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JP7845772B2 - Ophthalmic device and focusing determination method - Google Patents
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JP7845772B2 - Ophthalmic device and focusing determination method - Google Patents

Ophthalmic device and focusing determination method

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JP7845772B2 JP2022080958A JP2022080958A JP7845772B2 JP 7845772 B2 JP7845772 B2 JP 7845772B2 JP 2022080958 A JP2022080958 A JP 2022080958A JP 2022080958 A JP2022080958 A JP 2022080958A JP 7845772 B2 JP7845772 B2 JP 7845772B2
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Description

本開示は、眼科装置及び合焦判定方法に関する。 This disclosure relates to an ophthalmic device and a method for determining focus.

従来から、被検眼の眼底の撮影を行うスリットスキャン方式の眼底カメラ(眼科装置)が提案されている。例えば、特許文献1には、光スキャナを用いて眼底に照射するスリット光(照明光)の照射位置を移動させながら、眼底内で移動するスリット光の照明領域からの戻り光を、ローリングシャッタ機能を有するCMOS型の撮像素子で撮像する。これにより、散乱光の影響を抑えた眼底像を取得することができる。 Conventionally, slit-scan type fundus cameras (ophthalmic devices) for photographing the fundus of the eye under examination have been proposed. For example, Patent Document 1 describes a method in which a slit light (illumination light) irradiating the fundus using an optical scanner is moved, and the reflected light from the illumination area of the slit light moving within the fundus is captured by a CMOS image sensor with a rolling shutter function. This allows for the acquisition of a fundus image with reduced effects from scattered light.

また、特許文献2には、眼底に対して、スプリット指標像を照射し、眼底からのスプリット指標光の戻り光を検出器で検出した検出結果に基づき、眼底カメラの合焦状態の評価と合焦制御を行う眼科装置が記載されている。 Furthermore, Patent Document 2 describes an ophthalmic device that illuminates the fundus with a split index image and detects the reflected light of the split index from the fundus using a detector. Based on the detection results, the device evaluates and controls the focus of a fundus camera.

特許第5736211号Patent No. 5736211 特許第6518054号Patent No. 6518054

しかしながら、特許文献1及び特許文献2の眼科装置では、合焦状態の評価を行うための照明系と、被検眼の観察を行うための照明系とをそれぞれ設けており、装置全体が大きくなったりコストが増加することが想定される。 However, the ophthalmic devices described in Patent Documents 1 and 2 include separate illumination systems for evaluating the focus state and for observing the eye under examination. This is expected to increase the overall size and cost of the device.

本開示は、以上の点に鑑み、簡易な構成により被検眼の観察と合焦評価が可能な眼科装置及び合焦判定方法を提供することを目的とする。 In view of the above points, this disclosure aims to provide an ophthalmic device and a focusing determination method that enable observation of the eye under examination and evaluation of focus with a simple configuration.

上記した目的を達成するために、本開示に係る眼科装置は、光源から出射された光を第一分光及び第二分光に分光する分光部材と、走査方向に分割された被撮像ラインを複数含む被検眼の被観察領域に、前記第一分光及び前記第二分光を導光する光スキャナと、前記被観察領域からの戻り光を検出可能であって、前記被撮像ラインと結像位置を各々対応させた複数の露光ラインを受光領域に含むライン露光式の撮像素子と、所定の露光ライン群に含まれる複数の前記露光ラインの露光動作を順次移動させる間、前記露光ライン群の複数の前記露光ラインに対応する複数の前記被撮像ラインの領域に前記第一分光及び前記第二分光を照射して、前記露光ライン群における前記露光ラインの検出結果から合焦判定を行う制御部と、を備える。 To achieve the above-mentioned objectives, the ophthalmic apparatus according to this disclosure comprises: a spectroscopic member that spectrally separates light emitted from a light source into a first spectral component and a second spectral component; an optical scanner that guides the first spectral component and the second spectral component to the observation area of the eye under examination, which includes a plurality of imaging lines divided in the scanning direction; a line exposure type image sensor capable of detecting reflected light from the observation area and including a plurality of exposure lines in its light-receiving area, each corresponding to the imaging line and the imaging position; and a control unit that, while sequentially moving the exposure operation of a plurality of exposure lines included in a predetermined group of exposure lines, irradiates the regions of the plurality of imaging lines corresponding to the plurality of exposure lines in the group of exposure lines with the first spectral component and the second spectral component, and performs focus determination from the detection results of the exposure lines in the group of exposure lines.

上記した目的を達成するために、本開示に係る合焦判定方法は、光源から出射された光を第一分光及び第二分光に分光する分光部材と、走査方向に分割された被撮像ラインを複数含む被検眼の被観察領域に、前記第一分光及び前記第二分光を導光する光スキャナと、前記被観察領域からの戻り光を検出可能であって、前記被撮像ラインと結像位置を各々対応させた複数の露光ラインを受光領域に含むライン露光式の撮像素子と、を備える眼科装置における合焦判定方法であって、所定の露光ライン群に含まれる複数の前記露光ラインの露光動作を順次移動させる間、前記露光ライン群の複数の前記露光ラインに対応する複数の前記被撮像ラインの領域に前記第一分光及び前記第二分光を照射して、前記露光ライン群における前記露光ラインの検出結果から合焦判定を行う工程を含む。 To achieve the above-described objective, the focus determination method according to this disclosure is a method for determining focus in an ophthalmic apparatus comprising: a spectral member that spectrally separates light emitted from a light source into a first spectral spectrum and a second spectral spectrum; an optical scanner that guides the first spectral spectrum and the second spectral spectrum to an observation area of an eye under examination which includes a plurality of imaging lines divided in the scanning direction; and a line exposure type image sensor capable of detecting reflected light from the observation area and which includes a plurality of exposure lines in its light-receiving area, each corresponding to the imaging line and the imaging position, wherein the method includes the step of sequentially moving the exposure operation of a plurality of exposure lines included in a predetermined group of exposure lines, irradiating the regions of the plurality of imaging lines corresponding to the plurality of exposure lines in the group of exposure lines with the first spectral spectrum and the second spectral spectrum, and determining focus from the detection results of the exposure lines in the group of exposure lines.

上記手段を用いる本開示に係る眼科装置及び合焦判定方法によれば、簡易な構成により被検眼の観察と合焦評価を可能とすることができる。 According to the ophthalmic apparatus and focus determination method described herein, which utilize the above means, observation of the eye under examination and evaluation of focus can be performed with a simple configuration.

本開示の実施形態に係る眼科装置の全体構成図である。This is an overall configuration diagram of an ophthalmic device according to the present disclosure. 制御装置の機能ブロック図である。This is a functional block diagram of the control unit. 眼科装置の光路模式図であり、分光部材から出射される光に着目した光路について示している。This is a schematic diagram of the optical path of an ophthalmic device, focusing on the optical path of light emitted from a spectral component. 眼科装置の光路模式図であり、第一フォーカス光学系から出射される光に着目した光路について示している。This is a schematic diagram of the optical path of an ophthalmic device, focusing on the optical path of light emitted from the first focusing optical system. 眼科装置の動作フローチャートである。This is a flowchart of the operation of an ophthalmic device. 合焦時及び非合焦時における、照明光の光路を示す被検眼周辺の側面図、及び照明光が照射された被検眼を正面(P方向)から見た眼底の正面図である。This image shows a lateral view of the area around the eye being examined, illustrating the optical path of the illumination light when the eye is in focus and when it is out of focus, and a frontal view of the fundus of the eye as seen from the front (direction P) when the illumination light is illuminating the eye. 合焦調整時における眼底の正面図、撮像素子の受光領域、及び取得画像を示す図である。This figure shows a frontal view of the fundus, the light-receiving area of the image sensor, and the acquired image during focus adjustment. 合焦調整時における眼底に照射する照明光のタイミングチャート及び撮像素子の露光動作のタイミングチャートである。This chart shows the timing of the illumination light shining on the fundus of the eye during focus adjustment, as well as the timing of the exposure operation of the image sensor. 合焦時及び非合焦時における露光ラインと照明光との関係を示す図である。This figure shows the relationship between the exposure line and the illumination light when the line is in focus and when it is out of focus. 合焦調整時における、照明光の光路を示す被検眼周辺の側面図、及び照明光が照射された被検眼を正面(P方向)から見た眼底の正面図である。This image shows a lateral view of the area around the eye being examined, illustrating the optical path of the illumination light during focusing adjustment, and a frontal view of the fundus of the eye as seen from the front (direction P) with the illumination light shining on it. 合焦調整時における眼底の正面図、撮像素子の受光領域、及び取得画像を示す図である。This figure shows a frontal view of the fundus, the light-receiving area of the image sensor, and the acquired image during focus adjustment. スリットスキャン撮影時における眼底の正面図、撮像素子の受光領域、及び取得画像を示す図である。This figure shows a frontal view of the fundus, the light-receiving area of the image sensor, and the acquired image during slit-scan imaging. スリットスキャン撮影時における眼底に照射する照明光のタイミングチャート及び撮像素子の露光動作のタイミングチャートである。This chart shows the timing of the illumination light shining on the fundus during slit-scan imaging, as well as the timing of the exposure operation of the image sensor. ラインプロファイルと変調伝達関数の関係を示す図である。This figure shows the relationship between the line profile and the modulation transfer function.

以下、本開示の実施形態を図面に基づき説明する。図1は、眼科装置1の全体構成図である。なお、図1において、X方向は被検者を基準とした左右方向(被検眼Eの眼幅方向)であり、Y方向は上下方向であり、Z方向は被検者に対する遠近方向である前後方向(作動距離方向ともいう)である。また、以下の眼科装置1の説明では、各装置や配置関係は、模式的に示しており、説明の便宜上実際の縮尺と異なる場合がある。 The embodiments of this disclosure will be described below with reference to the drawings. Figure 1 is an overall diagram of the ophthalmic apparatus 1. In Figure 1, the X direction is the left-right direction relative to the subject (the interocular width direction of the subject's eye E), the Y direction is the up-down direction, and the Z direction is the front-back direction relative to the subject (also called the working distance direction). Furthermore, in the following description of the ophthalmic apparatus 1, the devices and their arrangements are shown schematically and may differ from the actual scale for the sake of explanation.

眼科装置1は、スリットスキャン方式で被検眼Eの眼底Efの撮影(スリットスキャン撮影)を行うことができる。眼科装置1は、カメラヘッドとして機能する装置本体11と、操作部12と、表示部13と、制御装置14(制御部)とを備える。 The ophthalmic device 1 can perform slit-scan imaging of the fundus Ef of the eye E under examination. The ophthalmic device 1 comprises a main unit 11 that functions as a camera head, an operating unit 12, a display unit 13, and a control unit 14 (control unit).

装置本体11は、被検眼Eに対して手動又は自動によりX方向、Y方向又はZ方向に移動可能な図示しない駆動機構により保持されている。したがって、装置本体11は、被検眼Eに対して相対的に移動されてアライメント調整可能に構成される。 The device body 11 is held by a drive mechanism (not shown) that allows it to be moved manually or automatically in the X, Y, or Z directions relative to the eye E being examined. Therefore, the device body 11 is configured to be moved relative to the eye E to allow for alignment adjustment.

操作部12は、スリットスキャン撮影の撮影開始操作、装置本体11の被検眼Eに対する移動操作、眼科装置1の設定操作などの眼科装置1の各種操作の入力を受け付けることができる。 The control unit 12 can receive input for various operations of the ophthalmic device 1, such as starting slit scan imaging, moving the device body 11 relative to the eye E under examination, and setting the ophthalmic device 1.

表示部13は、例えば、LCD(Liquid Crystal Display)などの公知のディスプレイを用いることができる。この表示部13は、制御装置14が生成した眼底Efの観察像(正面画像)である眼底像、及び各種の設定画面などを表示する。 The display unit 13 can use a known display such as an LCD (Liquid Crystal Display). This display unit 13 displays the fundus image (frontal image) of the fundus Ef generated by the control device 14, as well as various setting screens.

制御装置14は、各種の演算処理及び制御処理などを実行するコンピュータなどの演算処理装置である。制御装置14には、装置本体11、操作部12及び表示部13が通信可能に接続されている。制御装置14は、例えば、操作部12に入力された操作指示に基づき装置本体11及び表示部13の各部の動作を統括制御する。制御装置14は、装置本体11のアライメントと、ラインプロファイル7(図11等参照)を用いた眼底Efに対する照明系2及び受光系3の合焦判定と、第一フォーカス光学系23及び第二フォーカス光学系31の合焦制御と、装置本体11による眼底Efのスリットスキャン撮影と、眼底像の生成及び表示と、を含む各種制御及び処理を実行する。 The control device 14 is a computer or other processing unit that performs various calculation and control processes. The device body 11, the operation unit 12, and the display unit 13 are communicated to the control device 14. For example, the control device 14 comprehensively controls the operation of each part of the device body 11 and the display unit 13 based on operation instructions input to the operation unit 12. The control device 14 performs various controls and processes, including alignment of the device body 11, focus determination of the illumination system 2 and light receiving system 3 for the fundus Ef using the line profile 7 (see Figure 11, etc.), focus control of the first focus optical system 23 and the second focus optical system 31, slit scan imaging of the fundus Ef by the device body 11, and generation and display of the fundus image.

装置本体11の構成について説明する。装置本体11は、照明系2及び受光系3を備える。 The configuration of the main unit 11 will now be described. The main unit 11 comprises an illumination system 2 and a light receiving system 3.

照明系2は、光源21、分光部材22、第一フォーカス光学系23、複数のレンズ(第一照明系レンズ24、第二照明系レンズ25、対物レンズ53)、光スキャナ51、及び光路分割部材52を有する。なお、第一フォーカス光学系23と被観察部位(例えば、眼底Ef)とは光学的共役関係であり、眼科装置1と被検眼Eとの相対的な位置や、被検眼Eにおける被観察部位の位置に応じて、制御装置14によって合焦制御される。 The illumination system 2 comprises a light source 21, a spectroscopic member 22, a first focusing optical system 23, multiple lenses (first illumination system lens 24, second illumination system lens 25, objective lens 53), an optical scanner 51, and an optical path splitting member 52. The first focusing optical system 23 and the area under observation (e.g., fundus Ef) are optically conjugate, and focusing is controlled by the control device 14 according to the relative position of the ophthalmic device 1 and the eye under examination E, and the position of the area under observation in the eye under examination E.

光源21は、照明光Lsを出射する。光源21は、照明光Lsとして、眼底Efのスリットスキャン撮影が行われる場合には可視光(例えば、白色光)を出射し、合焦調整が行われる場合には被検眼Eの視感度が小さい近赤外光(赤外領域の光)を出射する光源素子を備える。光源21は、一つ又は複数の光源素子により構成されていてもよい。なお、合焦調整においても可視光を用いてもよい。光源21に用いられる光源素子としては、レーザ発光素子、LED(Light Emitting Diode)、蛍光発光素子などを用いることができる。 The light source 21 emits illumination light Ls. The light source 21 includes a light source element that emits visible light (e.g., white light) as illumination light Ls when slit scan imaging of the fundus Ef is performed, and near-infrared light (light in the infrared region), which has low visual sensitivity in the eye E under examination, when focusing adjustment is performed. The light source 21 may be composed of one or more light source elements. Visible light may also be used for focusing adjustment. As light source elements used in the light source 21, laser light-emitting elements, LEDs (Light Emitting Diodes), fluorescent light-emitting elements, etc., can be used.

分光部材22は、図1のY方向(分光方向ともいう)に配置された複数の円形の分割孔221を有して光源21から出射された光を分割する。分光部材22は、被検眼Eの前眼部Ea(角膜や水晶体)、光スキャナ51及び光路分割部材52と、光学的共役関係又は略光学的共役関係に位置している。分割孔221は、光軸Aに対して対称に配置されており、本実施形態では、図1のY方向に二箇所に離間して配置されている(図3等も参照)。分光部材22は、光源21から出射された照明光Lsを二箇所の分割孔221に通過させることで、照明光Lsのうち、図1の光軸Aに垂直なY方向の一部を第一分光(第二成分光Ls21)とし、他の一部を第二分光(第二成分光Ls22)として分光することができる。 The spectral member 22 has multiple circular splitting holes 221 arranged in the Y direction (also called the spectral direction) in Figure 1, and splits the light emitted from the light source 21. The spectral member 22 is located in an optically conjugate or substantially optically conjugate relationship with the anterior segment Ea (cornea and lens) of the eye E under examination, the optical scanner 51, and the optical path splitting member 52. The splitting holes 221 are arranged symmetrically with respect to the optical axis A, and in this embodiment, they are spaced apart at two locations in the Y direction in Figure 1 (see also Figure 3, etc.). By passing the illumination light Ls emitted from the light source 21 through the two splitting holes 221, the spectral member 22 can spectrally separate the illumination light Ls into a first spectral component (second component light Ls21) and another portion into a second spectral component (second component light Ls22).

第一フォーカス光学系23は、分光部材22から出射された各光が照射されるスリット孔231を有する。スリット孔231は、長矩形状に形成されている(図3参照)。スリット孔231は、X方向に長尺となるように光軸A上に配置される。第一フォーカス光学系23は、被検眼Eの被観察部位(本実施形態では眼底Ef)と光学的共役関係又は略光学的共役関係に位置している。したがって、分光部材22に対する共役位置と、第一フォーカス光学系23に対する共役位置とは異なるように形成されている。また、第二フォーカス光学系31は、照明光Lsの光軸B(被検眼Eから光路分割部材52迄は光軸Aと共通軸)に沿って移動可能に設けられ、制御装置14による制御により受光系3のフォーカス調整を行う。なお、第一フォーカス光学系23は、光軸A上においてスリット孔231の前後の一方又は両方に1又は複数のレンズを移動可能に設けてもよく、フォーカス調整の方法は特に限定されない。 The first focusing optical system 23 has a slit hole 231 that is irradiated by each light emitted from the spectral member 22. The slit hole 231 is formed in an elongated rectangular shape (see Figure 3). The slit hole 231 is positioned on the optical axis A so that it is elongated in the X direction. The first focusing optical system 23 is positioned in an optically conjugate or substantially optically conjugate relationship with the observed area of the eye E (fundus Ef in this embodiment). Therefore, the conjugate position with respect to the spectral member 22 is formed to be different from the conjugate position with respect to the first focusing optical system 23. The second focusing optical system 31 is provided so as to be movable along the optical axis B of the illumination light Ls (common axis with optical axis A from the eye E to the optical path dividing member 52), and the focus of the light receiving system 3 is adjusted by control by the control device 14. Note that the first focusing optical system 23 may have one or more lenses provided so as to be movable on either side or both sides of the slit hole 231 on the optical axis A, and the method of focus adjustment is not particularly limited.

第一照明系レンズ24は、第一フォーカス光学系23のスリット孔231から出射された照明光Ls(第一分光(Ls21)、第二分光(Ls22))を集光して光スキャナ51に導光する。 The first illumination lens 24 focuses the illumination light Ls (first spectral portion (Ls21), second spectral portion (Ls22)) emitted from the slit hole 231 of the first focusing optical system 23 and guides it to the optical scanner 51.

光スキャナ51は、例えば、ガルバノミラー、レゾナントミラー、ポリゴンミラー、又はMEMS(Micro Electro Mechanical System)などの光学素子により構成することができ、光源21側の第一照明系レンズ24から入射された照明光Lsを1次元偏向(走査)して後段の第二照明系レンズ25に向けて反射し、導光可能な偏向機能を有する。 The optical scanner 51 can be constructed using optical elements such as a galvanometer mirror, resonant mirror, polygon mirror, or MEMS (Micro Electro Mechanical System). It has a deflection function that allows it to deflect (scan) the illumination light Ls incident from the first illumination system lens 24 on the light source 21 side in one dimension, reflect it towards the subsequent second illumination system lens 25, and guide the light.

光スキャナ51により偏向された照明光Lsの偏向角度或いは偏向方向は、制御装置14によって制御される。また、光スキャナ51は、スリットスキャン撮影時には照明光Lsを対物レンズ53の光軸A(図1ではZ方向)及びスリット孔231の長軸方向(図1ではX方向)の双方に垂直な方向(図1ではY方向)に偏向する。したがって、光スキャナ51は、第一フォーカス光学系23から出射された照明光Lsを被検眼Eの被観察部位(例えば、眼底Ef)において照射領域R1を移動可能に導光することができる。 The deflection angle or direction of the illumination light Ls deflected by the optical scanner 51 is controlled by the control device 14. Furthermore, during slit scan imaging, the optical scanner 51 deflects the illumination light Ls in a direction perpendicular to both the optical axis A of the objective lens 53 (Z direction in Figure 1) and the long axis direction of the slit hole 231 (X direction in Figure 1) (Y direction in Figure 1). Therefore, the optical scanner 51 can guide the illumination light Ls emitted from the first focus optical system 23 to the observed area of the eye E (e.g., fundus Ef) in a movable illumination area R1.

第二照明系レンズ25は、光スキャナ51から出射された照明光Lsを集光して、光路分割部材52に導光する。 The second illumination lens 25 focuses the illumination light Ls emitted from the optical scanner 51 and guides it to the optical path splitting member 52.

光路分割部材52は、内側に光を通過させる略円形の開口521を有した環状の反射部材である所謂ホールミラーである。光路分割部材52は、第二照明系レンズ25から出射された照明光Lsを反射して対物レンズ53に向けて出射させるとともに、対物レンズ53から出射された戻り光Lbを通過させて受光系3に導光する。なお、光路分割部材52は、照明光Ls及び戻り光Lbの光路を分割可能(すなわち、照明光Lsを被検眼E側の対物レンズ53に向けて導光し且つ戻り光Lbを受光系3に導光可能)であれば、その他の形状のミラーやスプリッタにより構成した光路分割部材であってもよい。 The optical path splitting member 52 is a so-called hall mirror, an annular reflective member having a substantially circular opening 521 that allows light to pass through to the inside. The optical path splitting member 52 reflects the illumination light Ls emitted from the second illumination system lens 25 and directs it toward the objective lens 53, while simultaneously allowing the reflected light Lb emitted from the objective lens 53 to pass through and guide it to the light receiving system 3. Note that the optical path splitting member 52 may be composed of mirrors or splitters of other shapes, as long as they can split the optical paths of the illumination light Ls and the reflected light Lb (i.e., guide the illumination light Ls toward the objective lens 53 on the eye E side and guide the reflected light Lb to the light receiving system 3).

対物レンズ53は、光路分割部材52により反射された照明光Lsを、被検眼Eの前眼部Ea(角膜や水晶体)を通して眼底Efの一部に照射する。この際に、前述の光スキャナ51により照明光LsがY方向に偏向されることで、X方向に長尺な照明光Ls(スリット光)が、眼底Ef内においてY方向(走査方向D1)に走査される。そして、照明光LsのY方向の偏向が行われている間、照明光Lsが照射された被検眼Eの眼底Efからの戻り光Lbは、対物レンズ53及び光路分割部材52を通して受光系3に導光される。 The objective lens 53 illuminates a portion of the fundus Ef through the anterior segment Ea (cornea and lens) of the eye E being examined, reflecting the illumination light Ls from the optical path splitting member 52. At this time, the illumination light Ls is deflected in the Y direction by the aforementioned optical scanner 51, causing the elongated illumination light Ls (slit light) in the X direction to scan within the fundus Ef in the Y direction (scanning direction D1). While the illumination light Ls is being deflected in the Y direction, the reflected light Lb from the fundus Ef of the eye E being illuminated by the illumination light Ls is guided to the light receiving system 3 through the objective lens 53 and the optical path splitting member 52.

受光系3は、対物レンズ53、光路分割部材52、第二フォーカス光学系31、受光系レンズ32、及び撮像素子33を備える。 The light-receiving system 3 comprises an objective lens 53, an optical path splitting member 52, a second focus optical system 31, a light-receiving system lens 32, and an image sensor 33.

第二フォーカス光学系31は、戻り光Lbの光軸B(被検眼Eから光路分割部材52迄は光軸Aと共通軸)に沿って移動可能な1又は複数のレンズ(フォーカスレンズ)を備え、制御装置14による制御により受光系3のフォーカス調整を行う。第二フォーカス光学系31による受光系3の合焦と、第一フォーカス光学系23による照明系2の合焦とは、被検眼Eのディオプタ(視度)に応じて連動している。光路分割部材52から第二フォーカス光学系31に入射した戻り光Lbは、受光系レンズ32に入射する。なお、第二フォーカス光学系31に、1又は複数のフォーカスレンズを移動自在に設ける代わりに1又は複数の可変焦点レンズを設けてもよく、フォーカス調整の方法は特に限定されない。 The second focusing optical system 31 includes one or more lenses (focusing lenses) that are movable along the optical axis B of the reflected light Lb (common to optical axis A from the eye E to the optical path splitting member 52), and adjusts the focus of the light receiving system 3 under control by the control device 14. The focusing of the light receiving system 3 by the second focusing optical system 31 and the focusing of the illumination system 2 by the first focusing optical system 23 are linked according to the diopter (diopter) of the eye E. The reflected light Lb that enters the second focusing optical system 31 from the optical path splitting member 52 enters the light receiving system lens 32. Note that instead of providing one or more movable focusing lenses in the second focusing optical system 31, one or more variable focus lenses may be provided, and the method of focus adjustment is not particularly limited.

受光系レンズ32は、1又は複数のレンズにより構成されており、第二フォーカス光学系31から出射された戻り光Lbを撮像素子33に集光させる。 The light-receiving lens 32 is composed of one or more lenses and focuses the reflected light Lb emitted from the second focus optical system 31 onto the image sensor 33.

撮像素子33は、例えば、CMOSイメージセンサが用いられ、被検眼Eの被観察領域からの戻り光Lbを検出可能に配置される。撮像素子33は、受光系レンズ32からの戻り光Lbが入射する受光領域331を有し、この受光領域331内で所定の露光ライン332毎の露光の開始及び終了のタイミングをずらしながら戻り光Lbの検出(受光又は撮像ともいう)を行うローリングシャッタ機能を有する。この撮像素子33は、スリットスキャン撮影時には、制御装置14によってローリングシャッタ駆動されることで、光スキャナ51による照明光Lsの偏向に応じて眼底Ef内を移動する照明光Lsの戻り光Lbを撮像し、戻り光Lbの撮像信号を制御装置14に出力させる。 The image sensor 33, for example, is a CMOS image sensor and is positioned to detect reflected light Lb from the observed area of the eye E under examination. The image sensor 33 has a light-receiving area 331 into which reflected light Lb from the light-receiving lens 32 enters, and has a rolling shutter function that detects (also called receiving or imaging) the reflected light Lb within this light-receiving area 331 while shifting the start and end timing of exposure for each predetermined exposure line 332. During slit scan imaging, the image sensor 33 is driven by the control device 14 to image the reflected light Lb of the illumination light Ls moving within the fundus Ef in accordance with the polarization of the illumination light Ls from the optical scanner 51, and outputs the imaging signal of the reflected light Lb to the control device 14.

図2は、制御装置14の機能ブロック図である。制御装置14の機能は、各種のプロセッサを用いて実現される。各種のプロセッサには、CPU(Central Processing Unit)、GPU(Graphics Processing Unit)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、及びプログラマブル論理デバイス(例えば、SPLD(Simple Programmable Logic Devices)、CPLD(Complex Programmable Logic Device)、及びFPGA(Field Programmable Gate Arrays))などが含まれる。なお、制御装置14の各種機能は、一つのプロセッサにより実現されていてもよいし、同種又は異種の複数のプロセッサで実現されてもよい。 Figure 2 is a functional block diagram of the control device 14. The functions of the control device 14 are realized using various processors. These various processors include CPUs (Central Processing Units), GPUs (Graphics Processing Units), ASICs (Application Specific Integrated Circuits), and programmable logic devices (e.g., SPLDs (Simple Programmable Logic Devices), CPLDs (Complex Programmable Logic Devices), and FPGAs (Field Programmable Gate Arrays)). Furthermore, the various functions of the control device 14 may be implemented by a single processor, or by multiple processors of the same or different types.

制御装置14は、図示しない制御プログラムを実行することで、照明制御部141、偏向制御部142、撮像制御部143、信号取得部144、画像生成部145、合焦評価部146、繰り返し制御部147、合焦制御部148、及び表示制御部149として機能する。なお、制御装置14の各機能部は、プログラム又は回路、装置若しくは機器により、ソフトウェア及びハードウェアの一方又はこれらの組み合わせにより構成することができる。 The control device 14 functions as an illumination control unit 141, a deflection control unit 142, an imaging control unit 143, a signal acquisition unit 144, an image generation unit 145, a focus evaluation unit 146, a repeat control unit 147, a focus control unit 148, and a display control unit 149 by executing a control program (not shown). Each functional unit of the control device 14 can be configured by software and/or hardware, or a combination thereof, through a program, circuit, device, or equipment.

次に、照明系2の光路について説明する。図3は、分光部材22を通過する照明光Ls(第一成分光Ls11,Ls12)に着目した光路について示した照明系2の光路模式図であり、上段には平面図2-1を示し、中段には側面図2-2を示している。光源21から出射された照明光Lsは、分光部材22によって、一部がY方向の一方側の分割孔221から出射し、他の一部がY方向の他の一方側の分割孔221から出射されて、複数の分光成分に分光される。なお、分光された照明光Lsのうち、分光部材22の分割孔221を物点位置として導光される分光成分を第一成分光Ls11,Ls12として説明し、第一フォーカス光学系23のスリット孔231を物点位置として導光される分光成分を第二成分光Ls21,Ls22として説明する。 Next, the optical path of illumination system 2 will be described. Figure 3 is a schematic diagram of the optical path of illumination system 2, focusing on the illumination light Ls (first component light Ls11, Ls12) passing through the spectral member 22. The top section shows a plan view 2-1, and the middle section shows a side view 2-2. The illumination light Ls emitted from the light source 21 is dispersed into multiple spectral components by the spectral member 22, with a portion exiting from one of the split holes 221 in the Y direction and another portion exiting from the other split hole 221 in the Y direction. Of the dispersed illumination light Ls, the spectral components guided with the split holes 221 of the spectral member 22 as the object point position will be described as the first component light Ls11, Ls12, and the spectral components guided with the slit hole 231 of the first focus optical system 23 as the object point position will be described as the second component light Ls21, Ls22.

照明系2において、分光部材22、光スキャナ51、光路分割部材52及び前眼部Eaの位置は互いに光学的共役関係又は略光学的共役関係にある。第一照明系レンズ24により導光された第一成分光Ls11,Ls12は、光スキャナ51の反射面において略結像し、光スキャナ51によって第二照明系レンズ25に向けて反射される。その後、第一成分光Ls11,Ls12は、第二照明系レンズ25により光路分割部材52に導光され、光路分割部材52の環状の反射面において略結像し、この反射面により対物レンズ53に向けて反射される。対物レンズ53により集光された第一成分光Ls11,Ls12は、前眼部Eaで結像した後、眼底Efに照射される。 In illumination system 2, the positions of the spectral element 22, optical scanner 51, optical path splitting member 52, and anterior segment Ea are optically conjugate or substantially conjugate to each other. The first component light Ls11 and Ls12, guided by the first illumination system lens 24, are substantially imaged on the reflective surface of the optical scanner 51 and reflected by the optical scanner 51 toward the second illumination system lens 25. Subsequently, the first component light Ls11 and Ls12 are guided by the second illumination system lens 25 toward the optical path splitting member 52, where they are substantially imaged on the annular reflective surface and reflected toward the objective lens 53. The first component light Ls11 and Ls12, focused by the objective lens 53, are imaged in the anterior segment Ea and then irradiated toward the fundus Ef.

なお、図3において(図4も同様)、側面図2-2の下方には、各光学部材(分光部材22、第一フォーカス光学系23、光スキャナ51及び光路分割部材52)の平面図(分光部材22及び第一フォーカス光学系23については光軸A方向に見た図)、及び、光路断面位置S1における照明光Ls(第二成分光Ls21,Ls22)の断面形状を示している。 In Figure 3 (and similarly in Figure 4), below the side view 2-2, the plan views of each optical component (spectroscopic component 22, first focus optical system 23, optical scanner 51, and optical path splitting component 52) are shown (viewed in the direction of optical axis A for the spectroscopic component 22 and the first focus optical system 23), and the cross-sectional shape of the illumination light Ls (second component light Ls21, Ls22) at optical path cross-sectional position S1 are shown.

図4は、第一フォーカス光学系23を通過する照明光Ls(第二成分光Ls21,Ls22)に着目した光路について示した照明系2の光路模式図である。照明系2において、第一フォーカス光学系23及び眼底Ef(被観察部位)の位置は互いに光学的共役関係又は略光学的共役関係にある。分光部材22から出射された第二成分光Ls21,Ls22は、第一照明系レンズ24により導光されて、光スキャナ51によって第二照明系レンズ25に向けて反射される。その後、第二成分光Ls21,Ls22は、第二照明系レンズ25により光路分割部材52に導光され、光路分割部材52の反射面により対物レンズ53に向けて反射される。また、第二成分光Ls21,Ls22は、光路分割部材52と対物レンズ53との間の光路断面位置S1においても再結像する。対物レンズ53により集光された第二成分光Ls21,Ls22は、前眼部Eaで集光された後、眼底Efに照射される。眼底Efにおいて、第二成分光Ls21,Ls22は、略再結像される。このように、照明系2では、光スキャナ51が被観察領域61である眼底Efの一部に、第二成分光Ls21(第一分光)及び第二成分光Ls22(第二分光)である照明光Lsを導光してスリット光として照射させることができる。 Figure 4 is a schematic diagram of the optical path of illumination system 2, focusing on the illumination light Ls (second component light Ls21, Ls22) passing through the first focus optical system 23. In illumination system 2, the positions of the first focus optical system 23 and the fundus Ef (observed area) are optically conjugate or substantially conjugate to each other. The second component light Ls21, Ls22 emitted from the spectroscopic member 22 is guided by the first illumination system lens 24 and reflected by the optical scanner 51 toward the second illumination system lens 25. Subsequently, the second component light Ls21, Ls22 is guided by the second illumination system lens 25 to the optical path splitting member 52 and reflected toward the objective lens 53 by the reflective surface of the optical path splitting member 52. Furthermore, the second component light Ls21, Ls22 is re-imaged at the optical path cross-sectional position S1 between the optical path splitting member 52 and the objective lens 53. The second component light Ls21 and Ls22, focused by the objective lens 53, are focused in the anterior segment Ea and then irradiated onto the fundus Ef. In the fundus Ef, the second component light Ls21 and Ls22 are substantially re-imaged. In this way, the illumination system 2 allows the optical scanner 51 to guide the illumination light Ls, which is the second component light Ls21 (first spectral component) and the second component light Ls22 (second spectral component), to a portion of the fundus Ef, which is the observation area 61, and irradiate it as slit light.

なお、図4では、照明系2が合焦状態である光路について示しているが、被検眼Eの位置は眼科装置1を使用するごとに異なる場合があるため、眼科装置1は、後述するように合焦状態の調整を行うことができる。 Note that while Figure 4 shows the optical path where illumination system 2 is in focus, the position of the eye E under examination may vary each time ophthalmic device 1 is used. Therefore, ophthalmic device 1 can be adjusted to adjust its focus, as described later.

図5は、眼科装置1の動作フローチャートである。ステップS01で、眼科装置1は、ユーザにより図示しない電源スイッチ等を介してハードウェア(HW)及びソフトウェア(SW)の起動が行われる。 Figure 5 is an operation flowchart of the ophthalmic device 1. In step S01, the ophthalmic device 1 is activated by the user via a power switch (not shown) or the like, which activates the hardware (HW) and software (SW).

ステップS02で、制御装置14は、操作部12により撮影モードへの切り替え指示を受けると、撮影モードに切り替える。また、ステップS03で、制御装置14は、操作部12からの指示等に基づいて、被検眼Eにおける動作距離(WD:Working Distance)の調整が行われる。 In step S02, the control device 14 switches to the shooting mode upon receiving an instruction to switch to the shooting mode from the operation unit 12. Also, in step S03, the control device 14 adjusts the working distance (WD) of the eye E being examined based on instructions from the operation unit 12.

ステップS04で、制御装置14は、照明系2及び受光系3の合焦調整(「合焦アライメント」ともいう)を行う。ここでは、被観察部位として眼底Efに対する合焦が調整される。本実施形態の眼科装置1は、ステップS05で行う眼底Efのスリットスキャン撮影前に、眼底Efに対する照明系2及び受光系3の合焦評価及び合焦制御を含む合焦調整を行う。合焦評価では、眼底Efに対して照明系2及び受光系3が合焦している状態(合焦時)と、眼底Efに対して照明系2及び受光系3が合焦していない状態(非合焦時)とにおいて、眼底Efに対する照明光Lsの照射領域R1(光像)の幅が変化することに着目する。 In step S04, the control device 14 performs focus adjustment (also called "focus alignment") of the illumination system 2 and the light-receiving system 3. Here, the focus is adjusted to the fundus Ef as the area to be observed. In this embodiment, the ophthalmic device 1 performs focus adjustment, including focus evaluation and control of the illumination system 2 and the light-receiving system 3 relative to the fundus Ef, before the slit scan imaging of the fundus Ef performed in step S05. In the focus evaluation, attention is paid to the change in the width of the illumination area R1 (light image) of the illumination light Ls relative to the fundus Ef between the state where the illumination system 2 and the light-receiving system 3 are in focus (focused) and the state where the illumination system 2 and the light-receiving system 3 are not in focus (out-of-focus).

図6は、合焦時及び非合焦時において、照明光Lsの光路を示す被検眼E周辺の側面図6A1~6A3、及び、照明光Lsが照射された被検眼Eを正面(P方向)から見た眼底Efの被観察領域61の正面図6B1~6B3を示している。 Figure 6 shows side views 6A1-6A3 of the area around the eye E under examination, indicating the optical path of the illumination light Ls in both focused and out-of-focus states, and front views 6B1-6B3 of the observed region 61 of the fundus Ef, viewed from the front (P direction) of the eye E under examination when illuminated by the illumination light Ls.

側面図6A1に示すように、合焦時には、各分光成分(第二成分光Ls21,Ls22)の光束の集光位置が眼底Efに一致(略一致を含む)するため、正面図6B1に示すように、一方の第二成分光Ls21と他の一方の第二成分光Ls22は、Y方向(光スキャナ51の走査方向)の位置が略同じ位置に重なってスリット状の照射領域R1に結像された照明光Lsが照射される。一方、側面図6A2,6A3及び正面図6B2,6B3に示すように、非合焦時には、各分光成分(第二成分光Ls21,Ls22)の光束の集光位置が眼底Ef対して前後(光軸A方向)にずれるため、第二成分光Ls21(第一分光)及び第二成分光Ls22(第二分光)は眼底Ef上のY方向に広がった(ずれて)照射領域R1に照射される。 As shown in the side view 6A1, when in focus, the focusing positions of the light beams of each spectral component (second component light Ls21, Ls22) coincide (or nearly coincide) with the fundus Ef. Therefore, as shown in the front view 6B1, one second component light Ls21 and the other second component light Ls22 overlap at approximately the same position in the Y direction (scanning direction of the optical scanner 51), and the illumination light Ls is irradiated onto the slit-shaped illumination region R1. On the other hand, as shown in the side views 6A2, 6A3 and the front views 6B2, 6B3, when out of focus, the focusing positions of the light beams of each spectral component (second component light Ls21, Ls22) shift anterior-posterior (optical axis A direction) relative to the fundus Ef. Therefore, the second component light Ls21 (first spectral component) and the second component light Ls22 (second spectral component) irradiate the illumination region R1 which is spread (shifted) in the Y direction on the fundus Ef.

例えば、側面図6A2に示すように照明光Lsが眼底Efよりも手前で結像している場合、正面図6B2に示すように合焦時(正面図6B1)と比較して一方の第二成分光Ls21は下方に、他の一方の第二成分光Ls22は上方に照射される。他方、側面図6A3に示すように照明光Lsが眼底Efよりも奥で結像している場合、正面図6B3に示すように合焦時(正面図6B1)と比較して一方の第二成分光Ls21は上方に、他の一方の第二成分光Ls22は下方に照射される。そして、眼底Efに対する第二成分光Ls21,Ls22の結像位置のずれ量(光軸A方向のずれ量)は、正面図6B1~6B3における第二成分光Ls21,Ls22のY方向のずれ量に相関する照明光Lsの光強度Iより評価することができる。図6の例では、正面図6B1における合焦時の照射領域R1に照射された照明光Lsの光強度Iは、正面図6B2又は正面図6B3における非合焦時の照射領域R1に照射された照明光Lsの光強度Iよりも高くなる。 For example, as shown in the side view 6A2, when the illumination light Ls is imaged in front of the fundus Ef, as shown in the front view 6B2, one of the second component lights Ls21 is illuminated downwards and the other second component light Ls22 is illuminated upwards compared to when it is in focus (front view 6B1). On the other hand, as shown in the side view 6A3, when the illumination light Ls is imaged behind the fundus Ef, as shown in the front view 6B3, one of the second component lights Ls21 is illuminated upwards and the other second component light Ls22 is illuminated downwards compared to when it is in focus (front view 6B1). The amount of displacement of the image formation positions of the second component lights Ls21 and Ls22 relative to the fundus Ef (the amount of displacement in the optical axis A direction) can be evaluated from the light intensity I of the illumination light Ls, which correlates with the amount of displacement of the second component lights Ls21 and Ls22 in the Y direction in the front views 6B1 to 6B3. In the example shown in Figure 6, the light intensity I of the illumination light Ls illuminating the illumination region R1 when it is in focus (as shown in front view 6B1) is higher than the light intensity I of the illumination light Ls illuminating the illumination region R1 when it is out of focus (as shown in front view 6B2 or 6B3).

図7は、合焦調整時における被観察部位である眼底Efの正面図6B4、撮像素子33の受光領域331、及び、眼底Efを撮像素子33により撮像して取得された取得画像71を示す図である。 Figure 7 shows a front view 6B4 of the fundus Ef, the area to be observed during focus adjustment, the light-receiving area 331 of the image sensor 33, and the acquired image 71 obtained by imaging the fundus Ef with the image sensor 33.

眼底Efの正面図6B4は、照明光Lsが、光軸Aよりも上方(Y軸方向の上方)の位置において合焦した状態を示している。眼底Efの正面図6B4は、被観察領域61を示している。被観察領域61は、照明光Lsの走査方向D1に分割された複数の被撮像ライン611を含む。被撮像ライン611は、ライン番号N=1からN=nまでの複数形成される(「n」は2以上の整数である)。なお、被撮像ライン611は、説明の便宜上図示した仮想の領域である。 The frontal view 6B4 of the fundus Ef shows the illumination light Ls focused at a position above the optical axis A (above the Y-axis). The frontal view 6B4 of the fundus Ef shows the observation area 61. The observation area 61 includes multiple imaging lines 611 divided in the scanning direction D1 of the illumination light Ls. Multiple imaging lines 611 are formed, numbered N=1 to N=n (where "n" is an integer greater than or equal to 2). Note that the imaging lines 611 are hypothetical regions illustrated for illustrative purposes.

CMOSイメージセンサ等により構成される撮像素子33の受光領域331は、上下及び左右方向のマトリクス状に複数のフォトダイオードである受光部を有する。撮像素子33は、ローリングシャッタ機能を有し、被撮像ライン611と結像位置を各々対応させた複数の露光ライン332を受光領域331に含むライン露光式の撮像素子である。受光領域331は、露光方向D2に分割された複数の露光ライン332を有する。露光ライン332は、受光領域331において受光した光を同じタイミングで検出する単位領域である。露光ライン332は、図7の受光領域331において露光方向D2とは直交する行方向に配列された複数の受光部を有する。また、露光ライン332は、受光領域331における露光方向D2については、一つ又は複数の受光部を有する。露光ライン332は、ライン番号N=1からN=nまでの複数形成される(「n」は2以上の整数である)。ライン番号N=1からnの被撮像ライン611は、ライン番号N=1からnの露光ライン332と、各々結像位置が対応する。 The image sensor 33, composed of a CMOS image sensor or the like, has a light-receiving area 331 that has multiple photodiodes arranged in a matrix in the vertical and horizontal directions to provide light. The image sensor 33 has a rolling shutter function and is a line exposure type image sensor that includes multiple exposure lines 332 in the light-receiving area 331, each corresponding to the imaging line 611 and the imaging position. The light-receiving area 331 has multiple exposure lines 332 divided in the exposure direction D2. The exposure lines 332 are unit areas that detect light received in the light-receiving area 331 at the same timing. The exposure lines 332 have multiple light-receiving units arranged in a row direction perpendicular to the exposure direction D2 in the light-receiving area 331 shown in Figure 7. In addition, the exposure lines 332 have one or more light-receiving units for the exposure direction D2 in the light-receiving area 331. Multiple exposure lines 332 are formed, numbered N=1 to N=n (where "n" is an integer of 2 or more). The imaging lines 611 with line numbers N=1 to n correspond to the imaging positions of the exposure lines 332 with line numbers N=1 to n.

取得画像71は、撮像素子33の受光領域331に入射されて検出された戻り光Lbによって形成された画像である。取得画像71は、受光領域331において検出される光の光強度Iが比較的低い暗領域712と、照射領域R1に対応する照明光Lsが検出された光の光強度Iの高い明領域711と、を含む。制御装置14は、撮像素子33により取得された取得画像71の検出方向D3に対する光強度Iを対応させたラインプロファイル7を検出結果として求める。ラインプロファイル7は、走査方向D1及び露光方向D2と移動方向が同じ検出方向D3に対して、光強度Iの高低を示しており、明領域711に対応する第一検出値pと、暗領域712に対応する第二検出値vと、を含む。図7の例では、眼底Efに対して照明光Lsが比較的合焦状態に近いため、第二検出値vに対する第一検出値pの強度比は比較的高い。本実施形態では、制御装置14は、ラインプロファイル7において、光強度Iの頂部における第一検出値pと、底部における第二検出値vとを用いた可視度V=(p-v)/(p+v)を求めて、合焦状態(合焦又は非合焦の程度)を評価する。制御装置14は、例えば、可視度V=(p-v)/(p+v)が、予め定めた閾値以上であった場合に合焦していると判定する。 The acquired image 71 is an image formed by the reflected light Lb that is incident on the light-receiving area 331 of the image sensor 33 and detected. The acquired image 71 includes a dark region 712 in which the light intensity I of the light detected in the light-receiving area 331 is relatively low, and a bright region 711 in which the light intensity I of the detected illumination light Ls corresponding to the illumination area R1 is high. The control device 14 obtains a line profile 7 as a detection result, which corresponds the light intensity I of the acquired image 71 obtained by the image sensor 33 to the detection direction D3. The line profile 7 shows the high and low levels of light intensity I with respect to the detection direction D3, which has the same movement direction as the scanning direction D1 and exposure direction D2, and includes a first detection value p corresponding to the bright region 711 and a second detection value v corresponding to the dark region 712. In the example of Figure 7, since the illumination light Ls is relatively close to being in focus with respect to the fundus Ef, the intensity ratio of the first detection value p to the second detection value v is relatively high. In this embodiment, the control device 14 calculates the visibility V = (p - v) / (p + v) using the first detected value p at the peak of the light intensity I and the second detected value v at the bottom of the line profile 7, and evaluates the focus state (degree of focus or out of focus). For example, the control device 14 determines that focus is achieved if the visibility V = (p - v) / (p + v) is equal to or greater than a predetermined threshold.

図8は、合焦調整時における眼底Efに照射する照明光Lsのタイミングチャート及び撮像素子33の露光動作のタイミングチャートである。照明光Lsの照射に関するタイミング特性F1は、時間Tの経過にしたがって、被撮像ライン611の位置を走査方向D1(図7参照)に移動させる。図8の例では、タイミングT0からタイミングT3の間及びタイミングT6からタイミングT9の間に、それぞれ被撮像ライン611のライン番号N=2及びライン番号N=8の位置に照明光Ls(第一分光及び第二分光)を照射し、タイミングT3からタイミングT6の間に照明光Lsの照射を停止(消灯)する。なお、図8では、2つの時間領域(タイミングT0~T3の間、及び、タイミングT6~T9の間)に照明光Lsを間欠的に照射する例を示しているが、タイミングT9からタイミングTnまでの期間についても同様に照明光Lsが間欠的に照射される。したがって、第二成分光Ls21(第一分光)及び第二成分光Ls22(第二分光)を検出させる露光ライン群333も、間欠的に設けられる(図11も参照)。 Figure 8 shows the timing chart for the illumination light Ls irradiating the fundus Ef during focus adjustment and the timing chart for the exposure operation of the image sensor 33. The timing characteristic F1 for the illumination light Ls moves the position of the imaging line 611 in the scanning direction D1 (see Figure 7) as time T progresses. In the example in Figure 8, illumination light Ls (first spectral and second spectral) is irradiated at line numbers N=2 and N=8 of the imaging line 611, respectively, between timing T0 and timing T3 and between timing T6 and timing T9, and the illumination light Ls is stopped (turned off) between timing T3 and timing T6. Although Figure 8 shows an example in which illumination light Ls is irradiated intermittently in two time regions (between timing T0 to T3 and between timing T6 to T9), illumination light Ls is similarly irradiated intermittently during the period from timing T9 to timing Tn. Therefore, the exposure line group 333 for detecting the second component light Ls21 (first spectral distribution) and the second component light Ls22 (second spectral distribution) is also provided intermittently (see also Figure 11).

また、撮像素子33の露光動作に関するタイミング特性F2は、時間Tの経過にしたがって、露光ライン332の位置を露光方向D2(図7参照)に順次移動させる。図8の例では、タイミングT0からタイミングT10の各区間において、ライン番号N=1からライン番号N=10の露光ライン332で露光動作させる。また、タイミングT10からタイミングTnの各期間についても、ライン番号N=11からN=nまで順次露光ライン332が移動して露光動作が行われる。 Furthermore, the timing characteristic F2 for the exposure operation of the image sensor 33 sequentially moves the position of the exposure line 332 in the exposure direction D2 (see Figure 7) as time T progresses. In the example in Figure 8, in each interval from timing T0 to timing T10, the exposure operation is performed using the exposure line 332 from line number N=1 to line number N=10. Similarly, in each period from timing T10 to timing Tn, the exposure line 332 sequentially moves from line number N=11 to N=n, and the exposure operation is performed.

以上のように照明光Lsの照射と露光動作とが行われると、複数の露光ライン332が露光動作する期間(例えば、タイミングT0からタイミングT3までの期間)、各露光ライン332と各々結像位置が対応する複数の被撮像ライン611の略中央位置(例えば、被撮像ライン611のライン番号Nが「1」~「3」であった場合はそれらの中央のライン番号N=2の被撮像ライン611)に照明光Lsが照射される。本実施形態では、照明光Lsの合焦評価に用いる複数の露光ライン332を含む群を、露光ライン群333とする。 As described above, when the illumination light Ls is irradiated and the exposure operation is performed, during the period when the multiple exposure lines 332 are in exposure operation (for example, from timing T0 to timing T3), the illumination light Ls is irradiated to the approximate center position of the multiple imaging lines 611, each of which corresponds to the imaging position of each exposure line 332 (for example, if the line numbers N of the imaging lines 611 are "1" to "3", then the imaging line 611 with the central line number N=2). In this embodiment, the group including the multiple exposure lines 332 used for evaluating the focus of the illumination light Ls is referred to as the exposure line group 333.

制御装置14は、図8のように、所定の露光ライン群333に含まれる複数の露光ライン332の露光動作を順次露光方向D2に移動させる間、露光ライン群333の複数の露光ライン332に対応する複数の被撮像ライン611の照射領域R1に、照明光Ls(第一分光(Ls21)及び第二分光(Ls22))を照射する。本実施形態では、制御装置14(制御部)が、露光ライン群333における露光ライン332の検出結果から前述したラインプロファイル7を求めることにより合焦判定を行う。 As shown in Figure 8, the control device 14 sequentially moves the exposure operation of multiple exposure lines 332 included in a predetermined exposure line group 333 in the exposure direction D2, while irradiating the illumination area R1 of the multiple imaging lines 611 corresponding to the multiple exposure lines 332 in the exposure line group 333 with illumination light Ls (first spectral portion (Ls21) and second spectral portion (Ls22)). In this embodiment, the control device 14 (control unit) performs focus determination by obtaining the line profile 7 described above from the detection results of the exposure lines 332 in the exposure line group 333.

図9は、合焦時又は非合焦時における露光ライン332と照明光Lsとの関係の具体例を示す図である。まず、合焦状態における受光領域331に示すように、本実施形態の露光ライン群333は、照明光Lsの原点(物点)である第一フォーカス光学系23から撮像素子33までの光路に沿って露光方向D2に3[deg](度)分の角度の幅で設けられる。また、合焦状態において、受光領域331に到達する第二成分光Ls21及び第二成分光Ls22は、第一フォーカス光学系23から撮像素子33までの光軸A,Bに沿って露光方向D2に1.5[deg](度)分の角度の幅で到達する。 Figure 9 shows a specific example of the relationship between the exposure line 332 and the illumination light Ls when in focus or out of focus. First, as shown in the light-receiving region 331 in the focused state, the exposure line group 333 in this embodiment is provided along the optical path from the first focus optical system 23, which is the origin (object point) of the illumination light Ls, to the image sensor 33, with an angle width of 3 degrees in the exposure direction D2. Furthermore, in the focused state, the second component light Ls21 and Ls22 reaching the light-receiving region 331 arrive along the optical axes A and B from the first focus optical system 23 to the image sensor 33, with an angle width of 1.5 degrees in the exposure direction D2.

受光例A1は照明光Lsの合焦状態を示している。受光例A1における照明光Lsは、露光ライン群333内に収まる約1.5[deg]分の幅で照射される。受光例A2は照明光Lsの非合焦状態を示している。受光例A2における照明光Lsは、第二成分光Ls21,Ls22の分離が進んだ状態であり、受光例A1よりも露光ライン群333内において露光方向D2(図9の上下方向)に拡幅して露光ライン群333よりもやや狭幅に照射される。受光例A3は照明光Lsの非合焦状態を示している。受光例A3における照明光Lsは、露光ライン群333の幅方向の両境界部に跨るように第二成分光Ls21,Ls22に分離して照射される。受光領域331により検出される照明光Lsの光強度I(第一検出値p)は、受光例A1、受光例A2及び受光例A3の順に小さい。このように、露光ライン群333の幅を照明光Lsの合焦時の幅よりも予め広幅に設定することで、第二成分光Ls21,Ls22の幅が広がった非合焦時であっても照明光Lsを露光ライン群333の幅の範囲内であれば検出することができる。 Receiving example A1 shows the illumination light Ls in focus. In receiving example A1, the illumination light Ls is irradiated with a width of approximately 1.5 [deg] that fits within the exposure line group 333. Receiving example A2 shows the illumination light Ls out of focus. In receiving example A2, the illumination light Ls is in a state where the separation of the second component light Ls21 and Ls22 has progressed, and it is irradiated with a width that is wider in the exposure direction D2 (up and down direction in Figure 9) within the exposure line group 333 than in receiving example A1, and slightly narrower than the exposure line group 333. Receiving example A3 shows the illumination light Ls out of focus. In receiving example A3, the illumination light Ls is separated into the second component light Ls21 and Ls22 and irradiated so as to straddle both boundaries in the width direction of the exposure line group 333. The light intensity I (first detection value p) of the illumination light Ls detected by the light-receiving area 331 is smallest in the order of reception example A1, reception example A2, and reception example A3. In this way, by setting the width of the exposure line group 333 to be wider than the width of the illumination light Ls when in focus, the illumination light Ls can be detected even when the widths of the second component light Ls 21 and Ls 22 are widened and the light is out of focus, as long as it is within the width range of the exposure line group 333.

なお、露光ライン群333の幅「3[deg]」及び照明光Lsの幅「1.5[deg]」は例であり、受光例A1に示されるように、露光ライン群333の幅が合焦時の照明光Lsの幅よりも大きくしたその他の幅に設定されていてもよい。 Note that the width of the exposure line group 333 ("3 [deg]") and the width of the illumination light Ls ("1.5 [deg]") are examples. As shown in light reception example A1, the width of the exposure line group 333 may be set to a width greater than the width of the illumination light Ls at the time of focus.

図10は、合焦評価撮影時において、照明光Lsの光路を示す被検眼E周辺の側面図6A5~6A7、及び、照明光Lsが照射された被検眼Eを正面(P方向)から見た眼底Efの正面図6B5~6B7を示している。制御装置14は、光スキャナ51による照明光Lsの偏向角度を変化させながら、照明光Lsが照射されている眼底Efからの戻り光Lbを撮像素子33で撮像し、取得画像71を取得する。そして、制御装置14は、取得画像71から求めたラインプロファイル7に基づき、可視度Vが最も大きくなるように、第一フォーカス光学系23及び第二フォーカス光学系31の合焦制御を実行する。 Figure 10 shows side views 6A5-6A7 of the area around the eye E, indicating the optical path of the illumination light Ls, and front views 6B5-6B7 of the fundus Ef, viewed from the front (direction P) of the eye E illuminated by the illumination light Ls, during focus evaluation imaging. The control device 14 changes the deflection angle of the illumination light Ls from the optical scanner 51 and captures the reflected light Lb from the fundus Ef illuminated by the illumination light Ls using the image sensor 33, acquiring the acquired image 71. Then, based on the line profile 7 obtained from the acquired image 71, the control device 14 performs focus control of the first focus optical system 23 and the second focus optical system 31 so that the visibility V is maximized.

合焦評価及び合焦制御は、主に、図2に示した制御装置14の照明制御部141、偏向制御部142、撮像制御部143、信号取得部144、画像生成部145、合焦評価部146、繰り返し制御部147、及び合焦制御部148により行われる。 Focus evaluation and control are primarily performed by the illumination control unit 141, deflection control unit 142, imaging control unit 143, signal acquisition unit 144, image generation unit 145, focus evaluation unit 146, repeat control unit 147, and focus control unit 148 of the control device 14 shown in Figure 2.

照明制御部141は、合焦評価時において照明系2から照明光Ls(例えば、近赤外光)を出射させる。照明光Lsとして近赤外光を用いた場合は、被検眼Eの縮瞳を低減することができる。 The illumination control unit 141 emits illumination light Ls (e.g., near-infrared light) from the illumination system 2 during focus evaluation. When near-infrared light is used as the illumination light Ls, pupillary constriction of the eye E under examination can be reduced.

信号取得部144は、合焦評価時において、撮像素子33のローリングシャッタ駆動が行われている間、撮像素子33の受光領域331から出力される撮像信号を逐次取得する。 During focus evaluation, the signal acquisition unit 144 sequentially acquires the imaging signal output from the light-receiving area 331 of the image sensor 33 while the rolling shutter of the image sensor 33 is being driven.

画像生成部145は、合焦評価時において撮像素子33のローリングシャッタ駆動が行われている間に信号取得部144が取得した撮像信号に基づき取得画像71を生成する。図6に示すよう、合焦時の被観察領域61(正面図6B1参照)では照明光Lsが幅狭のパターン像として検出され、非合焦時の被観察領域61(正面図6B2,6B3参照)では照明光Lsが広がった又は離れたパターン像として検出される。 The image generation unit 145 generates the acquired image 71 based on the imaging signal acquired by the signal acquisition unit 144 while the rolling shutter of the image sensor 33 is being driven during focus evaluation. As shown in Figure 6, in the observed area 61 when in focus (see front view 6B1), the illumination light Ls is detected as a narrow pattern image, and in the observed area 61 when out of focus (see front views 6B2 and 6B3), the illumination light Ls is detected as a widened or separated pattern image.

合焦評価部146は、照明制御部141を介して光スキャナ51を制御するとともに、撮像制御部143を介して撮像素子33を制御して、画像の撮影を実行する。例えば、合焦評価部146は、偏向制御部142により、眼底Efに照明光Lsが照射されるように光スキャナ51による照明光Lsの偏向角度を制御する。また、合焦評価部146は、取得画像71からラインプロファイル7を求め、ラインプロファイル7に基づいて合焦評価を行う。 The focus evaluation unit 146 controls the optical scanner 51 via the illumination control unit 141 and the image sensor 33 via the imaging control unit 143 to perform image acquisition. For example, the focus evaluation unit 146 uses the deflection control unit 142 to control the deflection angle of the illumination light Ls from the optical scanner 51 so that the illumination light Ls is irradiated onto the fundus Ef. Furthermore, the focus evaluation unit 146 obtains a line profile 7 from the acquired image 71 and performs a focus evaluation based on the line profile 7.

繰り返し制御部147は、第一フォーカス光学系23及び第二フォーカス光学系31のフォーカスレンズのレンズ位置を変更しながら、第一フォーカス光学系23の異なる複数の位置ごとに、合焦評価部146、信号取得部144、及び画像生成部145を繰り返し作動させる繰り返し制御を実行する。これにより、第一フォーカス光学系23の位置ごとの取得画像71が取得される。なお、第一フォーカス光学系23及び第二フォーカス光学系31がフォーカスレンズの代わりに可変焦点レンズを備える場合には、繰り返し制御部147は、可変焦点レンズの互いに異なる複数の焦点位置ごとに繰り返し制御を実行する。 The repeat control unit 147 performs repeat control, repeatedly activating the focus evaluation unit 146, signal acquisition unit 144, and image generation unit 145 for each of several different positions of the first focus optical system 23, while changing the lens position of the focus lens of the first focus optical system 23 and the second focus optical system 31. This acquires an image 71 for each position of the first focus optical system 23. If the first focus optical system 23 and the second focus optical system 31 are equipped with a variable focus lens instead of a focus lens, the repeat control unit 147 performs repeat control for each of several different focal positions of the variable focus lens.

合焦制御部148は、第一フォーカス光学系23及び第二フォーカス光学系31の合焦制御を行って、眼底Efに対して照明系2及び受光系3を合焦させる。なお、前述の通り、第二フォーカス光学系31による受光系3の合焦と、第一フォーカス光学系23による照明系2の合焦とは、被検眼Eのディオプタ(視度)に応じて連動して動く。合焦制御部148は、取得画像71から求めたラインプロファイル7に基づき、可視度Vが最も大きくなるように(すなわち、最も合焦状態に近くになるように)、第一フォーカス光学系23及び第二フォーカス光学系31を制御する。 The focusing control unit 148 controls the focusing of the first focusing optical system 23 and the second focusing optical system 31 to focus the illumination system 2 and the light-receiving system 3 on the fundus Ef. As mentioned above, the focusing of the light-receiving system 3 by the second focusing optical system 31 and the focusing of the illumination system 2 by the first focusing optical system 23 move in conjunction with the diopter (visual intensity) of the eye E being examined. Based on the line profile 7 obtained from the acquired image 71, the focusing control unit 148 controls the first focusing optical system 23 and the second focusing optical system 31 so that the visibility V is maximized (i.e., so that the state is closest to the in-focus state).

このように、第一フォーカス光学系23が被検眼Eの被観察部位(本実施形態では眼底Ef)と合焦すると、第二フォーカス光学系31は第一フォーカス光学系23の合焦と連動して被観察部位と撮像素子33とが合焦するように制御する。制御装置14は、眼底Efに対する照明光Ls(第二成分光Ls21,Ls22)の照射領域R1を撮像素子33により検出させて、ラインプロファイル7を評価することで、合焦状態の評価を行い、合焦制御することができる。 Thus, when the first focusing optical system 23 focuses on the area to be observed in the eye E (fundus Ef in this embodiment), the second focusing optical system 31 controls the focusing of the image sensor 33 in conjunction with the focusing of the first focusing optical system 23 so that the area to be observed and the image sensor 33 are in focus. The control device 14 can evaluate the focusing state and control the focusing by having the image sensor 33 detect the illumination area R1 of the illumination light Ls (second component light Ls21, Ls22) on the fundus Ef and evaluating the line profile 7.

図11に示すように、合焦評価部146は、図8のタイミングチャートに従って得られた複数の明領域711を含む取得画像71からラインプロファイル7を求め、このラインプロファイル7から可視度Vを算出して合焦状態を評価することができる。なお、合焦評価部146は、一つの明領域711に対応する第一検出値pを含むラインプロファイル7に基づいて合焦評価を行ってもよいし、二以上の複数の明領域711に対応する第一検出値pを含むラインプロファイル7に基づいて合焦評価を行ってもよい。制御装置14は、二つ以上の複数の明領域711を含むラインプロファイル7を用いる場合は、複数の明領域711のうち最も第一検出値pの最も高い明領域711の位置が、最も合焦された位置であると判定できる。したがって、制御装置14は、例えば、眼底Efにおける略中央位置に第一検出値pの高い明領域711が観測された場合は、焦点の位置が被観察領域61である眼底Ef全体の奥側に位置すると判定し、眼底Efにおける走査方向D1の始端部又は終端部の位置に第一検出値pの高い明領域711が観測された場合は、焦点の位置が被観察領域61である眼底Ef全体の手前側に位置すると判定することができる。これにより、制御装置14は、焦点の位置を眼底Efに対して手前側又は奥側のどちら側に移動させれば眼底Efに対して合焦可能であるか判定することができる。 As shown in Figure 11, the focus evaluation unit 146 can obtain a line profile 7 from the acquired image 71 which includes a plurality of bright regions 711 obtained according to the timing chart in Figure 8, and evaluate the focus state by calculating the visibility V from this line profile 7. The focus evaluation unit 146 may perform the focus evaluation based on a line profile 7 which includes a first detected value p corresponding to one bright region 711, or it may perform the focus evaluation based on a line profile 7 which includes first detected values p corresponding to two or more bright regions 711. When the control device 14 uses a line profile 7 which includes two or more bright regions 711, it can determine that the position of the bright region 711 with the highest first detected value p among the plurality of bright regions 711 is the position that is most in focus. Therefore, the control device 14 can determine, for example, that if a bright area 711 with a high first detection value p is observed approximately in the center of the fundus Ef, it determines that the focal point is located on the far side of the entire fundus Ef, which is the observed area 61. Conversely, if a bright area 711 with a high first detection value p is observed at the beginning or end of the scanning direction D1 in the fundus Ef, it determines that the focal point is located on the near side of the entire fundus Ef, which is the observed area 61. This allows the control device 14 to determine whether the focal point needs to be moved to the near or far side of the fundus Ef to achieve focus.

図5に戻り、ステップS05で、制御装置14は、スリットスキャン撮影を行う。スリットスキャン撮影では、主に、図2に示した制御装置14における照明制御部141、偏向制御部142、撮像制御部143、信号取得部144、画像生成部145、及び表示制御部149が機能する。 Returning to Figure 5, in step S05, the control device 14 performs slit-scan imaging. During slit-scan imaging, the illumination control unit 141, deflection control unit 142, imaging control unit 143, signal acquisition unit 144, image generation unit 145, and display control unit 149 of the control device 14 shown in Figure 2 primarily function.

照明制御部141は、光源21(すなわち照明系2)からの照明光Lsの出射を制御する。照明制御部141は、スリットスキャン撮影時において、光源21からの照明光Lsとして可視光を出射させる。 The illumination control unit 141 controls the emission of illumination light Ls from the light source 21 (i.e., the illumination system 2). During slit scan imaging, the illumination control unit 141 emits visible light as illumination light Ls from the light source 21.

偏向制御部142は、光スキャナ51による照明光Lsの偏向角度を制御する。この偏向制御部142は、スリットスキャン撮影時には光スキャナ51を制御して照明光LsをY方向に偏向させることで、照明光Ls(スリット光)により眼底Ef内をスリット光の幅方向であるY方向(例えば、上から下へ向かう走査方向D1)に走査する。 The deflection control unit 142 controls the deflection angle of the illumination light Ls from the optical scanner 51. During slit scan imaging, the deflection control unit 142 controls the optical scanner 51 to deflect the illumination light Ls in the Y direction, thereby scanning the fundus Ef in the Y direction (for example, the scanning direction D1 from top to bottom) using the illumination light Ls (slit light).

照明光Lsの照射領域R1は、図12に示すように、照明光LsのY方向の偏向に応じて眼底Ef(被観察部位)内をY方向に移動する(図10の側面図6A5~6A7及び正面図6B5~6B7も参照)。なお、図12において、照明光Lsの照射領域R1は、被撮像ライン611と略同幅で示しているが、被撮像ライン611よりも幅広であってもよい。また、図13に示すように、この照射領域R1の移動に応じて、受光領域331内における戻り光Lbの露光ライン332も露光方向D2(Y方向)に同期して移動する。 As shown in Figure 12, the illumination area R1 of the illumination light Ls moves in the Y direction within the fundus Ef (observed area) in accordance with the Y-direction deflection of the illumination light Ls (see also the side views 6A5-6A7 and front views 6B5-6B7 in Figure 10). Note that in Figure 12, the illumination area R1 of the illumination light Ls is shown to be approximately the same width as the imaging line 611, but it may be wider than the imaging line 611. Furthermore, as shown in Figure 13, in accordance with the movement of this illumination area R1, the exposure line 332 of the reflected light Lb within the light-receiving area 331 also moves synchronously in the exposure direction D2 (Y direction).

撮像制御部143は、撮像素子33の駆動を制御する。この撮像制御部143は、スリットスキャン撮影時において、光スキャナ51による照明光LsのY方向の偏向が行われている間(すなわち眼底Ef内で照射領域R1が走査方向D1に移動している間)、撮像素子33にローリングシャッタ駆動を行わせる。 The imaging control unit 143 controls the drive of the image sensor 33. During slit-scan imaging, the imaging control unit 143 causes the image sensor 33 to perform a rolling shutter drive while the illumination light Ls from the optical scanner 51 is being deflected in the Y direction (i.e., while the illumination area R1 moves in the scanning direction D1 within the fundus Ef).

具体的に、撮像制御部143は、受光領域331内で走査方向D1に移動する戻り光Lbの照射領域に対応して露光ライン332を追従させながら、この露光ライン332による戻り光Lbの検出を連続して実行させる。換言すると、眼底Ef内において走査方向D1に移動する照射領域R1の移動に対して、撮像素子33が局所的に露光範囲を追従させながら照射領域R1の検出が連続して行われる。このようなローリングシャッタ駆動は公知の技術を用いることができるため、詳細な説明は省略する。 Specifically, the imaging control unit 143 tracks the exposure line 332 in accordance with the illumination area of the reflected light Lb moving in the scanning direction D1 within the light-receiving area 331, and continuously detects the reflected light Lb using the exposure line 332. In other words, as the illumination area R1 moves in the scanning direction D1 within the fundus Ef, the image sensor 33 locally tracks the exposure range, and continuous detection of the illumination area R1 is performed. Since known techniques can be used for such rolling shutter driving, a detailed explanation is omitted.

信号取得部144は、不図示の通信インタフェースを介して、撮像素子33に対して有線接続或いは無線接続されている。信号取得部144は、スリットスキャン撮影時において、光スキャナ51による照明光Lsの偏向が行われている間、撮像素子33の受光領域からの撮像信号(検出信号又は受光信号ともいう)を逐次取得する。 The signal acquisition unit 144 is connected to the image sensor 33 via a communication interface (not shown) either by wire or wireless connection. During slit-scan imaging, the signal acquisition unit 144 sequentially acquires the imaging signal (also called the detection signal or reception signal) from the light-receiving area of the image sensor 33 while the illumination light Ls is being deflected by the optical scanner 51.

画像生成部145は、上述したスリットスキャン撮影時において、光スキャナ51による照明光Lsの偏向が行われている間に、信号取得部144が取得した撮像信号に基づき眼底像の生成を行うことができる。図12の取得画像71は、ライン番号N=1及びN=2の露光ライン332で検出された光を重ね合わせ、眼底Efの様子を示す画像が一部生成された状態を示している。 The image generation unit 145 can generate a fundus image based on the imaging signal acquired by the signal acquisition unit 144 while the illumination light Ls is being deflected by the optical scanner 51 during the slit scan imaging described above. The acquired image 71 in Figure 12 shows a state where an image partially representing the fundus Ef has been generated by superimposing the light detected by the exposure lines 332 with line numbers N=1 and N=2.

ステップS06で、表示制御部149は、表示部13による表示を制御する。表示制御部149は、例えば、スリットスキャン撮影時には画像生成部145が生成した眼底Ef像を表示部13に表示させる。 In step S06, the display control unit 149 controls the display by the display unit 13. For example, during slit-scan imaging, the display control unit 149 displays the fundus Ef image generated by the image generation unit 145 on the display unit 13.

ステップS07で、制御装置14は、再撮影を行うか判定する。制御装置14は、再撮影を行う場合(ステップS07の「再撮影有り」)ステップS02の処理を実行し、再撮影を行う場合(ステップS07の「再撮影無し」)ステップS08の処理に実行する。なお、ステップS07で、制御装置14は、ユーザによって操作部12に入力された選択指示に基づいて再撮影有り又は再撮影無しの判定をおこなってもよい。ユーザは、再撮影有り又は再撮影無しの判断を、表示部13に表示された取得画像を確認して行うことができる。 In step S07, the control device 14 determines whether to perform a reshoot. If a reshoot is performed ("Reshoot Required" in step S07), the control device 14 executes the process in step S02; otherwise, it executes the process in step S08. Note that in step S07, the control device 14 may also determine whether a reshoot is required or not based on a selection instruction entered by the user into the operation unit 12. The user can determine whether a reshoot is required or not by checking the acquired image displayed on the display unit 13.

ステップS08で、制御装置14は、撮影結果として取得されたスリットスキャン撮影における取得画像を図示しない記憶部(又は記憶装置)に記憶する。 In step S08, the control device 14 stores the acquired images from the slit scan imaging, which are obtained as imaging results, in a storage unit (or memory device) not shown.

ステップS09で、制御装置14は、操作部12に対する入力指示にしたがって、次の撮影(例えば、別の被検眼Eの撮影)に進む。 In step S09, the control device 14 proceeds to the next imaging (for example, imaging another eye E) according to the input instructions to the operation unit 12.

以上、本実施形態の眼科装置1について説明したが、眼科装置1は、変調伝達関数(MTF:Modulation Transfer Function)を求める機能を有してもよい。図14は、ラインプロファイル7と変調伝達関数F3の関係を示す図である。 The ophthalmic device 1 of this embodiment has been described above, but the ophthalmic device 1 may also have a function to determine the modulation transfer function (MTF). Figure 14 is a diagram showing the relationship between the line profile 7 and the modulation transfer function F3.

変調伝達関数F3は、取得画像71において周期的に検出される明領域711及び暗領域712の空間周波数[Line/mm]毎の可視度V[au]を表している。制御装置14は、複数の空間周波数f01~f03において(露光ライン群333に含まれる露光ライン332の数、及び、複数の露光ライン群間の間隔を、増加又は減少させて)、合焦状態における可視度Vを予め求めることで変調伝達関数F3を求めることができる。変調伝達関数F3は、ある性能を有する光学系の理想状態の可視度Vと空間周波数との関係を表している。ある空間周波数における可視度Vは、被検眼Eの光学系(角膜、水晶体などを含む)等の影響を受けながら測定される為に、被検眼E(眼底Ef)に合焦した状態(ピントがあった状態)においても、理想状態の可視度Vには及ばない。被検眼Eに投影された光は、変調伝達関数F3を有する光学系を介して、撮像素子33で取り込まれる。 The modulation transfer function F3 represents the visibility V [au] for each spatial frequency [Line/mm] of the bright region 711 and dark region 712 periodically detected in the acquired image 71. The control device 14 can determine the modulation transfer function F3 by pre-determining the visibility V in the in-focus state at multiple spatial frequencies f01 to f03 (by increasing or decreasing the number of exposure lines 332 included in the exposure line group 333, and the spacing between multiple exposure line groups). The modulation transfer function F3 represents the relationship between the ideal state visibility V of an optical system with certain performance and the spatial frequency. Since the visibility V at a certain spatial frequency is measured while being affected by the optical system of the eye E (including the cornea, lens, etc.), it does not reach the ideal state visibility V even when in focus on the eye E (fundus Ef). The light projected onto the eye E is captured by the image sensor 33 via the optical system having the modulation transfer function F3.

上記の理想状態として測定された状態の可視度Vと実測により求められた可視度Vとの差分が、被検眼Eの光学系(角膜、水晶体など)による変化分として解釈することができる。したがって、変調伝達関数F3を予め求めておくことで、制御装置14は、被検眼Eに関する変調伝達関数F3のパラメータを測定することができる。 The difference between the visibility V measured under the ideal state described above and the visibility V obtained through actual measurement can be interpreted as the change due to the optical system (cornea, lens, etc.) of the eye E being examined. Therefore, by pre-determining the modulation transfer function F3, the control device 14 can measure the parameters of the modulation transfer function F3 related to the eye E being examined.

また、制御装置14は、変調伝達関数F3のコントラストの高さ(例えば、理想状態として測定された状態の可視度Vと実測により求められた可視度Vとの差分)を、被検眼Eに対して合焦しているか(ピントがあっているか)どうかを判定する手掛かりにすることもできる。従って、変調伝達関数F3を用いることで、合焦判定をより容易に行うことができる。 Furthermore, the control device 14 can also use the contrast level of the modulation transfer function F3 (for example, the difference between the visibility V measured as an ideal state and the visibility V obtained by actual measurement) as a clue to determine whether the image is in focus (in focus) on the eye E being examined. Therefore, by using the modulation transfer function F3, focus determination can be made easier.

さらに、制御装置14は、特定の空間周波数において求めたラインプロファイル7から、空間周波数毎に合焦判定に用いる適切な可視度Vの閾値を想定して求めることができる。可視度Vの合焦判定の閾値は、手動で又は自動で設定される。このように構成すると、制御装置14は、露光ライン群333に含まれる露光ライン332の数、及び、複数の露光ライン群間の間隔を、増加又は減少させて、複数のラインプロファイル7に基づいて合焦判定することができる。 Furthermore, the control device 14 can determine an appropriate visibility threshold V for focus determination for each spatial frequency from the line profile 7 obtained at a specific spatial frequency. The visibility threshold V for focus determination can be set manually or automatically. With this configuration, the control device 14 can increase or decrease the number of exposure lines 332 included in the exposure line group 333, and the spacing between multiple exposure line groups, to determine focus based on multiple line profiles 7.

以上のように、本実施形態では、光源21から出射された光を第一分光(Ls21)及び第二分光(Ls22)に分光する分光部材と、走査方向D1に分割された被撮像ライン611を複数含む被検眼Eの被観察領域61に、第一分光(Ls21)及び第二分光(Ls22)を導光する光スキャナ51と、被観察領域61からの戻り光Lbを検出可能であって、被撮像ライン611と結像位置を各々対応させた複数の露光ライン332を受光領域331に含むライン露光式の撮像素子33と、所定の露光ライン群333に含まれる複数の露光ライン332の露光動作を順次移動させる間、露光ライン群333の複数の露光ライン332に対応する複数の被撮像ライン611の領域に第一分光(Ls21)及び第二分光(Ls22)を照射して、露光ライン群333における露光ライン332の検出結果から合焦判定を行う制御装置14(制御部)と、を備える眼科装置1の構成について説明した。 As described above, in this embodiment, a spectroscopic member separates the light emitted from the light source 21 into a first spectral component (Ls21) and a second spectral component (Ls22), an optical scanner 51 guides the first spectral component (Ls21) and the second spectral component (Ls22) to the observed area 61 of the eye E, which includes a plurality of imaging lines 611 divided in the scanning direction D1, and a light receiving area 3 that can detect the reflected light Lb from the observed area 61 and has a plurality of exposure lines 332 whose imaging positions correspond to the imaging lines 611. The configuration of the ophthalmic apparatus 1 was described, comprising a line exposure type image sensor 33 included in 31, and a control device 14 (control unit) that, while sequentially moving the exposure operation of multiple exposure lines 332 included in a predetermined exposure line group 333, irradiates the regions of multiple target lines 611 corresponding to the multiple exposure lines 332 of the exposure line group 333 with first spectral (Ls21) and second spectral (Ls22) and performs focus determination from the detection results of the exposure lines 332 in the exposure line group 333.

このような構成により、照明光Lsを分割するための光学部材を少なくすることができ(例えば、照明系2に照明光Lsを分割するための光学部材として、分光部材22とは別途のプリズム等を設けなくてもよく)、合焦評価用の光源及び光路と、観察用の光源及び光路とを、光源21を含む照明系2により兼用することができる。そのため、簡易な構成により被検眼Eの観察と合焦評価が可能な眼科装置1及び合焦判定方法を構成することができる。 This configuration reduces the number of optical components needed to split the illumination light Ls (for example, it is not necessary to provide a separate prism or the like in addition to the spectral component 22 as an optical component for splitting the illumination light Ls in the illumination system 2). The illumination system 2, including the light source 21, can be used for both the light source and optical path for focus evaluation and the light source and optical path for observation. Therefore, an ophthalmic device 1 and a focus determination method that enable observation and focus evaluation of the eye E under examination can be constructed with a simple configuration.

以上で本開示の実施形態の説明を終えるが、本開示の態様は各実施形態に示した構成に限定されるものではない。 This concludes the description of the embodiments of this disclosure. However, the embodiments of this disclosure are not limited to the configurations shown in each embodiment.

例えば、本実施形態において、分光部材22の分割孔221は、図1のY方向に二箇所に離間して配置した構成について例示したが、光軸Aに対して偏心した位置に複数設けられていればよく、分割孔221の数及び配置についてその他の構成としてもよい。 For example, in this embodiment, the split holes 221 of the spectral member 22 are shown as being spaced apart in two locations in the Y direction of Figure 1. However, multiple split holes 221 may be provided at eccentric positions with respect to the optical axis A, and the number and arrangement of the split holes 221 may be in other configurations.

また、分光部材22、第一フォーカス光学系23、及び撮像素子33は、光軸A,B回りに同期しながら回転可能に構成してもよい。この場合、例えば、光スキャナ51の反射面を2軸方向(例えば、光軸に対して互いに垂直な2軸周りの方向)に任意に傾動可能な構成とすることができる。これにより、被観察部位である眼底Efに対する照明光Lsの走査方向を任意の方向に設定したり、スリット状の照明光Lsの向き(例えば、照明光Lsの長尺方向の向き)を変化させることができる。そのため、照射領域R1に対して異なる角度から照明光Lsを当てるなどして、被観察部位の観察をより高精度に行うことができる。なお、分光部材22、第一フォーカス光学系23、及び撮像素子33に加えて、眼底Efに対する照明光Lsの走査方向や照明光Lsの向きが変化するように、光スキャナ51を同期しながら回転(例えば、光スキャナ51の反射部(反射面)の法線周りに回転)させてもよい。 Furthermore, the spectroscopic member 22, the first focus optical system 23, and the image sensor 33 may be configured to rotate synchronously around optical axes A and B. In this case, for example, the reflective surface of the optical scanner 51 can be configured to be arbitrarily tilted in two axial directions (for example, directions around two axes perpendicular to each other with respect to the optical axis). This allows the scanning direction of the illumination light Ls relative to the fundus Ef, which is the area to be observed, to be set to an arbitrary direction, or the orientation of the slit-shaped illumination light Ls (for example, the orientation of the illumination light Ls in the longitudinal direction) to be changed. Therefore, by illuminating the illumination light Ls from different angles to the illumination area R1, observation of the area to be observed can be performed with higher precision. In addition to the spectroscopic member 22, the first focus optical system 23, and the image sensor 33, the optical scanner 51 may also be rotated synchronously (for example, around the normal to the reflective part (reflective surface) of the optical scanner 51) so that the scanning direction of the illumination light Ls relative to the fundus Ef and the orientation of the illumination light Ls change.

また、第一分光(Ls21)と、第二分光(Ls22)とを異なる特性の光に分光として照射してもよい。例えば、第一分光(Ls21)と第二分光(Ls22)の波長を異なるものとすることで、被観察対象に照射される第一分光(Ls21)と第二分光(Ls22)の上下位置に応じて被観察領域に対する装置本体11の遠近位置を評価することができる。制御装置14は、被観察領域である眼底Efに照射された照明光Lsのうち、第一分光(Ls21)が第二分光(Ls22)よりも下方に位置した場合(図6の正面図6B2)は被観察領域に対して装置本体11が遠いと判定でき、第一分光(Ls21)が第二分光(Ls22)よりも上方に位置した場合(図6の正面図6B3)は被観察領域に対して装置本体11が遠いと判定できる。なお、第一分光(Ls21)と第二分光(Ls22)の波長を異ならせる分光方法として、例えば、分光部材22の分割孔221に合焦評価時にのみダイクロイックフィルタを配置させることができる。 Furthermore, the first spectral spectrum (Ls21) and the second spectral spectrum (Ls22) may be irradiated as spectrally separated light with different characteristics. For example, by making the wavelengths of the first spectral spectrum (Ls21) and the second spectral spectrum (Ls22) different, the proximity position of the device body 11 relative to the observed area can be evaluated according to the vertical position of the first spectral spectrum (Ls21) and the second spectral spectrum (Ls22) irradiated onto the object under observation. The control device 14 can determine that the device body 11 is far from the observed area if the first spectral spectrum (Ls21) of the illumination light Ls irradiated onto the fundus Ef, which is the observed area, is located below the second spectral spectrum (Ls22) (front view 6B2 in Figure 6), and can determine that the device body 11 is far from the observed area if the first spectral spectrum (Ls21) is located above the second spectral spectrum (Ls22) (front view 6B3 in Figure 6). Furthermore, as a spectral method in which the wavelengths of the first spectral analysis (Ls21) and the second spectral analysis (Ls22) are different, for example, a dichroic filter can be placed in the divided hole 221 of the spectral element 22 only during focus evaluation.

1 眼科装置
2 照明系
3 受光系
6A1~6A3,6A5~6A7 側面図
6B1~6B9 正面図
7 ラインプロファイル
11 装置本体
12 操作部
13 表示部
14 制御装置
21 光源
22 分光部材
23 第一フォーカス光学系
24 第一照明系レンズ
25 第二照明系レンズ
31 第二フォーカス光学系
32 受光系レンズ
33 撮像素子
51 光スキャナ
52 光路分割部材
53 対物レンズ
61 被観察領域
71 取得画像
141 照明制御部
142 偏向制御部
143 撮像制御部
144 信号取得部
145 画像生成部
146 合焦評価部
147 繰り返し制御部
148 合焦制御部
149 表示制御部
221 分割孔
231 スリット孔
331 受光領域
331A 受光領域
332 露光ライン
333 露光ライン群
521 開口
611 被撮像ライン
711 明領域
712 暗領域
A 光軸
B 光軸
D1 走査方向
D2 露光方向
D3 検出方向
E 被検眼
Ea 前眼部
Ef 眼底
F1 タイミング特性
F2 タイミング特性
F3 変調伝達関数
I 光強度
Lb 戻り光
Ls 照明光
Ls11 第一成分光
Ls12 第一成分光
Ls21 第二成分光(第一分光)
Ls22 第二成分光(第二分光)
N ライン番号
R1 照射領域
S1 光路断面位置
V 可視度
f01~f03 空間周波数
p 第一検出値
v 第二検出値
1 Ophthalmic device 2 Illumination system 3 Light receiving system 6A1-6A3, 6A5-6A7 Side view 6B1-6B9 Front view 7 Line profile 11 Device body 12 Operation unit 13 Display unit 14 Control device 21 Light source 22 Spectroscopic member 23 First focus optical system 24 First illumination system lens 25 Second illumination system lens 31 Second focus optical system 32 Light receiving system lens 33 Image sensor 51 Optical scanner 52 Optical path splitting member 53 Objective lens 61 Observed area 71 Acquired image 141 Illumination control unit 142 Deflection control unit 143 Imaging control unit 144 Signal acquisition unit 145 Image generation unit 146 Focus evaluation unit 147 Repeat control unit 148 Focus control unit 149 Display control unit 221 Split hole 231 Slit hole 331 Light receiving area 331A Light receiving area 332 Exposure line 333 Exposure line group 521 Aperture 611 Imaging line 711 Bright area 712 Dark area A Optical axis B Optical axis D1 Scanning direction D2 Exposure direction D3 Detection direction E Eye under examination Ea Anterior segment Ef Fundus F1 Timing characteristic F2 Timing characteristic F3 Modulation transfer function I Light intensity Lb Reflection light Ls Illumination light Ls11 First component light Ls12 First component light Ls21 Second component light (first spectrum)
Ls22 Second component light (second spectroscopy)
N Line number R1 Irradiation area S1 Optical path cross-sectional position V Visibility f01-f03 Spatial frequency p First detection value v Second detection value

Claims (5)

光源から出射された光を第一分光及び第二分光に分光する分光部材と、
走査方向に分割された被撮像ラインを複数含む被検眼の被観察領域に、前記第一分光及び前記第二分光を導光する光スキャナと、
前記被観察領域からの戻り光を検出可能であって、前記被撮像ラインと結像位置を各々対応させた複数の露光ラインを受光領域に含むライン露光式の撮像素子と、
所定の露光ライン群に含まれる複数の前記露光ラインの露光動作を順次移動させる間、前記露光ライン群の複数の前記露光ラインに対応する複数の前記被撮像ラインの領域に前記第一分光及び前記第二分光を照射して、前記露光ライン群における前記露光ラインの検出結果から合焦判定を行う制御部と、
を備え、
前記制御部は、
前記検出結果として、前記撮像素子により取得された画像の検出方向に対する光強度を対応させたラインプロファイルを求め、
前記ラインプロファイルにおいて、光強度の頂部における第一検出値pと、底部における第二検出値vとを用いた可視度V=(p-v)/(p+v)が、予め定めた閾値以上であった場合に合焦していると判定する、
眼科装置。
A spectroscopic component that separates light emitted from a light source into a first spectral component and a second spectral component,
An optical scanner that guides the first spectral line and the second spectral line to the observation area of the eye to be examined, which includes multiple imaging lines divided in the scanning direction,
A line exposure type image sensor capable of detecting reflected light from the observed area, and including a plurality of exposure lines in the light-receiving area, each corresponding to the imaging line and the imaging position,
A control unit that, while sequentially moving the exposure operation of a plurality of exposure lines included in a predetermined group of exposure lines, irradiates the regions of the plurality of lines to be imaged corresponding to the plurality of exposure lines in the group of exposure lines with the first spectral and the second spectral, and performs a focus determination from the detection results of the exposure lines in the group of exposure lines,
Equipped with,
The control unit,
As a result of the detection, a line profile is obtained that corresponds the light intensity of the image acquired by the image sensor to the detection direction.
In the aforementioned line profile, focus is determined to be achieved when the visibility V = (p - v) / (p + v), which is calculated using the first detected value p at the peak of the light intensity and the second detected value v at the bottom, is equal to or greater than a predetermined threshold.
Ophthalmology equipment.
前記第一分光及び前記第二分光を検出させる前記露光ライン群は、間欠的に設けられる請求項1に記載の眼科装置。 The ophthalmic apparatus according to claim 1, wherein the group of exposure lines for detecting the first and second spectral components is provided intermittently. 前記制御部は、前記露光ライン群に含まれる前記露光ラインの数、及び、複数の前記露光ライン群間の間隔を、増加又は減少させて、複数の前記ラインプロファイルに基づいて合焦評価する請求項2に記載の眼科装置。 The ophthalmic apparatus according to claim 2, wherein the control unit increases or decreases the number of exposure lines included in the exposure line group and the spacing between the multiple exposure line groups, and evaluates focus based on the multiple line profiles. 光源から出射された光を第一分光及び第二分光に分光する分光部材と、
走査方向に分割された被撮像ラインを複数含む被検眼の被観察領域に、前記第一分光及び前記第二分光を導光する光スキャナと、
前記被観察領域からの戻り光を検出可能であって、前記被撮像ラインと結像位置を各々対応させた複数の露光ラインを受光領域に含むライン露光式の撮像素子と、
所定の露光ライン群に含まれる複数の前記露光ラインの露光動作を順次移動させる間、前記露光ライン群の複数の前記露光ラインに対応する複数の前記被撮像ラインの領域に前記第一分光及び前記第二分光を照射して、前記露光ライン群における前記露光ラインの検出結果から合焦判定を行う制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記露光ライン群に含まれる前記露光ラインの数、及び、複数の前記露光ライン群間の間隔を、増加又は減少させて、複数のラインプロファイルに基づいて合焦評価する眼科装置。
A spectroscopic component that separates light emitted from a light source into a first spectral component and a second spectral component,
An optical scanner that guides the first spectral line and the second spectral line to the observation area of the eye to be examined, which includes multiple imaging lines divided in the scanning direction,
A line exposure type image sensor capable of detecting reflected light from the observed area, and including a plurality of exposure lines in the light-receiving area, each corresponding to the imaging line and the imaging position,
A control unit that, while sequentially moving the exposure operation of a plurality of exposure lines included in a predetermined group of exposure lines, irradiates the regions of the plurality of lines to be imaged corresponding to the plurality of exposure lines in the group of exposure lines with the first spectral and the second spectral, and performs a focus determination from the detection results of the exposure lines in the group of exposure lines,
Equipped with,
The control unit is an ophthalmic device that increases or decreases the number of exposure lines included in the exposure line group and the spacing between the multiple exposure line groups, and evaluates focus based on multiple line profiles.
光源から出射された光を第一分光及び第二分光に分光する分光部材と、
走査方向に分割された被撮像ラインを複数含む被検眼の被観察領域に、前記第一分光及び前記第二分光を導光する光スキャナと、
前記被観察領域からの戻り光を検出可能であって、前記被撮像ラインと結像位置を各々対応させた複数の露光ラインを受光領域に含むライン露光式の撮像素子と、
を備える眼科装置における合焦判定方法であって、
所定の露光ライン群に含まれる複数の前記露光ラインの露光動作を順次移動させる間、前記露光ライン群の複数の前記露光ラインに対応する複数の前記被撮像ラインの領域に前記第一分光及び前記第二分光を照射して、前記露光ライン群における前記露光ラインの検出結果から合焦判定を行う工程を含み、
制御部は、
前記検出結果として、前記撮像素子により取得された画像の検出方向に対する光強度を対応させたラインプロファイルを求め、
前記ラインプロファイルにおいて、光強度の頂部における第一検出値pと、底部における第二検出値vとを用いた可視度V=(p-v)/(p+v)が、予め定めた閾値以上であった場合に合焦していると判定する、
合焦判定方法。
A spectroscopic component that separates light emitted from a light source into a first spectral component and a second spectral component,
An optical scanner that guides the first spectral line and the second spectral line to the observation area of the eye to be examined, which includes multiple imaging lines divided in the scanning direction,
A line exposure type image sensor capable of detecting reflected light from the observed area, and including a plurality of exposure lines in the light-receiving area, each corresponding to the imaging line and the imaging position,
A method for determining focus in an ophthalmic device equipped with the following features:
The process includes sequentially moving the exposure operation of a plurality of exposure lines included in a predetermined group of exposure lines, irradiating the regions of the plurality of lines to be imaged corresponding to the plurality of exposure lines in the group of exposure lines with the first spectral and the second spectral, and performing a focus determination from the detection results of the exposure lines in the group of exposure lines,
The control unit is
As a result of the detection, a line profile is obtained that corresponds the light intensity of the image acquired by the image sensor to the detection direction.
In the aforementioned line profile, focus is determined to be achieved when the visibility V = (p - v) / (p + v), which is calculated using the first detected value p at the peak of the light intensity and the second detected value v at the bottom, is equal to or greater than a predetermined threshold.
Focus determination method.
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