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JPS5813628B2 - 溶媒を使用した、物品表面の清浄化装置 - Google Patents
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JPS5813628B2 - 溶媒を使用した、物品表面の清浄化装置 - Google Patents

溶媒を使用した、物品表面の清浄化装置

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JPS5813628B2
JPS5813628B2 JP54021491A JP2149179A JPS5813628B2 JP S5813628 B2 JPS5813628 B2 JP S5813628B2 JP 54021491 A JP54021491 A JP 54021491A JP 2149179 A JP2149179 A JP 2149179A JP S5813628 B2 JPS5813628 B2 JP S5813628B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は少なくとも一つの溶媒を使用した、そこに含ま
れる物品の少なくとも一つの表面の清浄化装置に関し、
該装置は少なくとも一つの処理室(treahnent
enclosure)少なくとも一つの入口気密室お
よび少なくとも一つの出口気密室よりなり,該入口およ
び出口の気密室は処理される表面を持つ対象物を連続供
給しうるものよりなることを特徴とするものである。
さらに詳しくは本発明は表面清浄化、特にプリント回路
表面の清浄化装置に適している。
少なくとも一つの溶媒を使用する表面処理装置では、入
口および出口の気密室での密閉問題が提起されている;
事実、溶媒蒸気の処理室からの逸脱を妨げねばならず、
同時に対象物を入口気密室および出口気密室に自由に供
給し続けねばならない。
それで、処理室に対し上向きの傾斜した入口および出口
の気密室を有し、各気密室は溶媒蒸気を凝縮するに適し
たコンデンサーを備え、かつ処理室中に液状で返送する
ごとき装置を設けることが提案されてきた。
しかし、満足な密閉を行なうには、各気密室を非常に大
きくし、そして特に垂直に対し450に近い(40°の
位の)傾斜を持たせることが必要であった:処理に対応
する長さは処理室の既定の長さを心に描いたが、二つの
上向きに傾斜した気密室を有する装置では処理室の長さ
より全体の長さは遥かに大きくなり、かつ高さも正しく
言えば処理室の高さより遥かに高いものであった。
なお又、この種の装置での対象物の供給は、第一に降下
部分(入口気密室)、次に水平部分(処理室)、最後に
上昇部分(出口気密室)よりなる複雑な通路全部で行な
われた:次に複雑で高価な供給手段(コンベヤ)を使用
する必要があった。
さらに、処理室から空気一溶媒混合蒸気が抽出する抽出
手段と、この空気一溶媒混合蒸気が凝縮手段を通り溶媒
蒸気を凝縮させ、かつそれを処理室に返送するごとく配
設した凝縮手段とよりなる装置を設けることは既に提案
されている。
しかし、これらの抽出手段と凝縮手段を有してさえ、溶
媒の損失が認められかつ溶媒蒸気による外部への汚染が
あった。
一つの解決法として入口気密室と出口気密室よりなる装
置が提案された。
この装置は米国特許第3144872号に記載されてい
るごとく、おのおのの入口又は出口の気密室が再循環装
置を備えていることよりなる。
入口の気密室では、この再循環装置は気密室の入口で吸
い込み、そして空気は気密室の出口の方に誘導される。
出口の気密室では、この再循環装置が気密室の出口で吸
い込み、空気は気密室の入口方向に誘導される。
この解決法では、前に列挙したのと同様の欠点、すなわ
ち溶媒の損失および溶媒蒸気による外部への汚染が示さ
れた。
本発明の目的は今説明した欠点を取除く以外の何もので
もない。
本発明は目的として溶媒を使用する表面処理用で、かつ
長さばかりでなく高さにおいても、より扱いやすい装置
を目指した。
本発明の他の目的は、溶媒を使用する表面処理用で、か
つ対象物に簡単な供給通路を提供し、さらにこのため簡
単にして安価な供給手段を使用しうる装置よりなること
である。
本発明のいま一つの目的は、溶媒を使用する表面処理用
で、一方で溶媒を節約し、他方で装置付近でのこの溶媒
からの蒸気による空気の汚染を減少する装置よりなるこ
とである。
本発明による装置は、処理室、少なくとも入口気密室、
少なくとも出口気密室、処理室からの空気一溶媒混合蒸
気を抽出する抽出手段、さらに溶媒蒸気を凝縮させかつ
それを処理室に返送するため、この空気一溶媒混合蒸気
がそこを通過しうるごとく配設した凝縮手段よりなるこ
とを特徴とする。
この装置は、これらの抽出手段および凝縮手段が、抽出
され純化された空気を、一方で入口気密室の入口方向に
、かつ他方で出口気密室の出口方向に誘導する再循環ダ
クトと協力することを特徴とする。
この装置の好ましいのは、さらに凝縮手段と入口および
出口の気密室との間に配設された再加熱手段よりなるこ
とである。
入口気密室の入口および出口気密室の出口で(すなわち
、前記米国特許に記載されているのに対抗する解決法に
よる)の空気の再循環は、装置に密閉作業を行わせかつ
溶媒蒸気による環境汚染の危険を避けるものである。
入口気密室と出口気密室での密閉は周囲から処理室へ向
っての方向に各気密室を通過する再循環空気の循環によ
って与えられる;又これらの気密室を非常に短い長さで
構成することは可能である。
再加熱手段では、溶媒蒸気が少なくとも一部除去された
再加熱空気を入口および出口気密室に誘導する;この空
気は次に入口および出口の気密室に存在する溶媒蒸気を
吸収するので、装置の外側に拡がろうとする溶媒蒸気の
全ての危険が避けられる。
構造上の見地から、入口および出口の気密室は互に水平
で対面するごとく配設するのがよい;又対象物の供給路
は直線路であるので、きわめて単純である。
本発明は、今説明した配列は別として、同時に用いられ
るのが好ましいあるほかの配列よりなるが、これについ
てはもつと明白にこのあとで説明する。
とにかく、本発明は添付図面および次に述べる説明の補
足により十分に諒解されるであろう。
そしてその説明と図面は本発明の好ましい実施態様に関
するが、勿論これに限定される性格のものではない。
第1図は本発明による装置の長さ方向の説明図である。
第2図は第1図の■−■の簡単な断面図である。
前述した本発明の応用面および実施態様により、表面の
清浄化用、特にプリント回路の表面の清浄化用の装置の
提供が提案されている。
本装置は一種類の溶媒又は数種類の溶媒の混合物を用い
る。
これについては後にさらに明確に説明する。
本装置は第1図に示すごとく、少なくとも一つの処理室
1、少なくとも一つの入口気密室2、及び互に反対の位
置に配設した少なくとも一つの出口気密室3よりなる。
これらの入口2と出口3の気密室はプリント回路の供給
を行なう;供給方向については、入口気密室2は入口2
aと出凸2bよりなり、かつ出口気密室3は入口3aと
出口3bよりなる。
この供給は第2図で示される直線コンベア装置4で行わ
れ、そしてこれは同一平面に配設され、かつ二つの継目
なしベルト手段5と6の間ニアる各プリント回路8を把
持している一連のクリップ7を備えた二つの継目なしベ
ルト手段5と6(帯、ベルト、チェーン)よりなる。
この装置はさらに次のものよりなる、処理室1からの空
気一溶媒混合蒸気の抽出用抽出手段9、溶媒蒸気を凝縮
しかつそれを処理室1に返送するため、この空気一溶媒
混合蒸気がそこを通過するごとく配設された凝縮手段1
0、そして抽出手段9で抽出された空気を、一方で入口
気密室2の入口2a方向に、他方出口気密室3の出口3
b方向に誘導するための再循環ダクト11と12。
本装置は凝縮手段10と入口2および出口3の気密室と
の間に配設された再加熱手段37によって完遂されるの
が望ましい。
抽出手段9は処理室1の上に配設された煙突13と、再
循環ダクト11および12と入口2および出口3の気密
室との間に配設されたファン14とにより構成されるの
が望ましい。
次に凝縮手段10は低温流体を通した交換器15を煙突
13内に配設することにより構成されるのが望ましい。
再加熱手段37は凝縮手段10のすぐ下流の煙突13内
に配設されると好都合である。
実際、もつとも適切な型式の再加熱手段を選ぶのに(熱
交換器、電気抵抗、熱交換器一電気抵抗の組合せ等)、
空間が容易に利用できるのはこの位置である。
転向装置16は、この気密室にある空気を入口2aから
出口2bの方向に誘導するため入口気密室2の入口2a
に、設けるのが望ましい。
同様に転向装置17は、この気密室にある空気を出口3
bから入口3aの方向に誘導するため出口気密室3の出
口3bに設けるのが望ましい。
入口気密室2の入口2aでかつ転向装置16の前に(プ
リント回路の供給方向に対して)、フレキシブルドア1
8、例えば長い剛毛を持ち、その剛毛の終端が重なり合
うごとく互い違いにした、二つのブラシ18aと18b
で形成される種類のものを設けることが望ましい。
同様に、出口気密室3の出口3bでかつ転向装置17の
後ろに(プリント回路の供給方向に対して)、フレキシ
ブルドア19、例えば長い剛毛を持ち、その剛毛の終端
が重なり合うごとく互い違いにした、二つのブラシ19
aと19bで形成される種類のものを設けることが望ま
しい。
処理室1に関する限りでは、数区域、例えば三区域、よ
りなるのが好ましい すなわちプリント回路の供給方向
に配設された三つの連続した区域、予備清浄化区域20
、ここではプリント回路がその表面に作用する回転ブラ
シ21の作用を受けて、はんだ部分が現われる、清浄化
区域22、ここではプリント回路がその表面に作用する
回転ブラシ23の作用を受けて、はんだ部分が現われる
とともに表面への円筒状のジェットでの噴霧作用を行な
う噴霧手段24の作用を受け構成部分が現われる、そし
て洗滌区域25、ここではプリント回路がその表面に作
用する回転ブラシ26の作用を受けて、はんだ部分が現
われるとともに表面への円筒状のジェットでの噴霧作用
を行なう噴霧手段27の作用を受け構成部分も現われる
噴霧手段24は清浄化区域22からの溶媒を引出すポン
プ28により供給され、又噴霧手段27は洗滌区域25
からの溶媒を引出すポンブ29によって供給される。
この処理室1にはプリント回路の洗滌をできる限りもつ
とも清浄な溶媒を用いて行なうことができる洗滌区域2
5からの清浄な溶媒が供給される。
次に溶媒は清浄化区域22を通り、さらに予備清浄化区
域20を通る。
この予備清浄化区域20から、溶媒は第一の循環手段3
4によって、蒸留型式の再生手段30へ誘導され、次に
これらの再生手段30から、第二の循環手段31を通り
、洗滌区域25へと誘導される。
さらに本装置は洗滌区域25と出口気密室3との間に燥
乾装置35を含むことができる。
この乾燥装置35の効率は再加熱手段を通る再循環空気
の温度により向上する。
処理室1の各区域20 ,22および25は、室温より
高い温度にされた温溶媒作業を可能にするため、電気抵
抗加熱36を含むことができる。
溶媒に関する限りでは、フッ素化アルコール型の共沸溶
媒を使用することができる。
最後にかつ実施態様のいかんにかかわらず、装置は中で
も次の利点を提供するごとく構成される小さい寸法、単
に長さだけでなく高さも、単純な供給通路(直線通路)
、対象物供給用の単純で安価な手段(直線コンベア)、
短い気密室を備えた良い密閉、ほとんど除去された溶媒
蒸気による環境汚染の危険、作業が密閉中の循環である
ため、空気一溶媒混合蒸気の温度がほとんど一定、溶媒
中の水分の増加を避ける。
言うまでもなく、又その上前記のことからも推定できる
ように、本発明はさらに詳しく考えられる応用例や具体
例に決して限定されるものではない。
それどころか、これについての全ての変化をも包含する
ものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による装置の長さ方向の説明図であり、
第2図は第1図の■−■の断面図である。 1・・・処理室、2・・・入口気密室、3・・・出口気
密室、2a ,3a・・・入口、2b ,3b・・・出
口、4・・・コンベア装置、5,6・・・ベルト手段、
7・・・クリップ、8・・・プリント回路、9・・・抽
出手段、10・・・凝縮手段、11.12・・・ダクト
、13・・・煙突、14・・・ファン、15・・・交換
器、16.17・・・転向装置、1 8 . 1 9・
・・フレキシブルドア、18a,18b,19a,19
b・・・ブラシ、20・・・予備清浄化区域、2L23
,26・・・回転ブラシ、22・・・清浄化区域、24
,27・・・噴霧手段、25・・・洗滌区域、28.2
9・・・ポンプ、30・・・再生手段、31.34・・
・循環手段、35・・・乾燥装置、36・・・電気抵抗
加熱、3γ・・・再加熱手段。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 a 少なくとも一つの入口気密室及び少なくとも一
    つの出口気密室を包含し、それらの間に延びる物品輸送
    手段をもった処理室、 b 該処理室内で、かつ物品輸送手段に近接して、その
    出口端が配設されている少なくとも一つの溶媒分配手段
    、 C 該処理室と通じており、該処理室から空気一溶媒蒸
    気を抽出するための抽出手段、 d 該抽出手段と協同し、かつ該入口気密室と該出口気
    密室との間に位置し、かつ該処理室から抽出された空気
    一溶媒蒸気が、溶媒蒸気を凝縮しかつ溶媒蒸気を該処理
    室へ再循環させるために、そこを通過するように配設さ
    れている凝縮手段、及び e 該処理室及び該抽出手段と通じており、溶媒蒸気を
    実質的にそこから取り除かしめた空気を、該人口気密室
    の入口及び出口気密室の出口へ再循環させるための再循
    環ダクト手段 よりなることを特徴とする少なくとも一つの溶媒の作用
    を利用した、そこに含まれる物品の少なくとも一つの表
    面の清浄化装置。 2 更に、該凝縮手段と該再循環ダクト手段の間に配設
    された再加熱手段を含む特許請求の範囲第1項記載の清
    浄化装置。 3 該入口気密室及び該出口気密室が、間隔をおいて離
    れた状態で、水平に配設されている特許請求の範囲第1
    項記載の清浄化装置。 4 更に、該処理室内で、該出口気密室と該少なくとも
    一つの溶媒分配手段間の位置に配設された乾燥手段を含
    む特許請求の範囲第1項記載の清浄化装置。 5 該抽出手段が、該処理室内に存在する空気及び溶媒
    蒸気を該凝縮手段を横切って循環させるように位置づけ
    られている少なくとも一つのファンを含む特許請求の範
    囲第1項、第2項、第3項又は第4項に記載の清浄化装
    置。 6 該抽出手段が、導管を含み、該導管が該処理室及び
    該再循環ダクト手段と通じており、かつ該凝縮手段と該
    入口気密室及び該出口気密室との間に位置する複数個の
    ファンを含む特許請求の範囲第1項、第2項、第3項又
    は第4項に記載の清浄化装置。 7 該凝縮手段及び該再加熱手段が該導管内に位置する
    特許請求の範囲第6項記載の清浄化装置。
JP54021491A 1978-02-28 1979-02-27 溶媒を使用した、物品表面の清浄化装置 Expired JPS5813628B2 (ja)

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JPS54126636A JPS54126636A (en) 1979-10-02
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