JPS5823387A - Mos dynamic memory - Google Patents
Mos dynamic memoryInfo
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- JPS5823387A JPS5823387A JP56120121A JP12012181A JPS5823387A JP S5823387 A JPS5823387 A JP S5823387A JP 56120121 A JP56120121 A JP 56120121A JP 12012181 A JP12012181 A JP 12012181A JP S5823387 A JPS5823387 A JP S5823387A
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- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
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- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/409—Read-write [R-W] circuits
- G11C11/4094—Bit-line management or control circuits
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は1トランジスタメモリセル型のMO&ダイナミ
ックメモリに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a one-transistor memory cell type MO & dynamic memory.
一&に、1トランジスタ、1キヤバνり/セル方式のM
O8ダイナミックメモリとして良く使用された16にビ
ットダイナミックランダム。1 & 1 transistor, 1 capacitor/cell type M
16-bit dynamic random, often used as O8 dynamic memory.
アクセスメモリ(RAM )までは、3電源力式(+1
2V。Up to access memory (RAM), 3 power supply type (+1
2V.
+5v、−5v)が採用されている。しかし、64にビ
ットダイナミック塘からは、システムが複雑となる為に
システム構成の容易な5v単一電源が採用されている。+5v, -5v) are adopted. However, since the system becomes complicated from Bit Dynamic Switch 64, a 5V single power supply, which is easy to configure, is adopted.
この5■単一電源方式8−採用した64にダイナミック
RAMによれば、電源1王の低下に伴いメモリセルのキ
ャパシタの電荷蓄積量が減少し1周辺回路より発生する
ホットキャリアあるいはパッケージより放出されるα線
等番こより蓄積電荷が漏洩する影響が大となり、動作の
安定化が問題となってきた。このため、従来はデータ線
及びI/s II (入出力Iiiりのプリチャージ信
号、ワード線の信号をilE源電圧電圧も高く外出して
、これらデータ巌、入出力線の°1ルベルを1lls電
圧と略等しく、メモリセルのキャパシタに略電源電圧の
電位レベルでl″を書き込む事により動作マージンの向
上を図っていたeL7!J)Lzながら、高集積度化に
伴うメモリサイズの一小化の要求によりキャパシタの面
積はあまり大きくできず、動作マージンとの兼ね合いで
キャバνりの電荷蓄積量を増澗させる事が不可能であっ
た。According to the dynamic RAM in 64 that adopts this 5■ single power supply method, as the power supply decreases, the amount of charge stored in the capacitor of the memory cell decreases, and hot carriers generated from the peripheral circuitry or released from the package. The influence of leakage of accumulated charge due to alpha rays has become significant, and stabilization of operation has become a problem. For this reason, in the past, the data line, I/S II (input/output III) precharge signal, and word line signal were output with a high IILE source voltage voltage, and the degree 1 level of these data lines and input/output lines was reduced to 1lls. The operating margin was improved by writing l'' into the capacitor of the memory cell at a potential level of approximately the power supply voltage, which was approximately equal to the voltage. Due to these requirements, the area of the capacitor cannot be made very large, and it has been impossible to increase the amount of charge stored in the capacitor in consideration of the operating margin.
本発明は上記の事情に鑑みてなされたもので、lトラン
ジスタ、1キャパシタ/セル方式のMO8ダイナミック
メモリにおいて、メモリセルのキャパシタに電源電圧よ
り大きな電圧を書き込む事ができる回路手段を設けるこ
とによって。The present invention has been made in view of the above circumstances, by providing a circuit means that can write a voltage higher than the power supply voltage to the capacitor of a memory cell in an MO8 dynamic memory of one transistor, one capacitor/cell type.
上記メモリセルの電荷蓄積容量を増大させ、データ読み
出し時の動作マージンを向上して動作を安定化し得るM
O8ダイナミックメモ5を提供することを目的とする。M that can increase the charge storage capacity of the memory cell, improve the operating margin during data reading, and stabilize the operation.
The purpose is to provide O8 Dynamic Memo 5.
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。I
II図ζこおいて、 ML)8 )ランジスタT1゜T
、はデータ巌プリチャージ用のトランジスタで、各々ド
レインが電源■0に、ソースが互いに逆位相の@1#%
Q#データを祷る1対のデータ線DL 、DLに、ゲー
トがプリチャージクロック信号φPに接続される。これ
ら一対のデーy線DL、DL間にはこれらを同一電位と
するための短絡用のトランジスタTIが接続され、この
トランジスタT1のゲートには前記プリチャージクロッ
ク信号φPが入力される。さらに−こわら一対のデータ
線DL、DLにそえぞれドレインが接続され、ゲートに
クロック信号φ。Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. I
In Figure II ζ, ML)8) Transistor T1゜T
, are transistors for data precharging, and their drains are connected to the power supply ■0, and their sources are opposite in phase to each other @1#%
A pair of data lines DL and DL for receiving Q# data have their gates connected to a precharge clock signal φP. A short-circuiting transistor TI is connected between the pair of data lines DL and DL to bring them to the same potential, and the precharge clock signal φP is input to the gate of this transistor T1. Furthermore, drains are connected to a pair of data lines DL, DL, and a clock signal φ is connected to the gate.
が入力されるトランスファーゲdトランジスタT、、T
、が設けられており、これらトランジスタT、、T、の
それぞれのソースは互いに交差結合されたトランジスタ
T・ 、Tマで構成さレルバランス型のセンスアンプl
の出力1110 t 。The transfer gate d transistors T, , T
, and the sources of each of these transistors T, , T, are connected to a parallel-balanced sense amplifier l made up of transistors T, , T, which are cross-coupled with each other.
The output of 1110 t.
02に接続されている。このセンスアンプlのトランジ
スタTI*Tjのソース相互接続点は、7−)!こクロ
ック信号φ、が入力されるトランジスタT、を通し5て
基準wL源Vaに接続される。Connected to 02. The source interconnection point of the transistor TI*Tj of this sense amplifier l is 7-)! This clock signal φ is connected to the reference wL source Va through the transistor T5.
上記データ線DLと基準電動Vaとの間には、ゲートが
ワード1iWLlに接続されたトランスファーゲートト
ランジスタTMと情報蓄積用キャパシタCMとが接続さ
れている。このトランジスタTMとキャパシタcMとで
1つのメモリセル2がt#成される。一方、データ@D
Lと基準電−Vaとの間には、ゲートがダミーワード縁
DWL2 に接続されたトランスファーゲートトランジ
スタTDと情報蓄積用キャパシタCnとが接続されてい
る。また、このトランジスタTDとキ・ヤパシタCnの
相互接続点と比較電源VRとの間にはゲートにプリチャ
ージクロック信号φPが入力されるトランジスタTwが
接続されている。これらトランジスタ’rn、’r貰及
びキャバシfCDとで1つのダミーメモリセル3を構成
する。さらに、一対のデータ@DL、DL上のデータを
入出力1II10al−を送受するためのプリアンプ4
とデータ@DL 、DLとの間にはそれぞれゲートがカ
ラム@CLに接続されたトランスファーゲートトランジ
スタT・ #T1・が接続される。また、データ@DL
とクロック信号φ薯との間にはキャパシタC1が接続さ
れ、リフレッシュ回路5が設けられている。また、デー
タ線DL側にも上記同様のメモリセル1′。A transfer gate transistor TM whose gate is connected to the word 1iWLl and an information storage capacitor CM are connected between the data line DL and the reference voltage Va. One memory cell 2 is formed by the transistor TM and the capacitor cM. On the other hand, data@D
A transfer gate transistor TD whose gate is connected to the dummy word edge DWL2 and an information storage capacitor Cn are connected between L and the reference voltage -Va. Further, a transistor Tw whose gate receives a precharge clock signal φP is connected between the interconnection point between the transistor TD and the capacitor Cn and the comparison power supply VR. These transistors 'rn, 'r' and the cavity fCD constitute one dummy memory cell 3. Furthermore, a pair of data@DL, a preamplifier 4 for transmitting and receiving data on DL to input/output 1II10al-
Transfer gate transistors T.#T1., whose gates are connected to column @CL, are connected between data @DL and DL, respectively. Also, data@DL
A capacitor C1 is connected between the clock signal φ and the refresh circuit 5. A memory cell 1' similar to the above is also provided on the data line DL side.
ダミーメモリセル3′、リフレッシュ回路5′が設けら
れている。なお、メモリセル2は寮際は複数個配設され
たメモリアレイとして構成される。A dummy memory cell 3' and a refresh circuit 5' are provided. Note that the memory cells 2 are configured as a memory array in which a plurality of memory cells are arranged near the dormitory.
次に、上記の様に構成されたダイナミックメモリの読み
出し動作をVSZ図のタイムチャートを8照して説明す
る。まず、プリテヤーンチイクルにおいて、プリチャー
ジクロック信号φPの電位がVo(il電源電圧+Vt
h()ランジスタ14 値電圧)以上になると、トラン
ジスタT1〜T3は導通してデータ@DL、DLは電源
電圧VCに充電される。この時、クロック信号φ1の電
位はVa+2V1h以上、クロック信号φlの電位はO
Vとなっている為、データl[DL・1Tは導通状態の
トランジスタT、、T、を通してセンスアンプlのトラ
ンジスタT@sTjのドレイン端01101に接続され
るので%該ドレイン端の電位はVaとなり、そのソース
電位はVo−vth となる。Next, the read operation of the dynamic memory configured as described above will be explained with reference to the time chart of the VSZ diagram. First, in the pre-charging vehicle, the potential of the precharge clock signal φP is set to Vo(il power supply voltage+Vt
When the voltage becomes higher than h( ) transistor 14 value voltage), transistors T1 to T3 become conductive and data@DL, DL is charged to power supply voltage VC. At this time, the potential of the clock signal φ1 is equal to or higher than Va+2V1h, and the potential of the clock signal φl is O
Since the data l[DL・1T is connected to the drain terminal 01101 of the transistor T@sTj of the sense amplifier l through the conductive transistors T, , T, the potential of the drain terminal becomes Va. , its source potential becomes Vo-vth.
次に、上記プリチャージサイクルが終了するとデータ読
み出しサイクルが実行される。すなわち−プリチャージ
クロック信号φ!がOvとなり、ロー@アドレス入力で
指定されたワード縁(ここではWLI)及びダミーワー
ドII(こコテハD!1v111)力選択され、そノミ
位カV o + 2 Vthになると、メモリセルlの
キャパシタCMにyo+vlh (約6V)なる電位で
蓄えられてぃた電荷がデータ線DLに読み出され、デー
ターDLの電位はVa+ΔVになる。この微小電圧Δ■
は、データ@DLに接続されている容量とキャパシタC
Mの容量との比によって決蒙る電圧である。一方、ダミ
ーセル3′のキャパシタCDにvR電位で蓄えられてい
た電荷がデータ線DI。Next, when the precharge cycle is completed, a data read cycle is executed. That is, - precharge clock signal φ! becomes Ov, the word edge (in this case WLI) and dummy word II (in this case D!1v111) specified by the row@address input are selected, and when the force becomes V o + 2 Vth, the memory cell l The charge stored in the capacitor CM at a potential of yo+vlh (approximately 6V) is read out to the data line DL, and the potential of the data DL becomes Va+ΔV. This minute voltage Δ■
is the capacitance and capacitor C connected to data@DL
This voltage is determined by the ratio to the capacitance of M. On the other hand, the charge stored in the capacitor CD of the dummy cell 3' at the vR potential is transferred to the data line DI.
に読み出される為、データi[DLの電位はv〇−Δ■
1となる。この微小電圧ΔVlもΔ■同様、データII
DLの容量とキャパシタCDとの比によって決まる電圧
である。したがって、この段階でデータ1iDL 、D
Lとの間にはΔV+ΔVlの゛電位差がついている。こ
れらデータ線DL。Since the data i [DL potential is v〇−Δ■
It becomes 1. This minute voltage ΔVl is also similar to Δ■, data II
This voltage is determined by the ratio between the capacitance of DL and the capacitor CD. Therefore, at this stage the data 1iDL, D
There is a potential difference of ΔV+ΔVl between it and L. These data lines DL.
DLの電位は3極管動作となっているトランジスタT、
、T、を通ってそのまま、それぞれセンスアンプlのト
ランジスタTa、’rマのドレイン端01s01に伝わ
る8次に、クロック信号φiの電位がV a −V t
ha&に下がると、トランジスタT、、T、がカットオ
フし1データ線DL、DLとセンスアンプlのトランジ
スタT、、T、のドレイン端01.0.とが分離された
後、クロック信号φ雪が11ルベル(Vaレベル)薯こ
なると、センスアンプlが動作して一トランジスタT−
のドレイン電位は略vO+ΔV#トランジスタT!のド
レインは略Ovとなるので、トランジスタT1がオンし
、トランジスタT。The potential of DL is the transistor T, which operates as a triode.
, T, and are transmitted as they are to the drain terminals 01s01 of the transistors Ta and 'r of the sense amplifier l, respectively.The potential of the clock signal φi is V a −V t
When the voltage drops to ha&, the transistors T, ,T, are cut off and the drain terminals of the data lines DL, DL and the transistors T, ,T, of the sense amplifier l are cut off. When the clock signal φ exceeds 11 levels (Va level), the sense amplifier 1 operates and one transistor T-
The drain potential of is approximately vO+ΔV#transistor T! Since the drain of is approximately Ov, the transistor T1 is turned on, and the transistor T is turned on.
はオフのままであり、その結果データ@DLの電位ハV
a + ΔV e テ9i11 D L (1) 電
位41 MN OVになる。この後、カラムσtl)ア
ドレス入力が決定され、指定されたカラム@CLが°1
#レベル(Vaレベル)となると、Va電位にプリチャ
ージされていた入出力II Ilo −Iloの内−I
104!!はトランジスタT・がカットオフ状態である
cIJで■0電位を保持するが−xA馨はトランジスタ
Two a Ts e Tt * Ta を通Liて基
準電mVljc放電されるので、これら入出力@ IA
−110に嵌続されているプリアンプ4にデータが読み
出される。remains off, and as a result, the potential of data @DL V
a + ΔV e TE9i11 D L (1) The potential becomes 41 MN OV. After this, column σtl) address input is determined and the specified column @CL is set to °1
# level (Va level), the input/output II Ilo which had been precharged to the Va potential -I of Ilo -Ilo
104! ! The transistor T is held at ■0 potential at cIJ in the cut-off state, but the reference voltage mVljc is discharged from the -xA gate through the transistor Two a Tse Tt * Ta, so these input/output @ IA
The data is read out to the preamplifier 4 connected to -110.
その後、82図に示すようにリフレッシュサイクルが実
行される。すなわち、クロック信号φ1が“1#レベル
(■0レベル)にナルト、VC+4V電位にあるデータ
@DLはトランジスタT@ITlがカットオフしている
為、リフレッシュ回路5のキャパシタC1によって昇圧
され%va+xv3 電位lζなる。ここで、電圧Δ
v3はデータ層容量とキャパシタCIとの兼ね合いで決
定される電圧である。今、Δv3≧vthならば、r)
−ト@WLIQJ電位がVO+2Vthであるからメモ
リセルlのキャパシタCwにはVO+V1にの電圧が書
きこまれ、メモリリフレッシュ動作が実行される。Thereafter, a refresh cycle is performed as shown in Figure 82. That is, when the clock signal φ1 reaches the "1# level (■0 level)", the data @DL at the VC+4V potential is boosted by the capacitor C1 of the refresh circuit 5 because the transistor T@ITl is cut off, and the data @DL is at the %va+xv3 potential. lζ, where the voltage Δ
v3 is a voltage determined based on the data layer capacitance and capacitor CI. Now, if Δv3≧vth, then r)
-@WLIQJ Since the potential is VO+2Vth, a voltage of VO+V1 is written into the capacitor Cw of the memory cell 1, and a memory refresh operation is performed.
上^ピリフレッシュサイクルが終了すΦと−再びプリチ
ャージサイクルとなる。すなわち−1ずワード1lWL
I が″″0#0#レベル、メモリセルlのキャパシ
タCMがデータ@l D L 、p、ら分離され、プリ
チャージクロック信号φPがVa+vtbの電位以上に
、クロック信号φ雪 、−3eダミーワード@DWL1
及びカラム@CLが全て°0”になると、データ@J)
L、DL、)ランジスタT、、Tマのドレインが■0電
位に、またダミーキャパシタCI)が電位VRにプリテ
ヤージされる。また、入出力縁I/、、、I/)は別回
路にてやはり■0電位にプリチャージされ初めの状態に
戻る。When the refresh cycle ends Φ, the precharge cycle begins again. That is, -1zu word 1lWL
When I is at ""0#0# level, capacitor CM of memory cell l is separated from data @l D L , p, and precharge clock signal φP is higher than the potential of Va+vtb, clock signal φ snow , -3e dummy word @DWL1
and column @CL are all °0”, data @J)
The drains of the transistors (L, DL, ) T, , and T are precharged to the 0 potential, and the dummy capacitor CI) is precharged to the potential VR. In addition, the input/output edges I/, , I/) are also precharged to the zero potential in a separate circuit and returned to the initial state.
一力、次の絖み出しサイクルにて、もし選択されたメモ
リセルlに10”が記憶されていた場合は、データ@D
Lの電位はSZ図の破線で示すようにVa−ΔV2(Δ
V2)ΔVlで−メモリセルが10mの時のデータ@D
L@位ンに下がり、クロック信号φ、が′″l#l#レ
ベルてセンスアンプlが動作すると一データ1lDLは
0マになるが一データ線DLは■0−ΔVl 電位を
保愕すは適当な電位に昇圧されるが、このレベルは動作
には特に影響しない、なお、ここで大切な手ハ′″1”
レベル及U”o”レベルのセンスマージンように比較電
圧vR又はキャパシタCIの値を決める必要がある。In the next alignment cycle, if 10" is stored in the selected memory cell l, the data @D
The potential of L is Va−ΔV2(Δ
V2) ΔVl - Data when the memory cell is 10m @D
When the clock signal φ falls to the L@ level and the sense amplifier I operates with the clock signal φ at the '''l#l# level, one data line DL becomes 0, but the data line DL holds the potential at 0-ΔVl. The voltage is boosted to an appropriate potential, but this level does not particularly affect operation.
It is necessary to determine the value of the comparison voltage vR or the capacitor CI so as to have a sense margin for the level and the U"o" level.
以上はデータ読み出し動作について説明したが一メモリ
セル2へのデータ書き込み動作についても同様に説明で
きる0例えば%第3因のタイムチャートに示すように、
一度読み出された後、真なった情報をメモリセル2に書
き込む場合(これをリード、モディファイ、ライト、モ
ードという)、例えば入出力細工/。が°lルベル(V
o電位)に、入出力線■4 が゛0#レベル(Ov)に
設定されると、カラA@CLは@l#(5v)であ6か
ら、データ@DLはυVからVc−Vih1位に、又f
−yHD Lバー1’ (5V)7))らOYにそれぞ
れ設定される。ここで、一時的にカラムQ CL OJ
wL位をVa+Vthとする塀によりデータ1lll
iDLはVov位に充電される。Although the data read operation has been explained above, the data write operation to the memory cell 2 can also be explained in the same way.For example, as shown in the time chart for the third factor,
When writing true information to the memory cell 2 after it has been read once (this is called read, modify, write, mode), for example, input/output manipulation/. is °l lebel (V
o potential), and the input/output line ■4 is set to the 0# level (Ov), the color A@CL is @l# (5v) from 6, and the data @DL is from υV to Vc-Vih1. ni, again f
-yHD L bar 1' (5V) 7)) and OY are set respectively. Here, temporarily column Q CL OJ
Data 1llll due to a wall with wL level as Va+Vth
iDL is charged to about Vov.
−延期間後、カラム@CLIJ4VO電泣に下がった後
、クロック信号φ1か°1″(VO)レベルとなれば、
デー9@DLはVo+ΔV4 @位トナリ、thV4≧
Vthならばワード41WLlの電位がV6.+ 2V
thであるからメモリセル2のキャパシタCMlこは
V□+V1h(約6Vンの電位が書き込Iれる。つまり
−メモリセル21こは電fli%8EV。- After a delay period, if the clock signal φ1 or °1″ (VO) level is reached after the column @CLIJ4VO drops to an electric level,
Day 9 @DL is Vo + ΔV4 @ Tonari, thV4≧
Vth, the potential of word 41WLl is V6. +2V
Therefore, the potential of the capacitor CM1 of the memory cell 2 is written to V□+V1h (approximately 6 V). That is, the potential of the capacitor CM1 of the memory cell 2 is written to be 8EV.
(5■)より大きい電圧(6v〕が書き込菫れ0ことに
なる。A voltage (6V) larger than (5■) will result in zero write voltage.
gJ4図(−3(b)に上記ワード1lWLに対する電
位発生回路及びカラム@CLに対する電位発生回路を示
す、まず、第4図(姉のワード1iit位発生回路にお
いては、ワード縁タイミング信号がバッファ6を通って
クロック信号−冑として出力される。このクロック信号
φWは、インバータI、、I、により一定時間遅延した
後キャパシタCIにて昇圧されて゛4源電圧Vo以上と
なり、トランジスタ”l l # ’rlによってその
電位は■0+2Vthに設定される。これらのトランジ
スタT11#T11は、余分な電荷をl1■0に放電し
てvo+2vthO)電位に固定する為のもので、特に
なくても良い、このクロック信号φWとワード練WL1
.WL2.・・・とυ】間にはそれぞれトランジスタ1
1じ1#Tl#1#・・・が接続され、トれらトランジ
スタ’r1.−..’r、、−th・・・のそれぞれの
ゲートと、ロー(行)アドレス信号により選択されるロ
ーデコーダ7t=7m・・・との間にはそれぞれゲート
が電源■0に接続されているトランジスタ”14−1
# T1.−1 #・・・が接続されている。また、こ
れらトランジスタ’1m−1a Tlm−1+・・・の
ゲートとソース(又はワード1lWL1.WL2.・・
・)との間には、ブートストラップ用のキャパシタCI
−1* (4−1s・・・が接続されているが、これ
は特にわざわざ設けなくとも−トランジスタ”l a
−H丁目−諺、・・・のチャンネルの反転層により自然
dこ結合容量が発生するのでこれを利用しても良い。FIG. This clock signal φW is delayed for a certain period of time by the inverters I, , I, and then boosted by the capacitor CI to exceed the source voltage Vo, and the clock signal φW is outputted as a clock signal. Its potential is set to ■0+2Vth by rl.These transistors T11#T11 are for discharging excess charge to l1■0 and fixing it at the potential of vo+2vthO), and this clock does not need to be used. Signal φW and word training WL1
.. WL2. ... and υ], there is a transistor 1 between each
1 and 1#Tl#1#... are connected, and the transistors 'r1. −. .. Between the gates of 'r,, -th... and the row decoder 7t=7m... selected by the row address signal are transistors whose gates are connected to the power supply ■0. "14-1
# T1. -1 #... is connected. Also, the gate and source of these transistors '1m-1a Tlm-1+... (or word 1lWL1.WL2...
) is a bootstrap capacitor CI.
-1* (4-1s... is connected, but this does not need to be specially provided -transistor "l a
- H Street - As the saying goes, a natural d-coupling capacitance is generated by the inversion layer of the channel, and this may be utilized.
上記回路によれば、例えばローデコーダ71の出力が選
択されて°1”となり他のデコーダ出力が”0#となる
と、トランジスタT14−1を通じテ) ラフ9X 9
Tta−5clJ’j’ ) k’XV O−v
th電位となってオンするが1 トランジスタ’11−
1 m・・・のゲートは@0#レベルであ0のでオフす
る。ここで、クロック信号φWが゛1#レベルにな0と
、ワード@WLI が“1”となるが、キャパシタc
3−1によってトランジスタTlj−1のゲート璽位力
j#圧され、トランジスタTi4−1かカットオフとな
るため−トランジスタTta−tのゲート電位g;jV
o+3Vth以上ICナリs 7− F l! WLI
にはクロック信号φWと同じ電位Vo÷2Vthが出力
される。According to the above circuit, for example, when the output of the row decoder 71 is selected and becomes "°1" and the output of other decoders becomes "0#", the output of the row decoder 71 becomes "0#" through the transistor T14-1.
Tta-5clJ'j') k'XV O-v
It becomes th potential and turns on, but 1 transistor '11-
The gate of 1 m... is at @0# level and is 0, so it is turned off. Here, when the clock signal φW goes to the "1#" level and becomes 0, the word @WLI becomes "1", but the capacitor c
3-1, the gate potential of the transistor Tlj-1 is increased by j#, and the transistor Ti4-1 is cut off, so that the gate potential g of the transistor Tta-t; jV
o+3Vth or more IC level s 7-F l! W.L.I.
The same potential Vo÷2Vth as the clock signal φW is output.
次IC%第4図(b)に示すカラム線電位発生回路を説
明する。この回路は、基本的には上述したワード線電位
発生回路と略同−である。すなわち、々ラム線タイミン
グ信号がバッファ8を通ってクロック信号φOとなるか
、このクロック信号φCがナンド回路N1及びインバー
タI。Next IC% The column line potential generation circuit shown in FIG. 4(b) will be explained. This circuit is basically substantially the same as the word line potential generation circuit described above. That is, either the RAM line timing signal passes through the buffer 8 and becomes the clock signal φO, or this clock signal φC is passed through the NAND circuit N1 and the inverter I.
を通って一定の遅延が7Jムけられる。尚、インバータ
■1の出力とクロック信号φ0との間にキャパシタ0番
が接続される。上記カント@ MN 1め他方入力上し
て書き込み用ライト信号が入力さイLる。また、上記イ
ンパータエ、の出力端と基準’4E 瀞V 8との間に
はトランジスタ’Asが接続されており、このトランジ
スタT’tsのゲートにはインバータ1.〜■、により
遅延がかけられたライ)(1号が入力され0ようになっ
ている。A constant delay of 7J is removed through the circuit. Incidentally, capacitor No. 0 is connected between the output of inverter 1 and clock signal φ0. The above-mentioned cant@MN 1st input and the other input, the write signal for writing is input. Further, a transistor 'As is connected between the output terminal of the inverter 1 and the reference '4E', and the gate of this transistor T'ts is connected to the inverter 1. 〜■, delay is applied) (No. 1 is input and it becomes 0.
このクロック信号φaと力5AliCL1aCL2m・
・・及びカラムデコーダ9との間にはそれぞれトランジ
スタ’I’ts −1eTlll−!・・・、トランジ
スタT、71、T、マー、・・・及びキャパシタCmC
m−5ee*・・・が設けられている。This clock signal φa and the power 5AliCL1aCL2m・
...and the column decoder 9, there are transistors 'I'ts -1eTllll-!', respectively. . . . , transistor T, 71, T, mer, . . . and capacitor CmC
m-5ee*... are provided.
上記カラム電位発生回路によれば、カラム線タイミング
信号が”12レベル(Vo電位〕、ライト信号が@1ル
ベルとなると、ナンド回路N1インバータI、によって
このインバータI、出力は“11となる。このインパー
タエ、の“11出力はキャパシタC,を通じて弁明され
るので、クロック信号φCの電位はVo+Vth以上と
なる。According to the above column potential generation circuit, when the column line timing signal is at level 12 (Vo potential) and the write signal is @1 level, the output of this inverter I becomes "11" by the NAND circuit N1 inverter I. Since the "11 output" of the inverter is passed through the capacitor C, the potential of the clock signal φC becomes equal to or higher than Vo+Vth.
その後、ライト信号はインバータ■、〜■、により一定
時間遅延されてトランジスタT’+sのゲートに入力さ
れ、このゲート電位を@11としてオン動作さすること
によって、インバータI。Thereafter, the write signal is delayed for a certain period of time by inverters 1 and 2, and is input to the gate of the transistor T'+s, and the inverter I is turned on by setting this gate potential to @11.
の出力が“0ルベルとなり、キャパシタC4によってク
ロック信号φCは再びVc電位となる。The output becomes "0 level", and the clock signal φC becomes the Vc potential again by the capacitor C4.
Ic出力される。Ic is output.
上述した説明では、メモリ セル1のキャパシタCMに
Vo+Vth電位を書き込んだが、ワード線WL及びデ
ータ@DLをもっと昇圧してV。In the above explanation, the potential Vo+Vth was written to the capacitor CM of the memory cell 1, but the voltage of the word line WL and data @DL is further increased to V.
+2Vth電位あるいはそれ以上の電位をキャパシタC
Mに書き込むようにすれば、−より動作マージンを大き
くでき安定な回路動作とし得る。+2Vth potential or higher potential is connected to capacitor C.
By writing to M, the operating margin can be made larger than - and stable circuit operation can be achieved.
尚、上記実施例では、2本のデータ線に同数のメモリセ
ルを接続すると共に1個づつダ1−セルを接続し1バラ
ンス層センスアンプにより2本のデータ線のレベル差を
検出しているが、ダミーセルを用いることなく一定電圧
を一方の入力とするようなセンスアンプを用いるような
場合にも本発明を適用し得るものである。要するに本発
明は、1組のM08トランジスタおよび1個のキャパシ
タにより1ビツトデータを記憶するメモリ七ル、データ
II、センス7ンプを備えたMO8ダイナミックメモリ
に適用し得る。In the above embodiment, the same number of memory cells are connected to the two data lines, one D1-cell is connected to each, and the level difference between the two data lines is detected by one balance layer sense amplifier. However, the present invention can also be applied to a case where a sense amplifier that receives a constant voltage as one input is used without using a dummy cell. In short, the present invention can be applied to an MO8 dynamic memory comprising a memory 7, data II, and sense 7 amplifier that stores 1-bit data using a set of M08 transistors and a capacitor.
以上説明したように本発明によれば%1トランジスタ、
1キヤパシタ型のメそリャルに電源電圧より大きな電圧
を書き込む事ができる(2)路手段を設けているので、
上記メモリセルの電荷蓄積容量を増大でき、動作マージ
ンの大きな安定したMO8ダイナミックメモリを提供で
きる。As explained above, according to the present invention, %1 transistor,
(2) Since it is equipped with a path means that can write a voltage larger than the power supply voltage to the 1-capacitor type mesorial,
The charge storage capacity of the memory cell can be increased, and a stable MO8 dynamic memory with a large operating margin can be provided.
第1図は本発明の一実施例に係るMO8ダイナミックメ
モリの回路構放図、′@2図は第1図のメモリのデータ
読み出し動作をaaするためのタイムチャート、@3図
は第1図のメモリのデータ書き込み動作を説明するため
のタイムチャート、1114図(a) (b)は!!i
WJのメモリに用いられる電位発生口路を示し%(−)
はワード1電位発生回路構成図、負)はカラム線電位発
生回路構成図である。
l・・・センスアンプ、2…メモ9セル、1@・−ダミ
ーメモリセル、N4・・・プリアンプ、5・・・リフレ
ッシュ回路、6,8・・・バッファ、r・・・ローデコ
ーダ、9・・・カラムデコーダ、DL、DL・・・デー
タ線、WLI 、WL2・・・ワード線、DWLI。
DWL2・・・ダミーワード線、CLI 、C112・
・・カラム線、I/* # I/a・・・入出力縁、
cM、cB。
C1−+−CI・・・キャパシタ、T1〜’r、、 e
T M *TD、’Pw・・・トランジスタ、vO・
・・電源、Vs・・・基準電源、V!I・・・比較電源
、φν・・・プリチャージ用クロック信号、φ1〜φ1
、φW、φO・・・クロック信号。Figure 1 is a circuit configuration diagram of an MO8 dynamic memory according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a time chart for aa data read operation of the memory in Figure 1, Figure @3 is the diagram shown in Figure 1. Figures 1114 (a) and (b) are time charts for explaining the data writing operation of the memory. ! i
Indicates the potential generation path used in WJ memory %(-)
is a block diagram of a word 1 potential generation circuit, and (negative) is a block diagram of a column line potential generation circuit. l...Sense amplifier, 2...Memo 9 cells, 1@...-dummy memory cell, N4...Preamplifier, 5...Refresh circuit, 6, 8...Buffer, r...Low decoder, 9 ... Column decoder, DL, DL... Data line, WLI, WL2... Word line, DWLI. DWL2...Dummy word line, CLI, C112.
・・Column line, I/* # I/a ・・Input/output edge,
cM, cB. C1-+-CI...Capacitor, T1~'r,, e
T M *TD, 'Pw...Transistor, vO・
...Power supply, Vs...Reference power supply, V! I: Comparison power supply, φν: Precharge clock signal, φ1 to φ1
, φW, φO...clock signals.
Claims (3)
タlこより1ピツFデータの記憶を行なうメモリセルと
、このメモ9セルに接続されたデータ線と−このデータ
線にトランスファゲートを介して接続されたセンスアン
プと、前記データ線に接続されデータ書き込み時に前記
メモリセルに′#IL源電圧主電圧きな電圧を書き込む
書き込み手段とを具備することをlf#黴とするMO8
ダイナミックメモリ。(1) One MO8) transistor and one capacitor, a memory cell that stores 1 bit F data, and a data line connected to this memo 9 cell - connected to this data line via a transfer gate. The MO8 includes a sense amplifier connected to the data line and writing means for writing a voltage equal to the IL source voltage main voltage into the memory cell during data writing.
dynamic memory.
タにより1とットデータの記憶を行なうメモリセルを2
本のデータ線に同数づつ接続してなるメモリセルアレイ
と、前記各データ線に1個づつ接続されm記メモリセル
を同じ構造よりなるダミーセルと1前記2本のデータ線
にそれぞれトランスファゲートを介して211aJ端子
が接続されたセンスアンプと、前記データ組に接続され
データ書き込・み時に選択されたメモリセルに電源電圧
より大きな電圧を書き込む書き込み手段とを具備するこ
とを特徴とするMO8ダイナミックメモリ。(2) One MO8) transistor and one capacitor make up two memory cells that store one bit of data.
A memory cell array consisting of the same number of memory cells connected to each of the data lines, and a dummy cell having the same structure, m memory cells connected to each data line, respectively, are connected to the two data lines via transfer gates. An MO8 dynamic memory comprising: a sense amplifier connected to a 211aJ terminal; and write means connected to the data set and configured to write a voltage higher than a power supply voltage to a memory cell selected at the time of data write.
線を電源電圧以上に昇圧する回路を有し、このデータ線
の昇圧電圧をメモリセルに書き込むようにしてなること
84I黴とする特許請求の範囲!2項記載のMtJ8ダ
イナミックメモーリ。(3) The writing means has a circuit that boosts the voltage of the l#l# levelter line to a level higher than the power supply voltage, and writes the boosted voltage of the data line to the memory cell. Range! MtJ8 dynamic memory described in section 2.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56120121A JPS5823387A (en) | 1981-07-31 | 1981-07-31 | Mos dynamic memory |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56120121A JPS5823387A (en) | 1981-07-31 | 1981-07-31 | Mos dynamic memory |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5823387A true JPS5823387A (en) | 1983-02-12 |
Family
ID=14778477
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56120121A Pending JPS5823387A (en) | 1981-07-31 | 1981-07-31 | Mos dynamic memory |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5823387A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62501807A (en) * | 1985-02-08 | 1987-07-16 | アメリカン テレフォン アンド テレグラフ カムパニ− | Semiconductor memory with boost word line |
| JPS63247997A (en) * | 1987-04-01 | 1988-10-14 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor storage device |
| US5426601A (en) * | 1993-01-27 | 1995-06-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor memory device having a prolonged data holding time |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54158828A (en) * | 1978-06-06 | 1979-12-15 | Toshiba Corp | Dynamic type semiconductor memory device |
-
1981
- 1981-07-31 JP JP56120121A patent/JPS5823387A/en active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54158828A (en) * | 1978-06-06 | 1979-12-15 | Toshiba Corp | Dynamic type semiconductor memory device |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62501807A (en) * | 1985-02-08 | 1987-07-16 | アメリカン テレフォン アンド テレグラフ カムパニ− | Semiconductor memory with boost word line |
| JPS63247997A (en) * | 1987-04-01 | 1988-10-14 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor storage device |
| US5426601A (en) * | 1993-01-27 | 1995-06-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor memory device having a prolonged data holding time |
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