JPS582483B2 - モノリシツククリスタルロハキヨウチヨウセイソウチ - Google Patents
モノリシツククリスタルロハキヨウチヨウセイソウチInfo
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- JPS582483B2 JPS582483B2 JP50083944A JP8394475A JPS582483B2 JP S582483 B2 JPS582483 B2 JP S582483B2 JP 50083944 A JP50083944 A JP 50083944A JP 8394475 A JP8394475 A JP 8394475A JP S582483 B2 JPS582483 B2 JP S582483B2
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- Japan
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- mask
- electrode
- adjusted
- electrodes
- mcf
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-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
- H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
- H03H3/02—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks
- H03H3/04—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks for obtaining desired frequency or temperature coefficient
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、良好な真空蒸着を行ってモノリシツククリス
タルろ波器などの電極の共振周波数を調整するモノリシ
ツククリスタルろ波器用調整装置に関する。
タルろ波器などの電極の共振周波数を調整するモノリシ
ツククリスタルろ波器用調整装置に関する。
モノリシツククリスタルろ波器（以下ＭＣＦと称する）
は、１枚の圧電結晶板の上面および下面に相対向する電
極対を複数個設けた、エネルギーとじこめ現象を利用す
るろ波器で、第１図は複数個の電極対を１次元的に配置
した電極勾の数が比較的少ないＭＣＦの例、第２図は複
数個の電極対を２次元的に配置した電極対の数が比較的
多いＭＣＦの例であり、１は水晶板、２は水晶板の上面
，下面に対向している電極、３は上面の電極２の端子、
４は下面の電極２の端子、５はセラミック板を示す。
は、１枚の圧電結晶板の上面および下面に相対向する電
極対を複数個設けた、エネルギーとじこめ現象を利用す
るろ波器で、第１図は複数個の電極対を１次元的に配置
した電極勾の数が比較的少ないＭＣＦの例、第２図は複
数個の電極対を２次元的に配置した電極対の数が比較的
多いＭＣＦの例であり、１は水晶板、２は水晶板の上面
，下面に対向している電極、３は上面の電極２の端子、
４は下面の電極２の端子、５はセラミック板を示す。
さて、従来のＭＣＦの共振周波数調整装置は、第１図の
ような１次元的配置の電極対の数が比較的少ないＭＣＦ
の周波数調整を行うためのものであり、そのシャッター
機構の構造を第３Ａ図、第３Ｂ図、第４図に示す。
ような１次元的配置の電極対の数が比較的少ないＭＣＦ
の周波数調整を行うためのものであり、そのシャッター
機構の構造を第３Ａ図、第３Ｂ図、第４図に示す。
ここで、第３Ｂ図は第３Ａ図のＡ−Ａ’断面図である。
第３Ａ図、第３Ｂ図において、１はＭＣＦの水晶板、２
はＭＣＦの電極、６は調整装置の本体、７はシャッター
用のガイド、８はシャッター、９は電極２の形状に対応
した小孔であり、シャッター８がガイド７に沿つてａ方
向へ移動することにより蒸着物が小孔９を通過して電極
２に付着して電極２の膜厚は増加し、シャッター８がｂ
方向へ移動することにより蒸着物の通過が遮断されて電
極２の膜厚はそのままの状態となる。
はＭＣＦの電極、６は調整装置の本体、７はシャッター
用のガイド、８はシャッター、９は電極２の形状に対応
した小孔であり、シャッター８がガイド７に沿つてａ方
向へ移動することにより蒸着物が小孔９を通過して電極
２に付着して電極２の膜厚は増加し、シャッター８がｂ
方向へ移動することにより蒸着物の通過が遮断されて電
極２の膜厚はそのままの状態となる。
第４図において、１０はシャッター、１１はシャッター
１０の回転軸でありこの種のシャツター機構は、シャッ
ター１０が回転軸１１を支点とした開閉動作を行うこと
により上記の第３図の場合と同様に電極２の膜厚を変化
させるものである。
１０の回転軸でありこの種のシャツター機構は、シャッ
ター１０が回転軸１１を支点とした開閉動作を行うこと
により上記の第３図の場合と同様に電極２の膜厚を変化
させるものである。
すなわち、従来の周波数調整装置は上記のようなシャッ
ター機構により電極２の膜厚を変化させ共振周波数の調
整を行っていた。
ター機構により電極２の膜厚を変化させ共振周波数の調
整を行っていた。
このように従来装置では各電極ごとに１個のシャツタ機
構を使用するため、第１図のような１次元的配置で電極
対の数が比較的少ないＭＣＦの周波数調整を行う場合は
問題がないが、第２図のような２次元的配置や電極対の
数が比較的多いＭＣＦの周波数調整を行う場合は、電極
対の数の増加に応じてシャッター機構数も増加するため
、装置の機構が非常に複雑となる欠点があった。
構を使用するため、第１図のような１次元的配置で電極
対の数が比較的少ないＭＣＦの周波数調整を行う場合は
問題がないが、第２図のような２次元的配置や電極対の
数が比較的多いＭＣＦの周波数調整を行う場合は、電極
対の数の増加に応じてシャッター機構数も増加するため
、装置の機構が非常に複雑となる欠点があった。
また、従来のシャッター機構を２次元的配置の電極に対
応するように配置した装置を設計することは、シャッタ
ーの構造上非常に困難であった。
応するように配置した装置を設計することは、シャッタ
ーの構造上非常に困難であった。
そこで、２次元的配置のＭＣＦの周波数調整を行う場合
に、１次元的配置のシャッター機構を有する従来装置を
何度かの工程に分けて用いる方法も考えられるが、この
方法によると各電極の蒸着膜の均一性が保てないばかり
か、工程中に汚染が生じてＭＣＦの性能が劣化する欠点
があった。
に、１次元的配置のシャッター機構を有する従来装置を
何度かの工程に分けて用いる方法も考えられるが、この
方法によると各電極の蒸着膜の均一性が保てないばかり
か、工程中に汚染が生じてＭＣＦの性能が劣化する欠点
があった。
本発明は、従来技術の上記欠点を除去するもので、その
目的は、１次元的配置で比較的多数の電極対あるいは２
次元的配置の電極対を有するＭＣＦにおいても電極の共
振周波数調整を真空蒸着法により１工程で能率よく行う
ことができるモノリシツククリスタルろ波器用調整装置
を提供することにある。
目的は、１次元的配置で比較的多数の電極対あるいは２
次元的配置の電極対を有するＭＣＦにおいても電極の共
振周波数調整を真空蒸着法により１工程で能率よく行う
ことができるモノリシツククリスタルろ波器用調整装置
を提供することにある。
この目的を満足する本発明の特徴は、調整対象物の各電
極とそれぞれ対応する複数の孔を設けた固定マスクと、
該固定マスクに微小空隙を介して近接し、該固定マスク
の各孔と孔軸を一致させることができる複数の孔を設け
た回転マスクと、該回転マスクを回転駆動する駆動機構
とを有し、前記回転マスクを回転駆動して前記回転マス
クの孔と前記固定マスクの各孔の孔軸とを順次一致させ
ることにより、上記一致した孔軸に対応する調整対象物
の電極に蒸着物を付着させ、該調整対象物の全電極の共
振周波数あるいは電極間結合量の調整を順次行うように
したことを特徴とするモノリシツククリスタルろ波器用
調整装置にある。
極とそれぞれ対応する複数の孔を設けた固定マスクと、
該固定マスクに微小空隙を介して近接し、該固定マスク
の各孔と孔軸を一致させることができる複数の孔を設け
た回転マスクと、該回転マスクを回転駆動する駆動機構
とを有し、前記回転マスクを回転駆動して前記回転マス
クの孔と前記固定マスクの各孔の孔軸とを順次一致させ
ることにより、上記一致した孔軸に対応する調整対象物
の電極に蒸着物を付着させ、該調整対象物の全電極の共
振周波数あるいは電極間結合量の調整を順次行うように
したことを特徴とするモノリシツククリスタルろ波器用
調整装置にある。
以下図面により本発明の実施例を説明する。
第５図は、本発明による装置の実施例で、２０は本装置
の本体、２１は回転マスク、２２はラチェット歯車、２
３は回転軸、２４は蒸着物の通過する孔で回転マスク２
１の円周上に数個配置されているもの、２５は回転マス
ク２１とラチェット歯車２２とを固定し孔２４を作成す
る場合の基準となる固定ピン、２６は調整すべきＭＣＦ
の保持部の挿入部、２７はラチェット歯車２２を駆動す
るソレノイドリレー、２８はソレノイドリレー２７のプ
ランジャー、２９．３０はリンク、３１はリンク２９．
３０とプランジャー２８とを結合するピン、３２はリス
ク２９．３０の回転軸、３３はリンク２９，３０の動作
範囲調整部、３４は調整用小伴型孔、３５はリンク３０
に固定されたピン、３６はプランジャー２８の復起用ス
プリング、３７は復起用スプリング３６のストッパ、３
８はラチェット爪、３９はソレノイドリレー２７の電源
入力端子、４０はソレノイドリレー２７の駆動電源、Ｃ
はラチェツウ歯車２２および回転マスク２１の回転方向
、ｄはリンク２９の駆動方向を示す。
の本体、２１は回転マスク、２２はラチェット歯車、２
３は回転軸、２４は蒸着物の通過する孔で回転マスク２
１の円周上に数個配置されているもの、２５は回転マス
ク２１とラチェット歯車２２とを固定し孔２４を作成す
る場合の基準となる固定ピン、２６は調整すべきＭＣＦ
の保持部の挿入部、２７はラチェット歯車２２を駆動す
るソレノイドリレー、２８はソレノイドリレー２７のプ
ランジャー、２９．３０はリンク、３１はリンク２９．
３０とプランジャー２８とを結合するピン、３２はリス
ク２９．３０の回転軸、３３はリンク２９，３０の動作
範囲調整部、３４は調整用小伴型孔、３５はリンク３０
に固定されたピン、３６はプランジャー２８の復起用ス
プリング、３７は復起用スプリング３６のストッパ、３
８はラチェット爪、３９はソレノイドリレー２７の電源
入力端子、４０はソレノイドリレー２７の駆動電源、Ｃ
はラチェツウ歯車２２および回転マスク２１の回転方向
、ｄはリンク２９の駆動方向を示す。
ラチェット歯車２２とリンク２９の先端部がかみ合って
いるため、ソレノイドリレー２７によりリンク２９が矢
印ｄ方向に移動すると回転マスク２１は矢印Ｃ方向に回
転し、蒸着物の通過する孔２４の移動が行われ、挿入部
２６内に設置されているＭＣＦの調整対象とする電極に
孔２４を合わせることができる。
いるため、ソレノイドリレー２７によりリンク２９が矢
印ｄ方向に移動すると回転マスク２１は矢印Ｃ方向に回
転し、蒸着物の通過する孔２４の移動が行われ、挿入部
２６内に設置されているＭＣＦの調整対象とする電極に
孔２４を合わせることができる。
即ち、回転マスク２１は、前回の調整完了後はあらかじ
め定めた初期位置に戻っており、ラチェット歯車２２の
歯数を単位として、回転マスク２１を初期位置からどれ
だけ回転駆動させればこの回転マスク２１の孔２４と固
定マスク４３の孔４２とが一致するかはあらかじめ設定
されている。
め定めた初期位置に戻っており、ラチェット歯車２２の
歯数を単位として、回転マスク２１を初期位置からどれ
だけ回転駆動させればこの回転マスク２１の孔２４と固
定マスク４３の孔４２とが一致するかはあらかじめ設定
されている。
なお、駆動電源４０からソレノイドリレー２７に送り込
まれるパルスの数に応じた歯数だけラチェット歯車２２
が回転せしめられることは周知の通りである。
まれるパルスの数に応じた歯数だけラチェット歯車２２
が回転せしめられることは周知の通りである。
第６図は、第５図のＢ−Ｂ’断面を詳細に表わした図で
、４１は第２図に示した１１個の電極対を有するＭＣＦ
，４２はＭＣＦ４１の電極２の形状に対応して加工され
た１１個の孔、４３は孔４２を有する固定マスク、４４
は孔４２が存在する範囲を切り抜いた絶縁板、４５は電
極２と孔４２との相互位置を決めるＭＣＦ４１の位置決
め用ガイド、４６は固定マスク４３、絶縁板４４、位置
決め用ガイド４５の保持部、４７はＭＣＦ４１の取付バ
ネ、４８は電極対の数に対応した１１個のリードリレー
、４９．５０はリードリレー４８の入力、出力端子、５
１ ．５２はリードリレー４８の駆動端子、５３はアー
ス板、６６．６７は共通アース線、５４は共振周波数測
定部、５５は電源部、５６．５７はスイッチ、５８は蒸
着防止カバー、５９は蒸着防止カバー５８に設けられた
蒸着物通過用の孔である。
、４１は第２図に示した１１個の電極対を有するＭＣＦ
，４２はＭＣＦ４１の電極２の形状に対応して加工され
た１１個の孔、４３は孔４２を有する固定マスク、４４
は孔４２が存在する範囲を切り抜いた絶縁板、４５は電
極２と孔４２との相互位置を決めるＭＣＦ４１の位置決
め用ガイド、４６は固定マスク４３、絶縁板４４、位置
決め用ガイド４５の保持部、４７はＭＣＦ４１の取付バ
ネ、４８は電極対の数に対応した１１個のリードリレー
、４９．５０はリードリレー４８の入力、出力端子、５
１ ．５２はリードリレー４８の駆動端子、５３はアー
ス板、６６．６７は共通アース線、５４は共振周波数測
定部、５５は電源部、５６．５７はスイッチ、５８は蒸
着防止カバー、５９は蒸着防止カバー５８に設けられた
蒸着物通過用の孔である。
ＭＣＦ４１を本装置に取り付けるには、まず、保持部４
６の内部に固定マスク４３、絶縁板４４、位置決め用ガ
イド４５を重ね合わせ、ＭＣＦ４１をセラミック板５の
面が上方となるように位置決め用ガイド４５に沿って設
置し、取付バネ４７で固定する。
６の内部に固定マスク４３、絶縁板４４、位置決め用ガ
イド４５を重ね合わせ、ＭＣＦ４１をセラミック板５の
面が上方となるように位置決め用ガイド４５に沿って設
置し、取付バネ４７で固定する。
次に、ＭＣＦの端子３，４の入力側を１１個のリードリ
レーの入力端子４９に接続し、端子３，４の出力側を共
通アース線６６に接続し、１１個のリードリレー４８の
出力端子５０と共通アース線６７および駆動端子５１
．５２はスイッチ５６．５７を介して測定部５４、およ
び電源部５５に接続すれば良い。
レーの入力端子４９に接続し、端子３，４の出力側を共
通アース線６６に接続し、１１個のリードリレー４８の
出力端子５０と共通アース線６７および駆動端子５１
．５２はスイッチ５６．５７を介して測定部５４、およ
び電源部５５に接続すれば良い。
第７図は、本実施例の装置を真空蒸着機のガラス鐘内に
設置したもので、５８は蒸着防止カバー、６０はガラス
鐘、６１はヒーター、６２はシャッター、６３は本装置
の本体２０の支柱、６４はリード線の束、６５はガラス
鐘の外に位置する共振用波数測定部５４、電源部５５、
および駆動電源４０を示す。
設置したもので、５８は蒸着防止カバー、６０はガラス
鐘、６１はヒーター、６２はシャッター、６３は本装置
の本体２０の支柱、６４はリード線の束、６５はガラス
鐘の外に位置する共振用波数測定部５４、電源部５５、
および駆動電源４０を示す。
以上のような構成の共振周波数調整装置により、第２図
に示した１１個の電極対を有するＭＣＦ４１の周波数調
整を行うには、ＭＣＦ４１を前記の如く本装置の本体２
０に設置して結線を行った後、蒸着防止カバー５８をか
け、回転マスク２１の始点を設定し、ガラス鐘内を真空
にし、調整すべき電極に対応するスイッチ５６．５７を
投入して蒸着調整を行う。
に示した１１個の電極対を有するＭＣＦ４１の周波数調
整を行うには、ＭＣＦ４１を前記の如く本装置の本体２
０に設置して結線を行った後、蒸着防止カバー５８をか
け、回転マスク２１の始点を設定し、ガラス鐘内を真空
にし、調整すべき電極に対応するスイッチ５６．５７を
投入して蒸着調整を行う。
蒸着物はヒーター６１から開放されたシャッター６２を
通り、蒸着防止カバー５８の孔５９および回転マスク２
１の孔２４および固定マスク４３の孔４２を介して電極
２に到達し、これに付着する。
通り、蒸着防止カバー５８の孔５９および回転マスク２
１の孔２４および固定マスク４３の孔４２を介して電極
２に到達し、これに付着する。
従って、調整すべき電極２に対応する固定マスク４３の
孔４２と回転マスク２１の孔２４とが重なるようにソレ
ノイドリレー２７を駆動して、ラチェット歯車２２を回
転させることにより、１１個の電極対を有するＭＣＦ４
１のすべての電極が順次調整できる。
孔４２と回転マスク２１の孔２４とが重なるようにソレ
ノイドリレー２７を駆動して、ラチェット歯車２２を回
転させることにより、１１個の電極対を有するＭＣＦ４
１のすべての電極が順次調整できる。
すなわち、ガラス鐘外のスイッチ操作により、上記のす
べての電極の共振周波数が同一真空中で簡単に能率良く
調整できる。
べての電極の共振周波数が同一真空中で簡単に能率良く
調整できる。
同様にして、固定マスク４３と回転マスク２１を交換す
ることにより、１次元的配置で電極対の数が多いＭＣＦ
や２次元的配置で電極対の数が多いＭＣＦについても共
振周波数の調整および共振子間結合量の調整を行うこと
が可能である。
ることにより、１次元的配置で電極対の数が多いＭＣＦ
や２次元的配置で電極対の数が多いＭＣＦについても共
振周波数の調整および共振子間結合量の調整を行うこと
が可能である。
以上説明したように、本発明によるモノリシッククリス
タルろ波器用調整装置は、固定マスクと回転マスクとを
交換するのみで種々のモノリシッククリスタルろ波器に
ついて共振周波数の調整が容易に能率良く行える利点を
有すると共に、同一真空中ですべての共振周波数調整が
行えるため、調整工程中に汚染されて共振周波数の変動
あるいは共振尖鋭度の劣化が生じることがなく、均一な
電極を作成することができる利点がある。
タルろ波器用調整装置は、固定マスクと回転マスクとを
交換するのみで種々のモノリシッククリスタルろ波器に
ついて共振周波数の調整が容易に能率良く行える利点を
有すると共に、同一真空中ですべての共振周波数調整が
行えるため、調整工程中に汚染されて共振周波数の変動
あるいは共振尖鋭度の劣化が生じることがなく、均一な
電極を作成することができる利点がある。
第１図は１次元的配置の電極を有するモノリシツククリ
スタルろ波器の一例を示す構造図、第２図は２次元的配
置の電極を有するモノリシッククリスタルろ波器の一例
を示す構造図、第３Ａ図は従来の調整装置のシャッター
機構部の一例を示す構造図、第３Ｂ図は第３Ａ図の断面
図、第４図は従来の調整装置のシャッター機構部の一例
を示す断面図、第５図は本発明による調整装置の一実施
例を示す構造図、第６図は第５図の一断面図、第７図は
本発明による調整装置を実際に動作させる状態の説明図
である。 １…水晶板、２…電極、３，４…端子、５…セラミック
板、６，２０…本体、７…ガイド、８，１０．６２…シ
ャッター、９…小孔、１１…回転軸、２１…回転マスク
、２２…ラチェット歯車、２３…回転軸、２４，４２．
５９…孔、２５…固定ピン、２６…挿入部、２７…ソレ
ノイドリレー、２８…プランジャー、２９．３０…リン
ク、３１，３５…ピン、３２…回転軸、３３…動作調整
部、３４…小判型孔、３６…復起用スプリング、３７…
ストツパ、３８…ラチェット爪、３９…電源入力端子、
４０…駆動電源、４１…モノリシッククリスタルろ波器
、４３…固定マスク、４４…絶縁板、４５…位置決めガ
イド、４６…保持部、４７…取付バネ、４８…リードリ
レー、４９，５０…入力、出力端子、５１ ．５２…駆
動端子、５３…アース板、５４…共振周波数測定部、５
５…電源部、５６．５７…スイッチ、５８…蒸着防止カ
バー、６０…ガラス鐘、６１…ヒーター、６３…支柱、
６４…リード線の束、６５…共振周波数測定部および電
源部、６６．６７…共通アース線。
スタルろ波器の一例を示す構造図、第２図は２次元的配
置の電極を有するモノリシッククリスタルろ波器の一例
を示す構造図、第３Ａ図は従来の調整装置のシャッター
機構部の一例を示す構造図、第３Ｂ図は第３Ａ図の断面
図、第４図は従来の調整装置のシャッター機構部の一例
を示す断面図、第５図は本発明による調整装置の一実施
例を示す構造図、第６図は第５図の一断面図、第７図は
本発明による調整装置を実際に動作させる状態の説明図
である。 １…水晶板、２…電極、３，４…端子、５…セラミック
板、６，２０…本体、７…ガイド、８，１０．６２…シ
ャッター、９…小孔、１１…回転軸、２１…回転マスク
、２２…ラチェット歯車、２３…回転軸、２４，４２．
５９…孔、２５…固定ピン、２６…挿入部、２７…ソレ
ノイドリレー、２８…プランジャー、２９．３０…リン
ク、３１，３５…ピン、３２…回転軸、３３…動作調整
部、３４…小判型孔、３６…復起用スプリング、３７…
ストツパ、３８…ラチェット爪、３９…電源入力端子、
４０…駆動電源、４１…モノリシッククリスタルろ波器
、４３…固定マスク、４４…絶縁板、４５…位置決めガ
イド、４６…保持部、４７…取付バネ、４８…リードリ
レー、４９，５０…入力、出力端子、５１ ．５２…駆
動端子、５３…アース板、５４…共振周波数測定部、５
５…電源部、５６．５７…スイッチ、５８…蒸着防止カ
バー、６０…ガラス鐘、６１…ヒーター、６３…支柱、
６４…リード線の束、６５…共振周波数測定部および電
源部、６６．６７…共通アース線。
Claims (1)
- １ 調整対象物の各電極形状にそれぞれ一致する形状の
複数の開口部を有しかつ各開口部が対応する各電極に対
向するように固定される固定マスクと、該固定マスクに
微小空隙を介して近接し、該固定マスクの所望の開口部
と開口位置を一致させることができる複数の開口部を設
けた回転マスクと、該回転マスクを回転駆動する駆動機
構とを有し、前記回転マスクを回転駆動して前記回転マ
スクの開口部のうちの一つと前記固定マスクの所望の開
口部とを一致させ両開口部の相互位置を固定することに
より、上記一致固定した開口部に対応ずる調整対象物の
電極に蒸着物を付着させ、該調調対象物の電極の共振周
波数あるいは電極間結合量の調整を行うようにしたこと
を特徴とするモノリシツククリスタルろ波器用調整装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50083944A JPS582483B2 (ja) | 1975-07-10 | 1975-07-10 | モノリシツククリスタルロハキヨウチヨウセイソウチ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50083944A JPS582483B2 (ja) | 1975-07-10 | 1975-07-10 | モノリシツククリスタルロハキヨウチヨウセイソウチ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS528750A JPS528750A (en) | 1977-01-22 |
| JPS582483B2 true JPS582483B2 (ja) | 1983-01-17 |
Family
ID=13816684
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50083944A Expired JPS582483B2 (ja) | 1975-07-10 | 1975-07-10 | モノリシツククリスタルロハキヨウチヨウセイソウチ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS582483B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2611371A (en) * | 2020-10-08 | 2023-04-05 | Nvidia Corp | Datacenter cooling fluid quality analysis and mitigation |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4883341B2 (ja) * | 2005-08-24 | 2012-02-22 | アイシン精機株式会社 | シートリクライニング装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS521753B2 (ja) * | 1973-05-30 | 1977-01-18 |
-
1975
- 1975-07-10 JP JP50083944A patent/JPS582483B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2611371A (en) * | 2020-10-08 | 2023-04-05 | Nvidia Corp | Datacenter cooling fluid quality analysis and mitigation |
| US11991865B2 (en) | 2020-10-08 | 2024-05-21 | Nvidia Corporation | Datacenter cooling fluid quality analysis and mitigation |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS528750A (en) | 1977-01-22 |
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