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JPS5826436B2 - Electrolyte for gold plating - Google Patents
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JPS5826436B2 - Electrolyte for gold plating - Google Patents

Electrolyte for gold plating

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Publication number
JPS5826436B2
JPS5826436B2 JP7747279A JP7747279A JPS5826436B2 JP S5826436 B2 JPS5826436 B2 JP S5826436B2 JP 7747279 A JP7747279 A JP 7747279A JP 7747279 A JP7747279 A JP 7747279A JP S5826436 B2 JPS5826436 B2 JP S5826436B2
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electrolyte
gold plating
potassium
water
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アレクサンドル・ヤコヴレヴイツチ・フリドマン
アレクサンドル・ヴオルフオヴイツチ・ベリキン
エレナ・ヴアシリエフナ・シエムヤキナ
ニナ・アレクサンドロフナ・スマグノヴア
ニナ・ミハイロフナ・ドヤトロヴア
リユードミラ・クレメンテイエフナ・ニケロヴア
ヴエラ・ヤコヴレフナ・テムキナ
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AREKUSANDO
BERA MAYAKOREFUNA TEMUKINA
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AREKUSANDO
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  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は金化合物の生成に係り、特に、金メツキ用の電
解液に係る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to the production of gold compounds, and more particularly to electrolytes for gold plating.

本発明は、電子装置や時計の製造や宝石細工や無線技術
用の全反応体の生成に有利である。
The invention is advantageous for the production of all reactants for electronic device and watch manufacturing, jewelery and radio technology.

これ昔でに知られている電解液はジンアノ金酸のナトリ
ウム塩又はカリウム塩をベースとした金メツキ電解液で
あり且っ又硫酸カリウム、燐酸水素カリウム、エチレン
ジアミノ酢酸アルカリ金属塩を含む金メツキ電解液であ
り、これらはアルカリ金属シアン化物の溶液中に金をア
ノード溶解又は化学溶解することによって生成される。
The electrolytes known in the past are gold-plated electrolytes based on sodium or potassium salts of dianoauric acid, and gold-plated electrolytes containing potassium sulfate, potassium hydrogen phosphate, and alkali metal salts of ethylene diaminoacetic acid. Electrolytes, these are produced by anodic or chemical dissolution of gold in solutions of alkali metal cyanides.

この型式の電解液の生成及び使用には有毒成分の発生を
伴ない且つそれらを無害なものにすることを必要とする
The production and use of this type of electrolyte involves the generation of toxic components and requires rendering them harmless.

上記した公知の電解液は被膜の厚みが厚い場合にしか良
資の被膜を得ることができない。
The above-mentioned known electrolytes can only provide a good-quality film if the film is thick.

又、上記した公知の金メツキ電解液の生成及び使用には
、使用済みの母液から金を回収するのが困難であり且つ
有毒成分が発生するという問題点を伴なう。
Further, the production and use of the above-described known gold plating electrolytes are accompanied by problems in that it is difficult to recover gold from the used mother liquor and toxic components are generated.

最も広範に使用されている金メツキ電解液はジサルファ
イトオーレイト、エチレンジアミノジサルファイトオー
レイト及びアルカリ金属のシア□ノジサルファイトオー
レイトをベースとしたものであり、これら金メツキ電解
液の特性はその生成方法に基づいている。
The most widely used gold plating electrolytes are those based on disulfite oleate, ethylenediaminodisulfite oleate, and alkali metal sianodisulfite oleate; Properties are based on how they are created.

この方法はオーリクロロハイドリックアンドを、わずか
に溶解性の金化合物、即ち水酸化第二金又はオーリック
アンモニエートに転換してCI イオンから細化する
ことである。
The method is to refine the aurichlorohydric and from the CI ion by converting it to a slightly soluble gold compound, i.e., ferric hydroxide or auric ammoniate.

この金化合物はアルカリ金属の亜硫酸塩の溶液で処理さ
れ、そしてその後その溶液中に生じた亜硫酸塩複合体が
安定化される。
The gold compound is treated with a solution of an alkali metal sulfite, and the sulfite complex formed in the solution is then stabilized.

この様にして生成されたわずかに溶解できる金化合物は
安定性が低く、従って、金属性の金を部分的に発生せし
め、これが所望の生成物収量を低下させる。
The sparingly soluble gold compounds produced in this way have low stability and therefore partially generate metallic gold, which reduces the desired product yield.

又、これは保存中及び使用中安定である様な金メツキ用
の高濃度電解液の生成を妨げ、それにより金メツキ工程
の効率が低下される。
This also prevents the production of highly concentrated electrolytes for gold plating that are stable during storage and use, thereby reducing the efficiency of the gold plating process.

カリウムジサルファイトオーレイトをベースとしそして
次の様な組成を有する金メツキ電解液が知られている(
米国特許第3893896号参照〕K3〔Au(S03
)2〕6.8−68 Na2H2Ed ta O,1−10
0に2SO41,0−100 に2HPO410−40 水 残余 (電流密度はDk = 0.1−1.2 A/ dm”
;T=18−80℃) この金メツキ電解液は、均一電着性が9o%tでであり
、電流効率(yield current )が70−
80係1でであり、保存期間が25℃の温度で4ケ月程
度であり、分解開始点のDkが0.8A/dm2以上で
ある。
A gold-plated electrolyte based on potassium disulfite oleate and having the following composition is known (
See U.S. Pat. No. 3,893,896]K3[Au(S03
)2]6.8-68 Na2H2Ed ta O,1-10
0 to 2SO41, 0-100 to 2HPO410-40 water residual (current density is Dk = 0.1-1.2 A/ dm”
; T = 18-80°C) This gold plating electrolyte has a uniform electrodeposition of 90%t and a current efficiency (yield current) of 70%.
80 factor 1, the storage period is about 4 months at a temperature of 25° C., and the Dk at the starting point of decomposition is 0.8 A/dm2 or more.

この電解液は高質で細密な被膜を製造できる様にし、そ
のグイツカース硬さは80乃至220/li/1ll1
2であり、その多孔度は15μの厚みにおいてば25乃
至30孔//cdであり、そして5μ以下の厚みにおい
ては無孔である。
This electrolyte makes it possible to produce high-quality, fine-grained coatings, whose hardness ranges from 80 to 220/li/1ll1.
2, and its porosity is 25 to 30 pores//cd at a thickness of 15μ, and non-porous at a thickness of 5μ or less.

この電解液を生成する工程は、オーリクロロハイドリッ
クアンドをpH3乃至6のアンモニア溶液で処理して基
本的なオーリックアンモニエートを与え、その後母液を
デカンテーションしそして温水で洗浄することである。
The process of producing this electrolyte is to treat the aurichlorohydric acid with an ammonia solution at pH 3 to 6 to give the basic auric ammoniate, followed by decanting the mother liquor and washing with hot water.

それにより生じた懸濁液を亜硫酸カリウムの温かい溶液
(150f/、l。
The resulting suspension was mixed with a warm solution of potassium sulfite (150 f/, l).

という濃度)に添加し、その後、それにより生じた混合
物を70乃至90℃の温度範囲で48乃至72時間熱処
理し、そしてエチレンジアミン四酢酸アルカリ金属塩、
硫酸カリウム及び燐酸水素カリウムを添加する。
The resulting mixture is then heat-treated at a temperature range of 70-90° C. for 48-72 hours, and the alkali metal salt of ethylenediaminetetraacetic acid,
Add potassium sulfate and potassium hydrogen phosphate.

それによりできた電解液は、部分的に沈澱した金属性の
金を回収するためろ過される。
The resulting electrolyte is filtered to recover the partially precipitated metallic gold.

この様にして生成される金メツキ電解液の収量ば30乃
至60%であり、これは金属性の金に対して計算された
ものである。
The yield of the gold plating electrolyte produced in this way is between 30 and 60%, calculated for metallic gold.

この公知の金メツキ電解液は保存中及び使用中に安定性
が低下され、且つ技術的なパラメータが充分でない。
This known gold plating electrolyte has a reduced stability during storage and use and has unsatisfactory technical parameters.

本発明の主たる目的は、技術パラメータが改善され且つ
保存及び使用中の安定性が高い金メツキ電解液を提供す
ることである。
The main objective of the invention is to provide a gold-plated electrolyte with improved technical parameters and high stability during storage and use.

この目的は、亜硫酸塩イオンを持った複合金化合物と、
エチレンジアミン四酢酸アルカリ金属塩と、燐酸水素カ
リウムと、硫酸カリウムと、水とを含んだ金メツキ電解
液にかいて、本発明により、亜硫酸塩イオンを持った上
記複合金化合物として、μ−エチレンシア□ン四酢酸六
カリウムビス(亜硫酸金(I))を、次の様な成分割合
(f/l)で含んだことを特徴とする金メツキ電解液に
よって達成される。
The purpose was to create a composite gold compound with sulfite ions,
According to the present invention, μ-ethylene sia is added to a gold plating electrolyte containing an alkali metal salt of ethylenediaminetetraacetic acid, potassium hydrogen phosphate, potassium sulfate, and water as the composite gold compound having sulfite ions. This is achieved by a gold plating electrolyte characterized by containing hexapotassium bis(gold(I) sulfite) tetraacetate in the following component ratio (f/l).

μ−エチレンジアミン四酢酸六カリウムビス(亜硫酸金
(I)) i 0.5−123.0エチレン
シア□ン四酢酸アルカリ金属塩 17.8−140.0 硫酸カリウム 12.6−110.0燐酸水
素カリウム 4.7− 40.0水
残余 電解液にかけるこれら成分の含有量は、μ−エチレンジ
アミノ四酢酸六カリウムビス(亜硫酸第−金)の含有量
が10.5.@/、/、より少ない場合は電気付着率が
不充分であり一方その含有量が123?/lより多い場
合には被膜の質がそこなわれるということによって決定
される。
μ-ethylenediaminetetraacetic acid hexapotassium bis(gold(I) sulfite) i 0.5-123.0 Ethylene cyanidetetraacetic acid alkali metal salt 17.8-140.0 Potassium sulfate 12.6-110.0 Hydrogen phosphate Potassium 4.7- 40.0 Water
The content of these components to be added to the remaining electrolyte is such that the content of hexapotassium bis(ferrous sulfite) μ-ethylenediaminotetraacetate is 10.5. If it is less than @/, /, the electrodeposition rate is insufficient, and on the other hand, the content is 123? It is determined by the fact that if the amount is more than /l, the quality of the coating is impaired.

エチレンジアミン四酢酸アルカリ金属塩、硫化カリウム
及び燐酸水素カリウムの割合は被膜の質、特にその硬度
に影響を及ぼし、これらの特性ばμ−エチレンジアミン
四酢酸六カリウムビス(亜硫酸第−金)の含有量によっ
て定められる。
The proportions of the alkali metal salts of ethylenediaminetetraacetic acid, potassium sulfide and potassium hydrogen phosphate influence the quality of the coating, especially its hardness, and these properties are influenced by the content of hexapotassium bis(ferric sulfite) determined.

本発明による金メツキ電解液は次の成分を次の割合?/
lで含むのが望ましい。
The gold plating electrolyte according to the present invention contains the following components in the following proportions? /
It is desirable to include it in l.

μ−エチレンジアミン四酢酸六カリウムビス(亜硫酸第
−金) 10.5−25.0エチレンジアミ
ン四酢酸2ナトリウム2カリウム塩
17.8−40.0硫酸カリウム 12
.6−28.4燐酸水素カリウム 4.7−
10.4水 残余 最適な金メツキ電解液組成の上記で特定した成分量は使
用中に最大の信頼性を確保する。
μ-Ethylenediaminetetraacetic acid hexapotassium bis(ferrous sulfite) 10.5-25.0 Ethylenediaminetetraacetic acid disodium dipotassium salt
17.8-40.0 Potassium sulfate 12
.. 6-28.4 Potassium hydrogen phosphate 4.7-
10.4 Water Residual The above specified component amounts of the optimal gold plating electrolyte composition ensure maximum reliability during use.

従って上記した量のに2Na2Ed taは電極に隣
接した層における電界力の作用の下でエチレンジアミン
テトラアセテートイオンKe CAu (SOa )
2 Edta)の解離を防止する。
Therefore, in the amount mentioned above, 2Na2Ed ta is converted into ethylenediaminetetraacetate ion Ke CAu (SOa) under the action of electric field force in the layer adjacent to the electrode.
2 Edta).

この場合、電気化学反応は2重の電気層において行なわ
れるに過ぎず、溶液内で複合体が自ら分解して金が粉末
状の形態で遊離するのを防止する。
In this case, the electrochemical reaction only takes place in the double electrical layer, which prevents the complex from decomposing itself in solution and liberating the gold in powdered form.

上記で特定された量のに2S04は溶液のプロセス導電
率を受は容れられるものにする。
The amount of 2S04 specified above makes the process conductivity of the solution acceptable.

上記で特定された量のに2HPO。は媒体に緩衝特性を
生じさせる。
2HPO in the amounts specified above. creates a buffering property in the medium.

これが必要とされる理由は、アノードにおいて次の様な
反応が生じ、SO3”−+H2O−+e804” +
2H、従つて媒体の酸化が行なわれ、それにより溶液中
で複合体の分解を生じるからである。
The reason this is necessary is that the following reaction occurs at the anode, SO3"-+H2O-+e804"+
This is because oxidation of 2H and thus of the medium takes place, resulting in decomposition of the complex in solution.

本発明による金メツキ電解液組成性はその生成法によっ
て与えられる。
The compositional nature of the gold plating electrolyte according to the present invention is given by its method of production.

この電解液を生成するために、燐酸水素アンモニウムの
溶液及び金塩化水素酸塩の溶液が、7゜乃至95℃の温
度の水に同時に添加され、然もそれにより出来上る懸濁
液のpHが4.5乃至6.0の範囲内に入る様な割合で
添加される。
To produce this electrolyte, a solution of ammonium hydrogen phosphate and a solution of gold hydrochloride are added simultaneously to water at a temperature of 7° to 95°C, even though the pH of the resulting suspension is It is added in a proportion that falls within the range of 4.5 to 6.0.

それと共に、次式のビス−(ジハイドロオキンフオスフ
ァトモノハイトロオキンフオスファト)アンモニウムオ
ーレートペンタハイドレートより成る沈澱が形成される
At the same time, a precipitate is formed consisting of bis-(dihydroquinephosphatomonohydroquinephosphato)ammonium aurate pentahydrate of the following formula:

(N’)(4) 3 CAu (HPO4) 2(H2
PO4) 2〕・5H20この沈澱物はろ適法又はデカ
ンテーンヨン法を用いて塩化物を除去するため洗浄され
、そして水酸化カリウム及びエチレンジアミン四酢酸ア
ルカリ金属塩より成る溶液中に1部分ずつ添加される。
(N')(4) 3 CAu (HPO4) 2(H2
PO4) 2].5H20 This precipitate is washed to remove chloride using the filtration method or the decanting method and added in portions to a solution consisting of potassium hydroxide and the alkali metal salt of ethylenediaminetetraacetic acid. .

この溶液のpHば9乃至10でありそして温度レンジは
70乃至90℃である。
The pH of this solution is 9-10 and the temperature range is 70-90°C.

溶解性でない複合体(NH4) 3c Au (HPO
4) 2 (H2PO4) 21) ・5H20がこの
溶液と反応する際に、沈澱物の部分的な溶解が生じ、三
価の金の溶解性のエチレンジアミンテトラアセテート複
合体が生成される。
Non-soluble complex (NH4) 3c Au (HPO
4) 2 (H2PO4) 21) When 5H20 reacts with this solution, partial dissolution of the precipitate occurs and a soluble ethylenediaminetetraacetate complex of trivalent gold is produced.

その後、それにより出来た懸濁液に、亜硫酸カリウム及
び水酸化カリウムを含むpH9の溶液が添加される。
A pH 9 solution containing potassium sulfite and potassium hydroxide is then added to the resulting suspension.

上記した溶解性の複合体は亜硫酸塩イオンと反応しそれ
に伴なって三価の金が一価の金に還元され且つに6(A
u (5o3) 2Ed ta )という亜硫酸塩腹
合体が生成される。
The above-mentioned soluble complex reacts with sulfite ions, with the result that trivalent gold is reduced to monovalent gold and 6(A
A sulfite conjugate called u (5o3) 2Ed ta ) is produced.

これら全ての工程は沈澱物の平衡状態を溶解へと向って
シフトし、一方上記し7た段階は一価の金の複合体を金
属性の金へと分解する副次的な反応プロセスを排除する
All of these steps shift the equilibrium state of the precipitate toward dissolution, while the steps listed above eliminate the secondary reaction processes that decompose the monovalent gold complex into metallic gold. do.

金に対して計算された電解液の収量は86係である。The electrolyte yield calculated for gold is 86%.

本発明による金メツキ電解液のこの高い収量は甚だしい
溶解性をした複合金化合物の沈澱に対して燐酸水素アン
モニウムを使用することによるものである。
This high yield of gold plating electrolyte according to the invention is due to the use of ammonium hydrogen phosphate for the precipitation of highly soluble complex gold compounds.

この沈澱生成物は(NH4) s CAu (HP −
0、)・(H2PO4)2〕・5H20という永久組成
を有し、そしてアンモニアによって得られ雷金として知
られ永久組成を持たない沈澱生成物に比して金メツキ電
解液の生成の再現性を良くする。
This precipitated product is (NH4) s CAu (HP −
0, )・(H2PO4)2]・5H20, and the reproducibility of the formation of the gold-plated electrolyte compared to the precipitated product obtained with ammonia and known as lightning, which has no permanent composition. do better

複合体(NH4)3〔人u(HPO4)2・(H2PO
4)2〕・5H20は燐酸水素アンモニウム以上に非溶
解性であり、これは金を完全に沈澱できる様にする。
Complex (NH4)3 [human u (HPO4)2・(H2PO
4) 2].5H20 is more insoluble than ammonium hydrogen phosphate, which allows the gold to be completely precipitated.

この複合体は容易に沈澱される緻密な粉末より成りこれ
は、湿った状態において非常に不安定且つ危険であって
乾燥した状態にかいては特に不安定且つ危険である雷金
に比して、湿った状態及び乾燥した状態のいずれにおい
ても分解されない。
This complex consists of a dense powder that is easily precipitated, compared to lightning which is very unstable and dangerous in wet conditions and especially unstable and dangerous in dry conditions. , does not decompose in either wet or dry conditions.

従って、雷金の場合の何回ものデカンテーションの代り
に、フィルタにかいてろ過及び洗浄を行なって塩化物か
らの純化を行なうことができる。
Therefore, instead of multiple decantations in the case of thunder metal, purification from chlorides can be accomplished by filtering and washing.

上記複合体を次に溶解する際には、本発明による金メツ
キ電解液の1成分である燐酸塩が溶液へと通される。
When the composite is subsequently dissolved, phosphate, which is a component of the gold plating electrolyte according to the invention, is passed into solution.

従って、沈澱剤として燐酸水素アンモニウムを選択する
ことは、より完全な沈澱によって金の損失を少なくし、
何回ものデカンテーションではなくてろ過によって機械
的な損失を少なくし、複合体(NH< ) a 〔Au
(HPO4) 2 ・(H2PO4) 2) ・5H
20が化学的に安定であるために沈澱物中に金属性の金
が存在しない様にし、そしてそれにより、その後の操作
の際の金の損失を少なくする。
Therefore, choosing ammonium hydrogen phosphate as the precipitant results in less gold loss due to more complete precipitation and
Mechanical loss is reduced by filtration rather than multiple decantations, and the complex (NH < ) a [Au
(HPO4) 2 ・(H2PO4) 2) ・5H
The chemical stability of 20 prevents the presence of metallic gold in the precipitate, thereby reducing gold loss during subsequent operations.

かくして出来た金メツキ電解液は次の様な組成Ef/l
を有している。
The gold-plated electrolyte thus produced has the following composition Ef/l
have.

K61Au(SO3)2Ed ta) 10.5−12
3、に2 Na2Ed ta□ 17.
8−140に2SO412,6−110 に2HP0. 4.7− 40水
残余 沈澱に対して望ましい条件は次の通りである。
K61Au(SO3)2Ed ta) 10.5-12
3. 2 Na2Ed ta□ 17.
2SO412 to 8-140, 2HP0 to 6-110. 4.7-40 water
Desirable conditions for residual precipitation are as follows.

温度ば18乃至60℃の範囲内であり、カソード電流密
度Dkは銅、黄銅、青銅、ニッケル及びステンレススチ
ール(予めニッケルメッキしていなイ)ノ基板に対して
はDk=0.02−15.0 A/dm2であり、アノ
ードはステンレススチール、白金、黒鉛である。
The temperature is in the range of 18 to 60°C, and the cathode current density Dk is Dk = 0.02-15. 0 A/dm2, and the anode is stainless steel, platinum, and graphite.

本発明による金メツキ電解液は、均一電着性が80係1
でであり、電流効率が80乃至90係であり、保存期間
が25℃の温度に訣いて12ケ月以上であり、電解液分
解の開始点がDk=15A/dm2である。
The gold plating electrolyte according to the present invention has a uniform electrodeposition property of 80 times 1.
The current efficiency is 80-90, the storage period is 12 months or more at a temperature of 25° C., and the starting point of electrolyte decomposition is Dk = 15 A/dm2.

この金メツキ電解液は高質の細密な被膜を生成し、その
ヴイッカース硬さば8o乃至22Qkg/m*2であり
、多孔度は15μの厚みに釦いて15乃至20孔/cm
でありそして5μまでの厚みにかいては無孔である。
This gold plating electrolyte produces a fine coating of high quality, with a Vickers hardness of 8o to 22Qkg/m*2 and a porosity of 15 to 20 pores/cm with a thickness of 15μ.
and is non-porous for thicknesses up to 5μ.

本発明による金メツキ電解液は公知の金メツキ電解液に
比べて改善されたプロセスパラメータを有し、保存及び
使用中の安定性が高く、且つ生成中の金の収量が高い。
The gold plating electrolyte according to the invention has improved process parameters compared to known gold plating electrolytes, has higher stability during storage and use, and higher gold yield during production.

本発明による金メツキ電解液並びにその生成方法につい
て示した若干の特定例を以下に列挙する。
Some specific examples of gold plating electrolytes and methods of producing the same according to the present invention are listed below.

例1 燐酸水素アンモニウム5tを1500rrLl中に溶解
しそしてその溶液を85℃の温度に加熱し、その後、3
0分間かぐばんしながら、オーリクロロハイドリックア
ンド76.3 p、塩酸151nl及ヒ水250rrd
lを含んだ溶液と、燐酸水素アンモニウム35f及び水
250mlを含んだ溶液とを同時に添加する。
Example 1 5 t ammonium hydrogen phosphate is dissolved in 1500 rrLl and the solution is heated to a temperature of 85°C, then 3
While holding a bag for 0 minutes, add 76.3 p of aurichlorohydric acid, 151 nl of hydrochloric acid, and 250 rrd of water.
1 and a solution containing 35 f of ammonium hydrogen phosphate and 250 ml of water are added simultaneously.

これら溶液の添加は、それにより出来る懸濁液のpH値
が6.0に等しくなる様な割合で行なわねばならない。
The addition of these solutions must be carried out in such proportions that the pH value of the resulting suspension is equal to 6.0.

沈澱した( NH4) s CAu(HP −04)2
・(H2PO4)2 〕・5H20をろ過しそして50
0rrtlの水で洗浄し、その後200yrtlの水と
混合して懸濁液を作る。
Precipitated (NH4)sCAu(HP-04)2
・(H2PO4)2 ]・5H20 is filtered and 50
Wash with 0rrtl of water and then mix with 200yrtl of water to make a suspension.

この様にして作られた懸濁液を1部分ずつ(2o1rL
eの部分ずつ)成る溶液に添加する。
One portion of the suspension thus prepared (2o1rL
Add parts e) to the solution consisting of each part e).

この成る溶液とは、70’Cの温度の水50011Ll
中にpH9,01で14ofのエチレンシア□ン四酢酸
2ナトリウム塩の二価水和物及び水酸化カリウムを含ん
だ溶液である。
This solution consists of 50,011 liters of water at a temperature of 70'C.
It is a solution containing 14 of divalent hydrate of ethylene cyanatetraacetic acid disodium salt and potassium hydroxide at pH 9.01.

それにより出来た混合物の中へ、水5oo1111に亜
硫酸カリウム110tを含んだ溶液を、20分間、沈澱
物が完全に溶解する1で、1部分ずつ(20−257の
部分ずつ)添加する。
A solution of 110 t of potassium sulfite in 50 111 l of water is added in portions (20-257 portions) into the resulting mixture for 20 minutes at 1 to completely dissolve the precipitate.

それにより出来た金メツキ電解液は次の様な成分を次の
様な割合?/lで含んでかり、そしてその濃度はそれ自
身で使用するのにも適しているし、それよりも濃度の低
い金メツキ電解液を作るのにも適している。
The resulting gold-plated electrolyte contains the following components in the following proportions? /l, and its concentration is suitable both for use on its own and for making less concentrated gold plating electrolytes.

KQ 〔Au(803)2 Ea ta) 1
23に2Na2Ed ta
52に2SO44゜ K2HPO440 水 残余 濃度の低い電解液の生成は、高濃度の電解液を水で希釈
しそしてその濃度に対して他の成分、即ち硫酸カリウム
を110 ?/l’!で、燐酸水素カリウムを40 f
/l−!、で、エチレンジアミン四酢酸2ナトリウム2
カリウム塩を1401f/14で添加することによって
行なわれる。
KQ [Au(803)2 Ea ta) 1
23 to 2Na2Ed ta
52 to 2SO44°K2HPO440 Water The generation of an electrolyte with a low residual concentration is achieved by diluting a highly concentrated electrolyte with water and adding other components to that concentration, namely potassium sulfate, to 110? /l'! So, 40 f of potassium hydrogen phosphate
/l-! , and ethylenediaminetetraacetic acid disodium 2
This is done by adding potassium salt at 1401f/14.

この例の金メツキ電解液は次の様な特性を有している。The gold plating electrolyte of this example has the following characteristics.

均一電着性 90係 電流効率 80係 25℃での保存期間 12ケ月以上 分解の開始点のDk 1 り A/ dm2以上
この溶液(濃度)を、20’Cの温度及びDk =0、
OIA/dm2で銅、ニッケル及ヒステンレススチール
の基板に用いると、5μ/時の割合で7μまでの厚みの
無孔被膜が付着する。
Uniform electrodeposition: 90 coefficient Current efficiency: 80 coefficient Storage period at 25°C: 12 months or more Dk 1 at the starting point of decomposition: A/dm2 or more
When used on copper, nickel and hi-stainless steel substrates at OIA/dm2, non-porous coatings up to 7 microns thick are deposited at a rate of 5 microns/hour.

付着の最適条件は次の通りである。The optimal conditions for adhesion are as follows.

温度2o0乃至60’C1Dk=0.2乃至0.6 A
/ dm2、付着速度8乃至14μ/時。
Temperature 2o0~60'C1Dk=0.2~0.6 A
/ dm2, deposition rate 8-14 μ/h.

この最適条件の下で得られる被膜は5μの厚み1では無
孔であり、それ以上厚い層にかいては付着条件に基づい
て15乃至2o孔/ctrlの多孔度を有する。
The coatings obtained under this optimum condition are non-porous at a thickness of 1 of 5 microns and have a porosity of 15 to 2 pores/ctrl for thicker layers, depending on the deposition conditions.

例2 次の様な成分を次の割合f?/lで含む金メツキ電解液
を生成するため に6[Au(803)2Ed ta〕10.5に2 N
a2 Ed ta 17.8に
2SO412,6 に2HP0. 4.7水
残余 85r/Llの量の例1の濃度のもの(これは(N)(
4)s [Au (HPO4)2 ・(H2PO4)2
] ・5H20の沈澱がpH4,5及び温度95℃で
行なわれそしてそれにより生じた沈澱物の溶解が温度9
0℃及びpH10で行なわれた以外は前記例1の手に従
って生成されたものである)に、水915ml。
Example 2 The following components are in the following proportion f? 6 [Au(803)2Ed ta] 10.5 to 2 N to produce a gold plating electrolyte containing 1/l
a2 Ed ta 17.8 to 2SO412,6 to 2HP0. 4.7 Wednesday
of the concentration of Example 1 with an amount of 85r/Ll remaining (this is (N)(
4) s [Au (HPO4)2 ・(H2PO4)2
] Precipitation of 5H20 is carried out at pH 4.5 and temperature 95°C and dissolution of the resulting precipitate is carried out at temperature 95°C.
915 ml of water (prepared according to Example 1 above except that it was carried out at 0° C. and pH 10).

エチレンジアミノ四酢酸2ナトリウム2カリウム塩13
.4.@、硫酸カリウム9.3@、燐酸水素カリウム5
.32を添加し、そしてその溶液を室温でかくはんした
Ethylenediaminotetraacetic acid disodium dipotassium salt 13
.. 4. @, potassium sulfate 9.3 @, potassium hydrogen phosphate 5
.. 32 was added and the solution was stirred at room temperature.

それにより出来た金メツキ電解液は次の様な特性を有し
ている。
The resulting gold plating electrolyte has the following properties.

均一電着性 80係 電流効率 8o係 25℃の保存期間 12ケ月以上 分解の開始点 Dk = 15 A/ dm2
上記した様にして作られた電解液において12μ/時の
速度、40’Cの温度、及びDk =0、4 A/ d
m2で黄銅、銅及びニッケルに付着ヲ行なった。
Uniform electrodeposition property 80% Current efficiency 80% Storage period at 25°C 12 months or more Starting point of decomposition Dk = 15 A/dm2
In the electrolyte made as described above, a rate of 12 μ/h, a temperature of 40'C, and Dk = 0, 4 A/d.
Deposition was carried out on brass, copper and nickel using m2.

50μ昔での厚みをした光沢のある被膜が得られた。A glossy coating with an original thickness of 50 μm was obtained.

多孔度ば15孔/c4であり、ヴイツカース硬さは22
0 kg/lstである。
The porosity is 15 pores/c4, and the Witzkers hardness is 22.
0 kg/lst.

例3 前記例1で生成された濃度のもの333Mに、水667
11Llと、硫酸カリウム97fと、エチレンジアミノ
四酢酸2ナトリウム2カリウム塩123tとを添加する
ことによって次の様な成分を次の割合f?/lで含む金
メツキ電解液が作られた。
Example 3 Add 667M of water to the concentration of 333M produced in Example 1 above.
By adding 11Ll of potassium sulfate, 97f of potassium sulfate, and 123t of disodium dipotassium salt of ethylenediaminotetraacetic acid, the following components were mixed in the following proportion f? A gold plating electrolyte was prepared containing 1/l.

KQ CAu (SOs )2 ED Na 2 K2 Ed ta 2SO4 に2HP04 水 ta、l 48.7 40 10 18.7 残余 それにより出来た金メツキ電解液は次の様な特性を有し
ている。
KQ CAu (SOs)2 ED Na 2 K2 Ed ta 2SO4 to 2HP04 Water ta, l 48.7 40 10 18.7 Residual The resulting gold plating electrolyte has the following properties.

均一電着性 9o係電流効率
80係25℃での保存期限
12ケ月以上分解の開始点 Dk =
16.2 A / dm240℃の温度、Dk = 0
.3 A/ dm2.12tt/時の速度で、黄銅、ニ
ッケル、青銅及びステンレススチールに、100μmで
の厚みの光沢のある被膜が付着した。
Uniform electrodeposition property 9o current efficiency
80 coefficient Storage period at 25℃ 12 months or more Starting point of decomposition Dk =
16.2 A/dm240℃ temperature, Dk = 0
.. Shiny coatings with a thickness of 100 μm were deposited on brass, nickel, bronze and stainless steel at a rate of 3 A/dm2.12 tt/h.

黄銅、青銅、ニッケルに対しては5μの厚み1で被膜が
無孔であり、同じ厚みのステンレススチールに対しては
多孔度が5孔/cr11であった。
For brass, bronze and nickel, the coating was non-porous at a thickness of 1 of 5μ, and for stainless steel of the same thickness, the porosity was 5 pores/cr11.

ヴイツカース硬さは80kg/mx2である。Witzkaas hardness is 80 kg/mx2.

例4 次の様な成分を次の割合f!−/lで含む金メツキ電解
液を生成するため、 K6[Au(SO3)2Ed ta〕18.9に2N
a2Ed ta 32.2に2
S0. 22.7に2H
P0. 8.0水
残余 前記例1の場合の様に生成された濃度のもの153mJ
に、エチレンジアミン四酢酸2ナトリウム2カリウム塩
23.4.@と、硫酸カリウム6.6tと、燐酸水素カ
リウラ1.9tとが添加され、そして1tになる1で水
が添加された。
Example 4 The following components are given the following ratio f! In order to generate a gold plating electrolyte containing -/l, 2N was added to K6[Au(SO3)2Ed ta]18.9.
a2Ed ta 32.2 to 2
S0. 2H on 22.7
P0. 8.0 water
The remainder is 153 mJ of the concentration produced as in Example 1 above.
and ethylenediaminetetraacetic acid disodium dipotassium salt 23.4. 6.6 t of potassium sulfate and 1.9 t of potassium hydrogen phosphate were added, and water was added in 1 part to make 1 t.

それにより出来た金メツキ電解液は次の様な特性を有す
る。
The resulting gold plating electrolyte has the following properties.

均一電着性 9o俤電流効率
84%25℃での保存期間
12ケ月以上分解の開始点 Dk =
16 A/ dm”・この様にして生成された電解液か
ら黄銅、ステンレススチールの基板に対して45℃の温
度及びDk = 0.4 A/ dm2で付着が行なわ
れた。
Uniform electrodeposition property 9o current efficiency
84% Storage period at 25℃
Starting point of decomposition over 12 months Dk =
16 A/dm". Deposition was carried out from the electrolyte thus produced on brass, stainless steel substrates at a temperature of 45 DEG C. and Dk = 0.4 A/dm2.

それにより出来た被膜の多孔度は15μの厚みにかいて
23孔/Cmであり、ヴイツカース硬さは165&g/
1lI2であった。
The resulting coating has a porosity of 23 pores/cm over a thickness of 15 μm, and a Witzkars hardness of 165 g/cm.
It was 1lI2.

例5 前記例1の場合の様に生成された濃度のもの310rr
tlに、エチレンジアミン四酢酸2ナトリウム2カリウ
ム塩23.@と、硫酸カリウム16.4.@と、水1t
1でを添加することによって次の様な成分を次の割合?
/lで含む金メツキ電解液が作られた。
Example 5 Concentration 310rr produced as in Example 1 above
tl, ethylenediaminetetraacetic acid disodium dipotassium salt 23. @ and potassium sulfate 16.4. @ and 1 t of water
1. By adding the following ingredients in the following proportions?
A gold plating electrolyte was prepared containing 1/l.

Ka CAu (SO3) 2 Ed N a 2 K2 E d ta 2SO4 に2HPO4 水 ta) 25,0 40.0 28.4 12.4 残余 それにより出来た金メツキ電解液は次の様な特性を有し
ている。
Ka CAu (SO3) 2 Ed Na 2 K2 Ed ta 2SO4 to 2HPO4 Water ta) 25.0 40.0 28.4 12.4 Residual The resulting gold-plated electrolyte has the following properties. ing.

均一電着性 80係電流効率
90%25℃での保存期間
12ケ月以上分解の開始点 Dk = 1
5.8 A/ dm2この様に生成された電解液におい
て 60’Cの温度及びDk = 0.2 A / d
m2で黄銅、及びステンレススチールの基板に付着を行
なった。
Uniform electrodeposition property 80 coefficient current efficiency
90% storage period at 25℃
Starting point of decomposition over 12 months Dk = 1
5.8 A/dm2 in the electrolyte thus produced at a temperature of 60'C and Dk = 0.2 A/d
Deposition was carried out on brass and stainless steel substrates at m2.

それにより出来た皮膜の多孔度は15μの厚みに3いて
30孔/catであり、ヴイッカース硬さば100Ic
9/yrtx2であった。
The resulting film has a porosity of 30 pores/cat in a thickness of 15μ, and a Vickers hardness of 100Ic.
It was 9/yrtx2.

例1から例5の電解液による金の電気付着は従来設計の
電解槽で行なわれた。
Electrodeposition of gold with the electrolytes of Examples 1 to 5 was carried out in electrolytic cells of conventional design.

上記例の全てにおいては、使用済み電解液に硫酸を3−
4以下のpH1で添加し、その後50−60℃の温度1
で加熱し、そして沈澱した粉末状の金をろ過することに
よって使用済み電解液から金が再利用される。
In all of the above examples, sulfuric acid was added to the spent electrolyte.
Addition at pH 1 below 4 followed by temperature 1 at 50-60°C
Gold is recycled from the spent electrolyte by heating it with water and filtering the precipitated powdered gold.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 次の様な成分を次の割合?/、lで含むことを特徴
とする金メツキ用の電解液。 μ−エチレンシア□ノ四酢酸六カリウムビス(亜硫酸金
(I)) 10.5−123.0エチレン
ジアミノ四酢酸アルカリ金属塩 17.8−140.0 硫酸カリウA 12.6−110.0燐酸
水素カリウム 4.7− 40.0水
残余 2 次の様な成分を次の割合?/lで含む特許請求の範
囲第1項記載の金メツキ用電解液。 μ−エチレンジアミノ四酢酸六カリウムビス(亜硫酸金
(I)) 10.5−25.0エチレン
ジアミノ四酢酸2ナトリウム2カリウム塩
17.8−40.0硫酸カリウム
12.6−28.4燐酸水素カリウム
4.7−10.4水 残余
[Claims] 1. Are the following components in the following proportions? An electrolytic solution for gold plating characterized by containing /, l. μ-Hexapotassium bis(gold(I) sulfite) 10.5-123.0 Ethylenediaminotetraacetic acid alkali metal salt 17.8-140.0 Potassium sulfate A 12.6-110.0 Phosphoric acid Potassium hydrogen 4.7- 40.0 water
Residue 2 What are the following proportions of the following components? The electrolytic solution for gold plating according to claim 1, which contains the electrolytic solution in an amount of /l. μ-Ethylenediaminotetraacetic acid hexapotassium bis(gold(I) sulfite) 10.5-25.0 Ethylenediaminotetraacetic acid disodium dipotassium salt
17.8-40.0 Potassium sulfate
12.6-28.4 Potassium hydrogen phosphate
4.7-10.4 Water remainder
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