JPS5832444B2 - 微小孔性の電子放出陰極被覆物質の引きつけ方法 - Google Patents
微小孔性の電子放出陰極被覆物質の引きつけ方法Info
- Publication number
- JPS5832444B2 JPS5832444B2 JP54107642A JP10764279A JPS5832444B2 JP S5832444 B2 JPS5832444 B2 JP S5832444B2 JP 54107642 A JP54107642 A JP 54107642A JP 10764279 A JP10764279 A JP 10764279A JP S5832444 B2 JPS5832444 B2 JP S5832444B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- cathode assembly
- coating material
- electron
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 39
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 38
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 23
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 7
- 238000000429 assembly Methods 0.000 claims description 3
- 230000000712 assembly Effects 0.000 claims description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 claims description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 16
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 3
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 3
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229910001080 W alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- QENHCSSJTJWZAL-UHFFFAOYSA-N magnesium sulfide Chemical compound [Mg+2].[S-2] QENHCSSJTJWZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010025482 malaise Diseases 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- MOWMLACGTDMJRV-UHFFFAOYSA-N nickel tungsten Chemical compound [Ni].[W] MOWMLACGTDMJRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000007096 poisonous effect Effects 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/04—Manufacture of electrodes or electrode systems of thermionic cathodes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は全体として、テレビジョン受像管に用いられる
電子銃用の熱陰極上に微・」\孔性の電子放出被覆物質
を吹きつけにより付着させる方法に関するものであり、
とくに、そのような陰極に電子放出物質を付着させるた
めの改良した方法に関するものである。
電子銃用の熱陰極上に微・」\孔性の電子放出被覆物質
を吹きつけにより付着させる方法に関するものであり、
とくに、そのような陰極に電子放出物質を付着させるた
めの改良した方法に関するものである。
ここに、微小孔はとは陰極物質が極めて微小な孔を多数
有することを意味するものとする。
有することを意味するものとする。
陰極において望ましい特注には電子放出量が大きく、寿
命が長く、汚染による劣化に強く、製造が簡単で、歩留
りが高いことである。
命が長く、汚染による劣化に強く、製造が簡単で、歩留
りが高いことである。
電子放出量を太きくし、寿命を長くするためには陰極は
微・」ス孔はでなければならない。
微・」ス孔はでなければならない。
すなわち、陰極の表面は比較的滑らかで、全体にわたっ
て一様な密度でなければならない。
て一様な密度でなければならない。
寿命を長くするには一様な密度であることはとくに重要
である。
である。
すなわち、たとえば陰極被覆が多孔性であると、熱陰極
電子放出中に高温点が生ずることがあり、そのために陰
極被覆に応力が生じて、ついには陰極被覆の大部分にわ
たって物質がはげ落ちることになり、そのために陰極の
電子放能の低下と寿命が短くなる結果となる。
電子放出中に高温点が生ずることがあり、そのために陰
極被覆に応力が生じて、ついには陰極被覆の大部分にわ
たって物質がはげ落ちることになり、そのために陰極の
電子放能の低下と寿命が短くなる結果となる。
一様な密度と微・」・孔性も、汚染によるは能低下に対
する陰極の抵抗を高くする要因に含まれる。
する陰極の抵抗を高くする要因に含まれる。
粗い表面と大きな孔を有する陰極被覆は、汚染の毒作用
にさらされる面積をはるかに広くする。
にさらされる面積をはるかに広くする。
汚染にさらされる面積が狭くなるほど、汚染の毒作用に
起因する性能低下に対する陰極の抵抗は高くなる。
起因する性能低下に対する陰極の抵抗は高くなる。
汚染により毒された陰極の電子放出レベルは低下したり
、十分な量の電子を放出する時間がはるかに短くなった
りする。
、十分な量の電子を放出する時間がはるかに短くなった
りする。
陰極線管が封止される後までは陰極が具合が悪くなるこ
とはあまりなく、あるいは短寿命の場合には陰極線管が
製品に組込まれてしまうまでは陰極が故障することはあ
まりないから、比較的早期の故障によって面倒な事が生
じたり、余計な費用がかかったりすることになる。
とはあまりなく、あるいは短寿命の場合には陰極線管が
製品に組込まれてしまうまでは陰極が故障することはあ
まりないから、比較的早期の故障によって面倒な事が生
じたり、余計な費用がかかったりすることになる。
別の望ましい特注は陰極被覆は製造中に陰極へ容易に付
着できなければならず、また製造歩留りが高くなければ
ならないことである。
着できなければならず、また製造歩留りが高くなければ
ならないことである。
製造工程の数が少く、製造に容易に適応する自動化機器
を含む標準的な機器を使用でき、更にあまり熟練してい
ない工員でも製造に従事させることができるならば、製
造コストを大幅に低減させることができる。
を含む標準的な機器を使用でき、更にあまり熟練してい
ない工員でも製造に従事させることができるならば、製
造コストを大幅に低減させることができる。
汚染による毒作用に対する抵抗性も製造コスト低減要因
の1つである。
の1つである。
製造環境におひる汚染レベルは高いことがあり、とくに
ハロゲン類と、部品の洗浄と脱脂のような工程の副産物
による汚染のレベルが高い。
ハロゲン類と、部品の洗浄と脱脂のような工程の副産物
による汚染のレベルが高い。
陰極被覆がそのような汚染からの毒作用に対する抵抗力
を有するものとすると、陰極を汚染から守るために必要
とされる予防策を、費用のかかる汚染防護しゃへいと、
慎重に管理された環境を必要とすることなしに、比較的
簡単にとることができる。
を有するものとすると、陰極を汚染から守るために必要
とされる予防策を、費用のかかる汚染防護しゃへいと、
慎重に管理された環境を必要とすることなしに、比較的
簡単にとることができる。
従来の陰極被覆法は、陰極を適当な保持具の中に挿入す
る工程と、それらの陰極を電子放出化合物の懸濁液を吹
きつけるスプレーガンの前に繰り返えしさらす工程とを
一般に含む。
る工程と、それらの陰極を電子放出化合物の懸濁液を吹
きつけるスプレーガンの前に繰り返えしさらす工程とを
一般に含む。
そして従来の方法ではそのような被覆を伺層も行うこと
がある。
がある。
それらの方法はある程度までは満足できるが、様な密度
で付着させること、汚染に強いことおよび製造歩留りが
高いことという、本発明により達成される諸目的に合致
するにはあまり適さないことが判明している。
で付着させること、汚染に強いことおよび製造歩留りが
高いことという、本発明により達成される諸目的に合致
するにはあまり適さないことが判明している。
密度が一様でないこと、陰極が汚染に弱いこと、および
製造コストが高いことという先行技術の欠点は、ガス層
流を内部に有する陰極アセンブリ吹きつけチャンバの中
に陰極アセンブリと吹きつけ器を入れることによりそれ
らの陰極アセンブリと吹きつけ器を予熱する工程と、前
記陰極アセンブリと前記吹きつけ器の温度を所定の高い
値に安定させる工程と、前記陰極アセンブリに微−J一
孔性の電子放出陰極被覆物質の第1の層を初めの所定厚
さに吹きつける工程と、高温ガスの層流を有する容器の
中に前記陰極アセンブリを保持することにより前記物質
を急速に乾燥させる工程と、前記陰極アセンブリに前記
物質の第2の層を第1の層の厚さと合わせた厚さが所定
の最終的な厚さとなるような厚さに吹きつける工程とを
備え、それにより前記予熱と前記急速乾燥のために、付
着された前記被覆物質は一様な密度であり、層の表面は
平滑であって微・」・孔性であり、電子放出度が高く、
寿命が長く、汚染による劣化に対する抵抗性が高いこと
を特徴とする微・」・孔性の電子放出陰極被覆物質を吹
きつけ器により陰極アセンブリ上に付着させる本発明の
方法により解消される。
製造コストが高いことという先行技術の欠点は、ガス層
流を内部に有する陰極アセンブリ吹きつけチャンバの中
に陰極アセンブリと吹きつけ器を入れることによりそれ
らの陰極アセンブリと吹きつけ器を予熱する工程と、前
記陰極アセンブリと前記吹きつけ器の温度を所定の高い
値に安定させる工程と、前記陰極アセンブリに微−J一
孔性の電子放出陰極被覆物質の第1の層を初めの所定厚
さに吹きつける工程と、高温ガスの層流を有する容器の
中に前記陰極アセンブリを保持することにより前記物質
を急速に乾燥させる工程と、前記陰極アセンブリに前記
物質の第2の層を第1の層の厚さと合わせた厚さが所定
の最終的な厚さとなるような厚さに吹きつける工程とを
備え、それにより前記予熱と前記急速乾燥のために、付
着された前記被覆物質は一様な密度であり、層の表面は
平滑であって微・」・孔性であり、電子放出度が高く、
寿命が長く、汚染による劣化に対する抵抗性が高いこと
を特徴とする微・」・孔性の電子放出陰極被覆物質を吹
きつけ器により陰極アセンブリ上に付着させる本発明の
方法により解消される。
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図は従来の陰極アセンブリ2を示す。
この陰極アセンブリ2の上には電子数陰極被覆物質を本
発明の方法によって付着させる。
発明の方法によって付着させる。
陰極アセンブリ2はニッケルータングステン合金製のキ
ャップ4と、ニッケル80%とクロム20饅で一般に作
られる合金製の軸部6とを含む。
ャップ4と、ニッケル80%とクロム20饅で一般に作
られる合金製の軸部6とを含む。
熱により作動させられて電子を放出する薄い電子放出層
8をキャップ4の頂部だけに付着させる。
8をキャップ4の頂部だけに付着させる。
陰極アセンブリ4と電子放出層8は、軸6の中へ延びる
ヒータ線9によって加熱される。
ヒータ線9によって加熱される。
ヒータ線9は電子放出層8を付着させてからとりつける
。
。
キャップ4は軸部6の上から破線で示すようにしてはめ
込み、そこに通常は抵抗溶接により固定する。
込み、そこに通常は抵抗溶接により固定する。
付着させる電子放出物質は下記のような成分を指定され
た百分比で含む。
た百分比で含む。
これらの物質はスプレーガンにより吹きつけるのに適す
る流動性を有するスラリーの形で混合する。
る流動性を有するスラリーの形で混合する。
結合剤溶液は酢酸ブチルと、ブチル・セルローズと、ニ
トロセルローズとを混合して作ることができる。
トロセルローズとを混合して作ることができる。
当業者に知られている適当な結合剤溶液が米国ニューシ
ャーシー州トレントン(Trenton )所在のRC
Aにより供給されている。
ャーシー州トレントン(Trenton )所在のRC
Aにより供給されている。
被覆物質の球状粒子の中位寸法は2〜4ミクロンである
。
。
それらの粒子の直径はほぼ2ミクロン、長さは2〜18
ミクロンである。
ミクロンである。
これらの寸法や、この明細書で記すその他の測定値、容
量、率、量などは単なる例示であって本発明を限定する
ものではない。
量、率、量などは単なる例示であって本発明を限定する
ものではない。
被覆物質の粘度と密度の仕様は次の通りである。
それらの成分は試験を行う前にボールミルにより24時
間粉砕した。
間粉砕した。
粘度は/′I61ザーン・カップ(Zahn cup)
を用いて測定した。
を用いて測定した。
好適な粘度は20〜25℃で38〜40秒である。
この被覆物質は時間の経過につれて薄くなるから、4ケ
月以内に使用すべきである。
月以内に使用すべきである。
懸濁液中の被覆物質の密度は重量と体積の比で、200
m1の試料を用いて測定される。
m1の試料を用いて測定される。
好適な密度は22〜25°Cにおいて1.29〜1.3
2g/CCである。
2g/CCである。
ここで記す値は製造後間もなくの値であることを再び注
意しておく。
意しておく。
この物質は4ケ月以内に使用すべきである。
本発明の方法を行う陰極アセンブリ吹きつけチャンバ1
0の内部を第2図に簡略に示す。
0の内部を第2図に簡略に示す。
チャンバ10の内部寸法はたとえば幅が約1.22m(
14フイート)、高さが約1.83m(6フイート)、
奥行きが約0.61m(2フイート)である。
14フイート)、高さが約1.83m(6フイート)、
奥行きが約0.61m(2フイート)である。
内部点検口にとりつけられているドア(図示せず)を閉
じることにより、チャンバ10の内部の温度を安定にで
きる。
じることにより、チャンバ10の内部の温度を安定にで
きる。
チャンバ10の内部では容器すなわち保持領域12が他
の部分とは別に更に囲われている。
の部分とは別に更に囲われている。
・この保持領域12の大きさは約0.31mxo、4’
7m(IXl、5フイート)である。
7m(IXl、5フイート)である。
チャンバ10の他の部分は吹きつけ領域14である。
吹きつけ領域14の中には吹きつけ器16と陰極アセン
ブリ固定要素18とが含まれる。
ブリ固定要素18とが含まれる。
チャンバ10は、矢印20で示すように、吹きつけ領域
14の中を上から下へガス(なるべく空気)の層流を供
給するための要素を含む。
14の中を上から下へガス(なるべく空気)の層流を供
給するための要素を含む。
空気供給源は外部空気ポンプ22で示されている。
この空気ポンプ22は濾過され、かつ湿度を調節された
空気を、マニホルド24,26を通じてチャンバ10の
内部に供給する。
空気を、マニホルド24,26を通じてチャンバ10の
内部に供給する。
保持領域12における空気の流れる向きは、矢印27で
示すように吹きつけ領域14における空気の流れの向き
とは直交することに注意されたい。
示すように吹きつけ領域14における空気の流れの向き
とは直交することに注意されたい。
空気供給源は空気を所定の安定な温度まで加熱するため
の加熱器を含む。
の加熱器を含む。
この所定の安定な温度は約48.9℃(120¥′)が
好ましいが、約47.8〜50℃(118〜122°F
′)の範囲でもさしつかえない。
好ましいが、約47.8〜50℃(118〜122°F
′)の範囲でもさしつかえない。
陰極アセンブリに陰極被覆物質を吹きつけるために用い
られる吹きつけ器16は、たとえばアメリカ合衆国イリ
ノイ州シカゴ所在のバーシュ社(Paasche Co
mpany)製のU−268A型シリンダー・アセンブ
リ、U−3083型ベローズ・アセンブリおよびA−C
U−70流体ボデーを組合わせたもののような標準のス
プレーガンで構成できる。
られる吹きつけ器16は、たとえばアメリカ合衆国イリ
ノイ州シカゴ所在のバーシュ社(Paasche Co
mpany)製のU−268A型シリンダー・アセンブ
リ、U−3083型ベローズ・アセンブリおよびA−C
U−70流体ボデーを組合わせたもののような標準のス
プレーガンで構成できる。
空気キャップはパーシュSF’06−U−5−6型で、
サイズがOのチップとニードルつきのものを使用できる
。
サイズがOのチップとニードルつきのものを使用できる
。
典型的な吹きつけ圧は4.23kg/iである。
スプレーガンのチップと陰極アセンブリとの間の好適な
距離は約9.65cTL(3,8インチ)である。
距離は約9.65cTL(3,8インチ)である。
吹きつけに用いるガスは、不活性であるという望ましい
は質を有していることと、化学的に純粋で清浄な製品を
容易に得ることができるという点から窒素を使用できる
。
は質を有していることと、化学的に純粋で清浄な製品を
容易に得ることができるという点から窒素を使用できる
。
第2A図に詳しく示されている陰極アセンブリ固定要素
18はある数、通常は100〜400個、の陰極アセン
ブリを2列に並べて保持するために用いられる。
18はある数、通常は100〜400個、の陰極アセン
ブリを2列に並べて保持するために用いられる。
この陰極アセンブリ固定要素18は陰極アセンブリを受
けるための複数の穴を有する円板で構成できる。
けるための複数の穴を有する円板で構成できる。
陰極アセンブリ固定要素18は、キャップ4の上面だけ
被覆するためのマスキング要素を含む。
被覆するためのマスキング要素を含む。
使用時にはこの陰極アセンブリ固定要素18を、吹きつ
け領域14の中の吹きつけ器16の近くに設けられてい
る固定要素回転機構(図示せず)にとりつける。
け領域14の中の吹きつけ器16の近くに設けられてい
る固定要素回転機構(図示せず)にとりつける。
この回転機構は通常は1分間に約110回の速さで陰極
アセンブリ固定要素18を回転させる。
アセンブリ固定要素18を回転させる。
次に、微/JX孔性の電子放出陰極被覆物質を吹きつけ
器により陰極アセンブリの表面に付着させる本発明の方
法について説明する。
器により陰極アセンブリの表面に付着させる本発明の方
法について説明する。
ある数の陰極アセンブリ2を陰極アセンブリ固定要素1
8にとりつけ、次にこの固定要素18を前記した固定要
素回転機構にとりつける。
8にとりつけ、次にこの固定要素18を前記した固定要
素回転機構にとりつける。
チャンバ10の内部では温度が約47.8〜50℃(1
18〜122c′F)、ナルへ<ナラ約48.9℃(1
200F)の温度の空気の層流が矢印20で示されてい
る向きに流されている。
18〜122c′F)、ナルへ<ナラ約48.9℃(1
200F)の温度の空気の層流が矢印20で示されてい
る向きに流されている。
そのために陰極アセンブリ2と吹きつけ器16が予熱さ
れ、所定の温度、なるべく約48.9℃(120cF′
)、に安定化サレる。
れ、所定の温度、なるべく約48.9℃(120cF′
)、に安定化サレる。
陰極アセンブリ2と吹きつけ器16の温度を安定にする
ためには一定時間、典型的には30分間、だけチャンバ
10の中に入れておく必要がある。
ためには一定時間、典型的には30分間、だけチャンバ
10の中に入れておく必要がある。
次に、陰極アセンブリ2に被覆物質の第1の層を所定の
厚さに吹きつける。
厚さに吹きつける。
この吹きつけの間に、固定要素18に固定されている陰
極アセンブリ2を吹きつけ器16の前方で、1分間に1
10回転の速さで30分間回転させる。
極アセンブリ2を吹きつけ器16の前方で、1分間に1
10回転の速さで30分間回転させる。
この吹きつけ工程によって陰極アセンブリに付着される
第1の層の厚さは約0.0041〜0.0048crI
L(1,6〜1.9ミル)となる。
第1の層の厚さは約0.0041〜0.0048crI
L(1,6〜1.9ミル)となる。
この吹きつけ工程に続いて、固定要素18に固定されて
いる陰極アセンブリ2をチャンバ10の保持領域12の
中に入れ、そこで陰極アセンブリ2に付着されている被
覆物質を急速に乾燥させる。
いる陰極アセンブリ2をチャンバ10の保持領域12の
中に入れ、そこで陰極アセンブリ2に付着されている被
覆物質を急速に乾燥させる。
この乾燥は吹きつけ担体を急速蒸発させることと、被覆
物質と結合剤の乾燥とによって行われる。
物質と結合剤の乾燥とによって行われる。
蒸発と乾燥は矢印27の向きで示されている空気の層流
によって助長される。
によって助長される。
陰極アセンブリ2を保持領域12の中に入れておく時間
は5〜10分間である。
は5〜10分間である。
保持領域12の中に入れている間に、層の厚さを試験す
るために標本を選択できる。
るために標本を選択できる。
厚さは、スプレーガンの調整と、適切な固定器具にとり
つけられている約5.08 X 7.62=(2X 3
インチ)の大きさのガラススライドで測定した時の反射
率が65〜68饅の範囲におけるそのスプレーガンの吹
きつけ速度に関係する。
つけられている約5.08 X 7.62=(2X 3
インチ)の大きさのガラススライドで測定した時の反射
率が65〜68饅の範囲におけるそのスプレーガンの吹
きつけ速度に関係する。
反射率測定は反射率が98優の硫化マグネシウム標準を
基準にして行われるもので、ガードナー(Gardne
r ) 4UXH8I D反射計のような標準の反射計
を用いて測定できる。
基準にして行われるもので、ガードナー(Gardne
r ) 4UXH8I D反射計のような標準の反射計
を用いて測定できる。
次に陰極アセンブリ2と固定要素18を保持領域12か
ら取り出し、吹きつけ領域14へ戻す。
ら取り出し、吹きつけ領域14へ戻す。
そして固定要素18を固定要素回転機構に再びとりつけ
て、吹きつけ器の吹きつけ口の前で固定要素18を1分
間に110回の速さで再び回転させる。
て、吹きつけ器の吹きつけ口の前で固定要素18を1分
間に110回の速さで再び回転させる。
その回転中に陰極アセンブリに被覆物質の第2の層を第
1の層の厚さと合わせた厚さが所定の厚さとなるような
厚さに吹きつける。
1の層の厚さと合わせた厚さが所定の厚さとなるような
厚さに吹きつける。
吹きつけ時間は20〜30秒、あるいは全体の厚さが約
0.0076〜0.0102crrL(3〜4ミル)と
ナルノニ要スル時間である。
0.0076〜0.0102crrL(3〜4ミル)と
ナルノニ要スル時間である。
本発明の方法で付着した被覆物質は各層と被覆全体にわ
たって、1立方センチメートル当り0.8〜1.2グラ
ムという一様な密度を有する。
たって、1立方センチメートル当り0.8〜1.2グラ
ムという一様な密度を有する。
付着された被覆の厚さは重量一体積比を決定することに
よって計算される。
よって計算される。
被覆の重量は、被覆されている陰極アセンブリの重量と
、被覆を除去した時の陰極アセンブリの重量とを測定し
て両者の差を求めることにより決定され、体積は、たと
えば、キャップ4の中央における被覆の厚さを測定する
ことにより決定される。
、被覆を除去した時の陰極アセンブリの重量とを測定し
て両者の差を求めることにより決定され、体積は、たと
えば、キャップ4の中央における被覆の厚さを測定する
ことにより決定される。
そして、密度は周知のようにある数の標本を基にして計
算される。
算される。
本発明の利点は第3A、3B図を第4A、4B図と比較
することによって知ることができる。
することによって知ることができる。
これらの図は活は化した後の被覆陰極の表面の走査電子
顕微鏡写真である。
顕微鏡写真である。
第3A図は従来の陰極の表面の50倍拡大写真、第3B
図は同じ陰極の表面の180倍拡大図である。
図は同じ陰極の表面の180倍拡大図である。
これらの写真から、この陰極の表面に孔が多数存在し、
表面が粗であることが明らかに認められる。
表面が粗であることが明らかに認められる。
とくに第4A、4B図の写真に示されている陰極表面と
比較するとこのことは明らかである。
比較するとこのことは明らかである。
第4A図は本発明の方法で被覆された陰極の表面の50
倍拡大写真、第4B図は同じ陰極の表面の180倍拡大
写真である。
倍拡大写真、第4B図は同じ陰極の表面の180倍拡大
写真である。
これらの写真から被覆の微−J一孔性に気づくであろう
。
。
これは「高温点」を生じさせない条件である。
また、この陰極の表面が著るしく平滑なことはその微・
」・孔性とあいまって、この陰極の汚染による劣化に対
する抵抗性が高くなる。
」・孔性とあいまって、この陰極の汚染による劣化に対
する抵抗性が高くなる。
その結果として、本発明の方法により被覆された陰極は
、その寿命が続く期間全体を通じて電子放出度が高くな
る。
、その寿命が続く期間全体を通じて電子放出度が高くな
る。
本発明の価値は、本発明の方法で作られた陰極が現在ま
でおよそ400万個に達していること、またこの陰極を
用いたテレビジョン受像管が100万本をはるかに超え
ているという事実によって示されている。
でおよそ400万個に達していること、またこの陰極を
用いたテレビジョン受像管が100万本をはるかに超え
ているという事実によって示されている。
第1図は従来の陰極アセンブリの拡大分解正面図、第2
図は陰極アセンブリ吹きつけチャンバの内部を示す略図
、第2A図は第2図に示されている陰極アセンブリ固定
要素の拡大平面図、第3A。 3B図は先行技術によって被覆された陰極アセンブリ表
面の走査電子顕微鏡写真、第4A、4B図は本発明の方
法で被覆された陰極アセンブリの走査電子顕微鏡写真で
ある。 2・・・・・・陰極アセンブリ、8・・・・・・電子放
出被覆層、10・・・・・・陰極アセンブリ吹きつけチ
ャンバ、16・・・・・・吹きつけ器、18・・・・・
・陰極アセンブリ固定要素。
図は陰極アセンブリ吹きつけチャンバの内部を示す略図
、第2A図は第2図に示されている陰極アセンブリ固定
要素の拡大平面図、第3A。 3B図は先行技術によって被覆された陰極アセンブリ表
面の走査電子顕微鏡写真、第4A、4B図は本発明の方
法で被覆された陰極アセンブリの走査電子顕微鏡写真で
ある。 2・・・・・・陰極アセンブリ、8・・・・・・電子放
出被覆層、10・・・・・・陰極アセンブリ吹きつけチ
ャンバ、16・・・・・・吹きつけ器、18・・・・・
・陰極アセンブリ固定要素。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 陰極アセンブリおよび吹きつけ器の温度が予め定め
られた高い値の状態において前記陰極アセンブリ上に微
小孔性の電子放出陰極被覆物質を吹きつける方法におい
て、 第1のガス層流を内部に有する陰極アセンブリ吹きつけ
チャンバの中に陰極アセンブリと吹きつけ器を入れるこ
とによりそれらの陰極アセンブリと吹きつけ器を予熱す
る工程と、 前記陰極アセンブリと前記吹きつけ器の温度を所定の高
い値に安定させるために前記予め定められた高い温度を
維持する工程と、 前記陰極アセンブリに微・」・孔性電子放出陰極被覆物
質の第1の層を初めの所定厚さに吹きつける工程と、 前記予め定められた高い温度の第2のガス層流を有する
容器の中に前記陰極アセンブリを保持することにより前
記陰極被覆物質を急速に乾燥させる工程と、 前記陰極アセンブリに前記陰極被覆物質の第2の層を第
1の層の厚さと合わせた厚さが最終的な厚さとなるよう
な厚さに吹きつける工程と、を備え、前記予熱と前記急
速乾燥に起因して、付着された前記陰極被覆物質は一様
な密度であり、層の表面は平滑であって微小孔はであり
、電子放出度が高く、寿命が長く、汚染による劣化に対
する抵抗性が高いことを特徴とする微・」・孔性の電子
放出陰極被覆物質の吹きつけ方法。 2、特許請求の範囲第1項記載の方法において、前記第
1および第2のガス層流の予め定められた高い温度は、
47.8〜50’C(118〜122cF)であること
を特徴とする方法。 3 特許請求の範囲第1項または第2項記載の方法にお
いて、前記陰極アセンブリを前記第2のガス層流に5〜
10分の間露出させることを特徴とする方法。 4 特許請求の範囲第1項記載の方法において、前記陰
極被覆物質の吹きつけの最初の被覆は複数の予熱された
陰極アセンブリに対して同時に行われ、かつ、前記陰極
被覆物質は前記チャンバー内に配置された前記容器内に
前記陰極アセンブリを保持することにより最初の乾燥が
行われることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/936,411 US4169168A (en) | 1978-08-24 | 1978-08-24 | Process for manufacturing microporous cathode coatings |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5530199A JPS5530199A (en) | 1980-03-03 |
| JPS5832444B2 true JPS5832444B2 (ja) | 1983-07-13 |
Family
ID=25468589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54107642A Expired JPS5832444B2 (ja) | 1978-08-24 | 1979-08-23 | 微小孔性の電子放出陰極被覆物質の引きつけ方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4169168A (ja) |
| JP (1) | JPS5832444B2 (ja) |
| CA (1) | CA1124587A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5848406U (ja) * | 1981-09-30 | 1983-04-01 | 株式会社神戸製鋼所 | 熱間静水圧成形装置 |
| JPS61126998A (ja) * | 1984-11-21 | 1986-06-14 | Kobe Steel Ltd | 等方圧加圧処理装置 |
| US4649061A (en) * | 1985-05-22 | 1987-03-10 | Rca Corporation | Method of apparatus for depositing oxide-cathode precursor material on a cathode substrate by air spraying |
| JPH0334638Y2 (ja) * | 1986-02-22 | 1991-07-23 | ||
| JPS63404A (ja) * | 1987-06-03 | 1988-01-05 | Kobe Steel Ltd | 熱間静水圧成形方法 |
| WO2003067005A1 (fr) * | 2002-02-10 | 2003-08-14 | Jun Mu | Serrure a bouton |
| US6875515B2 (en) * | 2002-05-10 | 2005-04-05 | General Electric Company | Fused quartz article having controlled devitrification |
| JP4760516B2 (ja) * | 2005-12-15 | 2011-08-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布装置及び塗布方法 |
| US20080128067A1 (en) * | 2006-10-08 | 2008-06-05 | Momentive Performance Materials Inc. | Heat transfer composite, associated device and method |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2943957A (en) * | 1958-10-21 | 1960-07-05 | Gen Electric | Method for the spraying of electron emitting thermionic cathodes |
| US3722045A (en) * | 1971-06-30 | 1973-03-27 | Gte Sylvania Inc | Methods of improving adherence of emissive material in thermionic cathodes |
-
1978
- 1978-08-24 US US05/936,411 patent/US4169168A/en not_active Expired - Lifetime
-
1979
- 1979-05-02 CA CA326,829A patent/CA1124587A/en not_active Expired
- 1979-08-23 JP JP54107642A patent/JPS5832444B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1124587A (en) | 1982-06-01 |
| JPS5530199A (en) | 1980-03-03 |
| US4169168A (en) | 1979-09-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5832444B2 (ja) | 微小孔性の電子放出陰極被覆物質の引きつけ方法 | |
| US4784160A (en) | Implantable device having plasma sprayed ceramic porous surface | |
| JP3103115B2 (ja) | ゲッターを収容するフィールドエミッターフラットディスプレー及びその製造法 | |
| Buckingham | Thermionic emission properties of a lanthanum hexaboride/rhenium cathode | |
| Kochsiek | Measurement of water adsorption layers on metal surfaces | |
| US3048146A (en) | Apparatus for spraying cathodes | |
| US4101800A (en) | Controlled-porosity dispenser cathode | |
| US4737679A (en) | Impregnated cathode | |
| US2433821A (en) | Electron emissive cathode | |
| US20180075952A1 (en) | Component with a ceramic base body having a conduit and a fastening element and method | |
| EP0299126A1 (en) | Impregnated thermionic cathode | |
| JP2021513495A (ja) | 金属炭化物粒子を含む水性懸濁液 | |
| JPH0673290B2 (ja) | 陰極線管用のゲッタ装置の製造法 | |
| KR20020027941A (ko) | 전자관용 음극 및 그 제조방법 | |
| CN112557458A (zh) | 一种氧化铟纳米线的制备方法、含氧化铟纳米线的no2传感器的制法、传感器 | |
| US4478590A (en) | Depression cathode structure for cathode ray tubes having surface smoothness and method for producing same | |
| EP1354637B1 (en) | Active liquid applicator for forming active film | |
| US4649061A (en) | Method of apparatus for depositing oxide-cathode precursor material on a cathode substrate by air spraying | |
| JP2672680B2 (ja) | 薄膜の製造方法及びこれに用いる蒸発源 | |
| EP4219021A1 (en) | A method and a system for applying a liquid to an object in a vacuum system | |
| JP4234856B2 (ja) | 電極体 | |
| JP2002350301A (ja) | 定量汚染試料作製方法及び装置 | |
| US2486955A (en) | Producing thin film of metal oxide | |
| US2032760A (en) | Cathode bat tube | |
| JPH05114405A (ja) | 電極材料膜生成方法および電極材料膜生成装置 |