
R 51 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 52 represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L 55 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the -CH2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.

52における脂環式炭化水素基としては、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、アダマンチル基及びノルボルニル基等が挙げられる。
炭素数1~8の脂肪族炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2-エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。
置換基を有する脂環式炭化水素基としては、3-メチルアダマンチル基などが挙げられる。
52は、好ましくは、無置換の炭素数3~18の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは、アダマンチル基、ノルボルニル基又はシクロヘキシル基である。
The alicyclic hydrocarbon group in R 52 may be either monocyclic or polycyclic. Examples of monocyclic alicyclic hydrocarbon groups include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, and cyclohexyl groups. Examples of polycyclic alicyclic hydrocarbon groups include adamantyl and norbornyl groups.
Examples of aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 8 carbon atoms include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, octyl, and 2-ethylhexyl.
Examples of alicyclic hydrocarbon groups having substituents include the 3-methyladamantyl group.
R 52 is preferably an unsubstituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and more preferably an adamantyl group, a norbornyl group, or a cyclohexyl group.

55における2価の飽和炭化水素基としては、2価の鎖式飽和炭化水素基及び2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、好ましくは2価の鎖式飽和炭化水素基である。
2価の鎖式飽和炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
2価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基及びシクロヘキサンジイル基等のシクロアルカンジイル基が挙げられる。多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基としては、アダマンタンジイル基及びノルボルナンジイル基等が挙げられる。
Examples of divalent saturated hydrocarbon groups in L 55 include divalent chain saturated hydrocarbon groups and divalent alicyclic saturated hydrocarbon groups, with divalent chain saturated hydrocarbon groups being preferred.
Examples of divalent chain-type saturated hydrocarbon groups include methylene groups, ethylene groups, propanediyl groups, butanediyl groups, and pentanediyl groups, as well as other alkanediyl groups.
The divalent alicyclic saturated hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. Examples of monocyclic alicyclic saturated hydrocarbon groups include cycloalkanediyl groups such as cyclopentanediyl and cyclohexanediyl. Examples of polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon groups include adamantanediyl and norbornanediyl.

55の表す2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH-が、-O-又は-CO-で置き換わった基としては、例えば、式(L1-1)~式(L1-4)で表される基が挙げられる。下記式中、*及び**は各々結合部位を表し、*は酸素原子との結合部位を表す。
式(L1-1)中、
x1は、*-O-CO-又は*-CO-O-を表す(*はLx1との結合部位を表す。)。
x1は、炭素数1~16の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x2は、単結合又は炭素数1~15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx1及びLx2の合計炭素数は、16以下である。
式(L1-2)中、
x3は、炭素数1~17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x4は、単結合又は炭素数1~16の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx3及びLx4の合計炭素数は、17以下である。
式(L1-3)中、
x5は、炭素数1~15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x6及びLx7は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数1~14の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx5、Lx6及びLx7の合計炭素数は、15以下である。
式(L1-4)中、
x8及びLx9は、単結合又は炭素数1~12の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x1は、炭素数3~15の2価の脂環式飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx8、Lx9及びWx1の合計炭素数は、15以下である。
Groups in which the -CH2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L 55 is replaced with -O- or -CO- include, for example, the groups represented by formulas (L1-1) to (L1-4). In the following formulas, * and ** represent bonding sites, respectively, and * represents the bonding site with the oxygen atom.
In formula (L1-1),
X x1 represents *-O-CO- or *-CO-O- (where * represents the bonding site with L x1 ).
L x1 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
L x2 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
However, the total number of carbon atoms in L x1 and L x2 must be 16 or less.
In formula (L1-2),
L x3 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group with 1 to 17 carbon atoms.
L x4 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
However, the total number of carbon atoms in L x3 and L x4 must be 17 or less.
In formula (L1-3),
L x5 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group with 1 to 15 carbon atoms.
L x6 and L x7 each independently represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
However, the total number of carbon atoms in L x 5 , L x 6 , and L x 7 must be 15 or less.
In formula (L1-4),
L x8 and L x9 represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
W x1 represents a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 15 carbon atoms.
However, the total number of carbon atoms in L x8 , L x9 , and W x1 is 15 or less.

x1は、好ましくは、炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
x2は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合である。
x3は、好ましくは、炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x4は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x5は、好ましくは、炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
x6は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
x7は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x8は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
x9は、好ましくは、単結合又は炭素数1~8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
x1は、好ましくは、炭素数3~10の2価の脂環式飽和炭化水素基、より好ましくは、シクロヘキサンジイル基又はアダマンタンジイル基である。
L x1 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x2 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond.
L x3 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x4 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x5 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x6 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x7 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x8 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond or a methylene group.
L x9 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond or a methylene group.
W x1 is preferably a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, more preferably a cyclohexanediyl group or an adamantanediyl group.

式(L1-1)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of groups represented by formula (L1-1) include the divalent groups shown below.

式(L1-2)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of groups represented by formula (L1-2) include the divalent groups shown below.

式(L1-3)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of groups represented by formula (L1-3) include the divalent groups shown below.

式(L1-4)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of groups represented by formula (L1-4) include the divalent groups shown below.

55は、好ましくは、単結合又は式(L1-1)で表される基である。 L 55 is preferably a single bond or a group represented by formula (L1-1).

構造単位(a5-1)としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位(a5-1)におけるR51に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
樹脂(A)が、構造単位(a5)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1~30モル%が好ましく、2~20モル%がより好ましく、3~15モル%がさらに好ましい。
Examples of structural units (a5-1) include the structural units shown below and structural units in which the methyl group corresponding to R 51 in structural unit (a5-1) below is replaced by a hydrogen atom.
If the resin (A) contains structural units (a5), the content of these units is preferably 1 to 30 mol%, more preferably 2 to 20 mol%, and even more preferably 3 to 15 mol%, relative to the total structural units of the resin (A).

〈構造単位(a6)〉
構造単位(a6)は、-SO-基を有する構造単位であり、-SO-基を側鎖に有することが好ましい。
-SO-基を有する構造単位は、-SO-基を有する直鎖状構造を有していてもよいし、-SO-基を有する分岐状構造を有していてもよいし、-SO-基を有する環状構造(単環及び多環構造)を有していてもよい。好ましくは、-SO-基を有する環状構造を有する構造単位であり、より好ましくは、-SO-O-を含む環状構造(スルトン環)を有する構造単位である。
<Structural Unit (a6)>
The structural unit (a6) is a structural unit having a -SO₂- group, and it is preferable that the -SO₂- group is present in the side chain.
A structural unit having an -SO₂- group may have a linear structure having an -SO₂- group, a branched structure having an -SO₂- group, or a cyclic structure (monocyclic and polycyclic) having an -SO₂- group. Preferably, it is a structural unit having a cyclic structure having an -SO₂- group, and more preferably, it is a structural unit having a cyclic structure (sultone ring) containing -SO₂- O-.

スルトン環としては、下記式(T-1)、式(T-2)、式(T-3)及び式(T-4)で表される環が挙げられる。結合部位は任意の位置とすることができる。スルトン環は、単環式であってもよいが、多環式であることが好ましい。多環式のスルトン環とは、環を構成する原子団として-SO-O-を含む橋かけ環を意味し、式(T-1)及び式(T-2)で表される環が挙げられる。スルトン環は、式(T-2)で表される環のように、環を構成する原子団として、-SO-O-以外に、さらにヘテロ原子を含んでいてもよい。ヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子が挙げられ、好ましくは酸素原子である。
Examples of sultone rings include those represented by the following formulas ( T1-1 ), ( T1-2 ), ( T1-3 ), and ( T1-4 ). The bonding site can be at any position. The sultone ring may be monocyclic, but it is preferably polycyclic. A polycyclic sultone ring means a bridging ring containing -SO₂ - O- as the atomic group constituting the ring, and examples include the rings represented by formulas ( T1-1 ) and ( T1-2 ). The sultone ring, as in the ring represented by formula ( T1-2 ), may also contain heteroatoms in addition to -SO₂- O- as the atomic group constituting the ring. Examples of heteroatoms include oxygen atoms, sulfur atoms, or nitrogen atoms, and oxygen atoms are preferred.

スルトン環は置換基を有してもよく、置換基としては、ハロゲン原子又はヒドロキシ基を有していてもよい炭素数1~12のアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~12のアリール基、炭素数7~12のアラルキル基、グリシジルオキシ基、炭素数2~12のアルコキシカルボニル基及び炭素数2~4のアルキルカルボニル基等が挙げられる。 The sultone ring may have substituents. Examples of substituents include C1-C12 alkyl groups (which may have a halogen atom or a hydroxyl group), halogen atoms, hydroxyl groups, cyano groups, C1-C12 alkoxy groups, C6-C12 aryl groups, C7-C12 aralkyl groups, glycidyloxy groups, C2-C12 alkoxycarbonyl groups, and C2-C4 alkylcarbonyl groups.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及びデシル基が挙げられ、好ましくは炭素数1~6のアルキル基であり、より好ましくはメチル基である。
ハロゲン原子を有するアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基及びトリヨードメチル基が挙げられ、好ましくはトリフルオロメチル基が挙げられる。
ヒドロキシ基を有するアルキル基としては、ヒドロキシメチル基及び2-ヒドロキシエチル基のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基が挙げられる。
アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、p-メチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クミル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、2,6-ジエチルフェニル基及び2-メチル-6-エチルフェニル基が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基及びナフチルエチル基が挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシ基とカルボニル基とが結合した基が挙げられ、好ましくは炭素数6以下のアルコキシカルボニル基が挙げられ、より好ましくはメトキシカルボニル基が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げられる。
Examples of halogen atoms include fluorine, chlorine, bromine, and iodine.
Examples of alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, octyl, and decyl groups, preferably alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably methyl groups.
Examples of alkyl groups having a halogen atom include trifluoromethyl, perfluoroethyl, perfluoropropyl, perfluoroisopropyl, perfluorobutyl, perfluorosec-butyl, perfluorotert-butyl, perfluoropentyl, perfluorohexyl, trichloromethyl, tribromomethyl, and triiodomethyl, with trifluoromethyl being preferred.
Examples of alkyl groups having a hydroxyl group include hydroxymethyl groups and 2-hydroxyethyl groups.
Examples of alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy, heptyloxy, octyloxy, decyloxy, and dodecyloxy groups.
Examples of aryl groups include phenyl, naphthyl, anthryl, p-methylphenyl, p-tert-butylphenyl, p-adamantylphenyl, tolyl, xylyl, cumyl, mesityl, biphenyl, phenanthryl, 2,6-diethylphenyl, and 2-methyl-6-ethylphenyl.
Examples of aralkyl groups include benzyl, phenethyl, phenylpropyl, naphthylmethyl, and naphthylethyl groups.
Examples of alkoxycarbonyl groups include groups in which an alkoxy group such as a methoxycarbonyl group or an ethoxycarbonyl group is bonded to a carbonyl group, preferably an alkoxycarbonyl group having 6 or fewer carbon atoms, and more preferably a methoxycarbonyl group.
Examples of alkylcarbonyl groups include acetyl, propionyl, and butyryl groups.

構造単位(a6)を導くモノマーの製造が容易であるという観点から、置換基を有さないスルトン環が好ましい。
スルトン環としては、以下の式(T1’)で表される環が好ましい。
[式(T1’)中、
11は、酸素原子、硫黄原子又はメチレン基を表す。
41は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基を有していてもよい炭素数1~12のアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~12のアリール基、炭素数7~12のアラルキル基、グリシジルオキシ基、炭素数2~12のアルコキシカルボニル基又は炭素数2~4のアルキルカルボニル基を表す。
maは、0~9のいずれかの整数を表す。maが2以上のとき、複数のR41は同一であっても異なってもよい。
結合部位は任意の位置である。]
11は、好ましくは酸素原子又はメチレン基であり、より好ましくはメチレン基である。
41としては、スルトン環の置換基と同様のものが挙げられ、ハロゲン原子又はヒドロキシ基を有していてもよい炭素数1~12のアルキル基が好ましい。
From the viewpoint of ease of producing monomers that lead to structural unit (a6), a sultone ring without substituents is preferred.
As the sultone ring, the ring represented by the following formula (T1') is preferred.
[In formula (T1'),
X11 represents an oxygen atom, a sulfur atom, or a methylene group.
R 41 represents a C1-C12 alkyl group which may have a halogen atom or a hydroxyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C1-C12 alkoxy group, a C6-C12 aryl group, a C7-C12 aralkyl group, a glycidyloxy group, a C2-C12 alkoxycarbonyl group, or a C2-C4 alkylcarbonyl group.
ma represents an integer from 0 to 9. When ma is 2 or greater, multiple R 41s may be the same or different.
The connection site can be at any position.
X 11 is preferably an oxygen atom or a methylene group, and more preferably a methylene group.
Examples of R 41 include substituents similar to those of the sultone ring, and a C1 to C12 alkyl group which may have a halogen atom or a hydroxyl group is preferred.

スルトン環としては、式(T1)で表される環がより好ましい。
[式(T1)中、
は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基を有していてもよい炭素数1~12のアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~12のアリール基、炭素数7~12のアラルキル基、グリシジルオキシ基、炭素数2~12のアルコキシカルボニル基あるいは炭素数2~4のアルキルカルボニル基を表す。
mは、0~9のいずれかの整数を表す。mが2以上のとき、複数のRは同一であっても異なってもよい。
結合部位は任意の位置である。]
は、R41と同様のものが挙げられる。
式(T1’)におけるma及び式(T1)におけるmは、好ましくは0又は1であり、より好ましくは0である。
As the sultone ring, the ring represented by formula (T1) is more preferable.
[In formula (T1),
R8 represents a C1-C12 alkyl group which may have a halogen atom or a hydroxyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C1-C12 alkoxy group, a C6-C12 aryl group, a C7-C12 aralkyl group, a glycidyloxy group, a C2-C12 alkoxycarbonyl group, or a C2-C4 alkylcarbonyl group.
m represents an integer from 0 to 9. When m is 2 or greater, multiple R8s may be the same or different.
The connection site can be at any position.
R 8 is similar to R 41 .
In formula (T1'), ma and in formula (T1), m are preferably 0 or 1, and more preferably 0.

式(T1’)で表される環及び式(T1)で表される環としては、以下の環が挙げられる。結合部位は任意の位置である。
The following rings are examples of rings represented by formula (T1') and formula (T1). The bonding site is at an arbitrary position.

スルトン環を有する構造単位は、下記の基を有することが好ましい。下記基における*は結合部位を表す。
Structural units having a sultone ring preferably have the following groups. * in the following groups indicates a bonding site.

-SO-基を有する構造単位は、さらに、重合性基に由来する基を有することが好ましい。重合性基としては、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、アクリロイルチオ基、メタクリロイルチオ基等が挙げられる。
中でも、構造単位(a6)を導くモノマーは、好ましくはエチレン性不飽和結合を有するモノマーであり、より好ましくは(メタ)アクリル系モノマーである。
The structural unit having the -SO2- group preferably further has a group derived from a polymerizable group. Examples of polymerizable groups include vinyl group, acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, acryloylamino group, methacryloylamino group, acryloylthio group, and methacryloylthio group.
In particular, the monomer that leads to the structural unit (a6) is preferably a monomer having an ethylenically unsaturated bond, and more preferably a (meth)acrylic monomer.

構造単位(a6)は、好ましくは、式(Ix)で表される構造単位である。
[式(Ix)中、Rは、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1~6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
xxは、酸素原子、-N(R)-又は硫黄原子を表す。
は、炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-CO-又は-N(R)-に置き換わっていてもよい。
11は、酸素原子、硫黄原子又はメチレン基を表す。
41は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基を有していてもよい炭素数1~12のアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~12のアリール基、炭素数7~12のアラルキル基、グリシジルオキシ基、炭素数2~12のアルコキシカルボニル基又は炭素数2~4のアルキルカルボニル基を表す。
maは、0~9のいずれかの整数を表す。maが2以上のとき、複数のR41は同一であっても異なってもよい。
及びRは、互いに独立に、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。]
The structural unit (a6) is preferably a structural unit represented by formula (Ix).
[In formula (Ix), Rx represents a C1-C6 alkyl group, a hydrogen atom, or a halogen atom which may have a halogen atom.
Axx represents an oxygen atom, a -N( Rc )- atom, or a sulfur atom.
Ax represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the -CH2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O-, -CO-, or -N( Rd )-.
X11 represents an oxygen atom, a sulfur atom, or a methylene group.
R 41 represents a C1-C12 alkyl group which may have a halogen atom or a hydroxyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C1-C12 alkoxy group, a C6-C12 aryl group, a C7-C12 aralkyl group, a glycidyloxy group, a C2-C12 alkoxycarbonyl group, or a C2-C4 alkylcarbonyl group.
ma represents an integer from 0 to 9. When ma is 2 or greater, multiple R 41s may be the same or different.
Rc and Rd independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基及びn-ヘキシル基等が挙げられ、好ましくは炭素数1~4のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
のハロゲン原子を有するアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基及びトリヨードメチル基などが挙げられる。
は、好ましくは水素原子又は炭素数1~4のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基又はエチル基であり、さらに好ましくは水素原子又はメチル基である。
Examples of halogen atoms in Rx include fluorine, chlorine, bromine, and iodine.
Examples of alkyl groups for R x include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, and n-hexyl group, preferably alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably methyl group or ethyl group.
Examples of alkyl groups having a halogen atom of R x include trifluoromethyl, perfluoroethyl, perfluoropropyl, perfluoroisopropyl, perfluorobutyl, perfluorosec-butyl, perfluorotert-butyl, perfluoropentyl, perfluorohexyl, trichloromethyl, tribromomethyl, and triiodomethyl.
Rx is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and even more preferably a hydrogen atom or a methyl group.

の2価の飽和炭化水素基としては、直鎖状アルカンジイル基、分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組合せたものでもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ヘプタン-1,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-1,9-ジイル基、デカン-1,10-ジイル基、ウンデカン-1,11-ジイル基、ドデカン-1,12-ジイル基、トリデカン-1,13-ジイル基、テトラデカン-1,14-ジイル基、ペンタデカン-1,15-ジイル基、ヘキサデカン-1,16-ジイル基、ヘプタデカン-1,17-ジイル基、エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,1-ジイル基及びプロパン-2,2-ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;
ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;
シクロブタン-1,3-ジイル基、シクロペンタン-1,3-ジイル基、シクロヘキサン-1,4-ジイル基、シクロオクタン-1,5-ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の2価の脂環式飽和炭化水素基;
ノルボルナン-1,4-ジイル基、ノルボルナン-2,5-ジイル基、アダマンタン-1,5-ジイル基、アダマンタン-2,6-ジイル基等の多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
41、X11及びmaは、式(T1’)と同様のものが挙げられる。
スルトン環としては、上述のものが挙げられ、中でも、結合位置が特定された上述のものが好ましい。
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group A x include linear alkanediyl groups, branched alkanediyl groups, and monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon groups, and combinations of two or more of these groups are also acceptable.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group Linear alkane diyl groups such as dodecane-1,12-diyl group, tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group, heptadecane-1,17-diyl group, ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, and propane-2,2-diyl group;
Branched alkanediyl groups such as butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, and 2-methylbutane-1,4-diyl group;
Monocyclic, divalent, alicyclic saturated hydrocarbon groups such as cycloalkanediyl groups, cyclobutane-1,3-diyl groups, cyclopentane-1,3-diyl groups, cyclohexane-1,4-diyl groups, and cyclooctane-1,5-diyl groups;
Examples include polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon groups such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, and adamantane-2,6-diyl group.
R 41 , X 11 , and ma are the same as those in formula (T1').
Examples of sultone rings include those mentioned above, and among them, those with specified bonding positions are preferred.

構造単位(a6)としては、以下の構造単位が挙げられる。
The following structural units (a6) are examples of structural units:

なかでも、式(a6-1)、式(a6-2)、式(a6-6)、式(a6-7)、式(a6-8)及び式(a6-12)で表される構造単位が好ましく、式(a6-1)、式(a6-2)、式(a6-7)及び(a6-8)で表される構造単位がより好ましい。
樹脂(A)が、構造単位(a6)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1~50モル%が好ましく、2~40モル%がより好ましく、3~30モル%がさらに好ましい。
In particular, structural units represented by formulas (a6-1), (a6-2), (a6-6), (a6-7), (a6-8), and (a6-12) are preferred, and structural units represented by formulas (a6-1), (a6-2), (a6-7), and (a6-8) are more preferred.
If the resin (A) has structural units (a6), the content of these units is preferably 1 to 50 mol%, more preferably 2 to 40 mol%, and even more preferably 3 to 30 mol%, relative to the total structural units of the resin (A).

<構造単位(II)>
樹脂(A)は、さらに、露光により分解して酸を発生する構造単位(以下、「構造単位(II)」という場合がある)を含有していてもよい。構造単位(II)としては、具体的には特開2016-79235号公報に記載の構造単位が挙げられ、側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位又は側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位であることが好ましい。
<Structural Unit (II)>
The resin (A) may further contain structural units that decompose upon exposure to generate acid (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (II)"). Specifically, structural unit (II) is the structural unit described in Japanese Patent Application Publication No. 2016-79235, and is preferably a structural unit having a sulfonate group or carboxylate group and an organic cation in its side chain, or a structural unit having a sulfonio group and an organic anion in its side chain.

側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位は、式(II-2-A’)で表される構造単位であることが好ましい。
[式(II-2-A’)中、
III3は、炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基又はヒドロキシ基で置き換わっていてもよい。
x1は、炭素数1~8のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基で置換されていてもよい。
RAは、スルホナート基又はカルボキシレート基を表す。
III3は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。
ZAは、有機カチオンを表す。]
The structural unit having a sulfonate group or carboxylate group and an organic cation in its side chain is preferably the structural unit represented by formula (II-2-A').
[In formula (II-2-A'),
XIII3 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the -CH2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, or -CO-, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may contain a halogen atom, or a hydroxyl group.
A x1 represents an alkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in the alkanediyl group may be substituted with fluorine atoms or perfluoroalkyl groups having 1 to 6 carbon atoms.
RA- represents a sulfonate group or a carboxylate group.
R III3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms that may contain a halogen atom.
ZA + represents an organic cation.

III3で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
III3で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基としては、Ra8で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基と同じものが挙げられる。
x1で表される炭素数1~8のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,1-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、プロパン-2,2-ジイル基、ペンタン-2,4-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等が挙げられる。
x1において置換されていてもよい炭素数1~6のペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
Examples of halogen atoms represented by R III3 include fluorine, chlorine, bromine, and iodine atoms.
Examples of C1-C6 alkyl groups that may have a halogen atom represented by R III3 are the same as C1-C6 alkyl groups that may have a halogen atom represented by R a8 .
Examples of C1 -C1 alkanediyl groups include methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, and 2-methylbutane-1,4-diyl group.
Examples of C1-C6 perfluoroalkyl groups that may be substituted in A x1 include trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoroisopropyl group, perfluorobutyl group, perfluorosec-butyl group, perfluorotert-butyl group, perfluoropentyl group, and perfluorohexyl group.

III3で表される炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環飽和炭化水素基が挙げられ、これらの組み合わせてあってもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ヘプタン-1,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-1,9-ジイル基、デカン-1,10-ジイル基、ウンデカン-1,11-ジイル基、ドデカン-1,12-ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,2-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基、2-メチルブタン-1,4-ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;
シクロブタン-1,3-ジイル基、シクロペンタン-1,3-ジイル基、シクロヘキサン-1,4-ジイル基、シクロオクタン-1,5-ジイル基等のシクロアルカンジイル基等の2価の単環式脂環式飽和炭化水素基;
ノルボルナン-1,4-ジイル基、ノルボルナン-2,5-ジイル基、アダマンタン-1,5-ジイル基、アダマンタン-2,6-ジイル基等の2価の多環式脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
Examples of divalent saturated hydrocarbon groups having 1 to 18 carbon atoms represented by X III3 include linear or branched alkanediyl groups, monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon groups, and combinations thereof.
Specifically, linear alkanediyl groups such as methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, dodecane-1,12-diyl group; branched alkanediyl groups such as butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group;
Divalent monocyclic or alicyclic saturated hydrocarbon groups such as cycloalkanediyl groups including cyclobutane-1,3-diyl, cyclopentane-1,3-diyl, cyclohexane-1,4-diyl, and cyclooctane-1,5-diyl;
Examples include divalent polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon groups such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, and adamantane-2,6-diyl group.

飽和炭化水素基に含まれる-CH-が、-O-、-S-又は-CO-で置き換わったものとしては、例えば式(X1)~式(X53)で表される2価の基が挙げられる。ただし、飽和炭化水素基に含まれる-CH-が、-O-、-S-又は-CO-で置き換わる前の炭素数はそれぞれ17以下である。下記式において、*及び**は結合部位を表し、*はAx1との結合部位を表す。
Examples of groups in which the -CH2- contained in a saturated hydrocarbon group is replaced by -O-, -S-, or -CO- include the divalent groups represented by formulas (X1) to (X53). However, the number of carbon atoms before the -CH2- contained in the saturated hydrocarbon group is replaced by -O-, -S-, or -CO- is 17 or less. In the following formulas, * and ** represent bonding sites, and * represents the bonding site with A x1 .

3は、炭素数1~16の2価の飽和炭化水素基を表す。
4は、炭素数1~15の2価の飽和炭化水素基を表す。
5は、炭素数1~13の2価の飽和炭化水素基を表す。
6は、炭素数1~14の2価の飽和炭化水素基を表す。
7は、炭素数1~14の3価の飽和炭化水素基を表す。
8は、炭素数1~13の2価の飽和炭化水素基を表す。
X3 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
X4 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
X5 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms.
X6 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
X7 represents a trivalent saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
X8 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms.

ZA+で表される有機カチオンとしては、有機オニウムカチオン、有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらの中でも、有機スルホニウムカチオン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ましい。具体的には、上述した式(b2-1)~式(b2-4)のいずれかで表されるカチオン(以下、式番号に応じて「カチオン(b2-1)」等という場合がある。)が挙げられる。 Examples of organic cations represented by ZA + include organic onium cations, organic sulfonium cations, organic iodonium cations, organic ammonium cations, benzothiazolium cations, and organic phosphonium cations. Among these, organic sulfonium cations and organic iodonium cations are preferred, and aryl sulfonium cations are more preferred. Specifically, examples include cations represented by any of the above formulas (b2-1) to (b2-4) (hereinafter, depending on the formula number, they may be referred to as "cation (b2-1)," etc.).

式(II-2-A’)で表される構造単位は、式(II-2-A)で表される構造単位であることが好ましい。
[式(II-2-A)中、
III3、XIII3及びZAは、上記と同じ意味を表す。
zは、0~6のいずれかの整数を表す。
III2及びRIII4は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表し、zが2以上のとき、複数のRIII2及びRIII4は互いに同一でも、異なっていてもよい。
及びQは、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。]
The structural unit represented by formula (II-2-A') is preferably the structural unit represented by formula (II-2-A).
[In formula (II-2-A),
R III3 , X III3 , and ZA + have the same meaning as above.
z represents an integer between 0 and 6.
R III2 and R III4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and when z is 2 or greater, multiple R III2 and R III4 may be identical or different from one another.
Q a and Q b each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

III2、RIII4、Q及びQで表される炭素数1~6のペルフルオロアルキル基としては、前述のQb1で表される炭素数1~6のペルフルオロアルキル基と同じものが挙げられる。 The perfluoroalkyl groups having 1 to 6 carbon atoms represented by R III2 , R III4 , Q a , and Q b are the same as the perfluoroalkyl groups having 1 to 6 carbon atoms represented by Q b1 mentioned above.

式(II-2-A)で表される構造単位は、式(II-2-A-1)で表される構造単位であることが好ましい。
[式(II-2-A-1)中、
III2、RIII3、RIII4、Qa、Qb、z及びZAは、上記と同じ意味を表す。
III5は、炭素数1~12の飽和炭化水素基を表す。
I2は、炭素数1~11の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-又は-CO-に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。]
The structural unit represented by formula (II-2-A) is preferably the structural unit represented by formula (II-2-A-1).
[In formula (II-2-A-1),
R III² , R III³ , R III⁴ , Q a , Q b , z, and ZA + have the same meaning as above.
R III5 represents a saturated hydrocarbon group with 1 to 12 carbon atoms.
X I2 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 11 carbon atoms, and the -CH2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, or -CO-, and the hydrogen atoms contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with halogen atoms or hydroxyl groups.

III5で表される炭素数1~12の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。
I2で表される2価の飽和炭化水素基としては、XIII3で表される2価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。
Examples of saturated hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms represented by R III5 include linear or branched alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, and dodecyl groups.
Examples of divalent saturated hydrocarbon groups represented by X I2 include those similar to the divalent saturated hydrocarbon groups represented by X III3 .

式(II-2-A-1)で表される構造単位としては、式(II-2-A-2)で表される構造単位が好ましい。
[式(II-2-A-2)中、
III3、RIII5及びZAは、上記と同じ意味を表す。
m及びnは、それぞれ独立に、1又は2を表す。]
The structural unit represented by formula (II-2-A-2) is preferred over the structural unit represented by formula (II-2-A-1).
[In formula (II-2-A-2),
R III3 , R III5 , and ZA + have the same meaning as above.
m and n each independently represent either 1 or 2.

式(II-2-A’)で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位、RIII3のメチル基に相当する基が、水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子)又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基(例えば、トリフルオロメチル基等)等に置き換わった構造単位及び国際公開第2012/050015号記載の構造単位が挙げられる。ZAは、有機カチオンを表す。
Examples of structural units represented by formula (II-2-A') include the following structural units, structural units in which the group corresponding to the methyl group of R III3 is replaced by a hydrogen atom, a halogen atom (e.g., a fluorine atom), or a C1-C6 alkyl group which may have a halogen atom (e.g., a trifluoromethyl group), and the structural unit described in International Publication No. 2012/050015. ZA + represents an organic cation.

側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位は、式(II-1-1)で表される構造単位であることが好ましい。
[式(II-1-1)中、
II1は、単結合又は2価の連結基を表す。
II1は、炭素数6~18の2価の芳香族炭化水素基を表す。
II2及びRII3は、それぞれ独立して、炭素数1~18の炭化水素基を表し、RII2及びRII3は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子とともに環を形成していてもよい。
II4は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。
は、有機アニオンを表す。]
II1で表される炭素数6~18の2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基及びナフチレン基等が挙げられる。
II2及びRII3で表される炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、上記と同様のものが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基、ベンジル基等のアラルキル基、アルキル基を有する芳香族炭化水素基(p-メチルフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、2,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-6-エチルフェニル基等)、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p-シクロヘキシルフェニル基、p-アダマンチルフェニル基等)、フェニルシクロヘキシル基等のアリール-シクロアルキル基等が挙げられる。
II4で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
II4で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基としては、Ra8で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基と同じものが挙げられる。
II1で表される2価の連結基としては、例えば、炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基が挙げられ、該2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-又は-CO-で置き換わっていてもよい。具体的には、XIII3で表される炭素数1~18の2価の飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。
The structural unit having a sulfonio group and an organic anion in its side chain is preferably the structural unit represented by formula (II-1-1).
[In formula (II-1-1),
A II1 represents a single bond or a divalent linking group.
R II1 represents a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms.
R II2 and R II3 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and R II2 and R II3 may be bonded to each other to form a ring with the sulfur atom to which they are bonded.
R II4 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms that may contain a halogen atom.
A- represents an organic anion.
Examples of divalent aromatic hydrocarbon groups having 6 to 18 carbon atoms represented by R II1 include phenylene groups and naphthylene groups.
Examples of hydrocarbon groups represented by R II2 and R II3 include alkyl groups, alicyclic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, and groups formed by combining these.
Examples of alkyl groups and alicyclic hydrocarbon groups are the same as those described above.
Examples of aromatic hydrocarbon groups include aryl groups such as phenyl, naphthyl, anthryl, biphenyl, and phenanthryl groups.
Examples of combined groups include groups combining alkyl groups and alicyclic hydrocarbon groups as described above, aralkyl groups such as benzyl groups, aromatic hydrocarbon groups having alkyl groups (p-methylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), aromatic hydrocarbon groups having alicyclic hydrocarbon groups (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.), and aryl-cycloalkyl groups such as phenylcyclohexyl groups.
Examples of halogen atoms represented by RII4 include fluorine, chlorine, bromine, and iodine atoms.
Examples of alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms that may have a halogen atom represented by R II 4 are the same as alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms that may have a halogen atom represented by R a 8 .
Examples of the divalent linking group represented by A II1 include divalent saturated hydrocarbon groups having 1 to 18 carbon atoms, and the -CH2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, or -CO-. Specifically, the same as the divalent saturated hydrocarbon groups having 1 to 18 carbon atoms represented by X III3 can be cited.

式(II-1-1)中のカチオンを含む構造単位としては、以下で表される構造単位、、RII4のメチル基に相当する基が、水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子)又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基(例えば、トリフルオロメチル基等)等に置き換わった構造単位などが挙げられる。
Examples of structural units containing the cation in formula (II-1-1) include the structural unit represented below, and structural units in which the group corresponding to the methyl group of R II4 is replaced by a hydrogen atom, a halogen atom (e.g., a fluorine atom), or a C1-C6 alkyl group which may have a halogen atom (e.g., a trifluoromethyl group).

で表される有機アニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン及びカルボン酸アニオン等が挙げられる。Aで表される有機アニオンは、スルホン酸アニオンが好ましく、スルホン酸アニオンとしては、前述の式(B1)で表される塩に含まれるアニオンと同様のものが挙げられる。 Examples of organic anions represented by A- include sulfonic acid anions, sulfonylimide anions, sulfonylmethide anions, and carboxylic acid anions. The organic anion represented by A- is preferably a sulfonic acid anion, and examples of sulfonic acid anions include those similar to the anions contained in the salt represented by formula (B1) above.

で表されるスルホニルイミドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of sulfonylimide anions represented by A- include the following:

スルホニルメチドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of sulfonylmethide anions include the following:

カルボン酸アニオンとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of carboxylic acid anions include the following:

式(II-1-1)で表される構造単位としては、以下で表される構造単位などが挙げられる。
Examples of structural units represented by formula (II-1-1) include the following structural units.

樹脂(A)中に、構造単位(II)を含有する場合の構造単位(II)の含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、好ましくは1~20モル%であり、より好ましくは2~15モル%であり、さらに好ましくは3~10モル%である。 When resin (A) contains structural unit (II), the content of structural unit (II) is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 2 to 15 mol%, and even more preferably 3 to 10 mol%, relative to the total structural units of resin (A).

樹脂(A)は、上述の構造単位以外の構造単位を含んでいてもよく、このような構造単位としては、当技術分野で周知の構造単位が挙げられる。 Resin (A) may contain structural units other than those described above, and examples of such structural units include those well known in the art.

樹脂(A)は、好ましくは、構造単位(a1)と構造単位(s)とからなる樹脂、すなわち、モノマー(a1)とモノマー(s)との共重合体である。
構造単位(a1)は、好ましくは構造単位(a1-0)、構造単位(a1-1)及び構造単位(a1-2)(好ましくはシクロヘキシル基、又はシクロペンチル基を有する該構造単位)からなる群から選ばれる少なくとも一種であり、より好ましくは少なくとも二種であり、さらに好ましくは、構造単位(a1-1)及び構造単位(a1-2)からなる群から選ばれる少なくとも二種である。
構造単位(s)は、好ましくは構造単位(a2)及び構造単位(a3)からなる群から選ばれる少なくとも一種である。構造単位(a2)は、好ましくは式(a2-1)で表される構造単位又は式(a2-A)で表される構造単位である。構造単位(a3)は、好ましくは式(a3-1)で表される構造単位、式(a3-2)で表される構造単位及び式(a3-4)で表される構造単位からなる群から選ばれる少なくとも一種である。
The resin (A) is preferably a resin consisting of structural units (a1) and structural units (s), that is, a copolymer of monomer (a1) and monomer (s).
The structural unit (a1) is preferably at least one selected from the group consisting of structural unit (a1-0), structural unit (a1-1), and structural unit (a1-2) (preferably a structural unit having a cyclohexyl group or a cyclopentyl group), more preferably at least two, and even more preferably at least two selected from the group consisting of structural unit (a1-1) and structural unit (a1-2).
The structural unit (s) is preferably at least one selected from the group consisting of structural units (a2) and structural units (a3). The structural unit (a2) is preferably a structural unit represented by formula (a2-1) or a structural unit represented by formula (a2-A). The structural unit (a3) is preferably at least one selected from the group consisting of a structural unit represented by formula (a3-1), a structural unit represented by formula (a3-2), and a structural unit represented by formula (a3-4).

樹脂(A)を構成する各構造単位は、1種のみ又は2種以上を組み合わせて用いてもよく、これら構造単位を導くモノマーを用いて、公知の重合法(例えばラジカル重合法)によって製造することができる。樹脂(A)が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂(A)の重量平均分子量は、好ましくは、2,000以上(より好ましくは2,500以上、さらに好ましくは3,000以上)、50,000以下(より好ましくは30,000以下、さらに好ましくは15,000以下)である。本明細書では、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで実施例に記載の条件により求めた値である。
Each structural unit constituting resin (A) may be used individually or in combination of two or more types, and these structural units can be produced by known polymerization methods (e.g., radical polymerization) using monomers that derive these structural units. The content of each structural unit in resin (A) can be adjusted by the amount of monomer used in polymerization.
The weight-average molecular weight of resin (A) is preferably 2,000 or more (more preferably 2,500 or more, even more preferably 3,000 or more) and 50,000 or less (more preferably 30,000 or less, even more preferably 15,000 or less). In this specification, the weight-average molecular weight is the value obtained by gel permeation chromatography under the conditions described in the examples.

<樹脂(A)以外の樹脂>
本発明のレジスト組成物は、樹脂(A)以外の樹脂を含んでいてもよい。
樹脂(A)以外の樹脂としては、例えば、構造単位(a4)又は構造単位(a5)を含有する樹脂(以下、樹脂(X)という場合がある)等が挙げられる。
<Resins other than resin (A)>
The resist composition of the present invention may contain resins other than resin (A).
Examples of resins other than resin (A) include resins containing structural unit (a4) or structural unit (a5) (hereinafter sometimes referred to as resin (X)).

樹脂(X)としては、なかでも、構造単位(a4)を含む樹脂が好ましい。
樹脂(X)において、構造単位(a4)の含有率は、樹脂(X)の全構造単位の合計に対して、30モル%以上であることが好ましく、40モル%以上であることがより好ましく、45モル%以上であることがさらに好ましい。
樹脂(X)がさらに有していてもよい構造単位としては、構造単位(a2)、構造単位(a3)及びその他の公知のモノマーに由来する構造単位が挙げられる。中でも、樹脂(X)は、構造単位(a4)及び/又は構造単位(a5)のみからなる樹脂であることが好ましく、構造単位(a4)のみからなる樹脂であることがより好ましい。
樹脂(X)を構成する各構造単位は、1種のみ又は2種以上を組合せて用いてもよく、これら構造単位を誘導するモノマーを用いて、公知の重合法(例えばラジカル重合法)によって製造することができる。樹脂(X)が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂(X)の重量平均分子量は、好ましくは6,000以上(より好ましくは7,000以上)、80,000以下(より好ましくは60,000以下)である。樹脂(X)の重量平均分子量の測定手段は、樹脂(A)の場合と同様である。
レジスト組成物が樹脂(X)を含む場合、その含有量は、樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは1~60質量部であり、より好ましくは1~50質量部であり、さらに好ましくは1~40質量部であり、より一層好ましくは1~30質量部であり、さらに一層好ましくは1~8質量部である。
Among the resins (X), resins containing structural units (a4) are preferred.
In resin (X), the content of structural units (a4) is preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, and even more preferably 45 mol% or more, relative to the total amount of all structural units in resin (X).
Structural units that resin (X) may further have include structural unit (a2), structural unit (a3), and structural units derived from other known monomers. In particular, resin (X) is preferably a resin consisting only of structural unit (a4) and/or structural unit (a5), and more preferably a resin consisting only of structural unit (a4).
Each structural unit constituting the resin (X) may be used individually or in combination of two or more types, and these structural units can be produced by known polymerization methods (e.g., radical polymerization) using monomers that induce these structural units. The content of each structural unit in the resin (X) can be adjusted by the amount of monomer used in polymerization.
The weight-average molecular weight of resin (X) is preferably 6,000 or more (more preferably 7,000 or more) and 80,000 or less (more preferably 60,000 or less). The means for measuring the weight-average molecular weight of resin (X) is the same as in the case of resin (A).
If the resist composition contains resin (X), its content is preferably 1 to 60 parts by mass, more preferably 1 to 50 parts by mass, even more preferably 1 to 40 parts by mass, even more preferably 1 to 30 parts by mass, and even more preferably 1 to 8 parts by mass, per 100 parts by mass of resin (A).

レジスト組成物における樹脂(A)の含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、80質量%以上99質量%以下であることが好ましく、90質量%以上99質量%以下がより好ましい。また、樹脂(A)以外の樹脂を含む場合は、樹脂(A)と樹脂(A)以外の樹脂との合計含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、80質量%以上99質量%以下であることが好ましく、90質量%以上99質量%以下がより好ましい。レジスト組成物の固形分及びこれに対する樹脂の含有率は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定することができる。 The content of resin (A) in the resist composition is preferably 80% to 99% by mass, and more preferably 90% to 99% by mass, relative to the solid content of the resist composition. Furthermore, if resins other than resin (A) are included, the total content of resin (A) and the other resins is preferably 80% to 99% by mass, and more preferably 90% to 99% by mass, relative to the solid content of the resist composition. The solid content of the resist composition and the resin content thereto can be measured using known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.

<溶剤(E)>
溶剤(E)の含有率は、レジスト組成物中、通常90質量%以上99.9質量%以下であり、好ましくは92質量%以上99質量%以下であり、より好ましくは94質量%以上99質量%以下である。溶剤(E)の含有率は、例えば液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定できる。
溶剤(E)としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル類;プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチル等のエステル類;アセトン、メチルイソブチルケトン、2-ヘプタノン及びシクロヘキサノン等のケトン類;γ-ブチロラクトン等の環状エステル類;等を挙げることができる。溶剤(E)の1種を単独で使用してもよく、2種以上を使用してもよい。
<Solvent (E)>
The solvent (E) content in the resist composition is usually 90% by mass or more and 99.9% by mass or less, preferably 92% by mass or more and 99% by mass or less, and more preferably 94% by mass or more and 99% by mass or less. The solvent (E) content can be measured by known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.
Examples of solvent (E) include glycol ether esters such as ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate, and propylene glycol monomethyl ether acetate; glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether; esters such as ethyl lactate, butyl acetate, amyl acetate, and ethyl pyruvate; ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, and cyclohexanone; and cyclic esters such as γ-butyrolactone. One of solvents (E) may be used alone, or two or more may be used.

<クエンチャー(C)>
クエンチャー(C)としては、酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩、及び塩基性の含窒素有機化合物が挙げられる。クエンチャー(C)の含有量は、レジスト組成物の固形分量を基準に、0.01~15質量%程度であることが好ましく、0.01~10質量%程度であることがより好ましく、0.1~8質量%程度であることがさらに好ましく、0.1~7質量%程度であることがさらにより好ましい。
<Quencher (C)>
Quencher (C) can be a salt that generates an acid weaker in acidity than the acid generated from the acid generator (B), or a basic nitrogen-containing organic compound. The quencher (C) content is preferably about 0.01 to 15% by mass, more preferably about 0.01 to 10% by mass, even more preferably about 0.1 to 8% by mass, and even more preferably about 0.1 to 7% by mass, based on the solid content of the resist composition.

<酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩>
酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩における酸性度は、酸解離定数(pKa)で示される。酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩は、該塩から発生する酸の酸解離定数が、通常-3<pKaの塩であり、好ましくは-1<pKa<7の塩であり、より好ましくは0<pKa<5の塩である。
酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩としては、下記式で表される塩、特開2015-147926号公報記載の式(D)で表される塩(以下、「弱酸分子内塩(D)」という場合がある。)、並びに特開2012-229206号公報、特開2012-6908号公報、特開2012-72109号公報、特開2011-39502号公報及び特開2011-191745号公報記載の塩が挙げられる。酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩として、好ましくは、酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱いカルボン酸を発生する塩(カルボン酸アニオンを有する塩)であり、より好ましくは、弱酸分子内塩(D)であり、さらに好ましくは、弱酸分子内塩(D)のうち、カルボン酸アニオンが置換されたフェニル基を含むジフェニルヨードニウム塩である。
<A salt that produces an acid that is less acidic than the acid produced by the acid generator.>
The acidity of a salt that generates an acid weaker than the acid generated from the acid generator (B) is expressed by its acid dissociation constant (pKa). A salt that generates an acid weaker than the acid generated from the acid generator (B) is a salt whose acid dissociation constant is usually -3 < pKa, preferably -1 < pKa < 7, and more preferably 0 < pKa < 5.
Examples of salts that generate an acid weaker in acidity than the acid generated from the acid generator (B) include the salt represented by the following formula, the salt represented by formula (D) described in Japanese Patent Publication No. 2015-147926 (hereinafter sometimes referred to as "weak acid intramolecular salt (D)"), and the salts described in Japanese Patent Publication Nos. 2012-229206, 2012-6908, 2012-72109, 2011-39502, and 2011-191745. Preferably, the salt that generates an acid weaker in acidity than the acid generated from the acid generator (B) is a salt that generates a carboxylic acid weaker in acidity than the acid generated from the acid generator (B) (a salt having a carboxylic acid anion), more preferably a weak acid intramolecular salt (D), and even more preferably a diphenyliodonium salt containing a phenyl group substituted with a carboxylic acid anion among the weak acid intramolecular salts (D).

弱酸分子内塩(D)としては、2つのフェニル基が結合したヨードニウムカチオンと、ヨードニウムカチオンに結合した2つのフェニル基のうち少なくとも一方のフェニル基に置換されたカルボン酸アニオンと、を有するジフェニルヨードニウム塩であることが好ましく、以下の式で表される塩が挙げられる。
[式(D)中、
D1及びRD2は、それぞれ独立に、炭素数1~12の炭化水素基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~7のアシル基、炭素数2~7のアシルオキシ基、炭素数2~7のアルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子を表す。
m’及びn’は、それぞれ独立に、0~4のいずれかの整数を表し、m’が2以上の場合、複数のRD1は同一であっても異なってもよく、n’が2以上の場合、複数のRD2は同一であっても異なってもよい。]
D1及びRD2の炭化水素基としては、鎖式炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ノニル基等のアルキル基が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、単環式及び多環式のいずれでもよく、飽和及び不飽和のいずれでもよい。シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロノニル基、シクロドデシル基等のシクロアルキル基、ノルボニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、2-メチルフェニル基、3-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、4-エチルフェニル基、4-プロピルフェニル基、4-イソプロピルフェニル基、4-ブチルフェニル基、4-t-ブチルフェニル基、4-ヘキシルフェニル基、4-シクロヘキシルフェニル基、アントリル基、p-アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、2,6-ジエチルフェニル基、2-メチル-6-エチルフェニル基等のアリール基等が挙げられる。
これらを組み合わせることにより形成される基としては、アルキル-シクロアルキル基、シクロアルキル-アルキル基、アラルキル基(例えば、フェニルメチル基、1-フェニルエチル基、2-フェニルエチル基、1-フェニル-1-プロピル基、1-フェニル-2-プロピル基、2-フェニル-2-プロピル基、3-フェニル-1-プロピル基、4-フェニル-1-ブチル基、5-フェニル-1-ペンチル基、6-フェニル-1-ヘキシル基等)等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。
アシル基としては、アセチル基、プロパノイル基、ベンゾイル基、シクロヘキサンカルボニル基等が挙げられる。
アシルオキシ基としては、上記アシル基にオキシ基(-O-)が結合した基等が挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、上記アルコキシ基にカルボニル基(-CO-)が結合した基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
D1及びRD2は、それぞれ独立に、炭素数1~8のアルキル基、炭素数3~10のシクロアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~4のアシル基、炭素数2~4のアシルオキシ基、炭素数2~4のアルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子が好ましい。
m’及びn’は、それぞれ独立に、0~2のいずれかの整数であることが好ましく、0であることがより好ましい。m’が2以上の場合、複数のRD1は同一であっても異なってもよく、n’が2以上の場合、複数のRD2は同一であっても異なってもよい。
より具体的には、以下の塩が挙げられる。
The weak acid intramolecular salt (D) is preferably a diphenyliodonium salt having an iodonium cation to which two phenyl groups are bonded and a carboxylic acid anion to which at least one of the two phenyl groups bonded to the iodonium cation is substituted, and examples of salts represented by the following formula include:
[In formula (D),
RD1 and RD2 independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a nitro group, or a halogen atom.
m' and n' each independently represent an integer between 0 and 4. If m' is 2 or greater, multiple R D1s may be the same or different. If n' is 2 or greater, multiple R D2s may be the same or different.
Examples of hydrocarbon groups in RD1 and RD2 include chain hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, and groups formed by combining these.
Examples of chain-type hydrocarbon groups include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, and nonyl groups.
The alicyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic, and may be saturated or unsaturated. Examples include cycloalkyl groups such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cyclononyl, and cyclododecyl groups, as well as norbonyl and adamantyl groups.
Examples of aromatic hydrocarbon groups include phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 4-propylphenyl group, 4-isopropylphenyl group, 4-butylphenyl group, 4-t-butylphenyl group, 4-hexylphenyl group, 4-cyclohexylphenyl group, anthyl group, p-adamantylphenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, biphenyl group, phenanthryl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, and other aryl groups.
Groups formed by combining these include alkyl-cycloalkyl groups, cycloalkyl-alkyl groups, and aralkyl groups (for example, phenylmethyl group, 1-phenylethyl group, 2-phenylethyl group, 1-phenyl-1-propyl group, 1-phenyl-2-propyl group, 2-phenyl-2-propyl group, 3-phenyl-1-propyl group, 4-phenyl-1-butyl group, 5-phenyl-1-pentyl group, 6-phenyl-1-hexyl group, etc.).
Examples of alkoxy groups include methoxy groups and ethoxy groups.
Examples of acyl groups include acetyl groups, propanoyl groups, benzoyl groups, and cyclohexanecarbonyl groups.
Examples of acyloxy groups include groups in which an oxy group (-O-) is bonded to the above-mentioned acyl group.
Examples of alkoxycarbonyl groups include groups in which a carbonyl group (-CO-) is bonded to the above-mentioned alkoxy group.
Examples of halogen atoms include fluorine, chlorine, and bromine atoms.
RD1 and RD2 are each preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an acyl group having 2 to 4 carbon atoms, an acyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, a nitro group, or a halogen atom.
m' and n' are each independently preferably integers from 0 to 2, and more preferably 0. If m' is 2 or greater, multiple R D1s may be the same or different, and if n' is 2 or greater, multiple R D2s may be the same or different.
More specifically, the following salts are examples:

塩基性の含窒素有機化合物としては、アミン及びアンモニウム塩が挙げられる。アミンとしては、脂肪族アミン及び芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては、第一級アミン、第二級アミン及び第三級アミンが挙げられる。
アミンとしては、1-ナフチルアミン、2-ナフチルアミン、アニリン、ジイソプロピルアニリン、2-,3-又は4-メチルアニリン、4-ニトロアニリン、N-メチルアニリン、N,N-ジメチルアニリン、ジフェニルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン、トリデシルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジペンチルアミン、メチルジヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、メチルジヘプチルアミン、メチルジオクチルアミン、メチルジノニルアミン、メチルジデシルアミン、エチルジブチルアミン、エチルジペンチルアミン、エチルジヘキシルアミン、エチルジヘプチルアミン、エチルジオクチルアミン、エチルジノニルアミン、エチルジデシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリス〔2-(2-メトキシエトキシ)エチル〕アミン、トリイソプロパノールアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、4,4’-ジアミノ-1,2-ジフェニルエタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジメチルジフェニルメタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジエチルジフェニルメタン、2,2’-メチレンビスアニリン、イミダゾール、4-メチルイミダゾール、ピリジン、4-メチルピリジン、1,2-ジ(2-ピリジル)エタン、1,2-ジ(4-ピリジル)エタン、1,2-ジ(2-ピリジル)エテン、1,2-ジ(4-ピリジル)エテン、1,3-ジ(4-ピリジル)プロパン、1,2-ジ(4-ピリジルオキシ)エタン、ジ(2-ピリジル)ケトン、4,4’-ジピリジルスルフィド、4,4’-ジピリジルジスルフィド、2,2’-ジピリジルアミン、2,2’-ジピコリルアミン、ビピリジン等が挙げられ、好ましくはジイソプロピルアニリン等の芳香族アミンが挙げられ、より好ましくは2,6-ジイソプロピルアニリンが挙げられる。
アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、3-(トリフルオロメチル)フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ-n-ブチルアンモニウムサリチラート及びコリン等が挙げられる。
Basic nitrogen-containing organic compounds include amines and ammonium salts. Amines include aliphatic amines and aromatic amines. Aliphatic amines include primary amines, secondary amines, and tertiary amines.
Examples of amines include 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, aniline, diisopropylaniline, 2-,3- or 4-methylaniline, 4-nitroaniline, N-methylaniline, N,N-dimethylaniline, diphenylamine, hexylamine, heptylamine, octylamine, nonylamine, decylamine, dibutylamine, dipentylamine, dihexylamine, diheptylamine, dioctylamine, dinonylamine, didecylamine, triethylamine, trimethylamine, tripropylamine, and tributylamine. Amine, tripentylamine, trihexylamine, triheptylamine, trioctylamine, trinonylamine, tridecylamine, methyldibutylamine, methyldipentylamine, methyldihexylamine, methyldicyclohexylamine, methyldiheptylamine, methyldioctylamine, methyldinonylamine, methylddecylamine, ethyldibutylamine, ethyldipentylamine, ethyldihexylamine, ethyldiheptylamine, ethyldioctylamine, ethyldinonylamine, ethylddecylamine Mine, dicyclohexylmethylamine, tris[2-(2-methoxyethoxy)ethyl]amine, triisopropanolamine, ethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, 4,4'-diamino-1,2-diphenylethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-diethyldiphenylmethane, 2,2'-methylenebisaniline, imidazole, 4-methylimidazole, pyridine, 4-methylpyridine, 1,2-di(2-pyridyl)ethanol Examples include 1,2-di(4-pyridyl)ethane, 1,2-di(2-pyridyl)ethene, 1,2-di(4-pyridyl)ethene, 1,3-di(4-pyridyl)propane, 1,2-di(4-pyridyloxy)ethane, di(2-pyridyl)ketone, 4,4'-dipyridyl sulfide, 4,4'-dipyridyl disulfide, 2,2'-dipyridylamine, 2,2'-dipicolylamine, bipyridine, and the like. Preferably, aromatic amines such as diisopropylaniline are included, and more preferably, 2,6-diisopropylaniline is included.
Examples of ammonium salts include tetramethylammonium hydroxide, tetraisopropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, tetrahexylammonium hydroxide, tetraoctylammonium hydroxide, phenyltrimethylammonium hydroxide, 3-(trifluoromethyl)phenyltrimethylammonium hydroxide, tetra-n-butylammonium salicylate, and choline.

〈その他の成分〉
本発明のレジスト組成物は、必要に応じて、上述の成分以外の成分(以下「その他の成分(F)」という場合がある。)を含有していてもよい。その他の成分(F)に特に限定はなく、レジスト分野で公知の添加剤、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定剤、染料等を利用できる。
<Other ingredients>
The resist composition of the present invention may optionally contain components other than those described above (hereinafter sometimes referred to as "other components (F)"). There are no particular limitations on other components (F), and additives known in the resist field, such as sensitizers, dissolution inhibitors, surfactants, stabilizers, dyes, etc., can be used.

〈レジスト組成物の調製〉
本発明のレジスト組成物は、塩(I)及び樹脂(A)、並びに、必要に応じて、酸発生剤(B)、樹脂(A)以外の樹脂、溶剤(E)、クエンチャー(C)及びその他の成分(F)を混合することにより調製することができる。混合順は任意であり、特に限定されるものではない。混合する際の温度は、10~40℃から、樹脂等の種類や樹脂等の溶剤(E)に対する溶解度等に応じて適切な温度を選ぶことができる。混合時間は、混合温度に応じて、0.5~24時間の中から適切な時間を選ぶことができる。なお、混合手段も特に制限はなく、攪拌混合等を用いることができる。
各成分を混合した後は、孔径0.003~0.2μm程度のフィルターを用いてろ過することが好ましい。
<Preparation of resist composition>
The resist composition of the present invention can be prepared by mixing a salt (I) and a resin (A), and optionally an acid generator (B), a resin other than resin (A), a solvent (E), a quencher (C), and other components (F). The mixing order is arbitrary and not particularly limited. The mixing temperature can be selected from 10 to 40°C, depending on the type of resin, etc., and the solubility of the resin, etc., in the solvent (E). The mixing time can be selected from 0.5 to 24 hours, depending on the mixing temperature. There are no particular restrictions on the mixing method, and stirring or other methods can be used.
After mixing the components, it is preferable to filter the mixture using a filter with a pore size of approximately 0.003 to 0.2 μm.

〈レジストパターンの製造方法〉
本発明のレジストパターンの製造方法は、
(1)本発明のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程を含む。
レジスト組成物を基板上に塗布するには、スピンコーター等、通常、用いられる装置によって行うことができる。基板としては、シリコンウェハ等の無機基板、表面にレジスト膜が形成された有機基板が挙げられる。レジスト組成物を塗布する前に、基板を洗浄してもよく、基板上に反射防止膜等が形成されていてもよい。
塗布後の組成物を乾燥することにより、溶剤を除去し、組成物層を形成する。乾燥は、例えば、ホットプレート等の加熱装置を用いて溶剤を蒸発させること(いわゆるプリベーク)により行うか、あるいは減圧装置を用いて行う。加熱温度は、50~200℃であることが好ましく、加熱時間は、10~180秒間であることが好ましい。また、減圧乾燥する際の圧力は、1~1.0×105Pa程度であることが好ましい。
得られた組成物層に、通常、露光機を用いて露光する。露光機は、液浸露光機であってもよい。露光光源としては、KrFエキシマレーザ(波長248nm)、ArFエキシマレーザ(波長193nm)、F2エキシマレーザ(波長157nm)のような紫外域のレーザ光を放射するもの、固体レーザ光源(YAG又は半導体レーザ等)からのレーザ光を波長変換して遠紫外域または真空紫外域の高調波レーザ光を放射するもの、電子線や、超紫外光(EUV)を照射するもの等、種々のものを用いることができる。尚、本明細書において、これらの放射線を照射することを総称して「露光」という場合がある。露光の際、通常、求められるパターンに相当するマスクを介して露光が行われる。露光光源が電子線の場合は、マスクを用いずに直接描画により露光してもよい。
露光後の組成物層を、酸不安定基における脱保護反応を促進するために加熱処理(いわゆるポストエキスポジャーベーク)を行う。加熱温度は、通常50~200℃程度、好ましくは70~150℃程度である。加熱後の組成物の表面側にある樹脂の親水性又は疎水性を調整する化学処理(シリル化)を行ってもよい。また、現像を行う前に、露光後の組成物層上に、レジスト組成物の塗布、乾燥、露光、加熱の工程を繰り返し行ってもよい。
加熱後の組成物層を、通常、現像装置を用いて、現像液を利用して現像する。現像方法としては、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法等が挙げられる。現像温度は、例えば、5~60℃であることが好ましく、現像時間は、例えば、5~300秒間であることが好ましい。現像液の種類を以下のとおりに選択することにより、ポジ型レジストパターン又はネガ型レジストパターンを製造できる。
本発明のレジスト組成物からポジ型レジストパターンを製造する場合は、現像液としてアルカリ現像液を用いる。アルカリ現像液は、この分野で用いられる各種のアルカリ性水溶液であればよい。例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや(2-ヒドロキシエチル)トリメチルアンモニウムヒドロキシド(通称コリン)の水溶液等が挙げられる。アルカリ現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。
現像後レジストパターンを超純水で洗浄し、次いで、基板及びパターン上に残った水を除去することが好ましい。
本発明のレジスト組成物からネガ型レジストパターンを製造する場合は、現像液として有機溶剤を含む現像液(以下「有機系現像液」という場合がある)を用いる。
有機系現像液に含まれる有機溶剤としては、2-ヘキサノン、2-ヘプタノン等のケトン溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル溶剤;酢酸ブチル等のエステル溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル溶剤;N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド溶剤;アニソール等の芳香族炭化水素溶剤等が挙げられる。
有機系現像液中、有機溶剤の含有率は、90質量%以上100質量%以下が好ましく、95質量%以上100質量%以下がより好ましく、実質的に有機溶剤のみであることがさらに好ましい。
中でも、有機系現像液としては、酢酸ブチル及び/又は2-ヘプタノンを含む現像液が好ましい。有機系現像液中、酢酸ブチル及び2-ヘプタノンの合計含有率は、50質量%以上100質量%以下が好ましく、90質量%以上100質量%以下がより好ましく、実質的に酢酸ブチル及び/又は2-ヘプタノンのみであることがさらに好ましい。
有機系現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。また、有機系現像液には、微量の水分が含まれていてもよい。
現像の際、有機系現像液とは異なる種類の溶剤に置換することにより、現像を停止してもよい。
現像後のレジストパターンをリンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、レジストパターンを溶解しないものであれば特に制限はなく、一般的な有機溶剤を含む溶液を使用することができ、好ましくはアルコール溶剤又はエステル溶剤である。
洗浄後は、基板及びパターン上に残ったリンス液を除去することが好ましい。
<Method for manufacturing resist patterns>
The method for manufacturing a resist pattern of the present invention is:
(1) A step of applying the resist composition of the present invention onto a substrate,
(2) A step of drying the coated composition to form a composition layer,
(3) Exposure step of the composition layer,
(4) A step of heating the composition layer after exposure, and (5) A step of developing the composition layer after heating.
The resist composition can be applied to a substrate using commonly used equipment such as a spin coater. Examples of substrates include inorganic substrates such as silicon wafers, and organic substrates with a resist film formed on their surface. Before applying the resist composition, the substrate may be cleaned, or an anti-reflective film may be formed on the substrate.
The solvent is removed and a composition layer is formed by drying the coated composition. Drying is performed, for example, by evaporating the solvent using a heating device such as a hot plate (so-called pre-baking), or by using a vacuum device. The heating temperature is preferably 50 to 200°C, and the heating time is preferably 10 to 180 seconds. Furthermore, the pressure during vacuum drying is preferably about 1 to 1.0 × 10⁵ Pa.
The resulting composition layer is typically exposed using an exposure machine. The exposure machine may be an immersion exposure machine. Various types of exposure light sources can be used, including those that emit ultraviolet laser light such as KrF excimer lasers (wavelength 248 nm), ArF excimer lasers (wavelength 193 nm), and F2 excimer lasers (wavelength 157 nm); those that emit far-ultraviolet or vacuum-ultraviolet harmonic laser light by wavelength conversion of laser light from a solid-state laser light source (such as a YAG or semiconductor laser); electron beams; and those that irradiate with ultra-ultraviolet (EUV) light. In this specification, the irradiation of these radiations is sometimes collectively referred to as "exposure." During exposure, exposure is usually performed through a mask corresponding to the desired pattern. If the exposure light source is an electron beam, exposure may be performed by direct drawing without using a mask.
The composition layer after exposure is subjected to heat treatment (so-called post-exposure bake) to promote the deprotection reaction at acid-unstable groups. The heating temperature is usually around 50 to 200°C, preferably around 70 to 150°C. Chemical treatment (silylation) may be performed to adjust the hydrophilicity or hydrophobicity of the resin on the surface side of the composition after heating. Alternatively, before development, the process of coating the resist composition, drying, exposure, and heating may be repeated on the composition layer after exposure.
The heated composition layer is typically developed using a developing device and a developing solution. Development methods include the dip method, paddle method, spray method, and dynamic dispensing method. The development temperature is preferably, for example, 5 to 60°C, and the development time is preferably, for example, 5 to 300 seconds. By selecting the type of developing solution as described below, a positive-type resist pattern or a negative-type resist pattern can be manufactured.
When producing a positive resist pattern from the resist composition of the present invention, an alkaline developer is used as the developer. The alkaline developer can be any alkaline aqueous solution used in this field. For example, aqueous solutions of tetramethylammonium hydroxide or (2-hydroxyethyl)trimethylammonium hydroxide (commonly known as choline) can be used. The alkaline developer may also contain a surfactant.
It is preferable to wash the resist pattern with ultrapure water after development, and then remove any remaining water on the substrate and pattern.
When manufacturing a negative-type resist pattern from the resist composition of the present invention, a developer containing an organic solvent (hereinafter sometimes referred to as "organic developer") is used as the developer.
Examples of organic solvents contained in organic developers include ketone solvents such as 2-hexanone and 2-heptanone; glycol ether ester solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate; ester solvents such as butyl acetate; glycol ether solvents such as propylene glycol monomethyl ether; amide solvents such as N,N-dimethylacetamide; and aromatic hydrocarbon solvents such as anisole.
In the organic developer, the content of the organic solvent is preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 95% by mass or more and 100% by mass or less, and even more preferably substantially composed of only organic solvents.
Among these, organic developers containing butyl acetate and/or 2-heptanone are preferred. The total content of butyl acetate and 2-heptanone in the organic developer is preferably 50% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less, and even more preferably substantially only butyl acetate and/or 2-heptanone.
Organic developers may contain surfactants. Furthermore, organic developers may contain trace amounts of water.
During development, the development process may be stopped by substituting a different type of solvent for the organic developer.
It is preferable to wash the developed resist pattern with a rinsing solution. The rinsing solution is not particularly limited as long as it does not dissolve the resist pattern, and a solution containing a general organic solvent can be used, preferably an alcohol solvent or an ester solvent.
After cleaning, it is preferable to remove any remaining rinse solution from the substrate and patterns.

〈用途〉
本発明のレジスト組成物は、KrFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ArFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子線(EB)露光用のレジスト組成物又はEUV露光用のレジスト組成物、特に電子線(EB)露光用のレジスト組成物又はEUV露光用のレジスト組成物として好適であり、半導体の微細加工に有用である。
<Application>
The resist composition of the present invention is suitable as a resist composition for KrF excimer laser exposure, an ArF excimer laser exposure, an electron beam (EB) exposure, or an EUV exposure, and is particularly suitable as a resist composition for electron beam (EB) exposure or an EUV exposure, and is useful for semiconductor microfabrication.

実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。例中、含有量ないし使用量を表す「%」及び「部」は、特記しないかぎり質量基準である。
重量平均分子量は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーにより求めた値である。なお、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーの分析条件は下記のとおりである。
カラム:TSKgel Multipore HXL-M x 3+guardcolumn(東ソー社製)
溶離液:テトラヒドロフラン
流量:1.0mL/min
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:100μl
分子量標準:標準ポリスチレン(東ソー社製)
化合物の構造は、質量分析(LCはAgilent製1100型、MASSはAgilent製LC/MSD型)を用い、分子イオンピークを測定することで確認した。以下の実施例ではこの分子イオンピークの値を「MASS」で示す。
The present invention will be described in more detail with reference to examples. In the examples, "%" and "parts" representing the content or amount used are based on mass unless otherwise specified.
The weight-average molecular weight was determined by gel permulation chromatography. The analytical conditions for gel permulation chromatography are as follows:
Column: TSKgel Multipore HXL-M x 3 + guard column (manufactured by Tosoh Corporation)
Eluent: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL/min
Detector: RI detector; Column temperature: 40°C
Injection volume: 100μl
Molecular weight standard: Standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation)
The structure of the compound was confirmed by measuring the molecular ion peak using mass spectrometry (LC: Agilent 1100, MASS: Agilent LC/MSD). In the following examples, the value of this molecular ion peak is indicated as "MASS".

実施例1:式(I-1)で表される塩の合成
式(I-1-a)で表される化合物2.48部及びクロロホルム40部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-b)で表される化合物1.62部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-c)で表される塩7.01部を添加し、さらに、50℃で3時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、5%シュウ酸水溶液20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、濃縮残渣にtert-ブチルメチルエーテル30部を加えて攪拌した後、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I-1)で表される塩8.19部を得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MS(ESI(-)Spectrum):M 667.0
Example 1: Synthesis of the salt represented by formula (I-1)
2.48 parts of the compound represented by formula (I-1-a) and 40 parts of chloroform were mixed and stirred at 23°C for 30 minutes. 1.62 parts of the compound represented by formula (I-1-b) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 2 hours. 7.01 parts of the salt represented by formula (I-1-c) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 3 hours, after which it was cooled to 23°C. 20 parts of 5% aqueous oxalic acid solution were added to the resulting mixture and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. 20 parts of deionized water were added to the obtained organic layer and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. This washing procedure was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and 30 parts of tert-butyl methyl ether were added to the concentrated residue and stirred, after which the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 8.19 parts of the salt represented by formula (I-1).
MS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MS (ESI (-) Spectrum): M - 667.0

実施例2:式(I-3)で表される塩の合成
式(I-3-a)で表される化合物5.00部及びクロロホルム40部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-b)で表される化合物1.62部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-c)で表される塩7.01部を添加し、さらに、50℃で3時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、5%シュウ酸水溶液20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、濃縮残渣にtert-ブチルメチルエーテル30部を加えて攪拌した後、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I-3)で表される塩10.22部を得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MS(ESI(-)Spectrum):M 918.8
Example 2: Synthesis of the salt represented by formula (I-3)
5.00 parts of the compound represented by formula (I-3-a) and 40 parts of chloroform were mixed and stirred at 23°C for 30 minutes. 1.62 parts of the compound represented by formula (I-1-b) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 2 hours. 7.01 parts of the salt represented by formula (I-1-c) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 3 hours, then cooled to 23°C. 20 parts of 5% aqueous oxalic acid solution were added to the resulting mixture and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. 20 parts of deionized water were added to the obtained organic layer and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. This washing procedure was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and 30 parts of tert-butyl methyl ether were added to the concentrated residue and stirred, after which the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 10.22 parts of the salt represented by formula (I-3).
MS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MS (ESI(-)Spectrum): M - 918.8

実施例3:式(I-6)で表される塩の合成
式(I-3-a)で表される化合物5.00部及びクロロホルム40部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-b)で表される化合物1.62部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-6-c)で表される塩6.95部を添加し、さらに、50℃で3時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、5%シュウ酸水溶液20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、濃縮残渣にtert-ブチルメチルエーテル30部を加えて攪拌した後、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I-6)で表される塩9.99部を得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MS(ESI(-)Spectrum):M 912.8
Example 3: Synthesis of the salt represented by formula (I-6)
5.00 parts of the compound represented by formula (I-3-a) and 40 parts of chloroform were mixed and stirred at 23°C for 30 minutes. 1.62 parts of the compound represented by formula (I-1-b) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 2 hours. 6.95 parts of the salt represented by formula (I-6-c) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 3 hours, after which it was cooled to 23°C. 20 parts of 5% aqueous oxalic acid solution were added to the resulting mixture and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. 20 parts of deionized water were added to the obtained organic layer and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and 30 parts of tert-butyl methyl ether were added to the concentrated residue and stirred, after which the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 9.99 parts of the salt represented by formula (I-6).
MS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MS (ESI(-)Spectrum): M - 912.8

実施例4:式(I-11)で表される塩の合成
式(I-1-a)で表される化合物2.48部及びクロロホルム40部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-b)で表される化合物1.62部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-11-c)で表される塩7.45部を添加し、さらに、50℃で3時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、5%シュウ酸水溶液20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、濃縮残渣にtert-ブチルメチルエーテル30部を加えて攪拌した後、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I-11)で表される塩7.92部を得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MS(ESI(-)Spectrum):M 711.0
Example 4: Synthesis of the salt represented by formula (I-11)
2.48 parts of the compound represented by formula (I-1-a) and 40 parts of chloroform were mixed and stirred at 23°C for 30 minutes. 1.62 parts of the compound represented by formula (I-1-b) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 2 hours. 7.45 parts of the salt represented by formula (I-11-c) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 3 hours, then cooled to 23°C. 20 parts of 5% aqueous oxalic acid solution were added to the resulting mixture and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. 20 parts of deionized water were added to the obtained organic layer and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. This washing procedure was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and 30 parts of tert-butyl methyl ether were added to the concentrated residue and stirred, after which the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 7.92 parts of the salt represented by formula (I-11).
MS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MS (ESI(-)Spectrum): M - 711.0

実施例5:式(I-26)で表される塩の合成
式(I-3-a)で表される化合物0.50部及びクロロホルム20部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-b)で表される化合物0.16部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-26-c)で表される塩0.78部を添加し、さらに、50℃で3時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、5%シュウ酸水溶液10部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水10部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、濃縮残渣にtert-ブチルメチルエーテル20部を加えて攪拌した後、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I-26)で表される塩0.91部を得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MS(ESI(-)Spectrum):M 1000.8
Example 5: Synthesis of the salt represented by formula (I-26)
0.50 parts of the compound represented by formula (I-3-a) and 20 parts of chloroform were mixed and stirred at 23°C for 30 minutes. 0.16 parts of the compound represented by formula (I-1-b) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 2 hours. 0.78 parts of the salt represented by formula (I-26-c) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 3 hours, after which it was cooled to 23°C. 10 parts of 5% aqueous oxalic acid solution were added to the resulting mixture and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. 10 parts of deionized water were added to the obtained organic layer and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. This washing operation was repeated five times. After concentrating the obtained organic layer, 20 parts of tert-butyl methyl ether were added to the concentrated residue and stirred, and the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 0.91 parts of the salt represented by formula (I-26).
MS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MS (ESI (-) Spectrum): M - 1000.8

実施例6:式(I-28)で表される塩の合成
式(I-28-a)で表される化合物0.47部及びクロロホルム20部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-b)で表される化合物0.16部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-26-c)で表される塩0.78部を添加し、さらに、50℃で3時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、5%シュウ酸水溶液10部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水10部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、濃縮残渣にtert-ブチルメチルエーテル20部を加えて攪拌した後、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I-28)で表される塩0.65部を得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MS(ESI(-)Spectrum):M 1016.8
Example 6: Synthesis of the salt represented by formula (I-28)
0.47 parts of the compound represented by formula (I-28-a) and 20 parts of chloroform were mixed and stirred at 23°C for 30 minutes. 0.16 parts of the compound represented by formula (I-1-b) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 2 hours. 0.78 parts of the salt represented by formula (I-26-c) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 3 hours, after which it was cooled to 23°C. 10 parts of 5% aqueous oxalic acid solution were added to the resulting mixture and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. 10 parts of deionized water were added to the obtained organic layer and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. This washing operation was repeated five times. After concentrating the obtained organic layer, 20 parts of tert-butyl methyl ether were added to the concentrated residue and stirred, and the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 0.65 parts of the salt represented by formula (I-28).
MS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MS (ESI(-)Spectrum): M - 1016.8

実施例7:式(I-134)で表される塩の合成
式(I-3-a)で表される化合物0.50部及びクロロホルム20部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-b)で表される化合物0.16部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-134-c)で表される塩0.70部を添加し、さらに、50℃で3時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、5%シュウ酸水溶液10部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水10部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、濃縮残渣にtert-ブチルメチルエーテル20部を加えて攪拌した後、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I-134)で表される塩0.91部を得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M 261.1
MS(ESI(-)Spectrum):M 1000.8
Example 7: Synthesis of the salt represented by formula (I-134)
0.50 parts of the compound represented by formula (I-3-a) and 20 parts of chloroform were mixed and stirred at 23°C for 30 minutes. 0.16 parts of the compound represented by formula (I-1-b) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 2 hours. 0.70 parts of the salt represented by formula (I-134-c) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 3 hours, after which it was cooled to 23°C. 10 parts of 5% aqueous oxalic acid solution were added to the resulting mixture and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. 10 parts of deionized water were added to the obtained organic layer and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. This washing operation was repeated five times. After concentrating the obtained organic layer, 20 parts of tert-butyl methyl ether were added to the concentrated residue and stirred, and the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 0.91 parts of the salt represented by formula (I-134).
MS (ESI (+) Spectrum): M + 261.1
MS (ESI (-) Spectrum): M - 1000.8

実施例8:式(I-460)で表される塩の合成
式(I-28-a)で表される化合物0.47部及びクロロホルム20部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-b)で表される化合物0.16部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-460-c)で表される塩0.91部を添加し、さらに、50℃で3時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、5%シュウ酸水溶液10部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水10部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、濃縮残渣にtert-ブチルメチルエーテル20部を加えて攪拌した後、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I-460)で表される塩0.79部を得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M 393.1
MS(ESI(-)Spectrum):M 1016.8
Example 8: Synthesis of the salt represented by formula (I-460)
0.47 parts of the compound represented by formula (I-28-a) and 20 parts of chloroform were mixed and stirred at 23°C for 30 minutes. 0.16 parts of the compound represented by formula (I-1-b) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 2 hours. 0.91 parts of the salt represented by formula (I-460-c) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 3 hours, after which it was cooled to 23°C. 10 parts of 5% aqueous oxalic acid solution were added to the resulting mixture and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. 10 parts of deionized water were added to the obtained organic layer and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. This washing operation was repeated five times. After concentrating the obtained organic layer, 20 parts of tert-butyl methyl ether were added to the concentrated residue and stirred, and the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 0.79 parts of the salt represented by formula (I-460).
MS (ESI (+) Spectrum): M + 393.1
MS (ESI(-)Spectrum): M - 1016.8

実施例9:式(I-610)で表される塩の合成
式(I-610-c)で表される塩1.28部及びジメチルホルムアミド30部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、炭酸カリウム0.08部及びヨウ化カリウム0.03部を添加し、75℃まで昇温した。得られた混合物に、式(I-610-a)で表される化合物0.40部を添加し、75℃で5時間撹拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、クロロホルム50部及び5%シュウ酸水溶液20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水20部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、濃縮残渣にtert-ブチルメチルエーテル30部を加えて攪拌した後、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I-610)で表される塩1.34部を得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M 525.0
MS(ESI(-)Spectrum):M 691.0
Example 9: Synthesis of the salt represented by formula (I-610)
1.28 parts of the salt represented by formula (I-610-c) and 30 parts of dimethylformamide were mixed and stirred at 23°C for 30 minutes. Then, 0.08 parts of potassium carbonate and 0.03 parts of potassium iodide were added, and the temperature was raised to 75°C. 0.40 parts of the compound represented by formula (I-610-a) were added to the resulting mixture and stirred at 75°C for 5 hours, then cooled to 23°C. 50 parts of chloroform and 20 parts of 5% aqueous oxalic acid were added to the resulting mixture and stirred at 23°C for 30 minutes. The organic layer was then separated by liquid-liquid extraction. 20 parts of deionized water were added to the obtained organic layer and stirred at 23°C for 30 minutes. The organic layer was then separated by liquid-liquid extraction. This washing procedure was repeated five times. After concentrating the obtained organic layer, 30 parts of tert-butyl methyl ether were added to the concentrated residue and stirred, and the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 1.34 parts of the salt represented by formula (I-610).
MS (ESI (+) Spectrum): M + 525.0
MS (ESI(-)Spectrum): M - 691.0

実施例10:式(I-36)で表される塩の合成
式(I-36-a)で表される化合物0.16部及びクロロホルム20部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-b)で表される化合物0.16部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-c)で表される塩0.70部を添加し、さらに、50℃で3時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、5%シュウ酸水溶液20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、濃縮残渣にtert-ブチルメチルエーテル30部を加えて攪拌した後、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I-36)で表される塩0.35部を得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MS(ESI(-)Spectrum):M 621.0
Example 10: Synthesis of the salt represented by formula (I-36)
0.16 parts of the compound represented by formula (I-36-a) and 20 parts of chloroform were mixed and stirred at 23°C for 30 minutes. 0.16 parts of the compound represented by formula (I-1-b) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 2 hours. 0.70 parts of the salt represented by formula (I-1-c) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 3 hours, after which it was cooled to 23°C. 20 parts of 5% aqueous oxalic acid solution were added to the resulting mixture and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. 20 parts of deionized water were added to the obtained organic layer and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. This washing operation was repeated five times. After concentrating the obtained organic layer, 30 parts of tert-butyl methyl ether were added to the concentrated residue and stirred, and the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 0.35 parts of the salt represented by formula (I-36).
MS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MS (ESI(-)Spectrum): M - 621.0

実施例11:式(I-954)で表される塩の合成
式(I-610-c)で表される塩1.28部及びジメチルホルムアミド30部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、炭酸カリウム0.08部及びヨウ化カリウム0.03部を添加し、75℃まで昇温した。得られた混合物に、式(I-954-a)で表される化合物0.59部を添加し、75℃で5時間撹拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、クロロホルム50部及び5%シュウ酸水溶液20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水20部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、濃縮残渣にtert-ブチルメチルエーテル30部を加えて攪拌した後、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I-954)で表される塩1.46部を得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M 525.0
MS(ESI(-)Spectrum):M 832.9
Example 11: Synthesis of the salt represented by formula (I-954)
1.28 parts of the salt represented by formula (I-610-c) and 30 parts of dimethylformamide were mixed and stirred at 23°C for 30 minutes. Then, 0.08 parts of potassium carbonate and 0.03 parts of potassium iodide were added, and the temperature was raised to 75°C. 0.59 parts of the compound represented by formula (I-954-a) were added to the resulting mixture and stirred at 75°C for 5 hours, then cooled to 23°C. 50 parts of chloroform and 20 parts of 5% aqueous oxalic acid solution were added to the resulting mixture and stirred at 23°C for 30 minutes. The organic layer was then separated by liquid-liquid extraction. 20 parts of deionized water were added to the obtained organic layer and stirred at 23°C for 30 minutes. The organic layer was then separated by liquid-liquid extraction. This washing procedure was repeated five times. After concentrating the obtained organic layer, 30 parts of tert-butyl methyl ether were added to the concentrated residue and stirred, and the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 1.46 parts of the salt represented by formula (I-954).
MS (ESI (+) Spectrum): M + 525.0
MS (ESI (-) Spectrum): M - 832.9

実施例12:式(I-958)で表される塩の合成
式(I-610-c)で表される塩1.28部及びジメチルホルムアミド30部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、炭酸カリウム0.08部及びヨウ化カリウム0.03部を添加し、75℃まで昇温した。得られた混合物に、式(I-958-a)で表される化合物0.61部を添加し、75℃で5時間撹拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、クロロホルム50部及び5%シュウ酸水溶液20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水20部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、濃縮残渣にtert-ブチルメチルエーテル30部を加えて攪拌した後、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I-958)で表される塩1.53部を得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M 525.0
MS(ESI(-)Spectrum):M 846.9
Example 12: Synthesis of the salt represented by formula (I-958)
1.28 parts of the salt represented by formula (I-610-c) and 30 parts of dimethylformamide were mixed and stirred at 23°C for 30 minutes. Then, 0.08 parts of potassium carbonate and 0.03 parts of potassium iodide were added, and the temperature was raised to 75°C. 0.61 parts of the compound represented by formula (I-958-a) were added to the resulting mixture and stirred at 75°C for 5 hours, then cooled to 23°C. 50 parts of chloroform and 20 parts of 5% aqueous oxalic acid were added to the resulting mixture and stirred at 23°C for 30 minutes. The organic layer was then separated by liquid-liquid extraction. 20 parts of deionized water were added to the obtained organic layer and stirred at 23°C for 30 minutes. The organic layer was then separated by liquid-liquid extraction. This washing procedure was repeated five times. After concentrating the obtained organic layer, 30 parts of tert-butyl methyl ether were added to the concentrated residue and stirred, and the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 1.53 parts of the salt represented by formula (I-958).
MS (ESI (+) Spectrum): M + 525.0
MS (ESI (-) Spectrum): M - 846.9

実施例13:式(I-956)で表される塩の合成
式(I-956-a)で表される化合物0.36部及びクロロホルム20部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-1-b)で表される化合物0.16部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた混合溶液に、式(I-610-c)で表される塩0.96部を添加し、さらに、50℃で3時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、5%シュウ酸水溶液10部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水10部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、濃縮残渣にtert-ブチルメチルエーテル20部を加えて攪拌した後、上澄液を除去した。得られた残渣をアセトニトリルに溶解し、濃縮することにより、式(I-956)で表される塩1.01部を得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M 525.0
MS(ESI(-)Spectrum):M 818.9
Example 13: Synthesis of the salt represented by formula (I-956)
0.36 parts of the compound represented by formula (I-956-a) and 20 parts of chloroform were mixed and stirred at 23°C for 30 minutes. 0.16 parts of the compound represented by formula (I-1-b) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 2 hours. 0.96 parts of the salt represented by formula (I-610-c) were added to the resulting mixed solution and stirred at 50°C for 3 hours, after which it was cooled to 23°C. 10 parts of 5% aqueous oxalic acid solution were added to the resulting mixture and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. 10 parts of deionized water were added to the obtained organic layer and stirred at 23°C for 30 minutes, after which the organic layer was separated. This washing operation was repeated five times. After concentrating the obtained organic layer, 20 parts of tert-butyl methyl ether were added to the concentrated residue and stirred, and the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in acetonitrile and concentrated to obtain 1.01 parts of the salt represented by formula (I-956).
MS (ESI (+) Spectrum): M + 525.0
MS (ESI(-)Spectrum): M - 818.9

樹脂の合成
樹脂(A)の合成に使用した化合物(モノマー)を下記に示す。以下、これらの化合物をその式番号に応じて、「モノマー(a1-1-3)」等という。
Resin Synthesis The compounds (monomers) used in the synthesis of resin (A) are shown below. Hereafter, these compounds will be referred to as "monomer (a1-1-3)" etc., according to their formula numbers.

合成例1〔樹脂A1の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1-4-2)、モノマー(a1-1-3)及びモノマー(a1-2-6)を用い、そのモル比〔モノマー(a1-4-2):モノマー(a1-1-3):モノマー(a1-2-6)〕が、38:24:38の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、7mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、全モノマーの合計質量に対して、2.0質量倍のp-トルエンスルホン酸水溶液(2.5重量%)を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn-ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.3×10である樹脂A1(共重合体)を収率78%で得た。この樹脂A1は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 1 [Synthesis of Resin A1]
Monomers (a1-4-2), (a1-1-3), and (a1-2-6) were used as monomers, and they were mixed in a molar ratio [monomer (a1-4-2): monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-6)] of 38:24:38. Further, methyl isobutyl ketone was added to this monomer mixture in an amount of 1.5 times the total mass of all monomers. To the resulting mixture, azobisisobutyronitrile was added as an initiator in an amount of 7 mol% of the total number of moles of all monomers, and polymerization was carried out by heating at 85°C for about 5 hours. Subsequently, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid (2.5 wt%) in an amount of 2.0 times the total mass of all monomers was added to the polymerization reaction solution, and after stirring for 6 hours, the solution was separated. The resulting organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate the resin, which was then filtered and recovered to obtain resin A1 (polymer) with a weight-average molecular weight of approximately 5.3 × 10³ in yield of 78%. This resin A1 has the following structural units.

合成例2〔樹脂A2の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1-4-2)及びモノマー(a1-2-6)を用い、そのモル比〔モノマー(a1-4-2):モノマー(a1-2-6)〕が、38:62の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、7mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、全モノマーの合計質量に対して、2.0質量倍のp-トルエンスルホン酸水溶液(2.5重量%)を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn-ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.4×10である樹脂A2(共重合体)を収率89%で得た。この樹脂A2は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 2 [Synthesis of Resin A2]
Monomers (a1-4-2) and (a1-2-6) were used as monomers, and they were mixed in a molar ratio [monomer (a1-4-2):monomer (a1-2-6)] of 38:62. Furthermore, methyl isobutyl ketone was added to this monomer mixture in an amount of 1.5 times the total mass of all monomers. Azobisisobutyronitrile was added to the resulting mixture as an initiator at a concentration of 7 mol% relative to the total moles of all monomers, and polymerization was carried out by heating at 85°C for approximately 5 hours. Subsequently, 2.0 times the mass of p-toluenesulfonic acid aqueous solution (2.5 wt%) relative to the total mass of all monomers was added to the polymerization reaction solution, stirred for 6 hours, and then separated. The resulting organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate the resin, which was then filtered and recovered to obtain resin A2 (polymer) with a weight-average molecular weight of approximately 5.4 × 10³ in yield of 89%. This resin A2 has the following structural units.

合成例3〔樹脂A3の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1-1-3)、モノマー(a1-2-6)、モノマー(a2-1-3)、モノマー(a3-4-2)及びモノマー(a1-4-2)を用い、そのモル比〔モノマー(a1-1-3):モノマー(a1-2-6):モノマー(a2-1-3):モノマー(a3-4-2):モノマー(a1-4-2)〕が、20:35:3:15:27の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、1.2mol%及び3.6mol%添加し、これらを73℃で約5時間加熱した。その後、重合反応液に、全モノマーの合計質量に対して、2.0質量倍のp-トルエンスルホン酸水溶液(2.5重量%)を加え、12時間攪拌した後、分液した。回収された有機層を、大量のn-ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.3×10である樹脂A3を収率63%で得た。この樹脂A3は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 3 [Synthesis of Resin A3]
Monomers (a1-1-3), (a1-2-6), (a2-1-3), (a3-4-2), and (a1-4-2) were used as monomers, and they were mixed in a molar ratio [monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-6): monomer (a2-1-3): monomer (a3-4-2): monomer (a1-4-2)] of 20:35:3:15:27. Furthermore, methyl isobutyl ketone was added to this monomer mixture in an amount equal to 1.5 times the total mass of all monomers. To the resulting mixture, azobisisobutyronitrile and azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators at concentrations of 1.2 mol% and 3.6 mol%, respectively, relative to the total amount of monomers, and these mixtures were heated at 73°C for approximately 5 hours. Subsequently, 2.5% by weight of p-toluenesulfonic acid aqueous solution was added to the polymerization reaction solution in an amount equal to 2.0 times the total mass of all monomers, and after stirring for 12 hours, the mixture was separated. The recovered organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate the resin, which was then filtered and recovered to obtain resin A3 with a weight-average molecular weight of approximately 5.3 × 10³ in yield of 63%. This resin A3 has the following structural units.

合成例4〔樹脂A4の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1-1-3)、モノマー(a1-2-6)、モノマー(a2-1-3)、モノマー(a3-4-2)及びモノマー(a1-4-13)を用い、そのモル比〔モノマー(a1-1-3):モノマー(a1-2-6):モノマー(a2-1-3):モノマー(a3-4-2):モノマー(a1-4-13)〕が、20:35:3:15:27の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、1.2mol%及び3.6mol%添加し、これらを73℃で約5時間加熱した。その後、重合反応液に、全モノマーの合計質量に対して、2.0質量倍のp-トルエンスルホン酸水溶液(2.5重量%)を加え、12時間攪拌した後、分液した。回収された有機層を、大量のn-ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.1×10である樹脂A4を収率61%で得た。この樹脂A4は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 4 [Synthesis of Resin A4]
Monomers (a1-1-3), (a1-2-6), (a2-1-3), (a3-4-2), and (a1-4-13) were used as monomers, and they were mixed in a molar ratio [monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-6): monomer (a2-1-3): monomer (a3-4-2): monomer (a1-4-13)] of 20:35:3:15:27. Furthermore, methyl isobutyl ketone was added to this monomer mixture in an amount equal to 1.5 times the total mass of all monomers. To the resulting mixture, azobisisobutyronitrile and azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators at concentrations of 1.2 mol% and 3.6 mol%, respectively, relative to the total amount of monomers, and these mixtures were heated at 73°C for approximately 5 hours. Subsequently, 2.5% by weight of p-toluenesulfonic acid aqueous solution was added to the polymerization reaction solution in an amount equal to 2.0 times the total mass of all monomers, and after stirring for 12 hours, the mixture was separated. The recovered organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate the resin, which was then filtered and recovered to obtain resin A4 with a weight-average molecular weight of approximately 5.1 × 10³ in yield of 61%. This resin A4 has the following structural units.

<レジスト組成物の調製>
表2に示すように、以下の各成分を混合し、得られた混合物を孔径0.2μmのフッ素樹脂製フィルターで濾過することにより、レジスト組成物を調製した。
<Preparation of the resist composition>
As shown in Table 2, the following components were mixed, and the resulting mixture was filtered through a fluororesin filter with a pore size of 0.2 μm to prepare a resist composition.

<樹脂>
A1~A4:樹脂A1~樹脂A4
<塩(I)>
I-1:式(I-1)で表される塩
I-3:式(I-3)で表される塩
I-6:式(I-6)で表される塩
I-11:式(I-11)で表される塩
I-26:式(I-26)で表される塩
I-28:式(I-28)で表される塩
I-36:式(I-36)で表される塩
I-134:式(I-134)で表される塩
I-460:式(I-460)で表される塩
I-610:式(I-610)で表される塩
I-954:式(I-954)で表される塩
I-956:式(I-956)で表される塩
I-958:式(I-958)で表される塩
<酸発生剤>
IX-1
IX-2
IX-3
IX-4
<クエンチャー(C)>
C1:特開2011-39502号公報記載の方法で合成
<溶剤>
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 400部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 100部
γ-ブチロラクトン 5部
<Resin>
A1 to A4: Resin A1 to Resin A4
<Salt (I)>
I-1: Salt represented by formula (I-1) I-3: Salt represented by formula (I-3) I-6: Salt represented by formula (I-6) I-11: Salt represented by formula (I-11) I-26: Salt represented by formula (I-26) I-28: Salt represented by formula (I-28) I-36: Salt represented by formula (I-36) I-134: Salt represented by formula (I-134) I-460: Salt represented by formula (I-460) I-610: Salt represented by formula (I-610) I-954: Salt represented by formula (I-954) I-956: Salt represented by formula (I-956) I-958: Salt represented by formula (I-958) <Acid Generator>
IX-1
IX-2
IX-3
IX-4
<Quencher (C)>
C1: Synthesized by the method described in Japanese Patent Publication No. 2011-39502
<Solvent>
Propylene glycol monomethyl ether acetate 400 parts Propylene glycol monomethyl ether 100 parts γ-butyrolactone 5 parts

(レジスト組成物の電子線露光評価)
6インチのシリコンウェハを、ダイレクトホットプレート上で、ヘキサメチルジシラザンを用いて90℃で60秒処理した。このシリコンウェハに、レジスト組成物を、組成物層の膜厚が0.04μmとなるようにスピンコートした。その後、ダイレクトホットプレート上で、表2の「PB」欄に示す温度で60秒間プリベークして組成物層を形成した。ウェハ上に形成された組成物層に、電子線描画機〔(株)エリオニクス製の「ELS-F125 125keV」〕を用い、露光量を段階的に変化させてコンタクトホールパターン(ホールピッチ40nm/ホール径17nm)を直接描画した。
露光後、ホットプレート上にて表2の「PEB」欄に示す温度で60秒間ポストエキスポジャーベークを行い、さらに2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で60秒間のパドル現像を行うことにより、レジストパターンを得た。
(Evaluation of resist compositions by electron beam exposure)
A 6-inch silicon wafer was treated on a direct hot plate with hexamethyldisilazane at 90°C for 60 seconds. A resist composition was spin-coated onto this silicon wafer to a thickness of 0.04 μm. Subsequently, the composition layer was formed by pre-baking on a direct hot plate at the temperature shown in the "PB" column of Table 2 for 60 seconds. Contact hole patterns (hole pitch 40 nm / hole diameter 17 nm) were directly drawn onto the composition layer formed on the wafer using an electron beam lithography machine [ELS-F125 125 keV manufactured by Elionix Co., Ltd.] by gradually changing the exposure amount.
After exposure, post-exposure baking was performed on a hot plate at the temperature shown in the "PEB" column of Table 2 for 60 seconds, and then paddle development was performed with a 2.38% by mass tetramethylammonium hydroxide aqueous solution for 60 seconds to obtain the resist pattern.

現像後に得られたレジストパターンにおいて、形成したホール径が17nmとなる露光量を実効感度とした。 The effective sensitivity was defined as the exposure level at which the hole diameter formed in the resist pattern obtained after development was 17 nm.

<CD均一性(CDU)評価>
実効感度において、ホール径17nmで形成したパターンのホール径を、一つのホールにつき24回測定し、その平均値を一つのホールの平均ホール径とした。同一ウェハ内の、ホール径17nmで形成したパターンの平均ホール径を400箇所測定したものを母集団として標準偏差を求めた。
その結果を表3に示す。表内の数値は標準偏差(nm)を示す。

比較組成物1~4と比較して、組成物1~11、23~25での標準偏差が小さく、CD均一性(CDU)評価が良好であった。
<CD Uniformity (CDU) Evaluation>
For effective sensitivity, the hole diameter of a pattern formed with a hole diameter of 17 nm was measured 24 times for each hole, and the average value was taken as the average hole diameter for that hole. The standard deviation was calculated from a population of 400 measurements of the average hole diameter of a pattern formed with a hole diameter of 17 nm on the same wafer.
The results are shown in Table 3. The values in the table indicate the standard deviation (nm).

Compared to comparative compositions 1-4, compositions 1-11 and 23-25 showed smaller standard deviations and better CD uniformity (CDU) evaluation.

(レジスト組成物の電子線露光評価)
6インチのシリコンウェハを、ダイレクトホットプレート上で、ヘキサメチルジシラザンを用いて90℃で60秒処理した。このシリコンウェハに、レジスト組成物を、組成物層の膜厚が0.04μmとなるようにスピンコートした。その後、ダイレクトホットプレート上で、表2の「PB」欄に示す温度で60秒間プリベークして組成物層を形成した。ウェハ上に形成された組成物層に、電子線描画機〔(株)エリオニクス製の「ELS-F125 125keV」〕を用い、露光量を段階的に変化させてコンタクトホールパターン(ホールピッチ40nm/ホール径17nm)を直接描画した。
露光後、ホットプレート上にて表2の「PEB」欄に示す温度で60秒間ポストエキスポジャーベークを行った。次いで、このシリコンウェハ上の組成物層を、現像液として酢酸ブチル(東京化成工業(株)製)を用いて、23℃で20秒間ダイナミックディスペンス法によって現像を行うことにより、レジストパターンを得た。
(Evaluation of resist compositions by electron beam exposure)
A 6-inch silicon wafer was treated on a direct hot plate with hexamethyldisilazane at 90°C for 60 seconds. A resist composition was spin-coated onto this silicon wafer to a thickness of 0.04 μm. Subsequently, the composition layer was formed by pre-baking on a direct hot plate at the temperature shown in the "PB" column of Table 2 for 60 seconds. Contact hole patterns (hole pitch 40 nm / hole diameter 17 nm) were directly drawn onto the composition layer formed on the wafer using an electron beam lithography machine [ELS-F125 125 keV manufactured by Elionix Co., Ltd.] by gradually changing the exposure amount.
After exposure, post-exposure baking was performed on a hot plate at the temperature shown in the "PEB" column of Table 2 for 60 seconds. Next, the composition layer on this silicon wafer was developed using butyl acetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) as the developer by dynamic dispensing at 23°C for 20 seconds to obtain a resist pattern.

現像後に得られたレジストパターンにおいて、形成したホール径が17nmとなる露光量を実効感度とした。 The effective sensitivity was defined as the exposure level at which the hole diameter formed in the resist pattern obtained after development was 17 nm.

<CD均一性(CDU)評価>
実効感度において、ホール径17nmで形成したパターンのホール径を、一つのホールにつき24回測定し、その平均値を一つのホールの平均ホール径とした。同一ウェハ内の、ホール径17nmで形成したパターンの平均ホール径を400箇所測定したものを母集団として標準偏差を求めた。
その結果を表4に示す。表内の数値は標準偏差(nm)を示す。

比較組成物5~8と比較して、組成物12~22、26~28での標準偏差が小さく、CD均一性(CDU)評価が良好であった。
<CD Uniformity (CDU) Evaluation>
For effective sensitivity, the hole diameter of a pattern formed with a hole diameter of 17 nm was measured 24 times for each hole, and the average value was taken as the average hole diameter for that hole. The standard deviation was calculated from a population of 400 measurements of the average hole diameter of a pattern formed with a hole diameter of 17 nm on the same wafer.
The results are shown in Table 4. The values in the table indicate the standard deviation (nm).

Compared to comparative compositions 5-8, compositions 12-22 and 26-28 showed smaller standard deviations and better CD uniformity (CDU) evaluation.

本発明の塩を含有するレジスト組成物は、CD均一性(CDU)が良好であり、半導体の微細加工に有用である。 The resist composition containing the salt of the present invention exhibits good CD uniformity (CDU) and is useful for semiconductor microfabrication.

Claims (15)

式(I)で表される塩を含む酸発生剤。
[式(I)中、
及びQは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。
11及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。
zは、0~6のいずれかの整数を表し、zが2以上のとき、複数のR11及びR12は互いに同一であっても異なってもよい。
1は、*-CO-O-、*-O-CO-、*-O-CO-O-又は*-O-を表し、*は、C(R11)(R12)もしくはC(Q)(Q)との結合部位を表す。
1は、単結合又は置換基を有してもよい炭素数1~60の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-SO-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
及びXは、それぞれ独立に、-O-又は-S-を表す。
環W1は、置換基を有してもよい炭素数3~36の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。
環Wは、置換基を有してもよい炭素数3~36の環状炭化水素基を表し、該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。
及びRは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~12のハロアルキル基又は炭素数1~12のアルキル基を表し、該ハロアルキル基及び該アルキル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。
は、*-O-R10、*-O-CO-R10、*-CO-O-R10、*-O-CO-O-R10、*-O-L10-CO-O-R10又は*-O-L10-O-CO-R10を表し、*は、環Wとの結合部位を表す。
10は、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。
10は、ヨウ素原子あるいは炭素数1~12のヨウ素化アルキル基を有する炭素数1~36の炭化水素基、又は、フッ素原子あるいは炭素数1~12のフッ素化アルキル基を有する炭素数3~36の環状炭化水素基を表し、該炭化水素基及び該環状炭化水素基は、置換基を有してもよく、該炭化水素基及び該環状炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。
m1は、0~6のいずれかの整数を表し、m1が2以上のとき、複数のRは互いに同一であっても異なってもよい。
m2は、0~6のいずれかの整数を表し、m2が2以上のとき、複数のRは互いに同一であっても異なってもよい。
m3は、1~6のいずれかの整数を表し、m3が2以上のとき、複数のRは互いに同一であっても異なってもよい。
は、有機カチオンを表す。]
An acid generator containing a salt represented by formula (I).
[In formula (I),
Q1 and Q2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 perfluoroalkyl group.
R11 and R12 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 perfluoroalkyl group.
z represents an integer from 0 to 6, and when z is 2 or greater, multiple R11 and R12 may be the same or different from each other.
X1 represents *-CO-O-, *-O-CO-, *-O-CO-O-, or *-O-, where * represents a binding site with C( R11 )( R12 ) or C( Q1 )( Q2 ).
L1 represents a hydrocarbon group having 1 to 60 carbon atoms, which may have a single bond or substituents, and the -CH2- contained in the hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -SO2-, or -CO- .
X a and X b each independently represent -O- or -S-.
Ring W1 represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, which may have substituents, and the -CH2- contained in the alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- .
Ring W represents a cyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, which may have substituents, and the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- .
R1 and R2 each independently represent a halogen atom, a hydroxyl group, a C1-C12 haloalkyl group, or a C1-C12 alkyl group, and the -CH2- contained in the haloalkyl group and the alkyl group may be replaced with -O- or -CO-.
R 3 represents *-O-R 10 , *-O-CO-R 10 , *-CO-O-R 10 , *-O-CO-O-R 10 , *-O-L 10 -CO-O-R 10 , or *-O-L 10 -O-CO-R 10 , where * represents the bonding site with ring W.
L10 represents an alkanediyl group with 1 to 6 carbon atoms.
R 10 represents a C1-C36 hydrocarbon group having an iodine atom or a C1-C12 iodate alkyl group, or a C3-C36 cyclic hydrocarbon group having a fluorine atom or a C1-C12 fluoride alkyl group, wherein the hydrocarbon group and the cyclic hydrocarbon group may have substituents, and the -CH2- contained in the hydrocarbon group and the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- .
m1 represents an integer between 0 and 6, and when m1 is 2 or greater, multiple R1s may be the same or different from each other.
m² represents an integer between 0 and 6, and when m² is 2 or greater, multiple values may be the same or different from each other.
m3 represents an integer from 1 to 6, and when m3 is 2 or greater, multiple R3s may be the same or different from each other.
Z + represents an organic cation.
が、単結合、*-L-又は*-L-X-L-(Lは、置換基を有してもよい炭素数1~10の鎖式炭化水素基、置換基を有してもよい炭素数3~24の環状炭化水素基又は置換基を有してもよい炭素数3~24の環状炭化水素基と置換基を有してもよい炭素数1~8の鎖式炭化水素基とを組み合わせた基を表し、該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-に置き換わっていてもよく、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。*は、X1との結合部位を表す。Xは、**-CO-O-、**-O-CO-、**-O-CO-O-又は**-O-を表し、**は、Lとの結合部位を表す。Lは、単結合又は置換基を有してもよい炭素数1~8の鎖式炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)である請求項1に記載の酸発生剤。 L1 is a single bond, * -L2- or * -L2 - X3- L3- ( L2 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may have substituents, a cyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have substituents, or a group formed by a combination of a cyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have substituents and a chain hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms which may have substituents, and the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO2- , and the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-. * represents the bonding site with X1 . X3 represents **-CO-O-, **-O-CO-, **-O-CO-O- or **-O-, and ** represents the bonding site with L2 . The acid generator according to claim 1, wherein 3 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, which may have single bonds or substituents, and the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-. 環W1が、式(w1-1)で表される環に由来する基、式(w1-2)で表される環に由来する基、式(w1-3)で表される環に由来する基、式(w1-6)で表される環に由来する基又は式(w1-15)で表される環に由来する基である請求項1に記載の酸発生剤。
[式(w1-1)、式(w1-2)、式(w1-3)、式(w1-6)及び式(w1-15)中、
該基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。結合部位は任意の位置である。]
The acid generator according to claim 1, wherein ring W1 is a group derived from a ring represented by formula (w1-1), a group derived from a ring represented by formula (w1-2), a group derived from a ring represented by formula (w1-3), a group derived from a ring represented by formula (w1-6), or a group derived from a ring represented by formula (w1-15).
[In formulas (w1-1), (w1-2), (w1-3), (w1-6), and (w1-15),
The -CH₂- contained in the group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO₂- . The bonding site is at any position.
環Wが、式(w1-1)で表される環に由来する基、式(w1-2)で表される環に由来する基、式(w1-3)で表される環に由来する基、式(w1-6)で表される環に由来する基、式(w1-12)で表される環に由来する基、式(w1-22)で表される環に由来する基、式(w1-23)で表される環に由来する基又は式(w1-24)で表される環に由来する基である請求項1に記載の酸発生剤。
[式(w1-1)、式(w1-2)、式(w1-3)、式(w1-6)、式(w1-12)、式(w1-22)、式(w1-23)及び式(w1-24)中、
該基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。結合部位は任意の位置である。]
The acid generator according to claim 1, wherein ring W is a group derived from a ring represented by formula (w1-1), a group derived from a ring represented by formula (w1-2), a group derived from a ring represented by formula (w1-3), a group derived from a ring represented by formula (w1-6), a group derived from a ring represented by formula (w1-12), a group derived from a ring represented by formula (w1-22), a group derived from a ring represented by formula (w1-23), or a group derived from a ring represented by formula (w1-24).
[In formulas (w1-1), (w1-2), (w1-3), (w1-6), (w1-12), (w1-22), (w1-23), and (w1-24),
The -CH₂- contained in the group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO₂- . The bonding site is at any position.
10が、ヨウ素原子を有する炭素数1~6の鎖式炭化水素基、ヨウ素原子を有する炭素数3~12の脂環式炭化水素基と炭素数1~6の鎖式炭化水素基を組み合わせた基、ヨウ素原子を有する炭素数6~14の芳香族炭化水素基と炭素数1~6の鎖式炭化水素基を組み合わせた基、フッ素原子、ヨウ素原子あるいはトリフルオロメチル基を有する炭素数3~12の脂環式炭化水素基、又は、フッ素原子、ヨウ素原子あるいはトリフルオロメチル基を有する炭素数6~14の芳香族炭化水素基(該鎖式炭化水素基、該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基は、置換基を有してもよく、該鎖式炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。)である請求項1に記載の酸発生剤。 The acid generator according to claim 1, wherein R 10 is a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms having an iodine atom, a group combining a cycloaliphatic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms having an iodine atom and a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a group combining an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms having an iodine atom and a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloaliphatic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms having a fluorine atom, an iodine atom, or a trifluoromethyl group, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms having a fluorine atom, an iodine atom, or a trifluoromethyl group (the chain hydrocarbon group, the cycloaliphatic hydrocarbon group and the aromatic hydrocarbon group may have substituents, and the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group and the cycloaliphatic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S- , -CO-, or -SO2-). 請求項1~5のいずれかに記載の酸発生剤と酸不安定基を有する樹脂とを含有するレジスト組成物。 A resist composition containing an acid generator according to any one of claims 1 to 5 and a resin having an acid-unstable group. 酸不安定基を有する樹脂が、式(a1-0)で表される構造単位、式(a1-1)で表される構造単位及び式(a1-2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1種を含む請求項6に記載のレジスト組成物。
[式(a1-0)、式(a1-1)及び式(a1-2)中、
a01、La1及びLa2は、それぞれ独立に、-O-又は*-O-(CHk1-CO-O-を表し、k1は1~7のいずれかの整数を表し、*は-CO-との結合部位を表す。
a01、Ra4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。
a02、Ra03及びRa04は、それぞれ独立に、炭素数1~8のアルキル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。
a6及びRa7は、それぞれ独立に、炭素数1~8のアルキル基、炭素数2~8のアルケニル基、炭素数3~18の脂環式炭化水素基、炭素数6~18の芳香族炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
m1は0~14のいずれかの整数を表す。
n1は0~10のいずれかの整数を表す。
n1’は0~3のいずれかの整数を表す。]
The resist composition according to claim 6, wherein the resin having an acid-unstable group comprises at least one selected from the group consisting of a structural unit represented by formula (a1-0), a structural unit represented by formula (a1-1), and a structural unit represented by formula (a1-2).
[In formulas (a1-0), (a1-1), and (a1-2),
L a01 , L a1 , and L a2 each independently represent -O- or *-O-(CH 2 ) k1 -CO-O-, where k1 is an integer from 1 to 7, and * represents the bond site with -CO-.
Ra01 , Ra4 , and Ra5 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a C1-C6 alkyl group which may contain a halogen atom.
R a02 , R a03 , and R a04 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a combination thereof.
Ra6 and Ra7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group formed by a combination of these.
m1 represents an integer between 0 and 14.
n1 represents an integer between 0 and 10.
n1' represents an integer between 0 and 3.
酸不安定基を有する樹脂が、式(a2-A)で表される構造単位を含む請求項6に記載のレジスト組成物。
[式(a2-A)中、
a50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。
a51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数2~12のアルコキシアルキル基、炭素数2~12のアルコキシアルコキシ基、炭素数2~4のアルキルカルボニル基、炭素数2~4のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
a50は、単結合又は-Xa51-(Aa52-Xa52nb-を表し、*は-Ra50が結合する炭素原子との結合部位を表す。
a52は、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。
a51及びXa52は、それぞれ独立に、-O-、-CO-O-又は-O-CO-を表す。
nbは、0又は1を表す。
mbは0~4のいずれかの整数を表す。mbが2以上のいずれかの整数である場合、複数のRa51は互いに同一であっても異なってもよい。]
The resist composition according to claim 6, wherein the resin having an acid-unstable group comprises a structural unit represented by formula (a2-A).
[In formula (a2-A),
R a50 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms that may contain a halogen atom.
R a51 represents a halogen atom, a hydroxyl group, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C2-C12 alkoxyalkyl group, a C2-C12 alkoxyalkoxy group, a C2-C4 alkylcarbonyl group, a C2-C4 alkylcarbonyloxy group, an acryloyloxy group, or a methacryloyloxy group.
A a50 represents a single bond or * -X a51 - (A a52 -X a52 ) nb -, where * represents the bonding site with the carbon atom to which -R a50 is bonded.
A a52 represents an alkanediyl group with 1 to 6 carbon atoms.
X a51 and X a52 independently represent -O-, -CO-O-, or -O-CO-, respectively.
nb represents either 0 or 1.
mb represents an integer between 0 and 4. If mb is an integer greater than or equal to 2, multiple R a51s may be identical or different from each other.
酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩をさらに含有する請求項6に記載のレジスト組成物。 The resist composition according to claim 6, further containing a salt that generates an acid with a lower acidity than the acid generated by the acid generator. (1)請求項6に記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程、
を含むレジストパターンの製造方法。
(1) A step of applying the resist composition according to claim 6 onto a substrate,
(2) A step of drying the coated composition to form a composition layer,
(3) Exposure step of the composition layer,
(4) A step of heating the composition layer after exposure, and (5) A step of developing the composition layer after heating.
A method for manufacturing a resist pattern that includes [the specified element].
式(I)で表される塩。
[式(I)中、
及びQは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。
11及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数1~6のペルフルオロアルキル基を表す。
zは、0~6のいずれかの整数を表し、zが2以上のとき、複数のR11及びR12は互いに同一であっても異なってもよい。
1は、*-CO-O-、*-O-CO-、*-O-CO-O-又は*-O-を表し、*は、C(R11)(R12)もしくはC(Q)(Q)との結合部位を表す。
1は、単結合又は置換基を有してもよい炭素数1~60の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-SO-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
及びXは、それぞれ独立に、-O-又は-S-を表す。
環W1は、置換基を有してもよい炭素数3~36の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。
環Wは、置換基を有してもよい炭素数3~36の環状炭化水素基を表し、該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。
及びRは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1~12のハロアルキル基又は炭素数1~12のアルキル基を表し、該ハロアルキル基及び該アルキル基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。
は、*-O-R10、*-O-CO-R10、*-CO-O-R10、*-O-CO-O-R10、*-O-L10-CO-O-R10又は*-O-L10-O-CO-R10を表し、*は、環Wとの結合部位を表す。
10は、炭素数1~6のアルカンジイル基を表す。
10は、ヨウ素原子あるいは炭素数1~12のヨウ素化アルキル基を有する炭素数1~36の炭化水素基、又は、フッ素原子あるいは炭素数1~12のフッ素化アルキル基を有する炭素数3~36の環状炭化水素基を表し、該炭化水素基及び該環状炭化水素基は、置換基を有してもよく、該炭化水素基及び該環状炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。
m1は、0~6のいずれかの整数を表し、m1が2以上のとき、複数のRは互いに同一であっても異なってもよい。
m2は、0~6のいずれかの整数を表し、m2が2以上のとき、複数のRは互いに同一であっても異なってもよい。
m3は、1~6のいずれかの整数を表し、m3が2以上のとき、複数のRは互いに同一であっても異なってもよい。
は、有機カチオンを表す。]
A salt represented by formula (I).
[In formula (I),
Q1 and Q2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 perfluoroalkyl group.
R11 and R12 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 perfluoroalkyl group.
z represents an integer from 0 to 6, and when z is 2 or greater, multiple R11 and R12 may be the same or different from each other.
X1 represents *-CO-O-, *-O-CO-, *-O-CO-O-, or *-O-, where * represents a binding site with C( R11 )( R12 ) or C( Q1 )( Q2 ).
L1 represents a hydrocarbon group having 1 to 60 carbon atoms, which may have a single bond or substituents, and the -CH2- contained in the hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -SO2-, or -CO- .
X a and X b each independently represent -O- or -S-.
Ring W1 represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, which may have substituents, and the -CH2- contained in the alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- .
Ring W represents a cyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, which may have substituents, and the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- .
R1 and R2 each independently represent a halogen atom, a hydroxyl group, a C1-C12 haloalkyl group, or a C1-C12 alkyl group, and the -CH2- contained in the haloalkyl group and the alkyl group may be replaced with -O- or -CO-.
R 3 represents *-O-R 10 , *-O-CO-R 10 , *-CO-O-R 10 , *-O-CO-O-R 10 , *-O-L 10 -CO-O-R 10 , or *-O-L 10 -O-CO-R 10 , where * represents the bonding site with ring W.
L10 represents an alkanediyl group with 1 to 6 carbon atoms.
R 10 represents a C1-C36 hydrocarbon group having an iodine atom or a C1-C12 iodate alkyl group, or a C3-C36 cyclic hydrocarbon group having a fluorine atom or a C1-C12 fluoride alkyl group, wherein the hydrocarbon group and the cyclic hydrocarbon group may have substituents, and the -CH2- contained in the hydrocarbon group and the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- .
m1 represents an integer between 0 and 6, and when m1 is 2 or greater, multiple R1s may be the same or different from each other.
m² represents an integer between 0 and 6, and when m² is 2 or greater, multiple values may be the same or different from each other.
m3 represents an integer from 1 to 6, and when m3 is 2 or greater, multiple R3s may be the same or different from each other.
Z + represents an organic cation.
が、単結合、*-L-又は*-L-X-L-(Lは、置換基を有してもよい炭素数1~10の鎖式炭化水素基、置換基を有してもよい炭素数3~24の環状炭化水素基又は置換基を有してもよい炭素数3~24の環状炭化水素基と置換基を有してもよい炭素数1~8の鎖式炭化水素基とを組み合わせた基を表し、該環状炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-に置き換わっていてもよく、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。*は、X1との結合部位を表す。Xは、**-CO-O-、**-O-CO-、**-O-CO-O-又は**-O-を表し、**は、Lとの結合部位を表す。Lは、単結合又は置換基を有してもよい炭素数1~8の鎖式炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。)である請求項11に記載の塩。 L1 is a single bond, * -L2- or * -L2 - X3- L3- ( L2 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may have substituents, a cyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have substituents, or a group formed by a combination of a cyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have substituents and a chain hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms which may have substituents, and the -CH2- contained in the cyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO2- , and the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-. * represents the bonding site with X1 . X3 represents **-CO-O-, **-O-CO-, **-O-CO-O- or **-O-, and ** represents the bonding site with L2 . The salt according to claim 11, wherein 3 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, which may have single bonds or substituents, and the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-. 環W1が、式(w1-1)で表される環に由来する基、式(w1-2)で表される環に由来する基、式(w1-3)で表される環に由来する基、式(w1-6)で表される環に由来する基又は式(w1-15)で表される環に由来する基である請求項11又は12に記載の塩。
[式(w1-1)、式(w1-2)、式(w1-3)、式(w1-6)及び式(w1-15)中、
該基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。結合部位は任意の位置である。]
The salt according to claim 11 or 12, wherein ring W1 is a group derived from a ring represented by formula (w1-1), a group derived from a ring represented by formula (w1-2), a group derived from a ring represented by formula (w1-3), a group derived from a ring represented by formula (w1-6), or a group derived from a ring represented by formula (w1-15).
[In formulas (w1-1), (w1-2), (w1-3), (w1-6), and (w1-15),
The -CH₂- contained in the group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO₂- . The bonding site is at any position.
環Wが、式(w1-1)で表される環に由来する基、式(w1-2)で表される環に由来する基、式(w1-3)で表される環に由来する基、式(w1-6)で表される環に由来する基、式(w1-12)で表される環に由来する基、式(w1-22)で表される環に由来する基、式(w1-23)で表される環に由来する基又は式(w1-24)で表される環に由来する基である請求項11又は12に記載の塩。
[式(w1-1)、式(w1-2)、式(w1-3)、式(w1-6)、式(w1-12)、式(w1-22)、式(w1-23)及び式(w1-24)中、
該基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。結合部位は任意の位置である。]
The salt according to claim 11 or 12, wherein ring W is a group derived from a ring represented by formula (w1-1), a group derived from a ring represented by formula (w1-2), a group derived from a ring represented by formula (w1-3), a group derived from a ring represented by formula (w1-6), a group derived from a ring represented by formula (w1-12), a group derived from a ring represented by formula (w1-22), a group derived from a ring represented by formula (w1-23), or a group derived from a ring represented by formula (w1-24).
[In formulas (w1-1), (w1-2), (w1-3), (w1-6), (w1-12), (w1-22), (w1-23), and (w1-24),
The -CH₂- contained in the group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO₂- . The bonding site is at any position.
10が、ヨウ素原子を有する炭素数1~6の鎖式炭化水素基、ヨウ素原子を有する炭素数3~12の脂環式炭化水素基と炭素数1~6の鎖式炭化水素基を組み合わせた基、ヨウ素原子を有する炭素数6~14の芳香族炭化水素基と炭素数1~6の鎖式炭化水素基を組み合わせた基、フッ素原子、ヨウ素原子あるいはトリフルオロメチル基を有する炭素数3~12の脂環式炭化水素基、又は、フッ素原子、ヨウ素原子あるいはトリフルオロメチル基を有する炭素数6~14の芳香族炭化水素基(該鎖式炭化水素基、該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基は、置換基を有してもよく、該鎖式炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-CO-又は-SO-で置き換わっていてもよい。)である請求項11又は12に記載の塩。 The salt according to claim 11 or 12, wherein R 10 is a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms having an iodine atom, a group combining a cycloaliphatic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms having an iodine atom and a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a group combining an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms having an iodine atom and a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloaliphatic hydrocarbon group having a fluorine atom, an iodine atom, or a trifluoromethyl group, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms having a fluorine atom, an iodine atom, or a trifluoromethyl group (the chain hydrocarbon group, the cycloaliphatic hydrocarbon group, and the aromatic hydrocarbon group may have substituents, and the -CH2- contained in the chain hydrocarbon group and the cycloaliphatic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO-, or -SO2- ).
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