JPS5831330B2 - １−ヘキサデシン−６−オン - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規化合物ｌ−ヘキサデシン−６−オンに関す
る。

本発明の化合物はオリギア シュード ツガータ（マツ
クダナーフ） （Ｏｒｇｉａ ｐｓｅｕｄｏｔｓｕｇ
ａｔａ（ＭｃＤｕｎｎｏｕｇｈ ） ）の性ホルモンシ
ス−６−ヘンアイラセン−１１−オンの合成中間体とし
て有用な化合物である。

従来シス−６−ヘンアイラセン−１１−オンの合成はス
ミス等（Ｒ，Ｇ、Ｓｍ１ｔｈ ａｎｄ Ｇ、Ｄ。

Ｄａｖｅｓ Ｊｒ ）により報告されている（Ｊ、Ｏ
ｒｇ。

Ｃｈｅｍ、、 ４０，１５９３（１９７５））。

この方法はＣ１ｏＨ２１ＣＨＯからシス−６−ヘンアイ
ラセン−１１−オンを誘導する方法であるが、この方法
には（ａ）出発原料の化合物が容易に入手できないこと
、（ｂ）試薬として悪臭の強いトリメチレンチオグリコ
ール及び酸化クロム、酸化銅、ニッケル等有毒性重金属
を使用しているために環境汚染のおそれがあること、（
ｃ）上記試薬を完全に回収しなければならず製造コスト
が必然的に高くなること等の欠点があり工業化に難点が
ある。

しかるに本発明化合物を出発原料として用いると上記の
如きトリメチレンチオグリコール及び有毒性重金属を使
用することなく、従って上記（ａ）、（ｂ）、及び（ｅ
）の欠点を全て解消してシス−６−ヘンアイコセン１１
−オンを製造し得る。

本発明の化合物ｌ−ヘキサデシン−６−オンは本発明者
が初めて見い出した新規化合物であり、例えば容易に入
手可能な公知のジヒドロレゾルシノールを出発原料とし
て下式の如くして製造される。

式（ＩＩ）の化合物は公知の方法ＣＯｒｇ、 Ｓｙｎ。

Ｃｏ１１０．５．５３９〕を適用することにより即ち例
工ばｐ−４ルエンスルホン酸の存在下ジヒドロレゾルシ
ノール〔■〕にエタノールを反応させることにより容易
に得られる。

次いで得られる式〔川〕の化合物と一般式ｎ −Ｃ１ｏ
Ｈ２１Ｘ （式中Ｘは）・ロゲン原子）で表わされる
ハロゲン化物とをリチウム、ナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属の存在下エーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン等の不活性
溶媒中で反応させて式〔■〕の化合物とし、式〔■〕の
化合物を単離することなく塩酸、硫酸等の通常の酸で加
水分解することにより新規な式（ＩＶ）の化合物が得ら
れる。

これらの反応に於てアルカリ金属の使用量は式（ＩＩ）
の化合物１モルに対して通常等モル〜犬過剰量、好まし
くは３〜５倍モルであり、またハロゲン化物の使用量は
式〔川〕の化合物１モルに対して通常等モル〜犬過剰量
、好ましくは等モル−１，２倍モルである。

これらの反応は室温下、冷却下あるいは加温下で行なう
ことができ通常−７８℃〜４０℃、好ましくは室温で行
なわれ、反応時間は１〜５時間程度である。

式（ＩＶ）の化合物を水、メタノール、エタノール塩化
メチレン、四塩化炭素等の溶媒中でエポキシ化反応させ
ることにより新規な式（Ｖ）の化合物が得られる。

このエポキシ化反応に使用されろ過酸としては公知のも
のを広く使用でき、例えばメタクロル過安息香酸、過酢
酸、過酸化水素等を例示できる。

あるＬ・は上記過酸と共に水酸化ナトリウム若しくは水
酸化カリウムを使用してもよい。

これらのアルカリを用いる場合には過酸化水素のナトリ
ウム塩、過酸化水素のカリウム塩、ｔ−ブチルヒドロパ
ーオキシドのナトリウム塩、ｔ−ブチルヒドロパーオキ
シドのカリウム塩等に予め調製しておくのが望ましい。

本発明に於てはこれらの中でも過酸化水素のす） ＩＪ
ウム塩若しくはカリウム塩、ｔ−ブチルヒドロパーオキ
シドのナトリウム塩若しくはカリウム塩を用Ｌ・るのが
特に好ましい。

該反応に使用されろ過酸及びアルカリの使用量は式（Ｉ
Ｖ）の化合物１モルに対Ｉ７てそれぞれ等モル−犬過剰
量（好ましくは３〜５倍モル）、０３〜２倍モル（好ま
しくは０．５倍モル）である。

該反応は常温であるいは冷却下で行なわれ通常２０〜３
０℃、好ましくは２０〜２５℃であり反応時間は通常１
〜６時間である。

上記で得られる式〔■〕の化合物につきエツシエンモー
ゼル（Ｅｓｃｈｅｎｍｏｓｅｒ ）開裂反応させること
により本発明化合物（式（Ｖｌ）の化合物）が得られる
。

エツシエンモーゼル開裂反応とは、α・β−エポキシケ
トンを開裂反応させて分子内にカルボニル基と三重結合
とを導入する反応である（Ｊ。

Ｏｒｙ、 Ｃｈｅｍ、、４０ （５）、５７．９（１９
７５）参照〕。

本反応によれば、以下に詳細に説明しているように、適
当な触媒の存在下溶媒中にて式（Ｖ）の化合物を処理す
ることにより本発明化合物が製造される。

該反応に用いられる触媒としてはｐトルエンスルホニル
ヒドラジド、ｐ−ニトロフェニルスルホニルヒドラジド
、フェニルスルホニルヒドラジド等のアリールスルホニ
ルヒドラジド、エチルスルホニルヒドラジド等の低級ア
ルキルスルホニルヒドラジド等を例示できるが、この中
でもアリールスルホニルヒドラジドを用いるのが好まし
い。

該反応で使用される溶媒としては塩化メチレン、クロロ
ホルム １・２−ジクロロエタン、酢酸、蟻酸、エーテ
ル、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、・ジメチルス
ルホキシド等を例示できる。

本発明では塩化メチレン−酢酸あるいはクロロホルム−
酢酸の混合溶媒を用いるのが好ましい。

該反応で使用される触媒の使用量は特に限定されないが
式〔■〕の化合物１モルに対して通常０５〜※※１．５
倍モル、好ましくは等モル程度である。

該反応は室温下、冷却下あるいは加温下に行なうことが
できるが一般的には、通常Ｏ〜５０℃、好ましくはＯ℃
〜室温であり、反応時間は通常３〜１０時間である。

上記各反応に於てはいずれも所望化合物を収率よく収得
できる。

斯くして得られる本発明化合物を出発原料として用Ｌ・
例えば下式に示す反応を行なうことにより容易にシス−
６−ヘンアイコセンー１１−オンを製造し得る。

上記式中ｎは２又は３を示し、Ｘはハロゲン原子を示す
。

以下に本発明を更に明らかにするために実施例及び応用
例を掲げるが、本発明はこれに限定されるものではない
。

実施例 ３−デシル−２−シクロヘキセノン（式（ＩＶ）の化合
物）の製造 乾燥テトラヒドロフランにリチウム８７０７Ｑの少片を
加え、これに窒素気流下２０〜３０℃で攪拌しなから３
−エトキシ−２−シクロヘキセノン７ｆＩ及びｎ−デシ
ルブロマイド１３．３Ｐの混合物を滴下する。

滴下後室温で１時間攪拌したのち過剰のリチウムをＰ去
し母液を冷希硫酸中に投じエーテル抽出を行なう。

エーテル溶液を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し
て硫酸マグネシウムで乾燥する。

溶媒を留去し残渣を減圧蒸留して３デシル−２−シクロ
ヘキセノンを得る。

収量９．９？；収率８４６％；沸点１３０〜１３２℃１
０．３ｍＨｇ ３−デシル−２・３−エポキシシクロヘキサノン（式（
Ｖ）の化合物）の製造 ３−デシル−２−シクロヘキセノン９．６１’メタノー
ルＨ）ｍｌに溶解し１０°Ｃに冷却する。

これに攪拌下３０％の過酸化水素水１６ｒｕｌを滴下し
、次いで１５〜２０℃に維持しつつ６Ｎの水酸化ナトリ
ウム３．５ｍｌを５分を要して加えたのち２０〜２５℃
で３時間攪拌する。

反応液を水中に投じエーテルで抽出する。

エーテル溶液を水、次いで飽和食塩水で洗浄した後硫酸
マグネシウムで乾燥する。

溶媒を留去し残渣を減圧蒸留して３−デシル２・３−エ
ポキシシクロヘキサノンを得る。

収量９．１グ；収率９０．４％；沸点１２５〜１２６℃
１０．２ｍｍＨｇ ｌ−ヘキサデシン−６−オン（式（Ｍ）の化合物）の製
造 塩化メチレン２０ｍ１及び酢酸１０ＴＩＬｌに３−デシ
ル−２・３−エポキシシクロへキサノン５グを溶解し、
これに０〜２℃で攪拌下ｐ−トルエンスルホニルヒドラ
ジド３，７りを一度に加え、次いで０〜２℃で３時間攪
拌し、更に室温で３時間攪拌する。

反応液を水中に投じｎ−へキサンで抽出を行なう。

ｎ−ヘキサン溶液を水、飽和重曹水、飽和食塩水の順で
洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥する。

減圧濃縮して残渣を減圧蒸留して１−ヘキサデシン−６
−オンを得る。

収量４１１；収率８７．２％；沸点１２２〜１２３℃／
０．８ ｍｍＨｇ 。

固化し、石油エーテルより再結晶して無色プリズム状晶
で得る。

（融点２７〜２８℃）。Ｏエチルスルホニルヒドラジド
２．２２を用いる以外は上記と同様にしてｌ−ヘキサデ
シン−６オン２．５１を得る。

応用例 １−ヘキサデシン−６−オン−エチレンケタール（式〔
■〕の化合物）の製造 無水ベンゼン１００１ｒＬｌに１−ヘキサデシン−６オ
ン３ｔ１エチレンクリコール０．９？及ヒｐトル工ンス
ルホン酸５ｍ９を溶解し、水分離装置をつげて６時間還
流を行なう。

冷却後飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄して硫酸マ
グネシウムで乾燥する。

ベンゼンを留去し残渣を減圧蒸留して１−ヘキサデシン
−６−オン−エチレンケタールを得る。

収量３．２グ；収率８８．９％；沸点１２０〜１２５℃
１０．３朋Ｈｇ ６−ヘンアイコジンー１１−オン−エチレンケタール（
式〔■〕の化合物）の製造 乾燥テトラヒドロフラン１５ｍ１に１−ヘキサデシン−
６−オン−エチレンケタ−ル２．８ｒを溶解し、これに
氷冷却下に攪拌しつつｎ−ブチルリチウム（１，７モル
）のｎ−ヘキサン溶液６．６−を滴下する。

室温で１５分間攪拌し、次いでこれにアミルブロマイド
３グの乾燥リン酸へキサメチルトリアミド溶液２５ＴＬ
ｌを氷冷下撹拌しつつ滴下したのち水冷下に１時間攪拌
する。

反応液を氷水中に投じｎ−ヘキサンで抽出を行なう。

ｎ−ヘキサン溶液を水、飽和食塩水で洗浄して硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。

溶媒を留去し残渣を減圧蒸留して６−ヘンアイコシン−
１１−オン−エチレンケタールを得る。

収量３．１１収率８８．６％；沸点１６５〜１６８℃１
０．３ｍｍＨｇ ６−ヘンアイコシン−１１−オン（式〔■〕の化合物）
の製造 ６−ヘンアイコジンー１１−オン−エチレンケタール１
５グをテトラヒドロフラン１５ｍ１に溶解し、次いでこ
れに３Ｎの過塩素酸５ｍｌを加えて冷蔵庫で一晩放置す
る。

テトラヒドロフランを留去し残渣を水で希釈してエーテ
ル抽出を行なう。

エーテル溶液を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し
て硫酸マグネシウムで乾燥する。

エーテルを留去し残漬を減圧蒸留して６−ヘンアイコシ
ン１１−オンを得る。

収量１．２グ；収率９１，６％；沸点１４５〜１５０℃
／ ０．２ ｍｍ Ｈｇシス−６−ヘンアオコセン−１
１−オン（式〔Ｘ〕の化合物）の製造 ６−ヘンアイコシン−１１−オン０．９ｒをメタノール
１５ｍ１に溶解し、次いでこれに５％パラジウム−硫酸
バリウム１５０■及びキノリン２滴を加え振とう下室温
常圧で水素を吸収させる。

触媒を１去し母液を減圧濃縮する。

残渣をエーテルに溶解し、希塩酸、飽和重曹水、飽和食
塩水の順で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥する。

エーテルを留去し残渣を減圧蒸留してシス−６−ヘンア
オコセン−１１−オンを得る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １式 で表わされる１−ヘキサデシン−６−オン。