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JPS5811500B2 - Amorphous metal alloy with high crystallization temperature and high hardness value - Google Patents
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JPS5811500B2 - Amorphous metal alloy with high crystallization temperature and high hardness value - Google Patents

Amorphous metal alloy with high crystallization temperature and high hardness value

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JPS5811500B2
JPS5811500B2 JP7714675A JP7714675A JPS5811500B2 JP S5811500 B2 JPS5811500 B2 JP S5811500B2 JP 7714675 A JP7714675 A JP 7714675A JP 7714675 A JP7714675 A JP 7714675A JP S5811500 B2 JPS5811500 B2 JP S5811500B2
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crystallization temperature
hardness
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ランジヤン・レイ
リー・エリオツト・タナー
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ARAIDO CORP
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    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C45/00Amorphous alloys
    • C22C45/10Amorphous alloys with molybdenum, tungsten, niobium, tantalum, titanium, or zirconium or Hf as the major constituent

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は非晶質金属合金組成物、特に実質量の元素Mo
、T、Ta及びNbの−又はそれ以上を含む組成物に関
し、これは高い結晶化温度、高い硬度値の両方を示す。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides amorphous metal alloy compositions, particularly those containing a substantial amount of the element Mo.
, T, Ta and Nb, which exhibit both high crystallization temperatures and high hardness values.

研究によれば成る種の合金組成物について固体非晶質金
属を得ることの可能であることが示されており、ここに
用語「非晶質」とは「固体の非晶質」を意味する。
Research has shown that it is possible to obtain solid amorphous metals for certain alloy compositions, and the term "amorphous" herein means "solid amorphous". .

非晶質物質は一般に非結晶性またはガラス状物質を特徴
とする、即ちその物質は実質的に何らの長い範囲の秩序
を持たない。
Amorphous materials are generally characterized as non-crystalline or glassy materials, ie, the materials have virtually no long-range order.

非晶質物質と結晶質物質との区別では一般にX線回折測
定を使うのが適当である。
Generally, it is appropriate to use X-ray diffraction measurements to distinguish between amorphous and crystalline substances.

更に透過電子顕微写真法および電子回折を無定形および
結晶状態の区別に使うことができる。
Additionally, transmission electron microscopy and electron diffraction can be used to distinguish between amorphous and crystalline states.

非晶質金属はX線回折像でその強さが回折角と共にゆる
やかに変る。
In X-ray diffraction images of amorphous metals, the intensity changes gradually with the diffraction angle.

この様な像は液体や通常の窓ガラスの回折像に定性的に
類似している。
Such an image is qualitatively similar to the diffraction image of a liquid or an ordinary window glass.

一方結晶質金属では回折像の強さが回折角と共に急速に
変る。
On the other hand, in crystalline metals, the intensity of the diffraction pattern changes rapidly with the diffraction angle.

これらの非晶質金属は準安定状態にある。These amorphous metals are in a metastable state.

充分高温度に加熱するとそれは結晶化熱の発生と共に結
晶化し、そして回折像はガラス状または無定形特性をも
つものから結晶性特性をもつものへ変る。
When heated to a sufficiently high temperature, it crystallizes with the generation of heat of crystallization, and the diffraction pattern changes from having a glassy or amorphous character to having a crystalline character.

非晶質および結晶状態の二相混合物である金属を造るこ
とは可能であり、その相対割合は全部結晶性のものから
全部非晶質のものへ変り得る。
It is possible to create metals that are two-phase mixtures of amorphous and crystalline states, the relative proportions of which can vary from entirely crystalline to entirely amorphous.

ここで使う様な非晶質金属とは主として非晶質である金
属をいう、即ち少くとも50%が非晶質であって然し介
在するクリスタリットとして存在する少部分の材料をも
ってもよい。
Amorphous metal, as used herein, refers to a metal that is primarily amorphous, ie, at least 50% amorphous, but may have a small portion of material present as intercalated crystallites.

適当な組成物に対しては適当な処理で非晶質状態の金属
を生じるだらう。
For appropriate compositions, appropriate processing will yield the metal in an amorphous state.

一つの代表的な操作は溶融合金を銅またはアルミニウム
の様な固体金属基質と接触して薄(拡がらせて溶融金属
の熱を急速に基質の方に失わせるのである。
One typical operation involves contacting the molten alloy with a solid metal substrate, such as copper or aluminum, and spreading it out so that the heat of the molten metal is rapidly lost to the substrate.

合金が厚さ約0.002インチに拡げられると106℃
/秒程度の冷却速度が達成されるだらう。
106°C when the alloy is expanded to a thickness of about 0.002 inches
A cooling rate on the order of 1/sec can be achieved.

例えばR,C,ルール(マテリアルズ・サイエンス・ア
ンド・エンジニアリング、第1巻、313−319ペー
ジ、1967年)が冷却速度の溶融金属の処理条件への
依存性を論じているのを参照されたい。
See, e.g., R. C. Rule (Materials Science and Engineering, Vol. 1, pp. 313-319, 1967), discussing the dependence of cooling rate on molten metal processing conditions. .

適当な組成の合金に対しかつ充分高い冷却速度に対して
はこの様な処理が非晶質金属を生じる。
For alloys of appropriate composition and for sufficiently high cooling rates, such processing yields amorphous metals.

適当な高冷却速度を与える任意の方法を使うことができ
る。
Any method that provides a suitably high cooling rate can be used.

非晶質金属を造るのに使える操作の例示的な例にはH,
S、チャン及びC,E、ミラー(レビュー・オブ・サイ
エンテイフイク・インストルメンツ、1237−123
8ページ、1970年)が書いている様な回路二重ロー
ラー、R,ポンド・ジュニア及びR,マデイン(トラン
ザクションズ・オブ・ザ・メタル・ソサイエテイ、AI
ME、第245巻、2475−2476ページ、196
9年)が書いている様な回路円柱法がある。
Illustrative examples of operations that can be used to create amorphous metals include H,
S. Chan and C.E. Miller (Review of Scientific Instruments, 1237-123)
8 pages, 1970), R. Pond Jr. and R. Madein (Transactions of the Metal Society, A.I.)
ME, Volume 245, Pages 2475-2476, 196
There is a circuit cylindrical method as written by 9th grade).

実質量のFe、Ni、Co、V及びCr元素の1または
それ以上を含む無定形合金がH,S、チャンとC,E、
ミラーの1972年12月26日付米国特許出願第31
8146号に記載されている。
Amorphous alloys containing substantial amounts of one or more of the elements Fe, Ni, Co, V and Cr are H, S, Chan, C, E,
Miller, U.S. Patent Application No. 31, dated December 26, 1972
No. 8146.

この様な合金は種々の用途に対し全(有用である。Such alloys are useful for a variety of applications.

然しこの様な合金は約425°〜550℃の結晶化温度
および約600〜750DPH(ダイヤモンド角錐硬度
)の硬度により特徴づけられる。
However, such alloys are characterized by a crystallization temperature of about 425 DEG to 550 DEG C. and a hardness of about 600 to 750 DPH (diamond pyramid hardness).

本発明によれば、約650°〜975℃の範囲の結晶化
温度の高い熱安定性と、約800〜1400DPHの範
囲の値の高い硬度とをもつ非晶質合金が記載される。
According to the invention, an amorphous alloy is described which has high thermal stability with crystallization temperatures in the range of about 650 DEG to 975 DEG C. and high hardness with values in the range of about 800 to 1400 DPH.

次の=般的組成を有するものがこれらの性質をもち、金
属−半金属系と呼ばれ一般式RrM8Xtで表わすこと
ができる。
Those having the following general composition have these properties and are called metal-metalloid systems and can be represented by the general formula RrM8Xt.

ここにRは元素モリブデン、タングステン、タンタル及
びニオブの少くとも一つであり、Mは元素ニッケル、ク
ロム、鉄、バナジン、アルミニウム及びコバルトの少く
とも一つであり、Xは元素燐、はう素、炭素及びけい素
の少(とも一つであり、そしてrは約40〜60原子%
の範囲にあり、Sは約20〜40原子%の範囲にありt
は約15〜25原子%の範囲にある。
Here, R is at least one of the elements molybdenum, tungsten, tantalum, and niobium, M is at least one of the elements nickel, chromium, iron, vanadine, aluminum, and cobalt, and X is the element phosphorus, boron. , carbon and silicon, and r is about 40 to 60 atom%
S is in the range of about 20 to 40 atom % and t
is in the range of about 15 to 25 atomic percent.

好ましい組成はrが約45〜55原子%、Sが約25〜
35原子%、tが約18〜22原子%の範囲にある組成
である。
The preferred composition is about 45 to 55 atomic % r and about 25 to 55 atomic % S.
35 atom %, and t is in the range of about 18 to 22 atom %.

金属−半金属組成物の結晶化温度は約800°〜975
℃の範囲にあり硬度は約1000〜1400DPHの範
囲にある。
The crystallization temperature of the metal-metalloid composition is about 800° to 975°
℃ range, and the hardness is in the range of about 1000 to 1400 DPH.

この様な金属ガラスは、金属−半金属であれ金属−金属
であれ、高温(約500°〜600℃)における耐熱用
途に特に有用である。
Such metallic glasses, whether metal-metalloid or metal-metal, are particularly useful in heat-resistant applications at high temperatures (approximately 500° to 600°C).

可能性ある用途としてはこれらの材料の成る種の高温電
解槽における電極として及び複合建造材料における惣化
繊維としての使用がある。
Possible applications include the use of these materials as electrodes in high temperature electrolyzers and as soluted fibers in composite construction materials.

A、金属−半金属組成物 種々の金属−半金属系中の最も液体急冷したガラス状組
成物は約425°〜550℃の結晶化温度を示していた
A. Metal-Metalloid Compositions Most liquid-quenched glassy compositions of the various metal-metalloid systems exhibited crystallization temperatures of about 425° to 550°C.

本発明によれば一般式RrM8Xtにより代表される組
成物は約800゜〜975℃の範囲の結晶化温度をもつ
According to the invention, the composition represented by the general formula RrM8Xt has a crystallization temperature in the range of about 800° to 975°C.

式中Rは耐火金属Mo1W、Ta、Nbの少くとも一つ
であり、Mは金属Ni、Cr1Fe1V、AI、C。
In the formula, R is at least one of refractory metals Mo1W, Ta, and Nb, and M is metal Ni, Cr1Fe1V, AI, and C.

の少(も一つであり、Xは半金属P、B、C。(is also one, and X is a metalloid P, B, C.

Siの少くも一つである。At least one of Si.

上記のすべての金属の純度は正常な商業的実施で見出さ
れるものである。
The purity of all metals listed above are those found in normal commercial practice.

Mo基礎の組成物に対しては非晶質合金は少(とも約2
5原子%のNi5Cr、Fe、V又はAIを含む系にお
いて見出される。
For Mo-based compositions, there are few amorphous alloys (approximately 2
Found in systems containing 5 at.% Ni5Cr, Fe, V or AI.

代表的な組成は原子%でMo52CrlOFelONi
3P12B8及びMo40Cr25Fe15B8C7S
i5である。
Typical composition is Mo52CrlOFelONi in atomic %
3P12B8 and Mo40Cr25Fe15B8C7S
It is i5.

この様な非晶質合金、即ちガラスは示差熱解析(DTA
)検査で明かにされる様に高い熱安定性を保持する。
Such amorphous alloys, that is, glasses, are subjected to differential thermal analysis (DTA).
) Retains high thermal stability as demonstrated by testing.

最高結晶化に対する温度Tcはガラス試料をゆるやかに
加熱して特殊な温度(結晶化温度)で過剰の熱が発生す
るか否か或は特殊な温度範囲(ガラス転移温度)を越え
ると過剰の熱が吸収されるか否かに注目することにより
DTAから正確に決定することができる。
The temperature Tc for maximum crystallization is determined by whether excessive heat is generated at a special temperature (crystallization temperature) by gently heating the glass sample, or whether excessive heat is generated when the glass sample exceeds a special temperature range (glass transition temperature). It can be accurately determined from DTA by noting whether or not it is absorbed.

一般的にいって、あまりよく限定されないガラス転移温
度は最低の即ち第1の結晶化最高点Telより約50°
以内下にあると考えられ、そして慣用の様にそれ以上の
温度では粘度が約1013〜1014ポイズの範囲にな
る温度範囲を包括する。
Generally speaking, the less well defined glass transition temperature is approximately 50° below the lowest or first crystallization peak Tel.
It encompasses a temperature range above which, as is customary, the viscosity is in the range of about 10 13 to 10 14 poise.

約25〜32原子%のNi、Cr、Fe、Al(1種で
も合同でも)に加え約12原子%のP、約8原子%のB
をもつ種々のMO基礎のガラスは約800°〜900℃
の範囲で結晶化する。
Approximately 25 to 32 at.% of Ni, Cr, Fe, Al (either singly or in combination), plus approximately 12 at.% of P, and approximately 8 at.% of B.
Various MO-based glasses with a temperature of about 800° to 900°C
crystallizes in the range of

PをCで或はSiを8原子%までのCで置換えるとT。When P is replaced with C or Si is replaced with C up to 8 atomic %, T.

は約40°〜50℃だけ上昇する。Moを部分的にWで
置換することにより更に熱的安定が達成される。
increases by about 40° to 50°C. Further thermal stability is achieved by partially replacing Mo with W.

約8〜20原子%のWを含む合金は約900〜950℃
の範囲の結晶化温度をもつ。
Alloys containing about 8 to 20 atomic percent W are about 900 to 950°C
It has a crystallization temperature in the range of .

高いTgガラス形成組成物がW基礎の合金にも在る。High Tg glass-forming compositions also exist in W-based alloys.

代表的にはこれらの合金は約15〜25原子%のMO,
約25原子%のFe1Ni及びCr1並びに約20原子
%のP、B、C及びSiを含有する。
Typically these alloys contain about 15 to 25 atomic percent MO,
It contains about 25 atom % Fe1Ni and Cr1 and about 20 atom % P, B, C and Si.

これらの合金ガラスは著しく安定で950°を越える温
度で結晶化する。
These alloy glasses are extremely stable and crystallize at temperatures above 950°.

例えば一つのガラス組成物 W4oMo15Cr15Fe5Nt5P6B6C5Si
13はDTAの追跡で2個の結晶化頂点960°及び9
80℃を示す。
For example, one glass composition W4oMo15Cr15Fe5Nt5P6B6C5Si
13 shows two crystallization vertices 960° and 9 in DTA tracking.
Indicates 80°C.

然しMo含量が40原子%まで増加するにつれてそれは
益々ガラスを形成するのに困難になる。
However, as the Mo content increases to 40 atom %, it becomes increasingly difficult to form a glass.

ガラスは溶融物を約105〜b 合で冷却することによって形成される。Glass melts about 105~b It is formed by cooling the mixture.

平板急冷の箔や急冷連結リボン、針金等を造るためには
当技術で周知の様に種々の方法が利用できる9前記の様
な高いTg性質を示すガラスはまた高!結晶性または部
分的結晶性試料ニ比べ高い延性と高い耐蝕性を示す。
A variety of methods are available, as known in the art, for producing flat plate quenched foils, quenched connecting ribbons, wires, etc. 9 Glasses exhibiting high Tg properties such as those described above also have high Tg properties. It exhibits higher ductility and higher corrosion resistance than crystalline or partially crystalline samples.

その上これらの非晶質合金はかなり高い硬度値をもつ。Moreover, these amorphous alloys have fairly high hardness values.

代表的にいえばMo−及びW−基礎のガラスについての
硬度は約1000〜1400DPHの範囲である。
Typically, the hardness for Mo- and W-based glasses ranges from about 1000 to 1400 DPH.

これは実質的のFeまたはFe−Niを含むが耐火性金
属は何ら実質的な量を含まない金属−半金属組成の非晶
質合金に匹敵するものである。
This is comparable to amorphous alloys of metal-metalloid composition containing substantial Fe or Fe-Ni but no substantial amount of refractory metal.

これら後者の合金に対しては硬度は通常的600〜75
0DPHである。
For these latter alloys, hardness is typically 600-75
It is 0DPH.

第1図に示したのはR−M−X系の三元組成図であり、
ここにRはMo1W、Ta及び/又はMb、MはNi1
Cr、Fe1V、AI及び/又はCo、XはP、、B、
C及び/又はSiである。
Figure 1 shows the ternary composition diagram of the R-M-X system.
Here R is Mo1W, Ta and/or Mb, M is Ni1
Cr, Fe1V, AI and/or Co, X is P, ,B,
C and/or Si.

a−b−c−d−e−f−aで示した多角形区域はガラ
ス形成区域を包囲しそれはまた高Tg及び高硬度をもつ
組成を包含する。
The polygonal area designated a-b-c-d-e-fa surrounds the glass-forming area, which also includes compositions with high Tg and high hardness.

この組成範囲の外側は実質程度の難定形性を得ないか又
は有利な性質が許容できない程に減少するかである。
Outside this composition range either no substantial degree of formability is obtained or the advantageous properties are unacceptably reduced.

この多角形区域の組成境界は次の如く記載される、即ち
rは約40〜60原子%の範囲にあり、Sは約20〜4
0原子%0范囲にあり、tは約15〜25原子%の範囲
にある。
The composition boundaries of this polygonal area are described as follows: r is in the range of about 40-60 atomic percent, S is about 20-4
0 atomic % range, and t is in the range of about 15 to 25 atomic %.

Tg及び硬度の最高値&場g−hで表わされる組成で形
成され、即ちそこではrは約45〜55原子%、Sは約
25〜35原子%、tは約18〜22原子%(もつと特
定的にはtは約20原子%)の範囲にある。
It is formed with a composition expressed by the maximum value of Tg and hardness & field gh, where r is about 45 to 55 at%, S is about 25 to 35 at%, and t is about 18 to 22 at% (with and specifically t is in the range of about 20 atomic %).

従って後者の組成範囲が好適なものである。Therefore, the latter composition range is preferable.

最大の利益はRがMo及び/又はWでMがNi。The maximum benefit is when R is Mo and/or W and M is Ni.

Fe及び/又はCrである組成に対し得られる。Obtained for compositions that are Fe and/or Cr.

処施例 八、金属−半金属組成物 高温度反応性合金の溶融および液体急冷用の空気電弧−
平板装置を使った。
Example 8: Air arc for melting and liquid quenching of metal-metallic compositions and high-temperature reactive alloys.
A flat plate device was used.

この装置は従来の電弧溶融ボタン式炉を不活性雰囲気下
での合金の「坏ンマーと金敷」型平板急冷ができるよう
に改造したものであるが、これは4インチの拡散ポンプ
系に連結した不銹鋼基を包含する。
This equipment is a conventional electric arc melting button furnace modified to perform "mar-and-anvil" plate quenching of alloys in an inert atmosphere, coupled to a 4-inch diffusion pump system. Includes stainless steel base.

急冷は、その室の床上に平面状の水冷された銅製炉床と
溶融合金上に構えた空気駆動の銅塊製ハンマーとを備え
ることにより遂行される。
Quenching is accomplished by equipping the chamber with a planar water-cooled copper hearth on the floor and an air-driven copper ingot hammer positioned over the molten metal.

慣用の様に電弧溶融は室の頂部を貫通して挿入されたタ
ングステンの先端を備えた銅製軸を負にバイアスしかつ
室の底を正にバイアスすることにより完遂される。
Conventionally, arc melting is accomplished by negatively biasing a tungsten-tipped copper shaft inserted through the top of the chamber and positively biasing the bottom of the chamber.

Pな含有する合金は粉成分を焼結し次いで電弧溶融して
均一化することにより造られた。
The P-containing alloy was made by sintering the powder components and then homogenizing them by electric arc melting.

すべての他の合金は成分元素の反復電弧溶融により直接
造られた。
All other alloys were made directly by repeated electric arc melting of the constituent elements.

唯一個の合金ボタン(約200mg)が再溶融されそれ
から溶融池の直上に置かれたハンマーで厚さ約0.00
4インチの箔に「衝撃−急冷」された。
A single alloy button (approximately 200 mg) was remelted and then melted to a thickness of approximately 0.00 mm with a hammer placed directly above the molten pool.
"Shock-quenched" into 4 inch foil.

この方法で得られた冷却速度は約105〜b 箔はX線廻折とDTAで無定彩度が試験された。The cooling rate obtained with this method is about 105~b The foil was tested for achromatic saturation by X-ray diffraction and DTA.

ハンマーの直下の衝撃急冷された箔は固化後可塑性変形
を受けているかも知れない。
The shock-quenched foil directly under the hammer may undergo plastic deformation after solidification.

然しlンマーからはみ出した溶融物から形成された一部
の箔は変形されてなく従って硬度その他関連試験のため
に適した。
However, some of the foils formed from the melt that protruded from the thermometer were undeformed and were therefore suitable for hardness and other related tests.

硬度は対向面間に136°の角度を含む底面正方形の角
錐形のダイヤモンドよりなるビッカース形圧子を使って
ダイヤモンド角錐法によって測定した。
The hardness was measured by the diamond pyramid method using a Vickers type indenter made of pyramidal diamond with a square bottom including an angle of 136° between opposing surfaces.

種々の金属−半金属組成物についての結晶化温度および
硬度値を第1表に示す。
Crystallization temperatures and hardness values for various metal-metalloid compositions are shown in Table 1.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は金属−半金属系R−M−Xの原子%で表わした
三元組成図で、ここにRは元素Mo、W、Ta、Tbの
1またはそれ以上、Mは元素Ni1CrsFesVsA
l、Coの1またはそれ以上、Xは元素P、B、C,S
iの1またはそれ以上である。
Figure 1 is a ternary composition diagram expressed in atomic % of the metal-metalloid system R-M-X, where R is one or more of the elements Mo, W, Ta, and Tb, and M is the element Ni1CrsFesVsA.
1 or more of Co, X is the element P, B, C, S
i is 1 or more.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1式 %式% (ただし、Rは、モリブデン、タングステンおよびニオ
ブからなる群より選ばれる少なくとも1つの元素であり
、Mはニッケル、クロム、鉄、およびアルミニウムから
なる群より選ばれる少な(とも1つの元素であり、Xは
燐、はう素、炭素およびけい素からなる群より選ばれる
少なくとも1つの元素であり、rは40〜60原子%で
あり、Sは20〜40原子%であり、tは15〜25原
子%であり、rとSとtの合計は100である。 )で表わされる組成を有し、かつ800℃〜975℃の
範囲内の結晶化温度と1000〜1400DPH(ダイ
ヤモンド角錐硬度)の範囲内の硬度を有することを特徴
とする、少なくとも50%が非晶質であり、高い結晶化
温度および高い硬度を有する非晶質金属合金。
[Claims] 1 formula % formula % (wherein R is at least one element selected from the group consisting of molybdenum, tungsten and niobium, and M is selected from the group consisting of nickel, chromium, iron and aluminum) (both are one element; %, t is 15 to 25 atomic %, and the sum of r, S, and t is 100), and has a crystallization temperature within the range of 800 ° C to 975 ° C. Amorphous metal alloy at least 50% amorphous, with high crystallization temperature and high hardness, characterized in that it has a hardness in the range of 1000-1400 DPH (diamond pyramid hardness).
JP7714675A 1974-08-07 1975-06-24 Amorphous metal alloy with high crystallization temperature and high hardness value Expired JPS5811500B2 (en)

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