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JPS5827919B2 - Improved Integrated Circuit Field Programmed Read-Only Storage Matrix - Google Patents
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JPS5827919B2 - Improved Integrated Circuit Field Programmed Read-Only Storage Matrix - Google Patents

Improved Integrated Circuit Field Programmed Read-Only Storage Matrix

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JPS5827919B2
JPS5827919B2 JP51059914A JP5991476A JPS5827919B2 JP S5827919 B2 JPS5827919 B2 JP S5827919B2 JP 51059914 A JP51059914 A JP 51059914A JP 5991476 A JP5991476 A JP 5991476A JP S5827919 B2 JPS5827919 B2 JP S5827919B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は改良された集積回路マトリクス、特に集積回路
のフィールド・プロゲラマフプレROMマトリクスとそ
の製法及びプログラム方法とに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an improved integrated circuit matrix, and more particularly to an integrated circuit field programmer pre-ROM matrix and method of making and programming the same.

様々な異なる電気的材料によるフィールド・プログラマ
ブル集積回路記憶マI−IJクスの製法が知られている
Methods of fabricating field programmable integrated circuit storage matrix I-IJ from a variety of different electrical materials are known.

例えば、ヒユーズによる接続及びトランジスターがこの
目的のために用いられている。
For example, fuse connections and transistors have been used for this purpose.

ヒユーズ接続マl−IJクスでは、普通ニクロム線また
は同等な材料が用いられ、適当な電力が加えられること
でそれが溶けて断線し、マトリクスにおけるプログラム
されたビットとして開回路を形成する。
A fuse connection matrix typically uses nichrome wire or a similar material, which melts and breaks when the appropriate electrical power is applied, creating an open circuit as a programmed bit in the matrix.

トランジスター・マトリクスは適当な電力が加えられ、
トランジスターの一つの接合を短絡することで一方向に
のみ導通のダイオードとして、マl−IJクス内のプロ
グラムされたビットを形成することにより、プログラム
が行われる。
The transistor matrix is powered with appropriate power,
Programming is accomplished by shorting the junction of one of the transistors to form the programmed bit in the MIX as a diode that conducts in only one direction.

これらの型の71〜リクスは一般にダイオード・マトリ
クスによって置き替えられ、従って、ROMと呼ばれる
These types of devices are commonly replaced by diode matrices and are therefore called ROMs.

フィールド・プログラマブル記憶装置の利点と広い応用
性は、それらの商業的成功によって十分に示されている
The advantages and wide applicability of field programmable storage devices are amply demonstrated by their commercial success.

この変遷の速い分野では、米合衆国特許第3,733,
690号を含む多くの重要な進歩があった。
In this fast-moving field, U.S. Pat.
There have been many important advances, including No. 690.

この分野の急速な進歩の続きをなすものとして、本発明
では、設計者にとってのより大きな融通性とプログラミ
ングの簡単さを持つ、改良されたプログラム可能ROM
要素およびマトリクスを提供する。
Continuing the rapid progress in this field, the present invention provides an improved programmable ROM with greater flexibility and ease of programming for designers.
Provide elements and matrices.

本発明は、単一の基板上に形成され、第1のエミッター
はマトリクスの行に、第2のエミッターはマトリクスの
列に電導体によって接続されている、多数二つのエミッ
ターを持つトランジスター要素を持つ、フィールドプロ
グラマブル集積回路マトリクスを包含する。
The present invention includes multiple two-emitter transistor elements formed on a single substrate, the first emitter connected to the rows of the matrix and the second emitter connected to the columns of the matrix by electrical conductors. It includes a field-programmable integrated circuit matrix.

本発明の個々の要素は、選択された行および列を励起し
、選択された要素の一方のエミッターから多方へ電流を
流し、一方のベース・エミッター接合を電気的に短絡し
、プログラムされた位置またはアドレスに一つのエミッ
ターを持つトランジスターへのベース接続を作り出すこ
とによって、不可逆的にプログラムされる。
The individual elements of the invention energize selected rows and columns, conduct current from one emitter of the selected element to the other, electrically short one base-emitter junction, and move the selected element to a programmed position. or irreversibly programmed by creating a base connection to a transistor with one emitter at address.

それとは別に、要素は従来通りコレクター接続を作り出
すことによってプログラムすることもできる。
Apart from that, elements can also be programmed conventionally by creating collector connections.

更に、十分なプログラム電流を与えることで、一つのエ
ミッターをベースとコレクターの双方に電気的に短絡し
、プログラムされたアドレスに低蓄積の単一ダイオード
が作り出される。
Furthermore, by applying sufficient programming current, one emitter is electrically shorted to both base and collector, creating a single diode with low accumulation at the programmed address.

本発明が、一つの好適実施例として付属の図に描かれて
いる。
The invention is depicted in the accompanying drawings as one preferred embodiment.

本発明による記憶アレイまたはマトリクスは多数の単一
基板上に形成された二つのエミッターを持つトランジス
ター要素を持ち、そのような要素の一つが第1および第
2図に示されている。
A storage array or matrix in accordance with the present invention has a number of dual emitter transistor elements formed on a single substrate, one such element being shown in FIGS. 1 and 2.

P形の基板11上にN形のエピタキシャル層12が乗せ
である。
An N-type epitaxial layer 12 is placed on a P-type substrate 11 .

N コレクター領域13が、従来の技術によってエピタ
キシャル層の上面14より下に、一般には基板内に埋め
込まれている。
An N collector region 13 is embedded below the top surface 14 of the epitaxial layer, typically within the substrate, by conventional techniques.

P形のベース領域16が、エピタキシャル層12内の領
域13の上方の上面14に広がっており、そのベース領
域の内部に二つのN エミッター領域17および18が
図に示すように上面に与えられている。
A P-type base region 16 extends over the top surface 14 above the region 13 in the epitaxial layer 12, and within the base region two N emitter regions 17 and 18 are provided on the top surface as shown. There is.

ベース領域16は、本発明ではそれらへ別々の電気的接
触を必要としないので、非常に小さくできる。
The base regions 16 can be made very small since the invention does not require separate electrical contacts to them.

従来の集積回路技術に従って、上面14は保護絶縁層で
おおわれており、シリコン基板の場合はこの層はシリコ
ン酸化膜19で形成される。
In accordance with conventional integrated circuit technology, the top surface 14 is covered with a protective insulating layer, which in the case of a silicon substrate is formed of a silicon oxide layer 19.

酸化膜19を通して従来の技術でエミッター領域17お
よび18へ穴が開けられ、別々の電導体21および22
がそこを通して領域17および18のオーム接触部へ広
がっている。
Holes are drilled through oxide layer 19 to emitter regions 17 and 18 using conventional techniques to form separate electrical conductors 21 and 22.
extends therethrough to the ohmic contacts in regions 17 and 18.

第1および第2図に示され上記で簡単に説明した二つの
エミッターを持つ要素の構造は、従来の集積回路技術に
よって形成することができる。
The two emitter element structure shown in FIGS. 1 and 2 and briefly described above can be formed by conventional integrated circuit technology.

この要素は二つのトランジスターとみなすことができ、
領域16はそのようなトランジスターの共通のベースで
あり、領域13および層12の領域13とベース16と
の間の部分が共通のコレクターとなる。
This element can be considered as two transistors,
Region 16 is the common base of such a transistor, and region 13 and the portion of layer 12 between region 13 and base 16 provide a common collector.

領域17および18が、それらエミッターからの電気的
接点を持つ二つのトランジスターのエミッターとみなさ
れる。
Regions 17 and 18 are considered the emitters of two transistors with electrical contacts from their emitters.

多数のこれらの要素が、拡散その他の従来のプロセスで
、以下に述べるマドIJクスとして単一の基板上に形成
されるということは評価に値することである。
It is appreciated that a large number of these elements can be formed by diffusion or other conventional processes on a single substrate as the Mad IJ substrate described below.

第3図に、第2同の二つのエミッターを持つトランジス
ター・マl−IJクス要素の等他回路が示されている。
In FIG. 3, another circuit of a transistor multiplex element with two emitters is shown.

第3図では、要素は二つのトランジスターQ1およびQ
2として示されており、それらのベースはベース16と
二つのエミッタ−17および18の間の抵抗値を表わす
抵抗RBによって互いに結ばれている。
In Figure 3, the elements are two transistors Q1 and Q
2, their bases are connected together by a resistor RB representing the resistance between the base 16 and the two emitters 17 and 18.

QlおよびQ2のコレクターは、ベース16から領域1
3を通って下にさがり更にベースへと戻る、エピタキシ
ャル層と埋め込みコレクターの抵抗値を表わす抵抗R6
によって互いに結ばれている。
Collectors for Ql and Q2 extend from base 16 to region 1
A resistor R6 representing the resistance of the epitaxial layer and the buried collector descends through 3 and returns to the base.
are connected to each other by.

第3図では、トランジスターQ1の各要素はエミッター
に対してはEl、コレクターに対してはC1そしてベー
スにはB1とラベルがつけられており、同様に、トラン
ジスターQ2の各要素にもエミッターにはB2、コレク
ターにはC2そしてベースにはB2とラベルが付けられ
ている。
In Figure 3, each element of transistor Q1 is labeled El for the emitter, C1 for the collector and B1 for the base, and similarly each element of transistor Q2 is labeled El for the emitter. B2, the collector is labeled C2 and the base is labeled B2.

記憶マトリクスにおける本発明による要素のプログラミ
ングについての以下の説明には、これらのラベルを用い
る。
These labels will be used in the following description of the programming of elements according to the invention in a storage matrix.

まず第1に、第1および第2図に図示し、第3図にその
電気的な表現を示した本発明による要素は、単一エミッ
ター構造のものと同じ方法でプログラムをすることがで
きるということを述べる。
First of all, the element according to the invention, illustrated in FIGS. 1 and 2 and its electrical representation shown in FIG. 3, can be programmed in the same way as a single emitter structure. state something.

すなわち、コレクター接点があるために、外部回路によ
ってエミッターE1またはB2のどちらかからコレクタ
ーへ電流を流し込むことで、どちらかのベース・エミッ
ター接合が短絡され、プログラムするビットを示すマト
リクス・アドレスの一方向のみのトランジスター接合が
残される。
That is, because of the collector contacts, by forcing current from either emitter E1 or B2 into the collector by an external circuit, either base-emitter junction is shorted and one way of the matrix address indicating the bit to be programmed is generated. Only one transistor junction is left.

しかし、本発明ではこの他に、一方のエミッターから他
方のエミッターへと電流を流すことでプログラムができ
るという利点を持っている。
However, the present invention has an additional advantage that it can be programmed by passing a current from one emitter to the other.

逆向きにバイアスがかけられたエミッターはベースに短
絡し、他方のエミッターはそこなわれない。
The oppositely biased emitter is shorted to the base and the other emitter is left undamaged.

このプログラム法について第3図を参照してもう少し述
べると、電流がB2からElへ流されたとすると、小電
流がB2からB1へRBを通して、さらにQlのベース
・エミッター接合を通して流れ、トランジスターQ1を
ON状態にする。
To explain this programming method further with reference to Figure 3, if a current is passed from B2 to El, a small current flows from B2 to B1 through RB and then through the base-emitter junction of Ql, turning transistor Q1 ON. state.

B2へ流れ込む電流の大部分は、RBの両端の電圧降下
によって順方向にバイアスが加っているトランジスター
Q2のベース・コレクター接合を通して流れ、従って、
Roを通ってQlのコレクターからエミッターへと流れ
る。
Most of the current flowing into B2 flows through the base-collector junction of transistor Q2, which is forward biased by the voltage drop across RB, and thus:
It flows from the collector of Ql to the emitter through Ro.

コレクター電流のベース電流に対する比はR6IRBお
よびQlの増幅率、すなわちベータ、によって決定され
る。
The ratio of collector current to base current is determined by the amplification factor, or beta, of R6IRB and Ql.

この比は十分に高くすることができ、その結果、あたか
も全部の電流がエミッターからコレクターへ流れ、プロ
グラムがなされる。
This ratio can be made high enough so that all the current flows from the emitter to the collector and is programmed.

上記の本発明のプログラム法は多くの利点を持っている
ことに注意されたい。
It should be noted that the programming method of the invention described above has many advantages.

本発明を例えば従来の単一トランシスター・マトリクス
と比較してみると、後者のマトリクスでは、プログラム
電流は長くてほそい埋込みコレクターまたはコレクター
接点またはその両方を流れねばならず、その結果、大き
な直列抵抗が生じる。
Comparing the present invention to, for example, a conventional single transistor matrix, in the latter matrix the programming current must flow through long and thin buried collectors and/or collector contacts, resulting in large series resistance. occurs.

本発明の二つのエミッターを持つ構造では、プログラム
電流は非常に短い埋込みコレクターおよび第2のトラン
ジスターを流れる。
In the two emitter structure of the present invention, the program current flows through a very short buried collector and a second transistor.

直列抵抗は、従って、埋込み層が非常に高い抵抗値を持
っていても、十分小さくすることができる。
The series resistance can therefore be made sufficiently small even if the buried layer has a very high resistance value.

このことはより低いプログラム電圧の使用を可能にする
This allows the use of lower programming voltages.

もう一つの、そして多分より重要な本発明の利点は、一
つのビットまたはアドレスをプログラムした後、単一ト
ランシスター・マトリクスと同様、トランジスターはダ
イオードとしてではなくトランジスターのままで残る。
Another, and perhaps more important, advantage of the present invention is that after programming one bit or address, the transistors remain transistors rather than diodes, similar to a single transistor matrix.

本発明によるアレイでは、プログラムはトランジスター
のベースに選択的に電流を流す方法をとる。
In the array according to the invention, programming takes the form of selectively passing current through the bases of the transistors.

この点をさらに述べると、B2からElへ電流が通る本
発明によるプログラムされた要素では、E2〜B2接合
が短絡され、その結果、B2がB1へ実際に物理的にベ
ースに接触するのではなしに結合されるということに注
意していただきない。
To further state this point, in a programmed element according to the invention where current passes from B2 to El, the E2 to B2 junction is shorted, so that B2 is connected to B1 instead of actually physically touching the base. Please note that they are combined.

このことは、ベースの大きさを制限するという点で利点
がある。
This has the advantage of limiting the size of the base.

ある型のROMにおいては、アレイ要素としてダイオー
ドよりはトランジスターがはるかに望まれているという
ことにさらに注意していただきたい。
Note further that in some types of ROM, transistors are much more desirable than diodes as array elements.

本発明の要素のプログラム後も残るトランジスターは、
単にダイオードとして機能させることもでき、従って、
本発明の二つのエミッターを持つ構造は、従来の単一ト
ランシスター・アレイより大きな多様性を持っていると
言える。
The transistors that remain after programming the elements of the invention are
It can also function simply as a diode, thus
The two-emitter structure of the present invention can be said to have greater versatility than conventional single-transistor arrays.

本発明による要素のプログラミングでは、プログラム電
流を例えばQ2に流し、エミッターE2をQ2のベース
およびコレクターの両方に短絡させることも可能である
In programming the element according to the invention, it is also possible to run the program current through Q2, for example, and short the emitter E2 to both the base and the collector of Q2.

単一トランシスター・アレイではこのような短絡は不都
合を生ずるが、本発明では故意に例えばQ2のエミッタ
ーをベースおよびコレクターに短絡する。
In a single transistor array such a short would be a disadvantage, but the present invention intentionally shorts the emitter of, for example, Q2 to the base and collector.

これによってトランジスターQ1はそのベースとコレク
ター間にRo+RBによる回路ができる。
As a result, a circuit of Ro+RB is formed between the base and collector of the transistor Q1.

従って、このことでダイオード、すなわち、比較的長い
蓄積時間のベース−エミッター・ダイオードまたはベー
ス−コレクター・ダイオードとは反対に、非常に短い蓄
積時間のコレクター−ベースからエミッターへのダイオ
ードが作られる。
This thus creates a diode, ie a collector-base to emitter diode with a very short storage time, as opposed to a base-emitter diode or a base-collector diode with a relatively long storage time.

この場合、一方のトランジスターのエミッターが逆方向
バイアスでそのベースに非導通短絡されると、他方のト
ランジスターのエミッターは第3図に示す両抵抗による
電圧降下により順方向バイアスで導通状態になる。
In this case, when the emitter of one transistor is reverse biased and shorted non-conducting to its base, the emitter of the other transistor becomes conductive with forward bias due to the voltage drop across both resistors as shown in FIG.

従って、順方向バイアスのトランジスターは短絡された
トランジスターのために破壊されることはないが、それ
は導通状態にあるからである。
Therefore, a forward biased transistor will not be destroyed due to a shorted transistor, but because it is in a conducting state.

このことは、上述のようにダイオードと等価と考えるこ
とができる。
This can be considered equivalent to a diode as described above.

ある特定の応用には、この非常に短い蓄積時間はたいへ
ん都合がよい。
For certain applications, this very short storage time is very advantageous.

この故意のエミッターとベースおよびコレクターの両方
との短絡は、先行技術でのベース・エミッター接合の短
絡を制限する問題を除去することになることにも注意が
必要である。
It should also be noted that this intentional shorting of the emitter to both the base and the collector would eliminate the problem that limited shorting of the base-emitter junction in the prior art.

本発明は、メモリー・アレイに対して上に一般的に述べ
たように様々な方法で用いることができる。
The present invention can be used in a variety of ways as described generally above for memory arrays.

第4図には41,42等の行および5L52等の列、そ
して各交点において一方のエミッターを行に接続し、も
う一方のエミッターを列に接続することで行と列の”橋
渡し”をする二つのエミッターを持つトランジスター要
素60を持つマトリクスの一部が図示されている。
Figure 4 shows rows 41, 42, etc. and columns 5L52, etc., and at each intersection, one emitter is connected to the row and the other emitter is connected to the column, thereby "bridging" the rows and columns. A portion of a matrix with a transistor element 60 with two emitters is shown.

第4図のマトリクスのそれぞれの要素60のプログラミ
ングは、希望する要素のエミッター間に電流を流すこと
によってなされる。
Programming of each element 60 of the matrix of FIG. 4 is accomplished by passing a current between the emitters of the desired element.

この目的のため、第4図には電源71と例として行42
と列51へ接続された制御装置72とが図示しである。
For this purpose, FIG.
and a control device 72 connected to column 51 are shown.

これによって、行42と列51の交点の要素60の一方
のエミッターから他方のエミッターへ電流を流し、その
位置すなわちアドレスの要素のプログラムを行う。
This causes current to flow from one emitter of element 60 at the intersection of row 42 and column 51 to the other emitter, programming the element at that location or address.

先に記したよう(′・−0ようなブ0り゛ラ−”’ l
’;!’、、−要素60の一方のベース・エミッター接
合を短絡することで成される。
As mentioned earlier ('・-0 etc.)
';! ', , - is accomplished by shorting the base-emitter junction of one of the elements 60.

このことで、マトリクス内のプログラムされた位置すな
わちアドレスに行42と列51を結ぶトランジスターが
作られる。
This creates a transistor connecting row 42 and column 51 to the programmed location or address in the matrix.

もう一つの方法として、先に述べたように、制御装置7
2を通して十分なプログラム電流を与え、要素60の一
方のエミッターをその要素のベースおよびコレクターの
両方に短絡させることでその要素のプログラムをするこ
とも可能である。
As another method, as mentioned earlier, the control device 7
It is also possible to program the element by applying a sufficient programming current through 2 and shorting the emitter of one of the elements 60 to both the base and collector of that element.

このことによっては、プログラムされたアドレスに非常
に短い蓄積時間のダイオードが作り出されることになる
This will create a very short storage time diode at the programmed address.

本発明をそれによる特定の好適実施例に則して述べてき
たが、多数の変更や修正が本発明の精神の内で可能であ
る。
Although the invention has been described in terms of specific preferred embodiments thereof, many changes and modifications are possible within the spirit of the invention.

記述の用語および付図の詳細によって本発明は限定され
るものではない。
The invention is not limited to the terms of the description and the details of the figures.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明による二つのエミッターを持つプログ
ラム可能要素の概略的な計画図である。 第2図は、第1図の2−2平面で切った断面図である。 第3図は、第1および第2図のプログラム可能要素の等
価電気回路の概略図である。 第4図は、相互に接続された本発明の要素を持つマトリ
クスの一部の概略図である。 11・・・基板;12・・・N形エピタキシャル層;1
3・・・N コレクター領域;16・・・P形ベース領
域;17,18・・・N+エミッター領域;19・・・
保護絶縁層;21.22・・・電導体;4L42・・・
行;5L52・・・列;60・・・二つのエミッターを
持つトランジスター要素;71・・・電源;72・・・
制御装置:
FIG. 1 is a schematic diagram of a programmable element with two emitters according to the invention. FIG. 2 is a sectional view taken along the 2-2 plane of FIG. 1. FIG. 3 is a schematic diagram of an equivalent electrical circuit for the programmable elements of FIGS. 1 and 2; FIG. 4 is a schematic diagram of a portion of a matrix with interconnected elements of the invention. 11...Substrate; 12...N-type epitaxial layer; 1
3...N collector region; 16...P-type base region; 17, 18...N+ emitter region; 19...
Protective insulating layer; 21.22... Electric conductor; 4L42...
Row; 5L52... Column; 60... Transistor element with two emitters; 71... Power supply; 72...
Control device:

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 改良された集積回路フィールド・プログラマブル読
み出し専用記憶装置マトリクスであって、単一基板上に
配置された複数個のデュアルエミッタトランジスタ要素
であって、各トランジスタはベース領域内に配置された
一対の別個のエミッタ領域を持ち、 上記複数個のトランジスタのそれぞれの第1のエミッタ
を接続し、別個に行を形成している第1の電導体と、 上記複数個のトランジスターのそれぞれの第2のエミッ
タを接続して別個の列を形成し、行および列のそれぞれ
の交点にプログラマブルアドレスを持つマl−IJクス
を形づくる、第2の電導体とを持ち、 選択された行および列の間に電力を与えることで、その
間に接続されている要素のベース・エミッタ接合を電気
的に短絡し、マドIJクスの一つのアドレスをプログラ
ムする、 改良された集積回路フィールド・プログラマブル読み出
し専用記憶装置マトリクス。 2、特許請求の範囲第1項に記載の改良された集積回路
フィールド・プログラマブル読み出し専用記憶装置マト
リクスであって、上記の要素のそれぞれが、埋込みコレ
クタ領域と上記コレクタ領域の上方のエピタキシャル層
内に配置されたベース領域とを持つ、改良された集積回
路フィールド・プログラマブル読み出し専用記憶装置マ
トリクス。 3 特許請求の範囲第1項に記載の改良された集積回路
フィールド・プログラマブル読み出し専用記憶装置マト
リクスであって、上記の要素を覆い上記の要素のエミッ
タへの開口部を持つ絶縁層を持ち、上記の第1および第
2の導体が、上記の絶縁層の上記の開口部を通りエミツ
タヘオーム接触をしている上記絶縁層上の金属導体を持
つ、改良された集積回路フィールド・プログラマブル読
み出し専用記憶装置マトリクス。 4 改良された集積回路フィールド・プログラマブル読
み出し専用記憶装置マトリクスであって、単一基板上に
配置された複数個のデュアルエミッタトランジスタ要素
であって、各トランジスタは高い導電性の埋込みコレク
タ領域をもち、ベース領域は、上記埋込みコレクタ領域
とは何ら電気的接触をもたずにその上に配置され、かつ
これらの間にPN接合をもち、 一対の別個のエミッタ領域が上記ベース領域の上側表面
からベース領域内へ延びており、上記複数個のトランジ
スタのそれぞれの第1のエミッタを接続し、それぞれ別
個の行を形成している第1の電導体と、 上記複数個のトランジスターのそれぞれの第2のエミッ
タを接続してそれぞれ別個の列を形成し、行および列の
それぞれの交点にプログラマブルアドレスを持つマトリ
クスを形づくる、第2の電導体とを持ち、 選択された行および列の間に電力を与えることで、その
間に接続されている要素のベース・エミッタ接合を電気
的に短絡し、マトリクスの一つのアドレスをプログラム
する、 改良された集積回路フィールド・プログラマブル読み出
し専用記憶装置マトリクス。 5 集積回路マトリクスの形成とプログラムを行う方法
であって、 単一基板内へ複数個のデュアルエミッタトランジスタ要
素を拡散し、 上記要素の第1のエミッタを電気的に接続してマトリク
スの行を作り、 上記要素の第2のエミッタを電気的に接続してマl−I
Jクスの列を作り、これにより一つの行および列の間へ
エミッタで接続された一つのトランジスタ要素によって
マトリクス・アドレスが定義され、 選択された要素に接続されている行および列を通しての
その要素への電流を流入し、その要素のベース・エミッ
タ接合を電気的に短絡してその要素のプログラミングを
行う、集積回路マド1,1クスの形成とプログラミング
を行う方法。 6 特許請求の範囲第5項に記載の集積回路マトリクス
の形成とプログラミングを行う方法であって、 上記要素に十分な電流を流入させて、上記要素の一方の
エミッタをベースおよびコレクターの両方へ電気的に短
絡させ、上記要素を単一のダイオードに変えて、上記マ
トリクスのプログラムされたアドレスとする、集積回路
マトリクスの形成とプログラミングを行う方法。
Claims: 1. An improved integrated circuit field-programmable read-only storage matrix comprising a plurality of dual-emitter transistor elements disposed on a single substrate, each transistor having a base region within the base region. a first electrical conductor having a pair of distinct emitter regions disposed and connecting first emitters of each of the plurality of transistors and forming a separate row; and each of the plurality of transistors; and a second electrical conductor connecting the second emitters of the selected row and column to form a separate column and forming a multiplex with a programmable address at each intersection of the row and column; An improved integrated circuit field-programmable read-only device that applies power between columns to electrically short the base-emitter junctions of the elements connected therebetween and programs the address of one of the IJs. Storage matrix. 2. An improved integrated circuit field programmable read-only storage matrix as claimed in claim 1, wherein each of the above-described elements comprises a buried collector region and an epitaxial layer above the collector region. An improved integrated circuit field programmable read-only storage matrix having an arranged base region. 3. An improved integrated circuit field programmable read-only storage matrix as claimed in claim 1, having an insulating layer overlying said element and having an opening to the emitter of said element; an improved integrated circuit field programmable read-only storage matrix, wherein first and second conductors of the insulating layer have metal conductors on the insulating layer making emitter-to-emitter ohmic contact through the openings in the insulating layer; . 4. An improved integrated circuit field programmable read-only storage matrix comprising a plurality of dual emitter transistor elements disposed on a single substrate, each transistor having a highly conductive buried collector region; a base region disposed above the buried collector region without any electrical contact with the buried collector region and having a PN junction therebetween; a pair of separate emitter regions extending from the upper surface of the base region to the base region; a first electrical conductor extending into the region and connecting first emitters of each of the plurality of transistors, each forming a separate row; and a second electrical conductor of each of the plurality of transistors. a second electrical conductor connecting the emitters to form each separate column and forming a matrix with programmable addresses at each intersection of the rows and columns to provide power between selected rows and columns; An improved integrated circuit field-programmable read-only storage matrix that electrically shorts the base-emitter junctions of the elements connected therebetween and programs the address of one of the matrices. 5. A method for forming and programming an integrated circuit matrix, comprising diffusing a plurality of dual-emitter transistor elements into a single substrate and electrically connecting the first emitters of the elements to form rows of the matrix. , by electrically connecting the second emitter of the above element to
Create a column of Jx, whereby a matrix address is defined by one transistor element connected with an emitter between one row and column, and that element through the row and column connected to the selected element. A method of forming and programming an integrated circuit board by injecting current into the element and programming the element by electrically shorting the base-emitter junction of the element. 6. A method of forming and programming an integrated circuit matrix as claimed in claim 5, comprising injecting sufficient current into said elements to electrically connect the emitter of one of said elements to both the base and the collector. A method for forming and programming an integrated circuit matrix by shorting the elements and changing the elements to single diodes to the programmed addresses of the matrix.
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