JPS5811B2 - reflex camera - Google Patents
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- JPS5811B2 JPS5811B2 JP49061542A JP6154274A JPS5811B2 JP S5811 B2 JPS5811 B2 JP S5811B2 JP 49061542 A JP49061542 A JP 49061542A JP 6154274 A JP6154274 A JP 6154274A JP S5811 B2 JPS5811 B2 JP S5811B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はペンタ構体の入射面から入射し、2つのペンタ
ルーフ面と前側反射面によって反射され出射面の上部か
ら出射される光と、ペンタ構体の入射面から入射し2つ
のペンタルーフ面と前側反射面によって反射され再びペ
ンタルーフ面に向けられこのペンタルーフ面によって出
射面の上部に指向される光との両方を測光するレフレッ
クスカメラの測光装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention uses light that enters from the entrance surface of the penta structure, is reflected by the two penta roof surfaces and the front reflecting surface, and exits from the upper part of the exit surface; This invention relates to a photometry device for a reflex camera that measures both two pentaloof surfaces and light that is reflected by a front reflective surface, directed back to the pentaloof surface, and directed to the upper part of an output surface by the pentaloof surface.
ここに於いて、ペンタ構体とは少なくとも入射面、2つ
のペンタルーフ反射面、前側反射面及び出射面を有する
光学素子である。Here, the penta-structure is an optical element having at least an entrance surface, two penta-roof reflection surfaces, a front reflection surface, and an exit surface.
即ち、この素子はプラスチック或はガラスブロックで形
成されたペンタルーフプリズム又は平面ガラス等の反射
鏡により中空状に形成された素子等である。That is, this element is a pentalof prism formed of a plastic or glass block, or an element formed in a hollow shape by a reflecting mirror such as a flat glass.
又、一般にペンタ構体はガラスブロックからできている
為その入射面から入射し2つのペンタルーフ面と前側反
射面によって反射され再びペンタルーフ面に向けられ、
このペンタルーフ面によって出射面の上部に反射指向さ
れる光は該出射面に全反射角で入射するため出射面によ
って全反射されてしまう為、本来は出射面から出て来な
い。In addition, since the penta structure is generally made of a glass block, the light enters from the entrance surface, is reflected by the two penta roof surfaces and the front reflecting surface, and is directed back to the penta roof surface.
The light that is reflected and directed to the upper part of the output surface by this pentalof surface is incident on the output surface at a total reflection angle and is totally reflected by the output surface, so that it does not originally come out from the output surface.
本発明の装置は、この通常ペンタ構体の出射面によって
全反射されてしまうこの光を出射面を透過させる手段、
例えば、出射面とほぼ同一出射面の上部に密着したかそ
れ以上の屈折率を有する透光ブロックにより出射面を透
過させ、受光素子で測光することを特徴とする。The device of the present invention includes a means for transmitting this light, which would normally be totally reflected by the exit surface of the pentagonal structure, through the exit surface;
For example, it is characterized in that the light is transmitted through the output surface by a light-transmitting block that is in close contact with the upper part of the output surface, which is substantially the same as the output surface, or has a refractive index higher than that, and the light is measured by a light-receiving element.
また更に、本発明の装置組2の特徴は前記手段によって
出射面を透過した光を測光すると共に、更にペンタ構体
の入射面より入射して2つのペンタルーフ面及び前側反
射面により反射され前記出射面の上部から出射される光
を測光することを特徴とする。Furthermore, the feature of the device set 2 of the present invention is that the light transmitted through the exit surface is photometered by the above-mentioned means, and furthermore, the light that enters from the entrance surface of the penta structure is reflected by the two penta roof surfaces and the front reflection surface, and then the light is reflected by the two penta roof surfaces and the front reflecting surface. The feature is that the light emitted from the top of the surface is photometered.
又、本発明の装置の特徴は上記の2つの光を1つの受光
素子上に重ね合せて測光することを特徴とする。Further, the apparatus of the present invention is characterized in that the above two lights are superimposed on one light receiving element and photometered.
本発明の装置の更の特徴は後述の実施例の説明により明
らかになるであろう。Further features of the device of the invention will become clear from the description of the embodiments below.
次いで、この発明の装置の特徴を公知の測光装置と比較
して説明する。Next, the features of the device of the present invention will be explained in comparison with known photometric devices.
ペンタ構体の入射面から入射し、2つのペンタルーフ面
と前側反射面で反射しペンタルーフ面に向けられる光を
測光することは知られている。It is known to photometer the light that enters from the entrance surface of the penta-roof structure, is reflected by the two penta-roof surfaces and the front reflective surface, and is directed toward the penta-roof surface.
しかしながらこの方法はペンタルーフ面に透過口を設け
、この透過口からの光を測光している。However, in this method, a transmission aperture is provided on the pentaloof surface, and the light from this aperture is photometered.
この様な方法はこの透過口をアイピースに指向される光
が反射される部分外のペンタルーフ面に設けなければな
らない。Such a method requires that the transmission aperture be provided in the pentalof surface outside of the area where the light directed to the eyepiece is reflected.
何故なら、アイピース方向に指向される光が反射される
部分に透過口を設けたならばアイピース方向に向うべき
光がこの透過口を通過してアイピース方向に到らなくな
ってしまうからである。This is because if a transmission aperture is provided in a portion where light directed toward the eyepiece is reflected, light that should be directed toward the eyepiece will pass through the transmission aperture and not reach the eyepiece.
従って、ファインダーの視野に悪い影響を与えないで透
過口を設けるためには比較的ルーフ面を大きくしなけれ
ばならないし、又、逆にアイピース方向に指向される光
に影響を与えずして、アイピース方向に向うべき光が反
射するダハ面の反射部分に前側反射面から来る光を取り
出すこさは不可能である。Therefore, in order to provide a transmission aperture without adversely affecting the field of view of the finder, the roof surface must be relatively large, and conversely, the roof surface must be made relatively large without affecting the light directed toward the eyepiece. It is impossible to extract the light coming from the front reflective surface to the reflective portion of the roof surface, where the light directed toward the eyepiece is reflected.
しかしながら、本発明の装置に於いてはペンタルーフ面
から直接前記光を取り出していないため、何等アイピー
スに向う光に影響を与えない。However, in the device of the present invention, since the light is not extracted directly from the pentaloof surface, it does not affect the light directed toward the eyepiece in any way.
また、ピント面に形成された像面の2つの部分からの光
を測光することは知られている。It is also known to photometer the light from two parts of the image plane formed on the focal plane.
例えば、ペンタ構体の出射面の左右に2つの受光素子を
配置して像面の中心の左右の部分からの光を受光する方
法である。For example, there is a method in which two light-receiving elements are arranged on the left and right sides of the output surface of the pentagonal structure to receive light from the left and right parts of the center of the image plane.
しかしながら、ペンタ構体の出射面の左右には受光素子
を配置する余裕が有るが上下方向には無い。However, although there is room for arranging light-receiving elements on the left and right sides of the output surface of the pentagonal structure, there is no space in the vertical direction.
もつとも、ペンタ構体の出射面を大きくすれば上下方向
に2つの受光素子を設けることは可能であるが、この方
法ではペンタ構体が大きくなってしまう。Although it is possible to provide two light-receiving elements in the vertical direction by increasing the output surface of the penta structure, this method increases the size of the penta structure.
しかしながら、本発明の装置によればペンタルーフ面で
反射し、プリズム等の光学手段によって出射面を透過さ
せられた光を受光素子によって受けているため、ペンタ
構体の出射面を上下方向に大きくすることなく、像面の
中心の上下部からの光を測光することが可能である。However, according to the device of the present invention, since the light receiving element receives the light that is reflected by the penta roof surface and transmitted through the output surface by an optical means such as a prism, the output surface of the penta structure is enlarged in the vertical direction. It is possible to photometer the light coming from above and below the center of the image plane without any interference.
尚、本発明を適用した測光装置は像面の上下方向2個所
から光を測光するのみならず、他の部分からの光、例え
ば、左右の部分からの光を測光することも併用して良い
。Note that the photometry device to which the present invention is applied does not only measure light from two positions in the upper and lower directions of the image plane, but may also be used to measure light from other parts, for example, light from left and right parts. .
また、第3の特徴により、本発明の装置は1つの受光素
子で像面の中心上下部からの光を測光可能となる。Further, due to the third feature, the apparatus of the present invention can photometer light from above and below the center of the image plane using one light receiving element.
従って、本発明の目的はペンタ構体の入射面から入射し
て2つのルーフ面と前側反射面を反射して再びルーフ面
に向って、該ルーフ面によって反射され出射面に指向さ
れた光(この光は本来的に出射面によって全反射される
。Therefore, the object of the present invention is to reduce the amount of light that enters from the entrance surface of the pentagonal structure, reflects off the two roof surfaces and the front reflective surface, and returns to the roof surface, and is reflected by the roof surface and directed toward the exit surface. Light is inherently totally reflected by the exit surface.
)を測光するレフレックスカメラの測光装置を提供する
ことである。) to provide a photometry device for a reflex camera.
そして、この目的はペンタ構体の出射面に前記本来的に
全反射する光を透過させる手段、例えば゛、プリズム等
を密着させ、この手段によって前記本来的に全反射する
光を受光素子に導ひくことによってコンパクトなペンタ
構体でファインダー視野確認と同時に任意の分布の測光
が可能となった。The purpose of this is to closely attach a means for transmitting the light that is originally totally reflected, such as a prism, to the exit surface of the pentagonal structure, and use this means to guide the light that is originally totally reflected to the light receiving element. This makes it possible to check the viewfinder field of view and measure light of any distribution at the same time with a compact penta structure.
以下、本発明のレフレックスカメラの測光装置を添付し
た図面に基づいて説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A photometric device for a reflex camera according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
第1,3図は本発明の測光装置の主要部を示す図で、第
1図に於いてはペンタ構体が展開図として示めされてい
る。1 and 3 are diagrams showing the main parts of the photometric device of the present invention, and FIG. 1 shows the pentagonal structure as an exploded view.
図中、1はピント板である。このピント板に被写体の像
が対物レンズによって形成される。In the figure, 1 is a focusing plate. An image of the subject is formed on this focusing plate by an objective lens.
2はコンデンサーレンズである。3はペンタ構体である
。2 is a condenser lens. 3 is a penta structure.
このペンタ構体は入射面4、ペンタルーフ面5,6、前
側反射面1、出射面8を少なくとも有している。This penta structure has at least an entrance surface 4, penta roof surfaces 5 and 6, a front reflection surface 1, and an exit surface 8.
9は出射面8の上部に設けられた光学手段、例えばガラ
スブロックである。Reference numeral 9 denotes an optical means provided above the output surface 8, such as a glass block.
このガラスブロック9の屈折率は出射面の内部の屈折率
とほぼ等しいことが好ましい。It is preferable that the refractive index of this glass block 9 is approximately equal to the refractive index of the inside of the exit surface.
10はプリズムブロック9に設けられた全反射面である
。10 is a total reflection surface provided on the prism block 9.
11.12は第1、第2の受光素子である。11 and 12 are first and second light receiving elements.
この受光素子はcds、又はシリコンホトセルであって
良い。This light receiving element may be a CDS or a silicon photocell.
13はアイピースである。ピント板1からペンタ構体3
に入って、ルーフ面5,6、前側反射面7によって反射
され、出射面8の上部から出、次いでブロック9を透過
する光14.15は第1の受光素子によって測光される
。13 is an eyepiece. From focus plate 1 to penta structure 3
The light 14,15 that enters the block, is reflected by the roof surfaces 5, 6, and the front reflecting surface 7, exits from the upper part of the exit surface 8, and then passes through the block 9 is photometered by the first light receiving element.
この光14.15はピント板1の上部分を除いた部分か
らの光である。This light 14 and 15 is light from the focusing plate 1 except for the upper part.
何故なら、ピント板1の上部分からの光は光線16で示
す様にペンタ構体3によってけられて、第1の受光素子
に到達しない。This is because the light from the upper part of the focusing plate 1 is rejected by the pentagonal body 3 as shown by the light ray 16 and does not reach the first light receiving element.
従って、第2図に示すピント板1の領域17からの光が
第1の受光素子11によって測光される。Therefore, the light from the area 17 of the focusing plate 1 shown in FIG. 2 is photometered by the first light receiving element 11.
即ち、ピント面での測光分布が平均測光分布に近い。That is, the photometric distribution on the focal plane is close to the average photometric distribution.
また、ピント板1から入射面4に入って、ルーフ面5.
6前側反射面7によって反射され再びルーフ面5,6に
よって反射される光18.19は本来的には出射面8に
よって点線で示す様に全反射される。Further, the light enters the incident surface 4 from the focusing plate 1, and enters the roof surface 5.
The light 18 and 19 reflected by the front reflecting surface 7 and reflected again by the roof surfaces 5 and 6 is originally totally reflected by the exit surface 8 as shown by the dotted line.
しかしながら、この光18.19はガラスブロック9に
よって出射面8より出射され、反射面10によって反射
され第2の受光素子12によって測光される。However, this light 18 , 19 is emitted from the output surface 8 by the glass block 9 , is reflected by the reflection surface 10 , and is photometered by the second light receiving element 12 .
この幕18,19は第2図で20に示す領域からの光で
ある。The curtains 18 and 19 are light from the area shown at 20 in FIG.
即ち、ピント面での測光分布が部分測光分布に近い。That is, the photometric distribution on the focal plane is close to the partial photometric distribution.
この様な配置にすることによって本発明の装置は以下の
様な利点を有する。By adopting such an arrangement, the apparatus of the present invention has the following advantages.
まず、両受光素子の出力を得ることによって、受光素子
がピント面に配置されていないことによって生じる撮影
レンズの種類例えば焦点距離、開放F値の違いによる射
出瞳位置の違いに基づく、又は同一レンズの絞り込みに
基づく測光誤差の改良に寄与する。First, by obtaining the output of both light-receiving elements, the difference in the exit pupil position due to the type of photographic lens, such as the difference in focal length and aperture f-number caused by the light-receiving element not being placed in the focal plane, or the same lens This contributes to the improvement of photometry errors based on the aperture.
即ち、測光光束がレンズの種類又は絞り込みによる大き
さの変化に対してかなりの大きさの受光素子を配置した
と同様の作用をする。That is, the photometric luminous flux changes in size due to the type of lens or aperture, and the effect is similar to that of arranging a light-receiving element of a considerable size.
また、両受光素子の出力を重ね合すことによって中央重
点測光となる。Furthermore, center-weighted photometry is achieved by overlapping the outputs of both light receiving elements.
更に、第1、第2の受光素子への光の少なくとも一方の
光路中に遮光手段(不図示)を配置すること、又は第1
、第2の受光素子の出力をスイッチングするスイッチ手
段を配置することによって、スポット測光、平均測光、
中央重点測光に切換可能である。Further, a light shielding means (not shown) may be arranged in the optical path of at least one of the light to the first and second light receiving elements, or
, spot photometry, average photometry,
It is possible to switch to center-weighted metering.
尚、第1、第2の受光素子の前に集光、又は結像レンズ
を配置することが望ましい。Note that it is desirable to arrange a condensing or imaging lens in front of the first and second light receiving elements.
そして、結像レンズは前側焦点面がピント板、又は対物
レンズの絞り位置で後側焦点面が受光素子面になる様に
配置することが望ましい。It is desirable that the imaging lens is arranged so that its front focal plane is the focusing plate or the aperture position of the objective lens, and its rear focal plane is the light receiving element surface.
更にこの結像レンズは受光面の像の大きさ又は測光重点
位置を変更出来る様に測光光束にそってレンズを移動さ
せるか、又は側軸させるか或はレンズ交換可能さらには
レンズを移動可能にすることが望ましい。Furthermore, this imaging lens can be moved along the photometric light beam or lateral axis so that the size of the image on the light-receiving surface or the photometric focal point can be changed, or the lens can be replaced or moved. It is desirable to do so.
又ズームレンズを使用しても良い。Alternatively, a zoom lens may be used.
これらは、受光素子への光量の増大、又はピント面での
測光領域を可変すること、又は絞り込みによる影響等に
有効である。These are effective for increasing the amount of light to the light-receiving element, varying the photometry area on the focal plane, or controlling the aperture.
第4図は本発明の第2実施例を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a second embodiment of the present invention.
この第2実施例はほぼ第1実施例と同様であるが1つの
受光素子上に2つの測光光束14,15゜18.19を
重ね合せた点が異なっている。This second embodiment is almost the same as the first embodiment, except that two photometric light beams 14 and 15 degrees 18.19 are superimposed on one light receiving element.
すなわち、出射面8を透過した光束18.19は偏向手
段、図に於いてはガラスブロック9の反射面23によっ
て受光素子11に指向される。That is, the light beams 18 and 19 transmitted through the output surface 8 are directed toward the light receiving element 11 by the deflecting means, in the figure, the reflecting surface 23 of the glass block 9.
又、図には先に説明した遮光手段24及びレンズ25が
示されている。The figure also shows the light shielding means 24 and lens 25 described above.
26は受光素子11に向う有害光をカットするための遮
光板である。26 is a light shielding plate for cutting harmful light directed toward the light receiving element 11.
第5図は本発明の第3実施例である。FIG. 5 shows a third embodiment of the present invention.
この実施例は受光素子11がペンタ構体3の下部に設け
られ、測光光束14,15,18.19は夫々偏向手段
によって受光素子に向けられることを特徴としている。This embodiment is characterized in that a light-receiving element 11 is provided at the lower part of the penta structure 3, and the photometric light beams 14, 15, 18, and 19 are directed toward the light-receiving element by deflection means, respectively.
すなわち、ペンタ構体の出射面8には平行平面板27が
密着され、反射面23.28によって測光光束は受光素
子11に向けられている。That is, a parallel plane plate 27 is closely attached to the output surface 8 of the pentagonal structure, and the photometric light flux is directed toward the light receiving element 11 by the reflecting surfaces 23.28.
第6図は本発明の第4実施例である。FIG. 6 shows a fourth embodiment of the present invention.
この実施例は第2実施例とほぼ同様であるが、ガラスブ
ロック9の代りに鋸歯状のクサビプリズム29を使用し
更にレンズ25の代りにフレネルレンズ30を使用した
。This embodiment is almost the same as the second embodiment, except that a sawtooth wedge prism 29 is used instead of the glass block 9, and a Fresnel lens 30 is used instead of the lens 25.
さらにパワーに方向性を持たせシリンドリカル的使い方
もできる。Furthermore, it can be used in a cylindrical manner by giving direction to the power.
以下更に、本発明の測光装置を開放測光のシャッター秒
時優先の1眼レフレツクスカメラに適用した例を第7図
ないし第9図を使用して説明する。Hereinafter, an example in which the photometric device of the present invention is applied to a single-lens reflex camera with open photometry and priority on shutter speed will be described with reference to FIGS. 7 to 9.
第7図は、対物レンズの裏面を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing the back surface of the objective lens.
このレンズは本件出願人のキャノン株式会社から既にF
Dレンズとして販売されている。This lens is already available from Canon Co., Ltd., the applicant.
It is sold as a D lens.
31はプリセット絞りレバーである。31 is a preset aperture lever.
この絞りレバー31は第8図の絞り設定リングAを回転
させるとその設定絞り値に対応した位置になる。When the aperture setting ring A shown in FIG. 8 is rotated, this aperture lever 31 is placed in a position corresponding to the set aperture value.
即ち、絞りを開放に設定すると上位置、絞りを絞り込む
と除々に下位置に移動する。That is, when the aperture is set wide open, it moves to the upper position, and when the aperture is closed down, it gradually moves to the lower position.
そしてこの絞りレバー31がある絞り値、例えば中間絞
り値に設定された時、この絞りレバー31は絞り込み方
向、即ち、下方向には絞り設定リングAを回転させない
限り移動が不能であるが、開放方向すなわち上方向には
押上げることにより移動可能である。When the aperture lever 31 is set to a certain aperture value, for example, an intermediate aperture value, the aperture lever 31 cannot be moved in the aperture direction, that is, downward, unless the aperture setting ring A is rotated, but it cannot be moved in the aperture setting ring A. It can be moved in the upward direction by pushing up.
伺、この絞りレバー31の上記押上を停止するとバネ付
勢で設定されて絞り位置までこのレバー31は復来する
。When the aperture lever 31 is stopped from being pushed up, the lever 31 returns to the aperture position set by the spring bias.
又、絞り設定リングをオートに設定すると、この絞りレ
バー31は絞り込み位置すなわち、下位置に位置する。When the aperture setting ring is set to auto, the aperture lever 31 is located at the aperture position, that is, at the lower position.
そしてこのレバーは押上げによって上方向に移動するが
、この押上げを解除すると、不図示のバネによって原位
置すなわち下位置に復来する。This lever is moved upward by being pushed up, but when this pushing up is released, it is returned to its original position, that is, the lower position, by a spring (not shown).
32は開放信号ピンである。このピンはその高さによっ
てカメラ側にレンズの開放Fナンバーを伝える。32 is an open signal pin. This pin tells the camera the aperture f-number of the lens depending on its height.
33は自動絞りレバーである。このレバー33は右方向
に移動することによって1プリセット絞りレバー31に
よって設定された絞り径まで絞りを絞り込む。33 is an automatic aperture lever. This lever 33 narrows down the aperture to the aperture diameter set by the 1 preset aperture lever 31 by moving to the right.
34はEE切換信号ピンである。34 is an EE switching signal pin.
このピンはEEに切換えた際突出する。35はシャツタ
レリーズボタンである。This pin protrudes when switched to EE. 35 is a shirt release button.
36はシャッターレリーズボタンによって作動するレバ
ーである。36 is a lever operated by the shutter release button.
このレバー36はレリーズボタン35を押下げることに
よってピン37を中心に反時計方向に回転する。This lever 36 is rotated counterclockwise around a pin 37 by pressing down the release button 35.
38はレバー36を復来させるバネである。38 is a spring that returns the lever 36 to its original position.
又、レバー36は他端に係止部39を有している。Further, the lever 36 has a locking portion 39 at the other end.
40はバネ41及びガバナー42によって定速度で時計
方向に回転する対物レンズのプリセット絞りレバー31
制御リングである。Reference numeral 40 denotes a preset aperture lever 31 of the objective lens, which is rotated clockwise at a constant speed by a spring 41 and a governor 42.
It is a control ring.
このリング40はレバー36の係止部39に係合する爪
43を有している。This ring 40 has a pawl 43 that engages with the locking portion 39 of the lever 36.
又、プリセット絞りレバー31に当接する突出部44を
有している。It also has a protrusion 44 that comes into contact with the preset aperture lever 31.
45はリング40に固定されたリングの回転と共に回転
する抵抗体である。A resistor 45 is fixed to the ring 40 and rotates as the ring rotates.
46は摺動子である。この摺動子46は抵抗板と端子に
夫々接続し、リング40が回転するに伴なって低い抵抗
値が得られる様に構成されている。46 is a slider. This slider 46 is connected to the resistance plate and the terminal, respectively, and is configured to obtain a lower resistance value as the ring 40 rotates.
すなわち、リング40の回転角に見合う抵抗値が得られ
る。That is, a resistance value commensurate with the rotation angle of the ring 40 can be obtained.
47はリングの回転を停止させるためのノツチである。47 is a notch for stopping the rotation of the ring.
尚、回転リングは回転した後、例えばフィルム巻上げ操
作によって反時計方向に回転しレバー36の係止部39
によって係止される。Incidentally, after the rotation ring is rotated, it is rotated counterclockwise by, for example, a film winding operation, and the locking portion 39 of the lever 36 is rotated.
It is locked by.
48は回転リング40制御用の電磁マグネットである。48 is an electromagnetic magnet for controlling the rotating ring 40.
49はマグネット48によって制御される回転リング4
0の回転停止レバーである。49 is a rotating ring 4 controlled by a magnet 48
0 rotation stop lever.
すなわち、マグネット48のONによってレバー49が
軸50を中心にして反時計方向に回転すると、レバー4
9の先端部が回4転リング40のノツチ部47に落ち込
みリング40の回転を停止させる。That is, when the lever 49 rotates counterclockwise around the shaft 50 by turning on the magnet 48, the lever 49 rotates counterclockwise around the shaft 50.
The tip end of the ring 9 falls into the notch 47 of the rotating quad ring 40 and stops the rotation of the ring 40.
このレバー49はマグネット48がOFFすることによ
って、バネ51によって時計方向に回転し、リング40
の回転停止を解除する。When the magnet 48 is turned off, the lever 49 is rotated clockwise by the spring 51, and the ring 40 is rotated clockwise by the spring 51.
Release the rotation stop.
52はスイングアップミラーである。このスイングアッ
プミラー52は回転リング40の回転が終了した後はね
上る。52 is a swing-up mirror. This swing-up mirror 52 flips up after the rotation of the rotating ring 40 is completed.
このためマグネット48のON信号によって作動する様
にしても良い。For this reason, it may be activated by the ON signal of the magnet 48.
53は絞り込みレバーである。このレバーはレンズの自
動絞りレバー33に係合している。53 is a aperture lever. This lever engages the automatic aperture lever 33 of the lens.
この絞り込みレバーはシャッターが作動する前に作動し
て、例えばスイングミラーの作動信号によって、設定さ
れた絞り値まで絞りを絞り込む。This aperture lever operates before the shutter is operated, and narrows down the aperture to a set aperture value in response to, for example, a swing mirror activation signal.
55は先幕制御レバーである。55 is a leading curtain control lever.
このレバー55はレンズの絞り込み及びミラー52がは
ね上った後作動する。This lever 55 is activated after the lens is stopped down and the mirror 52 is flipped up.
従って、このレバーは、例えばこれが作動終了した信号
によって作動するように構成しておけば良い。Therefore, this lever may be configured to be actuated, for example, by a signal indicating that the lever has been actuated.
56はレバー55を回転自在にするピンである。56 is a pin that allows the lever 55 to rotate freely.
尚、このレバー55は自然バネ、ダボ等によって、原位
置復来、又回転角度が制限されている。Note that the lever 55 is limited in its return to its original position and in its rotation angle by a natural spring, dowel, or the like.
レバー55は回転することによって公知の先幕スタート
部材57を作動させ先幕58をスタートさせる。By rotating the lever 55, a known leading curtain start member 57 is actuated to start the leading curtain 58.
59は後幕制御用のマグネットである。59 is a magnet for controlling the trailing curtain.
このマグネット59がONすることによって、後幕スタ
ートレバー60は軸61を中心にして時計方向に回転す
る。When the magnet 59 is turned on, the trailing curtain start lever 60 rotates clockwise about the shaft 61.
このレバー60はマグネット59がOFFした際、原位
置に復来する様に当然バネ、ダボ等を有している。This lever 60 naturally has a spring, a dowel, etc. so that it returns to its original position when the magnet 59 is turned off.
このレバー61作動によって公知の後幕スタート部材6
2によって後幕63はスタートする。By operating this lever 61, a known trailing curtain start member 6 is opened.
2, the second curtain 63 starts.
尚、これらの可動部材は公知の方法例えば、フィルム巻
上げ操作によってすべて原位置に復来する様に構成され
ている。All of these movable members are configured to be returned to their original positions by a known method, such as a film winding operation.
64は開放信号ピン32の高さによって抵抗値を変える
可変抵抗器である。64 is a variable resistor whose resistance value is changed depending on the height of the open signal pin 32.
65はレンズをカメラから取りはずした際、抵抗器64
の摺動子を復来させるバネである。65 is the resistor 64 when the lens is removed from the camera.
This is the spring that restores the slider.
66は露出計メーターである。66 is a light meter.
このメーターは使用するレンズの開放絞り値を基準にし
てアペックス写真演算に基ずいて絞り値を表示する。This meter displays the aperture value based on the apex photographic calculation based on the maximum aperture value of the lens being used.
すなわち、適正絞り値が開放絞り値からなん段であるか
を表示する。That is, it displays how many stops the appropriate aperture value is from the open aperture value.
67は絞り目盛である。67 is an aperture scale.
この絞り目盛は開放信号ピン32の高さによってシフト
する。This aperture scale is shifted depending on the height of the opening signal pin 32.
これはメーターがレンズの開放絞り値を基準として段数
表示するため開放絞り目盛の位置をメーター指針のスタ
ート位置に合す必要が有るからである。This is because the meter displays the number of steps based on the lens's maximum aperture value, so it is necessary to align the position of the maximum aperture scale with the starting position of the meter pointer.
68はシャッター秒時設定ダイアルである。68 is a shutter speed setting dial.
このダイアル68を回転させることによって第1、第2
の抵抗器69.70のそれぞれの出力端には設定された
秒時に対応する抵抗値が得られる。By rotating this dial 68, the first and second
A resistance value corresponding to the set seconds is obtained at each output terminal of the resistors 69 and 70.
しかしながら、抵抗69からは写真演算するための抵抗
値、抵抗70からはシャッター限時を行うための等比数
列の抵抗値が得られる。However, from the resistor 69, a resistance value for performing photographic calculations is obtained, and from the resistor 70, a resistance value for a geometric progression for performing shutter timing is obtained.
71はフィルム感度設定用可変抵抗である。71 is a variable resistor for setting film sensitivity.
74は受光素子11.12の出力を選択的に電気回路に
投入するスイッチ手段であり中央重点測光時には74に
連動するスイッチは全部オンする。Reference numeral 74 denotes a switch means for selectively inputting the outputs of the light receiving elements 11 and 12 to an electric circuit, and all switches linked to 74 are turned on during center-weighted photometry.
75はレンズのサーボEE切換ピン34に連動し、ピン
が突出した際、すなわち、絞りリングAをオートの位置
にした際OFFになるスイッチ機構である。Reference numeral 75 is a switch mechanism that is linked to the servo EE switching pin 34 of the lens and is turned off when the pin protrudes, that is, when the aperture ring A is placed in the auto position.
第9図は、第8図に示したカメラの絞り制御、及びシャ
ッター制御を行う電気回路である。FIG. 9 shows an electric circuit for controlling the aperture and shutter of the camera shown in FIG.
この回路は、撮影情報設定部76、測光部77、演算部
78、露光表示部79、絞り制御部80、シャッター制
御部81、電源部82に大きく区分される。This circuit is broadly divided into a shooting information setting section 76, a photometry section 77, a calculation section 78, an exposure display section 79, an aperture control section 80, a shutter control section 81, and a power supply section 82.
撮影情報設定部76は先に第8図で説明した対物レンズ
の種類による非焦点面測光による受光素子への光の量の
違いを補正する抵抗64、(この抵抗64は明るいレン
ズを使用した際抵抗値が大きくなる)と、フィルム感度
設定抵抗71(この抵抗71は感度の高いフィルムを設
定すると大きくなる)と、シャッター秒時設定抵抗69
(この抵抗は高速秒時を設定すると大きくなる)とを含
んでいる。The photographing information setting unit 76 includes a resistor 64 for correcting the difference in the amount of light to the light receiving element due to non-focal plane photometry depending on the type of objective lens as explained earlier in FIG. (the resistance value increases), the film sensitivity setting resistor 71 (this resistor 71 increases when a film with high sensitivity is set), and the shutter speed setting resistor 69.
(This resistance increases when a high speed setting is made.)
83は定電流源である。84はバツファーマンプである
。83 is a constant current source. 84 is a buffer mump.
従ってこの撮影情報設定部76からの出力情報は5v−
Tv+Avc;Svはフィルム感度、TVはシャッター
速度、Avcはレンズの種類による補正量;である。Therefore, the output information from this photographing information setting section 76 is 5v-
Tv+Avc; Sv is the film sensitivity, TV is the shutter speed, and Avc is the amount of correction depending on the type of lens.
この出力情報は演算部18に入力される。This output information is input to the calculation section 18.
測光部77は、スイッチ74によって選択的に投入され
る受光素子11.12を含んでいる。The photometry section 77 includes light receiving elements 11 and 12 that are selectively turned on by the switch 74.
85はバイアス回路である。85 is a bias circuit.
86はオペアンプである。87はオペアンプ86の帰還
回路中に配置された対数圧縮素子で、この素子は受光素
子の出力を等差数列変化に圧縮し、撮影情報設定部から
の等差数列信号に合せている。86 is an operational amplifier. Reference numeral 87 denotes a logarithmic compression element disposed in the feedback circuit of the operational amplifier 86, which compresses the output of the light receiving element into an arithmetic progression change to match the arithmetic progression signal from the imaging information setting section.
88は温度補正素子である。88 is a temperature correction element.
この測光部からの出力情報はBv−(Avo+Avc)
;Bvは被写体光量:Avcは測光が非焦点面であるた
め生じる変化量:で示される。The output information from this photometry section is Bv-(Avo+Avc)
; Bv is the amount of light from the subject; Avc is the amount of change that occurs because the photometry is performed on a non-focal plane.
この出力情報は演算部787に入力される。This output information is input to the calculation section 787.
演算部78は演算オペアンプ89を有している。The calculation section 78 has a calculation operational amplifier 89.
この演算オペアンプ89によって撮影情報設定部76と
測光部77の出力が加算される。This arithmetic operational amplifier 89 adds the outputs of the photographing information setting section 76 and the photometry section 77.
従って、演算部78の出力はBv+5v−Tv−Avo
である。Therefore, the output of the calculation section 78 is Bv+5v-Tv-Avo
It is.
これから明らかな様にAvcは除去されている。As is clear from this, Avc has been removed.
この事はレンズの種類による非焦点面測光によって生じ
る受光素子への光量変化を抵抗64の出力で補正してい
る。This is because the output of the resistor 64 corrects changes in the amount of light to the light receiving element caused by non-focal plane photometry depending on the type of lens.
従って、演算部89の出力はBv+5v−Tv−Avo
である。Therefore, the output of the calculation section 89 is Bv+5v-Tv-Avo
It is.
これはAv−Avoすなわち、開放絞り値を基準として
なん段分絞り込むかを示す情報が示される。This shows Av-Avo, that is, information indicating how many steps the aperture should be stopped down based on the maximum aperture value.
この演算回路の出力は露光表示部79に入力される。The output of this arithmetic circuit is input to the exposure display section 79.
この露光表示部の露光計66は開放絞り値を基準として
絞り段数を示す。The exposure meter 66 of this exposure display section indicates the number of aperture steps based on the open aperture value.
このため、第8図の目盛板69は対物レンズの種類によ
って高さが異なる信号ピン32により移動される。Therefore, the scale plate 69 in FIG. 8 is moved by the signal pin 32, which has a different height depending on the type of objective lens.
絞り制御部80は摺動抵抗45,46、手動−自動切換
スイッチ75、マグネット48を含んでいる。The aperture control section 80 includes sliding resistors 45 and 46, a manual-automatic changeover switch 75, and a magnet 48.
90は定電流回路、100は比較回路である。90 is a constant current circuit, and 100 is a comparison circuit.
比較回路100の2つの入力端の一方には演算部の出力
すなわち、開放絞り値から、なん段絞り込むかという情
報が入って来る。One of the two input terminals of the comparator circuit 100 receives the output of the arithmetic unit, that is, information on how many steps to narrow down the aperture from the open aperture value.
他の一端には抵抗45.46の出力が入力される。The outputs of resistors 45 and 46 are input to the other end.
すなわち、この抵抗の出力は絞り制御リングが開放位置
から絞り込み位置に移動するに伴って、出力が低下する
。That is, the output of this resistor decreases as the aperture control ring moves from the open position to the constricted position.
演算部の出力と抵抗45.46の出力が平衡状態になっ
た際マグネット48はONする。When the output of the calculation section and the output of the resistors 45 and 46 are in equilibrium, the magnet 48 is turned on.
シャッター制御部81は秒時設定抵抗70.59を含ん
でいる。The shutter control section 81 includes a second time setting resistor 70.59.
101は限時用のコンデンサー、102はスタートスイ
ッチで先幕レバー55の作動でOFFになる。101 is a capacitor for time limit, and 102 is a start switch which is turned off when the front curtain lever 55 is operated.
103はコンデンサー101が所定電圧になった際マグ
ネット59を通電させる制御回路である。103 is a control circuit that energizes the magnet 59 when the capacitor 101 reaches a predetermined voltage.
104は電源スィッチ、この電源スィッチはレリーズボ
タン35の押下げによってONする。A power switch 104 is turned on by pressing the release button 35.
105は電源である。以下作動について説明する。105 is a power source. The operation will be explained below.
まず、第8図の対物レンズの絞りリングAによってオー
ト撮影が設定されている場合を説明する。First, a case where automatic photography is set by the aperture ring A of the objective lens in FIG. 8 will be described.
この場合、対物レンズのピン34によってスイッチ75
はOFFしている。In this case, the pin 34 of the objective lens allows the switch 75 to be
is OFF.
又、プリセットレバー31はカメラ側の絞り制御リング
43の突起部44によって、上方向すなわち開放絞り位
置に位置して先に説明した様に下方向に付勢されている
。Further, the preset lever 31 is positioned upward, that is, at the open aperture position, and is urged downward by the protrusion 44 of the aperture control ring 43 on the camera side, as described above.
又、開放信号ピン32によって、抵抗64は所定の抵抗
出力を呈し、目盛板は所定の位置にシフトしている。Also, due to the open signal pin 32, the resistor 64 exhibits a predetermined resistance output, and the scale plate is shifted to a predetermined position.
その他は図面の通りである。シャッターレリーズ釦35
を押下げによって先ず第9図の電源スィッチ104が閉
じる。Other details are as shown in the drawing. Shutter release button 35
By pressing down, the power switch 104 in FIG. 9 is first closed.
この電源スィッチのONによって、演算回路78の出力
は対物レンズの開放絞り値を基準とした絞り段数分の電
圧信号を比較器の入力端に入力する。By turning on the power switch, the output of the arithmetic circuit 78 inputs voltage signals corresponding to the number of aperture stages based on the open aperture value of the objective lens to the input terminal of the comparator.
又、絞り信号はメーター66によって表示される。Further, the aperture signal is displayed by a meter 66.
次いで更の釦35の押下げによって、レバー36が回転
しする。Next, by pressing down the further button 35, the lever 36 is rotated.
この回転によって絞り制御リング43は回転する。This rotation causes the aperture control ring 43 to rotate.
絞り制御リングの回転によって、対物レンズのプリセッ
トレバーは突起44に追従してその位置を変化させる。By rotating the aperture control ring, the objective lens preset lever follows the projection 44 and changes its position.
これと共に抵抗45.46の出力抵抗も異なってくる。Along with this, the output resistances of the resistors 45 and 46 also differ.
すなわち、抵抗45.46の出力は対物レンズのプリセ
ット値に対応して変化する。That is, the output of the resistors 45 and 46 changes in accordance with the preset value of the objective lens.
この抵抗出力と、先の演算回路78の出力が平衡状態に
なると、マグネット48はONする。When this resistance output and the output of the arithmetic circuit 78 are in equilibrium, the magnet 48 is turned on.
このマグネットのONによって、レバー49は回転し、
絞りリング43の回転を停止させる。By turning on this magnet, the lever 49 rotates,
The rotation of the aperture ring 43 is stopped.
すなわち、演算回路78の出力に見合ったプリセット絞
り値が設定される。That is, a preset aperture value commensurate with the output of the arithmetic circuit 78 is set.
プリセット絞り値が設定された後、スイングアップミラ
ー52がアップし、更にレバー53によって絞りが設定
された絞り値まで絞り込まれる。After the preset aperture value is set, the swing-up mirror 52 moves up, and the lever 53 further narrows down the aperture to the set aperture value.
更に、先幕58がスタートする。Furthermore, the first curtain 58 starts.
これと共にシャッター制御回路のスタートスイッチ10
2がOFFする。Along with this, the start switch 10 of the shutter control circuit
2 turns OFF.
所定秒時後マグネット59が作動して後膜63をスター
トさせる。After a predetermined time, the magnet 59 is activated to start the rear membrane 63.
これによりシャッター限時動作は完了する。This completes the shutter time limit operation.
シャッター操作終了後は、電源スィッチのOFF及びフ
ィルム巻上げ等によって第8図の状態に復帰する。After the shutter operation is completed, the state shown in FIG. 8 is restored by turning off the power switch and winding the film.
次いでマニアル撮影の場合はスイッチ75がONとなる
。Next, in the case of manual photography, the switch 75 is turned on.
従って、いかなる状態になってもマグネット48は作動
しない。Therefore, the magnet 48 does not operate under any conditions.
又、先に説明した通りプリセット絞りレバー31はリン
グAを回転させたらその位置を変えるが、この場合、突
起44に当接しているため位置を変えない。Further, as described above, the preset aperture lever 31 changes its position when the ring A is rotated, but in this case, it does not change its position because it is in contact with the protrusion 44.
しかしながら、リング43が回転することによって、絞
りリングAによって設定された位置まで移動する。However, by rotating the ring 43, it moves to the position set by the aperture ring A.
それ以外の作動は自動と同様であるので説明を省略する
。The rest of the operation is the same as automatic, so the explanation will be omitted.
第1図ないし第3図は本発明の測光装置の第1実施例を
説明する図、第4図ないし第6図は本発明の第2ないし
第4実施例を説明する図、第7図ないし第9図は本発明
の測光装置を適用したカメラを説明する図である。
図中、1はピント板、2はコンデンサーレンズ、3はペ
ンタ構体、9は光学素子、10は反射面、11.12は
第1、第2の受光素子、13はアイピースである。1 to 3 are diagrams for explaining the first embodiment of the photometric device of the present invention, FIGS. 4 to 6 are diagrams for explaining the second to fourth embodiments of the present invention, and FIGS. 7 to 3 are diagrams for explaining the second to fourth embodiments of the present invention. FIG. 9 is a diagram illustrating a camera to which the photometric device of the present invention is applied. In the figure, 1 is a focusing plate, 2 is a condenser lens, 3 is a pentagonal structure, 9 is an optical element, 10 is a reflective surface, 11 and 12 are first and second light receiving elements, and 13 is an eyepiece.
Claims (1)
面、2つのペンタルーフ面、前側反射面そして出射面を
有するペンタ構体と、 2つの透過面と1つの反射面を有し、前記透過面の一方
は前記ペンタ構体の射出面の上方で貼合わされているプ
リズムブロックと、 前記プリズムブロックの後方に前記プリズムブロックか
ら射出した光束を受光する為の受光素子を有し、 前記対物レンズからの光束の一部の光束が前記ペンタ構
体の入射面に入射し、前記2つのペンタルーフ面と前記
前側反射面で反射し、 前記ペンタ構体の射出面と前記プリズムブロックの2つ
の透過面を透過した後前記受光素子に入射するようにし
、更に前記対物レンズからの光束であって前記の一部の
光束以外の一部の光束が前記ペンタ構体の入射面に入射
し、前記2つのペンタルーフ面と前記前側反射面で反射
し、再び前記ペンタルーフ面で反射した後、前記ペンタ
構体の射出面と前記プリズムブロックの貼合せ側の透過
面を透過した後前記プリズムブロックの反射面で反射し
前記プリズムブロックの透過面から透過した後前記受光
素子に入射するようにした事を特徴とするレフレックス
カメラの測光装置。[Claims] 1. A penta structure having an objective lens, an entrance surface for receiving a light beam from the objective lens, two penta roof surfaces, a front reflecting surface, and an exit surface, and having two transmitting surfaces and one reflecting surface. one of the transmission surfaces has a prism block attached above the exit surface of the pentagonal structure; and a light receiving element behind the prism block for receiving the light beam emitted from the prism block; A part of the light beam from the objective lens enters the entrance surface of the penta structure, is reflected by the two penta roof surfaces and the front reflective surface, and passes through the exit surface of the penta structure and the prism block. After passing through the surface, the light beam is incident on the light receiving element, and a part of the light beam from the objective lens other than the part of the light beam is incident on the entrance surface of the pentagonal structure, and It is reflected by the pental roof surface and the front reflective surface, and after being reflected again by the pental roof surface, it is transmitted through the exit surface of the pental structure and the transmitting surface on the bonding side of the prism block, and then at the reflective surface of the prism block. A photometry device for a reflex camera, characterized in that the light is reflected and transmitted through the transmission surface of the prism block, and then enters the light receiving element.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP49061542A JPS5811B2 (en) | 1974-05-31 | 1974-05-31 | reflex camera |
| DE2523872A DE2523872C3 (en) | 1974-05-31 | 1975-05-30 | Light measuring device for a single-lens reflex camera |
| US05/721,368 US4109257A (en) | 1974-05-31 | 1976-09-08 | Reflex camera with a built-in exposure metering apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP49061542A JPS5811B2 (en) | 1974-05-31 | 1974-05-31 | reflex camera |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS50153636A JPS50153636A (en) | 1975-12-10 |
| JPS5811B2 true JPS5811B2 (en) | 1983-01-05 |
Family
ID=13174094
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP49061542A Expired JPS5811B2 (en) | 1974-05-31 | 1974-05-31 | reflex camera |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5811B2 (en) |
| DE (1) | DE2523872C3 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55111222U (en) * | 1979-01-31 | 1980-08-05 |
-
1974
- 1974-05-31 JP JP49061542A patent/JPS5811B2/en not_active Expired
-
1975
- 1975-05-30 DE DE2523872A patent/DE2523872C3/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2523872A1 (en) | 1975-12-11 |
| DE2523872C3 (en) | 1978-03-09 |
| DE2523872B2 (en) | 1977-07-28 |
| JPS50153636A (en) | 1975-12-10 |
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