JPS5826612B2 - Yuuki Film Target - Google Patents
Yuuki Film TargetInfo
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- JPS5826612B2 JPS5826612B2 JP13322275A JP13322275A JPS5826612B2 JP S5826612 B2 JPS5826612 B2 JP S5826612B2 JP 13322275 A JP13322275 A JP 13322275A JP 13322275 A JP13322275 A JP 13322275A JP S5826612 B2 JPS5826612 B2 JP S5826612B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、有機フィルムターゲットを用いた2電子銃型
走査変換管に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a two-electron gun type scan converter tube using an organic film target.
上記有機フィルムターゲットを用いた2電子銃型走査変
換の概要については、例えば「日経エレクトロニクス、
19747−16号(A86 ) J等に記載されてい
るが、その動作について、ここで簡単に述べる。For an overview of the two-electron gun type scan conversion using the above organic film target, see, for example, "Nikkei Electronics,
No. 19747-16 (A86) J, etc., and its operation will be briefly described here.
これはターゲット部を金属メツシュと有機フィルムで構
成した事を特長とし、前記有機フィルムは厚さ2〜3μ
mのポリイミド膜で構成しである。This is characterized in that the target part is composed of a metal mesh and an organic film, and the organic film has a thickness of 2 to 3 μm.
It is composed of a polyimide film of m.
このポリイミド膜は、液体のポリイミド膜を金属メツシ
ュの片面に塗り、ある程度の高温で硬化させれば得られ
る。This polyimide film can be obtained by applying a liquid polyimide film to one side of a metal mesh and curing it at a certain high temperature.
従来のシリコンターゲットに比較して、この有機フィル
ムターゲットは非常に安価に出来る利点を有する。Compared to conventional silicon targets, this organic film target has the advantage of being very inexpensive.
この様なポリイミド膜の2次電子放射率特性は第1図に
示す様に、第1クロスオーバ電圧が60〜70Vで、5
in2などの場合より高い値を示す。As shown in Figure 1, the secondary electron emissivity characteristics of such a polyimide film are as follows: when the first crossover voltage is 60 to 70V,
It shows a higher value than cases such as in2.
この有機フィルムをターゲットに使った2電子銃型走査
変換管は、第2図に示す様に、有機フィルムターゲラ)
Tを真ん中にして、2本の電子銃を相対向せしめている
。A two-electron gun type scanning converter tube using this organic film as a target is shown in Figure 2.
With T in the middle, two electron guns are facing each other.
ここで映像信号は書き込み電子銃の第1グリツドG1に
加えられ、その電子ビームを変調しながら走査し、有機
フィルム面上に2次元の電荷パターンを蓄積形成する。Here, the video signal is applied to the first grid G1 of the write electron gun, and the electron beam is modulated and scanned to accumulate and form a two-dimensional charge pattern on the organic film surface.
次にこの電荷像に基づいてメツシュの穴から張り出す電
界のポテンシャル像が、メツシュ側を走査している読み
出しビームを制御変調する。Next, based on this charge image, a potential image of the electric field protruding from the holes in the mesh controls and modulates the readout beam scanning the mesh side.
制御された電子流は、メツシュ電極から出力信号として
取り出される。A controlled electron flow is extracted from the mesh electrode as an output signal.
そして消去モードでは、ターゲット電圧を第1図のδ〉
1の範囲である100Vに、書き込みモードではδ〈l
の範囲である30Vに設定する。In erase mode, the target voltage is set to δ〉 in Figure 1.
1 in the range of 100V, and in write mode δ〈l
Set to 30V, which is within the range of .
前記の消去モードでは、書き込み側の無変調電子ビーム
で、標準テレビ走査の数フレーム分だけ有機フィルム面
を走査する。In the erase mode, the unmodulated electron beam on the write side scans the organic film surface for several frames of standard television scanning.
この場合δ〉1であるため、有機フィルム面の蓄積電荷
はすべて放出パターンのない状態になる。In this case, since δ>1, all the accumulated charges on the organic film surface are in a state where there is no emission pattern.
一方の書き込みモードでは、映像信号によって変調され
た書き込み電子ビームで有機フィルム面を走査する。In one writing mode, a writing electron beam modulated by a video signal scans the organic film surface.
この場合はδ〈1であるため、はぼ電子ビームに比例し
たマイナスの電荷が有機フィルム面に蓄積され、映像信
号に対応した電荷パターンが形成すれる。In this case, since δ<1, negative charges proportional to the electron beam are accumulated on the organic film surface, forming a charge pattern corresponding to the video signal.
そして読み出しでは、無変調ビームで読み出し側のター
ゲットを走査すれば、書き込み側有機フィルム面上に蓄
積されている電荷パターンに比例した信号出力を取り出
す事が出来る。In readout, by scanning the target on the readout side with an unmodulated beam, it is possible to extract a signal output proportional to the charge pattern accumulated on the surface of the organic film on the writing side.
以上説明した有機フィルムターゲット型2電子銃走査変
換管の動作では、書き込み側第4グリッドG4の電圧は
、消去および書き込みのいずれのモードでも一定である
が、この場合は消去モードにある時間(消去時間)を正
確にコントロールする必要がある。In the operation of the organic film target type two-electron gun scan converter tube described above, the voltage of the fourth grid G4 on the write side is constant in both erase and write modes. time) must be precisely controlled.
すなわち消去時間が短かすぎると、有機フィルム面の蓄
積電荷が放出されずに残ってしまう。That is, if the erasing time is too short, the charges accumulated on the surface of the organic film will remain without being released.
逆に消去時間が長すぎると、有機フィルム面にはプラス
の電荷が蓄積してし1い、書き込み動作が不能となる。On the other hand, if the erasing time is too long, positive charges will accumulate on the organic film surface, making writing operations impossible.
この場合、有機フィルム面にプラスの電荷が蓄積される
理由は、消去モードの状態では、ターゲット電圧が10
0Vに対して、書き込み側の第4クリツド電圧が450
vになっているからである。In this case, the reason why positive charges are accumulated on the organic film surface is that in the erase mode, the target voltage is 10
For 0V, the fourth crid voltage on the write side is 450V.
This is because it is v.
すなわち無変調ビームが有機フィルム面に当たると、δ
〉1であるため、入射電子よりも多くの電子が有機フィ
ルム面より出てその電子は、より高い電位にある。In other words, when an unmodulated beam hits the organic film surface, δ
>1, more electrons than incident electrons exit from the organic film surface and are at a higher potential.
第4グリツドG4にとらえられる。It is captured by the fourth grid G4.
その結果、有機フィルム面は、電子が減った分だけ電位
が上昇する。As a result, the potential on the organic film surface increases by the amount of electrons reduced.
正常な動作ではマイナスの電荷蓄積による電荷像がすべ
て放出して、有機フィルム面の電位が100vになった
時、消去ビームを切って、消去モード終了にするわけで
あるが、この消去時間が長すぎると、有機フィルム面と
、第4グリツドの電子のやり取りは、両者が同電位にな
るまで続けられ、最終的には、有機フィルム面は、第4
グリツドと同じ電位の450V昔で上昇する。In normal operation, when all the charge images due to negative charge accumulation are released and the potential on the organic film surface reaches 100V, the erase beam is turned off and the erase mode ends, but this erase time is long. If too much, the exchange of electrons between the organic film surface and the fourth grid continues until both become the same potential, and eventually the organic film surface becomes the fourth grid.
It rises at 450V, the same potential as the grid.
この状態に落ち入ってしまうと、たとえ書き込みモード
にしても、有機フィルム面は、δ〉lの一!1でもはや
書き込み動作は不能となる。If you fall into this state, even in write mode, the organic film surface will be one of δ〉l! At 1, write operations are no longer possible.
この様な欠点をなくすには、消去モードでの、第4グリ
ツド電圧をターゲットと同じ100Vにしてやれば良い
事がわかる。It can be seen that in order to eliminate such a drawback, it is sufficient to set the fourth grid voltage in the erase mode to 100V, which is the same as that of the target.
第4グリツドを100Vtで下げると、他の良い効果も
得られる。Lowering the fourth grid by 100Vt also has other positive effects.
それは、消去モードでは、書き込みモードに比して、書
き込み側電子銃の電子ビームの集束の割合が異なり、第
4グリツド電圧の低い消去モードでは、集束の割合が少
く、従って、有機フィルム面のより広い面積にわたって
電子ビームで走査する事が出来るという事である。In the erase mode, the focusing ratio of the electron beam of the write-side electron gun is different compared to the writing mode, and in the erase mode where the fourth grid voltage is low, the focusing ratio is smaller, and therefore the organic film surface is more This means that it is possible to scan a wide area with an electron beam.
従って、より安全で、かつ確実な消去が行なえるもので
ある。Therefore, safer and more reliable erasing can be performed.
本発明は、これをさらに改良するものであり、具体的に
は、消去モードでの第4グリツ)を圧をターゲットの電
圧よりも少し高く(例えば20〜30V)してやるもの
である。The present invention further improves this, and specifically, the voltage of the fourth grit in the erase mode is made slightly higher than the voltage of the target (for example, 20 to 30 V).
この様にすると第4グリツド電圧とターゲット電圧を同
じにした場合の効果は、そこなわれる事なく、同時に画
質の向上及び、読み出し信号レベルの増大を実現出来る
ものである。In this way, the effect of making the fourth grid voltage and the target voltage the same can be achieved without any loss, and at the same time it is possible to improve the image quality and increase the readout signal level.
これは、次に述べる理由からである。This is for the following reasons.
書き込みモードで、映像信号により変調された書き込み
電子ビームによって書かれた有機フィルム面上の電荷ハ
ターンは、有機フィルムの表面にほとんど形成されてい
るが、二蔀は有機フィルムの深層まではいり込んでいる
。In the writing mode, the charge pattern on the organic film surface written by the writing electron beam modulated by the video signal is mostly formed on the surface of the organic film, but the second pattern penetrates into the deep layer of the organic film. .
この深層電荷は、消去モードでの第4グリツド電圧=(
ターゲット電圧)では、抜は難い。This deep charge is generated by the fourth grid voltage in erase mode = (
target voltage), it is difficult to remove.
深層電荷が残っていると画質が悪化すると同時に、より
濃淡のある電荷像は形成され難い。If deep charge remains, the image quality deteriorates and at the same time, it is difficult to form a charge image with higher density.
従って、消去モードで第4グリツド電圧)〉(ターゲッ
ト電圧)としてやれば、有機フィルムの深層1で、電荷
の放出が可能となる。Therefore, if the fourth grid voltage)>(target voltage) is set in the erase mode, charges can be released in the deep layer 1 of the organic film.
なか、((第4クリツド電圧)−(ターゲット電圧)1
をどこ1で大きく出来るかは、第1図の2次電子放射率
δから予想出来る。((4th crit voltage) - (target voltage) 1
The point at which 1 can be increased can be predicted from the secondary electron emissivity δ in Figure 1.
すなわち((第4グリツド電圧)−(ターゲット電圧)
)を30Vにして、この状態で消去動作を行なうと、有
機フィルム面は、最高+30Vとなり、書込みモードに
しても有機フィルム面の電位は、ターゲット電圧(30
V)+30V=60vであり、これはδく1の範囲内に
あるから書込み動作は可能である。That is, ((4th grid voltage) - (target voltage)
) is set to 30V and an erase operation is performed in this state, the organic film surface reaches a maximum of +30V, and even in write mode, the potential of the organic film surface remains at the target voltage (30V).
V)+30V=60V, which is within the range of δ×1, so the write operation is possible.
以上説明した様に、本発明によれば消去モード時、第4
グリツド電圧をターゲット電圧より数十V程度上昇すせ
ることにより、有機フィルムターゲット型走査変換管を
より安全、確実に動作g−vる事が出来ると同時に、画
質の改善釦よび、読み出し信号レベルの増大を実現出来
るものである。As explained above, according to the present invention, in the erase mode, the fourth
By raising the grid voltage by several tens of volts above the target voltage, it is possible to operate the organic film target type scan converter tube more safely and reliably, and at the same time, it is possible to improve the image quality and to adjust the readout signal level. This is something that can be increased.
第1図は、有機フィルムターゲットの2次電子放射率を
示すグラフ、第2図は、従来の有機フィルムターゲット
2電子銃型走査変換管の構成を示す図、第3図は本発明
の一実施例にかける有機フィルムターゲット型走査変換
管の構成を示す図である。
T・・・・・・有機フィルムターゲット、G4・・・・
・・第4グリツド。FIG. 1 is a graph showing the secondary electron emissivity of an organic film target, FIG. 2 is a diagram showing the configuration of a conventional organic film target 2-electron gun type scan converter tube, and FIG. 3 is an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a diagram showing the configuration of an example organic film target type scan converter tube. T...Organic film target, G4...
...4th grid.
Claims (1)
ターゲット電圧の前記切換動作に連動して書き込み側電
子銃の第4グリツド電圧を切換え、消去モード時、前記
第4グリツド電圧を前記ターゲット電圧よりも数+V程
度上昇すせて使用することを特徴とする有機フィルムタ
ーゲット型走査変換管。1. The fourth grid voltage of the writing side electron gun is switched in conjunction with the switching operation of the target voltage that is switched according to the erase mode and the write mode, and in the erase mode, the fourth grid voltage is set to several +V higher than the target voltage. An organic film target type scan converter tube characterized in that it can be used in a highly advanced manner.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13322275A JPS5826612B2 (en) | 1975-11-05 | 1975-11-05 | Yuuki Film Target |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13322275A JPS5826612B2 (en) | 1975-11-05 | 1975-11-05 | Yuuki Film Target |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5256818A JPS5256818A (en) | 1977-05-10 |
| JPS5826612B2 true JPS5826612B2 (en) | 1983-06-03 |
Family
ID=15099576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13322275A Expired JPS5826612B2 (en) | 1975-11-05 | 1975-11-05 | Yuuki Film Target |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5826612B2 (en) |
-
1975
- 1975-11-05 JP JP13322275A patent/JPS5826612B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5256818A (en) | 1977-05-10 |
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