JPS5831229B2 - droplet injection device - Google Patents
droplet injection deviceInfo
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- JPS5831229B2 JPS5831229B2 JP11449578A JP11449578A JPS5831229B2 JP S5831229 B2 JPS5831229 B2 JP S5831229B2 JP 11449578 A JP11449578 A JP 11449578A JP 11449578 A JP11449578 A JP 11449578A JP S5831229 B2 JPS5831229 B2 JP S5831229B2
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- piezoelectric element
- diaphragm
- thickness
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- droplet
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、液滴噴射装置に係り、例えば、パルスジェッ
ト形インクジェットノズルにおいて、その圧電素子の板
厚を薄くシ、液滴噴射効率を大幅に向上するようにした
液滴噴射装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a droplet ejecting device, for example, in a pulse jet type inkjet nozzle, the thickness of the piezoelectric element is reduced and the droplet ejecting efficiency is significantly improved. It relates to a droplet ejecting device.
まず、この種装置の、これを要するに本発明による改良
の対象となる従来技術に係るものの一例を、第1図Gこ
より説明をする。First, an example of this type of device, which is related to the prior art and which is the object of improvement by the present invention, will be explained with reference to FIG. 1G.
図において、1は、液滴を噴射させるためのノズル部、
2,4は、液体を前記ノズル部1に導く導管部、3は、
導管部2,4の途中に形成されたダイヤフラム部であり
、5は、流体ダイオード、6は、共通液体溜め、7は、
液体の導入管、8は、液体供給タンクであり、10は、
駆動回路部、11は、本体、12は、ベース、13は、
圧電素子である。In the figure, 1 is a nozzle part for jetting droplets;
2 and 4 are conduit portions that guide the liquid to the nozzle portion 1; 3 is a conduit portion that leads the liquid to the nozzle portion 1;
A diaphragm part formed in the middle of the conduit parts 2 and 4, 5 is a fluid diode, 6 is a common liquid reservoir, 7 is a
8 is a liquid supply tank; 10 is a liquid introduction pipe;
A drive circuit section, 11 is a main body, 12 is a base, 13 is a
It is a piezoelectric element.
なお、上記の共通液体溜め6は、液滴噴射効率を高めた
り、液体の供給を円滑にするためのものであるが、上述
した本発明における噴射効率の向上に、要旨構成として
あずかるものではない。Note that the common liquid reservoir 6 described above is for increasing droplet jetting efficiency and smoothing the supply of liquid, but does not contribute to the improvement of jetting efficiency in the present invention as described above. .
しかして、上記のノズル部1から共通液体溜め6までは
、第1図の八に示す断面図のように、本体11の片面に
溝部として形成し、その本体11にベース12を接着し
て各要素を形成しているものであり、また、ダイヤフラ
ム部3の裏側(上記断面図上面)に、圧電素子13を接
着し、1駆動回路部10と接続されているものである。The sections from the nozzle section 1 to the common liquid reservoir 6 are formed as a groove section on one side of the main body 11, as shown in the sectional view 8 in FIG. In addition, a piezoelectric element 13 is bonded to the back side of the diaphragm part 3 (the top surface in the above cross-sectional view), and is connected to the first drive circuit part 10.
上記のような構成において、ノズル部1かう供給タンク
8の間に液体を充満させて、ノズル部1の表面張力と供
給タンク8の液体圧をバランスさせた状態で圧電素子1
3に電気的なパルスを印加すると、圧電素子13が急激
Oこ歪み、ダイヤフラム部3、これを要するに、後述す
る如きダイヤフラム室の体積が変化して液体圧が生ずる
。In the above configuration, the piezoelectric element 1 is filled with liquid between the nozzle part 1 and the supply tank 8, and the surface tension of the nozzle part 1 and the liquid pressure of the supply tank 8 are balanced.
When an electric pulse is applied to the piezoelectric element 3, the piezoelectric element 13 is suddenly distorted, and the volume of the diaphragm portion 3, or in other words, the diaphragm chamber as will be described later, changes to generate liquid pressure.
この液体圧の圧力波がノズル部1に達すると、ノズル部
1の表面張力が破れて、そのノズルから液体が粒状にな
って飛び出すものである。When this pressure wave of liquid pressure reaches the nozzle section 1, the surface tension of the nozzle section 1 is broken and the liquid is ejected from the nozzle in the form of particles.
以上のような液滴噴射装置において、従来は、その圧電
素子の歪み力を大きくすれば、ダイヤフラム室の変形も
大きくなるであろう、という安易な推測から、他方、圧
電素子接着時の取扱い易さや、接着剤のまわり込みや接
着層の厚さの影響を改善すること、更には表裏の電極間
の放電リークを防止することなどの目的とから、圧電素
子の厚さは、後述する如きダイヤフラムの厚さくJo、
4關)の2〜3倍程度のものであった。Conventionally, in the droplet injection device as described above, it was easy to assume that if the strain force of the piezoelectric element was increased, the deformation of the diaphragm chamber would also be increased. The thickness of the piezoelectric element is determined by the thickness of the diaphragm, as described below, for the purpose of improving the effect of the sheath, adhesive wrapping around, and the thickness of the adhesive layer, as well as preventing discharge leakage between the front and back electrodes. The thickness of Jo,
It was about 2 to 3 times that of 4th grade).
しかして、このような従来例の場合、多少、液体で電極
まわりが濡れたときでも電極間り、−りが生じ難く、ま
た接着剤の影響を受は難く、各ノズル間の液滴噴射特性
のバラつきが小さいなどの利点があったものである。However, in the case of such a conventional example, even if the area around the electrodes gets wet with some liquid, it is difficult to cause gaps between the electrodes, and it is difficult to be affected by the adhesive, and the droplet jetting characteristics between each nozzle are difficult to occur. This has the advantage of having small variations in the values.
しかし、その一方では、圧電素子が厚くなるためOこ、
電極間に印加しなければならない電気パルスの電圧が高
く、効率が良くない、という欠点があった。However, on the other hand, since the piezoelectric element becomes thicker,
The drawback is that the voltage of the electric pulse that must be applied between the electrodes is high and the efficiency is poor.
また、高電圧発生回路とすること(こ加えて、圧電素子
は厚いために、その価格も高かったものである。In addition, the piezoelectric element was thick and therefore expensive.
本発明は、上記のような従来技術に係るものの欠点を解
消するとともに、電気信号Oこ応答して液体粒子を発生
させる液滴噴射装置で、その液滴噴射効率の高い液滴噴
射装置の提供を、その目的とするものである。The present invention eliminates the drawbacks of the prior art as described above, and provides a droplet ejecting device that generates liquid droplets in response to an electric signal and has high droplet ejection efficiency. Its purpose is to
本発明の特徴は、液滴を制御された大きさと方向とを保
って噴射するためのノズル部、該ノズル部まで液体を導
く導管部、液体を収納する供給タンクから上記ノズル部
の途中に結合され、印加された電気信号に応答して体積
変化を生じ液滴を前記ノズル部から噴射させる液体圧力
、駆動部とからなる液滴噴射装置において、上記液体圧
力駆動部は、電気信号により歪みを生ずる圧電素子が、
もっばら液体の隔壁を形成するダイヤフラム部に接着さ
れて構成されており、該圧電素子の厚さが当該ダイヤフ
ラムの厚さの1.8倍以下の厚さとした液滴噴射装置に
ある。The present invention is characterized by a nozzle section for jetting droplets while maintaining a controlled size and direction, a conduit section for guiding the liquid to the nozzle section, and a conduit section that connects a supply tank that stores the liquid to the middle of the nozzle section. In the droplet ejecting device, the liquid pressure drive unit causes a volume change in response to an applied electric signal and causes a droplet to be ejected from the nozzle unit. The resulting piezoelectric element is
The piezoelectric element is bonded to a diaphragm portion that forms a liquid partition, and the thickness of the piezoelectric element is 1.8 times or less than the thickness of the diaphragm.
さらに詳しくは、本発明は、圧電素子Oこ同じ歪みを与
えた場合、ダイヤフラム室の体積変形量が最大となる圧
電素子の厚さは、ダイヤフラム厚さと等しい場合である
ことと、さらに、圧電素子の厚さが薄い程、同じ歪みを
与える電圧が低いことなどを勘案して、ダイヤフラム厚
さの1.8倍以下の薄い圧電素子を接着せしめるように
した液滴噴射装置である。More specifically, the present invention provides that when the same strain is applied to the piezoelectric element O, the thickness of the piezoelectric element at which the amount of volumetric deformation of the diaphragm chamber becomes maximum is equal to the diaphragm thickness; Considering that the thinner the diaphragm, the lower the voltage required to produce the same strain, this droplet ejecting device is designed to adhere a piezoelectric element that is thinner than 1.8 times the diaphragm thickness.
そして、このようにしたことにより、低い圧電パルスで
、大きなダイヤフラム室の体積変化が得られ、液滴の噴
射効率が大きく向上し、その駆動回路も生産性の良いも
のが所期できるようにしたものである。By doing this, a large change in the volume of the diaphragm chamber can be achieved with a low piezoelectric pulse, greatly improving the droplet jetting efficiency, and making it possible to create a highly productive drive circuit. It is something.
次に、本発明の実施例を第2図ないし第6図Oこもとづ
いて説明をする。Next, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 2 to 6.
マス、第2図は、既述のダイヤフラム部3、これを要す
るにダイヤフラム室の断面図をモデル的Oこ示したもの
であり、3Aは、薄肉構成のダイヤフラム、3Bは、ダ
イヤフラム室であり、11Aは、本体、12Aは、ベー
ス、13Aは、圧電素子をそれぞれ断面で示すものであ
る。2 is a model cross-sectional view of the diaphragm part 3, that is, the diaphragm chamber described above, 3A is a thin-walled diaphragm, 3B is a diaphragm chamber, and 11A is a diaphragm chamber. 12A and 13A are cross-sectional views of the main body, the base, and the piezoelectric element, respectively.
なお、ダイヤフラム部3と圧電素子13Aとで、液体圧
力1駆動部を形成するものである。Note that the diaphragm portion 3 and the piezoelectric element 13A form a liquid pressure 1 driving portion.
しかして、このダイヤフラム室3Bは、例えばSi(シ
リコン)の板を化学的エツチングOこより図示の如き薄
肉部のダイヤフラム3Aを形成したもので、パイレック
スガラスのベース12Aに、該ダイヤフラム室3Bを有
する本体11Aを、アノ−ディックボンディングと称さ
れる静電接着法などにより接着し、さらに、本体11A
のダイヤフラム室3Bの上に圧電素子13Aが接着され
ているものである。The diaphragm chamber 3B is formed by chemically etching a Si (silicon) plate to form a thin-walled diaphragm 3A as shown in the figure.The diaphragm chamber 3B is mounted on a Pyrex glass base 12A. 11A is bonded by an electrostatic adhesion method called anodic bonding, and then the main body 11A is bonded.
A piezoelectric element 13A is bonded onto the diaphragm chamber 3B.
このような第2図の構成において、圧電素子131こ圧
電が印加され、図示の矢印方向に圧電素子13Aが圧縮
歪みを生ずると、バイメタル効果により、ダイヤフラム
部3が点線で示されるように変形を生じ、ダイヤフラム
室3Bの体積が小さくなる。In the configuration shown in FIG. 2, when piezoelectricity is applied to the piezoelectric element 131 and compressive strain is generated in the piezoelectric element 13A in the direction of the arrow shown in the figure, the diaphragm portion 3 is deformed as shown by the dotted line due to the bimetallic effect. This occurs, and the volume of the diaphragm chamber 3B becomes smaller.
そこで、ダイヤフラム室3Bの圧力が急激に高くなって
、その圧力波によりノズル部1の先端から液体が表面張
力を破って飛び出し、液滴が噴射される。Therefore, the pressure in the diaphragm chamber 3B increases rapidly, and the pressure wave causes the liquid to break the surface tension and eject from the tip of the nozzle part 1, and droplets are ejected.
いま、図示の如く、ダイヤフラム3Aの厚さをhD1圧
電素子13Aの厚さをhpsダイヤフラム3Aの中心た
わみをδとする。Now, as shown in the figure, the thickness of the diaphragm 3A is hD, the thickness of the piezoelectric element 13A is hps, and the center deflection of the diaphragm 3A is δ.
しかして、第3図は、圧電素子13A(こ一定の歪みを
与えたときのダイヤフラム3Aの中心たわみδと、圧電
素子13Aの厚さhPとの関係を求めたものである。Therefore, FIG. 3 shows the relationship between the central deflection δ of the diaphragm 3A when a certain strain is applied to the piezoelectric element 13A, and the thickness hP of the piezoelectric element 13A.
この第3図により、h、/hD二1、すなわち圧電素子
13Aの板厚hPがダイヤフラム3Aの板厚hDに等し
くなったとき、ダイヤフラム3Aの中心たわみδが最も
大きくなることを示している。FIG. 3 shows that the center deflection δ of the diaphragm 3A becomes the largest when h, /hD21, that is, the thickness hP of the piezoelectric element 13A becomes equal to the thickness hD of the diaphragm 3A.
そして、同図にみるようOこ、圧電素子13Aの板厚h
Pが厚くなるほど、ダイヤフラム3Aの中心たわみδは
小さくなり、板厚hPが2倍になると、中心たわみδは
、その最大値δヤの約80%となる。As shown in the same figure, the thickness of the piezoelectric element 13A is
As P becomes thicker, the central deflection δ of the diaphragm 3A becomes smaller, and when the plate thickness hP is doubled, the central deflection δ becomes about 80% of its maximum value δ.
したがって、圧電素子13Aの板厚hpは、ダイヤフラ
ム3Aの板厚hDと同程度の厚さく0.5<hp/hD
<2)?こするのが、構造力学的には有利であることが
判った。Therefore, the thickness hp of the piezoelectric element 13A is approximately the same as the thickness hD of the diaphragm 3A, 0.5<hp/hD.
<2)? It has been found that rubbing is advantageous in terms of structural mechanics.
次ζこ、圧電素子13Aに印加する電圧は、当該圧電素
子に同じ歪みを与える場合には、その圧電素子の板厚h
POこ比例する。Next, when applying the same strain to the piezoelectric element 13A, the voltage applied to the piezoelectric element 13A is
PO is proportional.
したがって、上記の第3図の結果を、圧電素子に同じ電
圧を与えた場合について示すと、第4図Gこ示すように
なる。Therefore, when the results shown in FIG. 3 above are shown for the case where the same voltage is applied to the piezoelectric element, the result is shown in FIG. 4G.
なお、この第4図で、その縦軸は、ダイヤフラム室3B
の体積変化をhP/hD−1のときを1として示しであ
る。In addition, in this FIG. 4, the vertical axis is the diaphragm chamber 3B.
The volume change of hP/hD-1 is set as 1.
この第4図から、上述した構造力学的Oこ望ましいhP
/hD=1のときに比較して、hP/hD1.8のとき
で体積変化AVが約半分となり、それ以上に圧電素子が
厚いと、非常に効率が悪く、実用(こは適さないことが
判った。From this Figure 4, it can be seen that the above-mentioned structural mechanics
Compared to when hP/hD=1, the volume change AV is about half when hP/hD is 1.8, and if the piezoelectric element is thicker than that, the efficiency is very low and it may not be suitable for practical use. understood.
したがって、これらの点を総合して、圧電素子の厚さを
ダイヤフラムの厚さの1.8倍以下に薄くすれば、電気
パルスを有効にダイヤフラム室の体積変化に変換でき、
効率の良い液滴噴射特性を有する液滴噴射装置が得られ
る。Therefore, taking all of these points into consideration, if the thickness of the piezoelectric element is made thinner than 1.8 times the thickness of the diaphragm, electric pulses can be effectively converted into changes in the volume of the diaphragm chamber.
A droplet ejecting device having efficient droplet ejecting characteristics can be obtained.
このことは、電気パルスの電圧が低くても、良好な液滴
噴射特性が得られることを意味し、1駆動回路も安価と
なり、さらに高い信頼性が期待できるものである。This means that even if the voltage of the electric pulse is low, good droplet ejection characteristics can be obtained, the single drive circuit is also inexpensive, and even higher reliability can be expected.
以上のようQこ、圧電素子を薄くすればするほど、効率
の良い液滴噴射が得られることが判ったが、その半面に
おいて、圧電素子が薄くなるにつれて、圧電素子の歪み
が大きくなり、その接着層に作用する応力も大きくなる
ので限界がある。As mentioned above, it has been found that the thinner the piezoelectric element is, the more efficient droplet jetting can be obtained.However, on the other hand, as the piezoelectric element becomes thinner, the distortion of the piezoelectric element increases, and There is a limit because the stress acting on the adhesive layer also increases.
加えて、従来例のところで述べたように、圧電素子が薄
くなると、接着剤のまわり込みや接着層の影響を受は易
くなる。In addition, as described in the conventional example, when the piezoelectric element becomes thinner, it becomes more susceptible to the influence of the adhesive and the adhesive layer.
また、圧電素子が薄くなればなるほど、ダイヤフラムの
厚さのバラつきが直接、液滴噴射特性を左右することに
なる。Furthermore, as the piezoelectric element becomes thinner, variations in the thickness of the diaphragm will directly affect the droplet jetting characteristics.
そこで、上述したところにより、本発明において、圧電
素子13Aを薄くした場合、ダイヤフラム3Aの板厚を
均一に、かつバラつきのないものとし、均一な接着技術
が要求されるものである。Therefore, as described above, in the present invention, when the piezoelectric element 13A is made thin, the thickness of the diaphragm 3A is made uniform and without variation, and a uniform bonding technique is required.
この点の構、或につき、第5図は、その一実施例を示し
たものである。Regarding this structure, FIG. 5 shows one embodiment thereof.
なお、同図で14は、Au層、15は、Au −S i
共晶層である。In addition, in the figure, 14 is an Au layer, and 15 is an Au-Si layer.
It is a eutectic layer.
前後したが、既述のように、ダイヤフラム3AにSiを
用いたのは、精度の良いダイヤフラム加工が容易に行な
いうるためであり、具体的には、超音波加工や化学的エ
ツチングで実現できるものである。As previously mentioned, the reason why Si is used for the diaphragm 3A is because it allows for easy diaphragm processing with high precision.Specifically, it can be achieved by ultrasonic processing or chemical etching It is.
例えば、KOH溶液に、アルコール類などの抑制剤を加
えたアルカリ性エツチング液で60〜80℃程度の適当
な温度でSiをエツチングすると、毎分0.5μm程度
のエツチング速度が得られ、1μm前後の加工精度でダ
イヤフラム部3を加工することが可能である。For example, if Si is etched at an appropriate temperature of about 60 to 80°C with an alkaline etching solution prepared by adding an inhibitor such as alcohol to a KOH solution, an etching rate of about 0.5 μm/min can be obtained, and an etching rate of about 1 μm/min can be obtained. It is possible to process the diaphragm portion 3 with high processing accuracy.
一方、圧電素子13Aの表面Oこは、Au層14が、蒸
着やスパッタなどによりメタライズされており、ダイヤ
フラム3A上面をSi面としておけば、340〜400
℃程度でAu−8i共共晶蓋Oこより、均一なAu−8
i共晶層15が得られる。On the other hand, the Au layer 14 on the surface of the piezoelectric element 13A is metalized by vapor deposition, sputtering, etc., and if the upper surface of the diaphragm 3A is set as a Si surface, the thickness of the Au layer 14 is 340 to 400.
At about ℃, the Au-8i eutectic lid O becomes uniform Au-8.
An i-eutectic layer 15 is obtained.
もちろん、この場合、圧電素子13Aはキューリ点以上
となり、再分極が必要となる。Of course, in this case, the piezoelectric element 13A is at or above the Curie point, and repolarization is required.
しかし、このようにすれば、効率の良い、かつ生産性が
良く信頼性の高い液滴噴射装置が、バラつきがなく高歩
留りで実現できるものである。However, in this way, a highly efficient, highly productive, and reliable droplet ejecting device can be realized with no variation and high yield.
また、圧電素子が薄くなると、従来例で述べたようOこ
、電極間の放電リークが生じ易くなるが、第6図のa
”−cに示すように、表電極16 、1 B 。Furthermore, as the piezoelectric element becomes thinner, discharge leakage between the electrodes becomes more likely to occur as described in the conventional example.
”-c, the front electrodes 16, 1B.
20、裏電極17,19.21のいずれか一方、もしく
は両方を、圧電素子端から内側に設けて、縁面距離を長
くすれば、この問題は解決されるものである。This problem can be solved by providing one or both of the back electrodes 17, 19, and 21 inward from the end of the piezoelectric element to increase the distance between the edges.
以上に述べたところを総合して、本発明によるときは、
液滴噴射効率が良く、生産性も高い液滴噴射装置が得ら
れるものであって、実用的効果にすぐれた開発というこ
とができる。Taking all of the above into consideration, according to the present invention,
A droplet jetting device with good droplet jetting efficiency and high productivity can be obtained, and it can be said that this development has excellent practical effects.
第1図のイは、供給タンクを付加した従来倒置の断面図
、同じく口は、その略正面図、同じくハは、−駆動回路
を付加したその略側断面図、第2図は、本発明の一実施
例に係るもののダイヤフラム部の第1図のB−B線に沿
う断面相当の略断面図、第3図は、同じく圧電素子、ダ
イヤフラムの板厚とダイヤフラム部におけるたわみとの
関係曲線図、第4図は、同じくそれぞれの板厚とダイヤ
フラム部における体積変化量との関係曲線図、第5図、
第6図のa ””−cは、同じく一実施例に係る要部構
成図である。
1・・・・・・ノズル部、2,4.7・・・・・・導管
部、3・・・・・・ダイヤフラム部、3A・・・・・・
ダイヤフラム、3B・・・・・・ダイヤフラム室、5・
・・・・・流体ダイオード、6・・・・・・共通液体溜
め、8・・・・・・供給タンク、10・・・・・・駆動
回路部、11A・・・・・・本体、12A・・・・・・
ベース、13A・・・・・・圧電素子、hP・・・・・
・圧電素子の板厚、hD・・・・・・ダイヤフラムの板
厚。In Fig. 1, A is a cross-sectional view of the conventional inverted version with a supply tank added, the opening is a schematic front view thereof, C is a schematic side cross-sectional view of the same with a drive circuit added, and Fig. 2 is a cross-sectional view of the conventional inverted structure with the addition of a supply tank. A schematic cross-sectional view of a diaphragm portion according to an embodiment, corresponding to the cross section taken along the line B-B in FIG. 1, and FIG. 3 is a graph showing the relationship between the plate thickness of the piezoelectric element and the diaphragm and the deflection in the diaphragm portion. , FIG. 4 is a relationship curve diagram between each plate thickness and the amount of volume change in the diaphragm portion, and FIG.
6a""-c in FIG. 6 are main part configuration diagrams also according to one embodiment. 1... Nozzle part, 2, 4.7... Conduit part, 3... Diaphragm part, 3A...
Diaphragm, 3B...Diaphragm chamber, 5.
...Fluid diode, 6 ... Common liquid reservoir, 8 ... Supply tank, 10 ... Drive circuit section, 11A ... Main body, 12A・・・・・・
Base, 13A...Piezoelectric element, hP...
・Thickness of piezoelectric element, hD...Thickness of diaphragm.
Claims (1)
ためのノズル部、該ノズル部まで液体を導く導管部、液
体を収納する供給タンクから上記ノズル部の途中に結合
され、印加された電気信号に応答して体積変化を生じ液
滴を前記ノズル部から噴射させる液体圧力駆動部とから
なる液滴噴射装置において、上記液体圧力駆動部は、電
気信号により歪みを生じる圧電素子が、もっばら液体の
隔壁を形成するダイヤフラム部に接着されて構成されて
おり、該圧電素子の厚さが当該ダイヤフラム部における
ダイヤフラムの厚さの1.8倍以下の厚さとしたことを
特徴とする液滴噴射装置。 2、特許請求の範囲第1項記載のものにおいて、ダイヤ
フラム部をSi板を化学的エツチングすることにより形
成したものである液滴噴射装置。 3 特許請求の範囲第2項記載のものにおいて、ダイヤ
フラムに、圧電素子の接着面へメタライズ処理を施し共
晶反応を利用して接着したものである液滴噴射装置。 4 特許請求の範囲第1項記載のものにおいて、圧電素
子の表裏の少なくとも一方の電極を、圧電素子端部から
離して設けたものである液滴噴射装置。[Scope of Claims] 1. A nozzle section for jetting droplets while maintaining a controlled size and direction, a conduit section for guiding the liquid to the nozzle section, and a conduit section midway between the supply tank containing the liquid and the nozzle section. In a droplet ejecting device, the liquid pressure drive section is coupled to a liquid pressure drive section that causes a volume change in response to an applied electric signal and ejects a droplet from the nozzle section. The resulting piezoelectric element is configured to be adhered to a diaphragm part that forms a partition wall of liquid, and the thickness of the piezoelectric element is 1.8 times or less the thickness of the diaphragm in the diaphragm part. A droplet injection device featuring: 2. A droplet injection device according to claim 1, wherein the diaphragm portion is formed by chemically etching a Si plate. 3. A droplet injection device according to claim 2, wherein the diaphragm is bonded to the piezoelectric element by metallizing the bonding surface thereof using a eutectic reaction. 4. The droplet ejecting device according to claim 1, wherein at least one electrode on the front and back sides of the piezoelectric element is provided apart from the end of the piezoelectric element.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11449578A JPS5831229B2 (en) | 1978-09-20 | 1978-09-20 | droplet injection device |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP11449578A JPS5831229B2 (en) | 1978-09-20 | 1978-09-20 | droplet injection device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JPS5541832A JPS5541832A (en) | 1980-03-24 |
| JPS5831229B2 true JPS5831229B2 (en) | 1983-07-05 |
Family
ID=14639181
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11449578A Expired JPS5831229B2 (en) | 1978-09-20 | 1978-09-20 | droplet injection device |
Country Status (1)
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-
1978
- 1978-09-20 JP JP11449578A patent/JPS5831229B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5541832A (en) | 1980-03-24 |
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