JP7839766B2 - 放射線像の読取装置 - Google Patents

Description

この開示は、放射線像の読取装置に関する。

特許文献１は、イメージングプレートを搬送する搬送機構を備える放射線像の読取装置を開示している。搬送機構として、イメージングプレートを保持するベルトと、ベルトを周回させるベルト駆動機構とを備える例が開示されている。イメージングプレートは、ベルトの一部である保持面上に載置された状態で、搬送される。

特開２０１１－５３４５９号公報

特許文献１のように、イメージングプレートがベルトの保持面上に載置される構成では、イメージングプレートが放射線像の読取りに適した正規姿勢から傾いた姿勢で保持される可能性がある。

そこで、本開示は、イメージングプレートを正規姿勢で保持できるようにすることを目的とする。

上記課題を解決するため、放射線像の読取装置は、イメージングプレートから放射線像を読取る放射線像の読取装置であって、前記イメージングプレートを保持するステージと、前記ステージに保持された前記イメージングプレートに励起光を照射する励起光源と、前記励起光による前記イメージングプレートからの発光光を検出する光検出器と、を備え、前記ステージが、前記イメージングプレートの裏面に面接触可能な支持面を有するステージ本体と、第１方向に沿って間隔をあけて並ぶ一対の開閉位置決め部を含み、前記一対の開閉位置決め部の少なくとも一方が前記第１方向に沿って移動することで、前記支持面上に支持された前記イメージングプレートを前記第１方向に沿って挟込むように前記一対の開閉位置決め部が前記イメージングプレートの縁部分に対して接触する位置決め機構と、を有し、前記一対の開閉位置決め部のうちの少なくとも一方が、前記一対の開閉位置決め部の開閉方向において外側に向かうにつれて前記支持面に沿って前記開閉方向と直交する第２方向に向う傾き矯正面を有するものである。

本開示によると、イメージングプレートを正規姿勢で保持できる。

図１は実施形態に係る読取装置を示す概略斜視図である。 図２は読取装置を示す一部分解斜視図である。 図３は読取装置を示す一部分解斜視図である。 図４は読取装置の内部構造をステージの支持面に直交する外側から見た正面図である。 図５は図４のＶ－Ｖ線断面図である。 図６はステージを示す斜視図である。 図７はセット位置におけるステージを示す正面図である。 図８はステージを示す背面図である。 図９はイメージングプレートに対する傾き矯正面の位置関係例を示す図である。 図１０は読取位置におけるステージを示す正面図である。 図１１は図７のＸＩ－ＸＩ線における部分断面図である。 図１２はステージを位置決め部側から見た側面図である。 図１３はイメージングプレートのガイド動作を示す説明図である。 図１４は位置決め機構による位置決め動作を示す説明図である。 図１５は図１４のＸＶ－ＸＶ線断面図である。 図１６は傾き矯正面が省略された場合の動作例を示す説明図である。 図１７は傾き矯正面による傾き矯正動作を示す説明図である。 図１８は図１７のＸＶＩＩＩ－ＸＶＩＩＩ線断面図である。 図１９は傾き矯正面による傾き矯正動作を示す説明図である。 図２０は位置決め機構による位置決め動作を示す説明図である。

｛実施形態｝
＜全体構成＞
以下、実施形態に係る放射線像の読取装置について説明する。図１は読取装置２０を示す概略斜視図である。図１において、筐体３０が２点鎖線で示されている。図２及び図３は読取装置２０を示す一部分解斜視図である。図１から図３ではステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する。図２及び図３ではセット用ガイド２００と読取ユニット９０とが分解されている。図２においてセット位置Ｐ１よりも内側のステージ６０の読取位置Ｐ２及び奥側位置Ｐ４が２点鎖線で示されている。

放射線像の読取装置２０は、イメージングプレート１０の表面１０ａから放射線像を読取る装置である。

イメージングプレート１０は、放射線像形成層１１を有する平たい形状であり、放射線像を記憶する記憶媒体である。イメージングプレート１０の表面１０ａ側に放射線像形成層１１が露出している。放射線像形成層１１は、照射された放射線のエネルギーを蓄積し、蓄積されたエネルギーに応じた発光光を発する層である。例えば、放射線像形成層１１は、樹脂で形成されたフィルムの一方主面に輝尽性蛍光体を塗布することによって形成される。Ｘ線発生器からのＸ線が撮影対象物を透過してイメージングプレート１０に照射されると、Ｘ線の強度に応じたエネルギーが放射線像形成層１１に蓄積される。Ｘ線の強度は、撮影対象物におけるＸ線吸収領域の分布に基づいたものであるため、放射線像形成層１１に蓄積されたエネルギーの分布は、Ｘ線による撮影対象物の放射線像である。このように、イメージングプレート１０は、Ｘ線による放射線像を潜像として記憶する。

読取装置２０は、放射線像形成層１１から放射線像を読取り、放射線像の画像データを生成する装置である。読取装置２０は、ステージ６０と、励起光源９２と、光検出器９４と、セット用ガイド２００を備える。ステージ６０は、イメージングプレート１０を裏面１０ｂ側から支持する。ステージ６０に支持されたイメージングプレート１０に対して励起光源９２からの励起光が照射される。イメージングプレート１０に励起光が照射されることによって、イメージングプレート１０の放射線像形成層１１が発光する。この発光光を光検出器９４が検出する。光検出器９４の検出信号に基づいて放射線像の画像データが生成される。

セット用ガイド２００は、読取装置２０の外から供給されるイメージングプレート１０をステージ６０に向けて案内するガイドである。本読取装置２０の利用者は、イメージングプレート１０をセット用ガイド２００に供給することで、当該イメージングプレート１０をステージ６０に読取りに適した姿勢でセットすることができる。

なお、イメージングプレート１０のうち放射線像形成層１１が形成された表面１０ａは、放射線像形成面と把握されてもよいし、励起光照射面と把握されてもよい。また、当該表面とは反対側の裏面１０ｂは、ステージ６０の支持面６４Ｆと対面し、当該支持面６４Ｆに接触する接触面であると把握されてもよい。裏面１０ｂは、励起光が照射される面とは反対の面であり、放射線像形成層１１とは反対の面である。イメージングプレート１０が表裏に関して正しくステージ６０にセットされた場合には、イメージングプレート１０のうち支持面６４Ｆが向く方向と同じ方向を向く表面は、潜像を記憶可能な記憶面であり、また、記憶した潜像が読取られる読取り面である。

読取装置２０の各部構成について説明する。

＜筐体について＞
読取装置２０は、筐体３０を備えており（図１参照）、この筐体３０内に、ステージ６０と、励起光源９２と、光検出器９４と、セット用ガイド２００とが収容される。

筐体３０は、開口３１を有する。開口３１は、例えば、筐体３０の周囲の側面のうちの１つの面に形成されている。開口３１は、セット用ガイド２００のうち投入口２３０が形成された部分を外部に露出させることが可能な形状に形成されている。本実施形態では、開口３１は、セット用ガイド２００のうち投入口２３０が形成された外向き面全体を外部に露出させる方形状に形成されている。開口は、投入口２３０のみを外部に露出させる形状、例えば、スリット形状であってもよい。なお、筐体３０の全体が１つの部品として形成されている必要は無い。例えば、後に変形例において説明されるように、筐体のうち開口が形成された部分が他の部分に対して取外し可能であってもよいし、あるいは、筐体の一部が後述のベース板４１と一体に成形されている構成であってもよい。

本読取装置２０の利用者は、当該開口３１を通じて、イメージングプレート１０をセット用ガイド２００の投入口２３０内に入れることができる。読取装置２０内に入れられたイメージングプレート１０は、ステージ６０にセットされる。

取出口３２が、筐体３０の下部、例えば、筐体３０の一側面のうちの下側部分に設けられる。取出口３２は、外方に開口している。当該取出口３２内に回収トレイ４９が配置される。回収トレイ４９は、例えば、上方が開口する箱状に形成されている。ステージ６０から排出されたイメージングプレート１０が当該回収トレイ４９に排出される。読取装置２０の利用者は、取出口３２内の回収トレイ４９を外側に引出して読取済のイメージングプレート１０を回収することができる。回収トレイ４９は、筐体３０から取外し可能であってもよい。回収トレイ４９が取外可能である場合は、回収トレイ４９を清掃しやすいので好ましい。

筐体３０に、各種指示を受付けるためのスイッチ３３が設けられる。スイッチ３３は、例えば、電源スイッチ、読取り開始を指示するためのスタートスイッチ等である。

筐体３０に、表示装置３４が設けられてもよい。表示装置３４は、例えば、液晶表示パネル又は有機ＥＬ（electro-luminescence）表示パネルにより構成される。この表示装置３４に、読取られた放射線像が表示されてもよい。表示装置３４に、操作のための諸情報が表示されてもよい。表示装置３４には、読取り開始後に読取り終了までの残り時間等の読取り進捗状況に関する情報が表示されてもよい。表示装置３４に、読取装置２０に対する誤操作等に対する警告、注意、あるいはエラー情報が表示されてもよい。表示装置３４は、表示機能及びタッチの検出機能を備えたタッチパネルであってもよい。この場合、上記スイッチの少なくとも一部の機能が、タッチパネルに組込まれてもよい。表示装置３４は、省略されてもよい。

イメージングプレート１０を読取ることによって生成された放射線像の画像データが表示装置３４に表示されることは必須ではない。放射線像の画像データは、無線通信又は有線通信によって、読取装置２０と通信可能な他のコンピュータ（不図示）に送信されてもよい。放射線像の画像データは、本読取装置２０に着脱可能なデータ記録媒体（例えば、フラッシュメモリ）に記録されてもよい。

＜筐体内部構成について＞
筐体３０の内部に設けられる各部構成について説明する。

筐体３０の内部に、支持部材４０が設けられる。この支持部材４０によって、ステージ６０と励起光源９２と光検出器９４と、セット用ガイド２００とが支持される。なお、下記例は一例であり、例えば、ステージ及びセット用ガイドを支持する構成は下記構成に限られない。支持部材に係る構成は本開示を限定するものでは無く、本開示は、重力を利用してイメージングプレート１０をステージに導く各種構成に適用可能である。

＜支持部材について＞
図１から図３に示すように、支持部材４０は、ベース板４１と、中間支持板４２と、箱状部４４とを備える。

ベース板４１は、筐体３０の内部空間における下部に水平方向（重力方向に対して垂直な方向）に沿って配置される板状部材である。ここでは、ベース板４１は、細長い方形板状に形成されている。ベース板４１は、筐体３０の下向き開口を閉じることができる。

ベース板４１上に中間支持板４２が立設状態で支持される。中間支持板４２は、重力方向に対して傾斜する傾斜面４２ａを有する板である（図３参照）。傾斜面４２ａは、斜め上方を向く面である。本実施形態では、中間支持板４２は、長方形のうちの上側の１つの角を斜めに切除した形状に形成されている。傾斜面４２ａ上に箱状部４４が支持されることによって、箱状部４４が斜め姿勢で支持されている。

なお、本実施形態では、中間支持板４２に、回路ユニット４３が支持されている。回路ユニット４３は、例えば、回路基板に各種電気部品が実装されたユニットである。かかる回路ユニットは、例えば、読取装置２０の各種制御を実行する制御ユニットであってもよし、読取装置２０の各部に電力を供給する電源回路であってもよい。回路ユニット４３は、中間支持板４２ではない他の部分、例えば、ベース板４１、筐体３０又は箱状部４４によって支持されていてもよい。

箱状部４４は、一対の長手方向側板４５と、一対の短手方向側板４６と、背板４７とを備える。背板４７は、一方向に長い長方形板状である。一対の長手方向側板４５のそれぞれは、背板４７の長辺の長さに応じた長方形板状に形成されている．背板４７の一対の長辺に、一対の長手方向側板４５が立設状態で支持されている。短手方向側板４６のそれぞれは、背板４７の短辺の長さに応じた長方形板状に形成されている。背板４７の一対の短辺に一対の短手方向側板４６が立設状態で支持される。これにより、箱状部４４は、背板４７を底とし、当該底の一方主面側を一対の長手方向側板４５と一対の短手方向側板４６とで囲う箱状に形成されている。以下、一対の短手方向側板４６のうち上側のものを短手方向側板４６Ｕ、下側のものを短手方向側板４６Ｌと区別する場合がある。箱状部４４は、背板４７の反対側で開口している。背板４７に対する一対の長手方向側板４５及び一対の短手方向側板４６の固定は、例えば、ねじ止又は溶接によってなされる。

背板４７は、中間支持板４２の傾斜面４２ａに当該傾斜面に沿った状態で支持される。背板４７は、傾斜面４２ａの傾斜に沿って斜め姿勢で支持されている。中間支持板４２に対する背板４７の固定は、例えば、ねじ止又は溶接によってなされる。

背板４７に対して中間支持板４２とは反対側に一対の長手方向側板４５と一対の短手方向側板４６とが立設されている。箱状部４４は、中間支持板４２とは反対側で、斜め上側に開口している。

一対の長手方向側板４５は、傾斜面４２ａの延在方向に沿って延在している。このため、一対の長手方向側板４５のうち背板４７とは反対側の縁も、傾斜面４２ａの延在方向に沿って重力方向に対して傾斜している。一対の長手方向側板４５のうち背板４７とは反対側の縁のそれぞれに、一対の支持ロッド４８が重力方向に対して傾斜する姿勢で支持されている。支持ロッド４８は、例えば、長手方向側板４５及び短手方向側板４６の少なくとも一方にねじ止、又は溶接されることによって支持される。

本実施形態では、支持ロッド４８は、角棒状に形成されている。支持ロッド４８は、長手方向側板４５の長さよりも長い。支持ロッド４８の一端部は、長手方向側板４５の縁部に沿って上側の短手方向側板４６Ｕに達している。支持ロッド４８の他端部は、長手方向側板４５の縁部に沿って下側の短手方向側板４６Ｌを越えてさらに斜め下側に延出している。支持ロッド４８の他端部は、下端部であり、上記ベース板４１よりも上に位置する。

上記一対の支持ロッド４８のうち背板４７とは反対側の外向き面に、励起光源９２及び光検出器９４が取付けられる。励起光源９２及び光検出器９４は、一対の短手方向側板４６間であって下側の短手方向側板４６Ｌ寄りに位置している。励起光源９２は、箱状部４４側に向けて励起光を照射し、光検出器９４は、箱状部４４側からの光を検出する。支持ロッド４８に対する励起光源９２及び光検出器９４の取付は、例えば、ねじ止によってなされる。

ステージ６０は、一対の長手方向側板４５の間で、励起光源９２及び光検出器９４の内側を移動可能に支持されている。以下の説明において、便宜上、ステージ６０について、励起光源９２及び光検出器９４が設けられる側を前方、その反対側を後方という場合がある。また、以下の説明において、励起光源９２及び光検出器９４に対するステージ６０の相対的な移動方向を主走査方向Ａ１として参照する場合がある。ステージ６０によって保持されたイメージングプレート１０が励起光源９２及び光検出器９４の内側を通過する際に、励起光源９２からの励起光がイメージングプレート１０に照射され、励起光によるイメージングプレート１０の発光光が光検出器９４によって検出される。

一対の支持ロッド４８のうち下側の短手方向側板４６Ｌよりも下方に延出する部分にセット用ガイド２００が取付けられる。支持ロッド４８に対するセット用ガイド２００の取付は、例えば、ねじ止によってなされる。

ステージ６０は、支持ロッド４８の延在方向において下側の短手方向側板４６Ｌよりも下方に延出する位置に移動することができる。ステージ６０が短手方向側板４６Ｌよりも下方に延出する位置に移動した状態で、利用者は、セット用ガイド２００を通じて当該ステージ６０にイメージングプレート１０をセットすることができる。

また、一対の支持ロッド４８の斜め下延長上に、回収トレイ４９が位置している。ステージ６０が短手方向側板４６Ｌよりも下方に延出する位置に移動した状態で、ステージ６０から排出されたイメージングプレート１０が回収トレイ４９内に落下して回収される。回収トレイ４９は、筐体３０に対して移動可能に配置されている必要は無い。例えば、支持ロッドの延長上に位置する回収トレイが、中間支持板とは反対側から筐体外に開口しており、当該開口を通じて回収トレイ内のイメージングプレートが筐体外に取出されてもよい。

本実施形態において、一対の長手方向側板４５は、箱状部４４の形態で筐体３０内の一定位置に支持される。長手方向側板４５が箱状部４４において一定位置に支持される構成は当該例に限られない。例えば、長手方向側板４５は、筐体３０の一部である側面等に固定されていてもよい。

また、箱状部４４は、複数の板状部材がねじ止又は溶接等で固定される構成に限られない。箱状部の全体がプレス加工又は金型成形等によって形成された一体部材であってもよい。この場合は、箱状部を製造するために、ねじ止や溶接をなくすることができる。

＜励起光源及び光検出器について＞
励起光源９２は、ステージ６０によって保持されたイメージングプレート１０に対して励起光を照射する。励起光は、放射線像形成層１１を励起させるための光であり、例えば、放射線像形成層１１を励起させる特定波長のレーザ光である。放射線像形成層１１に励起光が照射されると、放射線像形成層１１に蓄積されたエネルギーの分布に応じて放射線像形成層１１が発光する。

励起光源９２は、励起光としてレーザ光を発するレーザ光源とＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）ミラーとを含む構成であってもよい。例えば、レーザ光源からのレーザ光の照射先が、放射線像形成層１１の表面１０ａに対して、主走査方向Ａ１に対して交差（直交）する副走査方向Ａ２方向に沿って移動するように、レーザ光源がＭＥＭＳミラーによって反射される構成であってもよい。なお、ミラーの構成は、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）ミラーの代わりに、ガルバノミラーやポリゴンミラー等を用いることもできる。ミラーの構成によっては、レンズ系の構成が別途必須となることがあるが、適宜の組み合わせにより本読取装置に利用できる。

光検出器９４は、励起光によるイメージングプレート１０からの発光による光を検出し、その強度に応じた信号を出力するセンサである。この光検出器９４からの信号に基づいて、放射線像の画像データが生成される。

光検出器９４は、光を検出する素子が一列に並んだ構成であってもよい。例えば、光検出器９４は、素子の配列方向を副走査方向Ａ２と平行にした姿勢に配置されてもよい。光を検出する素子は、シリコン光電子増倍管、光電子増倍管、フォトダイオード等であってもよい。

本実施形態では、励起光源９２と光検出器９４とは、読取ユニット９０として一体化されている。例えば、励起光源９２と光検出器９４とは、モジュールケース９１内に収容された状態で、一体化されている。モジュールケース９１のうち支持部材４０側を向く部分に、副走査方向Ａ２に沿って細長い読取用スリット９０Ｓが形成されている（図３参照）。励起光は、当該読取用スリット９０Ｓを通ってイメージングプレート１０に向けて照射される。イメージングプレート１０の発光光は、当該読取用スリット９０Ｓを通って光検出器９４によって検出される。

主走査方向Ａ１に沿うステージ６０の移動中に、励起光源９２によるレーザ光がステージ６０に保持されたイメージングプレート１０の放射線像形成層１１の表面（イメージングプレート１０の表面１０ａ）に入射し、その照射先が副走査方向Ａ２に沿って移動する。これにより、放射線像形成層１１の表面（表面１０ａ）が副走査方向Ａ２に沿うラインに沿って順次発光光を生じる。

光検出器９４は、励起光源９２からのレーザ光によって生じた放射線像形成層１１の発光光を検出可能な位置に設けられる。例えば、励起光源９２は、イメージングプレート１０に対して斜め方向からレーザ光を照射するように配置され、光検出器９４は、イメージングプレート１０に対してレーザ光が照射する位置の正面に配置される。そして、放射線像形成層１１の表面が副走査方向Ａ２に沿うラインに沿って順次発光光を生じると、当該発光光が光検出器９４によって検出される。

ステージ６０の移動中に、副走査方向Ａ２における励起光源９２の走査及び光検出器９４による走査が繰返し行われることによって、イメージングプレート１０の広い面、例えば、イメージングプレート１０の全面の放射線像が光検出器９４によって読取られる。

なお、ステージ６０の移動中に読取りを行うことは必須ではない。例えば、ステージ６０が停止した状態で、励起光源９２及び光検出器９４が移動する構成であってもよい。また、ステージ６０と、励起光源９２及び光検出器９４の両方が移動する構成であってもよい。

＜ステージ及びその移動のための構成について＞
図４は読取装置２０の内部構造をステージ６０の支持面６４Ｆに直交する外側から見た正面図である。図４において読取ユニット９０及びセット用ガイド２００は省略されている。図５は図４のＶ－Ｖ線断面図である。図５において、セット用ガイド２００は省略されず、また、読取ユニット９０が２線鎖線で示されている。

図１から図５に示すように、ステージ６０は、イメージングプレート１０を保持するように構成されている。例えば、ステージ６０は、イメージングプレート１０よりも大きく広がる板状部分を含む。イメージングプレート１０がステージ６０の一方主面側の支持面６４Ｆに接した状態で、ステージ６０に対して一定位置及び一定姿勢で保持される。ステージ６０がイメージングプレート１０を保持する構成が後により具体的に説明される。

ステージ６０は、イメージングプレート１０を保持した状態で主走査方向Ａ１に沿って移動する。ステージ６０を移動可能に支持するための構成について説明する。

ステージ６０は、一対の長手方向側板４５のうち背板４７とは反対側の縁部間を主走査方向Ａ１に沿って移動することができる。背板４７に対する下側の短手方向側板４６Ｌの突出寸法は、背板４７に対する長手方向側板４５の突出寸法よりも小さい。このため、ステージ６０は、主走査方向Ａ１に沿って、一対の長手方向側板４５の間から下側の短手方向側板４６Ｌを越えて下方に移動することができる。つまり、主走査方向Ａ１に沿って、一対の長手方向側板４５間の位置（図２において２点鎖線で示す位置Ｐ２、Ｐ４）と一対の長手方向側板４５間の下側に突出する位置Ｐ１（図２参照）との間で往復移動することができる。

ステージ６０は、ステージ移動機構５０によって移動駆動可能に構成される。ステージ移動機構５０は、移動駆動部５２と、一対のガイドロッド５６とを含む。

移動駆動部５２は、ステージ６０に対して主走査方向Ａ１に沿った駆動力を付与する部分である。本実施形態では、移動駆動部５２は、モータ５３と、ネジ軸部５４とを含む。ネジ軸部５４は、周囲にネジ溝が形成された棒状部材である。ネジ軸部５４は、一対の短手方向側板４６間に掛渡すようにして、一対の短手方向側板４６に回転可能に支持されている。モータ５３は、箱状部４４に対して回転不能に固定されている。例えば、モータ５３は、下方の短手方向側板４６Ｌの外側にブラケット５３Ｂ等を介して回転不能に固定されている。モータ５３のシャフト５３ａがネジ軸部５４に相対回転不能に固定されており、モータ５３の正転方向又は逆転方向の回転に応じて、ネジ軸部５４が正転方向又は逆転方向に回転駆動される。モータ５３のシャフト５３ａの回転運動は、ギヤ、プーリー等の伝達装置を介してネジ軸部５４に伝達されてもよい。

ステージ６０は、ネジ溝を有する貫通孔６２ｈ１を有している（図２参照）。ネジ軸部５４は、上記貫通孔６２ｈ１に螺合している。ネジ軸部５４の回転によって、当該ネジ軸部５４が螺合するステージ６０が主走査方向Ａ１に沿って移動するように駆動される。

ガイドロッド５６は細長い棒状部材であり、一対の短手方向側板４６の間に掛渡すように、一対の短手方向側板４６に固定されている。ガイドロッド５６は、ステージ６０に形成されたガイド孔６２ｈ２に挿通されている（図２参照）。これにより、ガイドロッド５６は、ステージ６０がネジ軸部５４周りに回転することを抑制する役割を果すことができる。ここでは、ガイドロッド５６は、複数（本実施例では２つ）設けられているが、１つであってもよい。

移動駆動部５２による移動方向は上記例に限られず、水平方向又は重力方向であってもよい。移動駆動部５２は、ステージ６０を移動させるアクチュエータであればよく、上記構成の他、リニアモータ等であってもよいし、ベルトによって移動させる機構であってもよい。ステージを移動させる代りに、読取ユニット９０を移動させてステージ上のイメージングプレートを読取ってもよい。読取ユニットがイメージングプレートの平面情報を読取ることができるセンサであれば、ステージ及び読取ユニットの両方が移動しない場合も想定される。

ステージ６０は、ステージ移動機構５０によって、セット位置Ｐ１と、読取位置Ｐ２との間で往復移動される。

セット位置Ｐ１は、ステージ６０に対してイメージングプレート１０をセット可能な位置である。本実施形態では、セット位置Ｐ１は、下側の短手方向側板４６Ｌの外側（下側）に突出する位置に設定される。セット位置Ｐ１において、ステージ６０の上端寄りの部分が短手方向側板４６Ｌ上に配置され、ステージ６０の長手方向中間部及び下端部が下側の短手方向側板４６Ｌから下方に延出する状態となる。セット位置Ｐ１においては、ステージ６０にセットされるイメージングプレート１０の配設領域（複数サイズのイメージングプレート１０が想定される場合には最大配設領域、図７及び図９において最も縦長なイメージングプレート１０及び最も幅広なイメージングプレート１０の双方を配置できる領域参照）が、下側の短手方向側板４６Ｌの外側に配置される。

この状態において、ステージ６０の支持面６４Ｆは重力方向に対して傾斜している。ここでは、支持面６４Ｆは、長手方向側板４５の延在方向と同じ傾き方向に沿って傾斜している。つまり、支持面６４Ｆは斜め上方を向くように傾斜している。

セット位置Ｐ１に位置するステージ６０は、セット用ガイド２００によってガイドされたイメージングプレート１０を受けることができる。より具体的には、セット位置Ｐ１は、セット用ガイド２００の下側に位置する（図５参照）。装置２０の外側からイメージングプレート１０がセット用ガイド２００の投入口２３０に挿入されると、イメージングプレート１０は、セット用ガイド２００によってガイドされつつ自重によって重力方向下側に移動する。イメージングプレート１０の下縁部分が支持面６４Ｆに達すると、イメージングプレート１０の下縁部分が支持面６４Ｆの傾きに従って斜め下方向に滑り落ちつつ、イメージングプレート１０が支持面６４Ｆに向って傾き、イメージングプレート１０の裏面１０ｂが当該支持面６４Ｆに対して面接触し得る状態となる。この状態で、イメージングプレート１０がステージ６０に設けられた位置決め機構（後述する）によって位置決め保持される。本実施例ではこのように、イメージングプレート１０をステージ６０に誘導する際に重力を利用する構成となっている。

セット用ガイド２００がイメージングプレート１０をガイドするための構成が後により詳細に説明される。

セット位置Ｐ１が上記位置に設定されていることは必須ではなく、例えば、セット用ガイド２００との位置関係に応じて、一対の長手方向側板４５の間に設定されていてもよい。

読取位置Ｐ２は、励起光源９２と光検出器９４とが放射線像を読取る位置、即ち、励起光源９２からの励起光に応じて光検出器９４がイメージングプレート１０の放射線像を読取る位置である。本実施形態では、読取位置Ｐ２は、一対の長手方向側板４５の間の位置に設定される。より具体的には、読取位置Ｐ２は一対の長手方向側板４５の間であって下寄りの位置に設定される。

すなわち、励起光源９２と光検出器９４とを含む読取ユニット９０は、一対の長手方向側板４５の外向きの縁部分間で一対の支持ロッド４８にネジ止等によって固定される。読取ユニット９０は、一対の長手方向側板４５の間であって上記セット位置Ｐ１寄りに位置する。読取ユニット９０のうち箱状部４４の内側を向く面に、読取用スリット９０Ｓが形成される。読取ユニット９０内の励起光源９２からの励起光が読取用スリット９０Ｓを通ってステージ６０上のイメージングプレート１０に照射される。また、この励起光によって励起されるイメージングプレート１０からの発光光が読取用スリット９０Ｓを通って光検出器９４に入射する。

セット位置Ｐ１においてステージ６０にイメージングプレート１０がセットされると、イメージングプレート１０は主走査方向Ａ１に沿って箱状部４４内に向けて移動する。ステージ６０にセットされたイメージングプレート１０が上記読取用スリット９０Ｓと向い合う位置に達すると、読取ユニット９０によってイメージングプレート１０の放射線像の読取りが開始される。ステージ６０の移動に伴って、読取ユニット９０によってイメージングプレート１０の放射線像が順次読取られる。イメージングプレート１０が読取用スリット９０Ｓを通過すると、読取ユニット９０による読取りが終了する。本実施形態のように、ステージ６０が移動することによって放射線像の読取りがなされる場合、読取位置Ｐ２は、ステージ６０上のイメージングプレート１０（複数サイズのイメージングプレート１０が想定される場合には、最も広いイメージングプレート１０）が上記読取用スリット９０Ｓに達して読取りが開始される位置と把握されてもよい。

上記例とは異なり、一定位置に静止したイメージングプレート１０に対して読取ユニット９０が主走査方向Ａ１に沿って移動して放射線像を読取る場合、あるいは、一定位置に静止したイメージングプレート１０に対して３次元センサによって放射線像を読取る場合も想定される。この場合、一定位置に静止したイメージングプレート１０を保持する位置が、読取位置Ｐ２である。

本実施例では、ステージ６０は、ステージ移動機構５０によって、排出位置Ｐ３にも移動する（図５参照）。排出位置Ｐ３は、ステージ６０にセットされたイメージングプレート１０を排出するための位置である。排出位置Ｐ３は、読取位置Ｐ２に対してセット位置Ｐ１よりも離れた位置に設定される（図５において二点鎖線で示すステージ６０参照）。本例に限られず、排出位置Ｐ３とは異なる位置、例えば、セット位置Ｐ１においてステージ６０のイメージングプレート１０が、別途の機構によって、排出されてもよい。

既に述べたように、回収トレイ４９が、排出位置Ｐ３の下方に設けられる。回収トレイ４９の上開口は、ステージ６０の下側延長上で開口している。イメージングプレート１０は、排出位置Ｐ３におけるステージ６０上を滑り落ちて、回収トレイ４９の上開口を通って、回収トレイ４９内に排出される。

本実施形態では、ステージ６０は、ステージ移動機構５０によって、奥側位置Ｐ４にも移動する（図２参照）。奥側位置Ｐ４は、読取位置Ｐ２に対してセット位置Ｐ１とは反対側の位置にある。すなわち、ステージ６０は、セット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２を経過して奥側位置Ｐ４に移動することができる。奥側位置Ｐ４では、ステージ６０上のイメージングプレート１０は、読取ユニット９０によって覆われずに露出した状態となっていてもよいし、他の部材によって覆われていてもよい。

上記ステージ移動機構５０の動作制御は、制御部１００（図３参照）によってなされる。制御部１００は、例えば、少なくとも１つのプロセッサと、記憶部とを備えるコンピュータによって構成される。プロセッサは、ＣＰＵ（Central Processing Unit）等であり、電気回路によって構成される。プロセッサが読取プログラムを実行することによって、読取りのための各種機能が実現される。この制御部１００によって、上記モータ５３の回転方向及び回転量の制御がなされることによって、主走査方向Ａ１に沿ったステージ６０の移動制御がなされる。かかる制御部１００は、上記回路ユニット４３によって実現される回路であることが想定される（図３参照）。

本制御部１００によって、読取ユニット９０による励起光源９２及び光検出器９４の制御がなされてもよい。本制御部１００によって、光検出器９４によって検出された信号に基づいて放射線画像を生成するための各種信号処理、画像処理、表示装置３４による表示処理等がなされてもよい。

＜ステージの全体構成について＞
ステージ６０の全体構成について説明する。図１から図５に示すように、ステージ６０は、ステージ本体６１と、位置決め機構７０とを備える。

ステージ本体６１は、イメージングプレート１０の裏面１０ｂに面接触可能な支持面６４Ｆを有する。本実施形態では、ステージ本体６１は、可動支持体６２と、板状部６４とを含む。

可動支持体６２は、直方体状に形成されている。可動支持体６２に、貫通孔６２ｈ１が形成されている（図２参照）。既に述べたように、モータ５３によって正逆両方向に回転駆動可能なネジ軸部５４が当該貫通孔６２ｈ１に螺合される。ネジ軸部５４が正転方向に回転することによってステージ６０がネジ軸部５４に沿って一方側に移動し、ネジ軸部５４が逆転方向に回転することによってステージ６０がネジ軸部５４に沿って他方側に移動することができる。かかる構造は、例えば、ボールネジと呼ばれる構造である。

可動支持体６２には、上記貫通孔６２ｈ１と平行なガイド孔６２ｈ２が形成されている（図２参照）。このため、可動支持体６２は、ガイド孔６２ｈ２に挿通されたガイドロッド５６によるガイド下、貫通孔６２ｈ１に螺合するネジ軸部５４の正転方向又は逆転方向の回転に応じて、主走査方向Ａ１に沿って両方向に移動駆動される。

板状部６４は、イメージングプレート１０よりも大きく板状に広がる形状、ここでは、方形板状に形成されている。板状部６４が方形板状に形成されていることは必須ではなく、楕円形状等他の形状に形成されていてもよい。

板状部６４の一方側の面に支持面６４Ｆが設けられる。支持面６４Ｆは、イメージングプレート１０よりも大きく広がっていてもよい。イメージングプレート１０として複数のサイズが想定される場合には、支持面６４Ｆは、最も大きいイメージングプレート１０よりも大きく広がっていてもよい。

より具体的には、板状部６４は、一方向（ここでは主走査方向Ａ１）に沿って長い長方形状に形成されている。板状部６４の他方側の面（支持面６４Ｆとは反対側の面）のうち、板状部６４の長手方向の一方側の部分が可動支持体６２に固定されている。固定は、例えば、ねじ止によってなされる。板状部６４は、可動支持体６２から主走査方向Ａ１に沿ってセット位置Ｐ１側に向って延出するように、可動支持体６２によって片持ち状に支持されている。板状部６４の一方側の面のうち可動支持体６２から主走査方向Ａ１に沿って下方に延び出る部分の一部が他の部分よりも凹んでいる。この凹んだ部分の底面が、イメージングプレート１０の裏面に面接触可能な支持面６４Ｆである。

ステージ６０が支持部材４０によって支持された状態で、板状部６４及び支持面６４Ｆは重力方向（下方向）に対して傾斜し、支持面６４Ｆは斜め上方向を向いている。本実施形態では、板状部６４及び支持面６４Ｆの傾斜角度は、長手方向側板４５の延在方向の傾斜角度及び一対の支持ロッド４８の傾斜角度と一致している。板状部６４及び支持面６４Ｆは、一定の傾斜角度を保った状態で、ガイドロッド５６によるガイド下、主走査方向Ａ１に沿って移動する。可動支持体６２が下側の短手方向側板４６Ｌ寄りに移動すると、板状部６４のうち可動支持体６２から延び出る部分は、下側の短手方向側板４６Ｌ上を通り、斜め下方に延び出る。この状態で、支持面６４Ｆが斜め上を向くように傾斜しているため、セット用ガイド２００を通じてイメージングプレート１０上に供給されるイメージングプレート１０を、支持面６４Ｆ上で受けることができる。

支持面６４Ｆが重力方向に対して傾斜していなくてもよい。例えば、支持面６４Ｆは、重力方向に対して垂直な水平方向に沿っていてもよいし、重力方向に沿っていてもよい。

なお、本実施形態では、板状部６４のうち可動支持体６２寄りの領域に、部分的な突部領域６４Ｐが形成されている。突部領域６４Ｐは、支持面６４Ｆのうち上側及び両側を囲む領域に形成されている。突部領域６４Ｐと支持面６４Ｆとの間には段差が存在している。突部領域６４Ｐが存在することによって、イメージングプレート１０がより確実に支持面６４Ｆ上に支持される。上記突部領域６４Ｐが存在することは必須ではない。

位置決め機構７０は、支持面６４Ｆ上においてイメージングプレート１０を正規姿勢に位置決めするための機構である。正規姿勢とは、ステージ６０を基準として予め設定されたイメージングプレート１０の位置及び傾き状態であり、読取ユニット９０による読取りに適した所定の位置及び傾きである。

ここで、説明の便宜上、第１方向Ｆ１と第２方向Ｆ２とについて説明しておく。第１方向Ｆ１は支持面６４Ｆに沿った方向である。第２方向Ｆ２は支持面６４Ｆに沿った方向であって、第１方向Ｆ１に直交する方向である。つまり、第１方向Ｆ１及び第２方向Ｆ２は、支持面６４Ｆに水平な面上において、互いに直交する。本実施形態では、第１方向Ｆ１は、重力方向に垂直な水平方向に沿う方向である。このため、第１方向Ｆ１は、副走査方向Ａ２と一致している。なお、第１方向Ｆ１は水平方向に対して交差する方向であってもよい。また、本実施形態では、第２方向Ｆ２は、支持面６４Ｆに沿い、かつ、副走査方向Ａ２と直交する方向である。このため、第２方向Ｆ２は、主走査方向Ａ１と一致している。なお、第１方向Ｆ１は副走査方向Ａ２とは異なる方向であってもよい。第２方向Ｆ２は主走査方向Ａ１とは異なる方向であってもよい。

位置決め機構７０は、支持面６４Ｆ上に支持されたイメージングプレート１０の縁部分に対して接触し、支持面６４Ｆの延在方向において当該縁部分をその外側から位置決めする。本実施形態では、位置決め機構７０は、一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（開閉位置決め部又は位置決め部という場合がある）と一対の第２開閉位置決め部７２Ｃ、７２Ｄ（開閉位置決め部又は位置決め部という場合がある）とを備える。一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂが、第１方向Ｆ１においてイメージングプレート１０を位置決めする。一対の第２開閉位置決め部７２Ｃ、７２Ｄが第２方向Ｆ２においてイメージングプレート１０を位置決めする。

本実施形態では、位置決め部７２Ａ、７２Ｂは水平方向に位置決めするための構成であり、位置決め部７２Ｃ、７２Ｄは上下方向に位置決めするための構成であると把握し得る。

イメージングプレート１０は、位置決め機構７０によってイメージングプレート１０を正規姿勢に保持した状態で、読取位置Ｐ２に移動する。読取位置Ｐ２において、ステージ６０に正規姿勢で保持されたイメージングプレート１０の放射線像が、読取ユニット９０によって読取られる。

本実施形態では、ステージ６０は、イメージングプレート１０の長手方向を水平方向に対して傾斜させた姿勢で支持する。具体的には、板状部６４及び板状部６４の一方面側の支持面６４Ｆの長手方向は水平方向に対して傾斜しており、短手方向は水平方向に沿っている。このため、イメージングプレート１０の長手方向を板状部６４及び支持面６４Ｆの長手方向に沿わせた姿勢で、イメージングプレート１０をステージ６０上で支持すると、イメージングプレート１０の長手方向は水平方向に対して傾斜した姿勢となる。

本実施形態では、第１方向Ｆ１（水平方向）における位置決め部７２Ａ、７２Ｂの最小間隔は、第２方向Ｆ２における位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの最小間隔よりも小さい。また、第１方向Ｆ１（水平方向）における位置決め部７２Ａ、７２Ｂの最大間隔は、第２方向Ｆ２における位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの最大間隔よりも小さい。このため、ステージ６０は、イメージングプレート１０の長手方向を、板状部６４及び支持面６４Ｆの長手方向に沿わせた姿勢で支持するのに適した構成を有している。

本実施形態に拘らず、ステージは、イメージングプレートの短手方向を水平方向に対して傾斜させた姿勢で、当該イメージングプレートを支持してもよい。例えば、ステージの板状部及び支持面の長手方向が水平方向に沿っており、短手方向が水平方向に対して傾斜してもよい。

＜位置決め機構について＞
位置決め機構７０についてより具体的に説明する。図６はステージ６０を示す斜視図である。図７はセット位置Ｐ１におけるステージ６０を示す正面図である。図８はステージ６０を示す背面図である。図９はイメージングプレート１０に対する傾き矯正面７２ＢＦ１の位置関係例を示す図である。図１０は読取位置Ｐ２におけるステージ６０を示す正面図である。図１１は図７のＸＩ－ＸＩ線における部分断面図である。図１２はステージ６０を位置決め部７２Ｂ側から見た側面図である。

上記したように、位置決め機構７０は一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂを備える。一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂは、第１方向Ｆ１に沿って間隔をあけて並んでいる。一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの少なくとも一方が第１方向Ｆ１に沿って移動する。これにより、支持面６４Ｆ上に支持されイメージングプレート１０を第１方向Ｆ１に沿って挟込むように一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂがイメージングプレート１０の縁部分に対して接触する。これにより、イメージングプレート１０が第１方向Ｆ１に沿って一定位置に位置決めされる。

本実施形態では、位置決め部７２Ａはステージ本体６１上で一定位置に固定されている。位置決め部７２Ｂがステージ本体６１上で第１方向Ｆ１に沿って位置決め部７２Ａに対して接近離隔移動する。

また、上記したように、位置決め機構７０は一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄを備える。一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄは、第２方向Ｆ２に沿って間隔をあけて並んでいる。一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの少なくとも一方が第２方向Ｆ２に沿って移動する。これにより、支持面６４Ｆ上に支持されイメージングプレート１０を第２方向Ｆ２に沿って挟込むように一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄがイメージングプレート１０の縁部分に対して接触する。これにより、イメージングプレート１０が第２方向Ｆ２に沿って一定位置に位置決めされる。

本実施形態では、少なくともセット位置Ｐ１及び読取位置Ｐ２で、位置決め部７２Ｃはステージ本体６１上で一定位置に固定されている。位置決め部７２Ｄがステージ本体６１上で第２方向Ｆ２に沿って位置決め部７２Ｃに対して接近離隔移動する。

イメージングプレート１０がセット位置Ｐ１に位置する状態では、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂが開いた状態になっている。また、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄも開いた状態となっている（図６及び図７参照）。この状態で、イメージングプレート１０をステージ６０の支持面６４Ｆ上にセットできる。

イメージングプレート１０が読取位置Ｐ２に位置する状態では、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂが接近した状態となる。ここでは、一定位置の位置決め部７２Ａに対して可動する位置決め部７２Ｂが接近した状態となる。イメージングプレート１０のうち位置決め部７２Ｂ側の縁が可動側の位置決め部７２Ｂに接触し、イメージングプレート１０が位置決め部７２Ａ側に押される。すると、イメージングプレート１０のうち位置決め部７２Ａ側の縁が固定側の位置決め部７２Ａに接触する。これにより、イメージングプレート１０が第１方向Ｆ１において位置決めされる。

また、イメージングプレート１０が読取位置Ｐ２に位置する状態では、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄが接近した状態となる。ここでは、一定位置の位置決め部７２Ｃに対して可動する位置決め部７２Ｄが接近した状態となる。イメージングプレート１０のうち上側の縁が可動側の位置決め部７２Ｄに接触し、イメージングプレート１０が位置決め部７２Ｃ側に押される。すると、イメージングプレート１０のうち下側の縁が固定側の位置決め部７２Ｃに接触する。これにより、イメージングプレート１０が第２方向Ｆ２において位置決めされる。

本実施形態では、セット時及び読取り時において、ステージ６０の支持面６４Ｆにおいて位置決め部７２Ａ、７２Ｃが一定位置に配置されている。イメージングプレート１０の一側の縁部分が位置決め部７２Ａに接触すると共に、イメージングプレート１０の下側の縁部分が位置決め部７２Ｃに接した状態が、正規姿勢である。

なお、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂにおいて、いずれが可動側であり、固定側であってもよい。一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの両方が開閉移動してもよい。また、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄにおいて、いずれが可動側であり、固定側であってもよい。一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの両方が開閉移動してもよい。

また、位置決め機構７０が、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄを備えることは必須ではない。例えば、本実施形態において、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄのうち上側の位置決め部７２Ｄが省略されてもよい。一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの両方が省略されてもよい。例えば、読取ユニット９０が主走査方向Ａ１に沿って移動するイメージングプレート１０の位置検知に応じて読取りを行う構成においては、イメージングプレート１０は、ステージ６０に対して正確に位置決めされなくてもよいので、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの両方が省略されてもよい。

もっとも、位置決め機構７０が、支持面６４Ｆ上の所定位置でイメージングプレート１０を位置決めするためには、位置決め機構７０は、位置決め部７２Ａ、７２Ｂと、位置決め部７２Ｃ、７２Ｄとの組合せを備えていることが好ましい。

＜第１方向の位置決め機構について＞
位置決め部７２Ａは、板状部６４のうち水平方向における一方の側部に沿って延在する細長い部分である。本実施形態では、板状部６４の一側部に、当該板状部６４とは別体とされた長尺状の位置決め部７２Ａがネジ止等で固定されている。位置決め部７２Ａは、支持面６４Ｆよりも突出している。位置決め部７２Ａの長さは、支持面６４Ｆ上に支持されるイメージングプレート１０の上下寸法（複数サイズが想定される場合には最大の上下寸法）よりも長くてもよいし、短くてもよい。

位置決め部７２Ａは、傾き矯正面７２ＡＦ１を有している。傾き矯正面７２ＡＦ１は、第１方向Ｆ１に沿った開閉方向において外側に向かうにつれて第２方向Ｆ２に向う。第２方向Ｆ２には、第２方向Ｆ２に沿った上向きの場合と、下向きの場合とが含まれる。本実施形態では、傾き矯正面７２ＡＦ１は、第１方向Ｆ１に沿った開閉方向において外側に向かうにつれて上を向く。つまり、傾き矯正面７２ＡＦ１は、開閉方向において外側に向かって斜め上側に傾斜している。このため、支持面６４Ｆ上に傾いて支持されたイメージングプレート１０の角部が当該傾き矯正面７２ＡＦ１に押付けられると、当該角部は傾き矯正面７２ＡＦ１に沿って斜め上方に移動する。傾き矯正面７２ＡＦ１は、開閉方向において外側に向かって斜め下側に傾斜してもよい。この場合、支持面上に傾いて支持されたイメージングプレートの角部が当該傾き矯正面に押付けられると、当該角部は傾き矯正面に沿って斜め下方に移動する。例えば、イメージングプレート１０が傾いている状態において、イメージングプレート１０の最も上の角部と最も下の角部との間における下寄りの角部が、当該傾き矯正面に押付けられることによって斜め下方に移動して、イメージングプレート１０の傾きを矯正することができる。

なお、イメージングプレート１０の角部とは、イメージングプレート１０の周囲の直線状の４つの辺部が交わる部分であり、本実施形態では、丸められた角部分である。

位置決め部７２Ａは、第２方向Ｆ２において傾き矯正面７２ＡＦ１の両側に位置する少なくとも２つ（ここでは２つ）の接触縁部７２ＡＦ２を有している。少なくとも２つの接触縁部７２ＡＦ２は第２方向Ｆ２に沿う同じ直線上に沿って延在している。ここでは、２つの接触縁部７２ＡＦ２のそれぞれが第２方向Ｆ２に沿って延びている。１つの接触縁部７２ＡＦ２の直線延長上に他の接触縁部７２ＡＦ２が延在している。２つの接触縁部７２ＡＦ２が上下に離れて位置しており、２つの接触縁部７２ＡＦ２の間に傾き矯正面７２ＡＦ１が位置している。

傾き矯正面７２ＡＦ１の上下両方に接触縁部７２ＡＦ２が位置していることは必須ではない。例えば、傾き矯正面の上側又は下側のみに接触縁部が位置していてもよい。接触縁部７２ＡＦ２が第２方向Ｆ２に沿って延在していることは必須ではない。例えば、接触縁部は、イメージングプレートの縁に対して点接触する形状であってもよい。

傾き矯正面７２ＡＦ１の下端は、下側の接触縁部７２ＡＦ２の上端に連続している。よって、傾き矯正面７２ＡＦ１は、少なくとも２つの接触縁部７２ＡＦ２のうちの１つである下側の接触縁部７２ＡＦ２の上端から開閉方向外側に向けて斜め上方に延びている。

少なくとも２つの接触縁部７２ＡＦ２のうちの他の１つである上側の接触縁部７２ＡＦ２の下端から前記開閉方向において外側に向かう接触回避面７２ＡＦ３が延在している。ここでは、接触回避面７２ＡＦ３は、第１方向Ｆ１に沿って延びている。上側の接触縁部７２ＡＦ２と接触回避面７２ＡＦ３とは、曲面７２ＡＦｃを介して連なっている。曲面７２ＡＦｃは、イメージングプレート１０の正面から見て外向き凸となるように曲って観察される部分である。これにより、イメージングプレート１０が傾いた状態から正規姿勢に姿勢変更する際に、イメージングプレート１０の角部が上側の接触縁部７２ＡＦ２と接触回避面７２ＡＦ３とが繋がる部分に干渉し難い。

本実施形態では、傾き矯正面７２ＡＦ１と接触回避面７２ＡＦ３との間に、第２方向Ｆ２に沿って延びる奥側部分７２ＡＦ４が存在している。奥側部分７２ＡＦ４は、省略されてもよい。傾き矯正面７２ＡＦ１が、本実施形態において奥側部分が存在する領域にも延長されてもよい。

本実施形態では、位置決め部７２Ａは、板状部６４とは別の部材によって構成されているが、位置決め部は、切削加工等によって板状部６４と一体形成された部分であってもよい。

位置決め部７２Ｂは、上記位置決め部７２Ａに対して間隔をあけて対向して設けられる。ここでは、位置決め部７２Ｂは、位置決め部７２Ａに対して第１方向Ｆ１に沿って間隔をあけて設けられる。

より具体的には、板状部６４のうち上記位置決め部７２Ａとは反対側の部分に、第１方向Ｆ１に沿うスリット６５ａ、６５ｂが形成されている。本実施形態では、第２方向Ｆ２において異なる位置に、２つのスリット６５ａ、６５ｂが並列するように形成されている。２つのスリット６５ａ、６５ｂは、第１方向Ｆ１に沿って外側で開口している。２つのスリット６５ａ、６５ｂのうち第２方向Ｆ２において外側となる縁部に、支持面６４Ｆよりも凹む凹部６５ｇが形成されている。一方のスリット６５ａの第２方向Ｆ２における中間部に、第１方向Ｆ１に沿って延びる長尺状のガイド部６５ｃが突出している。ガイド部６５ｃは、支持面６４Ｆよりも凹んでいる。

位置決め部７２Ｂは、板状部６４とは別体であり、スリット６５ａ、６５ｂによって第１方向Ｆ１に沿って移動可能に支持される。図６において板状部６４から取外された位置決め部７２Ｂが２点鎖線で示されている。より具体的には、位置決め部７２Ｂの一部がスリット６５ａ、６５ｂ内に配置可能な形状に形成され、位置決め部７２Ｂの他の一部が支持面６４Ｆよりも突出する位置に配置される。さらに具体的には、位置決め部７２Ｂは、位置決め体７２Ｂａ、７２Ｂｂと、可動支持体７２Ｂｃとを含む。位置決め体７２Ｂａは、スリット６５ａに対して凹部６５ｇ及びガイド部６５ｃよりも支持面６４Ｆ側に配置される板状部分である。位置決め体７２Ｂａの厚み方向の一部がスリット６５ａ内で当該スリット６５ａに沿って移動可能に配置される。位置決め体７２Ｂａの厚み方向の残部がスリット６５ａから出て支持面６４Ｆよりも突出する。位置決め体７２Ｂｂは、スリット６５ｂに対して凹部６５ｇよりも支持面６４Ｆ側に配置される板状部分である。位置決め体７２Ｂｂの厚み方向の一部がスリット６５ｂ内で当該スリット６５ｂに沿って移動可能に配置される。位置決め体７２Ｂｂの厚み方向の残部がスリット６５ｂから出て支持面６４Ｆよりも突出する。

可動支持体７２Ｂｃは、位置決め体７２Ｂａ、７２Ｂｂに対して支持面６４Ｆとは反対側に連なる部分である。可動支持体７２Ｂｃは、板状部６４のうちスリット６５ａ、６５ｂの間の部分に、支持面６４Ｆとは反対側から接触する。位置決め体７２Ｂａ、７２Ｂｂが上記凹部６５ｇの底面及びガイド部６５ｃに接触し、かつ、可動支持体７２Ｂｃが板状部６４に対して支持面６４Ｆとは反対側から接することによって、位置決め部７２Ｂが板状部６４の厚み方向において位置決めされた状態で（図６、図１２参照）、スリット６５ａ、６５ｂに沿って移動することができる。位置決め部７２Ｂの長手方向中間部において、板状部６４のうちスリット６５ａ、６５ｂの間の部分が、位置決め部７２Ｂに対して支持面６４Ｆ側から接するため、ガイド位置決め面７２ＢＦ２ｆがイメージングプレート１０の縁部に接触した状態で、ガイド位置決め面７２ＢＦ２ｆが支持面６４Ｆから離れる正面側に移動し難い。これにより、ガイド位置決め面７２ＢＦ２ｆがイメージングプレート１０を支持面６４Ｆ側に効果的に押付けることができる。

本実施形態では、可動支持体７２Ｂｃには、ガイド部６５ｃがスライド可能に挿入されるガイド溝７２Ｂｇが形成されている（図６参照）。

位置決め部７２Ｂは、傾き矯正面７２ＢＦ１を有している。傾き矯正面７２ＢＦ１は、第１方向Ｆ１に沿った開閉方向において外側に向かうにつれて第２方向Ｆ２に向う。つまり、傾き矯正面７２ＢＦ１は、傾き矯正面７２ＡＦ１に対して逆に傾斜している。本実施形態では、第２方向Ｆ２において、位置決め体７２Ｂａは、位置決め体７２Ｂｂよりも長い。位置決め体７２Ｂａのうち位置決め部７２Ａ側を向く部分の上側に傾き矯正面７２ＢＦ１が形成されている。

ステージ６０を正面から観察すると、傾き矯正面７２ＢＦ１と、傾き矯正面７２ＡＦ１とは、左右対称である。このため、支持面６４Ｆ上に傾いて支持されたイメージングプレート１０の角部が当該傾き矯正面７２ＢＦ１に押付けられると、当該角部は傾き矯正面７２ＢＦ１に沿って斜め上方に移動する。傾き矯正面７２ＢＦ１は（前述の傾き矯正面７２ＡＦ１の設計と同様に）開閉方向において外側に向かって斜め下側に傾斜してもよい。

位置決め部７２Ｂは、第２方向Ｆ２において傾き矯正面７２ＢＦ１の両側に位置する少なくとも２つ（ここでは２つ）の接触縁部７２ＢＦ２を有している。少なくとも２つの接触縁部７２ＢＦ２は第２方向Ｆ２に沿う同じ直線上に沿って延在している。少なくとも２つの接触縁部７２ＢＦ２は、第１方向Ｆ１において、上記少なくとも２つの接触縁部７２ＡＦ２に対して間隔をあけて対向している。ステージ６０を正面から観察すると、少なくとも２つの接触縁部７２ＡＦ２と、少なくとも２つの接触縁部７２ＢＦ２とは、左右対称である。

ここでは、１つの接触縁部７２ＢＦ２が下側の位置決め体７２Ｂａのうち位置決め部７２Ａ側を向く部分の下側に形成されている。当該１つの接触縁部７２ＢＦ２の上端に傾き矯正面７２ＢＦ１が連続して繋がっている。よって、傾き矯正面７２ＢＦ１は、当該下側の接触縁部７２ＢＦ２の上端から開閉方向外側に向けて斜め上方に延びている。

他の１つの接触縁部７２ＢＦ２が上側の位置決め体７２Ｂｂのうち位置決め部７２Ａ側を向く部分に形成されている。２つの接触縁部７２ＢＦ２は、傾き矯正面７２ＢＦ１と、位置決め体７２Ｂａ、７２Ｂｂ間の間隔分、上下に離れて位置しており、２つの接触縁部７２ＢＦ２の間に傾き矯正面７２ＢＦ１が位置している。

傾き矯正面７２ＢＦ１の上下両方に接触縁部７２ＢＦ２が位置していることは必須ではない。例えば、傾き矯正面の上側又は下側のみに接触縁部が位置していてもよい。接触縁部７２ＢＦ２が第２方向Ｆ２に沿って延在していることは必須ではない。例えば、接触縁部は、イメージングプレートの縁に対して点接触する形状であってもよい。

少なくとも２つの接触縁部７２ＢＦ２のうちの他の１つである上側の接触縁部７２ＢＦ２の下端から前記開閉方向において外側に向かう接触回避面７２ＢＦ３が延在している。ここでは、接触回避面７２ＢＦ３は、第１方向Ｆ１に沿って延びている。上側の接触縁部７２ＢＦ２と接触回避面７２ＢＦ３とは、曲面７２ＢＦｃを介して連なっている。曲面７２ＢＦｃは、イメージングプレート１０の正面から見て外向き凸となるように曲って観察される部分である。これにより、イメージングプレート１０が傾いた状態から正規姿勢に姿勢変更する際に、イメージングプレート１０の角部が上側の接触縁部７２ＢＦ２と接触回避面７２ＢＦ３とが繋がる部分に干渉し難い。

本実施形態では、支持面６４Ｆよりも正面側の位置で、位置決め体７２Ｂａと、位置決め体７２Ｂｂとは、第２方向Ｆ２において隔てられている。このため、傾き矯正面７２ＢＦ１と接触回避面７２ＢＦ３とは、繋がっておらず、それらの間に隙間が設けられている。位置決め部７２Ａと同様に、支持面６４Ｆよりも正面側で、傾き矯正面７２ＢＦ１と接触回避面７２ＢＦ３とが繋がっていてもよいし、互いに接触していてもよい。

本実施形態では、位置決め部７２Ａ、７２Ｂのそれぞれが傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１を有している。位置決め部７２Ａ、７２Ｂのそれぞれが、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１を有していることは必須ではない。位置決め部７２Ａ、７２Ｂの少なくとも一方が傾き矯正面を有していれば、当該傾き矯正面による傾き矯正がなされる。

同様に、位置決め部７２Ａ、７２Ｂのそれぞれが、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１、少なくとも２つの接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２、接触回避面７２ＡＦ３、７２ＢＦ３、曲面７２ＡＦｃ、７２ＢＦｃを有していることは必須ではない。

上記接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２のうちイメージングプレート１０に接する部分は、イメージングプレート１０の縁部に接して当該縁部の位置を規制できる形状であればよい。よって、接触縁部は、支持面に対して垂直な面であってもよい。傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１は、イメージングプレート１０の縁部（辺部または角部）に接した部分を案内してイメージングプレート１０の姿勢を矯正できる形状であればよい。よって、傾き矯正面は、支持面に対して傾いた面であってもよい。

位置決め機構７０は、ガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆを有する。ガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆは、支持面６４Ｆ上に支持されたイメージングプレート１０の縁部分に対して接触し、支持面６４Ｆの延在方向において縁部分をその外側から位置決めすると共に当該縁部分を支持面６４Ｆに押付ける位置決め面の一例である。

具体的には、少なくとも２つの接触縁部７２ＡＦ２のそれぞれがガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆを有しており、少なくとも２つの接触縁部７２ＢＦ２のそれぞれがガイド位置決め面７２ＢＦ２ｆを有している。ガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆは、少なくとも支持面６４Ｆからイメージングプレート１０の厚み寸法分突出しており、支持面６４Ｆから離れるにつれて支持面６４Ｆに覆い被さる方向に向う形状に形成されている（図１５参照、ガイド位置決め面７２ＢＦ２ｆにつき図６も参照）。

ガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆは、例えば、支持面６４Ｆの正面から離れるにつれて支持面６４Ｆの中央側に傾斜する傾斜面である。ガイド位置決め面は、平面であってもよいし、曲面であってもよいし、平面と曲面との組合せ面であってもよい。

ガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆがイメージングプレート１０の縁に接すると、当該縁が支持面６４Ｆに向けて押付けられる。これにより、イメージングプレート１０が支持面６４Ｆに接した状態に保たれ易くなり、読取ユニット９０がイメージングプレート１０を読取る際に、読取ユニット９０とイメージングプレート１０の表面１０ａとの距離を一定に保ち易い。もって、読取ユニット９０がイメージングプレート１０を良好に読取ることができる。

傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１は、ガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆよりも支持面６４Ｆに対して直角に近い角度であってもよい。ここで、直角に近い角度とは、直角である場合を含む。つまり、支持面６４Ｆに対してガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆがなす角度θ１（図１５参照）、支持面６４Ｆに対して傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１がなす角度θ２（図１８参照）とすると、９０度とθ１との差は、９０度とθ２との差よりも大きい。

θ１は任意であるが、ガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆがイメージングプレート１０の縁部を支持面６４Ｆに押付けるようにガイドする機能を持たせるためには、理論上は、０度＜θ１＜９０度であることが好ましい。

θ２は任意であるが、θ２が小さくなると、イメージングプレート１０の縁部が支持面６４Ｆと傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１との間に挟込まれ易くなり、イメージングプレート１０の縁部が傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１に沿って円滑に移動し難くなることが想定される。そこで、θ２＞θ１とすることで、イメージングプレート１０の縁部が傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１で引っ掛り難くなる。また、θ２が９０度を超えると、イメージングプレート１０の縁部が傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１に押し当てられると、支持面６４Ｆから遠ざかる方向に案内されることが考えられる。そこで、θ２≦９０度であることが好ましく、θ２＝９０度であることがより好ましい。例えば、４５度≦θ１＜９０度であり、かつ、θ２＝９０度であってもよい。

位置決め部７２Ｂは、位置決め部７２Ａに対して離れた離間位置（図７参照）と、位置決め部７２Ａに対して離間位置よりも近づいた接近位置（図１０参照）との間で移動可能である。ステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する状態では、位置決め部７２Ｂは、離間位置に位置する。ステージ６０が読取位置Ｐ２に位置する状態では、位置決め部７２Ｂは接近位置に移動可能となる。

本実施形態では、イメージングプレート１０の長手方向を主走査方向Ａ１に沿わせた姿勢で、イメージングプレート１０がステージ６０にセットされる。このため、イメージングプレート１０の幅は、イメージングプレート１０の短手方向の幅である。

位置決め部７２Ｂが離間位置に位置する状態では、位置決め部７２Ａと位置決め部７２Ｂとの間隔寸法は、イメージングプレート１０の幅よりも大きく設定される。ステージ６０に複数のサイズのイメージングプレート１０が選択的にセットされる場合には、前記間隔寸法は、複数のサイズのイメージングプレート１０の中で最も大きい幅よりも大きく設定される。

位置決め部７２Ｂが接近位置に位置する状態では、位置決め部７２Ａと位置決め部７２Ｂとの間隔寸法は、イメージングプレート１０の幅よりも小さく設定される。ステージ６０に複数のサイズのイメージングプレート１０が選択的にセットされる場合には、前記間隔寸法は、複数のサイズのイメージングプレート１０の中で最も小さい幅よりも小さく設定される。

このため、位置決め部７２Ｂが離間位置に位置する状態で、位置決め部７２Ａ、７２Ｂの間にイメージングプレート１０を配置することができる。また、位置決め部７２Ｂが離間位置から接近位置に移動することによって、位置決め部７２Ａ、７２Ｂの間にイメージングプレート１０を挟込むことができる。

より具体的には、位置決め部７２Ｂが離間位置に位置し、位置決め部７２Ａと位置決め部７２Ｂとが離れた状態で、支持面６４Ｆ上にイメージングプレート１０が配置される（図４参照）。この状態で、位置決め部７２Ｂが接近位置（位置決め部７２Ａ）に向けて移動する。すると、位置決め部７２Ｂによってイメージングプレート１０の一方の縁部分がその内側に（第１方向Ｆ１に沿った方向へ）押され、支持面６４Ｆ上を滑って位置決め部７２Ａ側に移動する。すると、イメージングプレート１０のうち位置決め部７２Ａ側の縁部分が、位置決め部７２Ａに押付けられ、位置決め部７２Ａ側への移動が規制される。

イメージングプレート１０が傾いている場合、イメージングプレート１０の縁が傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１に接触することで、当該傾きが矯正される。傾き矯正動作については、後で説明する。

ステージ６０は、位置決め部７２Ｂを位置決め部７２Ａ側に付勢する付勢部材としてバネ７２Ｂｓを有している。例えば、板状部６４の裏面側において、バネ７２Ｂｓの一端部がスリット６５ａの奥側部分に固定され、他端部が可動支持体７２Ｂｃに固定される。スリット６５ａの奥側部分と可動支持体７２Ｂｃとの間において、バネ７２Ｂｓは常時伸張状態とされており、当該バネ７２Ｂｓの圧縮力によって、位置決め部７２Ｂが位置決め部７２Ａ側に付勢される。

位置決め部７２Ｂに、当該位置決め部７２Ｂを移動させる力を受ける受部として、ローラ７２Ｂｑが一体的に組合わされている。ステージ６０が移動する際に、当該ローラ７２Ｂｑが支持部材４０に固定されたカム板８０に接触することで、位置決め部７２Ｂが移動する。

ステージ６０の移動に伴う位置決め部７２Ｂの移動動作については、後にさらに説明される。

＜第２方向の位置決め機構について＞
位置決め部７２Ｃは、板状部６４のうち第２方向Ｆ２における一方側、ここでは、下側の側部に沿って突出する細長い部分である。位置決め部７２Ｃは、支持面６４Ｆを囲む境界のうち下側の境界に沿って第１方向Ｆ１に沿って延在している。位置決め部７２Ｃは、支持面６４Ｆよりも当該支持面６４Ｆから突出している。位置決め部７２Ｃの長さは、支持面６４Ｆ上に支持されるイメージングプレート１０の幅寸法（複数サイズが想定される場合には最大の幅寸法）よりも短くてもよいし、長くてもよい。

位置決め部７２Ｃのうち内側（上側）を向く面が、位置決め面７２ＣＦに形成されている。位置決め面７２ＣＦは、支持面６４Ｆに対する角度が９０度未満であるガイド面（ここでは平面）に形成されていてもよいし、支持面６４Ｆに対して直角な平面に形成されていてもよい。位置決め面７２ＣＦは、重力方向に対して傾斜する支持面６４Ｆの下側に位置していることから、支持面６４Ｆに沿って下方に移動するイメージングプレート１０の下側の縁部分を受ける面の一例である。

位置決め部７２Ｃは、支持面６４Ｆ上において一定位置に位置し、第２方向Ｆ２において一方側からイメージングプレート１０の縁部分に対して接触する基準位置決め部の一例である。この位置決め部７２Ｃは、イメージングプレートを下方から支える位置に位置している。なお、基準位置決め部は、セット位置Ｐ１及び読取位置Ｐ２において、支持面６４Ｆに対して一定位置に位置していればよい。

本実施形態では、位置決め部７２Ｃは、板状部６４とは別体に形成されている。位置決め部７２Ｃは、接触位置と退避位置との間で姿勢変更可能に構成される（図１１参照）。接触位置は、位置決め面７２ＣＦを支持面６４Ｆ上のイメージングプレート１０の縁部分に対向させる位置であり、退避位置は、位置決め面７２ＣＦを、支持面６４Ｆ上のイメージングプレート１０の縁部分から退避させる位置である。

位置決め部７２Ｃの動作ついて説明しておく。板状部６４のうち下端側部分が他の部分よりも幅狭に形成されている。位置決め部７２Ｃは、細長い位置決め本体部７３Ｃａと、一対の回転支持部７３Ｃｂとを含む。位置決め本体部７３Ｃａは、板状部６４のうち下端側部分全体に延在し得る長さに設定されている。位置決め本体部７３Ｃａの周囲を囲む面のうちの１つの面が上記位置決め面７２ＣＦに形成されている。位置決め本体部７３Ｃａの両端部から一対の回転支持部７３Ｃｂが延出している。一対の回転支持部７３Ｃｂが上記板状部６４のうち下端側部分の両側外方に配置されている。ネジ又はピン等によって構成される支持軸部によって、一対の回転支持部７３Ｃｂが上記板状部６４のうち下端側部分の両側に対して回転可能に支持される。

位置決め部７２Ｃが接触位置に位置する状態では、上記したように、位置決め面７２ＣＦが支持面６４Ｆの下方延長上に交差するように位置する。このため、支持面６４Ｆを滑り落ちるイメージングプレート１０の下側の縁部分が位置決め面７２ＣＦに接触することができる（図１１において実線で示す位置決め部７２Ｃ参照）。

位置決め面７２ＣＦが退避位置に位置変更されると、位置決め面７２ＣＦが支持面６４Ｆから退避する（図１１において二点鎖線で示す位置決め部７２Ｃ参照）。すなわち、退避位置にあるときの位置決め面７２ＣＦは、支持面６４Ｆに沿って下方に移動したイメージングプレート１０の下側の縁部分を受けるポジションには位置しなくなる。本実施形態では、位置決め面７２ＣＦは、支持面６４Ｆの裏側に退避する。位置決め面７２ＣＦは、支持面６４Ｆの正面側に退避移動してもよい。位置決め面７２ＣＦが退避位置に移動すると、イメージングプレート１０は、支持面６４Ｆ上を滑り落ちることができる。

本実施形態では、一対の回転支持部７３Ｃｂのうちの一方に、支持面６４Ｆとは反対側に突出する突出片７３Ｃｂｐが突設されている。ステージ６０の移動によって突出片７３Ｃｂｐを押すことによって、位置決め面７２ＣＦが接触位置から退避位置に位置変更される。なお、退避位置から退避位置への位置決め部７２Ｃの付勢は、位置決め部７２Ｃ自体の自重によってなされてもよいし、ねじりコイルバネ等のばねによってなされてもよい。

上記基準位置決め部である位置決め部７２Ｃを基準として、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１の好ましい位置設定例について説明する。イメージングプレート１０が支持面６４Ｆに載置された状態で、重力によって位置決め部７２Ｃ上の位置決め面７２ＣＦに接することが想定される。傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１は、イメージングプレート１０が大きく傾いている場合に、イメージングプレート１０の角部に接することによって、当該角部を案内して、イメージングプレート１０の傾きを矯正する役割を果せることが好ましい。このため、イメージングプレート１０が位置決め部７２Ｃ上で位置決め部７２Ａ、７２Ｂの間に位置して傾いている多くの状態で、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１が当該イメージングプレート１０の角部に接触し得る位置に存在していることが好ましい。例えば、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１は、第２方向Ｆ２において、位置決め部７２Ｃを基準として、矯正対象となるイメージングプレート１０の寸法（ここでは長手方向寸法）の半分未満の位置からイメージングプレート１０の寸法未満となる領域に設けられることが好ましい。また、例えば、第２方向Ｆ２において、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１の少なくとも一部が、矯正対象となるイメージングプレート１０の重心よりも上側に位置しており、傾いたイメージングプレート１０の角部は重心よりも上で傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１に接触することが好ましい。また、傾き矯正した後、イメージングプレート１０を所定の姿勢で挟み込めるように、接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２の少なくとも一部が、イメージングプレート１０の重心よりも下側に位置しており、矯正されたイメージングプレート１０を重心よりも低い位置でイメージングプレート１０を挟んで位置決めしていてもよい。

既に述べたように、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１とは異なり、傾き矯正面がイメージングプレート１０の角部を斜め下方に移動させてイメージングプレート１０の傾きを矯正する場合も想定される。この場合、傾き矯正面の少なくとも一部は、矯正対象となるイメージングプレート１０の重心よりも下側に位置していることが好ましい。また、第２方向Ｆ２に沿う接触縁部については、上記と同様に、接触縁部の少なくとも一部がイメージングプレートの重心よりも下側に位置してことが好ましい。

本実施形態では、矯正対象として複数サイズのイメージングプレート１０が想定される。例えば、図９において、第２方向Ｆ２において、複数サイズのイメージングプレート１０の中央の存在領域がＥ１で示される。第２方向Ｆ２において、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１の下端位置Ｇ１は、当該存在領域Ｅ１よりも下方に位置している。また、第２方向Ｆ２において、複数サイズのイメージングプレート１０の上端の存在領域がＥ２で示される。第２方向Ｆ２において、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１の上端位置Ｇ２は、当該存在領域Ｅ２よりも下方に位置している。

傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１が、第２方向Ｆ２において、位置決め部７２Ｃを基準として、矯正対象となるイメージングプレート１０の寸法（ここでは長手方向寸法）の半分未満の位置から上方に延在することで、イメージングプレート１０が大きく傾いている場合に、イメージングプレート１０の角部を傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１に接触させ易い。つまり、イメージングプレート１０の傾きが小さい場合には、イメージングプレート１０の角部を、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１に当てなくても、縁部をガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆに当てれば、当該傾きを矯正できると考えられる。イメージングプレート１０の傾きが大きくなれば、イメージングプレート１０の角部と位置決め部７２Ａ（又は７２Ｂ）との摩擦力が大きくなって、イメージングプレート１０が正規姿勢に回転できない状態となることが考えられる。そこで、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１が、第２方向Ｆ２において、位置決め部７２Ｃを基準として、矯正対象となるイメージングプレート１０の寸法（ここでは長手方向寸法）の半分未満の位置から上方に延在することで、イメージングプレート１０が大きく傾いている場合に、イメージングプレート１０の角部を傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１に接触させ易い。これにより、イメージングプレート１０を矯正し易い。

また、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１が、第２方向Ｆ２において、位置決め部７２Ｃを基準として、矯正対象となるイメージングプレート１０の寸法未満となる領域に設けられることで、長いイメージングプレート１０に対しては、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１の上方で接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２を配置する構成を実現し易い。これにより、長いイメージングプレート１０に対しては、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１の上下両外側で、接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２を接触させ、もって、イメージングプレート１０を位置決めし易くなる（図２０参照）。

位置決め部７２Ｄは、上記位置決め部７２Ｃに対して間隔をあけて対向して設けられる。ここでは、位置決め部７２Ｄは、位置決め部７２Ｃに対して第２方向Ｆ２に沿って間隔をあけて設けられる。

より具体的には、板状部６４のうち上記位置決め部７２Ｃとは反対側の部分に、第２方向Ｆ２に沿うスリット６７が形成されている。スリット６７の両側縁に支持面６４Ｆよりも凹む凹部６７ｇが形成されている。

位置決め部７２Ｄは、スリット６７の延在方向に沿って長い板状に形成される。図６において板状部６４から取外された位置決め部７２Ｄが２点鎖線で示されている。位置決め部７２Ｄの厚みは、板状部６４の厚みよりも大きい。位置決め部７２Ｄの厚み方向中間部がスリット６７内に配置される。位置決め部７２Ｄは、スリット６７の両側縁部分に対して板状部６４の両面から接触可能な凸部７２Ｄｐを有している。凸部７２Ｄｐがスリット６７の両側縁部分に板状部６４の両面から接触した状態で位置決め部７２Ｄがスリット６７に沿った方向（第２方向Ｆ２）に沿って往復移動可能に支持される。

位置決め部７２Ｄのうち内側（下側）を向く面が、位置決め面７２ＤＦに形成されている。位置決め面７２ＤＦは、支持面６４Ｆに対する角度が９０度未満であるガイド面（ここでは平面）に形成されていてもよいし、支持面６４Ｆに対して直角な平面に形成されていてもよい。位置決め面７２ＤＦは、位置決め面７２ＣＦに対して第２方向Ｆ２において間隔をあけて対向している。位置決め面７２ＤＦは、イメージングプレート１０の上側の縁部分を下方に向けて押す面の一例である。

ステージ６０は、位置決め部７２Ｄを位置決め部７２Ｃ側に付勢する付勢部材としてバネ７２Ｄｓを有している。例えば、板状部６４の裏面側において、バネ７２Ｄｓの一端部がスリット６７の奥側部分に固定され、他端部が位置決め部７２Ｄに固定される。スリット６７の奥側部分と位置決め部７２Ｄとの間において、バネ７２Ｄｓは常時伸張状態とされており、当該バネ７２Ｄｓの圧縮力によって、位置決め部７２Ｄが位置決め部７２Ｃ側に付勢される。

位置決め部７２Ｄに受部７２Ｄｑが一体的に形成されている。受部７２Ｄｑは、位置決め部７２Ｄのうち支持面６４Ｆとは反対側を向く部分に設けられている。ここでは、受部７２Ｄｑは、位置決め部７２Ｄの長手方向中間部に設けられる。受部７２Ｄｑは、板状部６４の裏面よりも突出している。ステージ６０の位置に拘らず、受部７２Ｄｑは、一対の長手方向側板４５の間に位置することができる。この受部７２Ｄｑは、ステージ６０の移動経路における少なくとも一部において、固定配置部分の一例である下側の短手方向側板４６Ｌに接することで、位置決め部７２Ｄを動かす力を受けることができる。

なお、本実施形態において、一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂは、一対の第２開閉位置決め部７２Ｃ、７２Ｄよりも小さく開く。つまり、一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂの最大間隔は、一対の第２開閉位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの最大間隔よりも小さい。これにより、イメージングプレート１０を第２方向Ｆ２に沿わせる姿勢で、イメージングプレート１０を一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂの間と、一対の第２開閉位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの間とに配置し易い。特に、一対の第２開閉位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの最大間隔が、複数サイズのイメージングプレート１０の長手方向寸法のうち最も小さい寸法よりも小さければ、複数サイズのイメージングプレート１０の長手方向を第１方向Ｆ１に沿わせるようにして、当該イメージングプレート１０を配置し難い。これにより、イメージングプレート１０が縦横間違った状態でステージ６０にセットされ難い。

なお、本実施形態では、ガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆ、位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦは、支持面６４Ｆに対して鋭角をなすように傾斜する面である例が説明された。位置決め部７２Ａ、７２Ｂ、７２Ｃ、７２Ｄの一部又は全部において、イメージングプレート１０を位置決めする面が、イメージングプレート１０の縁部分を支持面６４Ｆに押付ける構成を有していることは必須ではない。

＜位置決め部の駆動機構について＞
上記位置決め部７２Ｂ、位置決め部７２Ｃ、位置決め部７２Ｄの駆動は、どのような構成によってなされてもよい。例えば、位置決め部７２Ｂ、位置決め部７２Ｃ、位置決め部７２Ｄは、ステージ６０を駆動する力を利用して駆動されてもよい。位置決め部７２Ｂ、位置決め部７２Ｃ、位置決め部７２Ｄは、例えば、制御部１００（図３参照）の制御に基づき、ステージ６０を駆動するモータ等の駆動部とは別の駆動部（例えば、モータ、ソレノイドアクチュエータ）によって駆動されてもよい。

本実施形態では、位置決め部７２Ｂ、位置決め部７２Ｃ、位置決め部７２Ｄは、ステージ６０を駆動する力を利用して駆動されており、そのための構成が以下に説明される。

＜位置決め部７２Ｂを移動させるための構成について＞
上記したように、位置決め部７２Ｂは、ステージ本体６１に対して離間位置と接近位置との間で移動可能に支持されている。ステージ本体６１における位置決め部７２Ｂの移動方向は、主走査方向Ａ１（第２方向Ｆ２）に沿ったステージ本体６１の移動方向に対して交差する副走査方向Ａ２（第１方向Ｆ１）に沿っている。

位置決め部７２Ｂは、バネ７２Ｂｓによって接近方向に付勢されている。また、位置決め部７２Ｂは、回転可能に支持されたローラ７２Ｂｑを有している。ローラ７２Ｂｑの回転軸は、第１方向Ｆ１及び第２方向Ｆ２に直交する方向に沿っている。ローラ７２Ｂｑは、板状部６４に対して支持面６４Ｆとは反対側に突出している。ステージ６０の位置に拘らず、ローラ７２Ｂｑは、一対の支持ロッド４８間に位置することができる。

一対の支持ロッド４８のうち箱状部４４から突出する部分にカム板８０が支持されている。カム板８０は、下側の短手方向側板４６Ｌの外側で、一対の支持ロッド４８間に位置する板状部材である。カム板８０は、ステージ本体６１に対して支持面６４Ｆとは反対側に位置している。

カム板８０に、カム溝８２が形成されている（図８及び図１０参照）。カム溝８２は、上記ローラ７２Ｂｑを配置可能な位置において第２方向Ｆ２に沿って延びるように形成されている。カム溝８２は、カム板８０の両面に貫通しているが、ステージ６０側で開口する有底溝であってもよい。

カム溝８２のうち位置決め部７２Ａに近い側（接近位置側）の側面が、上記ローラ７２Ｂｑに接触して当該ローラ７２Ｂｑを第１方向Ｆ１に沿って移動させる作動面８２ｆに形成されている。

作動面８２ｆは、第２方向Ｆ２に沿ってセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に向うに連れて位置決め部７２Ａ側（接近位置）側に向う傾斜面８２ｆｍを有している。傾斜面８２ｆｍは、第２方向Ｆ２において作動面８２ｆの中間に位置している。第２方向Ｆ２において、作動面８２ｆのうち傾斜面８２ｆｍの両側部分は、第２方向Ｆ２に沿う面８２ｆ１、８２ｆ２に形成されている。

カム溝８２のうち位置決め部７２Ａから遠い側（離間位置側）の側面は、上記ローラ７２Ｂｑとの接触を回避した形状に形成されている。本実施形態では、当該側面は、作動面８２ｆに対してローラ７２Ｂｑの距離以上離れて、第２方向Ｆ２に沿って延びる平面に形成されている。

ステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する状態では、ローラ７２Ｂｑは、カム溝８２のうち傾斜面８２ｆｍよりも奥側に位置する（図８参照）。この状態では、ローラ７２Ｂｑは、傾斜面８２ｆｍより奥側の面８２ｆ１に接した状態となっている。面８２ｆ１は、バネ７２Ｂｓの付勢力に抗してローラ７２Ｂｑを位置決め部７２Ａから離れる方向（離間位置側）に押す。このため、ステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する状態では、位置決め部７２Ｂは、離間位置に位置する。

ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に向けて移動すると、ローラ７２Ｂｑは、カム溝８２内をセット位置Ｐ１側に向けて移動する。位置決め部７２Ｂ及びローラ７２Ｂｑは、バネ７２Ｂｓによって接近位置側に付勢されている。このため、ローラ７２Ｂｑは、作動面８２ｆに押付けられた状態となっている。ローラ７２Ｂｑは、面８２ｆ１上から傾斜面８２ｆｍ上を経て面８２ｆ２上を従動移動する（図１０参照）。

ローラ７２Ｂｑが傾斜面８２ｆｍ上を移動する際に、位置決め部７２Ｂは、離間位置から接近位置に向けて徐々に移動する。支持面６４Ｆ上にイメージングプレート１０が載置されていないと、ローラ７２Ｂｑは、傾斜面８２ｆｍからセット位置Ｐ１側の面８２ｆ２上に達する。ローラ７２Ｂｑが傾斜面８２ｆｍよりもセット位置Ｐ１側の面８２ｆ２上を移動する際には、位置決め部７２Ｂは接近位置に保たれる。

位置決め部７２Ｂが離間位置から接近位置に向けて移動する際に、支持面６４Ｆ上にイメージングプレート１０が載置されていると、位置決め部７２Ｂのうち位置決め部７２Ａ側の部分がイメージングプレート１０の一方の縁部に接触する。位置決め部７２Ｂがイメージングプレート１０を位置決め部７２Ａ側に押すと、位置決め部７２Ａと位置決め部７２Ｂとの間隔がイメージングプレート１０の幅と同程度となる。すると、位置決め部７２Ｂは、位置決め部７２Ａ側に移動できなくなる。このため、ローラ７２Ｂｑが作動面８２ｆに接触しているか否かに拘らず、接近位置側への位置決め部７２Ｂの移動が規制される。これにより、第１方向Ｆ１において、バネ７２Ｂｓの付勢力によって、イメージングプレート１０が位置決め部７２Ａと位置決め部７２Ｂとの間で位置決め状態で挟持される。

ステージ６０が読取位置Ｐ２からセット位置Ｐ１に移動する際には、上記と逆の動作がなされる。すなわち、ステージ６０の移動途中に、ローラ７２Ｂｑが傾斜面８２ｆｍに接触することで、バネ７２Ｂｓの付勢力に抗して、ローラ７２Ｂｑが接近位置から離間位置に向けて押される。これにより、位置決め部７２Ｂが徐々に接近位置に向けて移動し、位置決め部７２Ａと位置決め部７２Ｂとが開いた状態となる。これにより、第１方向Ｆ１において、位置決め部７２Ａと位置決め部７２Ｂとによるイメージングプレート１０の挟持が解除される。

上記のように、位置決め部７２Ｂを付勢する付勢部材としてのバネ７２Ｂｓ、位置決め部７２Ｂを移動させるための力を受ける受部としてのローラ７２Ｂｑ、ローラ７２Ｂｑを作動させる作動面８２ｆは、ステージ移動機構５０によってステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動するのにあわせて一対の開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂを閉動作させる位置決め部動作機構の一例である。上記したように、位置決め部動作機構は、ステージ６０を駆動するモータ等の駆動部とは別の駆動部（例えば、モータ、ソレノイドアクチュエータ）によって位置決め部７２Ｂを動作させてもよい。一方で、本実施例のように、ステージ移動機構がステージを動かす力によって一対の開閉位置決め部の閉動作や開動作を行わせることができる構成では、モータ等の駆動機構を少なくすることができる。

＜位置決め部７２Ｄを移動させるための構成について＞
位置決め部７２Ｄを移動させるための構成について説明する。上記したように、位置決め部７２Ｄは、ステージ本体６１に対して離間位置と接近位置との間で移動可能に支持されている。ステージ本体６１における位置決め部７２Ｄの移動方向は、主走査方向Ａ１（第２方向Ｆ２）に沿ったステージ本体６１の移動方向と同じである。

位置決め部７２Ｄは、バネ７２Ｄｓによって閉方向、即ち、離間位置から接近位置に向けて常時付勢されている。位置決め部７２Ｄに受部７２Ｄｑが一体的に形成されている。

ステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する状態では、受部７２Ｄｑが下方の短手方向側板４６Ｌの縁部分に読取位置Ｐ２側から接触する。これにより、バネ７２Ｄｓによる引張り力に抗して受部７２Ｄｑがスリット６７の開口側（読取位置Ｐ２側）に向けて押され、位置決め部７２Ｄが離間位置に保たれる（図８参照）。つまり、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄが開状態に保たれる。

ステージ６０が読取位置Ｐ２に位置する状態では、受部７２Ｄｑと短手方向側板４６Ｌとの接触状態が解除される。これにより、バネ７２Ｄｓによる引張り力によって、位置決め部７２Ｄがスリット６７の奥側、即ち、接近位置に向うように付勢される（図１０参照）。これにより、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄが、イメージングプレート１０のうち対向する上下２箇所の側縁部分を挟込んだ状態に保たれる。

ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動する少なくとも一部の区間（初期区間）においては、バネ７２Ｂｓの引張り力によって受部７２Ｄｑが短手方向側板４６Ｌに向けて押された状態のまま、ステージ６０が読取位置Ｐ２に向けて移動する。ステージ本体６１を基準に考えると、位置決め部７２Ｄは、ステージ本体６１の移動に応じて徐々に接近位置に向けて移動する。これにより、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄが閉動作される。

この際、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの間にイメージングプレート１０が存在しないと、位置決め部７２Ｄは接近位置まで移動する。一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの間にイメージングプレート１０が存在する場合、一対の位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦの間にイメージングプレート１０が挟込まれることによって、位置決め部７２Ｄの移動が規制されるまで、当該位置決め部７２Ｄが接近位置に向けて移動する。この状態では、バネ７２Ｄｓの付勢力によって、イメージングプレート１０は、一対の位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦの間に挟込まれた状態に保たれる。このように、ステージ６０が動かされる力によって、受部７２Ｄｑがステージ本体に対して移動し、これにより、受部７２Ｄｑが、接近位置への位置決め部７２Ｄの移動を許容し、もって、位置決め部７２Ｄに開動作を行わせる。

上記とは逆に、ステージ６０が読取位置Ｐ２からセット位置Ｐ１に向けて移動する少なくとも一部の区間（後期区間）では、受部７２Ｄｑと短手方向側板４６Ｌとが接触することによって、短手方向側板４６Ｌに対して位置決め部７２Ｄが一定位置に保たれたままステージ本体６１がセット位置Ｐ１に向けて移動する。ステージ本体６１を基準に考えると、位置決め部７２Ｄは、バネ７２Ｄｓの付勢力によってステージ本体６１の移動に応じて徐々に離間位置に向けて移動する。これにより、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの間のイメージングプレート１０の保持が解除される。つまり、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄを開動作させる。このように、受部７２Ｄｑが、ステージ６０を動かす力によって、位置決め部７２Ｄを離間位置に向けて移動させ、もって、位置決め部７２Ｄに開動作を行わせる。

＜位置決め部７２Ｃを移動させるための構成について＞
本実施形態では、ステージ６０は、セット位置Ｐ１からさらに（読取位置Ｐ２とは反対側に）遠ざかる排出位置Ｐ３に移動可能である（図１１参照）。

上記カム板８０に、溝８４が形成されている（図８、図１０、図１１参照）。溝８４は、上記位置決め部７２Ｂの一端に設けられた突出片７３Ｃｂｐを配置可能な位置において第２方向Ｆ２に沿って延びるように形成されている。溝８４は、カム板８０の両面に貫通しているが、ステージ６０側で開口する有底溝であってもよい。

溝８４の奥に作動ローラ８５が位置している。作動ローラ８５は、第１方向Ｆ１に沿う軸周りに回転可能に支持されたローラである。作動ローラ８５は、ステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する状態では突出片７３Ｃｂｐに接触せず、ステージ６０が排出位置Ｐ３に位置する状態で突出片７３Ｃｂｐに接触可能な位置に配置されている。なお、溝８４の奥に作動ローラ８５が設けられず、第２カム溝の奥の位置自体が、ステージ６０が排出位置Ｐ３に位置する状態で突出片７３Ｃｂｐと接触可能に設定されていてもよい。

ステージ６０がセット位置Ｐ１及び読取位置Ｐ２に位置する状態では、突出片７３Ｃｂｐは作動ローラ８５に接触しない。この状態では、位置決め部７２Ｂの位置決め面７２ＣＦは、位置決め部７２Ｂの自重により又は付勢部材によって、イメージングプレート１０を下から支える接触位置に位置している。

ステージ６０がセット位置Ｐ１から排出位置Ｐ３に移動すると、突出片７３Ｃｂｐが作動ローラ８５に接触し、位置決め面７２ＣＦが接触位置から退避位置に移動する。これにより、イメージングプレート１０は、ステージ６０の支持面６４Ｆ上から下方に滑り落ちることができる。

＜セット用ガイドについて＞
図１３はセット用ガイド２００によるイメージングプレート１０のガイド動作を示す説明図である。

図１から図３、図５、図１３に示すように、セット用ガイド２００は、プレートガイド面２１６を含んでおり、イメージングプレート１０をステージ６０に向けて案内する。プレートガイド面２１６は、下向き傾斜する面であり、イメージングプレート１０を斜め下方に案内する面である。セット用ガイド２００は、セット位置Ｐ１に位置するステージ６０に対して支持面６４Ｆ側から対向する位置に配置されている。

より具体的には、セット用ガイド２００は、ガイドベース板２０１と、ガイド本体２１２とを備える。

ガイドベース板２０１は、一対の支持ロッド４８の幅に応じた大きさに設定されており、当該一対の支持ロッド４８に掛渡すように固定される。ガイドベース板２０１は、ステージ６０のうち下側の短手方向側板４６Ｌから突出する部分上を覆うことができる。

ガイドベース板２０１に、プレート通過開口２０２が形成されている。プレート通過開口２０２は、イメージングプレート１０が通過可能な方形状の開口である。例えば、プレート通過開口２０２は、イメージングプレート１０の大きさ（複数サイズのイメージングプレート１０が想定される場合には最大の大きさ）よりも大きい方形状に形成されている。プレート通過開口２０２は、セット位置Ｐ１に位置するステージ６０のうち支持面６４Ｆに対向する位置に形成される。

ガイド本体２１２は、例えば、樹脂によって形成される。ガイド本体２１２は、プレートガイド面２１６を有しており、筐体３０の開口３１からステージ６０に向けてイメージングプレート１０を案内する。

ガイド本体２１２は、直方体状に形成されている。

ガイド本体２１２の外向き面に投入口２３０が形成されている。ガイド本体２１２のうち外向き面とは反対側に内向き面に開口２３２が形成されている。開口２３２をプレート通過開口２０２に対応する位置に配置した状態で、ガイド本体２１２がガイドベース板２０１に取付けられている。ガイド本体２１２がガイドベース板２０１を介して一対の支持ロッド４８に取付けられた状態で、一対の支持ロッド４８間において、開口２３２はプレート通過開口２０２を介してセット位置Ｐ１に位置するステージ６０の支持面６４Ｆに対向する。

また、上記のようにガイド本体２１２が一対の支持ロッド４８に取付けられた状態で、投入口２３０が形成された外向き面が、筐体３０のうち開口３１が形成された面に沿うように配置される。当該外向き面は、開口３１を通じて筐体３０の外に露出する。

ガイド本体２１２内に、投入口２３０の下縁部分から開口２３２の下縁部分に向うようにして、プレートガイド面２１６が形成されている。

プレートガイド面２１６は、支持面６４Ｆに向って徐々に下方に向うように形成されている。本実施形態では、プレートガイド面２１６は、外向きに凸な湾曲面２１６ａである部分を含む。本実施形態では、プレートガイド面２１６の全体が湾曲面２１６ａである。湾曲面２１６ａは、副走査方向Ａ２に沿って見ると、上方及びステージ６０側に凸となる曲線を描いている。湾曲面２１６ａ上では、平坦なイメージングプレート１０が面接触し難く、従って、イメージングプレート１０が湾曲面２１６ａに貼付いた状態となり難い。このため、イメージングプレート１０は、湾曲面２１６ａ上を円滑に滑り落ちていくことができる。

プレートガイド面２１６の上端は、ステージ６０における支持面６４Ｆの下端（例えば、位置決め面７２ＣＦの位置）よりも上に位置し、好ましくは、支持面６４Ｆの上端（例えば、離間位置に位置する位置決め面７２ＤＦの位置）よりも上に位置する。

プレートガイド面２１６の下端は、プレートガイド面２１６の上端よりも下に位置し、好ましくは、支持面６４Ｆの上端（例えば、離間位置に位置する位置決め面７２ＤＦの位置）よりも下に位置し、より好ましくは、支持面６４Ｆのうち上端よりも下端（例えば、位置決め面７２ＣＦの位置）に近い高さに位置する。

ステージは、イメージングプレートの短手方向を水平方向に対して傾斜させた姿勢でイメージングプレートを支持してもよい。この場合、セット用ガイドは、イメージングプレートの短手方向を水平方向に沿わせた姿勢でステージに向けてガイドするとよい。

セット用ガイド２００は、投入口２３０を開閉可能に塞ぐシャッタ２４４を含んでもよい。シャッタ２４４は、ステージ６０の移動に連動して投入口２３０を開閉してもよい。例えば、シャッタ２４４は、ステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する状態で投入口２３０を開き、ステージ６０が読取位置Ｐ２に位置する状態、及び、セット位置Ｐ１と読取位置Ｐ２との間に位置する状態で、投入口２３０を閉じてもよい。

シャッタ２４４は、ステージ６０の移動を利用して開閉されてもよいし、ステージ６０を移動させるモータ５３とは別の駆動部（例えば、モータ、ソレノイドアクチュエータ）によって駆動されてもよい。

筐体３０は、セット用ガイド２００のうち投入口２３０が形成された外向き面を、開口３１を通じて露出させた状態で、当該セット用ガイド２００及び支持部材４０、ステージ６０、読取ユニット９０等を覆っている（図１参照）。このため、筐体３０は、ステージ６０と、励起光源９２及び光検出器９４とを含む読取ユニット９０、セット用ガイド２００のうち少なくともプレートガイド面２１６及び支持面６４Ｆとを覆っている。

セット用ガイド２００によるイメージングプレート１０のガイド動作例について、主に図１３を参照しつつ説明する。本実施形態では、セット用ガイド２００は、イメージングプレート１０を反転させつつステージ６０に向けてガイドする。

イメージングプレート１０の長手方向を投入口２３０の延在方向に対して交差させた（好ましくは垂直）姿勢で、イメージングプレート１０が投入口２３０に挿入される（Ｑ１参照）。この際、イメージングプレート１０の裏面１０ｂが上側に、表面１０ａが下側に向けられる。

イメージングプレート１０が投入口２３０を越え、さらに奥に挿入される（Ｑ２参照）。イメージングプレート１０の過半が投入口２３０を越えてプレートガイド面２１６上に位置するようになると、手で押さなくても、重力によって、イメージングプレート１０はプレートガイド面２１６の傾斜に従って滑り落ちる。やがて、イメージングプレート１０の下端が支持面６４Ｆに達するようになる（Ｑ３参照）。イメージングプレート１０の下端は、支持面６４Ｆの傾斜に従って、さらに滑り落ちるように下方に移動する。

イメージングプレート１０の下端が支持面６４Ｆの傾斜に従って、下方に移動すると、その前の状態よりも傾斜姿勢が反対になる（Ｑ４参照）。これにより、イメージングプレート１０の裏面１０ｂが支持面６４Ｆ側に近づくように、イメージングプレート１０がさらに傾く。これにより、ステージ６０の支持面６４Ｆは、イメージングプレート１０の裏面１０ｂに接触して当該イメージングプレート１０を支持面６４Ｆと同じ傾斜姿勢で保持することができる（Ｑ５参照）。この状態で、イメージングプレート１０の表面１０ａは、支持面６４Ｆと同じ側を向く。

このセット用ガイド２００によると、イメージングプレート１０の投入時には、表面１０ａを下に向けた状態とすることができる。これにより、イメージングプレート１０を読取装置２０にセットする際に、イメージングプレート１０の放射線像形成面が外光に曝され難くなる。

なお、セット用ガイド２００がイメージングプレート１０を反転させてステージ６０に向けてガイドすることは必須ではない。セット用ガイドは、表裏の位置関係を反転させずに、イメージングプレートをステージに向けてガイドしてもよい。この場合、利用者は、表面１０ａを上側にしてイメージングプレートをセット用ガイドに投入するとよい。

セット用ガイド２００が存在することは必須ではない。投入口より投入されたイメージングプレートが直接ステージ上に供給されてもよい。また、セット位置において、ステージの支持面が外部からアクセス可能な位置に曝され、利用者が支持面上に直接イメージングプレートを載置してもよい。

＜読取装置の動作について＞
読取装置２０の動作について説明する。

初期状態においては、ステージ６０はセット位置Ｐ１に位置している（図１、図４、図５、図７及び図８参照）。この状態では、ローラ７２Ｂｑは、カム溝８２のうち傾斜面８２ｆｍよりも奥側の面８２ｆ１に接した状態となっているため、位置決め部７２Ｂは、離間位置に位置している。このため、第１方向Ｆ１（水平方向）において位置決め部７２Ａ、７２Ｂ間が開いた状態となっている。また、受部７２Ｄｑと短手方向側板４６Ｌとが接触することによって、位置決め部７２Ｄは離間位置に位置している。このため、第２方向Ｆ２において位置決め部７２Ｃ、７２Ｄが開いた状態となっている。さらに、突出片７３Ｃｂｐが作動ローラ８５に接触しないため、位置決め部７２Ｃの位置決め面７２ＣＦは、イメージングプレート１０を下から支える接触位置に位置している。

また、シャッタ２４４は、投入口２３０を開く位置に移動した状態となっている。

この状態で、セット用ガイド２００における投入口２３０にイメージングプレート１０が挿入される。イメージングプレート１０は、放射線像形成層１１を下向きにした姿勢で、投入口２３０に挿入される。一般的に、太陽光は、空から照射される。また、室内照明器具は、天井等の頭上から照射される。本読取装置２０は、テーブル上等に設置されることが想定される。このため、本読取装置が設置される環境下における太陽光及び照明光の大部分は、読取装置２０に対して上方から照射されることが想定される。イメージングプレート１０の放射線像形成層１１を下向きにすると、放射線像形成層１１が太陽光及び照明光などの外光に曝され難くなる。

セット用ガイド２００に投入されたイメージングプレート１０は、セット用ガイド２００内のプレートガイド面２１６及び支持面６４Ｆの共同作用によって反転された状態で、ステージ６０上に支持される。支持面６４Ｆ上において、イメージングプレート１０の裏面は重力方向において下を向き、放射線像形成層１１が重力方向において上を向く。また、イメージングプレート１０は、支持面６４Ｆ上において、位置決め部７２Ａ、７２Ｂ間に位置し、かつ、位置決め面７２ＣＦによって下から支持されている。

読取装置２０における読取のための指示が入力されると、ステージ移動機構５０の駆動によってステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に向けて移動する。

移動途中で、ローラ７２Ｂｑは、カム溝８２のうち傾斜面８２ｆｍを経てその手前側に移動する。このため、バネ７２Ｂｓの付勢力によって位置決め部７２Ｂが位置決め部７２Ａに対して接近する。位置決め部７２Ｂの移動中に、ガイド位置決め面７２ＢＦ２ｆがイメージングプレート１０の一方側の側縁部分に接触すると、イメージングプレート１０が反対側のガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆに向けて押される。イメージングプレート１０が下側の位置決め面７２ＣＦ上を滑って移動し、イメージングプレート１０の反対側の側縁部分がガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆに接触すると、左右のガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆがイメージングプレート１０の両側縁部分を左右両側から挟込む状態となる（図１４参照）。

また、ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動すると、ステージ６０が下側の短手方向側板４６Ｌに対して移動することになる。すると、受部７２Ｄｑに接していた下側の短手方向側板４６Ｌが位置決め部７２Ｃ側に相対移動することになるので、位置決め部７２Ｃ側への位置決め部７２Ｄの移動が許容されるようになる。すると、バネ７２Ｄｓによる付勢力によって、位置決め部７２Ｄが位置決め部７２Ｃに対して接近する。位置決め部７２Ｄの移動中に、位置決め面７２ＤＦがイメージングプレート１０の上側の側縁部分に接触すると、イメージングプレート１０が下側の位置決め面７２ＣＦに向けて押される。これにより、一対の位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦがイメージングプレート１０の上下縁部分を上下から挟込む状態となる（図１４参照）。

これにより、図１４及び図１５に示すように、ステージ６０の支持面６４Ｆ上において、イメージングプレート１０が第１方向Ｆ１及び第２方向の両方向において位置決め保持される。なお、ガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆ及び位置決め部７２Ｃ、７２Ｄが、イメージングプレート１０の縁部に覆い被さるように傾斜しているので、イメージングプレート１０の周囲４方の縁部は、支持面６４Ｆに押付けられるように支持されている。

セット位置Ｐ１に位置するステージ６０に支持されたイメージングプレート１０が正規姿勢に対して傾いていない場合には、位置決め部７２Ａ、７２Ｂ及び位置決め部７２Ｃ、７２Ｄが閉じることで、イメージングプレート１０の第１方向Ｆ１及び第２方向Ｆ２の位置が調整され、正規姿勢に位置決め支持される。例えば、イメージングプレート１０の下側の短辺側の縁部の全体が位置決め面７２ＣＦ上に接した姿勢で、イメージングプレート１０が支持面６４Ｆに支持されている場合、位置決め部７２Ａ、７２Ｂ及び位置決め部７２Ｃ、７２Ｄが閉じることで、イメージングプレート１０は、位置決め部７２Ａ、７２Ｃを基準とした正規姿勢に位置決めされる。

セット位置Ｐ１に位置するステージ６０に対してイメージングプレート１０が傾いて支持されることが想定される。なお、傾きは、例えば、第２方向Ｆ２に対するイメージングプレート１０の長手方向の角度と把握してもよい。イメージングプレート１０の傾きが小さければ、位置決め部７２Ａ、７２Ｂが閉じることで、第２方向Ｆ２に沿って延びるガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆが、イメージングプレート１０の傾きを無くすように矯正できることが考えられる。

イメージングプレート１０の傾きが大きくなれば、第２方向Ｆ２に沿って延びるガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆによっては、イメージングプレート１０の傾きを矯正できない可能性がある。

例えば、図１６に示すように、位置決め部５７２Ｂとして、位置決め部７２Ｂの傾き矯正面７２ＢＦ１が省略されている構成を想定する。この場合、位置決め部５７２Ｂのうち位置決め部７２Ａ側には、第２方向Ｆ２に沿って延びる位置決め面５７２ＢＦが形成されている。正面から見て、イメージングプレート１０が右回転する方向に大きく傾いているとする。この場合、イメージングプレート１０の右上角部が位置決め面５７２ＢＦの延在方向中間部に接することが考えられる。

イメージングプレート１０の傾きが大きいと、位置決め部５７２Ｂが位置決め部７２Ａに近づく際に、第１方向Ｆ１においてイメージングプレート１０の右上角部と位置決め面５７２ＢＦとの間に作用する力が大きくなる可能性がある。すると、イメージングプレート１０の角部と位置決め面５７２ＢＦとの間の摩擦力が大きくなり、イメージングプレート１０の右上角部が位置決め面５７２ＢＦに沿って円滑に移動できず、イメージングプレート１０の傾きを矯正できない可能性がある。

特に、位置決め面５７２ＢＦがイメージングプレート１０の縁に被さるように傾いていると、イメージングプレート１０の角部が支持面６４Ｆと位置決め面５７２ＢＦとの間の奥に入り込んでしまい、角部の移動がより妨げられる要因となる可能性がある。

本実施形態のように、位置決め部７２Ｂが傾き矯正面７２ＢＦ１を有していると、図１７及び図１８に示すように、大きく傾いたイメージングプレート１０の右上の角部が傾き矯正面７２ＢＦ１に接する。この状態で、位置決め部７２Ｂが位置決め部７２Ａに向けて移動すると、傾き矯正面７２ＢＦ１は、イメージングプレート１０の角部を上方に移動させる力を作用させ易い。これにより、イメージングプレート１０は、支持面６４Ｆ上において正規姿勢に近づくように回転される。

傾き矯正面７２ＢＦ１は、ガイド位置決め面７２ＢＦ２ｆと比較して、支持面６４Ｆに対して垂直姿勢に近く、ここでは、垂直姿勢である（図１８参照）。このため、支持面６４Ｆと傾き矯正面７２ＢＦ１との間でイメージングプレート１０の角部が挟込まれた状態になり難い。この点からも、イメージングプレート１０は、正規姿勢に矯正され易い。なお、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１は、正規姿勢において、イメージングプレート１０を位置決めする部分ではない（図１４参照）。このため、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１をイメージングプレート１０の縁部に覆い被さるように傾かせなくてもよい。

位置決め部７２Ｂが位置決め部７２Ａに向けてさらに移動することで、イメージングプレート１０は正規姿勢で、接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２の間に挟込まれて位置決めされる（図１４参照）。

イメージングプレート１０の傾きが逆であれば、図１９に示すように、傾いたイメージングプレート１０の左上の角部が傾き矯正面７２ＡＦ１に接する。この状態で、位置決め部７２Ｂが位置決め部７２Ａに向けて移動すると、イメージングプレート１０の左上の角部が傾き矯正面７２ＡＦ１に向けて押されるので、傾き矯正面７２ＡＦ１は、イメージングプレート１０の角部を上方に移動させる力を作用させることができる。これにより、イメージングプレート１０は、支持面６４Ｆ上において正規姿勢に近づくように回転される。

このため、イメージングプレート１０が左右のいずれに大きく傾いても、上側の角部が傾き矯正面７２ＡＦ１又は傾き矯正面７２ＢＦ１に接触する。これにより、イメージングプレート１０の傾きが矯正される。

なお、左右の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの間隔は、セット対象となるイメージングプレート１０を配置可能な範囲でなるべく小さく設定される。例えば、左右の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの間隔は、セット対象となるイメージングプレート１０が傾いて配置されたとしても、正規姿勢で上側に位置する角部が、正規姿勢で下側となる角部よりも下側に位置するように配置できない大きさに設定される。

図２０は複数サイズのイメージングプレート１０のうち長手方向寸法が最も大きいイメージングプレート１０が位置決め保持された状態を示している。長手方向寸法が最も大きいイメージングプレート１０については、位置決め部７２Ａ、７２Ｂの間で大きく傾き難い。しかしながら、イメージングプレート１０の長辺側の縁部の一部を位置決め保持するだけでは、良好に位置決めできなくなる可能性がある。また、位置決め部７２Ａ、７２Ｂに、支持面６４Ｆへの押付機能を持たせた場合に、イメージングプレート１０の長辺側の縁部の一部を位置決め保持するだけでは、イメージングプレート１０の他の部分が支持面６４Ｆから浮いてしまう可能性がある。

本実施形態によると、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１の上下両側に、ガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆが設けられる。このため、イメージングプレート１０の長辺側の縁部を、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１の上下両側で位置決めできる。これにより、長手方向寸法が大きいイメージングプレート１０についても、正確に位置決めできる。また、全体に亘ってイメージングプレート１０が支持面６４Ｆから浮かないようにイメージングプレート１０を支持できる。

上記のように、ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動する途中で、イメージングプレート１０が正規姿勢でステージ６０に位置決め保持される。

また、ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動する途中で、シャッタ２４４は投入口２３０を閉じる位置に移動し、投入口２３０が閉じられた状態となる。ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動すると、投入口２３０が閉じられるので、誤って複数のイメージングプレート１０が投入口２３０に挿入されることが抑制される。

ステージ６０が読取位置Ｐ２に移動することで、読取ユニット９０によってイメージングプレート１０の潜像が読取られる。

読取ユニット９０による読取り終了後、ステージ６０はセット位置Ｐ１に戻る。その移動途中で、上記と逆の動作が行われ、ステージ６０におけるイメージングプレート１０の保持が解除される。また、シャッタ２４４が投入口２３０を開く位置に移動し、投入口２３０が開かれる。

ステージ６０がセット位置Ｐ１から排出位置Ｐ３に向けて移動すると、突出片７３Ｃｂｐが作動ローラ８５に接触し、位置決め部７２Ｃの位置決め面７２ＣＦが接触位置から退避位置に移動する（図１１参照）。位置決め面７２ＣＦ上に支持されていたイメージングプレート１０が、支持面６４Ｆから位置決め面７２ＣＦ上を通って滑り落ち、回収トレイ４９内に回収される。

この後、ステージ６０が排出位置Ｐ３からセット位置Ｐ１に戻る。すると、位置決め面７２ＣＦが接触位置に戻るように、位置決め部７２Ｃが回転移動する。この状態で、上記したように、セット位置Ｐ１のステージ６０にイメージングプレート１０をセットすることができる。

＜効果等＞
以上のように構成された放射線像の読取装置２０によると、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂのうちの少なくとも一方が、それらの開閉方向において外側に向かうにつれて第２方向Ｆ２に向う傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１を有する。このため、支持面６４Ｆ上においてイメージングプレート１０が傾いている場合、イメージングプレート１０の縁部が傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１に接触した状態で、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの少なくとも一方が閉じる向きに移動すると、イメージングプレート１０のうち傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１に接触した縁部が第２方向Ｆ２に移動する。これにより、支持面６４Ｆ上においてイメージングプレート１０が正規姿勢となるように矯正される。

また、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂは、第２方向Ｆ２において傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１の両側に位置する少なくとも２つの接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２を有している。このため、第２方向Ｆ２において、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１の両側の接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２によって、イメージングプレート１０を位置決めすることができる。特に、大きいイメージングプレート１０を正確に位置決めするのに適する。

また、正面視において、上側の接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２と下側の接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２との間には、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１に応じた凹みが生じている。イメージングプレート１０をなるべく確実に位置決めするためには、上側の接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２を下側の接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２に近付けることが好ましい。しかしながら、上側の接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２を下側の接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２に近付けすぎると、傾いたイメージングプレート１０が回転する際に、イメージングプレート１０の角部が上側の接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２の下端近傍に干渉する可能性がある。そこで、上側の接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２と接触回避面７２ＡＦ３、７２ＢＦ３とは、曲面７２ＡＦｃ、７２ＢＦｃを介して連なるようにする。これにより、上側の接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２を下側の接触縁部７２ＡＦ２、７２ＢＦ２になるべく近付けつつ、傾いたイメージングプレート１０が傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１によって案内されて回転する際に、イメージングプレート１０の角部が位置決め部７２Ａ、７２Ｂに干渉し難いようにできる。

また、一対の開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂのそれぞれが、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１を有している。このため、イメージングプレート１０がいずれの方向に傾いても、イメージングプレート１０の縁部分を傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１のいずれかに接触させて、傾きを矯正することができる。

また、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１は、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの開閉方向において外側に向うに連れて上方に向う矯正面である。このため、位置決め部７２Ａ、７２Ｂの少なくとも一方が互いの接近方向に近づくと、イメージングプレート１０のうち傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１に接触した縁部分が重力に抗して上方に持上げられる。これにより、支持面６４Ｆ上においてイメージングプレート１０が正規姿勢となるように矯正される。

なお、傾き矯正面は、一対の位置決め部の開閉方向において外側に向うに連れて下方に向う矯正面であってもよい。この場合、一対の位置決め部の少なくとも一方が互いの接近方向に近づくと、イメージングプレートのうち傾き矯正面に接触した縁部分が下方に押されて、イメージングプレートが正規姿勢となるように矯正される。

本実施形態のように、イメージングプレート１０の下方に位置決め面７２ＣＦがある場合には、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１は、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの開閉方向において外側に向うに連れて上方に向う矯正面であることが好ましい。イメージングプレート１０のうち傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１に接触した縁部分が重力に抗して上方に持上げられる際に、上方への移動が妨げられ難いからである。

また、位置決め機構７０は、第２方向Ｆ２において一方側からイメージングプレート１０の縁部分に対して接触する基準位置決め部としての位置決め部７２Ｃを有していると、イメージングプレート１０を第２方向Ｆ２において一定位置に位置決めし易い。

また、基準位置決め部としての位置決め部７２Ｃが、イメージングプレート１０を下方から支える位置に位置していると、イメージングプレート１０の自重が位置決め部７２Ｃによって支えられることによってイメージングプレート１０が位置決めされる。

また、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１は、第２方向Ｆ２において、位置決め部７２Ｃを基準としてイメージングプレート１０の寸法の半分未満の位置からイメージングプレート１０の寸法未満となる領域に設けられる。このため、傾いて位置決め部７２Ｃ上に支持されると想定されるほとんどの場合の傾きを矯正できる。

また、位置決め部７２Ｃは、接触位置と退避位置との間で位置変更可能である。このため、接触位置に位置する位置決め部７２Ｃによってイメージングプレート１０を位置決めできる。また、位置決め部７２Ｃが退避位置に移動することによって、イメージングプレート１０をステージ６０から容易に取去ることができる。

また、位置決め機構７０は、一対の第１開閉位置決め部７２Ａと、一対の第２開閉位置決め部７２Ｃ、７２Ｄとを備える。このため、イメージングプレート１０を、第１方向Ｆ１及び第２方向Ｆ２において位置決めすることができる。

また、一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂは、一対の第２開閉位置決め部７２Ｃ、７２Ｄよりも小さく開く。このため、長方形状のイメージングプレート１０を、短辺方向を第１方向Ｆ１に沿わせると共に、長辺方向を第２方向Ｆ２に沿わせるように、ステージ上にセットすることができる。第２方向Ｆ２に対するイメージングプレート１０の長辺方向の傾きを矯正して、イメージングプレート１０の長辺側の縁部分が一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂによって位置決めされるようにすることができる。

より詳細には、重力を考慮すると、支持面６４Ｆ上で、重力が作用する第２方向Ｆ２において、イメージングプレート１０が一定の位置に納まり易いのに対し、水平方向に沿った第１方向においては、イメージングプレート１０の位置の自由度が高い。そこで、一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂと一対の第２開閉位置決め部７２Ｃ、７２Ｄとのうち水平方向に沿って開閉する方が、上下に開閉する他方よりも小さく開くようにすることで、水平方向におけるイメージングプレート１０の位置の自由度を減らすることができる。これにより、イメージングプレート１０がステージ６０上において正規姿勢で保持され易くなる。

また、複数サイズのイメージングプレート１０を想定すると、通常、長手方向のサイズバリエーション幅よりも、短手方向のバリエーション幅の方が小さい。そこで、イメージングプレート１０を短手方向に位置決めする一対の第２開閉位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの最大間隔を小さくすることで、イメージングプレート１０の挿入初期において、イメージングプレート１０をステージ６０上において一定位置に支持し易い。

また、一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂが大きく開いていると、一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂによってイメージングプレート１０を位置決めする際に、一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂの開閉のための移動量が大きくなる。そうすると、一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂが移動して第１方向Ｆ１においてイメージングプレート１０を位置決めする前に、一対の第２開閉位置決め部７２Ｃ、７２Ｄが第２方向Ｆ２においてイメージングプレート１０を位置決めしてしまう可能性がある。その場合、第２方向Ｆ２において、イメージングプレート１０の位置が正規姿勢からずれてしまう可能性がある。

本実施形態のように、一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂの開きが小さいと、一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂによって少ない移動量で早期にイメージングプレート１０を位置決めすることができる。イメージングプレート１０は、位置決め部７２Ｃ上で支持されているから、一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂによる位置決め後に、一対の第２開閉位置決め部７２Ｃ、７２Ｄが位置決めを行っても、イメージングプレート１０が第２方向Ｆ２に沿って大きく移動することは抑制されている。このため、一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂによって水平方向に沿う第１方向Ｆ１で位置決めした後に、一対の第２開閉位置決め部７２Ｃ、７２Ｄによって第２方向Ｆ２で位置決めすることで、イメージングプレート１０を正規姿勢に位置決めし易い。

なお、ステージ６０において、イメージングプレート１０の長手方向を第２方向Ｆ２に沿わせ、短手方向を第１方向Ｆ１に沿わせることは必須ではない。縦横を逆にし、ステージ６０において、イメージングプレート１０の長手方向を第１方向Ｆ１に沿わせ、短手方向を第２方向Ｆ２に沿わせてもよい。この場合、一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂと一対の第２開閉位置決め部７２Ｃ、７２Ｄとのうち水平方向に沿って開閉する方が、上下に開閉する他方よりも大きく開くとよい。

また、位置決め機構７０は、イメージングプレート１０の縁部分に対して接触し、支持面６４Ｆの延在方向において当該縁部分をその外側から位置決めすると共に当該縁部分を支持面６４Ｆに押付けるガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆを有する。このため、ガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆによって、イメージングプレート１０が正規姿勢でかつ支持面６４Ｆに接触された状態で保持され得る。

また、ガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆは、少なくとも支持面６４Ｆからイメージングプレート１０の厚み寸法分突出し、支持面６４Ｆから離れるにつれて支持面に覆い被さる方向に向う形状に形成されている。このため、イメージングプレート１０の縁部分がガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆに押付けられることによって、イメージングプレート１０の縁部分が支持面６４Ｆに押付けられる。

また、傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１は、ガイド位置決め面７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆよりも支持面６４Ｆに対して直角に近い角度であれば、イメージングプレート１０の縁部分が傾き矯正面７２ＡＦ１、７２ＢＦ１に沿って円滑に移動して、傾きの矯正がなされる。

また、ステージ移動機構５０によって、ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動するにあわせて、一対の第１開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂを閉動作させるため、セット位置Ｐ１において、開かれた一対の開閉位置決め部７２Ａ、７２Ｂ間にイメージングプレート１０を容易にセットできる。イメージングプレート１０のセット後、ステージを読取位置Ｐ２に移動させることで、イメージングプレート１０が正規姿勢で位置決め保持される。このため、ステージ６０の移動中にも、イメージングプレート１０がステージ６０上の一定位置に安定して保持される。

｛付記｝
なお、上記実施形態及び各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組合わせることができる。

本開示は、下記の各態様を開示する。

第１の態様は、イメージングプレートから放射線像を読取る放射線像の読取装置であって、前記イメージングプレートを保持するステージと、前記ステージに保持された前記イメージングプレートに励起光を照射する励起光源と、前記励起光による前記イメージングプレートからの発光光を検出する光検出器と、を備え、前記ステージが、前記イメージングプレートの裏面に面接触可能な支持面を有するステージ本体と、第１方向に沿って間隔をあけて並ぶ一対の開閉位置決め部を含み、前記一対の開閉位置決め部の少なくとも一方が前記第１方向に沿って移動することで、前記支持面上に支持された前記イメージングプレートを前記第１方向に沿って挟込むように前記一対の開閉位置決め部が前記イメージングプレートの縁部分に対して接触する位置決め機構と、を有し、前記一対の開閉位置決め部のうちの少なくとも一方が、前記一対の開閉位置決め部の開閉方向において外側に向かうにつれて前記支持面に沿って前記開閉方向と直交する第２方向に向う傾き矯正面を有する、放射線像の読取装置である。

この読取装置によると、支持面上においてイメージングプレートが傾いている場合、イメージングプレートの縁部が傾き矯正面に接触した状態で、一対の開閉位置決め部の少なくとも一方が閉じる向きに移動すると、イメージングプレートのうち傾き矯正面に接触した縁部が第２方向に移動する。これにより、支持面上においてイメージングプレートが正規姿勢となるように矯正される。

第２の態様は、第１の態様に係る放射線像の読取装置であって、前記一対の開閉位置決め部は、前記第２方向において前記傾き矯正面の両側に位置する少なくとも２つの接触縁部を有し、前記少なくとも２つの接触縁部が前記第２方向に沿う直線上に沿って延在するものである。

この場合、第２方向において傾き矯正面の両側の少なくとも２つの接触縁部によって、イメージングプレートの縁部分を第２方向に沿う直線上に沿うように位置決めできる。

第３の態様は、第２の態様に係る放射線像の読取装置であって、前記傾き矯正面は、前記少なくとも２つの接触縁部のうちの１つから前記一対の開閉位置決め部の開閉方向において外側に向かうにつれて前記第２方向に向い、前記一対の開閉位置決め部は、前記少なくとも２つの接触縁部のうちの他の１つから前記一対の開閉位置決め部の開閉方向において外側に向かう接触回避面を有し、前記少なくとも２つの接触縁部のうちの前記他の１つと前記接触回避面とは、曲面を介して連なっているものである。

これにより、傾き矯正面によって案内されるイメージングプレートの角部が位置決め部に干渉し難くなる。

第４の態様は、第１から第３のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記一対の開閉位置決め部のそれぞれが、前記傾き矯正面を有してもよい。

この場合、イメージングプレートがいずれの方向に傾いても、イメージングプレートの縁部分を一対の開閉位置決め部のそれぞれに形成された傾き矯正面のいずれかに接触させて、傾き矯正することができる。

第５の態様は、第１から第４のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記第１方向は水平方向であり、前記傾き矯正面は、前記一対の開閉位置決め部の開閉方向において外側に向かうにつれて上方に向う矯正面であってもよい。

第５の態様によると、支持面上においてイメージングプレートが傾いている場合、イメージングプレートのいずれかの縁部が傾き矯正面に接触した状態で、一対の開閉位置決め部の少なくとも一方が接近方向に移動すると、イメージングプレートのうち傾き矯正面に接触した縁部が重力に抗して上方に持ち上げられる。これにより、支持面上においてイメージングプレートが正規姿勢となるように矯正される。

第６の態様は、第１から第５のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記位置決め機構は、前記支持面上において一定位置に位置し、前記第２方向において一方側から前記イメージングプレートの縁部分に対して接触する基準位置決め部をさらに有してもよい。

これにより、イメージングプレートの縁部を基準位置決め部に接触させることによって、イメージングプレートを第２方向において一定位置に位置決めし易い。

第７の態様は、第６の態様に係る放射線像の読取装置であって、前記基準位置決め部は、前記イメージングプレートを下方から支える位置に位置してもよい。

このように、イメージングプレートの自重が基準位置決め部によって支えられることによって、イメージングプレートが当該基準位置決め部によって位置決めされる。

第８の態様は、第６又は第７の態様に係る放射線像の読取装置であって、前記傾き矯正面は、前記第２方向において、前記基準位置決め部を基準として、矯正対象となる前記イメージングプレートの寸法の半分未満の位置から前記イメージングプレートの寸法未満となる領域に設けられていてもよい。

これにより、傾いて基準位置決め部上に支持されると想定されるほとんどの場合の傾きを矯正することができる。

第９の態様は、第６から第８のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記基準位置決め部は、前記支持面上の前記イメージングプレートの縁部分に対向させる接触位置と前記支持面上の前記イメージングプレートの縁部分から退避させる退避位置との間で位置変更可能であってもよい。

これにより、基準位置決め部を退避位置に移動させて、イメージングプレートをステージから容易に取去ることができる。

第１０の態様は、第１から第９のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記一対の開閉位置決め部は、一対の第１開閉位置決め部であり、前記位置決め機構は、一対の第２開閉位置決め部を含み、前記一対の第２開閉位置決め部の少なくとも一方が前記第２方向に沿って移動することで、前記支持面上に支持された前記イメージングプレートを前記第２方向に沿って挟込むように前記一対の第２開閉位置決め部が前記イメージングプレートの縁部分に対して接触してもよい。

これにより、イメージングプレートを第２方向において位置決めすることができる。

第１１の態様は、第１０の態様に係る放射線像の読取装置であって、前記一対の第１開閉位置決め部が前記一対の第２開閉位置決め部よりも小さく開いてもよい。

これにより、長方形状のイメージングプレートを、短辺方向を第１方向に沿わせると共に、長辺方向を第２方向に沿わせるように、ステージ上にセットすることができる。第２方向に対するイメージングプレートの長辺方向の傾きを矯正して、イメージングプレートの長辺側の縁部分が一対の第１開閉位置決め部によって位置決めされるようにすることができる。

第１２の態様は、第１から第１１のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記位置決め機構は、前記支持面上に支持された前記イメージングプレートの縁部分に対して接触し、前記支持面の延在方向において前記縁部分をその外側から位置決めすると共に前記縁部分を前記支持面に押付ける位置決め面を有してもよい。

第１２の態様によると、イメージングプレートの縁部分が位置決め面に接することによって、イメージングプレートが正規姿勢に保たれるようになる。また、位置決め面によってイメージングプレートの縁部分が支持面に押付けられる。これにより、イメージングプレートが正規姿勢でかつ支持面に接触された状態で保持され得る。

第１３の態様は、第１２の態様に係る放射線像の読取装置であって、前記位置決め面は、少なくとも前記支持面から前記イメージングプレートの厚み寸法分突出するように設けられ、前記支持面から離れるにつれて前記支持面に覆い被さる方向に向う形状に形成されたガイド位置決め面を含んでもよい。

これにより、イメージングプレートの縁部分がガイド位置決め面に押付けられることによって、イメージングプレートの縁部分が支持面に押付けられる。

第１４の態様は、第１３の態様に係る放射線像の読取装置であって、前記傾き矯正面は、前記ガイド位置決め面よりも前記支持面に対して直角に近い角度であってもよい。

これにより、イメージングプレートの縁部分が傾き矯正面に沿って円滑に移動して、傾きの矯正がなされる。

第１５の態様は、第１から第１４のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記ステージを、前記ステージに対して前記イメージングプレートがセットされるセット位置と前記励起光源からの励起光に応じて前記光検出器が前記放射線像を読取る読取位置との間で移動させるステージ移動機構と、前記ステージ移動機構によって前記ステージが前記セット位置から前記読取位置に移動するのにあわせて前記一対の開閉位置決め部を閉動作させる位置決め部動作機構と、をさらに備える。

これにより、セット位置において、一対の開閉位置決め部を開いてイメージングプレートを容易にセットできる。イメージングプレートのセット後、ステージを読取位置に移動させることで、イメージングプレートが正規姿勢で位置決め保持されるので、ステージの移動中にもイメージングプレートが安定して保持され得る。

上記した説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。

１０ イメージングプレート
１０ｂ 裏面
２０ 読取装置
５０ ステージ移動機構
６０ ステージ
６１ ステージ本体
６４Ｆ 支持面
７０ 位置決め機構
７２Ａ、７２Ｂ 第１開閉位置決め部
７２ＡＦ１、７２ＢＦ２ 傾き矯正面
７２ＡＦ２、７２ＢＦ２ 接触縁部
７２ＡＦ２ｆ、７２ＢＦ２ｆ ガイド位置決め面（位置決め面）
７２ＡＦ３、７２ＢＦ３ 接触回避面
７２ＡＦｃ、７２ＢＦｃ 曲面
７２Ｃ、７２Ｄ 第２開閉位置決め部
７２ＣＦ、７２ＤＦ 位置決め面
９２ 励起光源
９４ 光検出器
Ｆ１ 第１方向
Ｆ２ 第２方向
Ｐ１ セット位置
Ｐ２ 読取位置
Ｐ３ 排出位置

Claims (15)

1. イメージングプレートから放射線像を読取る放射線像の読取装置であって、
   前記イメージングプレートを保持するステージと、
   前記ステージに保持された前記イメージングプレートに励起光を照射する励起光源と、
   前記励起光による前記イメージングプレートからの発光光を検出する光検出器と、
   を備え、
   前記ステージが、
   前記イメージングプレートの裏面に面接触可能でかつ水平方向に対して傾いている支持面を有するステージ本体と、
   第１方向に沿って間隔をあけて並ぶ一対の開閉位置決め部を含み、前記一対の開閉位置決め部の少なくとも一方が前記第１方向に沿って移動することで、前記支持面上に支持された前記イメージングプレートを前記第１方向に沿って挟込むように前記一対の開閉位置決め部が前記イメージングプレートの縁部分に対して接触する位置決め機構と、
   を有し、
   前記一対の開閉位置決め部のうちの少なくとも一方が、前記一対の開閉位置決め部の開閉方向において外側に向かうにつれて前記支持面に沿って前記開閉方向と直交する第２方向に向う傾き矯正面を有する、放射線像の読取装置。
2. 請求項１に記載の放射線像の読取装置であって、
   前記一対の開閉位置決め部は、前記第２方向において前記傾き矯正面の両側に位置する少なくとも２つの接触縁部を有し、前記少なくとも２つの接触縁部が前記第２方向に沿う直線上に沿って延在する、放射線像の読取装置。
3. 請求項２に記載の放射線像の読取装置であって、
   前記傾き矯正面は、前記少なくとも２つの接触縁部のうちの１つから前記一対の開閉位置決め部の開閉方向において外側に向かうにつれて前記第２方向に向い、
   前記一対の開閉位置決め部は、前記少なくとも２つの接触縁部のうちの他の１つから前記一対の開閉位置決め部の開閉方向において外側に向かう接触回避面を有し、
   前記少なくとも２つの接触縁部のうちの前記他の１つと前記接触回避面とは、曲面を介して連なっている、放射線像の読取装置。
4. 請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
   前記一対の開閉位置決め部のそれぞれが、前記傾き矯正面を有する、放射線像の読取装置。
5. 請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
   前記第１方向は水平方向であり、
   前記傾き矯正面は、前記一対の開閉位置決め部の開閉方向において外側に向かうにつれて上方に向う矯正面である、放射線像の読取装置。
6. 請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
   前記位置決め機構は、
   前記支持面上において一定位置に位置し、前記第２方向において一方側から前記イメージングプレートの縁部分に対して接触する基準位置決め部をさらに有する、放射線像の読取装置。
7. 請求項６に記載の放射線像の読取装置であって、
   前記基準位置決め部は、前記イメージングプレートを下方から支える位置に位置している、放射線像の読取装置。
8. 請求項６に記載の放射線像の読取装置であって、
   前記傾き矯正面は、前記第２方向において、前記基準位置決め部を基準として、矯正対象となる前記イメージングプレートの寸法の半分未満の位置から前記イメージングプレートの寸法未満となる領域に設けられている、放射線像の読取装置。
9. 請求項６に記載の放射線像の読取装置であって、
   前記基準位置決め部は、前記支持面上の前記イメージングプレートの縁部分に対向させる接触位置と前記支持面上の前記イメージングプレートの縁部分から退避させる退避位置との間で位置変更可能である、放射線像の読取装置。
10. 請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
    前記一対の開閉位置決め部は、一対の第１開閉位置決め部であり、
    前記位置決め機構は、一対の第２開閉位置決め部を含み、
    前記一対の第２開閉位置決め部の少なくとも一方が前記第２方向に沿って移動することで、前記支持面上に支持された前記イメージングプレートを前記第２方向に沿って挟込むように前記一対の第２開閉位置決め部が前記イメージングプレートの縁部分に対して接触する、放射線像の読取装置。
11. 請求項１０に記載の放射線像の読取装置であって、
    前記一対の第１開閉位置決め部が前記一対の第２開閉位置決め部よりも小さく開く、放射線像の読取装置。
12. 請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
    前記位置決め機構は、前記支持面上に支持された前記イメージングプレートの縁部分に対して接触し、前記支持面の延在方向において前記縁部分をその外側から位置決めすると共に前記縁部分を前記支持面に押付ける位置決め面を有する、放射線像の読取装置。
13. 請求項１２に記載の放射線像の読取装置であって、
    前記位置決め面は、少なくとも前記支持面から前記イメージングプレートの厚み寸法分突出するように設けられ、前記支持面から離れるにつれて前記支持面に覆い被さる方向に向う形状に形成されたガイド位置決め面を含む、放射線像の読取装置。
14. 請求項１３に記載の放射線像の読取装置であって、
    前記傾き矯正面は、前記ガイド位置決め面よりも前記支持面に対して直角に近い角度である、放射線像の読取装置。
15. 請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
    前記ステージを、前記ステージに対して前記イメージングプレートがセットされるセット位置と前記励起光源からの励起光に応じて前記光検出器が前記放射線像を読取る読取位置との間で移動させるステージ移動機構と、
    前記ステージ移動機構によって前記ステージが前記セット位置から前記読取位置に移動するのにあわせて前記一対の開閉位置決め部を閉動作させる位置決め部動作機構と、
    をさらに備える放射線像の読取装置。