JPS5829980B2 - Surface treatment agent for recording and reproducing materials - Google Patents
Surface treatment agent for recording and reproducing materialsInfo
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- JPS5829980B2 JPS5829980B2 JP5146679A JP5146679A JPS5829980B2 JP S5829980 B2 JPS5829980 B2 JP S5829980B2 JP 5146679 A JP5146679 A JP 5146679A JP 5146679 A JP5146679 A JP 5146679A JP S5829980 B2 JPS5829980 B2 JP S5829980B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、記録再生材用表面処理剤に関し、更に詳しく
言えば、カチオン性又は両性のフッ素化界面活性剤の溶
媒溶液に特定の多フツ素化有機化合物が添加混合されて
なる、レコード盤などの表面に持続性のある帯電防止効
果と同時に音質の歪率を低下させる効果を付与できる新
規な記録再生材用表面処理剤に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a surface treatment agent for recording and reproducing materials, and more specifically, the present invention relates to a surface treatment agent for recording and reproducing materials. The present invention relates to a novel surface treatment agent for recording and reproducing materials, which can impart a long-lasting antistatic effect to the surface of records and the like, as well as an effect of reducing the distortion rate of sound quality.
従来より、レコード盤、ビデオディスク、磁気テープの
如き記録再生材用帯電防止剤としては、各種のものが知
られており、一般的には炭化水素系カチオン性界面活性
剤が採用されている。Various types of antistatic agents have been known for use in recording and reproducing materials such as records, video discs, and magnetic tapes, and hydrocarbon-based cationic surfactants are generally used.
そして、かSる帯電防止剤は、有機溶剤あるいは水の溶
液として市販されている。The antistatic agent is commercially available as an organic solvent or water solution.
通常は、か5る溶液をレコード盤などの表面に塗布し乾
燥することによって、帯電防止処理が行なわれる。Usually, antistatic treatment is performed by applying such a solution to the surface of a record or the like and drying it.
本発明者は、レコード盤などの帯電防止剤について種々
の研究、検討を重ねた結果、ポリフルオロアルキル基含
有のカチオン性又は両性のフッ素化界面活性剤が種々の
優れた利点を発揮し得るという新規知見を得るに至った
。As a result of various studies and studies on antistatic agents for records, etc., the present inventor has found that cationic or amphoteric fluorinated surfactants containing polyfluoroalkyl groups can exhibit various excellent advantages. We have obtained new knowledge.
即ち、フッ素化界面活性剤は、炭化水素系界面活性剤に
比較して帯電防止性能が著しく優れているだけでなく、
耐久性や低摩擦性付与などにおいても格段と優れている
ことを見出したものである。In other words, fluorinated surfactants not only have significantly superior antistatic performance compared to hydrocarbon surfactants, but also
It was also discovered that it is significantly superior in terms of durability and low friction properties.
例えば、レコード盤表面に適用した場合、フッ素化界面
活性剤は吸着性が良く且つ微細な音溝への浸透性にも優
れているので、炭化水素系界面活性剤よりも耐久性が非
常に良好である。For example, when applied to the surface of a record, fluorinated surfactants have good adsorption and excellent penetration into minute grooves, making them much more durable than hydrocarbon surfactants. It is.
更に9低摩擦性付与効果などにより音質などが良好とな
る。Furthermore, the sound quality is improved due to the low friction imparting effect.
而して、フッ素化界面活性剤をトリクロロトリフルオロ
エタン、イソプロパツールの如き溶媒に少量溶解した溶
液は、前記の各種効果を良好に発揮し得ることを新規に
見出し、ポリフルオロアルキル基含有のカチオン性又は
両性のフッ素化界面活性剤が、該フッ素化界面活性剤を
溶解し且つ記録再生材表面に不活性な沸点20〜100
℃の溶媒に、濃度1重量%以下で溶解されてなる記録再
生材用帯電防止剤について、特願昭53
159987号(特開昭55−89375号公報)及び
特願昭53−159988号(特開昭55−89376
号公報)として、先に特許出願した。We have newly discovered that a solution prepared by dissolving a small amount of a fluorinated surfactant in a solvent such as trichlorotrifluoroethane or isopropanol can exhibit the above-mentioned effects well. The cationic or amphoteric fluorinated surfactant has a boiling point of 20 to 100 which dissolves the fluorinated surfactant and is inactive on the surface of the recording/reproducing material.
Regarding antistatic agents for recording and reproducing materials that are dissolved in a solvent at a temperature of 1 wt. Kaisho 55-89376
A patent application was filed earlier.
本発明者は、前記の表面処理剤について、更に研究、検
討を重ねた結果、融点が150’C以下の多フツ素化有
機化合物の少量を、前記表面処理剤に添加混合すること
によって、レコード針などによる摩擦力を低下させる効
果が高められ、そのために音質の歪率を良好に低下せし
め得ることを見出した。As a result of further research and consideration regarding the above-mentioned surface treatment agent, the present inventor has discovered that by adding and mixing a small amount of a multifluorinated organic compound with a melting point of 150'C or less to the above-mentioned surface treatment agent, a record It has been found that the effect of reducing the frictional force caused by needles and the like is enhanced, and therefore the distortion rate of sound quality can be reduced favorably.
そして、か5る表面処理剤をレコード盤などの表面に塗
布すると、その帯電防止効果のためホコリなどが付きに
<<、また、スクラッチノイズを防止できるので、前記
摩擦力の低下効果と相俟って、表崩処理剤としての利点
が向上せしめられる。When such a surface treatment agent is applied to the surface of a record, etc., its antistatic effect prevents dust from adhering to it, and it also prevents scratch noise, which works well with the aforementioned effect of reducing frictional force. Therefore, the advantages as a surface disintegration treatment agent are improved.
更に、前記の如き種々の効果の持続性も非常に優秀であ
る。Furthermore, the durability of the various effects mentioned above is also very excellent.
而して、特定の多フツ素化有機化合物は、溶媒とは異な
り沸点が110℃以上であるもの、フッ素化界面活性剤
とは異なり常温における水に対する溶解度が0.5%以
下であるものが選定される。Therefore, unlike solvents, certain multifluorinated organic compounds have a boiling point of 110°C or higher, and unlike fluorinated surfactants, they have a solubility in water of 0.5% or less at room temperature. Selected.
かくして、本発明は、前記知見に基づいて完成されたも
のであり、炭素数4〜20個のパーフルオロアルキル基
を有するカチオン性又は両性のフッ素化界面活性剤が、
該フッ素化界面活性剤を溶解し且つ記録再生材表面に不
活性な沸点40〜100℃の有機溶媒に、濃度1重量%
以下で溶解されてなる組成物において、沸点が110℃
以上で且つ融点が1200C以下であり、常温での水に
対する溶解度が0.5%以下であるフッ素含有量30重
量%以上の多フツ素化有機化合物が濃度1重量%以下で
添加混合されていることを特徴とする記録再生材用表面
処理剤を新規に提供するものである。Thus, the present invention was completed based on the above findings, and a cationic or amphoteric fluorinated surfactant having a perfluoroalkyl group having 4 to 20 carbon atoms is
A concentration of 1% by weight is added to an organic solvent with a boiling point of 40 to 100°C that dissolves the fluorinated surfactant and is inert to the surface of the recording/reproducing material.
In the composition dissolved below, the boiling point is 110 ° C.
A polyfluorinated organic compound having a fluorine content of 30% by weight or more and having a melting point of 1200C or less and a solubility in water at room temperature of 0.5% or less is added and mixed at a concentration of 1% by weight or less. The present invention provides a novel surface treatment agent for recording and reproducing materials characterized by the following.
本発明においては、カチオン性又は両性のフッ素化界面
活性剤を使用することが重要であり、ノニオン性やアニ
オン性の界面活性剤では帯電防止性能付与について不充
分である。In the present invention, it is important to use a cationic or amphoteric fluorinated surfactant; nonionic or anionic surfactants are insufficient for imparting antistatic properties.
勿論炭化水素系の界面活性剤では、フッ素化界面活性剤
よりも更に性能が不充分であると共に、耐久性や低摩擦
性付与の点で難点が認められる。Of course, hydrocarbon surfactants have even less satisfactory performance than fluorinated surfactants, and have drawbacks in terms of durability and imparting low friction properties.
例えば、本発明の組成物をレコード盤表面に塗布し乾燥
することにより、未処理レコード盤では表面電気抵抗が
2.9X 1015Ωであるものが、2X1012Ω以
下に低下せしめられ得るものである。For example, by applying the composition of the present invention to the surface of a record and drying it, the surface electrical resistance of an untreated record, which is 2.9×10 15 Ω, can be reduced to 2×10 12 Ω or less.
尚、フッ素化アニオン性界面活性剤、フッ素化ノニオン
性界面活性剤、炭化水素系カチオン性界面活性剤を使用
した場合には、表面電気抵抗を前記程度に低下させるの
が困難であり、多量塗布により達成できたとしても、雑
音発生の如く音質などに大きな影響を及ぼす。In addition, when using a fluorinated anionic surfactant, a fluorinated nonionic surfactant, or a hydrocarbon cationic surfactant, it is difficult to reduce the surface electrical resistance to the above level, and a large amount of coating is required. Even if this could be achieved, it would have a significant impact on sound quality, such as the generation of noise.
また、本発明組成物により処理されたレコード盤などは
、音再生の繰り返し後にも効果が持続し、更に雑音など
の難点がなく音質的にも優れている。Furthermore, records treated with the composition of the present invention retain their effects even after repeated sound reproduction, and are free from problems such as noise and have excellent sound quality.
本発明においては、ポリフルオロアルキル基含有のフッ
素化活面活性剤としては、特に限定されることなく、従
来より公知乃至周知のものなどが広範囲にわたって採用
され得る。In the present invention, the polyfluoroalkyl group-containing fluorinated surfactant is not particularly limited, and a wide range of conventionally known and well-known surfactants can be employed.
ポリフルオロアルキル基の炭素数は4〜20個が好適で
あり、通常はパーフルオロアルキル基であることが望ま
しく、炭素数は6〜18個であることが望ましい。The polyfluoroalkyl group preferably has 4 to 20 carbon atoms, usually a perfluoroalkyl group, and preferably 6 to 18 carbon atoms.
勿論、ポリフルオロアルキル基は、直鎖状でも分岐状で
も良く、部分的に水素原子や塩素原子などを含むもの、
あるいはエーテル結合を含むものでも良い。Of course, the polyfluoroalkyl group may be linear or branched, and may partially contain hydrogen atoms, chlorine atoms, etc.
Alternatively, it may contain an ether bond.
ポリフルオロアルキル基は、少なくとも末耐部がパーフ
ルオロアルキル基であるものが好適に選定される。As the polyfluoroalkyl group, one in which at least the end portion is a perfluoroalkyl group is preferably selected.
フッ素化両性界面活性剤の好適な例としては、■/ R
2
一般式 RfW−N−Rら で表わされるベタイ\Z
ン型の両性界面活性剤があげられる。Suitable examples of fluorinated amphoteric surfactants include ■/R
2 Betaine type amphoteric surfactants represented by the general formula RfW-N-R, etc.
式中で、Rfは炭素数4〜20個のポリフルオロアルキ
ル基、特に炭素数6〜18個のパーフルオロアルキル基
であり、Wは二価の有機結合基であり、好適にはQR−
である。In the formula, Rf is a polyfluoroalkyl group having 4 to 20 carbon atoms, particularly a perfluoroalkyl group having 6 to 18 carbon atoms, and W is a divalent organic bonding group, preferably QR-
It is.
Qは−C0N(R’)−又は5O2N(R1)−であり
、R1は水素原子又は炭素数1〜4個の低級アルキル基
、Rは炭素数1〜10個の二価のアルキレン基である。Q is -C0N(R')- or 5O2N(R1)-, R1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R is a divalent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. .
R2、R3はアルキル基、ヒドロキシアルキル基、又は
ACOOMであり、場合によっては−WR4でも良く、
R2とR3は同一または異なった基であり得る。R2 and R3 are an alkyl group, a hydroxyalkyl group, or ACOOM, and may also be -WR4 in some cases,
R2 and R3 can be the same or different groups.
Aは炭素数1〜3個の二価のアルキレン基、Mはナトリ
ウム、カリウムの如きアルカリ金属または−NH4であ
る。A is a divalent alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and M is an alkali metal such as sodium or potassium or -NH4.
Z は−ACOOo、−ASO’P○ の如き陰イオン性基である。Z is -ACOOo, -ASO'P○ It is an anionic group such as.
具体的に例示すれば、
などであり、米国特許第3836552号明細書、特公
昭48−23161号公報、米国特許第3839425
号明細書などに記載されている。Specific examples include, U.S. Patent No. 3836552, Japanese Patent Publication No. 48-23161, U.S. Patent No. 3839425.
It is stated in the number specification etc.
その他、特開昭48−44182号公報、特開昭51−
125213号公報などに記載されている如きポリフル
オロアルキル基含有両性界面活性剤やグリシン型のフッ
素化両性界面活性剤なども使用され得る。In addition, JP-A-48-44182, JP-A-51-
Polyfluoroalkyl group-containing amphoteric surfactants and glycine-type fluorinated amphoteric surfactants such as those described in Japanese Patent No. 125213 and the like may also be used.
更に、特願昭52−128717号明細書(特開昭56
−14719号公報)に記載されているピペラジン環を
含有するフッ素化両性界面活性剤や特願昭53−555
30号明細書(特開昭57−26719号公報)に記載
されているポリフルオロアルキル基含有両性界面活性剤
などでも良い○
フッ素化カチオン性界面活性剤の好適な例とし■/ R
4
では、一般式 RfQRN−R5の第四級アンモ○\R
0
ニウム塩があげられる。Furthermore, Japanese Patent Application No. 128717/1983
Fluorinated amphoteric surfactants containing a piperazine ring described in Japanese Patent Application No. 14719) and Japanese Patent Application No. 53-555
Polyfluoroalkyl group-containing amphoteric surfactants described in Specification No. 30 (Japanese Unexamined Patent Publication No. 57-26719) may also be used. ○ Suitable examples of fluorinated cationic surfactants are ■/R
4 Then, the quaternary ammonium ○\R of the general formula RfQRN-R5
0 Nium salts are mentioned.
前記式中で、Rfは炭素数4〜20個のポリフルオロア
ルキル基、特に炭素数6〜18個のパーフルオロアルキ
ル基であり、Qは−C0N(R’)−又は−802N
(R” )−であり、R1は水素原子又は炭素数1〜4
個の低級アルキル基、Rは炭素数1〜10個の二価のア
ルキレン基である。In the above formula, Rf is a polyfluoroalkyl group having 4 to 20 carbon atoms, particularly a perfluoroalkyl group having 6 to 18 carbon atoms, and Q is -C0N(R')- or -802N
(R”)-, R1 is a hydrogen atom or has 1 to 4 carbon atoms
R is a divalent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.
又 R4、R5、R6は水素原子、アルキル基、ヒドロ
キシアルキル基、又は−ACOOMであり、Aは炭素数
1〜3個の二価のアルキレン基、Mはナトリウム、カリ
ウムの如きアルカリ金属又は−NH4である。R4, R5, and R6 are hydrogen atoms, alkyl groups, hydroxyalkyl groups, or -ACOOM, A is a divalent alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and M is an alkali metal such as sodium or potassium, or -NH4 It is.
Xはハロゲン原子、−H804゜−CH3804,−H
2PO4,−CH3COO又はCH2ClCOOである
。X is a halogen atom, -H804゜-CH3804, -H
2PO4, -CH3COO or CH2ClCOO.
尚、Rは直鎖状でも分岐状でも良く、更にR4、R5、
R6の一つとR1とRとで環状になっても良い。In addition, R may be linear or branched, and further R4, R5,
One of R6, R1 and R may form a ring.
その他、本発明においては、米国特許第4062849
号明細書、米国特許第4049668号明細書、特開昭
50−83306号公報、特公昭51−42086号公
報、特公昭50−30608号公報などに記載されてい
る如き、パーフルオロポリカチオン性界面活性剤などの
フッ素化カチオン性界面活性剤も使用可能である。In addition, in the present invention, US Pat. No. 4,062,849
Perfluoropolycationic interfaces such as those described in US Pat. Fluorinated cationic surfactants such as surfactants can also be used.
具体的には、
の塩酸塩の如きフッ素化カチオン性界面活性剤が例示さ
れ得る。Specifically, fluorinated cationic surfactants such as the hydrochloride of the following can be exemplified.
本発明においては、前記の如き両性又はカチオン性のフ
ッ素化界面活性剤が溶媒中に低濃度で溶解せしめられて
いる。In the present invention, the amphoteric or cationic fluorinated surfactant as described above is dissolved in a solvent at a low concentration.
溶媒は、フッ素化界面活性剤を溶解し得るものであり、
且つレコード盤など記録再生材表面に不活性なものであ
ることが重要である。The solvent is capable of dissolving the fluorinated surfactant,
In addition, it is important that the material is inert to the surface of recording and reproducing materials such as records.
そして、溶媒は沸点40〜100°Cを有する有機溶媒
から選定され、特に沸点60℃以下の揮発性有機溶剤が
好適である。The solvent is selected from organic solvents having a boiling point of 40 to 100°C, and volatile organic solvents having a boiling point of 60°C or lower are particularly suitable.
沸点が余りに高い場合には、塗布−乾燥などの際に難点
が生じ、また余りに低沸点では溶液としての製品の点で
不利益が生ずる。If the boiling point is too high, difficulties arise during coating-drying, etc., and if the boiling point is too low, disadvantages arise in terms of the product as a solution.
か5る溶媒は各種例示可能であるが、通常はトリクロロ
トリフルオロエタン及び低級アルコールが好適である。Although various examples of such solvents can be used, trichlorotrifluoroethane and lower alcohols are usually preferred.
特に、トリクロロトリフルオロエタンは不燃性であるか
ら有利である。In particular, trichlorotrifluoroethane is advantageous because it is nonflammable.
本発明においては、エタノール、インプロパツールの如
き低級アルコールを単独で使用しても良いが、通常はト
リクロロトリフルオロエタンとの混合物として使用する
のが望ましい。In the present invention, lower alcohols such as ethanol and impropatol may be used alone, but it is usually preferable to use them as a mixture with trichlorotrifluoroethane.
而して、前記溶媒に両性又はカチオン性のフッ素化界面
活性剤が1重量%以下の濃度で溶解されている。An amphoteric or cationic fluorinated surfactant is dissolved in the solvent at a concentration of 1% by weight or less.
濃度が高すぎる場合には、記録再生材表面への薄層均一
塗布が損なわれると共に、レコード盤などにおいて雑音
の原因ともなる。If the concentration is too high, the uniform application of a thin layer onto the surface of the recording/reproducing material will be impaired, and it will also cause noise in records and the like.
好ましくは0.01〜0.5重量%程度の濃度が採用さ
れる。Preferably, a concentration of about 0.01 to 0.5% by weight is employed.
勿論、かSる濃度は、本発明の溶液の塗布時に採用され
るものであり、製品貯蔵時や搬送時には高濃度にして使
用時に希釈するなどでも良い。Of course, the S concentration is the one adopted when applying the solution of the present invention, and it may be made to a high concentration during product storage or transportation, and then diluted when used.
また、本発明の溶液は、そのま\でも使用されるか、適
当な噴射剤と共に加圧容器中に充填してエアゾール製品
としても良い。Further, the solution of the present invention may be used as is or may be filled into a pressurized container with a suitable propellant to form an aerosol product.
本発明における表面処理剤は、前記の如き両性又はカチ
オン性のフッ素化界面活性剤の溶媒溶液に、特定の多フ
ツ素化有機化合物が少量添加混合されている。The surface treatment agent of the present invention is prepared by adding a small amount of a specific multifluorinated organic compound to a solvent solution of the amphoteric or cationic fluorinated surfactant as described above.
特定の多フツ素化有機化合物は、沸点が110°C以上
で且つ融点が120℃以下であり、常温での水に対する
溶解度が0.5%以下であるものが選定される。The specific multifluorinated organic compound is selected to have a boiling point of 110° C. or higher, a melting point of 120° C. or lower, and a solubility in water of 0.5% or lower at room temperature.
そして、多フツ素化有機化合物としては、フッ素含有量
30重量%以上、好ましくは50重量%以上のものが選
定される。As the multifluorinated organic compound, one with a fluorine content of 30% by weight or more, preferably 50% by weight or more is selected.
沸点が余りに低くすぎると揮散などにより添加効果の持
続性が損なわれ、また融点が余りに高すぎると、摩擦力
低下効果が充分に発揮されない。If the boiling point is too low, the sustainability of the addition effect will be impaired due to volatilization, and if the melting point is too high, the frictional force lowering effect will not be sufficiently exhibited.
好ましくは、沸点150℃以上のものが採用される。Preferably, those having a boiling point of 150°C or higher are used.
特定の多フツ素化有機化合物の好適な例としては、
(但し、n−1〜22m−3〜20.l−3〜20.P
=1〜30 、q=1〜3)などがある。Suitable examples of specific multifluorinated organic compounds include (however, n-1 to 22m-3 to 20.l-3 to 20.P
=1-30, q=1-3), etc.
而して、か〜る多フツ素化有機化合物の添加濃度は、1
重量%以下が採用され得る。Therefore, the concentration of the multifluorinated organic compound added is 1
% by weight or less may be employed.
濃度が高すぎる場合には、記録再生材表面への薄層均一
塗布が損なわれると共に、レコード盤などにおいて雑音
の原因ともなる。If the concentration is too high, the uniform application of a thin layer onto the surface of the recording/reproducing material will be impaired, and it will also cause noise in records and the like.
好ましくは0.01〜0.5重量%程度の濃度が採用さ
れる。Preferably, a concentration of about 0.01 to 0.5% by weight is employed.
かSる濃度も、本発明の溶液の塗布時に採用されるもの
であることは、前述の通りである。As mentioned above, the concentration of S is also the one that is employed when applying the solution of the present invention.
本発明の表面処理剤は、レコード盤、ビデオディスク、
磁気ディスクやテープ、写真フィルム、映写フィルムな
ど記録再生材用に広範囲に適用され得るが、その効果な
どが有利に発揮される点からレコード盤用に特に好適に
使用される。The surface treatment agent of the present invention can be applied to vinyl records, video discs,
Although it can be widely applied to recording and reproducing materials such as magnetic disks, tapes, photographic films, and projection films, it is particularly suitable for use in record discs because of its advantageous effects.
次に本発明の実施例について更に具体的に説明するが、
か5る説明によって本発明が何ら限定されるものでない
ことは勿論である。Next, embodiments of the present invention will be explained in more detail.
It goes without saying that the present invention is not limited in any way by these explanations.
[F]
※米国デュポン社製のKr y t o x−143で
あり、沸点280°C1融点−35°Cである。[F] *Krytox-143 manufactured by DuPont, USA, with a boiling point of 280°C and a melting point of -35°C.
以上の組成の溶液をレコード盤上にスプレー塗布した後
、柔かい布で磨くことによりレコード盤表面上に薄く均
一なフッ素化界面活性剤及び多フツ素化有機化合物の吸
着した表面を形成することができる。After spraying a solution with the above composition onto a record and polishing it with a soft cloth, a thin and uniform surface on which the fluorinated surfactant and multifluorinated organic compound are adsorbed can be formed on the record. can.
帯電防止性能を評価するために、酢酸ビニル/塩化ビニ
ル−10790(重量比)の共重合体の表面を処理し、
表面電気抵抗を測定した結果を下記第1表に示す。In order to evaluate the antistatic performance, the surface of the vinyl acetate/vinyl chloride-10790 (weight ratio) copolymer was treated,
The results of measuring the surface electrical resistance are shown in Table 1 below.
尚、第1表には未処理の場合(比較例1)についても示
しである。Note that Table 1 also shows the untreated case (Comparative Example 1).
また、動属擦係数の測定結果も、第1表に示しである。The measurement results of the dynamic friction coefficient are also shown in Table 1.
次に、音質に対する影響及び効果の持続性を調べるため
、レコード盤表面に処理し、12.5KHzの波長にお
ける音の歪率を、1回〜40回の繰り返し再生後につい
て、測定した所、下記第2表の結果が得られた。Next, in order to investigate the effect on sound quality and the sustainability of the effect, we treated the surface of the record and measured the distortion rate of the sound at a wavelength of 12.5 KHz after repeated playback from 1 to 40 times. The results shown in Table 2 were obtained.
尚、第2表には、実施例1及び2の溶液において多フツ
素化有機化合物を添加しない場合についても、比較例2
及び3として示しである。Note that Table 2 also shows the results of Comparative Example 2, even when no multifluorinated organic compound is added to the solutions of Examples 1 and 2.
and 3.
又、未処理の場合(比較例1)についても示しである。Also shown is the untreated case (Comparative Example 1).
以上の組成の溶液をレコード盤上にスプレー塗布した後
、柔かい布で磨くことにより、レコード盤表面上に薄く
均一なフッ素化界面活性剤及び多フツ素化有機化合物の
吸着した表面を形成することができる。After spraying a solution with the above composition onto the record and polishing it with a soft cloth, a thin and uniform surface on which the fluorinated surfactant and multifluorinated organic compound are adsorbed is formed on the record. I can do it.
帯電防止性能を評価するために、酢酸ビニル/塩化ビニ
ル−10790(重量比)の共重合体の表面を処理し、
表面電気抵抗を測定した。In order to evaluate the antistatic performance, the surface of the vinyl acetate/vinyl chloride-10790 (weight ratio) copolymer was treated,
Surface electrical resistance was measured.
また、動摩擦係数の測定も行なった。We also measured the coefficient of dynamic friction.
これらの測定結果を下記第3表にまとめて示す。These measurement results are summarized in Table 3 below.
Claims (1)
るカチオン性又は両性のフッ素化界面活性剤が、該フッ
素化界面活性剤を溶解し且つ記録再生材表面に不活性な
沸点40〜100°Cの有機溶媒に、濃度1重量%以下
で溶解されてなる組成物において、沸点が110°C以
上で且つ融点が120°C以下であり、常温での水に対
する溶解度が0.5%以下であるフッ素含有量30重量
%以上の多フツ素化有機化合物が濃度1重量%以下で添
加混合されていることを特徴とする記録再生材用表面処
理剤。 2 有機溶媒がトリクロロトリフルオロエタンである特
許請求の範囲第1項記載の処理剤。 3 有機溶媒が低級アルコールである特許請求の範囲第
1項記載の処理剤。 4 有機溶媒がトリクロロトリフルオロエタンと低級ア
ルコールの混合溶剤である特許請求の範囲第1項記載の
処理剤。[Scope of Claims] 1. A cationic or amphoteric fluorinated surfactant having a perfluoroalkyl group having 4 to 20 carbon atoms dissolves the fluorinated surfactant and leaves an inactive surface on the surface of the recording/reproducing material. A composition that is dissolved in an organic solvent with a boiling point of 40 to 100°C at a concentration of 1% by weight or less, has a boiling point of 110°C or more, a melting point of 120°C or less, and has a solubility in water of 0 at room temperature. A surface treatment agent for recording and reproducing materials, characterized in that a polyfluorinated organic compound having a fluorine content of 30% by weight or more and a concentration of 1% by weight or less is added and mixed therein. 2. The processing agent according to claim 1, wherein the organic solvent is trichlorotrifluoroethane. 3. The processing agent according to claim 1, wherein the organic solvent is a lower alcohol. 4. The processing agent according to claim 1, wherein the organic solvent is a mixed solvent of trichlorotrifluoroethane and lower alcohol.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5146679A JPS5829980B2 (en) | 1979-04-27 | 1979-04-27 | Surface treatment agent for recording and reproducing materials |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5146679A JPS5829980B2 (en) | 1979-04-27 | 1979-04-27 | Surface treatment agent for recording and reproducing materials |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55144079A JPS55144079A (en) | 1980-11-10 |
| JPS5829980B2 true JPS5829980B2 (en) | 1983-06-25 |
Family
ID=12887711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5146679A Expired JPS5829980B2 (en) | 1979-04-27 | 1979-04-27 | Surface treatment agent for recording and reproducing materials |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5829980B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06329172A (en) * | 1993-05-17 | 1994-11-29 | Asahi Natl Shomei Kk | Packing device |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5829147A (en) * | 1981-08-15 | 1983-02-21 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
| JPS5894131A (en) * | 1981-11-28 | 1983-06-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Metallic thin film type magnetic recording medium |
-
1979
- 1979-04-27 JP JP5146679A patent/JPS5829980B2/en not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06329172A (en) * | 1993-05-17 | 1994-11-29 | Asahi Natl Shomei Kk | Packing device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55144079A (en) | 1980-11-10 |
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