JPS5828877B2

JPS5828877B2 - 新規２，６−ジメトキシ−４−置換フエニル・ジ置換ホスフエイト類

Info

Publication number: JPS5828877B2
Application number: JP55108155A
Authority: JP
Inventors: サムエル・ジエイ・ドミニアンニ; チヤールズ・ダブリユ・ライアン
Original assignee: Eli Lilly and Co
Current assignee: Eli Lilly and Co
Priority date: 1976-06-14
Filing date: 1980-08-06
Publication date: 1983-06-18
Also published as: DE2726393A1; CH631181A5; IE44971L; US4131656A; DE2726393C2; JPS56131538A; CH630052A5; JPS5748537B2; JPS52153921A; NL7706505A; US4087410A; DE2759964C2; IE44971B1; IL59962A0; FR2354987A1; IL52291A0; CA1099709A; FR2354987B1; IL52291A; CH631146A5

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、新規２・６−ジメトキシ−４一置換フェニル
・ジ置換ホスフェイト類に関する。

更に詳しくは、下記一般式（Ｔ）で表わされる化合物に
関する。

※〔式中、１はアダマンチルまたは式（但し、Ｒ２およびＲ３は個々にＣ１−Ｃ６アルキル、
Ｒ４はｃｌ−Ｃ６アルキル、フェニル、シクロヘキシル
またはアダマンチルを表わす。

）で表わされる基、Ｒ５およびＲ６は個々にＣ１−Ｃ５
アルキルを表わす。

〕本発明の化合物は、下記工程式１に従って製造しうる
。

工程式１（式中、Ｒ１、Ｒ５およびＲ６は前記と同意義。

）（第１工程）２・６−シメトキシフエノール（川を、酸の存在下、Ｒ
１０Ｒ（但し、Ｒ１は前記と同意義）で表わされる第三
アルコールと反応させて、対応する２・６−シメトキシ
ー４−（第三アルキル）フェノール叫を得る工程である
。

第三アルコールとしては、第三ブタノール、１・１−ジ
メチル−１−ブタノール、１−メチル−１−エチル−ｌ
−ヘキサノール、１・１−ジメチル１−ヘプタツール、
■・１−ジ−ｎ−プロピル−１−ブタノール、■−メチ
ル−１−ｎ−プチル１−フェニルメタノール、１・１−
ジメチル−１−フェニルメタノール、■−メチルー１−
エチルシクロヘキシルメタノール、１・１−ジーｎ−へ
キシル−１−フェニルメタノール、１・１−ジメチル−
１−アダマンチルメタノールおよびこれらの関連アルコ
ールが同一の手順で採用し得る。

酸としては：スルホン酸（例えば、メタンスルホン酸、
硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸）、ルイス酸（例えば、
三フッ化ホウ素）などを使用できるが、特に好ましい酸
はメタンスルホン酸である。

一般に、アルキル化反応は、酸の存在下に２・６−シメ
トキシフエノールと第三アルコールを、はぼ等モル量ず
つ混和することによって行われる。

酸の使用量は重要でな（、所望ならその酸がアルキル化
触媒としてだけでなく、反応溶媒として作用する程度に
、過剰量の酸を使用することもできる。

あるいは、ジオキサン、テトラヒドロフランまたはジメ
チルスルホキシドのような溶媒を、触媒として使用する
酸の１モル量と共に用いて反応を行うこともできる。

反応は、２５℃から８０℃の間で実施され、通常５０℃
で行われる。

アルキル化は、通常１〜１０時間で実質的に完了する。

しかし、必要ならさらに長時間をかげることもできる。

通常、生成物は、単に反応混合物から酸を除去すること
によって単離される。

例えば、反応混合物を、ジクロロメタンや酢酸エチルの
ような水と混和しない有機溶媒に加え、数回水で洗滌し
、もし必要なら、残存する酸を完全に除くため、炭酸水
素す）ＩＪウム溶液のような塩基性水溶液でさらに洗
滌する。

この有機溶液から溶媒を除去すると式（ホ）の生成物が
得られ、このものは通常さらに精製することを要しない
。

２・６−シメトキシフエノールのアルキル化の位置は、
２個のメトキシ基のオルト・パラ配向性に支配されるも
のと予測に反して、上記のアルキル化は、驚くべきこと
に２個のメトキシ基に対するメタ位に対する優先的置換
を実現し、殆んど完全に選択的に２・６−シメトキシー
４−（第三アルキル）フェノール叫を生成する。

この結果は実に驚くべきことであり、２・６−シメトキ
シー４−（第三アルキル）フェノール類の製造技術上重
要な進歩を意味するものである。

（第２工程）２・６−シメトキシー４−（第三アルキル）フェノール
（ホ）をジ置換ハロホスファイト■と反応させて、２・
６−シメトキシー４−（第三アルキル）フェニル・ジ置
換ホスフエイ）（Ｉ）を得る工程である。

この種の反応は極く一般的であって、例えばＧｏｌｄｋ
ａｍｐｅｔａｌ：、Ｊ、Ｍｅｄ、Ｃｈｅｍ
、、８。

４０９（１９６５）：Ｋｅｎｎｅｒｅｔａｌ：
Ｊ。

Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、１９５５．５２２：ｐｅｌｌ
ｅｔｉｅｒｅｔａｌ：Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ
、２３．１３１（１９５８）などに記載されている。

反応は、およそ当モル量の２・６−シメトキシー４−（
第三アルキル）フェノール（ホ）とジ置換ホスファイト
■を、四・・ロゲン化炭素と当モル量の塩基の存在下に
混和することによって行われる。

本工程で通常使用されるジ置換ホスファイト（５）には
、ジメチルホスファイト、ジエチルホスファイト、ジプ
ロピルホスファイトなどがある。

これらのジ置換ホスファイトは、四・・ロゲン化炭素（
例えば、四塩化炭素、四臭化炭素または四ヨウ化炭素）
および第三アミン塩基（例えば、トリエチルアミン、ピ
リジンまたはジメチルアミンアニリン）と反応して、反
応混液中でジ置換ハロホスファイトを生成し・これが次
いで２・６−シメトキシー４−（第三アルキル）フェノ
ールと反応スる。

また、必要に応じて、式叫の化合物を予めナトリウム塩
、カリウム塩またはリチウム塩のようなアルカリ金属塩
に変換してから、ジ置換ハロホスファイトと反応させて
もよい。

式（ホ）のフェノール性水酸基が塩の形になっているか
否かにかかわりなく、同一の反応条件が適用されるが、
フェノールを予め塩に変換しておく場合は塩基を使用す
る必要はない。

本反応は、普通りロロホルム、ジクロロメタンまたは四
塩化炭素のような適当な溶媒中、一般に２０℃ないし５
０℃で実施され、通常１２ないし２４時間で反応は実質
的に完了する。

目的化合物（Ｉ）は、上記反応混合物から、ジクロロメ
タンやクロロホルムのような水と混和しない溶媒で希釈
した後数回水で洗滌することにより、あるいは必要に応
じて水酸化ナトリウム水溶液および塩酸または硫酸のよ
うな鉱酸水溶液で洗滌することにより、容易に単離され
得る。

次いで、有機溶媒を、例えば減圧蒸留によって除去する
と目的とする２・６−シメトキシー４−（第三アルキル
）フェニル・ジ置換ホスフェイトが得られ、更に再結晶
やクロマトグラフィーのような常法によって精製するこ
とができる。

本発明によって提供され、上記方法によって画一的に製
造される２・６−シメトキシー４−（第三アルキル）フ
ェニル・ジ置換ホスフェイトの代表的なものとしては、
次のような化合物がある。

２・６−シメトキシー４−（１・１−ジメチルヘプチル
）フェニル・ジエチル・ホスフェイト：２・６−シメト
キシー４−（１−エチル−１ノチルペンチル）フェニル
・ジメチル・ホスフエイト：２・６−シメトキシー４−（１・１−ジ−ｎブチルヘキ
シル）フェニル・シフロピル・ホスフェイト；２・６−シメトキシー４−アダマンチルフェニル・メチ
ル・エチル・ホスフエイｌ−；２・６−シメトキシー４−（１・１−ジ−ｎ−プロピル
アダマンチルメチル）フェニル・ジエチル・ホスフェイ
ト；２・６−シメトキシー４−（１・１−ジーｎ−へキシル
ブチル）フェニル・ジエチル・ホスフエイト。

本発明の化合物（Ｉ）は、５−（第三アルキル）レゾル
シノールの合成中間体として有用な新規化合※※物であ
る。

多くの５−アルキルレゾルシノールは公知である。

この化合物は広範な有用性を持っており、例えば１−ヒ
ドロキシ−３−アルキルジベンゾピラン誘導体の重要な
合成原料である。

アダムスらはこの種のジベンゾピラン誘導体の生物活性
がその３位アルキル基の１′位に分枝を導入することに
よって強化され得ることを発見した（Ａｄａｍｓ、
ｅｔａｌ：Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、７０
．６６４（１９４８））。

３位が高度に分枝した側鎖を有するジベンゾピランを製
造するために、５−（第三アルキル）レゾルシノールを
得ることが必要となってきた。

５−（第三アルキル）レゾルシノールの合成法は、アダ
ムスらの方法の他、アメリカ特許第２８８８５０３号、
同第３７２９５１９号、同第３７９０６３６号および同
第３８３８１８１号などに記載されているが、これらの
方法は、その全工程が長いことおよび原料物質が高価で
あることなどにより、工業的観点からは魅力に欠けるも
のである。

しかし、下記工程式２に従って、本発明の化合物（■）
から５−（第三アルキル）レゾルシノールを誘導すると
、比較的安価に、２工程で、かつ好収率で遠戚しうる。

工程式２（式中、Ｒ１，Ｒ５およびＲ６は前記と同意義。

）（工程Ａ）２・６−シメトキシー４−（第三アルキル）フェニル・
ジ置換ホスフェイト（Ｉ）に、ナトリウム、カリウムま
たはリチウムのようなアルカリ金属を作用させてジ置換
リン酸基を効果的に除去し、対応する１−（第三アルキ
ル）−３・５−ジメトキシベンゼン■とする工程である
。

この種の反応は一般的なものであり、前記Ｇｏｌｄｋａ
ｍｐｅｔａｌ、Ｋａｎｎｅｒｅｔａｌおよ
びＰｅ１ｌｅｔｉｅｒｅｔａｌの記載に従って実施
される。

さらに云えば、２・６−シメトキシー４−（第三アルキ
ル）フェニル・ジ置換ホスフェイトをジエチルエーテル
やテトラヒドロフランのような溶媒に溶かし、アルカリ
金属を液体アンモニアに溶かした溶液に加える。

本反応では、一般に２モル当量のアルカリ金属を必要と
するが、必要に応じてさらに過剰量が使用されてもよい
。

反応は、一般に２〜１０時間で完結する。

生成物の単離は、例えば塩化アンモニウム水溶液を反応
混液に加えることによって、未反応アルカリ金属を不活
化し、次いで例えば蒸発によって、反応溶媒を除去する
だけで実施できる。

必要あれば、この生成物を、ジエチルエーテルのような
水と混和しない溶媒に溶かし、水酸化ナトリウム水溶液
および水で洗滌してもよい。

次いで有機溶媒を除去すれば、目的とする１−（第三ア
ルキル）−３・５−ジメトキシベンゼン■が得られ、こ
のものは通常さらに精製することを要しない。

（工程Ｂ）１−（第三アルキル）−３・５−ジメトキシベンゼン■
に脱メチル剤を作用させて２個のメチルエーテル基を開
裂させ、対応する５−（第三アルキル）レゾルシノール
Ｍを得る工程である。

この種の開裂は、ジメトキシ体をピリジン塩酸塩との混
合物中で加熱するだけで実施される。

すなわち、この混合物を還流下に２〜１０時間加熱する
と、２個のメチルエーテル基が開裂する。

別法として、■−（第三アルキル）−３・５−ジメトキ
シベンゼン（１）を三ハロゲン化ホウ素（例えば。

三臭化ホウ素もしくは三塩化ホウ素）またはハロゲン化
アルミニウム（例えば、臭化アルミニウムもしくは塩化
アルミニウム）と反応させて、２個のメチルエーテル基
を開裂させることもできる。

この反応は、通常ジクロロメタンやｎ−ペンタンのよう
な溶媒中、一般に一８０℃ないし２５℃の低温で行われ
る。

さらにまた、この２個のメチルエーテル基の開裂は、■
−（第三アルキル）−３・５−ジメトキシベンゼンを、
臭化水素酸−酢酸の混合物と反応させることによっても
実施できる。

式□の生成物は、溶媒を留去することによって単離され
、再結晶もしくはクロマトグラフィーによってさらに精
製され得る。

本発明化合物を経て５一置換レゾルシノールを製造する
場合には、工程式１および２で示される反応を連続して
行ない、本発明の化合物（Ｉ）を単離することなく、２
・６−ジメトキシフェノール（１１）から５−（第三ア
ルキル）レゾルシノールＭを製造してもよい。

先に指摘したように、本発明で得られる化合物（Ｉ）か
ら容易に製造しうる５−（第三アルキル）レゾルシノー
ルは、有用な医薬品製造上の重要な中間体である。

例えば、５−（１・１−ジメチルヘプチル）レゾルシノ
ールは、１−ヒドロキシ−３＝（１・１−ジメチルヘプ
チル）−６・６ａ・７・８・９・１０・１０ａ−へキサ
ヒドロ−６・６ジメチルー９Ｈ−ジベンゾ（ｂ−ｄ、ｌ
ピラン−９オンを製造するために利用され、後者はひと
のうつ病の治療に極めて有用である（米国特許第３９２
８５９８号、同第３９４４６７３号および同第３９５３
６０３号参照）。

同様に、５−（１・ｌ−ジメチルヘプチル）レゾルシノ
ールは、３−（１・１−ジメチルヘプチル） −６ａ・
７・８・９・１０・１０ａ−ヘキサヒドロ−６・６−シ
メチルー６Ｈ−ジベンゾ（ｂ−ｄ）ピランート９ジオー
ルの合成上必要であり、後者は血圧降下剤として有用で
ある。

従って、高収率で５−（第三アルキル）レゾルシノール
を製造するための、商業的に利用可能な製法が望まれて
いる。

本発明の化合ＩＪｆ！ＡＩ）を経由して５−（第三アル
キル）レゾルシノールを合成すれば、上記目的を達成し
うる。

本発明の操作を、さらに充分に説明するため、以下に実
施例を示す。

参考例１２・６−シメトキシー４−（１・１−ジメチルヘプチル
）フェノール２・６−シメトキシフエノール１５．４′ｆ！および１
・１−ジメチル−１−ヘプタツール１４．４ｆをメタン
スルホン酸２０Ｔｌｌに溶かした溶液を５０℃に加熱し
、３．５時間攪拌した。

次いで反応混液を氷５０ｆに注ぎ、得られた水溶液をジ
クロロメタンで数回抽出した。

有機層を合併し、水および飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液で洗い、乾燥した。

減圧下に溶媒を留去し、２・６−シメトキシー４（１・
１−ジメチルヘプチル）フェノール２７．４９を油状物
として得た。

ｎｍｒ（ＣＤＣ１３）：δ０．５〜１．９（ｍ、
１９Ｈ１１・１−ジメチルヘプチル）、δ３．９（ｓ
、６Ｈ，０ＣＨ３）、δ６．５８（Ｓ、２Ｈ１芳香族）
。

参考例２２・６−シメトキシー４−（１・１−ジメチルヘプチル
）フェノールト１−ジメチルー１−ヘプタツール３０．２デおよび２
・６−シメトキシフエノール３０．８Ｌ？の混合物に、
温度を４５℃以下に保ちながら、濃硫酸２０ｍ１を滴下
した。

滴下終了後、混液を５０・Ｃで７時間攪拌した。

反応混合物を氷水３５０ｒｎｌに注ぎ、充分攪拌した後
ジクロロメタン２５０ｍ１ずつで２回抽出した。

ジクロロメタン溶液を、飽和炭酸水素ナトリウム溶液２
００ｒＩｌｌずつで２回、水２５０ｒｎｌずつで２回洗
滌し、有機溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、
減圧濃縮して液状の２・６−シメトキシー４−（１・１
−ジメチルヘプチル）フェノール４９．５ｍｌを得た。

本品の純度は９１％であった。

本品は核磁気共鳴スペクトルにより、参考例１の製品と
同定された。

参考例３２・６−シメトキシー４−（ｌ・１−ジメチルヘプチル
）フェノール ■・１−ジメチル−１−ヘプタツール３０．２１を２・
６−シメトキシフエノール３０．１’に加え、この混合
物を４５℃で攪拌しながら三フッ化ホウ素ガス２１グを
除々に吹き込んだ。

次いで、この混合物を５０℃で約５時間攪拌し、氷３０
０Ｓ’に江別した。

この水溶液を、ジクロロエタン２００ｍ１ずつで３回抽
出し、ジクロロメタン溶液を合併して水３００ｍ、ｌ
で１回、炭酸水素ナトリウム１５０ｒＩｌｌずつで３回
、さらに水２００ｍ１ずつで３回洗滌した。

ジクロロメタン溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、沢過
し、蒸発乾固して２・６−シメトキシー４−（１・１−
ジメチルヘプチル）フェノール３１グを油状物として得
た。

本品は、ｎｍｒにより参考例１の製品と同定された
。

参考例４２・６−シメトキシー４−（１・１−ジメチルヘプチル
）フェノール反応の規模を２倍とし、反応温度を７０℃として参考例
１と同様の操作を行い、純度８６％の２・６−シメトキ
シー４−（トエージメチルヘプチル）フェノール５６グ
を油状物として得た。

本品は、ｎｍｒにより参考例１の製品と同定された
。

同様にして、２・６−ジメトキシフェノールを適当な第
三アルコールと反応させて下記の化合物を得た。

（１）２・６−シメトキシー４−（１・１−ジメチルベ
ンジル）フェノール。

ｎｍｒ（ＣＤＣ１３）：δ７．２（中細ｍ％５Ｈ１
置換フェニル）、６．５（ｍ、２Ｈ１芳香環）、５．４
（巾広Ｓ、ＩＨ、ヒドロキシ）、４．８（対状Ｓ、６Ｈ
、メトキシ）、１．６（ｓ、６Ｈ，置換メチル）（２）２・６−シメトキシー４−（１・１−ジメチルシ
クロヘキシルメチル）フェノール。

ｎｍｒ（ＣＤＣｌ３）：δ６．７（ｍ、２Ｈ１芳香環
）、５．４（巾広ｓ、ＩＨ，ヒドロキシ）、３．９（ｓ
。

６Ｈ、メトキシ）、１．’ｌ−０，８（ｍ、１７Ｈ１置
換メチル；置換シクロヘキシル）（３）２・６−シメトキシー４−（１−メチル−１ｎ−
へキシルベンジル）フェノール。

ｎｍｒ（ＣＤＣｌ３）：δ７．３（巾広ｓ、５Ｈ
、フェニル置換基）、６．５（ｍ、２Ｈ１芳香環）、５
．５（ｄ、ＬＨ，ヒドロキシ）、３．７（対状Ｓ。

６Ｈ，メトキシ）、２．２〜０．５（ｍ、１６Ｈ
。

置換メチル；置換ヘキシル）（４）２・６−シメトキシー４−（１・１−ジメチルア
ダマンチルメチル）フェノール。

ｎｍｒ（ＣＤＣ１３）：δ６．７（ｍ、２Ｈ，芳
香環）、５．４（巾広ｓ、ＩＨ，ヒドロキシ）、４．８
（ｓ、６Ｈ，メトキシ）、２．１〜０．５（ｍ、２
１Ｈ。

置換メチル：置換アダマンチル）（５）２・６−シメトキシー４−アダマンチルフェ
ノール。

ｎｍｒ（ＣＤＣ１３）：δ６．６（ｓ、２Ｈ。芳香環
）、４．９（巾広Ｓ、１Ｈ、ヒドロキシ）、３．９（ｓ
、６Ｈ，メトキシ）、２．３−１．６（ｍ。

１５Ｈ１置換アダマンチル）実施例１２・６−シメトキシー４−（１・１−ジメチルヘプチル
）フェニル・ジエチル・ホスフェイトジエチルホスファ
イト２０．８９を含む四塩化炭素２０１′Ｌｌに、参考
例１で得た２・６−シメトキシー４−（１・１−ジメチ
ルヘプチル）フェノール３５、’ｌを溶かし、水浴中で
約５℃に冷却し、攪拌しながらトリエチルアミン１５．
２？を０．５時間かげて滴下した。

反応混合物を室温まで温め、１７時間攪拌した。

反応混合物をジクロロメタン５０ＴＬｌに加え、水およ
び希水酸化ナトリウム水溶液で洗滌し、有機層を沢過し
、ＩＮ塩酸および水で洗滌し乾燥した。

減圧下に溶媒を留去して得られる固体をｎ−ヘキサンよ
り再結晶して２・６ジメトキシ−４−（１・１−ジメチ
ルヘプチル）フェニル・ジエチル、ホスフェイト３７、
ｏｌを得た。

融点６１〜６７℃。ｎｍｒ（ＣＤＣｌ３）：δ６
．５５（ｓ、２Ｈ１芳香族）、４．３０（２ｑ。

４Ｈ，，１１１１トキシメチレン）、３．８５（ｓ、６
Ｈ、メトキシ）、１．４（ｔ、６Ｈ、エトキシのメチル
）、１．２５（ｓ、６Ｈ，Ｃ（ＣＨ３）２）実施例２２・６−ジメトキ′シー４−（１・１−ジメチルヘプチ
ル）フェニル・ジエチル・ホスフェイト２・６−シメト
キシー４−（１・１−ジメチルヘプチル）フェノール１
８グをジクロロメタン２５ｒＩｌｌに溶かし、水浴中で
冷却した。

ジエチルクロロホスファイト１２７とトリエチルアミン
９．７５ｍ１を加え、水浴を取去って約１６時間攪拌し
た。

反応混合物を水および４Ｎ水酸化ナトリウム溶液で洗滌
した。

有機層を沢過し、固形物をジクロロメタンおよびジエチ
ルエーテルで洗滌し、合併した溶液を濃縮して目的物８
．９１を得た。

本品は、ｎｍｒにより実施例１の製品と同定された
。

実施例３２・６−シメトキシー４−（１・１−ジメチルヘプチル
）フェニル・ジエチル・ホスフェイト２・６−シメトキ
シー４−（１・１−ジメチルヘプチル）フェノール１０
０Ｐをメタノール４００ｒａｌ！に溶かし、水酸化ナト
リウム１６１をメタノール１００ｒｒＬｌに溶かして加
えた。

この混合物を手短かに攪拌し、冷却後沢過し、得られた
フェノールのナトリウム塩をメタノールで洗滌し、減圧
下に乾燥した、この塩１０１をテトラヒドロフラン２５
ｒｆＬｌ中で攪拌し、ジエチルクロロホスファイト５．
３ｒｎｌを加えた。

温度を４５℃にあげ、３時間攪拌し生皮した固体を沢去
し、テトラヒドロフランで洗滌した。

溶液を合併し、蒸発乾固した後、残渣をｎ−へキサンか
ら再結晶して目的物９．Ｃ１を得た。

本品は、ｎｍｒにより実施例１の製品と同定された
。

上記の操作により、四塩化炭素とトリエチルアミンを使
用し、それぞれ対応する２・６−シメトキシー４一置
換フェノールとジ置換ハロホスファイトを反応させて下
記の化合物を製造した。

（１）２・６−シメトキシー４−（トエージメチルベン
ジル）フェニル・ジエチル・ホスフェイト。

ｎｍｒ（ＣＤＣ１３）： δ７．３（ｓ、
５Ｈ，フェニル置換基）、６．５（ｓ、２Ｈ１芳香環
）４．３（ｑ、４Ｈ、エトキシメチレン）、３．８（
Ｓ、６Ｈ，芳香環上のメトキシ）、１．７（ｓ。

６Ｈ、メチル置換基）、１．４（ｔ、６Ｈ、エトキシの
メチル）。

（２）２°６−シメトキシー４−（１・１−ジメチルシ
クロヘキシルメチル）フェニル・ジエチル・ホスフェイ
ト。

ｎｍｒ（ＣＤＣ１３）：δ６．５（ｓ。２Ｈ，芳香環
）、４．３（ｑ、４Ｈ，エトキシメチレン）、３−９
（ｓ、６Ｈ，芳香環上のメトキシ）、１．９〜１．１
（ｍ、１７Ｈ，シクロヘキシル；エトキシのメチル
）。

（３）２・６−シメトキシー４−（１−メチル−１ｎ−
へキシルベンジル）フェニル・ジエチル−ホスフェイト
。

ｎｍｒ（ＣＤＣｌ３）：δ７．３（ｓ。５Ｈ１７工＝
／Ｌ／置換基）、６．５（ｍ、２Ｈ１芳香環）、４．
４（ｍ、４Ｈ、エトキシメチレン）、３．８（３，６Ｈ
，芳香環上のメトキシ）、２．２〜０．７（ｍ、２２Ｈ
、メチル置換基；ヘキシル置換基；エトキシのメチル）
。

（４）２・６−シメトキシー４−（１・１−ジメチルア
ダマンチルメチル）フェニル・ジエチル・ホスフェイト
。

ｎｍｒ（ＣＤＣ１３）：δ６．７（ｍ、２Ｈ，芳香環
）、５．８〜４．１（ｍ、４Ｈ、エトキシメチレン）、
３．９（ｓ、６Ｈ１芳香環上のメトキシ）、２．２〜０
．８（ｍ、２０Ｈ，メチル置換基；アダマンチル
）。

（５）２・６−シメトキシー４−アダマンチルフェ
ニル・ジエチル・ホスフェイト。

ｎｍｒ（ＣＤＣ１３）：δ６．７（ｓ、２Ｈ
，芳香環）、４．４（ｑ、４Ｈ。

エトキシメチレン）、３．８（ｓ、６Ｈ１芳香環上のメ
トキシ）、２．２〜１．６（ｍ、１４Ｈ、アダマンチル
）、１．３（ｔ、６Ｈ，エトキシのメチル、）。

参考例５ ■−（１・ｌ−ジメチルヘプチル）−３・５−ジメトキ
シベンゼン実施例１で得た２・６−シメトキシー４−（１・１−ジ
メチルヘプチル）フェニル・ジエチル・ホスフエイ）３
６．５Ｓ’をジエチルエーテル７５ｒｎｌとテトラヒド
ロンラン１５ＴＬｌに溶かした溶液を、液体アンモニア
２００ｍ１に金属リチウムを溶かした溶液に、常圧下に
攪拌しながら３０分間で滴下した。

反応混合物を１時間攪拌し、次いで塩化アンモニウム水
溶液を加えて過剰の金属リチウムを不活化した。

この混合物をジエチルエーテル１００ｍ１に加え、液体
アンモニアを蒸発させた。

残ったエーテル溶液を水および水酸化ナトリウム溶液で
洗滌し、乾燥後、減圧下に溶媒を留去して１−（１・１
−ジメチルヘプチル）−３・５−ジメトキシベンゼン２
２．１？を油状物として得た。

ｎｍｒ（ＣＤＣ１３）：第６．４５（ｄ、２Ｈ，
Ｃ−２、Ｃ−６芳香族）、６．２５（ｔ、ＩＨ，Ｃ−４
芳香族）、３．７５（ｓ、６Ｈ，０ＣＨ３）、１．２
５（ｓ、６Ｈ，Ｃ（ＣＨ３）２）参考例６ｌ−（１・１−ジメチルへブチル）−３・５−ジメトキ
シベンゼン実施例１の製品１５９′ｆ！をテトラヒドロフラン２０
０ｒｕｌに溶かし、金属ナトリウムを加えた液体アンモ
ニア１２００ｒＩｌｌを用いて参考例５と同一の操作を
行い、目的物８７１を得た。

水晶は、ｎｍｒにより参考例５の製品と同定された。

参考例５と同一の操作により、それぞれ対応する２・６
−ジメトキシ−４一置換フェニル・ジ置換・ホスフェイ
トを液体アンモニア中リチウムで処理して、下記の１一
置換−３・５−ジメトキシベンゼンを得た。

（１）１−（１・１−ジメチルベンジル）−３・５
−ジメトキシベンゼン（２）１−（１・１−ジメチルシクロヘキシルメチル）
−３・５−ジメトキシベンゼン（３）１−（１−メチル−１−ｎ−へキシルベンジル）
−３・５−ジメトキシベンゼン（４）１−（１・１−ジメチルアダマンチルメチル）３
・５−ジメトキシベンゼン（５）１−７ダマンチルー３・５−ジメトキシベン
ゼン参考例７５−（１・１−ジメチルヘプチル）レゾルシノール三臭化ホウ素６２．５ｆをジクロロメタン２００ｒｎｌ
に溶かして冷却下に攪拌し、参考例５で得た１−（１・
１−ジメチルヘプチル）−３・５−ジメトキシベンゼン
２６．４′ｆＩをジクロロメタン１００ｒｒｔｌに溶か
した溶液を、１時間かけて滴下した。

反応混合物を０℃で２時間攪拌し、次いで室温まで暖め
、さらに１２時間攪拌した。

反応混合物を再び０℃に冷却し、徐々に２００７ｒｌｌ
の水に加えた。

有機層を分離し、これを２Ｎ水酸化ナトリウムで抽出し
た。

このアルカリ性水溶液をＩＮ塩酸で酸性とし、ジエチル
エーテルで数回抽出した。

エーテル抽出液を合併し１食塩水で洗滌し、乾燥した。

減圧下に溶媒を留去して５−（１・１−ジメチルヘプチ
ル）レゾルシノール２０．２９を得た。

融点９７〜９９℃。

ｎｍｒ（ＣＤＣ１３）：第６．３５（ｄ。２Ｈ１芳香
族）、６．１５（ｔ、ＩＨ１芳香族）、５．２０（巾広
ｓ、２Ｈ，ＯＨ）、１．２０（ｓ。

６Ｈ，Ｃ（ＣＨ３）２）、１．８〜０．５（
ｍ、１３Ｈ、アルキル）参考例８５−（１・１−ジメチルヘプチル）レゾルシノール ■−（１・１−ジメチルヘプチル）−３・５ジメトキシ
ベンゼン２１．２Ｐおよびピリジン塩酸塩５５．０Ｐの
混合物を攪拌しながら５．５時間還流させた。

反応混合物を室温まで冷却し、水１５０献に加えた。

この水溶液をジエチルエーテルで数回抽出し、エーテル
溶液を水洗後乾燥した。

減圧下に溶媒を留去し、固体残渣をｎ−ヘキサン４０扉
ｌかも再結晶して参考例７の製品と同一の５（１・１−
ジメチルヘプチル）レゾルシノール１３、Ｏグを得た。

融点９７〜９９℃。参考例９５−（１・１−ジメチルヘプチル）レゾルシノール１−（１・１−ジメチルヘプチル）−３・５ジメトキシ
ベンゼン４２５グ・、氷酢酸１７００ｒｆＬｌおよび４
８％臭化水素酸８５０ｒＩ′Ｌｌの混液を攪拌しながら
１２時間還流させた。

反応混合物を室温まで冷却し、水６０゛００ｒｒＬｌに
加えた。

この水性溶液を攪拌すると生成物の結晶が析出した。

これを沢取して、参考例７と同一の５−（１・１−ジメ
チルへブチ／Ｉ／）レゾルシノール３７１１を得た。

融点９３〜９５℃。

上記参考例７．８および９の方法によって、それぞれ対
応する１一置換−３・５−ジメトキシベンゼンを下記の
レゾルシノールに変換した。

（１）５−（１・１−ジメチルベンジル）レゾルシノー
ル、融点１０８〜１１０℃ｏｎｍｒ（ＣＤＣｌ２）：第
７．８（巾広、２Ｈ、ヒドロキシ）、７．３（ｓ、５Ｈ
，フェニル置換基）、６．３（中細、ｍ。

３Ｈ１芳香環）、１−６（ｓ、６Ｈ、メチル置換基）（２）５−（１・１−ジメチルシクロヘキシルメチル）
レゾルシノール、融点１４５〜１４７℃。

ｎｍｒ（ＣＤＣ１３）：δ８．５（巾広、ｓ、２Ｈ。

ヒドロキシ）、５．９（ｍ、３Ｈ１芳香族）、２．０−
０．９（ｍ、１７Ｈ，シクロヘキシル；ｇｅｍ−
ジメチル）（３）５−（１−メチル−１−ｎ−へキシルフェニル）
レゾルシノール、油状物。

ｎｍｒ（ＣＤＣｌ３）：δ７．４（ｓ、５Ｈ，
フェニル置換基）、ａ４（ｄ。

ｄ、３Ｈ，芳香環）、５．２（巾広、２Ｈ、ヒドロキシ
）、２．４〜０．８（ｍ、１６Ｂ、メチルおよ
びヘキシル置換基）（４）５−（１・１−ジメチルアダマンチルメチル）レ
ゾルシノール、融点１２５〜１２７℃。

ｎｍｒ（ＣＤＣｌ５）：δ〜９（極巾広、２Ｈ，ヒ
ドロキシ）、６．３（ｄ、ｄ、３Ｈ１芳香環）。

２．３〜１．２（ｍ、１４Ｈ，アダマンチル）、０．
８Ｃ対状Ｓ、６Ｈ、メチル置換基）（５）５−アダマンチルレゾルシノール、融点２８
４〜２８５℃。

ｎｍｒ（ＣＤＣ１３）：δ７．９（巾広ｓ、２Ｈ，ヒ
ドロキシ）、６．４（ｄ、２Ｈ，芳香環）、６．２（ｄ
、ＩＨ１芳香環）、２．３〜１．６（ｍ、１４Ｈ
，アダマンチル）。

Claims

【特許請求の範囲】１下記一般式で表わされる化合物。〔式中、１はアダマンチルまたは式（但し、Ｒ２およびＲ３は個々にＣ１−Ｃ６アルキル、
Ｒ４ハＣ１−Ｃ６アルキル、フェニル、シクロヘキシル
またはアダマンチルを表わす。）で表わされる基、Ｒ５およびＲ６は個々にＣ０−Ｃ５
アルキルを表わす。〕。請求の範囲１の化合物。３Ｒ１がアダマンチルである特許請求の範囲１の化
合物。４Ｒ４がＣ１−Ｃ６アルキルである特許請求の範囲２
の化合物。５特許請求の範囲１，２または４に記載の２・６−シ
メトキシー４−（１・１−ジメチルヘプチル）フェニル
・ジエチル・ホスフェイト。６特許請求の範囲１または２に記載の２・６−シメト
キシー４−（１・１−ジメチルベンジル）フェニル・ジ
エチル・ホスフェイト。７特許請求の範囲１または２に記載の２・６ジメトキ
シー４−（１−メチル−１−ｎ−ヘキシルベンジル）フ
ェニル・ジエチル・ホスフェイト。８特許請求の範囲１または２に記載の２・６ジメトキ
シー４−（１・１−ジメチルアダマンチルメチル）フェ
ニル・ジエチル・ホスフェイト。９特許請求の範囲１または３に記載の２・６ジメトキ
シー４−アダマンチルフェニル・ジエチル・ホスフェイ
ト。１０特許請求の範囲１または２に記載の２・６−シ
メトキシー４−（１・ｌ−ジメチルシクロヘキシルメチ
ル）フェニル・ジエチル・ホスフェイト。