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JPS5826766B2 - Hot cathode and its manufacturing method - Google Patents
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JPS5826766B2 - Hot cathode and its manufacturing method - Google Patents

Hot cathode and its manufacturing method

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Publication number
JPS5826766B2
JPS5826766B2 JP52116864A JP11686477A JPS5826766B2 JP S5826766 B2 JPS5826766 B2 JP S5826766B2 JP 52116864 A JP52116864 A JP 52116864A JP 11686477 A JP11686477 A JP 11686477A JP S5826766 B2 JPS5826766 B2 JP S5826766B2
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lanthanum hexaboride
refractory metal
metal
chip
hot cathode
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正司 石井
秀雄 平岡
徹也 和田
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Denka Co Ltd
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Denki Kagaku Kogyo KK
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  • Solid Thermionic Cathode (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は六ホウ化ランタン熱陰極及びその製造法に関す
るものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a lanthanum hexaboride hot cathode and a method for producing the same.

六ホウ化ランタン熱陰極は、従来のタングステン熱陰極
に代わるものとして注目されている。
Lanthanum hexaboride hot cathodes are attracting attention as an alternative to conventional tungsten hot cathodes.

六ホウ化ランタンはタングステンに比べて仕事関数が小
さく、これを熱陰極として用いると低温度で使用でき、
輝度が高く長寿命である等の特徴がある。
Lanthanum hexaboride has a smaller work function than tungsten, and when used as a hot cathode, it can be used at low temperatures.
It has characteristics such as high brightness and long life.

しかしながら、六ホウ化ランタンは高温度で、その支持
金属であるタングステン線やタンタル線などの難融性金
属との反応が激しく、六ホウ化ランタンを熱陰極として
用いることが困難であるためにその解決方法がいろいろ
提案されている。
However, at high temperatures, lanthanum hexaboride reacts violently with its supporting metals, which are refractory metals such as tungsten wire and tantalum wire, making it difficult to use lanthanum hexaboride as a hot cathode. Various solutions have been proposed.

例えば、六ホウ化ランタンと支持金属との間に反応を防
ぐための障壁層を介在させる方法がある。
For example, there is a method of interposing a barrier layer between lanthanum hexaboride and a supporting metal to prevent reaction.

これは、六ホウ化ランタンからなる層、障壁層、更に難
融性金属層をこの順に重ねた後、これをホットプレス法
によう接合して多層構造のチップとなし、該チップの難
融性金属層に支持金属を結合させて六ホウ化ランタン熱
陰極とするものである。
This is achieved by stacking a layer made of lanthanum hexaboride, a barrier layer, and a refractory metal layer in this order, and then bonding them using a hot press method to form a multilayer chip. A supporting metal is bonded to the metal layer to form a lanthanum hexaboride hot cathode.

これはホットプレス成型によりチップを形成させるので
、その操作が複雑であり、しかもチップを形成する際加
圧されるためひび割れを生じたりするのでその歩留すが
悪く、また、六ホウ化ランタンと障壁層は、はとんど反
応しないので、逆に接合性が悪く、チップの加工中又は
使用中に、六ホウ化ランタン部分が障壁層とはく離して
脱落することがあり、好ましいものとは云えなかった。
Since the chips are formed by hot press molding, the operation is complicated, and the yield rate is poor because cracks may occur due to the pressure applied when forming the chips. Since the barrier layer rarely reacts, it has poor bonding properties, and the lanthanum hexaboride portion may separate from the barrier layer and fall off during processing or use of the chip. I couldn't say it.

また、単結晶六ホウ化ランタンを用いた熱陰極は従来の
六ホウ化ランタンの多結晶焼結体を用いた熱陰極と比較
して、更に長寿命で高輝度が得られ、又電流安定度、雰
囲気安定度も優れていることから、単結晶六ホウ化ラン
タンを用いることにより、熱陰極としての性能が向上す
ることが期待されている。
In addition, hot cathodes using single-crystal lanthanum hexaboride have a longer lifespan and higher brightness than conventional hot cathodes using polycrystalline sintered bodies of lanthanum hexaboride, and also have improved current stability. Because of its excellent atmospheric stability, the use of single crystal lanthanum hexaboride is expected to improve its performance as a hot cathode.

しかし、単結晶六ホウ化ランタンを熱陰極に用いている
例は殆んどなく、単結晶六ホウ化ランタンを用いた熱陰
極の製造法や支持法には、まだ解決しなければならない
問題が残されている。
However, there are almost no examples of using single-crystal lanthanum hexaboride for hot cathodes, and there are still problems that need to be solved in the manufacturing and supporting methods of hot cathodes using single-crystal lanthanum hexaboride. left behind.

すなわち、本発明者らは、単結晶ホウ化ランタンを用い
てホットプレス法によシ前述した多層陰極構造の作成を
試みたが、単結晶が小さい上にひび割れが多く、完全な
チップを製造できなかった。
That is, the present inventors attempted to create the above-mentioned multilayer cathode structure by hot pressing using single crystal lanthanum boride, but the single crystal was small and had many cracks, making it impossible to manufacture a complete chip. There wasn't.

本発明はこれらの問題点を解決したもので、六単結晶又
は焼結体の六ホウ化ランタンのチップの下部側面にIV
a族;またはVa族の金属ニホウ化物層、さらにその上
に難融性金属層を焼結により形成させ、その表面に難融
性金属からなる支持金属を接合することによシ複雑な工
程によらず簡単で歩留りがよく、しかも、六ホウ化ラン
タンのチップと障壁層が十分反応しないでも障壁層の上
から難融性金属で包むように焼結させるので、全体がし
つかり固定されているので、従来の様に、六ホウ化ラン
タンチップが障壁層から、はく離して脱落する様なこと
のないすぐれた六ホウ化ランタンの熱陰極及びその製造
法を提供しようとするものである。
The present invention has solved these problems, and has an IV on the lower side of a lanthanum hexaboride chip, which is a single crystal or a sintered body.
By forming a metal diboride layer of Group A or Group Va by sintering and further forming a refractory metal layer on top of it by sintering, and bonding a support metal made of a refractory metal to the surface, a complicated process is possible. It is simple and has a high yield, and even if the lanthanum hexaboride chip and the barrier layer do not react sufficiently, the barrier layer is wrapped with a refractory metal and sintered, so the entire structure is firmly fixed. An object of the present invention is to provide an excellent lanthanum hexaboride hot cathode in which the lanthanum hexaboride chips do not peel off and fall off from the barrier layer as in the prior art, and a method for manufacturing the same.

すなわち、本発明の第1の発明は、単結晶又は焼結体の
六ホウ化ランタンのチップ底面及び下部側面をIVa族
、またはVa族の金属ニホウ化物から選ばれた1種以上
からなる反応障壁層によって包むように形成し、さらに
その上を包むように難融性金属層を形成し、その難融性
金属層上に難融性金属からなる支持金属を接合するよう
に構成してなる六ホウ化ランタン熱陰極であり、第2の
発明は、単結晶又は洗結体の六ホウ化ランタンのチップ
底面及び下部側面を包むようにIVa族またはVa族の
金属ニホウ化物のペーストを塗布し、さらにその上を包
むように難融性金属のペーストを統布乾燥し、これを不
活性ガス雰囲気下で焼結して焼き付け、前記金属ニホウ
化物からなる反応障壁層と難融性金属層との二層を六ホ
ウ化ランタンのチップ底面及び下部側面に形成させ、そ
の難融性金属層の表面に難融性金属からなる支持金属を
接合することを特徴とする六ホウ化ランタン熱陰極の製
造法である。
That is, the first aspect of the present invention is to form a reaction barrier made of one or more metal diborides selected from group IVa or group Va metal diborides on the bottom surface and lower side surface of a single crystal or sintered lanthanum hexaboride chip. A hexaboride compound formed by forming a layer so as to be wrapped therein, further forming a refractory metal layer so as to wrap thereon, and joining a supporting metal made of a refractory metal onto the refractory metal layer. The second invention is a lanthanum hot cathode, in which a paste of a group IVa or group Va metal diboride is applied so as to cover the bottom and lower side surfaces of a single crystal or washed lanthanum hexaboride chip, and then A paste of a refractory metal is dried in a uniform manner so as to envelop it, and this is sintered and baked in an inert gas atmosphere to form the two layers of the reaction barrier layer made of the metal diboride and the refractory metal layer. This is a method for producing a lanthanum hexaboride hot cathode, which is characterized in that it is formed on the bottom and lower side surfaces of a lanthanum boride chip, and a supporting metal made of a refractory metal is bonded to the surface of the refractory metal layer.

以下さらに本発明の詳細な説明する。The present invention will be further explained in detail below.

本発明は、六ホウ化うンタ/チップの下部側面に障壁層
、次いで難融性金属層を順に積層し、その表面に難融性
金属からなる支持金属を接合固定したものであり、また
これを製造するにあっては、ペースト状のものを塗布し
難融性金属で反応障壁層及ヒ六ホウ化ランタンチップの
下部側面を包むように焼結させて、その表面に難融性金
属からなる支持金属を接合し固定することを特徴とする
ものである。
In the present invention, a barrier layer and then a refractory metal layer are sequentially laminated on the lower side surface of a hexaboride capacitor/chip, and a support metal made of a refractory metal is bonded and fixed to the surface of the barrier layer and then a refractory metal layer. In manufacturing, a paste made of refractory metal is applied and sintered to cover the reaction barrier layer and the lower side of the lanthanum hexaboride chip, and the surface is coated with a refractory metal. It is characterized by joining and fixing supporting metal.

本発明で六ホウ化ランタンと難融性金属との反応を防ぐ
障壁層として用いるVa族またはVa族金属のニホウ化
物とはニホウ化ジルコニウム、ニホウ化チタン、ニホウ
化オブ、ニホウ化タンタルであり、難融性金属層と17
でタングステン、タンタル、ニオブ、モリブデン、レニ
ウム等の難融性金属である。
In the present invention, the Va group or Va group metal diboride used as a barrier layer to prevent the reaction between lanthanum hexaboride and a refractory metal is zirconium diboride, titanium diboride, obium diboride, tantalum diboride, Refractory metal layer and 17
These are refractory metals such as tungsten, tantalum, niobium, molybdenum, and rhenium.

これらを六ホウ化ランタンのチップの下部側面に塗布す
るには、これらの粉末と結合剤(糊剤と溶剤との混合物
)とを混合したペーストを用いる。
To apply these to the lower side of the lanthanum hexaboride chips, a paste is used that is a mixture of these powders and a binder (a mixture of glue and solvent).

結合剤としては粘性があう、六ホウ化ランタンのチップ
に塗布することができるものであれば特に制限はないが
、具体的には硝酸セルローズ、酢酸セルローズ、等と有
機溶剤例えばブタノール、メタノール等である。
There are no particular restrictions on the binder as long as it has a suitable viscosity and can be applied to lanthanum hexaboride chips, but specific examples include cellulose nitrate, cellulose acetate, etc., and organic solvents such as butanol, methanol, etc. be.

このようなペーストを六ホウ化ランタンのチップ下部側
面に塗布し、焼結後の反応障壁層と難融金属の二層の厚
さが少くとも10〜100□クロンとなるようにする。
Such a paste is applied to the lower side surface of the lanthanum hexaboride chip so that the thickness of the reaction barrier layer and the refractory metal layer after sintering is at least 10 to 100 square meters.

焼結方法は、反応障壁層と難融性金属層とを形成するペ
ーストを塗布した後温度1700〜1800℃程度で行
えば一段ですむので簡単であるが、二段焼結することも
可能である。
The sintering method is simple, as it only requires one step if it is performed at a temperature of about 1700 to 1800°C after applying the paste that forms the reaction barrier layer and the refractory metal layer, but two-step sintering is also possible. be.

以上のようにして得た六ホウ化ランタンチップの下部側
面の難融性金属層の表面にこれを支持する難融性金属か
らなる支持金属を接合し固着させれば本発明品が得られ
る。
The product of the present invention can be obtained by bonding and fixing a supporting metal made of a refractory metal to the surface of the refractory metal layer on the lower side surface of the lanthanum hexaboride chip obtained as described above.

以下図面により、さらに本発明を説明する。The present invention will be further explained below with reference to the drawings.

図面は本発明の実施例を示すものであって、第1図は熱
陰極チップの断面図、第2図は熱陰極の斜視図である。
The drawings show an embodiment of the present invention, in which FIG. 1 is a sectional view of a hot cathode chip, and FIG. 2 is a perspective view of the hot cathode.

1ず、第1図に示すように加工された、単結晶六ホウ化
ランタンもしくば、六ホウ化ランタン多結晶焼結体から
なるチップ1の下部側面に反応障壁層2としてlVa族
あるいはVa族金属のニホウ化物の1種以上を混合した
粉末を含有するペーストを塗布する。
1. First, as a reaction barrier layer 2, a lVa group or Va group is applied to the lower side surface of a chip 1 made of a single crystal lanthanum hexaboride or a polycrystalline sintered body of lanthanum hexaboride, which has been processed as shown in FIG. A paste containing a powder mixed with one or more metal diborides is applied.

更にその上に支持金属4との結合のため、難融性金属層
3として難融性金属の1m種以上の粉末を含有するペー
ストを塗布した後、六ホウ化ランタン、障壁層及び難融
性金属層に影響を与えない不活性雰囲気中で焼結すると
、チップ下部側面に三層構造を持つ六ホウ化ランタンチ
ップが得られる。
Furthermore, in order to bond with the supporting metal 4, a paste containing powder of 1 m or more of refractory metals is applied as a refractory metal layer 3, and then lanthanum hexaboride, a barrier layer, and a refractory metal layer 3 are applied. Sintering in an inert atmosphere that does not affect the metal layer yields a lanthanum hexaboride chip with a three-layer structure on the lower side of the chip.

との六ホウ化ランタンチップと支持金属であるタングス
テン線やタンタル線を第2図に示すようにスポット溶接
により接合すると六ホウ化ランタン熱陰極が得られる。
A lanthanum hexaboride hot cathode is obtained by joining a lanthanum hexaboride chip and a supporting metal such as a tungsten wire or a tantalum wire by spot welding as shown in FIG.

本発明によれば、六ホウ化ランタンの多結晶焼結体及び
、単結晶六ホウ化ランタンを用いホットプレス等の複雑
な工程をとることなく、歩留りよく、しかも、使用中に
六ホウ化ランタンチップがはく離して脱落するなどのト
ラブルがないすぐれた熱陰極が得られる。
According to the present invention, by using a polycrystalline sintered body of lanthanum hexaboride and a single crystal lanthanum hexaboride, a high yield can be obtained without taking complicated steps such as hot pressing, and moreover, lanthanum hexaboride can be used during use. An excellent hot cathode without problems such as chips peeling off and falling off can be obtained.

以下本発明を実施例をあげてさらに具体的に説明する。The present invention will be explained in more detail below by giving examples.

実施例 1 六ホウ化ランタンからなるチップ下部側面に、反応障壁
層を形成するニホウ化ジルコニウム粉末、硝酸セルロー
ス及びブタノールからなるペーストを約60ミクロンの
厚さに塗布被覆し、これを充分乾燥後、さらにその上に
難融性金属層を形成するタングステン粉末と硝酸セルロ
ース及びブタノールからなるペーストを約40□クロン
の厚さに塗布した。
Example 1 A paste consisting of zirconium diboride powder, cellulose nitrate, and butanol to form a reaction barrier layer was coated to a thickness of about 60 microns on the lower side surface of a chip made of lanthanum hexaboride, and after thoroughly drying, Furthermore, a paste consisting of tungsten powder, cellulose nitrate, and butanol to form a refractory metal layer was applied thereon to a thickness of about 40 square meters.

このチップをアルゴン雰囲気中で、温度1800℃で1
0分間焼結して焼付けた。
This chip was heated at a temperature of 1800°C in an argon atmosphere for 1 time.
It was sintered and baked for 0 minutes.

チップの被覆層は割れが全くなかった。The coating layer of the chip had no cracks at all.

得られた三層構造を側面にもつ六ホウ化ランタンチップ
の難融性金属層の上に、支持金属としてタングステン線
をスポット溶接によう接合固定し、六ホウ化ランタン熱
陰極を作成した。
A lanthanum hexaboride hot cathode was created by spot welding a tungsten wire as a supporting metal onto the refractory metal layer of the resulting lanthanum hexaboride chip with the three-layered structure on its sides.

得られた熱陰極を走査型電子顕微鏡に塔載したところ2
00時間以上使用可能であり、酸化が十分防止された。
When the obtained hot cathode was mounted on a scanning electron microscope, 2
It could be used for over 00 hours and oxidation was sufficiently prevented.

実施例 2 六ホウ化ランタンからなるチップ下部側面に、反応障壁
層を形成するニホウ化ニオブとニホウ化チタンのモル比
でl:1の混合粉末硝酸セルローズ、及びブタノールを
混合したペーストを二回塗りし50ミクロンの厚さに塗
布し乾燥した。
Example 2 On the lower side surface of a chip made of lanthanum hexaboride, a paste containing mixed powder of cellulose nitrate and butanol in a molar ratio of 1:1 of niobium diboride and titanium diboride to form a reaction barrier layer was applied twice. It was coated to a thickness of 50 microns and dried.

次いでこの上に難融性金属層を形成するタンタル粉末と
硝酸セルローズとブタノールかラナルペース゛トを50
ミクロンの厚さに塗布、乾燥した。
Next, 50% of tantalum powder, cellulose nitrate, and butanol or ranal paste to form a refractory metal layer are added on top of this.
It was applied to a micron thickness and dried.

これをアルゴン雰囲気中温度1700℃で10分間焼結
した。
This was sintered at a temperature of 1700° C. for 10 minutes in an argon atmosphere.

得られた三層構造をもつ六ホウ化ランタンチップの難融
性金属層の上に、タンタル線をスポット溶接により結合
して六ホウ化ランタン熱陰極を作成した。
A tantalum wire was bonded onto the refractory metal layer of the obtained lanthanum hexaboride chip with a three-layer structure by spot welding to create a lanthanum hexaboride hot cathode.

得られたものは実施例1のものと同様の効果を有するも
のであった。
The obtained product had the same effect as that of Example 1.

実施例 3 フローティングゾーン法で作られた単結晶六ホウ化ラン
タンからなるチップ下部側面に、実施例1.2と同様の
方法で、障壁層及び難融金属層を設け、単結晶六ホウ化
ランタン熱陰極を作成した。
Example 3 A barrier layer and a refractory metal layer were provided on the lower side surface of a chip made of single crystal lanthanum hexaboride made by the floating zone method in the same manner as in Example 1.2. A hot cathode was created.

単結晶六ホウ化ランタンの如き高価な材料でも歩留シ良
く熱陰極を作成することができ、実施例1゜2と同様の
効果を有するものであった。
Even with an expensive material such as single-crystal lanthanum hexaboride, a hot cathode could be produced with good yield, and the same effects as in Examples 1 and 2 were obtained.

比較例 六ホウ化ランタンからなる直径25mの焼結円板に、反
応障壁層を形成するためのニホウ化ジルコニウム粉末、
硝酸セルロース、ブタノールからなるペーストを約10
0ミクロンの厚さに塗布し、その上に直径25tz、厚
さ0.5mのタングステン金属板を置いてよく乾燥し、
該試料が丁度入る黒鉛ダイスに挿入し、真空中で205
0℃、圧力250 kg/caでホットプレスした。
Comparative Example Zirconium diboride powder for forming a reaction barrier layer on a 25 m diameter sintered disk made of lanthanum hexaboride,
Approximately 10 g of paste consisting of cellulose nitrate and butanol
Coat it to a thickness of 0 microns, place a tungsten metal plate with a diameter of 25tz and a thickness of 0.5 m on top of it and dry it thoroughly.
Insert the sample into a graphite die that just fits, and heat it in a vacuum for 205 minutes.
Hot pressing was carried out at 0°C and a pressure of 250 kg/ca.

該成型体は熱膨張係数が各素材で異なっているために、
無数のクラックが生じており、切断してチップに加工し
たところ、完全なものが5ヶ作成できた。
Since the molded body has a different thermal expansion coefficient depending on the material,
There were countless cracks, so when I cut it and processed it into chips, I was able to make 5 complete pieces.

タングステン金属層とタングステン線をスポット溶接し
て熱陰極を作成し、走査電子顕微鏡の熱陰極として実際
に使用したところ、20時間後にチップと障壁層の接合
部がはく離して使用できなくなった。
A hot cathode was created by spot welding a tungsten metal layer and a tungsten wire, and when it was actually used as a hot cathode for a scanning electron microscope, the joint between the chip and barrier layer separated after 20 hours, making it unusable.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図面は本発明の実施例を示すもので第1図は、熱陰極チ
ップの断面図、第2図は、熱陰極の針視図である。 符号、1・・・・・・六ホウ化ランタン、2・・・・・
・反応障壁層、3・・・・・・難融性金属層、4・・・
・・・支持金属。
The drawings show an embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a sectional view of a hot cathode chip, and FIG. 2 is a needle perspective view of the hot cathode. Code, 1...Lanthanum hexaboride, 2...
- Reaction barrier layer, 3... Refractory metal layer, 4...
...Supporting metal.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 単結晶又は焼結体の六ホウ化ランタンのチップ底面
及び下部側面を■a族、またはVa族の金属ニホウ化物
から選ばれた1種以上からなる反応障壁層によって包む
ように形成し、さらにその上を包むように難融性金属層
を形成し、その難融性金属上に難融性金属からなる支持
金属を接合するように構成してなる六ホウ化ランタン熱
陰極。 2 単結晶又は焼結体の六ホウ化ランタンのチップ底面
及び下部個所を包むように■a族またはVa族の金属ニ
ホウ化物のペーストを塗布し、さらにその上を包むよう
に難融性金属のペーストを塗布乾燥し、これを不活性ガ
ス雰囲気下で焼結して焼き付け、前記金属ニホウ化物か
らなる反応障壁層と難融性金属層との二層を六ホウ化ラ
ンタンのチップ底面及び下部側面に形成させ、その難融
性金属層の表面に離融性金属からなる支持金属を接合す
ることを特徴とする六ホウ化ランタン熱陰極の製造法。
[Scope of Claims] 1. The bottom and lower side surfaces of a single crystal or sintered lanthanum hexaboride chip are covered by a reaction barrier layer made of one or more metal diborides of group A or group Va. A lanthanum hexaboride hot cathode comprising: a refractory metal layer formed over the refractory metal layer; and a supporting metal made of the refractory metal bonded to the refractory metal. 2 Apply a paste of Group A or Group Va metal diboride to cover the bottom and lower part of the single crystal or sintered lanthanum hexaboride chip, and then apply a paste of refractory metal to cover the top. After coating and drying, this is sintered and baked in an inert gas atmosphere to form two layers, the reaction barrier layer made of the metal diboride and the refractory metal layer, on the bottom and lower side surfaces of the lanthanum hexaboride chip. 1. A method for producing a lanthanum hexaboride hot cathode, comprising: bonding a support metal made of a fusible metal to the surface of the refractory metal layer.
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