JPS5831679B2 - monolithic integrated circuit - Google Patents
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- JPS5831679B2 JPS5831679B2 JP52143823A JP14382377A JPS5831679B2 JP S5831679 B2 JPS5831679 B2 JP S5831679B2 JP 52143823 A JP52143823 A JP 52143823A JP 14382377 A JP14382377 A JP 14382377A JP S5831679 B2 JPS5831679 B2 JP S5831679B2
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は一般にバイポーラ・モノリシック集積回路読
取り専用記憶装置(ROM)及びプログラム可能な読取
り専用記憶装置(FROM’)構成素子に、更に明確に
はそのようなROM/FROM素イに使用される待機電
力使用可能回路及びそのようなFROM素了に使用され
るプログラミング使用可能回路に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates generally to bipolar monolithic integrated circuit read-only memory (ROM) and programmable read-only memory (FROM') components, and more specifically to such ROM/FROM devices. The present invention relates to standby power-enabled circuits used in applications and programming-enabled circuits used in such FROM implementations.
技術上既知のように、バイポーラ・モノリシック集積回
路ROM/FROM素子は、比較的高速で不揮発性であ
り、供給電力が除去されたときでもプログラム及びマイ
クロプログラム制御命令を保持するので、そのような命
令の記憶に広く使用されている。As is known in the art, bipolar monolithic integrated circuit ROM/FROM devices are relatively fast, non-volatile, and retain program and microprogram control instructions even when power supply is removed; widely used for memory.
そのようなバイポーラ・モノリシック集積回路ROM/
FROM素了は一般にアドレス指定及び出力回路に結合
された記憶素子配列を有している。Such bipolar monolithic integrated circuit ROM/
FROM devices generally include an array of storage elements coupled to addressing and output circuitry.
そのようなアドレス指定回路にはN−P−N出力トラン
ジスタがあって、各トランジスタのエミッタ電極が接地
母線に接続され、コレクタ電極が+■母線に接続されか
つベース電極が制御信号に結合されていて、トランジス
タは制御信号に従って選択的にオンすなわち飽和状態と
オフ状態との間でスイッチングを行う。Such an addressing circuit has N-P-N output transistors, each transistor having its emitter electrode connected to the ground bus, its collector electrode connected to the +■ bus, and its base electrode coupled to the control signal. The transistors are selectively switched between an on or saturated state and an off state in accordance with a control signal.
そのような素子が選択されていないときにアドレス指定
回路によって消費される電力の量を減少させるために素
子には待機電力使用可能回路が含まれている。A standby power enable circuit is included in the device to reduce the amount of power consumed by the addressing circuitry when such device is not selected.
しかしながら、そのような素子が待機状態にあるときで
もそのような待機回路は従来、例えば1素イ当り500
ミリワツト程変の望ましくない量の電力を消費している
。However, even when such devices are in a standby state, such standby circuits have conventionally used, for example, 500
It consumes an undesirable amount of electricity, on the order of milliwatts.
そのような一つの待機電力使用可能回路はP−N−Pス
イッチングトランジスタを使用していて、そのエミッタ
電極が電源の圧端−7(■cc′)に接続され、そのベ
ース電極が所用可能信号源に接続されかつvcc’電源
端イに抵抗を通して接続され、かつそのコレクタ電極が
素子の+VOO母線に接続されている。One such standby power enable circuit uses a P-N-P switching transistor whose emitter electrode is connected to voltage end -7 (cc') of the power supply and whose base electrode is connected to the standby power enable signal. It is connected to the power source and to the vcc' power supply terminal A through a resistor, and its collector electrode is connected to the +VOO bus line of the element.
ROM/FROMアクセス時間を最小にするためには、
P−N−Pスイッチング・トランジスタが高速装置であ
ることが望ましい。To minimize ROM/FROM access time,
It is desirable that the P-N-P switching transistor be a high speed device.
一種の高電流・高速トランジスタは、トランジスタのベ
ース・コレクタ領域にショットキーバリヤ・ダイオード
・クランプが形成されているトランジスタである。One type of high-current, high-speed transistor is a transistor in which a Schottky barrier diode clamp is formed in the base-collector region of the transistor.
そのようなショットキーバリヤ・ダイオード・クランプ
は、ベース領域金属接点の下にケイ酸白金層を形成して
これをP形伝導性のベース領域の部分からN形伝導性材
料のコレクタ領域の隣接部分まで延長させることによっ
て、N−P−Nl−ランジスタを備えたモノリシック集
積回路に容易に形成することができる。Such a Schottky barrier diode clamp is constructed by forming a platinum silicate layer beneath the base region metal contact and transferring this from a portion of the base region of P-type conductivity to an adjacent portion of the collector region of N-type conductivity material. can be easily formed into a monolithic integrated circuit with N-P-Nl-transistors.
白金とN形シリコンとの相互作用によってトランジスタ
のベース領域とコレクタ領域との間ではダイオードが形
成される。The interaction between platinum and N-type silicon forms a diode between the base and collector regions of the transistor.
しかしながら、そのような製造技術はP−N−Pショッ
トキーバリヤ・ダイオード・トランジスタの形成には利
用不可能である。However, such manufacturing techniques are not available for forming P-N-P Schottky barrier diode transistors.
第2の待機電力使用可能回路はN−P−Nエミツクホロ
ワ・トランジスタを使用して、これのベース電極と電源
の圧端−7vcc・との間にプルアップ抵抗を接続して
いる。The second standby power enabled circuit uses an N-P-N emitter follower transistor with a pull-up resistor connected between its base electrode and the -7 Vcc voltage end of the power supply.
そのようなN−P−Nトランジスタのエミッタ電極は+
vcc母線に接続されかつコレクタ電極は電源の圧端イ
vcc’に接続されている。The emitter electrode of such an N-P-N transistor is +
The collector electrode is connected to the voltage end of the power supply Vcc'.
N−P−Nt−ランジスクはこれのベース電極に「低」
信号が供給されるとオフになる(すなわち、それに対す
る素子が切り離される)。N-P-Nt-randisk is "low" on the base electrode of this
When a signal is applied, it turns off (ie, the element for it is disconnected).
しかしながら、ここで、素子が待機状態にあるときにプ
ルアップ抵抗に電力消費が生じる。However, here power consumption occurs in the pull-up resistor when the device is in standby state.
更に、素子が使用可能にされたときにvcc’と+■c
cとの間のVOE低下を最小限にするためにプルアップ
抵抗の抵抗値を最小限にすることが望ましいが、プルア
ップ抵抗の抵抗値を減小すると、素子が使用禁止状態に
あるときのプルアップ抵抗における電力消費が増大する
。Furthermore, when the element is enabled, vcc' and +■c
It is desirable to minimize the resistance value of the pull-up resistor to minimize the VOE drop between Power dissipation in the pull-up resistor increases.
この発明のこのような背景を心に留めて、この発明の目
的は改善された記憶装置使用可能回路を与えることであ
る。With this background of the invention in mind, it is an object of the invention to provide an improved storage-enabled circuit.
この発明の別の目的は改善された待機電力使用可能回路
を与えることである。Another object of the invention is to provide an improved standby power enabled circuit.
この発明の別の目的はモノリシック集積回路の製造に適
した改善された高速記憶装置待機電力使用可能回路を与
えることである。Another object of the invention is to provide an improved high speed storage standby power enabled circuit suitable for manufacturing monolithic integrated circuits.
この発明の別の目的は高速待機電力使用可能回路を有す
る改善されたモノリシック集積回路ROM/FROM素
了を与えることである。Another object of the invention is to provide an improved monolithic integrated circuit ROM/FROM implementation with fast standby power enabled circuitry.
この発明のこれら及びその他の目的は一般に、記憶装置
配列アドレス指定回路が使用可能信号(イネーブル信号
)に従って選択的にベース及びコレクタ領域間にショッ
トキバリヤ・ダイオードの形成されているトランジスタ
を通して接地母線に接続されたり接地母線から切り離さ
れたりするようになっているモノリシック集積回路を与
えることによって達成される。These and other objects of the invention generally provide that a storage array addressing circuit is selectively connected to a ground bus through a transistor having a Schottky barrier diode formed between its base and collector regions in accordance with an enable signal. This is achieved by providing a monolithic integrated circuit which is adapted to be connected to the ground bus or disconnected from the ground bus.
選ばれた具体例では、モノリシック集積回路では、半導
体材料の基板、この基板上に形成されかつ電源の相対的
に正の電位に結合するのに適した第1の嗜電性母線、前
記の基板に形成されかつ電源の相対的の負の電位に結合
するのに適した第2の導電性接地母線、第3の梼電性母
線、前記の基板に形成された記憶素子配列、前記の基板
に形成された複数個の相互接続された能動及び受動素子
からなっていて複数個の出力トランジスタを有しそのそ
れぞれのトランジスタのコレクタ電極が第1の導電性母
線に接続されかつエミッタ電極が第3の導電性母線に接
続されていて各トランジスタがそれのベース電極に結合
された制御信号に従って選択的に導通状態と非導通状態
との間でスイッチングを行うように構成されているアド
レス部分、並びに、前記の基板に形成されていてアクチ
ブ・プルアップ形態に構成された一対のトランジスタを
崩しこれの一方のトランジスタのエミッタ電極が第2の
導電性接地母線に接続されかつそのコレクタ電極が第3
の導電性母線に接続されておりかつ前記の一対のトラン
ジスタの前記の一方のもののコレクタ領域とベース領域
との間にショットキーダイオードが形成されている待機
電力使用可能回路を有する。In selected embodiments, in a monolithic integrated circuit, a substrate of semiconductor material, a first electrophilic bus formed on this substrate and suitable for coupling to a relatively positive potential of a power source, said substrate a second electrically conductive ground bus formed in the substrate and suitable for coupling to a relative negative potential of a power source; a third conductive ground bus formed in the substrate; a storage element array formed in the substrate; a plurality of interconnected active and passive elements formed having a plurality of output transistors each having a collector electrode connected to a first conductive bus and an emitter electrode connected to a third conductive bus; an address portion connected to the conductive bus and configured to cause each transistor to selectively switch between a conducting state and a non-conducting state in accordance with a control signal coupled to its base electrode; a pair of transistors formed in a substrate and configured in an active pull-up configuration, one transistor having its emitter electrode connected to a second conductive ground bus and its collector electrode connected to a third conductive ground bus.
a standby power enabled circuit connected to a conductive bus of the transistor and having a Schottky diode formed between a collector region and a base region of one of the pair of transistors.
この発明の前述の特徴及び発明自体は、添付の図面につ
いて行われた次の詳細な諌明から一層よく理解されるで
あろう。The foregoing features of the invention, as well as the invention itself, will be better understood from the following detailed study taken in conjunction with the accompanying drawings.
さて第1図を見ると、通常のモノリシック集積回路製造
技術を用いて単一結晶半導体基板12、ここではP形伝
導性シリコンに形成されたプログラム可能な読取り専用
記憶装置(FROM)10が示されている。Turning now to FIG. 1, there is shown a programmable read-only memory (FROM) 10 formed in a single crystal semiconductor substrate 12, here P-type conductive silicon, using conventional monolithic integrated circuit fabrication techniques. ing.
このFROMl 0には、説明されるはずの方法で、5
12の4ビツト・ディジタル語として構成された204
8ビツトの情報を記憶するように構成された記憶素子配
列(アレイ)14、アドレス源(図示しない)から入力
パッドA□−A8に供給された2進信号に従って前記の
配列14をアドレスするためのアドレス部分16.51
2の4ビツト・ディジタル語の選択されたものを説明さ
れるはずの方法で出力バッファ20a〜20dを通して
出力パッド01〜04に結合することを可能にするため
のROM出力使用可能部分18、説明されるはずの方法
で使用可能パッドEに供給されたプログラム使用可能信
号に応答して情報のビットを記憶素子配列14に記憶す
ることを可能にするためのROMプログラム使用可能部
分22、説明されるはずの方法で+5ボルト電源(図示
しない)からの電力を待機すなわちチップ使用可能信号
源(図示しない)によって供給された待機すなわちチッ
プ使用可能信号に応答してアドレス部分16に結合して
パッドEを使用可能にすることを可能にするための電源
スイツチ使用可能部分24、+VCCパッドを経て+5
ボルト電源(図示しない)の相対的に正の電位に結合す
るように構成された+VOO母線26、及びパッドGN
Dを経て+5ボルト電源(図示しない)の相対的に負の
(すなわち、接地)電位に結合するように構成された接
地母線28がある。This FROMl 0 contains 5
204 structured as twelve 4-bit digital words
A storage element array 14 configured to store 8 bits of information, for addressing said array 14 according to binary signals applied to input pads A□-A8 from an address source (not shown). address part 16.51
ROM output enable portion 18 for enabling a selection of two 4-bit digital words to be coupled to output pads 01-04 through output buffers 20a-20d in the manner to be described. ROM program-enable portion 22 for enabling bits of information to be stored in storage element array 14 in response to a program-enable signal applied to enable pad E in a manner to be described. Pad E is coupled to address portion 16 in response to a standby or chip-enable signal provided by a standby or chip-enable signal source (not shown) in the manner of a +5 volt power supply (not shown). Power switch enable part 24, +5 via +VCC pad to enable
+VOO bus 26 configured to couple to a relatively positive potential of a volt power supply (not shown), and pad GN.
There is a ground bus 28 configured to couple to the relatively negative (i.e., ground) potential of a +5 volt power supply (not shown) via D.
アドレス部分16には、Xアドレス反転部分30、X解
読部分32、Yアドレス反転部分34、及びYマルチプ
レクサ・解読部分36があり、これらの詳細は第2図A
に示されている。The address section 16 includes an X address inversion section 30, an X decoding section 32, a Y address inversion section 34, and a Y multiplexer/decoding section 36, details of which are shown in FIG.
is shown.
まずXアドレス反転部分30について述べると、この部
分には複数個の(ここでは5個の)同一のXアドレス反
転器38a−38eが含まれていて、これらの反転器は
図示したようにそれぞれ対応する入力パッドA4〜A8
の一つに接続されている。First, regarding the X-address inverting section 30, this section includes a plurality (in this case, five) of the same X-address inverters 38a-38e, and these inverters correspond to each other as shown. Input pads A4 to A8
connected to one of the
そのようなXアドレス反転器の代表例、例えばXアドレ
ス反転器38eは、P−N−Pトランジスタ40を含む
ものとして図示されており、それのベース電極40bは
入力パッドA8に接続され、それのエミッタ電極40e
は抵抗42を通して+VOO母線26に接続されかつそ
れのコレクタ電極40cは接地母線28に接続されてい
る。A representative example of such an X-address inverter, e.g. Emitter electrode 40e
is connected to the +VOO bus 26 through a resistor 42, and its collector electrode 40c is connected to the ground bus 28.
基板12におけるそのようなP−N−Pl−ランジスタ
40の形成は第3図に示されている。The formation of such a P-N-Pl transistor 40 in substrate 12 is shown in FIG.
そのようなトランジスタ40は、図示したようにN形伝
梼性エピタキシャル層44中に拡散されたP十形伝導性
領域42によって基板12に形成された他の能動装置か
ら電気的に隔離されている。Such a transistor 40 is electrically isolated from other active devices formed in substrate 12 by a P-type conductive region 42 diffused into an N-type conductive epitaxial layer 44 as shown. .
N十形伝導性領域46がエピタキシャル層44中に拡散
されて図示したようにトランジスタ40のベース接触領
域を形成し、又P形伝導性領域48が図示したようにエ
ピタキシャル層44中に拡散されてトランジスタ40の
エミッタ領域を形成している。An N-type conductive region 46 is diffused into the epitaxial layer 44 as shown to form the base contact region of the transistor 40, and a P-type conductive region 48 is diffused into the epitaxial layer 44 as shown. It forms the emitter region of the transistor 40.
通常のモノシリツク集積回路製造方法により、図示した
ように、ベース接触領域46とオーム接触をして酸化物
層49上にベース電極40bが形成され、エミッタ領域
48とオーム接触をしてエミッタ電極40eが形成され
、かつP十形伝導性隔離領域42とオーム接触してコレ
クタ電極40cが形成されている。By conventional monolithic integrated circuit fabrication methods, a base electrode 40b is formed on oxide layer 49 in ohmic contact with base contact region 46 and an emitter electrode 40e is formed in ohmic contact with emitter region 48, as shown. and is in ohmic contact with the P-shaped conductive isolation region 42 to form a collector electrode 40c.
P形伝導性基板12はそれゆえトランジスタ40に対し
てコレクタ領域を与え、コレクタ電極40cは接地母線
28(第2図A)に接続されていてこの接地母線28が
P十形伝導性隔離層42を経てトランジスタ40のコレ
クタ領域(すなわち、基板12)に接続されるのを可能
にしている。P-type conductive substrate 12 therefore provides a collector area for transistor 40, with collector electrode 40c connected to a ground bus 28 (FIG. 2A) which in turn provides a P-type conductive isolation layer 42. to the collector region of transistor 40 (ie, substrate 12).
再び第2図Aに示したXアドレス反転器38eについて
述べると、トランジスタ40のエミッタ電極40eは、
ここではショットキーバリヤ・ダイオード・クランプと
ともに形成されているNP−N複式マルチエミッタ・ト
ランジスタ48のベース電極にも接続されている。Referring again to the X address inverter 38e shown in FIG. 2A, the emitter electrode 40e of the transistor 40 is
It is also connected to the base electrode of an NP-N dual multi-emitter transistor 48, here formed with a Schottky barrier diode clamp.
トランジスタ48のコレクタ電極は図示したように抵抗
43を通して+VOO母線26に接続されている。The collector electrode of transistor 48 is connected to +VOO bus 26 through resistor 43 as shown.
トランジスタ48の一つのエミッタ電極は図示したよう
に端−t!54においてトランジスタ52のコレクタ電
極に接続され、端−F54は抵抗45を通して+VCO
母線26に接続されかつまた線A8′に接続されている
。One emitter electrode of transistor 48 is connected to end -t! as shown. 54 is connected to the collector electrode of the transistor 52, and the terminal -F54 is connected to +VCO through the resistor 45.
It is connected to bus bar 26 and also to line A8'.
トランジスタ48の第2のエミッタはトランジスタ52
のベース電極に接続されかつまた抵抗47を通して転換
接地母線56に接続されている。The second emitter of transistor 48 is transistor 52
and is also connected to the convertible ground bus 56 through a resistor 47.
トランジスタ52のエミッタ電極は図示したように転換
接地母線56にも接続されている。The emitter electrode of transistor 52 is also connected to a commutative ground bus 56 as shown.
ここで注記しておくが、第1図において、アドレス部分
16に設けられた転換接地母線56はPROM10が使
用可能様式におかれたときには電源スイツチ使用可能部
分24によって接地母線28に接続されるようになり又
FROMI Oが待機様式におかれたときには電源スイ
ツチ使用可能部分24によって接地母線28から切り離
されるもので、そのような様式の一つは説明されるはず
の方法でパッドEに加えられた待機すなわちチップ使用
可能信号に従って選択される。Note that in FIG. 1, the convertible ground bus 56 provided in the address section 16 is connected to the ground bus 28 by the power switch enable section 24 when the PROM 10 is placed in the enable configuration. and when FROMI O is placed in standby mode it is disconnected from the ground bus 28 by the power switch enable portion 24, one such mode being added to pad E in the manner to be described. Selected according to the standby or chip available signal.
しかしながら、ここでは、転換接地母線56が接地母線
28に接続される(すなわち、FROMIOが使用可能
にされる)と、FROMloが+5ボルト電源(図示し
ない)に接続されて、線A8′に発生した信号は入力パ
ッドA8における信号の反転したものであると言えば十
分である。However, here, when the convertible ground bus 56 is connected to the ground bus 28 (i.e., FROMIO is enabled), FROMlo is connected to a +5 volt power supply (not shown) and a voltage applied to line A8' is connected to the +5 volt power supply (not shown). Suffice it to say that the signal is the inverse of the signal at input pad A8.
そのようになる理由は、(1)入力パッドA8における
信号が高い(すなわち、論理的1である)と、トランジ
スタ40がオフになってトランジスタ48及び52がオ
ンになり、それにより端−F54が転換母線56に、従
って接地電位に接続されて線A8′に低(すなわち、論
理的O)信号が発生し、又(2)入力パッドA8におけ
る信号が低いと、トランジスタ40がオンになり、トラ
ンジスタ48及び52がオフになって、それにより端−
i!54が母線56から切り離されて線A8′に高信号
が発生するからである。The reasons for this are: (1) When the signal at input pad A8 is high (i.e., a logical 1), transistor 40 is turned off and transistors 48 and 52 are turned on, thereby causing terminal -F54 to A low (i.e., logical O) signal is generated on line A8' connected to transfer bus 56 and thus to ground potential, and (2) a low signal at input pad A8 turns on transistor 40, causing transistor 48 and 52 are turned off, thereby causing the end-
i! 54 is disconnected from the bus bar 56 and a high signal is generated on line A8'.
注記しておくが、FROMが待機様式にあって転換接地
母線56が接地母線28から切り離されるとトランジス
タ48,52が事実上非連通様式になるので抵抗43,
45,47にはほとんど電力損失が生じない。Note that when FROM is in standby mode and convertible ground bus 56 is disconnected from ground bus 28, resistors 43 and 52 are effectively in a non-communicating mode,
45 and 47, almost no power loss occurs.
トランジスタ48のコレクタ電極は図示したように抵抗
57を通してトランジスタ50のベース電極に接続され
ている。The collector electrode of transistor 48 is connected to the base electrode of transistor 50 through a resistor 57 as shown.
トランジスタ50のコレクタ電極は図示したようにトラ
ンジスタ60のベース電極に接続されかつ抵抗58を通
じて+vcc母線26に接続されている。The collector electrode of transistor 50 is connected to the base electrode of transistor 60 as shown and to the +vcc bus 26 through resistor 58.
トランジスタ50のエミッタ電極の一つはトランジスタ
60のエミッタ電極に接続されかつ端子64におい、て
トランジスタ62のコレクタ電極に接続されている。One of the emitter electrodes of transistor 50 is connected to the emitter electrode of transistor 60 and to the collector electrode of transistor 62 at terminal 64.
トランジスタ50の第2のエミッタ電極は図示したよう
にトランジスタ62のベース電極に接続されかつ抵抗6
6を通して転換接地母線56に接続されている。A second emitter electrode of transistor 50 is connected to the base electrode of transistor 62 and connected to resistor 6 as shown.
6 to a convertible ground bus 56.
トランジスタ62のエミッタ電極は転換接地母線56に
接続されている。The emitter electrode of transistor 62 is connected to convertible ground bus 56 .
線A8′は端一764に接続されているので、転換接地
母、i=j、! 56が電源スイツチ使用可能部分24
(第1図)によって接地母線28に接続されると、線A
8′における信号は入力パッドA8における信号そのも
のとなり、トランジスタ50のベース電極における信号
に応答するトランジスタ50及び62の動作はトランジ
スタ48のベース電極における信号に応答するトランジ
スタ48及び52の動作と同等である。Since line A8' is connected to end 764, it is connected to a switching ground mother, i=j,! 56 is the part 24 where the power switch can be used
(FIG. 1) to the ground bus 28, the line A
The signal at 8' becomes the very signal at input pad A8, and the operation of transistors 50 and 62 in response to a signal at the base electrode of transistor 50 is equivalent to the operation of transistors 48 and 52 in response to a signal at the base electrode of transistor 48. .
FROMIOが待機様式にある、すなわち転換接地母線
56が接地母線28から切り離されているときには、ト
ランジスタ50゜60及び62は事実上非導通であるの
で抵抗57゜58及び66においてはほとんど電力が消
費されないことに注意するべきである。When FROMIO is in standby mode, ie, when convertible ground bus 56 is disconnected from ground bus 28, little power is dissipated in resistors 57, 58, and 66 because transistors 50, 60, and 62 are effectively non-conducting. You should pay attention to this.
さてYアドレス反転部分34について述べると、この部
分は複数個、ここでは4個、の同一のYアドレス反転器
70a〜70dを有するものとして示されており、その
反転器70a〜70dは図示したようにそれぞれ人力パ
ッドA。Now, referring to the Y address inverting section 34, this section is shown as having a plurality, here four, of the same Y address inverters 70a-70d, and the inverters 70a-70d are as shown in the figure. Each has a human power pad A.
−A3の対応するものに接続されている。- connected to its A3 counterpart.
それらの反転器70a〜70dの代表例、ここでは反転
器70dは、ここではトランジスタ40の形成(第3図
)と同様の方法で形成されたP−N=Pトランジスタ7
2を含むものとして示されている。A representative example of these inverters 70a-70d, here inverter 70d, is a P-N=P transistor 7 formed in a manner similar to the formation of transistor 40 (FIG. 3).
2.
このトランジスタ72はそのベース電極が図示したよう
に入力パッドA3に接続されている。This transistor 72 has its base electrode connected to input pad A3 as shown.
トランジスタ72のコレクタ電極は図示したようにトラ
ンジスタ14のベース電極に接続されかつまた抵抗(符
号を付けない)を通じて+VOO母線26に接続されて
いる。The collector electrode of transistor 72 is connected to the base electrode of transistor 14 as shown and is also connected to +VOO bus 26 through a resistor (not numbered).
トランジスタ74は図示したようにそのコレクタ電極が
トランジスタ76のベース電極に又抵抗73を通して+
■cc母線26に接続されかつそのエミッタ電極がトラ
ンジスタ78のベース電極に又抵抗80を通して転換接
地母線56に接続されている。The collector electrode of the transistor 74 is connected to the base electrode of the transistor 76 through the resistor 73 as shown in the figure.
(2) It is connected to the cc bus 26, and its emitter electrode is connected to the base electrode of the transistor 78 and to the convertible ground bus 56 through a resistor 80.
トランジスタγ6は図示したようにそのコレクタ電極が
+VOO母線26に接続されかつそのエミッタ電極がシ
ョットキーダイオード86を通じて端一784に接続さ
れている。Transistor γ6 has its collector electrode connected to +VOO bus 26 and its emitter electrode connected to end 784 through Schottky diode 86, as shown.
トランジスタ78は図示したようにそのコレクタ電極が
端子84に接続されかつそのエミッタ電極が転換スイッ
チ母線56に接続されている。Transistor 78 has its collector electrode connected to terminal 84 and its emitter electrode connected to transfer switch bus 56 as shown.
線A3′は端イ84に接続されている。Line A3' is connected to end I84.
FROMl 0が使用可能様式にある、すなわち転換接
地母線56が接地母線28に接続されているときには、
線A3′における信号は入力パッドA3における信号の
反転したものであるが、その理由は、(1)入力パッド
A3における信号が高いとトランジスタγ2がオフにな
りトランジスタ74及び18がオンになって、端−F8
4が接地に接続され、又(2)入力パッドA3における
信号が低いとトランジスタ72がオンになってトランジ
スタ74及び78をオフにして端子84を高レベルにお
くためである。When FROMl 0 is in the enabled mode, ie, the convertible ground bus 56 is connected to the ground bus 28,
The signal on line A3' is the inverse of the signal on input pad A3 because (1) the high signal on input pad A3 turns off transistor γ2 and turns on transistors 74 and 18; End - F8
4 is connected to ground, and (2) a low signal at input pad A3 turns on transistor 72, turning off transistors 74 and 78 and leaving terminal 84 high.
端一784における信号は図示したようにショットキー
ダイオード90及び抵抗92を通してトランジスタ74
′のベース電極に供給される。The signal at end 784 is passed through Schottky diode 90 and resistor 92 to transistor 74 as shown.
' is supplied to the base electrode of '.
(このダイオード90と抵抗92との共通接続部は図示
したように抵抗94を通して+VOO母線26に接続さ
れている。(The common connection between the diode 90 and the resistor 92 is connected to the +VOO bus 26 through a resistor 94 as shown.
)トランジスタ74’ 、76’及び78′、抵抗8
0’、73’、並びにダイオード86′はそれぞれ前述
のトランジスタ74,76及び78、抵抗80,73、
並びにダイオード86のように接続されている。) transistors 74', 76' and 78', resistor 8
0', 73', and diode 86' are the aforementioned transistors 74, 76, and 78, resistors 80, 73, and
and a diode 86.
従って、FROMl 0が使用可能様式にある(すなわ
ち、転換接地母線56が接地母線28に接続されている
)ときには線A3′における信号(すなわち、トランジ
スタ78′のコレクタ電極における信号)は入力パッド
A3における信号そのものとなる。Therefore, when FROMl 0 is in the enabled mode (i.e., convertible ground bus 56 is connected to ground bus 28), the signal at line A3' (i.e., the signal at the collector electrode of transistor 78') is at input pad A3. It becomes the signal itself.
同様に、FROMIOが待機様式にあるときには、抵抗
73′及び80ノにおいてはほとんど電力が消費されな
い。Similarly, little power is dissipated in resistors 73' and 80 when FROMIO is in standby mode.
さてX解読部分32を見ると、この部分32は複数個、
ここでは32個の同一のナンド論理ゲート100o〜1
003□を含むものとして示されている。Now, looking at the X decoding part 32, this part 32 has multiple parts,
Here, 32 identical NAND logic gates 100o-1
It is shown as containing 003□.
このような論理ゲートの代表例、ここでは論理ゲート1
00oは複式エミッタ入力トランジスタ102を有して
いてこれのベース電極が抵抗104を通して+■cc母
線26に接続されているものとして示されている。A typical example of such a logic gate, here logic gate 1
00o is shown as having a dual emitter input transistor 102 whose base electrode is connected to the +cc bus 26 through a resistor 104.
ここではトランジスタ102は5個のエミッタ電極を有
していて、そのそれぞれは相互接続部分105を通して
Xアドレス反転器38a〜38eの対応するものに接続
されている。Here, transistor 102 has five emitter electrodes, each of which is connected through interconnect portion 105 to a corresponding one of X address inverters 38a-38e.
相互接続部分105は線A4’ I A5’ FA6ノ
I A7’及びA8′をトランジスタ102の5個のエ
ミッタ電極の対応するものに接続するための複数個のコ
ネクタ(図示しない)を有している。Interconnection portion 105 has a plurality of connectors (not shown) for connecting lines A4', A5', FA6, A7' and A8' to corresponding ones of the five emitter electrodes of transistor 102. .
トランジスタ102のコレクタ電極は図示したように抵
抗110を通してトランジスタ108のベース電極に接
続されている。The collector electrode of transistor 102 is connected to the base electrode of transistor 108 through a resistor 110 as shown.
トランジスタ108は図示したようにそのコレクタ電極
が抵抗112を通して+Vcc母線26に又ショットキ
ーダイオード116を通してトランジスタ114のコレ
クタ電極に接続されている。Transistor 108 has its collector electrode connected through resistor 112 to +Vcc bus 26 and through a Schottky diode 116 to the collector electrode of transistor 114, as shown.
トランジスタ108のエミッタ電極は図示したように抵
抗117を通して転換接地母線56に又トランジスタ1
14のベース電極に接続されている。The emitter electrode of transistor 108 is connected to convertible ground bus 56 through resistor 117 and to transistor 1 as shown.
14 base electrodes.
トランジスタ114のエミッタ電極は転換接地母線56
に接続されている。The emitter electrode of transistor 114 is connected to convertible ground bus 56.
It is connected to the.
トランジスタ114のコレクタ電極は図示したように+
VCC母線26に接続されている。The collector electrode of transistor 114 is connected to + as shown in the figure.
It is connected to the VCC bus 26.
FROMloが使用可能にされる(すなわち、転換接地
母線56が接地母線28に接続される)とトランジスタ
114は線A4’ I A5’ 5 、A45’ )A
7ノ及びA8′のそれぞれにおける高信号に応答してオ
ンになり又それらの線のいずれか一つにおける信号が低
くなるとオフになる。When FROMlo is enabled (i.e., convertible ground bus 56 is connected to ground bus 28), transistor 114 connects lines A4'I A5'5, A45')A
It turns on in response to a high signal on each of lines A7 and A8' and turns off when the signal on any one of those lines goes low.
トランジスタ114のコレクタ電極における信号はR8
に結合される。The signal at the collector electrode of transistor 114 is R8
is combined with
それゆえ、線R6はそれぞれ入力パッドA4〜A8にお
ける2進語oooooに応答して低レベルになり、又そ
れらの入力パッドにおけるその他の2進信号に対しては
高レベルになる。Therefore, line R6 goes low in response to the binary word oooooo on input pads A4-A8, respectively, and goes high for other binary signals on those input pads.
同様に、FROMloが使用可能にされると、相互接続
部分105によって与えられた接続(図示しない)のた
めに、ゲート100oないし10031はそれぞれ次の
表に従って入力パッドA4〜A8における2進信号に応
答して線R6−R31に高信号を発生する。Similarly, when FROMlo is enabled, due to the connections (not shown) provided by interconnect portion 105, gates 100o through 10031 are responsive to binary signals at input pads A4 through A8, respectively, according to the following table: generates a high signal on line R6-R31.
線R8−R30、すなわちゲート100o〜10031
の出力側に設けられた線はそれぞれ記憶素子配列14に
接続されている。Line R8-R30, i.e. gates 100o-10031
The lines provided on the output side of are each connected to a storage element array 14.
FROMloが使用禁止様式にあるときにはトランジス
タ102108及び114が非導通状態にあるので抵抗
104.110,112及び117においてはほとんど
電力が消費されない。Little power is dissipated in resistors 104, 110, 112, and 117 because transistors 102, 108 and 114 are nonconductive when FROMlo is in the disabled mode.
Yマルチプレクサ・解読部分36の詳細を述べる前に注
記しておくが、記憶素子配列14には図示したように4
個の同一のダイオードマトリクス400a〜400dが
ある。Before describing the details of the Y multiplexer/decode section 36, it should be noted that the storage element array 14 has four
There are identical diode matrices 400a-400d.
そのようなダイオードマトリクス4008〜400dの
代表例、ここではダイオードマトリクス400cが詳細
に示されていて、これには図示したようにここではそれ
ぞれ線R8−R31に接続された32行の導線と16列
の導線C6−015とからなる行及び列の導線の方形マ
トリクスが含まれている。A representative example of such diode matrices 4008-400d, here diode matrix 400c, is shown in detail, including 32 rows of conductors and 16 columns connected here to lines R8-R31, respectively, as shown. A rectangular matrix of row and column conductors consisting of conductors C6-015 is included.
行及び列の導線は、プログラミングに先立って、例えば
アメリカ国テキサス州ダラス、テキサス・インスツルメ
ンツ社の「設計技術者のための集積回路カタログ」と題
する書物(the book entitled″Th
e Integrated C1rcuit Cata
logueFor Design Engineers
”、TexasInstruments 、 Inco
rporated 、Dal las 。The row and column conductors may be arranged prior to programming, for example, in the book entitled "Integrated Circuit Catalog for Design Engineers," published by Texas Instruments, Dallas, Texas, USA.
e Integrated C1rcuit Cata
logueFor Design Engineers
”, Texas Instruments, Inco
rporated, Dal las.
Texas)の9〜366ページに記載されたように通
常溶断性のリンク及びダイオードによって相互接続され
ている。They are typically interconnected by fusible links and diodes, as described on pages 9-366 of ``Texas''.
記憶素子配列14のプログラミング及び読取りは後に述
べるが、ここでは、この配列14は溶断性リンクの選択
されたものに電流を流してそのリンクの回路を開くこと
によってプログラムされかつデータは選択された溶断性
リンクの回路が開いているか否かを決定することによっ
てその配列から読み取られるということを言うにとどめ
ておく。Programming and reading of the storage element array 14 will be described below, where the array 14 is programmed by passing current through a selected one of the fusible links to open the circuit of that link and the data is stored in the selected fusible link. Suffice it to say that sex link circuits are read from the sequence by determining whether they are open or not.
さてYマルチプレクサ・解読部分36を見ると、この部
分36には図示されたように複数個、ここでは4個、の
同一のダイオード解読部分402a〜402dが含まれ
ている。Turning now to the Y multiplexer/decode section 36, this section 36 includes a plurality, here four, of identical diode decode sections 402a-402d as shown.
これらの解読部分402a〜402dの代表例、例えば
解読部分402cは、+■cc母線26に及び相互接続
構成部406を経て線A(3t A61 A ’12
A ’1 + A会、A6゜A’、、A、’における信
号に結合されたダイオード解読器404を含むものとし
て示されている。A representative example of these decoding portions 402a-402d, such as decoding portion 402c, extends from +■cc bus 26 to line A (3t A61 A'12) via interconnect component 406.
It is shown as including a diode decoder 404 coupled to the signals at A'1+A, A6°A', , A,'.
このダイオード解読器404には図示したようtこ16
列の導線4088〜408.5と8行の導線410o〜
410□がある。This diode decoder 404 has a t16 as shown in the figure.
Column conductors 4088 to 408.5 and 8th row conductors 410o to
There are 410□.
導線410o〜410□は次の表に従って相互接続構成
部406により線Aる〜A′3及びA6〜A′lの対応
するものに接続されている。Conductors 410o-410□ are connected to corresponding ones of lines A-A'3 and A6-A'l by interconnect arrangement 406 according to the following table.
導線408o〜40815は図示したようにそれぞれト
ランジスタ412o〜412□5のベースを極に接続さ
れている。Conductive wires 408o-40815 are connected to the bases of transistors 412o-412□5, respectively, as shown.
トランジスタ412o〜41215のエミッタ電極は図
示したようにそれぞれ線C8〜C15に接続されている
。The emitter electrodes of transistors 412o-41215 are connected to lines C8-C15, respectively, as shown.
トランジスタ412o〜412□、のコレクタ電極は図
示したように線416cに共通に接続されている。The collector electrodes of transistors 412o to 412□ are commonly connected to line 416c as shown.
線416cは出力バッファ20c(第1図)に供給され
、出力バッファ20cは出力パッド03(第1図)に接
続されている。Line 416c is fed to output buffer 20c (FIG. 1), which is connected to output pad 03 (FIG. 1).
出力バッファ20cの構成及び動作は後に説明するが、
ここでは、FROMloがプログラミングのために使用
可能にされると、出力パッド03に接続された+20ボ
ルト電源(図示しない)から線416cを経てトランジ
スタ412o〜412.、の選択されたもののエミッタ
電極にそして次にダイオードマトリクス400cにおけ
る16列の導線C8−015の選択されたものに電流が
流れるということを言うにとどめておく。The configuration and operation of the output buffer 20c will be explained later, but
Here, when FROMlo is enabled for programming, transistors 412o-412. , and then through selected ones of the 16 columns of conductors C8-015 in diode matrix 400c.
トランジスタ412o〜412.5(7)特定のものが
線A6〜A6及びA6〜A′lにおける信号に従って選
択される。The particular transistors 412o-412.5(7) are selected according to the signals on lines A6-A6 and A6-A'l.
次の表は線A6〜A1及びA4〜ASにおける信号とト
ランジスタ4126〜412.5の選択されたものとの
関係を記載したものである。The following table describes the relationship between the signals on lines A6-A1 and A4-AS and selected transistors 4126-412.5.
電流はトランジスタ412o〜412.5の選択された
ものを通り従ってマトリクス400cの16列の連線C
8−015の選択されたものを通ってそのような選択さ
れた行と列との間に接続された溶断性リンクを経て行R
6−R31の選択されたものに流れる。The current passes through selected ones of transistors 412o-412.5 and thus connects C in the 16th column of matrix 400c.
Row R via a fusible link connected between such selected row and column through a selected one of 8-015
6-Flows to the selected one of R31.
この電流はそのような溶断性リンクの回路を開くのに十
分な大きさのものである。This current is of sufficient magnitude to open the circuit of such a fusible link.
32行の一つがゲート100o〜10031の選択され
たものにおけるトランジスタ114をオンにすることに
よって選択される。One of the 32 rows is selected by turning on transistor 114 in a selected one of gates 100o-10031.
例えば、線R8に接続された行が選択されるべき場合に
はパッドA4〜A8における入力信号はoooooであ
る。For example, if the row connected to line R8 is to be selected, the input signal at pads A4-A8 is ooooo.
従って、線A4〜A6における信号は高く、トランジス
タ102はオフになりかつトランジスタ114はオンに
なる(FROMIOは使用可能にされている、すなわち
転換接地母線56は接地母線28に接続されていると仮
定する)。Therefore, the signal on lines A4-A6 is high, transistor 102 is off and transistor 114 is on (assuming FROMIO is enabled, i.e., convertible ground bus 56 is connected to ground bus 28). do).
それゆえ、溶断性リンクFが開かれるべきである場合に
は、パッドA。Therefore, if fusible link F is to be opened, pad A.
−A8における信号はそれぞれ111100000であ
って、電流は出力パッド03に接続された+20ボルト
電源(図示しない)から出力バッファ20cに、次に溶
断性リンクFヲ通って線CI5に、次に線R6、トラン
ジスタ114、転換接地母線56、電源スイツチ使用可
能部分24(第1図)を通って接地母線28にそして最
後に+20ボルト電源の接地端子(図示しない)に流れ
る。The signals at -A8 are each 111100000 and the current flows from the +20 volt power supply (not shown) connected to output pad 03 to output buffer 20c, then through fusible link F to line CI5, then to line R6. , through transistor 114, convertible ground bus 56, power switch enable portion 24 (FIG. 1), to ground bus 28, and finally to the ground terminal (not shown) of the +20 volt power supply.
このようにして出力バッファ4023〜402dはそれ
ぞれマトリクス400a〜400dにおける溶断性リン
クに対して「列アドレス」を与える。In this manner, output buffers 4023-402d provide "column addresses" for the fusible links in matrices 400a-400d, respectively.
すべてのマトリクス400a〜400dにおける溶断性
リンクの「行」アドレスは線R6−R31が図示したよ
うにすべてのマトリクス4002〜400dに供給され
ているのでそれらの線における信号によって選択される
。The "row" addresses of the fusible links in all matrices 400a-400d are selected by signals on lines R6-R31 as they feed into all matrices 4002-400d as shown.
さて第2図Bを見ると、出力バッファ20a〜20dの
代表例、例えば出力バッファ20cがプログラミング部
分502及び読取り部分504を含むものとして示され
ている。Turning now to FIG. 2B, a representative example of output buffers 20a-20d, such as output buffer 20c, is shown as including a programming portion 502 and a reading portion 504.
プログラミング部分502には、図示したよう(乙一対
のダーリントン接続によるトランジスタ506,508
が含まれていて、トランジスタ508のエミッタ電極が
線416cに接続され、トランジスタ506゜508の
コレクタ電極が出力パッド03に接続され、トランジス
タ506のエミッタ電極がダイオード510に接続され
かつトランジスタ508彷ベース電極に接続されている
。The programming portion 502 includes transistors 506 and 508 connected by a pair of Darlingtons, as shown in the figure.
, the emitter electrode of transistor 508 is connected to line 416c, the collector electrode of transistor 506 and 508 is connected to output pad 03, the emitter electrode of transistor 506 is connected to diode 510, and the base electrode of transistor 508 is connected to line 416c. It is connected to the.
トランジスタ506のベース電極は図示したように抵抗
514及びダイオード516を通して線512によりF
ROMプログラム使用可能部分22の出力に接続されて
いる。The base electrode of transistor 506 is connected to F by line 512 through resistor 514 and diode 516 as shown.
It is connected to the output of the ROM program usable portion 22.
ダイオード516,510のカソードは図示したように
線512に一緒に接続されている。The cathodes of diodes 516 and 510 are connected together to line 512 as shown.
読取り部分504には図示したようにトランジスタ52
2があって、そのエミッタ電極が接地母線28に接続さ
れ、そのコレクタ電極がショットキーダイオード524
及び出力パッド03に接続され、そしてそのベース電極
が抵抗526を通して接地母線28に、抵抗530を通
してトランジスタ528のベース電極に接続されかつま
たトランジスタ528のエミッタ電極に接続されている
。The read portion 504 includes a transistor 52 as shown.
2, its emitter electrode is connected to the ground bus 28, and its collector electrode is connected to a Schottky diode 524.
and output pad 03, and its base electrode is connected to ground bus 28 through resistor 526, to the base electrode of transistor 528 through resistor 530, and to the emitter electrode of transistor 528.
トランジスタ528のコレクタ電極は図示したように抵
抗532を通して+■cc母線26に接続され、又トラ
ンジスタ534のベース電極及びショットキーダイオー
ド536のアノードに接続されている。The collector electrode of transistor 528 is connected to +cc bus 26 through resistor 532 as shown, and also connected to the base electrode of transistor 534 and the anode of Schottky diode 536.
トランジスタ534のコレクタ電極は図示したように抵
抗538を通して+vcc母線26に接続されている。The collector electrode of transistor 534 is connected to +vcc bus 26 through resistor 538 as shown.
トランジスタ534のエミッタ電極は図示したようにシ
ョットキーダイオード524のアノードに接続されてい
る。The emitter electrode of transistor 534 is connected to the anode of Schottky diode 524 as shown.
トランジスタ528のベース電極は図示したようにダイ
オード542及び抵抗541を通してトランジスタ54
0のエミッタ電極に接続されている。The base electrode of transistor 528 is connected to transistor 54 through diode 542 and resistor 541 as shown.
0 emitter electrode.
トランジスタ540のコレクタ電極は図示したように抵
抗544を通して+VOO母線26に接続されている。The collector electrode of transistor 540 is connected to +VOO bus 26 through resistor 544 as shown.
トランジスタ540のベース電極は図示したように抵抗
546を通して+Vcc母線26に、ショットキーダイ
オード548及びダイオード550を通してダイオード
536のカソードに、かつショットキーダイオード54
2を通して線416cに接続されている。The base electrode of transistor 540 is connected to +Vcc bus 26 through resistor 546 as shown, to the cathode of diode 536 through Schottky diode 548 and diode 550, and to Schottky diode 54.
2 to the line 416c.
ROMプログラム使用可能部分22及び電源スイツチ使
用可能部分24の詳細は後に説明する。Details of the ROM program usable portion 22 and the power switch usable portion 24 will be explained later.
ここでは、プログラム使用可能信号がパッドEに加えら
れると、線512が、ここでは+21ボルトの、電圧を
発生して接地母線28は電源スイツチ使用可能部分24
によって転換接地母線56に接続されるようになるとい
うことを言うにとどめておく。Here, when a program enable signal is applied to pad E, line 512 develops a voltage, here +21 volts, and ground bus 28 connects power switch enable portion 24.
Suffice it to say that it is connected to the convertible ground bus 56 by .
このような+21ボルトの電圧に応答してトランジスタ
506.508にベース電流が供給されて、出力パッド
03に接続された正電位の電源(図示しない)からそれ
らのトランジスタ506,508を通って線416cに
そして接地母線28(すなわち、電源の負電位)に電流
が流れて前述のようにマトリクス400cにおける選択
された溶断性リングを開放する。In response to this +21 volt voltage, base current is provided to transistors 506 and 508 through line 416c from a positive potential source (not shown) connected to output pad 03. A current then flows through ground bus 28 (ie, the negative potential of the power supply) to open the selected fusible ring in matrix 400c as described above.
このプログラミング動作中ROM出力使用可能部分18
は線520に低電圧を発生するが、その理由は後で明ら
かになる。During this programming operation, ROM output usable portion 18
produces a low voltage on line 520 for reasons that will become clear later.
線520は図示したようにダイオード550のカソード
及びショットキーダイオード536のカソードに接続さ
れている。Line 520 is connected to the cathode of diode 550 and the cathode of Schottky diode 536 as shown.
それゆえ、プログラミング動作中の線520における低
電圧はダイオード548.550に順方向のバイアスを
与えてトランジスタ540をオフにしかつダイオード5
42に逆バイアスを与える。Therefore, a low voltage on line 520 during a programming operation forward biases diodes 548, 550 to turn off transistor 540 and
42 is given a reverse bias.
更に、トランジスタ540がオフにされるので、トラン
ジスタ528及び522がオフになって、出力パッド0
3に接続された正極性の電源(図示しない)がトランジ
スタ522を通して接地母線28に接続されるのが阻止
される。Additionally, since transistor 540 is turned off, transistors 528 and 522 are turned off and output pad 0
3 is prevented from being connected to ground bus 28 through transistor 522.
読取り動作が選択されると、線512は後で明ら力)に
なる理由のために開路される。When a read operation is selected, line 512 is opened for reasons that will become clear later.
従って、トランジスタ506,508においては電流が
禁止される。Therefore, current is prohibited in transistors 506 and 508.
更に、後で明らかになる理由のために、線520におけ
る信号が高くなりかつダイオード548,550及び5
36が逆バイアスを受けるようになるので、トランジス
タ540は線416cにおける信号のレベルに従って選
択的にオン又はオフになることができる。Additionally, for reasons that will become apparent later, the signal on line 520 goes high and diodes 548, 550 and 5
36 becomes reverse biased, transistor 540 can be selectively turned on or off according to the level of the signal on line 416c.
線416cにおける信号のレベルは、アドレス・パッド
A。The level of the signal on line 416c is at address pad A.
−A8における信号によって選択されたような溶断性リ
ンクが開路にされているか否かによる。- Depending on whether the fusible link, as selected by the signal at A8, is opened.
例えば、ROM10が使用可能にされている(すなわち
、転換接地母線56が接地母線28に接続されている)
と仮定すれば、選択された行の一つ(すなわち、線R8
−R31の一つ)が「オン」のトランジスタ114を経
て転換接地母線56に接続されて低電圧レベルにある。For example, ROM 10 is enabled (i.e., convertible ground bus 56 is connected to ground bus 28).
If one of the selected rows (i.e. line R8
-R31) is connected to the commutative ground bus 56 via an "on" transistor 114 at a low voltage level.
又、列のコネクタC6−015の選択されたものに電流
が流れることを可能にする。It also allows current to flow through selected ones of the column connectors C6-015.
従って、例えば、行R8が選択されかつコネクタ015
が選択されているとすれば、溶断性リンクFが回路にあ
るかないかによって、トランジスタ412.5に電流が
流れたり流れなかったりする。Thus, for example, if row R8 is selected and connector 015
is selected, current may or may not flow through transistor 412.5 depending on whether or not fusible link F is present in the circuit.
それゆえ、そのリンクFが回路にあるならば、線416
cは低レベルになり、トランジスタ540がオフ、トラ
ンジスタ528がオフ、トランジスタ52がオフになっ
て、出力パッド03に高電圧が発生する。Therefore, if that link F is in the circuit, line 416
c goes low, transistor 540 is off, transistor 528 is off, transistor 52 is off, and a high voltage is generated at output pad 03.
溶断性リンクFが回路にないならば、電流がトランジス
タ41215を通って線416cに流れず、トランジス
タ540はオン、トランジスタ528はオン、トランジ
スタ522はオンになって、出力パッド03に低信号が
発生する。If fusible link F is not in the circuit, no current will flow through transistor 41215 to line 416c, transistor 540 will be on, transistor 528 will be on, transistor 522 will be on and a low signal will be generated at output pad 03. do.
さてROMプログラム使用可能部分22を見ると、この
部分にはツェナダイオード600、ここでは6ボルトの
ツェナーダイオード、ダイオード602及び抵抗604
が含まれていて、これらがすべて図示したように使用可
能パッドEと電源スイツチ使用可能部分24の入力端7
606との間に直列に接続されている。Now if we look at the ROM programmable part 22, this part has a Zener diode 600, here a 6 volt Zener diode, a diode 602 and a resistor 604.
are included, all of which are connected to the usable pad E and the input terminal 7 of the power switch usable portion 24 as shown.
606 in series.
線512は図示したようにツェナダイオード600とダ
イオード602との間に接続されている。Line 512 is connected between Zener diode 600 and diode 602 as shown.
ROM出力使用可能部分18には(トランジスタ40(
第3図)の形成と同様の方法で形成された)複式エミッ
タ・トランジスタ607があり、このトランジスタ60
7は図示のようにベース電極が使用可能パッドEに接続
され、コレクタ電極が接地母線28に接続され、一方の
エミッタ電極が抵抗608を通して+vcc母線26に
及びショットキーダイオード612を通してトランジス
タ610のベース電極に接続され、かつ第2の工□ツタ
電極がトランジスタ610のベース電極に接続されてい
る。The ROM output usable portion 18 includes (transistor 40 (
There is a dual emitter transistor 607 (formed in a manner similar to that of FIG.
7 has a base electrode connected to the usable pad E, a collector electrode connected to the ground bus 28, and one emitter electrode connected to the +vcc bus 26 through a resistor 608 and to the base electrode of the transistor 610 through a Schottky diode 612, as shown in the figure. , and a second ivy electrode is connected to the base electrode of the transistor 610.
トランジスタ610のコレクタ電極は図示のように抵抗
613を通して+voo母線に接続され又トランジスタ
614のベース電極に接続されている。The collector electrode of transistor 610 is connected to the +voo bus through resistor 613 and to the base electrode of transistor 614, as shown.
トランジスタ614のコレクタ電極は図示のように+V
OC,母線26に接続され又トランジスタ614のエミ
ッタ電極は図示のようにショットキーダイオード618
を通してトランジスタ616のコレクタ電極にかつショ
ットキーダイオード617を通してトランジスタ619
のコレクタ電極に接続されている。The collector electrode of transistor 614 is at +V as shown.
OC, connected to the bus 26, and the emitter electrode of the transistor 614 is connected to a Schottky diode 618 as shown.
through the collector electrode of transistor 616 and through Schottky diode 617 to transistor 619.
is connected to the collector electrode of.
トランジスタ616のベース電極は図示したようにトラ
ンジスタ610のエミッタ電極に、抵抗620を通して
トランジスタ610のベース電極に、抵抗623を通し
てトランジスタ619のベース電極にかつ抵抗621を
通して接地母線28に接続されている。The base electrode of transistor 616 is connected to the emitter electrode of transistor 610, through resistor 620 to the base electrode of transistor 610, through resistor 623 to the base electrode of transistor 619, and through resistor 621 to ground bus 28, as shown.
トランジスタ619のエミッタ電極もまた接地母線28
に接続されている。The emitter electrode of transistor 619 is also connected to ground bus 28.
It is connected to the.
トランジスタ619のベース電極はショットキーダイオ
ード640を通してトランジスタ642のコレクタ電極
に接続されている。The base electrode of transistor 619 is connected to the collector electrode of transistor 642 through Schottky diode 640.
トランジスタ642のベース電極は抵抗644を通して
線512に又抵抗646を通してそのトランジスタ64
2のエミッタ電極に接続されている。The base electrode of transistor 642 is connected to line 512 through resistor 644 and to line 512 through resistor 646.
It is connected to the emitter electrode of No. 2.
トランジスタ642のエミッタ電極は接地母線28に接
続されている。The emitter electrode of transistor 642 is connected to ground bus 28 .
トランジスタ616のエミッタ電極もまた図示したよう
に接地母線28に接続されている。The emitter electrode of transistor 616 is also connected to ground bus 28 as shown.
ショットキーダイオード618はトランジスタ616の
コレクタ電極に接続されている。Schottky diode 618 is connected to the collector electrode of transistor 616.
このコレクタ電極はまた図示したように抵抗624を通
して+VCC母線26に接続されX線520に接続され
ている。This collector electrode is also connected to +VCC bus 26 through resistor 624 and to X-ray 520 as shown.
電源スイツチ使用可能部分24にはトランジスタ700
がある。A transistor 700 is provided in the power switch usable portion 24.
There is.
トランジスタ700は図示したようにそのベース電極が
並列接続の抵抗702及びショットキーダイオード70
4を通して端子606に接続され、そのコレクタ電極が
抵抗706を通して+vcc母線26に接続され又トラ
ンジスタ707のベース電極に接続させ、かつエミッタ
電極が抵抗708を通して接地母線28に接続され又ト
ランジスタ710のベースtJMに接続されている。The transistor 700 has a base electrode connected in parallel with a resistor 702 and a Schottky diode 70 as shown.
4 is connected to terminal 606 through resistor 706, its collector electrode is connected to +vcc bus 26 through resistor 706 and to the base electrode of transistor 707, and its emitter electrode is connected to ground bus 28 through resistor 708, and the base of transistor 710 tJM. It is connected to the.
トランジスタ707は図示したようにそのエミッタ電極
がトランジスタ712のベース電極に接続され又抵抗7
14を通してトランジスタ712のエミッタ電極に接続
されている。Transistor 707 has its emitter electrode connected to the base electrode of transistor 712, as shown, and resistor 707.
14 to the emitter electrode of transistor 712.
トランジスタ712はコレクタ電極が+■cc母線26
に接続されている。The collector electrode of the transistor 712 is connected to the +■cc bus line 26
It is connected to the.
トランジスタ710は図示したようにそのエミッタ電極
が接地母線28に接続されかつそのコレクタ電極が端−
f715において抵抗714及びトランジスタ712の
エミッタ電極に接続されている。Transistor 710 has its emitter electrode connected to ground bus 28 and its collector electrode connected to the ground bus 28 as shown.
It is connected to the resistor 714 and the emitter electrode of the transistor 712 at f715.
端−f−715は転換接地母線56に接続されている。End-f-715 is connected to convertible ground bus 56.
動作のさい、プログラミング中は、接地側が接地母線2
8に接続されている電源(図示しない)から使用可能パ
ッドEに+27ボルト信号が供給される。During operation, during programming, the ground side is ground bus 2.
A +27 volt signal is provided to enable pad E from a power supply (not shown) connected to 8.
この+27ボルト信号に応答してトランジスタ642が
オンになり、これによりトランジスタ619がオフにな
る。In response to this +27 volt signal, transistor 642 turns on, which turns transistor 619 off.
その結果、ツェナダイオード600、ダイオード602
、抵抗604、抵抗702を通して電流が流れてトラン
ジスタ700及びトランジスタ710をオンにするので
、(1)線512に+21ボルト信号が確立され、かつ
(2)転換接地母線56がトランジスタ710を通して
接地母線28に接続されて、FROMloが使用可能様
式におかれる。As a result, Zener diode 600, diode 602
, resistor 604, and resistor 702, turning on transistor 700 and transistor 710, so that (1) a +21 volt signal is established on line 512, and (2) convertible ground bus 56 is connected to ground bus 28 through transistor 710. FROMlo is placed in a usable format.
トランジスタ607がオフになりかつトランジスタ61
0及び616がオンになって線520が低レベルにおか
れることにも注意するべきである。Transistor 607 is turned off and transistor 61 is turned off.
It should also be noted that 0 and 616 are turned on, leaving line 520 low.
従って、線512における+21ボルト信号及び線52
0における低レベル信号は出力パッド01〜04と接地
母線28との間に接続された+20ボルト電源(図示し
ない)からの電流が出力バッファ20a〜20dのプロ
グラミング部分502を通って前述のような選択された
溶断性リンクに流れることを可能にする。Therefore, the +21 volt signal on line 512 and the +21 volt signal on line 512
A low level signal at 0 causes current from a +20 volt power supply (not shown) connected between output pads 01-04 and ground bus 28 to pass through the programming portion 502 of output buffers 20a-20d to select as previously described. Allows flow to the fusible link.
読取り動作中は使用可能パッドEに低(すなわち、+0
.3ボルト)信号が加えられてツェナダイオード600
を非導通状態にし線512を開路状態にするので、(1
)トランジスタ642がオフとなり、又(2)出力バッ
ファ20a〜20dのプログラミング部分502が使用
禁止にされる(この場合、もちろん、プログラムされた
FROMIOから読み取られた4ビット語の各ビットに
対応する論理的信号を出力パツドO8−04が発生する
のでこれらの出力パッドには電源が接続されていない。During read operations, enable pad E is low (i.e., +0
.. 3 volts) signal is applied to the Zener diode 600
Since the line 512 is made non-conductive and the line 512 is made open, (1
) transistor 642 is turned off and (2) the programming portion 502 of the output buffers 20a-20d is disabled (in this case, of course, the logic corresponding to each bit of the 4-bit word read from the programmed FROMIO Since the output pads O8-04 generate the desired signals, no power supply is connected to these output pads.
)。パッドEにおける+0.3ボルト信号によりトラン
ジスタ607がオンとなり、そしてトランジスタ610
.616及び619がオフとなって、線520が高レベ
ルにおかれる。). A +0.3 volt signal at pad E turns on transistor 607 and turns on transistor 610.
.. 616 and 619 are turned off, leaving line 520 high.
端イ606はオンのトランジスタ614及びダイオード
617のアクチブ・プルアップのために高レベルになる
。Terminal I 606 goes high due to the active pull-up of transistor 614 and diode 617 being on.
線512が開路状態にありかつ線520が高レベルにあ
るので、出力バッファ20a〜20dの読取り部分50
4は、前述のような入力パッドA。Since line 512 is open and line 520 is high, read portion 50 of output buffers 20a-20d
4 is the input pad A as described above.
〜A8における信号によってアドレスされた溶断性リン
クの状態によって決まる線416a〜416dにおける
信号に従って出力パッド01〜04に出力信号を与える
。Provides output signals to output pads 01-04 according to signals on lines 416a-416d as determined by the state of the fusible link addressed by the signal on ~A8.
注記しておくが、トランジスタ607が使用可能パッド
Eにおける低(すなわち、+0.3ボルト)信号に応答
してオンになるとトランジスタ610,616及び61
9がオフとなり、前述のようにトランジスタ614がオ
ンであるので端一7606に高信号が与えられるために
、FROMloは使用可能にされる(すなわち、転換接
地母線56は抵抗710を通して接地母線28に接続さ
せる)。Note that when transistor 607 turns on in response to a low (i.e., +0.3 volt) signal at enable pad E, transistors 610, 616, and 61
FROMlo is enabled because 9 is off and transistor 614 is on, as described above, giving a high signal to terminal 7606 (i.e., convertible ground bus 56 is connected to ground bus 28 through resistor 710). connection).
この高信号によりトランジスタ700がオンとなり、次
にトランジスタ710がオンとなってFROMIOが使
用可能にされる。This high signal turns on transistor 700, which in turn turns on transistor 710, enabling FROMIO.
FROMIOを使用禁止にする(すなわち、待機状態に
おく)(すなわち、転換接地母線56を接地母線28か
ら切り離す)ためには使用可能パッドEに高(すなわち
、+3.5ボルト)信号を加える。To disable FROMIO (ie, put it on standby) (ie, disconnect convertible ground bus 56 from ground bus 28), apply a high (ie, +3.5 volts) signal to enable pad E.
ツェナダイオード600が非導通状態におかれて線51
2が開路状態におかれかつトランジスタ642がオフに
される。Zener diode 600 is placed in a non-conducting state so that line 51
2 is left open and transistor 642 is turned off.
トランジスタ607がその高信号に応答してオフとなる
ので、トランジスタ610,616及び619はオン、
すなわち導通状態になる。Since transistor 607 turns off in response to that high signal, transistors 610, 616, and 619 turn on;
In other words, it becomes conductive.
このためにトランジスタ710はオフになる。This turns transistor 710 off.
注記しておくが、トランジスタ710の非導通状態への
転換、従ってFROMloの使用禁止はトランジスタ7
12及び710のトーテムポール・アクチブプルアップ
構成のために又トランジスタ710がショットキーバリ
ヤ・ダイオード・クランプを有しているために急速に行
われる。Note that turning transistor 710 into a non-conducting state, and thus inhibiting the use of FROMlo,
12 and 710 and because transistor 710 has a Schottky barrier diode clamp.
特に、第4図を見ると、トランジスタ710の構造が示
されている。Specifically, referring to FIG. 4, the structure of transistor 710 is shown.
このトランジスタ710は基板12中にN十形伝導性サ
ブコレクタ領域800を拡散させることによって形成さ
れている。The transistor 710 is formed by diffusing an N+ conductive subcollector region 800 into the substrate 12.
N形伝導性のエピタキシャル層44が基板12上で成長
している。An epitaxial layer 44 of N-type conductivity is grown on substrate 12.
技術上周知のように拡散過程中にサフコレクタ領域80
0の一部分がエピタキシャル層44中に拡散しているの
が注目される。As is well known in the art, during the diffusion process the sub-collector region 80
It is noted that a portion of the 0 is diffused into the epitaxial layer 44.
分離領域42′は図示したようにエピタキシャル層を通
して基板にP十形伝導性物質を拡散させることによって
トランジスタ710のまわりに形成されている。Isolation region 42' is formed around transistor 710 by diffusing P-type conductive material into the substrate through the epitaxial layer as shown.
ベース領域802はエピタキシャル層44中にP形伝湧
性物質を拡散させることによってその層44に形成され
ている。Base region 802 is formed in epitaxial layer 44 by diffusing P-type conductive material into layer 44 .
エミッタ領域804及びコレクタ領域808は図示した
ようにそれぞれベース領域802及びエピタキシャル層
44中にN十形伝導性物質を拡散させることlこよって
形成されている。Emitter region 804 and collector region 808 are formed by diffusing N+ conductive material into base region 802 and epitaxial layer 44, respectively, as shown.
次に周知の方法で表面に二酸化ケイ素層810が形成さ
れかつこの層810に窓812が形成されている。A silicon dioxide layer 810 is then formed on the surface using well-known methods and windows 812 are formed in this layer 810.
注記しておくが、層810に形成された窓812は図示
したようにベース領域802の一部分及びエピタキシャ
ル層44の隣接部分に広がっている。Note that the window 812 formed in layer 810 extends into a portion of base region 802 and an adjacent portion of epitaxial layer 44 as shown.
窓812によって露出された領域に通常の方法によりケ
イ酸白金の薄板814が形成されている。A thin plate of platinum silicate 814 is formed in the area exposed by window 812 by conventional methods.
エミッタ領域804及びコレクタ領域808上の層81
0の部分には図示したようにそれぞれ窓820及び82
2が形成されている。Layer 81 over emitter region 804 and collector region 808
0 has windows 820 and 82, respectively, as shown.
2 is formed.
金属接点710b、710e、710c、すなわち相互
接点が次にそれぞれベース領域、エミッタ領域及びコレ
クタ領域に対して図示したようtこ形成されており、こ
れらの接点はそれぞれトランジスタ710のベース電極
、エミッタ電極及びコレクタ電極とみなされている。Metal contacts 710b, 710e, and 710c, or mutual contacts, are then formed as shown to the base, emitter, and collector regions, respectively, and these contacts connect to the base, emitter, and collector electrodes, respectively, of transistor 710. It is considered a collector electrode.
注記しておくが、ケイ酸白金の薄膜814はトランジス
タ710のベース領域とコレクタ領域との間にショット
キーバリヤ・ダイオード・クランプを形成している。Note that a thin film of platinum silicate 814 forms a Schottky barrier diode clamp between the base and collector regions of transistor 710.
これまでこの発明の選ばれた具体例を説明してきたが、
これらの考えに基づいたその他の具体例を使用してもよ
いことは明白である。So far, selected specific examples of this invention have been explained;
Obviously, other embodiments based on these ideas may be used.
それゆえ、この発明はここに記載された具体例に限定さ
れるべきものではないと考えられ、以下に挙げられるよ
うなものもその実施の態様として可能である。Therefore, it is considered that this invention should not be limited to the specific examples described here, and the following examples are also possible as embodiments thereof.
(IXa) 半導体材料の基板、
(bl 前記の基板に形成されかつ電源の相対的に正
の電位に接続されるように構成された第1の導電性母線
、
(cl 前記の基板に形成され、かつ前記の電源の相
対的に負の電位に接続されるように構成された第2の導
電性接地母線、
(dJ 第3の導電性母線、
(eJ 前記の基板に形成された記憶素子配列、(f
) 前記の第1の導電性母線と前記の第3の導電性母
線との間に接続された、前記の記憶素子配列のアドレス
指定を行うためのアドレス指定部分、及び
(g) 前記の基板に形成され、かつ使用可能信号に
従って選択的に前記の第2の導電性接地母線と前記の第
3の導電性母線とを接続したり切り離したりするように
構成された待機電力使用可能回路を壱するモノリシック
集積回路(2)前記の導電性接地母線と前記第3の導電
性母線との間に接続されかつ使用可能信号に従って選択
的に導通状態と非導通状態との間で切り換えられるショ
ットキー・トランジスタが前記の待機電力使用可能回路
に含まれている、態様(1)の集積回路。(IXa) a substrate of semiconductor material; (bl a first electrically conductive bus bar formed on said substrate and configured to be connected to a relatively positive potential of a power supply; (cl formed on said substrate; and a second conductive ground bus configured to be connected to a relatively negative potential of the power source, (dJ a third conductive bus, (eJ a memory element array formed on the substrate, (f
) an addressing portion for addressing said storage element array, connected between said first conductive bus bar and said third conductive bus bar; and (g) an addressing portion for addressing said storage element array; a standby power enable circuit formed and configured to selectively connect and disconnect said second conductive ground bus and said third conductive bus in accordance with an enable signal; a monolithic integrated circuit (2) a Schottky transistor connected between said conductive ground bus and said third conductive bus and selectively switched between a conducting state and a non-conducting state according to an enable signal; is included in the standby power enabled circuit.
(3)前記のショットキー・トランジスタとともにアク
チブ・プルアップ形態に構成された第2のトランジスタ
を有する、態様(2)の集積回路。(3) The integrated circuit of aspect (2), comprising a second transistor configured in active pull-up configuration with the Schottky transistor.
(4)(aJ 前記の使用可能信号の第1のレベルに
応答して前記の記憶素子配列のプログラミングを可能に
しかつ前記のショットキー・トランジスタが前記の第2
の導電性接地母線を前記の第3の導電性母線に接続する
ことを可能にするように、
(bJ 前記の使用可能信号の第2のレベルに応答し
て前記の配列の読取りを可能にしかつ前記のショットキ
ー・トランジスタが前記の第2の導電性接地母線を前記
の第3の導電性母線に接続することを可能にするように
、かつ(C) 前記のショットキー・トランジスタが
前記の使用可能信号の第3のレベルに応答して前記の第
3の導電性母線を前記の第2の導電性接地母線から切り
離すことを可能にするように
構成されたプログラム・出力使用可能部分を有する、態
様(3)のモノリシック集積回路。(4) (aJ responsive to a first level of said enable signal to enable programming of said storage element array and said Schottky transistor to be responsive to said second level of said enable signal;
(bJ) in response to a second level of said enable signal to enable reading of said array; (C) said Schottky transistor enables said Schottky transistor to connect said second conductive ground bus to said third conductive bus; a program output enable portion configured to enable disconnection of said third conductive bus from said second conductive ground bus in response to a third level of an enabling signal; Monolithic integrated circuit according to aspect (3).
(5)前記のプログラム・出力使用可能部分がツェナダ
イオードを有し、かつ前記の使用可能信号が前記のツェ
ナダイオードを通して前記のショットキー・トランジス
タのベース電極に結合されている、態様(4)のモノリ
シック集積回路。(5) According to aspect (4), said program and output enable portion has a Zener diode, and said enable signal is coupled through said Zener diode to the base electrode of said Schottky transistor. Monolithic integrated circuit.
(6)(a)半導体材料の基板、
(b) 前記の基板に形成され、かつ電源の相対的に
正の電位に接続されるように構成された第1の導電性母
線、
(c)前記の基板に形成され、かつ電源の相対的に負の
電位に接続されるように構成された第2の導電性接地母
線、
(dJ 第3の導電性母線、
(e) 前記の基板に形成された記憶素子配列、(f
) アドレス信号に従って前記の記憶素子配列のアド
レス指定を行うための部分であって、複数個の出力トラ
ンジスタを含む前記の基板に形成された複数個の相互接
続された能動性及び受動性素子からなり、前記のトラン
ジスタのベース電極が前記のアドレス信号に結合される
ように構成され、そのコレクタ電極が前記の第1の導電
性母線に接続されかつそのエミッタ電極が前記の第3の
導電性母線に接続されていて、前記の各トランジスタが
前記の記憶素子配列に接続されかつ前記のアドレス信号
に従って選択的に導通状態又は非導通状態に切り換わる
ように構成されているアドレス指定部分、
(gJ 前記の基板に形成され、かつアクチブ・プル
アップ形態に構成された一対のトランジスタを崩し、こ
の一対のトランジスタの一方のもののエミッタ電極が前
記の第2の導電性接地母線に接続され、その一方のもの
のコレクタ電極が前記の第3の導電性母線及びその一方
のもののトランジスタのコレクタ領域とベース領域との
間に形成されたショットキー・ダイオードに接続され、
かつその一方のもののベース電極に待機信号が供給され
てその一方のトランジスタが使用可能信号に従って選択
的に前記の第2の導電性接地母線と前記の第3の導電性
母線とを電気的に接続したり切り離したりすることがで
きるようになっている待機電力使用可能回路を有するモ
ノリシック集積回路。(6) (a) a substrate of a semiconductor material; (b) a first conductive bus formed on said substrate and configured to be connected to a relatively positive potential of a power source; (c) said a second electrically conductive ground bus formed on said substrate and configured to be connected to a relatively negative potential of the power source; storage element array, (f
) a portion for addressing said storage element array according to address signals, said portion comprising a plurality of interconnected active and passive elements formed in said substrate including a plurality of output transistors; The base electrode of the transistor is configured to be coupled to the address signal, the collector electrode of the transistor is connected to the first conductive bus, and the emitter electrode of the transistor is connected to the third conductive bus. an addressing portion, wherein each of said transistors is connected to said storage element array and configured to selectively switch to a conducting or non-conducting state in accordance with said address signal; (gJ said substrate; the emitter electrode of one of the transistors is connected to the second conductive ground bus, and the collector electrode of one of the transistors is connected to the second conductive ground bus. is connected to said third conductive bus bar and a Schottky diode formed between the collector region and base region of the transistor of one of them;
and a standby signal is supplied to the base electrode of one of the transistors, and the one transistor selectively electrically connects the second conductive ground bus and the third conductive bus in accordance with the enable signal. A monolithic integrated circuit having standby power-enabled circuitry that can be switched on or off.
(7)(a)前記の使用可能信号の第1のレベルに応答
して前記の記憶素子配列のプログラミングを可能にしか
つ前記のショットキー・トランジスタが前記の第2の導
電性接地母線を前記の第3の導電性母線に接続すること
を可能にするように、
(bJ 前記の使用可能信号の第2のレベルに応答し
て前記の記憶素子配列の読取りを可能にしかつ前記のシ
ョットキー・トランジスタが前記の第2の導電性接地母
線を前記の第3の導電性母線に接続することを可能にす
るように、かつ
(c) 前記の使用可能信号の第3のレベルに応答し
て前記のショットキー・トランジスタが前記の第3の導
電性母線を前記の第2の導電性母線から切り離すことを
可能にするようjこ構成されたプログラム・出力使用可
能部分を有する、特許請求の範囲第11項に記載のモノ
リシック集積回路。(7) (a) responsive to a first level of said enable signal to enable programming of said storage element array; and said Schottky transistor connects said second conductive ground bus to said second conductive ground bus; (bJ) responsive to a second level of said enable signal to enable reading of said storage element array and said Schottky transistor to enable connection to a third conductive bus; (c) in response to a third level of said enable signal to enable said second electrically conductive ground bus to be connected to said third electrically conductive bus; Claim 11, wherein the Schottky transistor has a program and output enable portion configured to enable decoupling of said third conductive bus from said second conductive bus. Monolithic integrated circuits as described in Section.
(8)前記のプログラム・出力使用可能部分がツェナダ
イオードを崩しかつ前記の使用可能信号が前記のツェナ
ダイオードを通して前記のショットキー・トランジスタ
のベース電極に接続されている、態様(7)のモノリシ
ック集積回路。(8) Monolithic integration according to embodiment (7), wherein said program/output enable portion breaks a Zener diode and said enable signal is connected through said Zener diode to the base electrode of said Schottky transistor. circuit.
第1図はこの発明によるプログラム可能な読取り専用記
憶装置(FROM)の構成図である。
第2図は第2図Aと第2図Bとの関係を示す図である。
第2図A及び第2図Bはともに第1図のF ROMの概
略図である。
第3図は第1図のFROMに使用されるP−N−Pl−
ランジスタの幾分変形した断面図である。
第4図は第1図のFROMに使用されるN−P−Nl−
ランジスタの幾分変形した断面図である。
12・・・・・・半導体基板、14・・・・・・記憶素
子配列、16・・・・・・アドレス部分、18・・・・
・・ROM出力使用可能部分、22・・・・・・ROM
プログラム使用可能化部分、24・・・・・・電源スイ
ツチ使用可能部分、28・・・・・・接地母線。FIG. 1 is a block diagram of a programmable read-only memory (FROM) according to the present invention. FIG. 2 is a diagram showing the relationship between FIG. 2A and FIG. 2B. 2A and 2B are both schematic diagrams of the FROM of FIG. 1. Figure 3 shows the P-N-Pl- used in the FROM of Figure 1.
3 is a somewhat modified cross-sectional view of a transistor; FIG. Figure 4 shows the N-P-Nl- used in the FROM of Figure 1.
3 is a somewhat modified cross-sectional view of a transistor; FIG. 12... Semiconductor substrate, 14... Memory element array, 16... Address portion, 18...
...ROM output usable part, 22...ROM
Program usable part, 24... Power switch usable part, 28... Ground bus bar.
Claims (1)
ドレス指定信号に従って前記素子配列をアドレスするた
めの記憶素子配列アドレス指定部と、(a) 前記記
憶素子配列のプログラミングを可能にするプログラム使
用可能化部と、 (ω 前記アドレス指定部と電源との接続を制御する電
力使用可能化回路と、 が形成された半導体基板から構成されるモノリシック集
積回路であって、 0)使用可能信号の第ルベルに応答して、前記プログラ
ム使用可能化部が作動状態になり、前記電力使用可能化
回路が前記アドレス指定部を電源と接地母線との間に電
気的に結合して、前記記憶素子配列のプログラミングを
可能にし、0)前記使用可能信号の第2レベルに応答し
て、前記プログラム使用可能化部が不作動状態になり、
前記電力使用可能化回路が前記アドレス指定部を電源と
接地母線との間に電気的に結合して、前記プログラムさ
れた記憶素子配列の読み出しを可能にし、 e刃 前記使用可能信号の第3レベルに応答して、前
記プログラム使用可能化部が不作動状態になり、前記電
力使用可能化回路が前記アドレス指定部を電源と接地母
線との間から電気的に分離する、 モノリシック集積回路。 2 前記電力使用可能化回路がアクチブ・プルアップ形
態でショットキー・トランジスタと共に構成されたトラ
ンジスタを有するところの特許請求の範囲第1項記載の
モノリシック集積回路。 3 前記記憶素子配列が行及び列から成るマトリックス
に構成された複数の溶断性リンクで構成されているとこ
ろの特許請求の範囲第2項記載のモノリシック集積回路
。 4 前記プログラム使用可能化部がツェナーダイオード
を有し、前記使用可能信号が前記ツェナーダイオードを
介して前記ショットキー・トランジスタのベース電極に
結合されるところの特許請求の範囲第3項記載のモノリ
シック集積回路。[Scope of Claims] 1(a) a non-volatile storage element array; (bJ) a storage element array addressing section for addressing the element array according to an addressing signal; A monolithic integrated circuit comprising a semiconductor substrate on which are formed: a program enablement unit that enables the program to be used; and (ω) a power enablement circuit that controls connection between the addressing unit and a power supply, In response to a first level of an enable signal, the program enabler is activated, the power enabler circuit electrically couples the addressing unit between a power source and a ground bus; enabling programming of the storage element array; 0) in response to a second level of the enable signal, the program enabler is disabled;
the power enable circuit electrically couples the addressing portion between a power supply and a ground bus to enable reading of the programmed storage element array; and a third level of the enable signal. in response to the program enabler becoming inactive and the power enabler circuit electrically isolating the addressing unit from between a power supply and a ground bus. 2. The monolithic integrated circuit of claim 1, wherein the power enable circuit comprises a transistor configured with a Schottky transistor in active pull-up configuration. 3. The monolithic integrated circuit of claim 2, wherein the storage element array is comprised of a plurality of fusible links arranged in a matrix of rows and columns. 4. Monolithic integration according to claim 3, wherein the program enabler comprises a Zener diode, and the enable signal is coupled to the base electrode of the Schottky transistor via the Zener diode. circuit.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US74636276A | 1976-12-01 | 1976-12-01 |
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|---|---|
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52143823A Expired JPS5831679B2 (en) | 1976-12-01 | 1977-11-30 | monolithic integrated circuit |
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-
1977
- 1977-11-16 GB GB4773777A patent/GB1547730A/en not_active Expired
- 1977-11-30 IT IT5200777A patent/IT1090712B/en active
- 1977-11-30 JP JP52143823A patent/JPS5831679B2/en not_active Expired
- 1977-12-01 DE DE19772753607 patent/DE2753607A1/en active Granted
- 1977-12-01 FR FR7736231A patent/FR2373124A1/en active Granted
Non-Patent Citations (1)
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|---|
| IEEE JOURNAL OF SOLID-STATE CIRCRCITS * |
Also Published As
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|---|---|
| FR2373124B1 (en) | 1984-06-22 |
| JPS5369552A (en) | 1978-06-21 |
| FR2373124A1 (en) | 1978-06-30 |
| DE2753607A1 (en) | 1978-06-08 |
| DE2753607C2 (en) | 1990-05-17 |
| GB1547730A (en) | 1979-06-27 |
| IT1090712B (en) | 1985-06-26 |
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