JP7830663B2 - 光吸収性組成物、光吸収体、光学フィルタ、環境光センサ、撮像装置、光吸収性組成物の製造方法、及び光吸収体の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、光吸収性組成物、光吸収体、光学フィルタ、環境光センサ、撮像装置、光吸収性組成物の製造方法、及び光吸収体の製造方法に関する。

CCD（Charge Coupled Device）又はCMOS（Complementary Metal Oxide Semiconductor）等の固体撮像素子を用いた撮像装置又は環境光センサにおいて、様々な光学フィルタが固体撮像素子の前面に配置されている。例えば、撮像装置では、良好な色再現性を有する画像を得るために光学フィルタが使用されうる。環境光センサでは、環境光のセンシングの調整のために光学フィルタが使用されうる。

一般的に、固体撮像素子は、紫外線領域から赤外線領域に至る広い波長範囲で感度を有する。一方、人間の視感度は波長約３８０ｎｍ～７８０ｎｍ、いわゆる可視光の領域にのみに存在する。このため、撮像装置における固体撮像素子の分光感度を人間の視感度に近づけるために、固体撮像素子の前面に赤外線及び紫外線の一部の光を遮蔽する光学フィルタを配置する技術が知られている。

中でも、光吸収剤を含有する膜又はレイヤー（layer）を有する光吸収タイプの光学フィルタが注目されている。光吸収剤を含有する膜を備えた光学フィルタの透過率特性は入射角の影響を受けにくいので、例えば、撮像装置において光学フィルタに斜めに光が入射する場合でも色味の変化が少なく、面内で色むらが少なく、再現性の良い良好な画像を得ることができる。加えて、光吸収タイプの光学フィルタは、光反射膜を用いないので、光反射による多重反射を原因とするゴースト又はフレアの発生を抑制でき、良好な画像が得られやすい。加えて、光吸収剤を含有する膜を備えた光学フィルタは、撮像装置の小型化及び薄型化の点でも有利である。

例えば、特許文献１には、ホスホン酸銅及び有機色素を含有している光吸収層を備え、８０μｍ以下の厚みを有する光学フィルタが記載されている。この光学フィルタの光吸収層の波長７５０ｎｍ～１０８０ｎｍにおける最大透過率は５％以下である。

特許文献２には、所定のホスホン酸と銅イオンとによって形成された光吸収剤を含有し、かつ、所定のリン酸エステルを含有していない光吸収層を備えた光学フィルタが記載されている。特許文献２では、所定のリン酸エステルは加水分解しやすく、耐候性の観点から最適な材料とは言い難いと説明されている。

特許文献３には、ホスホン酸及びスルホン酸の少なくとも一つの酸と銅イオンとによって形成された紫外線及び赤外線を吸収可能なＵＶ‐ＩＲ吸収剤を含むＵＶ‐ＩＲ吸収層を備えた光学フィルタが記載されている。この光学フィルタは、５％以下のヘイズ（曇価）を有する。特許文献３では、このようなＵＶ‐ＩＲ吸収層を含む光学フィルタが撮像装置に組み込まれることにより、高画質の画像を得ることができると説明されている。

国際公開第２０２０／０７１４６１号 国際公開第２０１９／０９３０７６号 国際公開第２０１９／２０８５１８号

特許文献１～３に記載の技術は、薄さ及び光学特性の観点から再検討の余地を有する。そこで、本発明は、薄さ及び光学特性の観点から有利な光吸収性化合物を提供する。また、本発明は、薄さ及び光学特性の観点から有利な光吸収体を提供する。

本発明は、
１０以上の炭素原子を有する基を含むアルコキシシラン、前記アルコキシシランの加水分解物、及び前記アルコキシシランの加水分解物の重合物からなる群より選ばれる少なくとも一つと、
光吸収性化合物と、を含む、
光吸収性組成物を提供する。

また、本発明は、
光吸収体であって、
平均値Ｔ^A _460-600は、８０％以上であり、
前記平均値Ｔ^A _460-600は、０°の入射角度で前記光吸収体に光を入射させて得られる透過スペクトルの波長４６０ｎｍ～６００ｎｍの範囲内における透過率の平均値であり、
前記光吸収体の波長λにおける光学濃度ＯＤを前記光吸収体の厚みで除した値をη_λ［μｍ^-1］と表すとき、０．００９≦η₃₈₀及び０．００８≦η₇₅₀の要件を満たす、
光吸収体を提供する。

また、本発明は、
上記光吸収体を備えた、光学フィルタを提供する。

また、本発明は、
上記光吸収体を備えた、環境光センサを提供する。

また、本発明は、
上記光吸収体を備えた、撮像装置を提供する。

また、本発明は、
ホスホン酸及び銅成分を含む光吸収性化合物が溶媒中に分散した光吸収性化合物分散液を作製することと、
前記光吸収性化合物分散液と、１０以上の炭素原子を有する基を含むアルコキシシラン又は前記アルコキシシランの加水分解物とを混合することと、
前記前記光吸収性化合物分散液から、前記溶媒の一部を除去することと、を含む
光吸収性組成物の製造方法を提供する。

また、本発明は、
基材の表面に塗工された光吸収性組成物を固化させて光吸収体を得ることを含み、
前記光吸収性組成物は、
ホスホン酸及び銅成分を含む光吸収性化合物と、
１０以上の炭素原子を有する基を含むアルコキシシラン、前記アルコキシシランの加水分解物、及び前記アルコキシシランの加水分解物の重合物からなる群より選択される少なくとも一つと、を含み、
前記光吸収体は、１５０μｍ以下の厚みを有する、
光吸収体の製造方法を提供する。

また、本発明は、
光吸収体と、
前記光吸収体の表面に設けられた反射防止膜と、を備え、
次の（Ｉ）及び（II）の条件を満たす、光学フィルタを提供する。
（Ｉ）波長λにおける光学濃度ＯＤを、前記光吸収体の厚みで除した値をη_2-λ［μｍ^-1］と表すとき、０．００９≦η_2-380及び０．００８≦η_2-750
（II）波長４６０ｎｍ～６００ｎｍの範囲内における透過率の平均値をＴ₂ ^A _460-600と表すとき、９０％≦Ｔ₂ ^A _460-600。

上記の光吸収性組成物及び光吸収体は、薄さ及び光学特性の観点から有利である。

図１Ａは、本発明に係る光学フィルタの一例を示す断面図である。 図１Ｂは、本発明に係る光学フィルタの別の一例を示す断面図である。 図１Ｃは、本発明に係る光学フィルタのさらに別の一例を示す断面図である。 図１Ｄは、本発明に係る光学フィルタのさらに別の一例を示す断面図である。 図２は、基材に含まれるガラスの一例の透過スペクトルを示すグラフである。 図３Ａは、本発明に係る環境光センサの一例を示す断面図である。 図３Ｂは、本発明に係る光電変換素子の一例を示す断面図である。 図４Ａは、本発明に係る撮像装置の一例を示す図である。 図４Ｂは、本発明に係る撮像装置の別の一例を示す図である。 図５Ａは、実施例１に係る光吸収体の透過スペクトルを示すグラフである。 図５Ｂは、実施例１に係る光吸収体の反射スペクトルを示すグラフである。 図６Ａは、実施例２に係る光吸収体の透過スペクトルを示すグラフである。 図６Ｂは、実施例２に係る光吸収体の反射スペクトルを示すグラフである。 図７Ａは、実施例３に係る光吸収体の透過スペクトルを示すグラフである。 図７Ｂは、実施例３に係る光吸収体の反射スペクトルを示すグラフである。 図８は、実施例８に係る光吸収体の透過スペクトルを示すグラフである。 図９は、実施例１３に係る光吸収体の透過スペクトルを示すグラフである。 図１０は、実施例１４に係る光吸収体の透過スペクトルを示すグラフである。 図１１Ａは、実施例１６に係る基材の透過スペクトルを示すグラフである。 図１１Ｂは、実施例１６に係る光学フィルタの透過スペクトルを示すグラフである。 図１２は、比較例３に係る光学フィルタの透過スペクトルを示すグラフである。 図１３は、実施例１７に係る光学フィルタの透過スペクトルを示すグラフである。 図１４は、実施例１８に係る光学フィルタの透過スペクトルを示すグラフである。

カメラモジュールを搭載したスマートフォン等の情報端末の世界的な普及により、カメラ又は環境光センサに搭載される光学フィルタについて薄型化の要求が高まっている。特許文献１に記載の光学フィルタは、８０μｍ以下の厚みを有し、波長７５０ｎｍ～１０８０ｎｍにおける透過率は５％以下であるものの、この波長範囲における光吸収特性は十分であるとは言い難い。例えば波長７５０ｎｍ～１０８０ｎｍにおける１％以下の透過率を１１０μｍ程度の厚みで実現することは難しいと理解される。換言すると、ホスホン酸銅及び有機色素を含有している光吸収層を備えた光学フィルタにおいて、有機色素を併用しても１１０μｍ程度の薄さで十分な光吸収性能を実現することは難しいと理解される。

特許文献２に記載の光学フィルタは、リン酸エステルを含有していない点で有望であるが、薄さと所望の光学特性との両立の観点から十分な特性を有しているとは言い難い。加えて、リン酸エステルを含有していないことにより、ホスホン酸銅の一部が凝集して可視域の透過率が低下する可能性がある。

特許文献３には、光吸収性化合物に含まれる銅成分の含有量及びＵＶ－ＩＲ吸収層の前駆体である液状の光吸収性組成物の粘度に関する記載がある。特許文献３に記載されたＵＶ－ＩＲ吸収層においては、ヘイズ値が小さくとも０．２％である。光吸収型の光学フィルタにおいて０．２％より低いヘイズを実現できれば、光学フィルタの価値をより高めることができる。

本発明者は、鋭意検討を重ねた結果、薄くても、人間の視感度曲線に近い透過率及び低いヘイズ等の所望の光学特性を実現する観点から有利な光吸収性化合物を新たに見出した。加えて、人間の視感度曲線に近い透過率及び低いヘイズ等の所望の光学特性を実現する観点から有利な新規の光吸収体を完成させた。

以下、本発明の実施形態について説明する。なお、以下の説明は、本発明の例示に関するものであり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。

光吸収性組成物は、シリコン含有化合物αと、光吸収性化合物とを含んでいる。シリコン含有化合物αは、１０以上の炭素原子を有する基α－１を含むアルコキシシラン及びそのアルコキシシランの加水分解物、及びそのアルコキシシランの加水分解物の重合物からなる群より選ばれる少なくとも１つである。アルコキシシランの加水分解物は、アルコキシシランの加水分解により生じたシラノール基（－Ｓi－ＯＨ）を有するシリコン化合物である。アルコキシシランの加水分解物の重合物は、その加水分解物の一部が縮重合してシロキサン結合（－Ｏ－Ｓｉ－Ｏ－）を含む化合物である。シリコン含有化合物αの存在により、光吸収性化合物の凝集において基α－１が立体障害になりやすいと考えられる。このため、例えば、錯体の構造を含む光吸収性化合物が形成されるときに、光吸収性化合物の凝集体が発生することが防止されやすい。これにより、光吸収性組成物において光吸収性化合物が均質に分散し、光吸収性組成物を用いて作製される光吸収体において人間の視感度曲線に対応する透過スペクトル及び低いヘイズ等の所望の光学特性が実現されやすい。基α－１を含むアルコキシシランは、例えば、下記式（１）で表される。式（１）において、ｎは、１、２、又は３であり、Ｒ¹¹は、炭素原子（Ｃ）及び水素原子（Ｈ）を少なくとも含む基であり、Ｒ¹¹の少なくとも１つは１０以上の炭素原子を有する基α－１である。Ｒ¹²は、炭素原子（Ｃ）及び水素原子（Ｈ）を少なくとも含む基であり、Ｒ¹¹と同じであってもよく、Ｒ¹¹と異なっていてもよい。
Ｒ¹¹ _4-nＳｉ（ＯＲ¹²）_n 式（１）

光吸収性化合物は、特定の化合物に限定されない。光吸収性化合物は、例えば、ホスホン酸と銅成分とを含む化合物であってもよいし、リン酸エステルと銅成分とを含む化合物であってもよいし、他のリン酸化合物と銅成分とを含む化合物であってもよい。他のリン酸化合物の例は、リン酸、亜リン酸、及びホスフィン酸である。リン酸を含む化合物は、Ｍ_xＣｕ_yＰＯ_z（Ｍは、なくてもよいか、Ｃｕ以外の金属元素を表し、ｘ、ｙ、及びｚは実数である）で表されるリン酸－銅錯体であってもよい。また、ホスホン酸、リン酸エステル、又はリン酸等のリン酸化合物と、銅成分とを含む光吸収性化合物が生成されるとき、銅成分、中でも銅イオンの原料となる化合物のアニオンの一部が光吸収性化合物に含まれていてもよい。例えば、銅成分の原料が酢酸銅のときは酢酸の成分の一部が光吸収性化合物に含まれていてもよく、銅成分の原料が安息香酸銅のときは安息香酸の成分の一部が光吸収性化合物に含まれていてもよい。光吸収性化合物が、ホスホン酸、リン酸エステル、又はリン酸等のリン酸化合物と、銅成分とを含むことは、これら以外の化合物又は元素が含まれることを妨げるものではない。光吸収性化合物は、スルホン酸と銅成分を含む化合物であってもよいし、金属酸化物であってもよいし、有機色素であってもよい。金属酸化物の例は、酸化タングステン、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、及び酸化アンチモンスズである。有機色素の例は、ジインモニウム系化合物、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、及びピロロピロール系化合物である。

光吸収性化合物は、望ましくは、ホスホン酸と銅成分とを含む化合物、リン酸エステルと銅成分とを含む化合物、リン酸と銅成分とを含む化合物、スルホン酸と銅成分とを含む化合物、又はこれらのそれぞれの化合物が錯体として形成されたものである。この場合、光吸収性化合物が赤外線領域において広い吸収帯を有しやすく、光吸収性組成物が所定の波長範囲の光の遮蔽を吸収作用のみで発揮させるフィルタの材料として有望である。

光吸収性組成物において、光吸収性化合物として、上記の化合物が単独で使用されていてもよいし、複数種類の化合物が組み合わせられて用いられてもよい。

ホスホン酸、リン酸エステル、及びリン酸のいずれもリン原子（Ｐ）及び酸素原子（Ｏ）を含む酸化物である。これらは共存していてもよく、例えば、光吸収性化合物は、ホスホン酸、リン酸エステル、及び銅成分を含む化合物として存在していてもよい。光吸収性化合物がホスホン酸と銅成分とを含む錯体である場合でも、分散剤としてリン酸エステルが添加されていてもよい。この場合、光吸収性組成物には、ホスホン酸と、リン酸エステルと、銅成分とを含む化合物が含まれていてもよい。酢酸銅(II)又は安息香酸銅(II)は、光吸収性化合物の銅成分の原料となりうる。この場合、原料に含まれる酢酸成分（ＣＨ₃ＣＯＯ^-又はＣＨ₃ＣＯＯＨ）又は安息香酸成分（Ｃ₆Ｈ₅ＣＯＯ^-又はＣ₆Ｈ₅ＣＯＯＨ）の一部は、これらの光吸収性化合物において、銅イオン、又は、ホスホン酸等のリン化合物と銅成分を含む銅錯体に配位していてもよい。さらに、銅成分の原料である銅化合物は水和物であってもよく、その原料には水分子が含まれていてもよい。

光吸収性化合物がホスホン酸を含む場合、ホスホン酸は特定のホスホン酸に限定されない。ホスホン酸は、例えば、下記式（ａ）で表される。式（ａ）において、Ｒ₁は、アルキル基又はアルキル基における少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子に置換されたハロゲン化アルキル基である。この場合、光吸収性組成物を用いて作製される光吸収体の透過帯域が波長７００ｎｍ付近にまで及びやすく、光吸収体が所望の透過率特性を有しやすい。式（ａ）で表されるホスホン酸をアルキルホスホン酸と称する。

アルキルホスホン酸の例は、メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、ノルマル（ｎ‐）プロピルホスホン酸、イソプロピルホスホン酸、ノルマル（ｎ‐）ブチルホスホン酸、イソブチルホスホン酸、ｓｅｃ‐ブチルホスホン酸、ｔｅｒｔ‐ブチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、又はブロモメチルホスホン酸である。

光吸収性化合物は、ホスホン酸として、下記式（ｂ）で表されるホスホン酸を含んでいてもよい。式（ｂ）において、Ｒ₂は、アリール基、アリール基における少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子に置換されたハロゲン化アリール基、アリール基における少なくとも一つの水素原子がニトロ基に置換された基、又はアリール基における少なくとも一つの水素原子がヒドロキシ基に置換された基である。アリール基は、例えばフェニル基である。ハロゲン化アリール基は、例えば、ハロゲン化フェニル基である。これにより、光吸収性組成物を用いて作製される光吸収体が所望の透過率特性をより有しやすい。式（ｂ）で表されるホスホン酸をアリールホスホン酸と称する。

アリールホスホン酸の例は、フェニルホスホン酸、ブロモフェニルホスホン酸、ベンジルホスホン酸、フルオロフェニルホスホン酸、ヨードフェニルホスホン酸、ニトロフェニルホスホン酸、ヒドロキシフェニルホスホン酸、トリルホスホン酸、キシリルホスホン酸、及びナフチルホスホン酸である。

光吸収性化合物は、ホスホン酸として、アルキルホスホン酸のみを含んでいてもよいし、アリールホスホン酸のみを含んでいてもよいし、アルキルホスホン酸及びアリールホスホン酸の両方を含んでいてもよい。光吸収性化合物には、１種類又は２種類以上のアルキルホスホン酸が含まれていてもよく、光吸収性化合物には、１種類又は２種類以上のアリールホスホン酸が含まれていてもよい。光吸収性化合物において、アルキルホスホン酸及びアリールホスホン酸のそれぞれが銅成分と結びついていてもよい。

光吸収性化合物が銅成分を含む場合、銅成分は、銅イオン、銅錯体、及び銅を含有する化合物等を包含する概念である。銅成分は、近赤外線領域に属する光の一部に対する良好な吸収特性と、波長４５０ｎｍ～６８０ｎｍにわたる可視光域における高い透過性とを有しうる。例えば、詳細は割愛するが、二価の銅イオンＣｕ²⁺では、六配位の錯体構造をとる場合、エネルギー準位の異なるｄ軌道間の電子の遷移に関連して、相応のエネルギーを有する波長の光を吸収する。二価の銅イオンでは、赤外線に属する、比較的ブロードな波長範囲の光を吸収するので、デジタル写真の分野に用いられるフィルタとして利用価値の高い光吸収機能を発揮すると考えられる。吸収帯の幅や吸収の強さなどは、銅イオンに配位する配位子の構造又は性質によることが大きい。これらの事情から、ホスホン酸及びリン酸エステル等のリン化合物が銅イオンに配位された化合物を含む光吸収体又は光学フィルタが、視感度に対する補正のために用いられることが望ましい。

光吸収性化合物に含まれる銅成分の供給源は、特定の物質に限定されない。銅成分の供給源の例は、酢酸銅、安息香酸銅、ピロリン酸銅、及びステアリン酸銅等の有機酸の銅塩無水物若しくは水和物、又は、これらの混合体であってもよい。中でも、酢酸銅又は安息香酸銅が望ましく用いられる。また、これらの銅塩を単独で用いてもよいし、複数の銅塩又はそれらの混合物を用いてもよい。

光吸収性組成物は、下記式（２）で示されるアルコキシシラン及びこのアルコキシシランの加水分解物からなる群より選ばれる少なくとも１つであるシリコン含有化合物βを含んでいてもよい。式（２）において、ｍは３又は４の整数であり、Ｒ⁰¹及びＲ⁰²は同一又は異なっていてもよく、Ｒ⁰¹及びＲ⁰²のそれぞれは、少なくとも炭素原子（Ｃ）及び水素原子（Ｈ）を含む基である。式（２）で表されるアルコキシシランは、三官能アルコキシシランであり、又は、四官能アルコキシシランである。光吸収性組成物は、シリコン含有化合物βとして、三官能アルコキシシランのみを含んでいてもよいし、四官能アルコキシシランのみを含んでいてもよいし、三官能アルコキシシラン及び四官能アルコキシシランの両方を含んでいてもよい。シリコン含有化合物は、モノマーとしてのアルコキシシランであってもよく、アルコキシシランの一部が加水分解した化合物であってもよい。シリコン含有化合物βは、アルコキシシランの加水分解物の一部が縮重合してシロキサン結合を含む化合物を含んでいてもよい。
Ｒ⁰¹ _4-mＳｉ（ＯＲ⁰²）_m 式（２）

光吸収性組成物において、式（２）で表されるシリコン含有化合物βが含まれることにより、光吸収性組成物を固化させるときに、ネットワークが形成されやすい。例えば、光吸収性組成物を用いて光吸収体を製造する場合に、アルコキシシランの加水分解反応及び縮重合反応が十分に起こるように処理することにより、シロキサン結合(－Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ－)が形成される。これにより、光吸収体が良好な耐湿性を有しやすい。加えて、光吸収体が良好な耐熱性を有する。なぜなら、シロキサン結合は、－Ｃ－Ｃ－結合及び－Ｃ－Ｏ－結合等の結合よりも結合エネルギーが高く化学的に安定しており、耐熱性及び耐湿性に優れているからである。光吸収体の緻密性の向上の観点から、光吸収性組成物は、望ましくは、シリコン含有化合物βとして、式（２）において、ｍ＝４である四官能のアルコキシシランを含む。Ｒ₀₁及びＲ₀₂は、炭素原子の数が１～８である炭化水素基であってもよく、アリール基を含む基であってもよい。また、式（２）において、ｍ＝３である三官能アルコキシシランが、ｍ＝４である四官能アルコキシシランに加えて含まれることによって、光吸収体の柔軟性がもたらされうる。

上記の通り、光吸収性組成物において、上記のシリコン含有化合物の一種として、シリコン含有化合物αが含まれている。シリコン含有化合物αにおける基α－１は、１０以上の炭素原子を有する限り、特定の基に限定されない。基α－１は、アルキル基であってもよいし、アルキル基における少なくとも１つの水素原子がハロゲン原子、ニトロ基、又はアミノ基に置換された置換アルキル基であってもよい。この場合、アルキル基及び置換アルキル基は、分岐した炭素鎖を有していてもよいし、分岐した炭素鎖を有していなくてもよい。

基α－１は、フェニル基を有していてもよいし、フェニル基における少なくとも１つの水素原子がハロゲン原子、ニトロ基、又はアミノ基に置換された置換フェニル基を有していてもよい。基α－１は、ビニル基、エポキシ基、カルボニル基、エステル基、アミノ基、ニトリル基、及びヒドロキシ基等の反応性官能基を有していてもよい。

シリコン含有化合物αは、三官能アルコキシシランであってもよく、二官能アルコキシシランであってもよく、これらのアルコキシシランの加水分解物であってもよい。これらは、光吸収性組成物において光吸収性化合物を所望の状態で分散させやすく、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）等の四官能アルコキシシランの加水分解及び縮重合によって生成されるポリマーに所定の柔軟性及び架橋性を付与しうる。このことは、光吸収性組成物を用いて得られる光吸収体の機械的強度の向上及び耐候性の向上の観点から有利である。

光吸収性組成物が、シリコン含有化合物αとして、三官能アルコキシシラン、二官能アルコキシシラン、又はこれらのアルコキシシランの加水分解物を含む場合、ポリオキシアルキルリン酸エステル等の分散性付与のための化合物を光吸収性組成物に含有させる必要性を低減させることが可能である。

光吸収性組成物において、シリコン含有化合物αとして、三官能アルコキシシラン及び三官能アルコキシシランの加水分解物からなる群より選ばれる少なくとも１つのみが含まれていてもよい。シリコン含有化合物αとして、二官能アルコキシシラン及び二官能アルコキシシランの加水分解物からなる群より選ばれる少なくとも１つのみが含まれていてもよい。光吸収性組成物において、シリコン含有化合物αである、二官能アルコキシシラン、三官能アルコキシシラン、又はこれらの加水分解物が、式（２）で表される四官能アルコキシシラン、三官能アルコキシシラン、又はそれらの加水分解物とともに含まれていてもよい。

光吸収性組成物は、硬化性樹脂を含んでいなくてもよい。なぜなら、シリコン含有化合物αが光吸収性化合物を所望の状態で存在させつつ、光吸収性組成物が固化するように重合し、又は、シリコン含有化合物βも、ネットワークフォーマとして機能して光吸収性組成物が固化するように重合するからである。光吸収性組成物が、式（２）で表されるアルコキシシランに含まれる四官能性アルコキシシランを含んでいると、光吸収体の緻密性の向上又は硬度の向上が期待される。式（１）及び（２）で表されるアルコキシシランは、いわゆるゾルゲル法によって、加水分解及びシロキサン結合の縮重合により、その分子量が増大し、固化しうる。また、アルコキシシラン又はその加水分解物を含む光吸収性組成物に含まれる溶媒又は副生成物が蒸発等によって除去されることによって、光吸収性組成物が乾燥ゲルとして固化されてもよい。どのような作用が支配的かについては、一義に決めることはできないが、光吸収性化合物の分散作用も含めて、様々な作用とプロセスが含まれると考えられる。

光吸収性組成物におけるシリコン含有化合物αの含有量は、特定の値に限定されない。例えば、光吸収性化合物が銅成分を含む場合、銅成分の量に対する、シリコン含有化合物αに含まれるシリコン原子の量の比ｒ_CSは、モル基準で０．３０以上である。この場合、光吸収性組成物において光吸収性化合物の凝集体がより発生しにくい。比ｒ_CSは、望ましくは０．３５以上であり、より望ましくは０．４０以上である。比ｒ_CSは、例えば、２．８０以下である。この場合、光吸収性組成物を用いて得られる光吸収体の厚みを小さくしやすく、光吸収体を備えた素子又は装置の低背化に貢献しやすい。比ｒ_CSは、望ましくは２．５０以下であり、より望ましくは２．２０以下である。

光吸収性組成物がアルコキシシランを含む場合、光吸収性組成物を硬化させて光吸収体を作製するときに加湿処理が行われてもよい。加湿処理において、比較的高い湿度の雰囲気に光吸収性組成物が曝される。加湿処理により、雰囲気中の水分が光吸収性組成物又は光吸収体に含まれるアルコキシシランの加水分解が促進され、シロキサン結合の生成が助長されると考えられる。加湿処理によって、光吸収性化合物を含む粒子が凝集しない状態で硬質で緻密な光吸収体が形成されうる。

基α－１を含むアルコキシシランは、特定のアルコキシシランに限定されない。基α－１を含むアルコキシシランの例は、ｎ‐デシルトリメトキシシラン、ｎ‐ウンデシルトリメトキシシラン、ｎ‐ドデシルトリメトキシシラン、ｎ‐トリデシルトリメトキシシラン、ｎ‐テトラデシルトリメトキシシラン、ｎ‐ペンタデシルトリメトキシシラン、ｎ‐ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ‐ヘプタデシルトリメトキシシラン、ｎ‐オクタデシルトリメトキシシラン、ｎ‐ノナデシルトリメトキシシラン、及びｎ‐エイコシルトリメトキシシランである。基α－１を含むアルコキシシランの別の例は、ｎ‐デシルトリエトキシシラン、ｎ‐ウンデシルトリエトキシシラン、ｎ‐ドデシルトリエトキシシラン、ｎ‐トリデシルトリエトキシシラン、ｎ‐テトラデシルトリエトキシシラン、ｎ‐ペンタデシルトリエトキシシラン、ｎ‐ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ‐ヘプタデシルトリエトキシシラン、ｎ‐オクタデシルトリエトキシシラン、ｎ‐ノナデシルトリエトキシシラン、及びｎ‐エイコシルトリエトキシシランである。基α－１を含むアルコキシシランのさらに別の例は、ｎ‐デシルメチルジエトキシシシラン、ｎ‐ウンデシルメチルジエトキシシラン、ｎ‐ドデシルメチルジエトキシシラン、ｎ‐トリデシルメチルジエトキシシラン、ｎ‐テトラデシルメチルジエトキシシラン、ｎ‐ペンタデシルメチルジエトキシシラン、ｎ‐ヘキサデシルメチルジエトキシシラン、ｎ‐ヘプタデシルメチルジエトキシシラン、ｎ‐オクタデシルメチルジエトキシシラン、ｎ‐ノナデシルメチルジエトキシシラン、及びｎ‐エイコシルメチルジエトキシシランである。さらに、反応性官能基を含むアルコキシシランの例として、８‐グリシドキシオクチルトリメトキシシラン及び８‐メタクリロキシオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。

光吸収性組成物は、基α－１を含むアルコキシシラン以外のアルコキシシランを含んでいてもよい。光吸収性組成物は、式（２）で表されるアルコキシシラン、そのアルコキシシランの加水分解物、及びそのアルコキシシランの加水分解物の縮重合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物であるシリコン含有化合物βを含んでいてもよい。式（２）で表されるアルコキシシランは、特定のアルコキシシランに限定されない。式（２）で表されるアルコキシシランの例は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等である。

光吸収性組成物は溶媒を含んでいてもよい。溶媒は、特定の溶媒に限定されない。溶媒は、有機溶媒であってもよい。有機溶媒は、特定の有機溶媒に限定されない。有機溶媒の例は、アルコール類であってもよいし、キシレン類であってもよいし、環式化合物であってもよい。アルコール類の例は、メタノール、エタノール、ｎ‐プロパノール、ｉ‐プロパノール、ｎ‐ブタノール、ｉ‐ブタノール、２‐ブタノール、ｔ‐ブタノール、ｎ‐ペンタノール、ｉ‐ペンタノール、２‐メチルブタノール、２‐ペンタノール、ｔ‐ペンタノール、３‐メトキシブタノール、ｎ‐ヘキサノール、２‐メチルペンタノール、１‐ヘキサノール、２‐ヘキサノール、２‐エチルブタノール、１‐ヘプタノール、２‐ヘプタノール、３‐ヘプタノール、ｎ‐オクタノール、２‐エチルヘキサノール、２‐オクタノール、ｎ‐ノニルアルコール、２，６ジメチル‐４‐ヘプタノール、ｎ‐デカノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、３，３，５‐トリメチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、及びジアセトンアルコールである。環式化合物の例は、ジクロロベンゼン、ヘプタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、トルエン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、及びオキセタンである。

光吸収性組成物は、リン酸エステルを含んでいてもよい。例えば、光吸収性化合物がホスホン酸を含んでいる場合、リン酸エステルは、ホスホン酸と同様にリン原子及び酸素原子を含有する化合物であるので、リン酸エステル及びホスホン酸の相性が良いことが期待される。リン酸エステルは、光吸収性化合物の分散剤として機能してもよいし、その一部が銅イオン等の金属成分と反応して化合物を形成した状態で存在していてもよい。例えば、リン酸エステルは、その一部が光吸収性化合物に配位していてもよく、その一部が光吸収性化合物の銅成分と錯体を形成していてもよい。この場合、リン酸エステルと銅成分とを含む化合物も所定の波長の光を吸収しうる。

リン酸エステルは、特定のリン酸エステルに限定されない。リン酸エステルは、例えば、ポリオキシアルキル基を有する。このようなリン酸エステルとしては、プライサーフＡ２０８Ｎ：ポリオキシエチレンアルキル（Ｃ１２、Ｃ１３）エーテルリン酸エステル、プライサーフＡ２０８Ｆ：ポリオキシエチレンアルキル（Ｃ８）エーテルリン酸エステル、プライサーフＡ２０８Ｂ：ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸エステル、プライサーフＡ２１９Ｂ：ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸エステル、プライサーフＡＬ：ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステル、プライサーフＡ２１２Ｃ：ポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステル、又はプライサーフＡ２１５Ｃ：ポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステルが挙げられる。これらはいずれも第一工業製薬社製の製品である。加えて、リン酸エステルとして、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－２：ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－４：ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、又はＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－６：ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステルが挙げられる。これらは、いずれも日光ケミカルズ社製の製品である。これらのリン酸エステル化合物は、単独で又は複数組み合わせて用いられてもよい。

一方、光吸収性組成物は、リン酸エステルを実質的に含んでいなくてもよい。光吸収性組成物において基α－１を含むシリコン含有化合物αが存在していることにより、光吸収性化合物が光吸収性組成物において良好に分散しうる。例えば、光吸収性組成物において、シリコン含有化合物αにおけるシリコン原子の量に対するリン酸エステルの量の比は、モル基準で３．０以下であってもよいし、光吸収性組成物は、リン酸エステルを全く含んでいなくてもよい。

上記の通り、光吸収性組成物は、シリコン含有化合物以外の硬化性樹脂を含んでいなくてもよい。一方、光吸収性組成物は、シリコン含有化合物α又はβとは別に、硬化性樹脂等の硬化性成分を含んでいてもよい。硬化性成分の例は、硬化性樹脂、硬化性ポリマー、及び硬化性ポリマーの前駆体であるモノマー、ダイマー、又はオリゴマーである。硬化性成分は、光吸収性化合物を分散又は溶解させて所望の状態で存在させうる。硬化性成分は、未硬化又は未反応の状態では液状であり、望ましくは、ホスホン酸及び銅成分を含む光吸収性化合物を分散又は溶解させうる。加えて、硬化性樹脂としては、望ましくは、スピンコーティング、スプレー、ディッピング、及びディスペンサによる塗布等のコーティング方法によって、所定の対象物上に光吸収性組成物を塗布して塗膜を形成できるものが選択される。硬化性樹脂としては、望ましくは、硬化性樹脂を硬化させて形成された表面が平滑で１ｍｍの厚みを有する板状体の透過スペクトルが波長４５０ｎｍ～８００ｎｍにおいて９０％以上であるものが選択される。硬化性樹脂の例は、環状ポリオレフィン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、変性アクリル樹脂、シリコーン樹脂、及びＰＶＢ等のポリビニル系樹脂であり、又は、それらの前駆体である。これらの硬化性樹脂は、単独で又は複数組み合わせて用いてもよい。

光吸収性組成物は、紫外線に属する一部の光を吸収する紫外線吸収剤を含んでいてもよい。紫外線吸収剤は、特定の化合物に限定されない。紫外線吸収剤は、例えば、一分子内にヒドロキシ基及びカルボニル基の両方を有しない化合物である。例えば、シリコン含有化合物αの分子内の特定の位置に反応物質又は前駆体が配位すること等によって光吸収性組成物の硬化が促されうる。例えば、光吸収性組成物の硬化のための反応に供される物質以外の物質により配位しやすい基が存在すると、触媒の作用が弱められる可能性がある。特に、ヒドロキシ基及びカルボニル基のいずれも高い電子供与性を有しており、シリコン含有化合物αがこれらの基を有する紫外線吸収剤と反応又は配位して、それらの一部が錯体を形成すること考えられる。この場合、紫外線吸収剤に本来的に備わっている紫外線吸収特性が変化する可能性がある。紫外線吸収剤が一分子内にヒドロキシ基及びカルボニル基の両方の基を有しない化合物である場合、シリコン含有化合物αが紫外線吸収剤と錯体を形成しにくく、紫外線吸収剤の本来の紫外線吸収特性が発揮されやすい。紫外線吸収剤は、一分子内にヒドロキシ基及びカルボニル基のいずれか一方のみの基を含んでいてもよい。

紫外線吸収剤は、望ましくは、所望の波長範囲の光を吸収すること、特定の溶媒に対して相溶性を有すること、光吸収性組成物において良好に分散すること、及び耐環境性に優れていること等の観点から選択される。紫外線吸収剤の例は、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸系化合物、及びトリアジン系化合物である。例えば、紫外線吸収剤として、TinuvinPS、Tinuvin99-2、Tinuvin234、Tinuvin326、Tinuvin329、Tinuvin900、Tinuvin928、Tinuvin405、及びTinuvin460を使用できる。これらはＢＡＳＦ社製の紫外線吸収剤であり、Tinuvinは登録商標である。

光吸収性組成物は、必要に応じて水を含んでいてよい。光吸収性組成物は、例えば、所定量のアルコキシシランを含む。例えば、シリコン含有化合物αは、光吸収性組成物にアルコキシシランとして含まれうる。光吸収性組成物において、シリコン含有化合物αに該当するアルコキシシラン、又は、シリコン含有化合物αには該当しないアルコキシシランの加水分解が生じうる。この加水分解のために、光吸収性組成物には水が含まれていてもよい。光吸収性組成物の用途、機能、及び保存環境に応じて、光吸収性組成物が適量の水を含んでいてもよい。

一方、光吸収性組成物を固化させて光吸収体を作製するプロセスにおいて、ポストキュアとして加湿処理を行ってもよい。加湿処理において、分子レベルの水成分が、光吸収体又はその前駆体に取り込まれて、アルコキシシランの加水分解及び加水分解後のシロキサン結合の生成反応が助長されうる。例えば、加湿処理を含むプロセスが採用される場合、光吸収性組成物は、実質的に水を含んでいなくてよい。この場合、光吸収性組成物には、水和物等の化合物に予め配位している水成分や、意図的に添加することなく必然的に含まれてしまう水成分は含まれていてもよい。

光吸収性組成物の製造方法は特定の方法に限定されない。例えば、光吸収性組成物の製造方法は下記（Ｉ）、(II)、及び（III）を含む。
（Ｉ）ホスホン酸及び銅成分を含む光吸収性化合物が溶媒中に分散した光吸収性化合物分散液を作製する。
（II）光吸収性化合物分散液と、１０以上の炭素原子を有する基を含むアルコキシシラン又は前記アルコキシシランの加水分解物とを混合する。
（III）光吸収性化合物分散液から、溶媒の一部を除去する。

図１Ａ～図１Ｄに示す通り、光吸収体１０を提供できる。光吸収体１０は、例えば、上記の光吸収性組成物の固化物として提供される。この場合、光吸収体１０は、基α－１を有し、シロキサン結合を含むポリシロキサンを含む。図１Ａに示す通り、例えば、光吸収体１０が単独で光学フィルタ１ａを構成しうる。この場合、光学フィルタ１ａは、フィルム状であってもよく、光吸収膜であってもよい。図１Ｂに示す通り、光吸収体１０及び基材２０によって、光学フィルタ１ｂが構成されていてもよい。

光吸収体１０において、平均値Ｔ^A _460-600は８０％以上である。平均値Ｔ^A _460-600は、０°の入射角度で光吸収体１０に光を入射させて得られる透過スペクトルの波長４６０ｎｍ～６００ｎｍの範囲内における透過率の平均値である。光吸収体１０の波長λにおける光学濃度ＯＤを光吸収体１０の厚みで除した値をη_λ［μｍ^-1］と表す。光学濃度ＯＤは、ＯＤ＝－ｌｏｇ₁₀［Ｔ（λ）／１００］で表され、Ｔ（λ）は、波長λにおける透過率を％で表した数値である。この場合、光吸収体１０において、０．００９≦η₃₈₀及び０．００８≦η₇₅₀の要件が満たされる。これにより、光吸収体１０は、薄くても、人間の視感度曲線に近い透過率を有しやすい。光吸収体１０の可視光域の透過率は高く、光吸収体１０は、可視光以外の波長に属する光を吸収により効果的に遮蔽しうる。加えて、薄い光吸収体１０を赤外線カットフィルタ又は紫外線カットフィルタとして使用できる。このため、センサ又は受光面の近傍に配置される光学フィルタが薄くなりやすく、光吸収体１０は、撮像装置、並びに、環境光センサ及び照度センサ等の受光装置の低背位化に貢献しうる。光吸収体１０の透過スペクトルは、例えば、０°の入射角度で光吸収体１０に光を入射させたときの透過光を分光光度計等で測定することにより得られる。

光吸収体１０において、平均値Ｔ^A _460-600は、望ましくは８２％以上であり、より望ましくは８４％以上である。これにより、光吸収体１０の可視光域の透過率がより高くなり、光吸収体１０は人間の視感度曲線に近い透過率をより有しやすい。

光吸収体１０において、望ましくは０．０１２≦η₃₈₀の要件が満たされる。光吸収体１０において、望ましくは０．０１０≦η₇₅₀の要件が満たされる。これにより、可視光以外の波長に属する光をより効果的に遮蔽でき、光吸収体１０は人間の視感度曲線に近い透過率をより有しやすい。

光吸収体１０は、例えば０．２％未満のヘイズ（曇価）を有する。例えば、撮像装置に組み込まれる光学フィルタの透過スペクトル及び反射スペクトルは所定の条件を満たすように光学フィルタが設計される。一方、例えば、光学フィルタ又は光吸収体が可視光域において高い透過率を有する場合でも、ヘイズが大きいと、光学フィルタ又は光吸収体に入射した光の一部がその内部で散乱又は拡散し、白濁又は不透明な光学特性を示すことがある。このことは、シャープな像の形成に影響を及ぼしうる。一方、光吸収体１０が０．２％未満のヘイズを有することにより、光吸収体１０の透明性が高く、例えば、光吸収体１０を撮像装置に用いるときに撮像装置によって高い画質の画像が取得されやすい。ヘイズは、光吸収体１０を単独で用いて測定されてもよく、ガラス製又は樹脂製の基材の上に光吸収体１０が配置された状態で測定されてもよい。

光吸収体１０は、望ましくは０．１８％以下のヘイズを有し、より望ましくは０．１５％以下のヘイズを有する。

光吸収体１０は、例えば、０．０１８≦η₉₀₀の要件を満たしていてもよく、０．０１３≦η₁₁₀₀の要件を満たしていてもよい。光吸収体１０は、０．０１６≦η₈₀₀の要件を満たしていてもよく、０．０１３≦η₁₀₀₀の要件を満たしていてもよい。これにより、光吸収体１０が薄くても人間の視感度曲線に近い透過率をより有しやすい。

光吸収体１０は、望ましくは、０．０２０≦η₉₀₀の要件を満たしていてもよく、０．０１５≦η₁₁₀₀の要件を満たしていてもよく、０．０１８≦η₈₀₀の要件を満たしていてもよく、０．０１８≦η₁₀₀₀の要件を満たしていてもよい。

光吸収体１０は、例えば、Ｔ^A _300-380≦１．５％及びＴ^A _750-1100≦２．０％の要件を満たす。Ｔ^A _300-380は、０°の入射角度で光吸収体１０に光を入射させて得られる透過スペクトルの波長３００ｎｍ～３８０ｎｍの範囲内における透過率の平均値である。Ｔ^A _750-1100は、その透過スペクトルの波長７５０ｎｍ～１１００ｎｍの範囲内における透過率の平均値である。この場合、光吸収体１０が人間の視感度曲線に近い透過率をより有しやすい。

光吸収体１０は、望ましくはＴ^A _300-380≦１．２％の要件を満たし、より望ましくはＴ^A _300-380≦１．０％の要件を満たす。光吸収体１０は、望ましくはＴ^A _750-1100≦１．５％以下の要件を満たし、より望ましくはＴ^A _750-1100≦１．０％以下の要件を満たす。

光吸収体１０において、例えば、３９０ｎｍ≦λ⁰ _UV≦４５０ｎｍの要件が満たされ、６００ｎｍ≦λ⁰ _IR≦６８０ｎｍの要件が満たされてもよい。λ⁰ _UVは、波長３５０ｎｍ～４６０ｎｍの範囲内において透過率が５０％となる、第一紫外線カットオフ波長である。λ⁰ _IRは、波長６００ｎｍ～７００ｎｍの範囲内において透過率が５０％となる、第一赤外線カットオフ波長である。光吸収体１０において、望ましくは３９３ｎｍ≦λ⁰ _UV≦４５０ｎｍの要件が満たされ、より望ましくは３９５ｎｍ≦λ⁰ _UV≦４５０ｎｍの要件が満たされる。光吸収体１０において、望ましくは６０５ｎｍ≦λ⁰ _IR≦６８０ｎｍの要件が満たされ、より望ましくは６１０ｎｍ≦λ⁰ _IR≦６８０ｎｍの要件が満たされる。

光吸収体１０は、例えば、Ｒ^A _450-550≦１０％の要件を満たし、Ｒ^A _700-1000≦８％の要件を満たす。Ｒ^A _450-550は、波長４５０ｎｍ～５５０ｎｍの範囲における反射率の平均値である。Ｒ^A _700-1000は、波長７００ｎｍ～１０００ｎｍの範囲における反射率の平均値である。反射率は、例えば、５°の入射角度で３００ｎｍ～１２００ｎｍの光を光吸収体１０に入射させて得られる反射スペクトルに基づいて決定される。光吸収体１０がこれらの要件を満たすように特定の波長の光の一部を吸収すると、例えば、光吸収体１０が組み込まれた撮像装置において反射光が撮像装置の筐体の内部又は絞りにおいて光の反射又は散乱が生じて、ゴースト又はフレア等の撮像された画像のコントラストが低下することを抑制できる。

光吸収体１０は、望ましくはＲ^A _450-550≦８％の要件を満たす。光吸収体１０は、望ましくはＲ^A _700-1000≦６％の要件を満たす。

光吸収体１０は、例えば、Ｒ₃₈₀＜Ｒ₃₅₀の要件を満たす。Ｒ₃₈₀は、波長３８０ｎｍにおける反射率であり、Ｒ₃₅₀は、波長３５０ｎｍにおける反射率である。この場合、画像のコントラストの低下につながるゴースト又はフレアの発生がより抑制されやすい。

上記の透過率、η_λ、ヘイズ、及び反射率に関する要件は、光吸収体１０を備えた光学フィルタにおいて満たされていてもよい。

光吸収体１０の厚みｄ_Lは特定の値に限定されない。厚みｄ_Lは、例えば１５０μｍ以下であり、望ましくは１２０μｍ以下であり、より望ましくは１１０μｍ以下である。

図１Ａに示す通り、光吸収体１０が単独で光学フィルタ１ａを構成している場合、光学フィルタ１ａの厚みが小さくなりやすく、光学フィルタ１ａがフィルム状でありうる。このため、光学フィルタ１ａが組み込まれた装置の低背位化に対する光学フィルタ１ａの貢献が大きくなりやすい。一方、図１Ｂに示す通り、光吸収体１０及び基材２０を備えた光学フィルタ１ｂが提供されてもよい。この場合、光学フィルタ１ｂの剛性又は機械的強度が高くなりやすく、光学フィルタ１ｂがリジッドな光学フィルタとして提供されうる。

基材２０は、例えば、ガラス、樹脂、又は金属によってその表面が形成されうる。基材２０の種類及び光学的特性は、光吸収体１０又は光吸収体１０を備えた光学フィルタが所望の透過率、η_λ、ヘイズ、及び反射率を有する限り、特定の態様に限定されない。加えて、基材２０の形状は特定の形状に限定されない。図１Ｂに示す通り、基材２０は、例えば、平板状である。この場合、光吸収性組成物の塗布が容易であり、光学フィルタ１ｂの汎用性が高くなりやすい。一方、基材２０は、曲面を含んでいてもよいし、凸面又は凹面を含んでいてもよい。基材２０は、板状以外の形状であってもよい。基材２０は、光学素子であってもよく、光学素子の例は、レンズ、偏光子、プリズム、反射素子、及び回折格子である。これらの光学素子は、曲面及び平面を含みうる。基材２０の別の例は、フォトダイオード及びフォトトランジスタ等の光電変換素子、ＣＣＤ又はＣＭＯＳ等の多数の光電変換素子が配列された画像センサ、及びこの画像センサと等価な画像センサである。場合によっては、光吸収体１０が受光面又はウィンドウガラスに直接配置されてもよい。基材２０のさらに別の例は、携帯用端末におけるディスプレイ等の表示装置である。

基材２０は、透明であってもよい。この場合、光吸収体１０の透過スペクトルが光学フィルタ１ｂの透過スペクトルに反映されやすい。例えば、基材２０が透明である場合、基材２０と同一種類の材料で形成された３ｍｍの厚みの平行平板の透過スペクトルにおいて、波長３６０ｎｍ～９００ｎｍの範囲内での透過率が９０％以上であり、波長３５０ｎｍ～１２００ｎｍの範囲での透過率が８５％以上でありうる。このような透過特性を有する基材２０の材料の典型例はガラスである。基材２０は、ケイ酸塩ガラスを含む透明ガラス基材であってもよい。ケイ酸塩ガラスの例は、ソーダ石灰ガラス及びホウケイ酸ガラスである。ホウケイ酸ガラスの例は、SCHOTT社製のＤ２６３Ｔ ｅｃｏである。図２は、３ｍｍの厚みを有するＤ２６３Ｔ ｅｃｏの平板の透過スペクトルを示す。この透過スペクトルにおいて、波長３６０ｎｍ～２３００ｎｍの範囲における透過率は９０％以上であり、波長３３５ｎｍ～２５００ｎｍの範囲における透過率は８５％以上である。基材２０に含まれるガラスは、Ｃｕ及びＣｏ等の着色性の成分を含有するリン酸塩ガラス及び弗リン酸塩ガラスであってもよい。着色性の成分を含有するガラスは、例えば赤外線吸収性ガラスであり、この場合、基材２０自体が光吸収性を有する。基材２０が赤外線吸収性ガラスを含む基材である場合、光吸収体１０及び基材２０の双方の光吸収性及び透過スペクトルを調整することにより、光学フィルタ１ｂが所望の光学特性を有しやすい。加えて、光学フィルタ１ｂの設計の自由度が高くなりやすい。

基材２０は、樹脂を含んでいてもよい。基材２０に含まれる樹脂の例は、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アクリル樹脂、変性アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、及びシリコーン樹脂である。樹脂は、ガラスと比べると加工しやすく、成形も容易である。このため、基材２０が樹脂を含む場合、光学素子等の様々な形状の基材２０が得られやすい。

図１Ｃに示す通り、光学フィルタ１ｃは、光吸収体１０及び光吸収型基材２１を備えている。光吸収型基材２１は、特定の波長の光の一部を吸収する機能を有しつつ、その表面上に光吸収体１０を配置可能な基材である。光吸収型基材２１は、上記の着色性の成分を含有するガラスを含んでいてもよく、色素、顔料、及び色材を含む樹脂製の基材であってもよい。

光吸収体１０を備えた光学フィルタは、光学フィルタに入射した光の表面の反射を防止又は低減するための光反射防止膜又は光反射低減膜を備えていてもよい。この場合、光反射防止膜又は光反射低減膜（以下、総称して「反射防止膜」という）が光学フィルタの表面をなす。図１Ｄに示す通り、光学フィルタ１ｄは、光吸収体１０と、光吸収体１０の表面に設けられた反射防止膜３１ａ及び３１ｂを含んでいる。反射防止膜３１ａ及び３１ｂは、光吸収体１０の表面に沿って配置されている。例えば、光学フィルタが透明基板及び透明基板上に配置された光吸収体１０を備える場合、光吸収体１０の表面上と、光吸収体１０に接していない透明基板の表面上とに反射防止膜が配置されていてもよい。このような、反射防止膜が設けられた光吸収体及びこのような光吸収体と反射防止膜とを備えた光学フィルタも本発明の要旨の範囲に含まれる。

反射防止膜は、例えば、光吸収体１０又は光吸収体１０を備えた光学フィルタを光が透過する波長帯（透過波長帯）において、光吸収体１０又は光学フィルタの透過率を増加させるうる。透過波長帯は、例えば、光吸収体又は光学フィルタの０°の入射角度での透過スペクトルにおいて、透過率が５０％以上となる波長帯である。

光吸収体１０、光学フィルタ、又はそれらを支持するための透明基板（例えば、SCHOOT社製のＤ２６３Ｔ ｅｃｏ）に反射防止膜を形成した場合に、波長３００ｎｍ～１２００ｎｍの波長の光を５°の入射角度で入射させて得られる反射スペクトルにおいて、波長４００ｎｍ～６００ｎｍにおける反射率は、例えば１％以下である。この反射率は、望ましくは０．５％以下であり、より望ましくは０．２５％以下である。

この反射スペクトルにおいて、波長７００ｎｍ～１２００ｎｍにおける反射率の平均値は、例えば１％以下である。この場合、赤外線に属する光の一部が反射して得られた画像にゴースト又はフレアが発生しにくい。この反射率の平均値は、望ましくは０．５％以下であり、より望ましくは０．２５％以下である。

光吸収体１０等に反射防止膜を形成した場合に、波長３００ｎｍ～１２００ｎｍの波長の光を５０°の入射角度で入射させて得られる反射スペクトルにおいて、波長４００ｎｍ～６００ｎｍにおける反射率は、例えば、３％以下である。この場合、光吸収体１０又は光吸収体１０を備えた光学フィルタへの入射角度が大きい場合でも、光吸収体１０又は光吸収体１０を備えた光学フィルタの反射率が低い。この反射率は、望ましくは１％以下である。この反射スペクトルにおいて、波長７００ｎｍ～１２００ｎｍにおける反射率は、例えば、３％以下である。この場合、光吸収体１０又は光吸収体１０を備えた光学フィルタへの入射角度が大きい場合でも、光吸収体１０又は光吸収体１０を備えた光学フィルタの反射率が低い。この反射率は、望ましくは１．５％以下である。

反射防止膜は、特定の膜に限定されない。反射防止膜は、下記（ａ）、（ｂ）、及び（ｃ）からなる群より選ばれる少なくとも１つの層を含む。反射防止膜は、この群から選ばれる２以上の層を含んでいてもよい。図１Ｄにおいて、反射防止膜３１ａ及び３２ａのそれぞれは一層の例で記載されているが、この図は、各反射防止膜を光吸収体１０と区別するように機能的に描いたものであり、実際上は、反射防止膜３１ａ及び３２ａは、略同一の材料からなる単一層として構成された単層膜であってもよいし、異なる複数の材料からなる層が複層に構成された多層膜であってもよい。
（ａ）ケイ素を含む反応性材料を用いたゾルゲル法によって形成された層
（ｂ）ケイ素を含む反応性材料を用いたゾルゲル法によって形成された層であって、さらに微粒子を含む層
（ｃ）真空蒸着法及びスパッタリング等の物理的成膜方法によって形成された層

上記（ａ）の層に関し、ケイ素を含む反応性材料は、特定の材料に限定されない。その反応性材料は、望ましくは、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）等の三官能シラン及びテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）等の四官能シランを含む。四官能シランは、強固で緻密な骨格を有する層を形成するために重要である。一方、四官能シランのみでは反応性の制御が難しく、ポーラシティの選択性が乏しい。加えて、クラックが発生しやすい。三官能シランの添加により、シリカ骨格のフレキシブル性が向上し、ポーラシティの制御性が高まり、クラックも発生にくい。その結果、ポーラシティの調整により、反射防止膜に必要な屈折率の調整が可能である。三官能シランに含まれる有機官能基は、特定の官能基に限定されない。その有機官能基は、例えばメチル基である。この場合、三官能シランを、四官能シランと組み合わせたときに均質な液及び塗膜を容易に形成しうる。四官能シランの量に対する三官能シランの量の比は、特定の値に限定されない。その比は、例えば、モル基準で１／３～５である。これにより、三官能シランにより反射防止膜においてクラックの発生を抑制しつつ、四官能シランによって強固な骨格形成が可能となる。ケイ素を含む反応性材料は、二官能シランをさらに含んでいてもよい。

三官能シランは、特定のシランに限定されない。三官能シランは、例えば、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ペンチルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、及びヘキシルトリメトキシシラン等であり、ケイ素原子（Ｓｉ）に直接結合したアルキル基を有する三官能シランであってもよい。四官能シランは特定のシランに限定されない。四官能シランは、例えば、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等である。

ケイ素を含む反応性材料に含まれるシラン化合物も加水分解によりシラノール基を含むシラン化合物の加水分解物になる。さらに、その加水分解物の縮重合によって、三官能シランは（ポリ）シルセスキオキサンとなり得、四官能シランはシリカの構造に変化し得る。

（ポリ）シルセスキオキサン及びシリカの屈折率は１．４６近傍と低いので、低い屈折率を有する層が形成されやすい。（ポリ）シルセスキオキサン及びシリカからなる群より選ばれる少なくとも１つを含む層は、光吸収体１０又は光吸収体１０を備えた光学フィルタの反射防止膜に含まれる層として適している。

反応性材料の塗膜の焼成は、例えば６０℃～１７０℃の範囲で実施されうる。この焼成がなされる温度は、望ましくは６０℃～１５０℃であり、より望ましくは６０℃～１１５℃である。

上記（ｂ）の層に関し、上記のケイ素を含む反応性材料、この反応性材料の加水分解物、又はこの加水分解物の縮重合物を含む層は、粒子を含む。粒子は、例えば、シリカ、チタニア、ジルコニア、アルミナ、及びフッ化マグネシウムからなる群より選ばれる少なくとも１つを含む。粒子を形成する材料の屈折率は、例えば１．３０～２．５５である。粒子は、望ましくはシリカを含む。シリカ又は（ポリ）シルセスキオキサンを含む層では、それらが粒子を取り巻くバインダーとして働く。このため、シラノール基などを介して粒子とバインダーとの結合力が向上し、反射防止膜の耐候性が高まりやすく、反射防止膜の信頼性の向上が期待できる。

（ｂ）の層に含まれる粒子は、中空粒子であってもよい。中空粒子、シルセスキオキサン、及びシリカを含む層を、（ｂ１）の層として、後述の中実粒子を含む層と区別する。中空粒子は、その内部に空のスペースを含むので、その屈折率が非常に低くなりやすい。中空粒子の屈折率は、例えば、１．０２～１．５０である。中空粒子の平均粒子径は、例えば５ｎｍ～２００ｎｍである。微粒子の平均粒子径は、例えば、レーザー回折・散乱式粒度分析計を使用して、レーザー回折・散乱法に従って測定される個数基準の粒子径分布曲線において、粒子の小さい方からの累積が５０％となる粒子径（メディアン径）である。レーザー回折・散乱式粒度分析計としては、例えば、堀場製作所社製のレーザー回折／散乱式粒子径分布測定装置「ＬＡ－９６０Ｖ２シリーズ」等を使用できる。また、微粒子の平均粒子径は、（ｂ１）の層を含む構造体の断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で１０万倍に拡大して観察したうえで、その視野や所定の範囲内（例えば、５００ｎｍ四方に含まれる微粒子の粒子径を測定したうえで、その平均値を求めることによって決定してもよい。特に、固化された、又は、固体状の層について含まれる微粒子の径を求める場合は、この方法を用いてもよい。また、（ｂ１）の層における微粒子の含有量は、例えば５質量％～９５質量％である。また、（ｂ１）の層における微粒子の含有量は、例えば３０体積％～９９体積％である。（ｂ１）の層における微粒子の含有量は、（ｂ１）の層を含む構造体の断面を、同様にＳＥＭにより１０万倍に拡大して観察したうえで、（ｂ１）の層の体積に対する微粒子の体積の比を算出して求める。一般に、（ｂ１）の層において、中空微粒子の割合が大きいほど、層の屈折率を低くなる傾向がある。（ｂ１）の層における微粒子の含有量は、例えば７５体積％～９９体積％であってもよい。

このような中空粒子を含み、シリカ及び（ポリ）シルセスキオキサンからなる群より選ばれる少なくとも１つを含む層においては、その層の屈折率が非常に低くなりやすい。例えば、（ｂ１）の層の屈折率は、例えば、１．００～１．４５である。中空粒子は、中空シリカ粒子であってもよく、例えば、日揮触媒化成社製スルーリア４１１０又は同１１１０を用いることができる。（ｂ１）の層の屈折率は次のように求めてもよい。特定の波長範囲内の屈折率が既知な基板と、基板の表面に設けた（ｂ１）の層を含む積層体を作製し、その積層体の反射スペクトルを計測する。さらに、ＳＥＭによる断面の拡大画像から取得、又は、レーザ測長顕微鏡などによる測定によって、（ｂ１）の層の厚みを求める。層（ｂ１）の屈折率を変数として、測定された反射スペクトルに最も合致性のよい屈折率を求める。

シリカ及び（ポリ）シルセスキオキサンからなる群より選ばれる少なくとも１つを含む層において、中空粒子を含む場合と中空粒子を含まない場合とを比較した場合、層の屈折率は前者の方が低くなりやすい。このため、反射防止膜が、シリカ及び（ポリ）シルセスキオキサンからなる群より選ばれる少なくとも１つを含み中空粒子を含む層、シリカ及び（ポリ）シルセスキオキサンからなる群より選ばれる少なくとも１つを含み中空粒子を含まない層、及び光学フィルタ又は光吸収体１０がこの順番で積層された構造において、高い反射防止効果が見込める場合がある。

（ｂ）の層に含まれる微粒子は、中実粒子であってもよい。中実粒子、シルセスキオキサン、及びシリカを含む層を、（ｂ２）の層として、先述の中空粒子を含む層と区別する。中実粒子の屈折率は、例えば１．２５～２．７５である。（ｂ）の層が中実粒子を含む場合、（ｂ２）の層の屈折率は、例えば１．４０～２．５０である。中実粒子の平均粒子径は、例えば２ｎｍ～２００ｎｍであってもよい。中実粒子は、中実シリカ粒子であってもよく、例えば日産化学社製のスノーテックスＭＰ－２０４０を使用できる。（ｂ２）の層の屈折率は、先述の（ｂ１）の層の屈折率を求めた方法と同様の方法で求めてもよい。

（ｂ２）の層は、比較的高い屈折率を有する粒子を含んでいてもよく、比較的高い屈折率を有する層として形成されていてもよい。例えば、（ｂ２）の層には、ＴｉＯ₂（酸化チタン、屈折率２．３３～２．５５）、Ｔａ₂Ｏ₅（酸化タンタル、屈折率２．１６）、Ｎｂ₂Ｏ₅（酸化ニオブ、屈折率２．３３）、及びＳｉ₃Ｎ₄（窒化ケイ素、屈折率２．０２）からなる群より選ばれる１つが含まれていてもよく、この群より選択される少なくとも２つが混合されて含まれていてもよい。特に、（ｂ２）の層には、ＴｉＯ₂粒子が含まれていてもよい。この場合、ＴｉＯ₂粒子の平均粒子径は２ｎｍ～２００ｎｍであってもよい。（ｂ２）の層におけるＴｉＯ₂粒子の含有量は、例えば２％～５０％である。ＴｉＯ₂粒子として、例えば、テイカ社製のＮＳ４０５及び石原産業社製ＴＴＯ－５１Ａ等を使用できる。また、（ｂ２）の層に含まれる微粒子の平均粒子径は、（ｂ１）の層に含まれる微粒子の平均粒子径と同じ方法によって決定されてもよい。（ｂ２）の層に含まれる微粒子の含有量は、例えば５質量％～９５質量％である。（ｂ２）の層における微粒子の含有量は、例えば３０体積％～９９体積％である。（ｂ２）の層における微粒子の含有量は、（ｂ１）の層に含まれる微粒子の体積％を求める方法によって求めてもよい。

これらの粒子は、バインダー又はマトリクスとの間で、密着性又は濡れ性を向上させるために、シランカップリング剤又はチタンカップリング剤などによって表面処理されていてもよい。この表面処理は、ＴｉＯ₂粒子及びＳｉＯ₂粒子以外の粒子に対しても有効でありうる。

（ａ）、（ｂ１）及び（ｂ２）の層は、シリコン化合物を含む光吸収体と同様に、バインダー又はマトリクスとしてシリコン化合物を含む。従って、アルコキシ基や、その加水分解物であるシラノール基が、層間に存在して水酸基などと反応し、密着性の向上が期待でき、耐剥離性の向上などに寄与し得る。また、（ａ）、（ｂ１）、及び（ｂ２）の層を、例えば、低屈折率層、中屈折率層、及び高屈折率層に分類する。この場合、低屈折率層は、シリカ及び（ポリ）シルセスキオキサンからなる群より選ばれる少なくとも１つを含み中空粒子を含む（ｂ１）の層である。中屈折率層は、シリカ及び（ポリ）シルセスキオキサンからなる群より選ばれる少なくとも１つを含み中空粒子を含まない（ａ）の層である。高屈折率層は、シリカ及び（ポリ）シルセスキオキサンからなる群より選ばれる少なくとも１つを含みＴｉＯ₂粒子等のさらに、比較的高い屈折率を有する粒子を含む（ｂ２）の層である。例えば、反射防止膜は、これらの層の組み合わせ、層の厚み、層の数、層の組み合わせにおける繰り返しパターン等を考慮して構成されてもよい。各層の屈折率の比較によれば、（ｂ１）の層の屈折率＜（ａ）の層の屈折率＜（ｂ２）の層の屈折率の条件が満たされる。

反射防止膜は、シリカ、（ポリ）シルセスキオキサン、及び中空粒子を含む（ｂ１）の層と、シリカ、（ポリ）シルセスキオキサン、及びＴｉＯ₂粒子等の比較的高い屈折率を有する中実粒子を含む（ｂ２）の層とを積層して含む構成であってもよい。（ｂ２）の屈折率は、（ｂ１）の層の屈折率よりも高い。このように、実質的に異なる屈折率の層を積層して反射防止膜が構成されていることは、反射防止帯の拡大及び反射率の低減等の観点からに大いに効果がある。

（ａ）の層、（ｂ１）の層、及び（ｂ２）の層は、公知の方法で作製可能である。具体的には、シルセスキオキサンの材料となる三官能アルコキシシランと、シリカの材料となる四官能シランと、酸又はアルカリ性の触媒と、加水分解のための水とを、アルコキシシランと水との溶解性を有する有機溶媒中で混合、加水分解させて（ａ）、（ｂ１）、及び（ｂ２）等の層のゾル状の前駆体を得る。特に、（ｂ１）及び（ｂ２）等の層の前駆体においては、必要に応じて中空粒子又は中実粒子が添加される。中空粒子又は中実粒子には、シランカップリング剤等を作用させて、予めシラン処理がなされてもよい。これにより、バインダ（シルセスキオキサン及びシリカを含む、粒子に結着する化合物）との密着性及び濡れ性が向上しうる。

このようにして調製されたゾルの前駆体は、反射防止効果を必要とする基材、ここでは光吸収体又は光学フィルタの表面に、所定の厚みになるように、塗工の条件及び塗布量が調整されて塗工される。塗工方法の例は、スピンコーティング法、ディップ法、ロール法、ディスペンシング法、スプレーコーティング法、及びバーコーティング法であり、塗工方法はこれら以外の方法であってもよい。ゾルの前駆体の塗工後に、アルコキシシランの加水分解及び加水分解物の重合等の反応が進み、ゾルの前駆体が固化する。また、反応の助長又は副生成物の除去を目的として、望ましくは加熱がなされてもよい。また、ゾルにおける反応の他に、溶媒又は液状成分の蒸発又は乾燥によってゲルを生じされる固化プロセスが含まれてもよい。

上記（ｃ）の層に関し、イオンアシスト蒸着（ＩＡＤ）を含む真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理蒸着法によって、誘電体又は金属酸化物からなる層として（ｃ）の層が形成されうる。（ｃ）の層をなす材料は、特定の材料に限定されない。（ｃ）の層は、例えば、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｓｉ₃Ｎ₄、ＴｉＮ_x、及びＭｇＦ₂からなる群より選ばれる少なくとも一つの材料を含む。（ｃ）の層は、これらの化合物が所定の比で混合された材料から構成されていてもよく、異なる化合物の混合された材料の混合比を調整することにより、（ｃ）の層に含まれる層の屈折率を調整してもよい。

（ｃ）の層は、同一の材料のみからなる単層であってもよく、例えば、上記化合物及び上記化合物の混合物から選択される異なる種類の材料を含む二以上の層が積層された多層であってもよい。（ｃ）の層が多層である場合、例えば、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₃、及びＮｂ₂Ｏ₅等の比較的高い屈折率の材料又はこれらの混合物からなる層と、ＳｉＯ₂及びＭｇＦ₂などの比較的低い屈折率の材料又はこれらの混合物からなる層との厚み及び繰り返し数を調整しながらこれらの層を交互に積層することによって、反射防止膜が形成されてもよい。この場合も、実質的に異なる屈折率の層を積層して反射防止膜を構成することは、反射防止帯の拡大又は反射率の低減等の観点からに大いに効果があると見込まれ、光学フィルタ又は光吸収体の使用者にとって有利である。

光吸収体１０の両面に反射防止膜３１ａ及び３２ａが設けられた光学フィルタ１ｄにおいて、波長４００ｎｍ～６００ｎｍにおける透過率の平均値Ｔ₂ ^A _460-600は、望ましくは９０％以上であり、より望ましくは９４％以上である。この場合、可視光領域において、ほとんど光が減衰せずに光学フィルタ１ｄを透過する。このため、光学フィルタ１ｄは、撮像装置に用いられる光学フィルタとしての極めて好都合な性質を有する。

また、光吸収体１０の両面に反射防止膜３１ａ及び３２ａが設けられた光学フィルタ１ｄにおいて、波長λにおける光学濃度であるＯＤ値を光吸収体の厚み（光学フィルタの厚みから反射防止膜の厚みを除いた厚み）で除した値をη_2-λ［μｍ^-1］としたとき、０．００９≦η_2-380及び０．００８≦η_2-750であることが望ましく、０．０１２≦η_2-380及び０．０１０≦η_2-750であることがさらに望ましい。

光吸収体１０の両面に反射防止膜３１ａ及び３２ａが設けられた光学フィルタ１ｄにおいては、反射防止膜が設けられていない光学フィルタと同様に、０．２％未満のヘイズ（曇価）を有することが望ましく、ヘイズが０．１８％以下であることがさらに望ましく、ヘイズが０．１５％以下であることが特に望ましい。

光吸収体１０の両面に反射防止膜３１ａ及び３２ａが設けられた光学フィルタ１ｄにおいて、例えば０．０２０≦η_2-900の要件を満たしていてもよく、０．０１３≦η_2-1100の要件を満たしてもよい。さらに、光学フィルタ１ｄは、０．０２０≦η_2-800の要件を満たしていてもよく、０．０１２≦η_2-1000を満たしていてもよい。

光学フィルタ１ｄは、望ましくは０．０２２≦η_2-900の要件を満たしていてもよく、０．０１５≦η_2-1100の要件を満たしてもよく、０．０２５≦η_2-800の要件を満たしていてもよく、０．０１５≦η_2-1000を満たしていてもよい。

光吸収体１０の両面に反射防止膜３１ａ及び３２ａが設けられた光学フィルタ１ｄは、例えば、Ｔ₂ ^A _300-380≦１．５％及びＴ₂ ^A _750-1100≦２．０％の要件を満たしてもよく、望ましくは、Ｔ₂ ^A _300-380≦１．２％及びＴ₂ ^A _750-1100≦１．５％の要件を満たしてもよく、さらに望ましくは、Ｔ₂ ^A _300-380≦１．０％及びＴ₂ ^A _750-1100≦１．０％の要件を満たしてもよい。Ｔ₂ ^A _300-380は、波長３００ｎｍ～３８０ｎｍにおける透過率の平均値であり、Ｔ₂ ^A _750-1100は、波長７５０ｎｍ～１１００ｎｍにおける透過率の平均値である。

光吸収体１０の両面に反射防止膜３１ａ及び３２ａが設けられた光学フィルタ１ｄは、例えば、３９０ｎｍ≦λ₂ ⁰ _UV≦４５０ｎｍの要件及び６００ｎｍ≦λ₂ ⁰ _IR≦６８０ｎｍの要件を満たしている。λ₂ ⁰ _UVは、光学フィルタ１ｄにおいて、波長３５０ｎｍ～４６０ｎｍの範囲内において透過率が５０％となる第２紫外線カットオフ波長であり、λ₂ ⁰ _IRは、光学フィルタ１ｄにおいて、波長６００ｎｍ～７００ｎｍの範囲内において透過率が５０％となる第２赤外線カットオフ波長である。

光吸収体１０又は光吸収体１０を含む光学フィルタを備えた環境光センサが提供されてもよい。環境光センサ（Ambient Light Sensor）は、機器に搭載されて、機器の周辺の明るさ又は色相等を検出するデバイスである。環境光センサによって機器の周辺の光の属性が認識され、例えば、その機器に搭載されたディスプレイ等の表示装置の明るさ等が自動的に調整される。環境光センサは、輝度センサ（Luminance Sensor）又は照度センサ（Illuminance Sensor）と呼ばれることもある。

図３Ａは、環境光センサの一例を示す断面図である。図３Ａに示す通り、環境光センサ２ａは、例えば、電気回路基板３と、光電変換素子４と、ハウジング５と、光学フィルタ１ａとを備えている。環境光センサ２ａは、例えば、環境光センサ２ａを備えた機器の周辺の光の属性のうち、可視光域に属する光の属性を検出する。電気回路基板３は、環境光センサ２ａを支持しており、環境光センサ２ａを周辺のデバイスと電気的に接続している。光電変換素子４は、電気回路基板３の上に配置されており、例えば、フォトダイオード又はフォトトランジスタ等の素子を含む。ハウジング５は、電気回路基板３の上に配置されており、光電変換素子４の周囲を囲んでいる。光学フィルタ１ａは、例えば、光電変換素子４の前方に配置されており、光電変換素子４に向かって進む光の一部を遮蔽する。光学フィルタ１ａは、例えば、紫外線又は赤外線に属する光の一部を遮蔽する。光学フィルタ１ａは、ハウジング５によって支持されている。

環境光センサは、図３Ａに示す通り、光吸収体１０を備えた光学フィルタを備えていてもよいし、例えば、図３Ｂに示す通り、光吸収体１０と光電変換素子とが一体化された一体型光電変換素子を備えていてもよい。図３Ｂに示す光電変換素子２ｂは、光受光面２ｆと、光吸収体１０とを備えている。光電変換素子２ｂにおいて、光受光面２ｆ及び光吸収体１０がこの順番で配置されている。光電変換素子２ｂは、一体型光電変換素子である。一体型光電変換素子は、例えば、光電変換素子の光受光面（窓）の表面に、上記の光吸収性組成物を塗布して硬化させて、光吸収体１０を形成することによって得られる。このような光電変換素子を用いる場合、光電変換素子と別体で光吸収体を用いる必要がない。このような環境光センサによれば、可視光域以外の、例えば紫外線又は赤外線に属する一部の光を光吸収体１０における吸収により遮蔽でき、略可視光域の光を検出することに特化した環境光センサとして環境光センサの扱いやすさが著しく向上しうる。加えて、製品の流通のサプライチェーンの単純化も期待できる。

光電変換素子２ｂにおいて、例えば、電気回路基板３の上に、第一電極Ｅ１及び光電変換層Ｌがこの順番で積層されている。加えて、光電変換層Ｌ上に、第二電極Ｅ２、光受光面２ｆ、及び光吸収体１０が配置されている。

環境光センサに搭載される、光吸収体１０又は光吸収体１０を含む光学フィルタの表面には、反射率を低減し、所定の波長の光の透過率を増加させるために、反射防止膜又は反射低減膜が設けられていてもよい。

光吸収体１０又は光吸収体１０を含む光学フィルタを備えた撮像装置又はカメラモジュールが提供されうる。撮像装置又はカメラモジュールは、例えば、画像センサと、電気回路基板と、レンズ系と、光吸収体１０を備えた光学フィルタとを備えている。画像センサにおいて、例えば、ＣＣＤ又はＣＭＯＳ等の多数の光電変換素子が配列されている。電気回路基板は、画像センサを外部のデバイスと電気的に接続する。レンズ系は、被写体等からの光を画像センサに集光して結像させるための一又は二以上のレンズ群を含む。光吸収体１０又は光吸収体１０を備えた光学フィルタは、紫外線及び赤外線に属する一部の光を遮蔽しうる。

例えば、光吸収体１０又は光吸収体１０を備えた光学フィルタが搭載された撮像装置において、紫外線及び赤外線に属する一部の光は吸収により遮蔽され、かつ、可視光域に属する光が画像センサに向かって光学フィルタを透過する。光学フィルタが誘電体多層膜等によって一部の光を反射する機能を有している場合、光学フィルタにより反射した光の一部が筐体の内部、光学フィルタの前方に配置されたレンズ系の表面で反射される、又は、それらの反射光の一部が絞り若しくはその形状を投影して、撮像素子の受光面に到達することによって、ゴースト及びフレア等のコントラストを劣化させるような現象を顕在化させる。一方、光吸収体１０を備えた光学フィルタが搭載された撮像装置によれば、このような現象が発生しにくく、取得した画像において、ゴースト又はフレア等が目立ちにくい。

図４Ａは、撮像装置の一例を示す図である。本図は撮像装置の概略を示すものであり、説明のために必要な要素のみが概略的に記載され、その他のパーツ又は要素については省略されている。図４Ａに示す通り、撮像装置６ａは、画像センサ７と、レンズ系８と、光学フィルタ１ａとを備えている。撮像装置６ａにおいて、光学フィルタ１ａは、例えば、画像センサ７とレンズ系８との間において、画像センサ７の直前に配置されている。光学フィルタの配置は図４Ａに示す配置に限定されない。光学フィルタは、レンズ系８の前方である被写体側に配置されていてもよい。この場合、光学フィルタは、例えば、光吸収体１０と、光吸収体１０を支持する透明誘電体基板とを備える。透明誘電体基板として、ガラス基板等のリジッドな基板を用いると、光学フィルタに、撮像装置及びレンズ系を外部から保護するための保護フィルタとしての機能を期待できる。

図４Ｂは、撮像装置の別の一例を示す図である。撮像装置６ｂは、特に説明する部分を除き、撮像装置６ａと同様に構成されている。図４Ｂに示す通り、撮像装置６ｂにおいて、レンズ系８に含まれる一部のレンズ８ａの表面に光吸収体１０が配置されている。例えば、レンズ８ａの表面に上記の光吸収性組成物を塗布して硬化させ、レンズ８ａと界面をなすように光吸収体１０を配置できる。これにより、光吸収性の光学フィルタをレンズ系８とは別に設けなくても、レンズ系８が所望の光遮蔽性を有しうるので、撮像装置の組み立て又は製造の著しい簡略化を期待できる。このような光吸収体１０が一体に形成されたレンズ８ａ、又は、このようなレンズ８ａを含むレンズ系を流通させてもよい。光吸収体１０の表面には反射防止膜又は反射低減膜が形成されてもよい。これにより、光吸収体１０の表面からの反射光が低減し、可視光域の透過光が増加しやすい。撮像装置６ｂにおいて、光吸収体１０の配置は図４Ｂに示す配置に限定されない。

撮像装置のレンズ系の中には、二以上のレンズがその表面同士を貼り合わせることにより形成された一群のレンズを含む場合がある。レンズ同士の貼り合わせのためには、接着剤又は硬化性の樹脂が用いられうる。図示しないが、上記の光吸収性組成物がレンズ同士を貼り合わせるための接着剤等として用いられてもよい。この場合、光吸収体１０がレンズ系の外部環境の影響を受けにくく、光吸収体１０又は光吸収体１０に含まれる成分の保護が期待される。光吸収体１０及びレンズの屈折率が略同じであるように光吸収性組成物が調製されると、光吸収体１０とレンズとの界面での反射を著しく低減でき、反射防止コーティングが不要になるという利点が得られる。

実施例により、本発明をより詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。

＜実施例１＞
酢酸銅一水和物４．５００ｇとテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２４０ｇとを混合して、３時間撹拌し、酢酸銅溶液である（１－Ａ）液を得た。次にフェニルホスホン酸０．６１０ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、（１－Ｂ）液を得た。４‐ブロモフェニルホスホン酸３．６６０ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、（１－Ｃ）液を得た。ｎ‐ブチルホスホン酸０．７５８ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、（１－Ｄ）液を得た。（１－Ａ）液に、（１－Ｂ）液、（１－Ｃ）液、及び（１－Ｄ）液を混合し、さらに、三官能アルコキシシランであるｎ‐ヘキサデシルトリメトキシシラン４．００ｇと、四官能アルコキシシランであるテトラエトキシシラン２．７８ｇとを加えて、さらに１分間撹拌して（１－Ｅ）液を得た。次に、この（１－Ｅ）液にトルエン４０ｇを加えた後、室温で１分間撹拌し、（１－Ｆ）液を得た。この（１－Ｆ）液をフラスコに入れてオイルバス（東京理化器械社製、型式：ＯＳＢ－２１００）で加温しながら、ロータリーエバポレータ（東京理化器械社製、型式：Ｎ－１１１０ＳＦ）によって処理を行い、反応を進め、かつ、ＴＨＦを取り除いた。オイルバスの設定温度は８５℃に調整した。その後、フラスコの中から処理後の液を取り出した。このようにしてホスホン酸及び銅成分を含む光吸収性化合物と、ｎ‐ヘキサデシル基を含むシリコン含有化合物とを含む、液状の実施例１に係る光吸収性組成物である光吸収性組成物（１－Ｇ）を得た。実施例１に係る光吸収性組成物の調製における各化合物の添加量（含有量）を表１に示す。表１には、他の実施例及び各比較例に係る光吸収性組成物の調製における各化合物の添加量（含有量）も示されている。

基材である、７６ｍｍ×７６ｍｍ×０．２１ｍｍの寸法を有するホウケイ酸ガラス（SCHOTT社製、製品名：Ｄ２６３ Ｔ ｅｃｏ）の一方の主面にディスペンサを用いて光吸収性組成物（１－Ｇ）の塗膜を形成した。得られた塗膜を室温で十分に乾燥させた後、オーブンに入れて室温～８５℃の範囲で６時間程度加温してアルコキシシランの反応を十分に進めるとともに光吸収性組成物（１－Ｇ）に含まれる有機溶媒を揮発させた。その後、さらに温度８５℃及び相対湿度８５％の環境下に塗膜をさらに８時間置いてポストキュアを行い、反応を完了させた。このようにして、実施例１に係る光吸収体が得られた。加えて、実施例１に係る光吸収体が基材上に配置された実施例１に係る光学フィルタが得られた。

村上色彩技術研究所社製のヘイズメーター ＨＭ－６５Ｌ２を用いて、実施例１に係る光吸収体のヘイズを日本産業規格JIS K 7136:2000に準拠して測定した。表２に示す通り、実施例１に係る光吸収体のヘイズ値は０．１９％であった。表２には、未測定の場合を除き、他の実施例及び比較例に係る光吸収体のへイズ値が示されている。

キーエンス社製のレーザー変位計ＬＫ－Ｈ００８を用いて、実施例１に係る光吸収体の厚みを測定した。表２に示す通り、実施例１に係る光吸収体の厚みは９７μｍであった。表２には、未測定の場合を除き、他の実施例及び比較例に係る光吸収体の厚みが示されている。

日本分光社製の透過光の測定アタッチメントが付属した紫外可視近赤外分光光度計Ｖ－７７０を用いて、実施例１に係る光吸収体の０°の入射角度における透過スペクトルを測定した。透過スペクトルの測定は、特段の断りのない限り、光学フィルタの周囲の環境の温度を２２～２５℃に調節して行った。この測定において、測定アタッチメントを反射光の測定アタッチメントに交換して、実施例１に係る光吸収体の５°の入射角度における反射ペクトルを測定した。反射スペクトルの測定は、特段の断りのない限り、光学フィルタの周囲の環境の温度を２２～２５℃にして行った。図５Ａに、実施例１に係る光吸収体の透過スペクトルを示す。図５Ｂに、実施例１に係る光吸収体の反射スペクトルを示す。表２に、０°の入射角度における光吸収体の光学的諸条件に関する特性値を示す。表３に、特定の波長における光学濃度を光吸収体の厚みで除して求められるη_λの値を示す。表２及び３に、他の実施例及び各比較例に係る光吸収体の透過率又は反射率に関する特性値、並びに、η_λの値を示す。

＜実施例２～１４＞
必要な化合物及びその添加量を表１Ａに示すように変更したこと以外は、実施例１と同様の方法及び条件によって、実施例２～１２に係る光吸収体を作製した。また、必要な化合物及びその添加量を表１Ｂに示すように変更したこと以外は、実施例１と同様の方法及び条件によって、実施例１３及び１４に係る光吸収体を作製した。各光吸収体の各特性値を測定又は算出した結果を表２及び３に示す。実施例２に係る光吸収体の透過スペクトル及び反射スペクトルをそれぞれ図６Ａ及び図６Ｂに示す。実施例３に係る光吸収体の透過スペクトル及び反射スペクトルをそれぞれ図７Ａ及び図７Ｂに示す。実施例８に係る光吸収体の透過スペクトルを図８に示す。実施例１３に係る光吸収体の透過スペクトルを図９に示す。実施例１４に係る光吸収体の透過スペクトルを図１０に示す。

＜実施例１５＞
表面防汚コーティング剤（ダイキン工業社製、製品名：オプツールＤＳＸ、有効成分の濃度：２０質量％）０．１ｇと、ハイドロフルオロエーテル含有液（３Ｍ社製、製品名：ノベック７１００）１９．９ｇとを混合し、５分間撹拌して、フッ素処理剤（有効成分の濃度：０．１質量％）を調製した。このフッ素処理剤を、７６ｍｍ×７６ｍｍ×０．２１ｍｍの寸法を有するホウケイ酸ガラス（SCHOTT社製、製品名：Ｄ２６３ Ｔ ｅｃｏ）の一方の主面に塗布した。その後、このガラス基板を室温で２４時間放置してフッ素処理剤の塗膜を乾燥させ、その後、ノベック７１００を含んだ無塵布で軽くガラス表面を拭きあげて余分なフッ素処理剤を取り除いた。このようにしてフッ素処理基板を作製した。

必要な化合物及びその添加量を、表１Ａに記載の通り変更した以外は、実施例１と同様の方法及び条件によって、実施例１５に係る光吸収性組成物を作製した。実施例１に係る光吸収性組成物の代わりに実施例１５に係る光吸収性組成物を用い、基材の代わりに上記のフッ素処理基板を用いたこと以外は、実施例１と同様にしてフッ素処理基板上に光吸収体を作製した。次に、この光吸収体をフッ素処理基板から剥離し、フィルム状の実施例１５に係る光吸収体を取得し、実施例１５に係る光学フィルタとした。

表２及び表３に、実施例１５に係る光学フィルタの各特性値を測定又は算出した結果を示す。

＜実施例１６＞
酢酸銅一水和物４．５００ｇとテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２４０ｇとを混合して、３時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフＡ２０８Ｎ（第一工業製薬社製）を２．４００ｇ加えて３０分間撹拌し、（１６－Ａ）液を得た。次にｎ‐ブチルホスホン酸２．８００ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、（１６－Ｂ）液を得た。（１６－Ａ）液と（１６－Ｂ）液とを混合して１分間撹拌して（１６－Ｃ）液を得た。次に、この（１６－Ｃ）液にトルエン１２０ｇを加えた後、室温で１分間撹拌し、（１６－Ｄ）液を得た。この（１６－Ｄ）液をフラスコに入れてオイルバス（東京理化器械社製、型式：ＯＳＢ－２１００）で加温しながら、ロータリーエバポレータ（東京理化器械社製、型式：Ｎ－１１１０ＳＦ）によって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は１０５℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の液を取り出した。このようにしてホスホン酸と銅成分を含む光吸収性化合物が分散した液状組成物（１６－Ｅ）を得た。

シリコーン樹脂（信越化学工業社製、製品名：ＫＲ－３００）７．５４ｇと、触媒（信越化学工業社製、製品名：ＣＡＴ－ＡＣ）０．１８ｇと、三官能アルコキシシランとしてメチルトリエトキシシラン（信越化学工業社製、製品名：ＫＢＥ－１３）９．７４ｇと、四官能アルコキシシランとしてテトラエトキシシラン（キシダ化学社製 特級）５．６８ｇと、二官能アルコキシシランとしてのジメチルジエトキシシラン（ＤＭＤＥＳ）（信越化学工業社製、製品名：ＫＢＥ－２２）５．７０ｇとを混合して３０分間撹拌して調整された液状の硬化性樹脂（１６－Ｆ）を得た。さらに、上記の液状組成物（１６－Ｅ）と液状の硬化性樹脂（１６－Ｆ）とを混合して３０分間撹拌したのち、光吸収性フィルム用組成物（１６－Ｇ）を作製した。

実施例１５と同様に作製したフッ素処理基板上の、中心部の８０ｍｍ×８０ｍｍの範囲にディスペンサを用いて光吸収性フィルム用組成物（１６－Ｇ）を塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を室温で十分に乾燥させた後、オーブンに入れて室温～８５℃の範囲で十分に加温してアルコキシシランの反応を十分に進めるとともに光吸収性フィルム用組成物（１６－Ｇ）に含まれる有機溶媒を揮発させた。その後、さらに温度８５℃及び相対湿度８５％の環境下にさらに２４時間置いてポストキュアを行い、反応を完了させて、フッ素処理基板上に光吸収体を作製した。次に、この光吸収体をフッ素処理基板から剥離することによって、フィルム状の光吸収型基材（１６－Ｈ）を取得した。図１１Ａに、光吸収型基材（１６－Ｈ）の透過スペクトルを示す。加えて、表２～４に、この透過スペクトルから看取できる特性値及びフィルム状の光吸収型基材（１６－Ｈ）の厚みを示す。

必要な化合物及びその添加量について、表１に記載の通り変更したこと以外は実施例１と同様の方法及び条件によって実施例１６に係る光吸収性組成物を調製した。実施例１の代わりに実施例１６に係る光吸収性組成物を用い、かつ、基材として光吸収型基材（１６－Ｈ）を用いたこと以外は実施例１と同様の方法及び条件によって、二層の光吸収性層を備えた実施例１６に係る光学フィルタを作製した。図１１Ｂに、実施例１６に係る光学フィルタの透過スペクトルを示す。加えて、表２及び３に、実施例１６に係る光学フィルタの各特性値を測定又は算出した結果を示す。

＜比較例１～３＞
必要な化合物及びその添加量について、表１に記載の通り変更した以外は、実施例１と同様の方法及び条件によって、比較例１～３に係る光吸収体を作製した。図１２に比較例３に係る光学フィルタの透過スペクトルを示す。比較例１～３に係る光吸収体について測定又は算出可能であった各特性値の測定結果及び算出結果を表２及び３に示す。

比較例１に係る光吸収性組成物には顕著な濁りが発生し、透明性のある光学フィルタは作製できなかった。比較例１において、添加された三官能アルコキシシランにおいてケイ素原子に直接結合しているアルキル基の炭素原子の数が６と少ないために、生成されたホスホン酸銅化合物の凝集抑制効果が不十分であったと推定される。そこで、比較例２において同三官能アルコキシシランの添加量を増やしたが、やはり顕著な濁りが発生した。さらに大幅に同三官能シラン添加量を増やした比較例３においては光学フィルタを作製することができた。しかし、図１２に示す通り、比較例３に係る光学フィルタの可視光域の透過率は低く、比較例３に係る光学フィルタにおける光吸収体の厚みは１５７μｍであった。加えて、比較例３に係る光吸収体のヘイズも１２．９６と非常に大きく、良好な特性の光学フィルタを得ることができなかった。これらの結果から、三官能直鎖アルキルシランのアルキル基の炭素原子の数が１０よりも少ない場合には、十分なホスホン酸銅の凝集抑制効果が得られず、良好な光学特性の光学フィルタを作製することが困難であることが示唆された。

＜実施例１７＞
（反射防止膜形成用の液状前駆体の作製）
四官能シランの一種であるテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）０．８７ｇ、三官能シランの一種であるメチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）１．３３ｇ、０．３重量％ギ酸０．８０ｇ、中空シリカ粒子含有ゾル３．７０ｇ（日揮触媒化成社製、製品名：スルーリア４１１０、シリカ固形分：約２５重量％）、及びエタノール２７．３ｇを混合して３０℃で１時間、さらに３５℃で２時間反応させて、反射防止膜の形成のための液状前駆体Ａ（以降、反射防止膜形成用液組成物Ａという。）を作製した。

（反射防止膜付きの光学フィルタの作製）
実施例１５と同様の条件及び方法によって作製した光学フィルタの一方の面に、乾燥及び硬化後の膜厚が１２０ｎｍになるように塗布量及び塗布条件を調整して、反射防止膜形成用液組成物Ａを塗布した。塗布はスピンコータを用い、回転速度及び回転時間についても調整した。一方の面に反射防止膜形成用液組成物Ａが塗布された光学フィルタを、約１分間静置させて初期乾燥させた。さらに、光学フィルタのもう他方の面についても同様の条件と方法によって反射防止膜形成用液組成物Ａを塗布した。このようにして初期乾燥させた反射防止膜形成用組成物Ａが両面に付された光学フィルタを、内部の温度が８５℃に加熱されたオーブン内に１時間静置させて、組成物を反応させて固化させることにより、実施例１７に係る光学フィルタを作製した。この光学フィルタはその両面に反射防止膜を有していた。実施例１７に係る光学フィルタの透過スペクトルを図１３に示す。透過スペクトルに基づく特性値と算出値を表５に示す、さらに、各波長λにおける光学濃度ＯＤ値を光吸収体の厚みで除した値を表６に示す。

＜実施例１８＞
（反射防止膜形成用の液状前駆体の作製）
テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）０．６５ｇ、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）１．５０ｇ、０．３重量％ギ酸０．８０ｇ、及びエタノール２７．３ｇを混合して３０℃で１時間、さらに３５℃で２時間反応させた。このようにして反射防止膜形成用組成物Ｂを作製した。

（反射防止膜付きの光学フィルタの作製）
実施例１５と同様の条件と方法によって作製した光学フィルタの一方の面に、乾燥及び硬化後の膜厚が２５０ｎｍになるように塗布量及び塗布条件を調整して、反射防止膜形成用液組成物Ｂを塗布した。塗布はスピンコータを用い、回転速度及び回転時間についても調整した。一方の面に反射防止膜形成用液組成物Ｂが塗布された光学フィルタを約１分間静置させて初期乾燥させた。さらに、光学フィルタの他方の面についても同様の条件と方法によって反射防止膜形成用液組成物Ｂを塗布した。このようにして初期乾燥させた反射防止膜形成用組成物Ｂが両面に付された光学フィルタを、内部の温度が８５℃に加熱されたオーブン内に１時間静置させて、組成物を反応させて固化させた。次に、両面に反射膜形成用組成物Ｂが固化した層を有する光学フィルタについて、その一方の面に、乾燥及び硬化後の膜厚が９０ｎｍになるように塗布量及び塗布条件を調整して、反射防止膜形成用液組成物Ａを塗布した。塗布はスピンコータを用い、回転速度及び回転時間についても調整した。一方の面に反射防止膜形成用液組成物Ａが塗布された光学フィルタを、約１分間静置させて初期乾燥させた。さらに、光学フィルタの他方の面についても同様の条件と方法によって反射防止膜形成用液組成物Ａを塗布した。このようにして初期乾燥させた反射防止膜形成用組成物Ａが両面に付された光学フィルタを、内部の温度が８５℃に加熱されたオーブン内に１時間静置させて、組成物を反応させて固化させることにより、実施例１８に係る光学フィルタを作製した。この光学フィルタはその両面に反射防止膜を有していた。実施例１８に係る光学フィルタの透過スペクトルを図１４に示す。透過スペクトルに基づく特性値と算出値を表５に示す、さらに、各波長λにおける光学濃度ＯＤ値を光吸収体の厚みで除した値を表６に示す。

Claims (23)

1. 光吸収性組成物であって、
   １０以上の炭素原子を有する基を含むアルコキシシラン、前記アルコキシシランの加水分解物、及び前記アルコキシシランの加水分解物の重合物からなる群より選ばれる少なくとも一つと、
   光吸収性化合物と、を含み、
   前記光吸収性組成物の固化物である光吸収体は、次の（ｉ）及び（ii）の条件を満たす、
   光吸収性組成物。
   （ｉ）波長λにおける光学濃度ＯＤを、前記光吸収体の厚みで除した値をη _λ ［μｍ ^-1 ］と表すとき、０．００９≦η ₃₈₀ 及び０．００８≦η ₇₅₀
   （ii）波長４６０ｎｍ～６００ｎｍの範囲内における透過率の平均値をＴ ^A _460-600 と表すとき、８０％≦Ｔ ^A _460-600
2. 前記光吸収性化合物は、リン酸化合物及び銅成分を含んでいる、請求項１に記載の光吸収性組成物。
3. 前記光吸収性化合物は、ホスホン酸及び銅成分を含んでいる、請求項１に記載の光吸収性組成物。
4. 前記光吸収性組成物は、リン酸エステルを含有していない、請求項１～３のいずれか１項に記載の光吸収性組成物。
5. 光吸収体であって、
   平均値Ｔ^A _460-600は、８０％以上であり、
   前記平均値Ｔ^A _460-600は、０°の入射角度で前記光吸収体に光を入射させて得られる透過スペクトルの波長４６０ｎｍ～６００ｎｍの範囲内における透過率の平均値であり、
   前記光吸収体の波長λにおける光学濃度ＯＤを前記光吸収体の厚みで除した値をη_λ［μｍ^-1］と表すとき、０．００９≦η₃₈₀及び０．００８≦η₇₅₀の要件を満たす、
   光吸収体。
6. ０．２％未満のヘイズを有する、請求項５に記載の光吸収体。
7. 平均値Ｔ^A _300-380及び平均値Ｔ^A _750-1100は、Ｔ^A _300-380≦１．５％及びＴ^A _750-1100≦２．０％の要件を満たし、
   前記平均値Ｔ^A _300-380は、前記透過スペクトルの波長３００ｎｍ～３８０ｎｍの範囲内における透過率の平均値であり、
   前記平均値Ｔ^A _750-1100は、前記透過スペクトルの波長７５０ｎｍ～１１００ｎｍの範囲内における透過率の平均値である、
   請求項５又は６に記載の光吸収体。
8. 請求項５又は６に記載の光吸収体を備えた、光学フィルタ。
9. 前記光吸収体と、前記光吸収体の表面に設けられた反射防止膜とを含む、
   請求項８に記載の光学フィルタ。
10. 前記反射防止膜は、下記（ａ）、（ｂ１）、（ｂ２）、及び（ｃ）からなる群より選択される一または二以上の層を含む、請求項９に記載の光学フィルタ。
    （ａ）シルセスキオキサン及びシリカを含む層
    （ｂ１）シルセスキオキサン、シリカ、及び中空粒子を含む層
    （ｂ２）シルセスキオキサン、シリカ、及び中実粒子を含む層
    （ｃ）ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｓｉ₃Ｎ₄、ＴｉＮ_x及びＭｇＦ₂からなる群より選ばれる少なくとも一つの材料を含む層
11. 前記（ｂ１）の層は、１．０２～１．５０の屈折率を有する中空粒子を含む、請求項１０に記載の光学フィルタ。
12. 前記（ｃ）の層は、一層又は異なる材料からなる二以上の層から構成される、請求項１０に記載の光学フィルタ。
13. 前記反射防止膜は、前記（ｂ１）の層と、前記（ｂ２）の層とを含み、
    前記（ｂ２）の層の屈折率は、前記（ｂ１）の層の屈折率よりも高い、
    請求項１０に記載の光学フィルタ。
14. 前記（ｂ１）の層は、１．０２～１．５０の屈折率を有する中空粒子を含む、請求項１０に記載の光学フィルタ。
15. 前記（ｂ２）の層は、１．２５～２．７５の屈折率を有する中実粒子を含む、請求項１０に記載の光学フィルタ。
16. 請求項５又は６に記載の光吸収体を備えた、環境光センサ。
17. 請求項５又は６に記載の光吸収体を備えた、撮像装置。
18. 光吸収性組成物の製造方法であって、
    ホスホン酸及び銅成分を含む光吸収性化合物が溶媒中に分散した光吸収性化合物分散液を作製することと、
    前記光吸収性化合物分散液と、１０以上の炭素原子を有する基を含むアルコキシシラン又は前記アルコキシシランの加水分解物とを混合することと、
    前記光吸収性化合物分散液から、前記溶媒の一部を除去することと、を含み、
    前記光吸収性組成物の固化物は、次の（ｉ）及び（ii）の条件を満たす、
    光吸収性組成物の製造方法。
    （ｉ）波長λにおける光学濃度ＯＤを、前記固化物の厚みで除した値をη _λ ［μｍ ^-1 ］と表すとき、０．００９≦η ₃₈₀ 及び０．００８≦η ₇₅₀
    （ii）波長４６０ｎｍ～６００ｎｍの範囲内における透過率の平均値をＴ ^A _460-600 と表すとき、８０％≦Ｔ ^A _460-600
19. 基材の表面に塗工された光吸収性組成物を固化させて光吸収体を得ることを含み、
    前記光吸収性組成物は、
    ホスホン酸及び銅成分を含む光吸収性化合物と、
    １０以上の炭素原子を有する基を含むアルコキシシラン、前記アルコキシシランの加水分解物、及び前記アルコキシシランの加水分解物の重合物からなる群より選択される少なくとも一つと、を含み、
    前記光吸収体は、１５０μｍ以下の厚みを有し、
    前記光吸収体は、次の（ｉ）及び（ii）の条件を満たす、
    光吸収体の製造方法。
    （ｉ）波長λにおける光学濃度ＯＤを、前記光吸収体の厚みで除した値をη _λ ［μｍ ^-1 ］と表すとき、０．００９≦η ₃₈₀ 及び０．００８≦η ₇₅₀
    （ii）波長４６０ｎｍ～６００ｎｍの範囲内における透過率の平均値をＴ ^A _460-600 と表すとき、８０％≦Ｔ ^A _460-600
20. 光吸収体と、
    前記光吸収体の表面に設けられた反射防止膜と、を備え、
    次の（Ｉ）及び（II）の条件を満たす、光学フィルタ。
    （Ｉ）波長λにおける光学濃度ＯＤを、前記光吸収体の厚みで除した値をη_2-λ［μｍ^-1］と表すとき、０．００９≦η_2-380及び０．００８≦η_2-750
    （II）波長４６０ｎｍ～６００ｎｍの範囲内における透過率の平均値をＴ₂ ^A _460-600と表すとき、９０％≦Ｔ₂ ^A _460-600
21. ０．０２０≦η_2-900及び０．０１３≦η_2-1100が満たされる、請求項２０に記載の光学フィルタ。
22. 波長３００ｎｍ～３８０ｎｍの範囲内における透過率の平均値をＴ₂ ^A _300-380とし、波長７５０ｎｍ～１１００ｎｍにおける透過率の平均値をＴ₂ ^A _750-1100とするとき、Ｔ₂ ^A _300-380≦１．５％及びＴ₂ ^A _750-1100≦２．０％であり、
    波長３５０ｎｍ～４６０ｎｍの範囲内において透過率が５０％となる第２紫外線カットオフ波長をλ₂ ⁰ _UVとし、波長６００ｎｍ～７００ｎｍの範囲内において透過率が５０％となる第２赤外線カットオフ波長をλ₂ ⁰ _IRとするとき、３９０ｎｍ≦λ₂ ⁰ _UV≦４５０ｎｍ及び６００ｎｍ≦λ₂ ⁰ _IR≦６８０ｎｍである、
    請求項２０又は２１に記載の光学フィルタ。
23. 前記反射防止膜は、シルセスキオキサン及びシリカを含む層を含む、請求項２０又は２１に記載の光学フィルタ。