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JPS5832783B2 - Thin plate gripper - Google Patents
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JPS5832783B2 - Thin plate gripper - Google Patents

Thin plate gripper

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Publication number
JPS5832783B2
JPS5832783B2 JP9684078A JP9684078A JPS5832783B2 JP S5832783 B2 JPS5832783 B2 JP S5832783B2 JP 9684078 A JP9684078 A JP 9684078A JP 9684078 A JP9684078 A JP 9684078A JP S5832783 B2 JPS5832783 B2 JP S5832783B2
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JP
Japan
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thin plate
side plates
wafers
base
plates
Prior art date
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JP9684078A
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将昭 貞森
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Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Expired legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はあらかじめ保持治具に互いに対向配列された半
導体ウェハ(以下、ウェハと称す)等の薄板体を重ね合
せて別の保持治具に移し替える場合に用いられる薄板体
の把持具に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a thin plate used when thin plate bodies such as semiconductor wafers (hereinafter referred to as wafers), which are arranged in advance in a holding jig to face each other, are stacked and transferred to another holding jig. This invention relates to a body gripping tool.

一般に、ウェハにガリウム、アルミニウム等の特定不純
物を拡散する方法として各ウェハ同士を重ね合せて拡散
を行なう重ね合せ拡散(別名、コインスタック拡散とも
呼ばれている)が周知である。
In general, as a method for diffusing specific impurities such as gallium and aluminum into wafers, overlapping diffusion (also known as coin stack diffusion), in which wafers are stacked on top of each other and diffusion is performed, is well known.

この方法は上記の如き特定不純物についてウェハ処理数
が大きくとれることから、多く採用されている。
This method is often adopted because it allows a large number of wafers to be processed for the above-mentioned specific impurities.

このような重ね合せ拡散を行なう工程においては、各ウ
ェハを、拡散前の表面処理として洗浄用キャリア治具に
互いに対向配列して保持させることにより化学薬品で洗
浄した後、別の保持治具に移し替えて重ね合せる作業が
必要になる。
In this overlapping diffusion process, each wafer is cleaned with chemicals by being held in a cleaning carrier jig facing each other as a surface treatment before diffusion, and then transferred to another holding jig. It will be necessary to transfer and overlap them.

この洗浄用キャリア治具としては、第1図に示すように
、対向するl対の側板2a、2b間の内面にそれぞれ平
行して等間隔で形成された多数の溝3a、3b間にピン
セット9を用いてウェハ1を1枚ずつ挿入することによ
り各ウェハ1を互いに対向配列するようになっている。
As shown in FIG. 1, this carrier jig for cleaning uses tweezers 9 between a large number of grooves 3a and 3b formed at equal intervals in parallel on the inner surface between l pairs of opposing side plates 2a and 2b, respectively. By inserting the wafers 1 one by one using the wafers 1, the wafers 1 are arranged to face each other.

また、前記保持治具としての拡散用ボートは、第2図に
示すように、断面が円形の石英棒7を枠状に組み合せた
構造のものが用いられている。
Further, as shown in FIG. 2, the diffusion boat used as the holding jig has a structure in which quartz rods 7 having a circular cross section are combined into a frame shape.

なお、第1図において、4a、4bは各側板2a、2b
間を一定に保つためのカラー、5a 、5bおよび6a
、6bは各側板2a、2bの上面にそれぞれ設けられた
l対の係合突起および係合穴である。
In addition, in FIG. 1, 4a and 4b are the respective side plates 2a and 2b.
Collars to maintain constant spacing, 5a, 5b and 6a
, 6b are l pairs of engagement protrusions and engagement holes provided on the upper surface of each side plate 2a, 2b, respectively.

第2図において、8は前記ボートに重ね合せて載置され
たウェハ1が転倒しないように支持する石英ロッドであ
り、とのロッド8はその長手方向に沿って摺動自在に構
成されている。
In FIG. 2, 8 is a quartz rod that supports the wafers 1 placed one above the other on the boat so that they do not fall over, and the rod 8 is configured to be slidable along its longitudinal direction. .

しかしながら、従来では、洗浄用キャリア治具に互いに
対向配列されたウェハ1を別の保持治具に移し替える場
合、ピンセット9を用いて一枚ずつ手作業で行わなけれ
ばならないため、手間がか力)るとともに面倒であり、
しかもウェハを破損しやすいという欠点があった。
However, conventionally, when transferring the wafers 1 arranged facing each other on a carrier jig for cleaning to another holding jig, it is necessary to manually transfer the wafers 1 one by one using tweezers 9, which is a time-consuming process. ) and troublesome;
Moreover, there was a drawback that the wafer was easily damaged.

本発明は、このような従来の欠点を除去するためになさ
れたもので、あらかじめ互いに対向配列されたウェハ等
の薄板体を一坦重ね合せてこの重ね合された薄板体の両
端部をかかえ込むように把持した後、そのままの状態で
一度に移し替えることにより、その作業を容易にかつ確
実に行なうことfJ3できる薄板体の把持具を提供する
ものである。
The present invention has been made in order to eliminate such conventional drawbacks, and involves stacking thin plate bodies, such as wafers, which have been arranged in advance to face each other, and then gripping both ends of the stacked thin plate bodies. To provide a gripping tool for a thin plate body, which allows the work to be carried out easily and reliably by gripping the object in the same manner and then transferring it at once in that state.

以下5図面を用いて本発明を実施例に基づき詳細に説明
する。
The present invention will be described in detail based on examples using the following five drawings.

第3図は本発明における把持具をウェハに適用する場合
の一実施例を示すものであり、同図aは外観斜視図、同
図すおよびCは同図aに示すI −I 、 ll−Hの
縦断面図をそれぞれ示す。
FIG. 3 shows an embodiment in which the gripping tool of the present invention is applied to a wafer, and FIG. 3A is an external perspective view, and FIGS. A vertical cross-sectional view of H is shown.

第3図において、方形を有する基台10の上面両端には
長手方向に沿って側板11,12が互いに対向配置して
垂直に植設されている。
In FIG. 3, side plates 11 and 12 are vertically planted on both ends of the upper surface of a base 10 having a rectangular shape, facing each other along the longitudinal direction.

これら各側板11゜12の両端は直角に折曲された折曲
部11a。
Both ends of each of these side plates 11 and 12 are bent portions 11a bent at right angles.

11bおよび12a、12bを有し、各折曲部11aと
12a、11bと12b間には側板11゜12を一定間
隔に保つようにカラー13a、13bが介在されている
11b, 12a, and 12b, and collars 13a and 13b are interposed between the bent portions 11a and 12a, and between 11b and 12b so as to keep the side plates 11 and 12 at a constant distance.

この場合、基台10に植設された側板lL12はその上
面に第1図に示す洗浄用キャリア治具を垂直に積み重ね
るようにこれとほぼ同一寸法でかつ同一間隔で構成され
る。
In this case, the side plate LL12 installed on the base 10 is configured to have approximately the same dimensions and the same spacing as the cleaning carrier jig shown in FIG. 1, so that the cleaning carrier jig shown in FIG. 1 can be vertically stacked on the upper surface thereof.

また、前記各側板lL12の両脇開口部近傍には基台1
0の近傍の比較的中央寄りに設けられた軸穴14a、1
4bおよび15a、15bを中心に円弧状スリット16
a、16bおよび17a、17bがそれぞれ形成され、
これら各スリット16aと17aおよび16b、17b
間には、板状を有する回動板18.19の下部位置にそ
れぞれ外方向に突出形成された各軸18a、18bおよ
び19a。
In addition, a base 1 is provided near the openings on both sides of each side plate lL12.
The shaft hole 14a, 1 is provided relatively centrally near 0.
4b and 15a, an arcuate slit 16 centered on 15b.
a, 16b and 17a, 17b are respectively formed,
Each of these slits 16a and 17a and 16b, 17b
In between, shafts 18a, 18b, and 19a are formed to protrude outward at the lower positions of plate-shaped rotating plates 18, 19, respectively.

19bが前記各軸穴14a、14bおよび15a。19b is each of the shaft holes 14a, 14b and 15a.

15bに挿入されてこれら各軸18a、18bおよび1
9a、19bを中心にして前記各回動板18.19を回
動させてその開口上面を開閉するように各回動板1B、
19の上部位置にそれぞれ外方向に突出形成された操作
片18c 、18dおよび19c 、19dがそれぞれ
嵌合されている。
15b and each of these shafts 18a, 18b and 1
Each of the rotating plates 1B,
Operating pieces 18c, 18d and 19c, 19d, which are formed to protrude outward, are respectively fitted into the upper positions of 19.

さらに、前記各側板lL12の中央開口部近傍には基台
10と平行して方形状スリット20゜21それぞれ設け
られており、これら各スリット20.21には断面Q)
L字形で一端部か3基台10の底部に固定された保持体
22,23の他端部が出入りするようになっている。
Further, rectangular slits 20.21 are provided in parallel with the base 10 near the center opening of each side plate 1L12, and each of these slits 20.21 has a cross section Q).
The holding bodies 22 and 23 are L-shaped and fixed at one end or at the bottom of the base 10, and the other ends thereof are adapted to go in and out.

この場合、各保持体22.23は、ピンジ、バネ性を有
する弾性体又は可とう性を有する合成樹脂板等f)3用
いられ、これら各保持体22.23の弾性力が前記側板
11.12の外側に開く方向に作用するように構成され
ている。
In this case, each of the holders 22, 23 is a pin, an elastic body with spring properties, a synthetic resin plate with flexibility, etc.f)3, and the elastic force of each of these holders 22, 23 is the same as the side plate 11. 12 is configured to act in the direction of opening outward.

なお、第3図において、24a。24bおよび25 a
、25bは各側板11,12の上面端部に設けられた
l対の係合突起、係合穴であり、これらは第1図に示す
洗浄用キャリア治具の係合突起、係合穴5a、5bおよ
び6a。
In addition, in FIG. 3, 24a. 24b and 25a
, 25b are l pairs of engagement protrusions and engagement holes provided at the upper end of each side plate 11, 12, and these are the engagement protrusions and engagement holes 5a of the cleaning carrier jig shown in FIG. , 5b and 6a.

6bと係合するようになっている。6b.

次に、このように構成された把持具の実施態様を第4図
乃至第6図に基づき説明する。
Next, an embodiment of the gripping tool configured in this way will be described based on FIGS. 4 to 6.

まず、第1図に示す洗浄用キャリア治具に互いに対向配
列された各ウェハ1の洗浄後、このキャリア治具の上部
に第3図に示す把持具を載置する際にこの把持具の開口
部を下にして各々の係合突起24a。
First, after cleaning the wafers 1 arranged opposite to each other on the cleaning carrier jig shown in FIG. 1, when placing the gripping tool shown in FIG. Each engaging protrusion 24a with the part facing down.

24bおよび5a、5bと係合穴5a、5bおよび25
a 、25bをそれぞれ位置合せして係合した後、これ
らの上下を反転し、第4図aに示すように5把持具31
上に洗浄用キャリア治具30を積層する。
24b and 5a, 5b and engagement holes 5a, 5b and 25
After aligning and engaging the 5 gripping tools 31 and 25b, turn them upside down and attach the 5 gripping tools 31 as shown in FIG. 4a.
A cleaning carrier jig 30 is stacked on top.

このとき、前記把持具31の保持体22.23および回
動板18,19を開いた状態にしておくと、前記キャリ
ア治具30の各溝3a。
At this time, if the holding bodies 22, 23 and rotating plates 18, 19 of the gripping tool 31 are kept open, each groove 3a of the carrier jig 30 will open.

3b間に配列されていた多数のウェハ1は、同時に把持
具31内に移り替わり、第4図すに示すように、基台1
0と側板11,12および回動板18.19により囲ま
れた領域内に不定形に集められる。
A large number of wafers 1 arranged between 3b are simultaneously transferred into the gripping tool 31, and as shown in FIG.
0, the side plates 11, 12, and the rotating plates 18, 19.

なお、前記各回動板18,19は相互の間隔b3洗浄用
キャリア治具30に保持されたウェハ枚数分の厚みを考
慮して、各ウェハ1を重ね合わせた重みが保てるように
設けられている。
Note that the rotating plates 18 and 19 are provided so that the weight of the stacked wafers 1 can be maintained, taking into consideration the thickness corresponding to the number of wafers held in the cleaning carrier jig 30 at a mutual interval b3. .

次に、各回動板18,19の操作片18c、18dおよ
び19c、19dを円弧状スリット16a、17aおよ
び16b、17bに沿って摺動すると、前記回動板18
,19は閉成して第4図Cに示すように各ウェハ1をコ
インスタック状に重ね合わせる。
Next, when the operation pieces 18c, 18d and 19c, 19d of each rotating plate 18, 19 are slid along the arcuate slits 16a, 17a and 16b, 17b, the rotating plate 18
, 19 are closed and the wafers 1 are stacked on top of each other in a coin stack as shown in FIG. 4C.

シカして、この状態で各保持体22.23の折曲他端部
を方形状スリンt−20,21にそれぞれ挿入させて突
出させると、各保持体22.23は回動板18.19に
よって重ね合わされた各ウェハ1の外円一部をかかえ込
むように保持する。
When the bent other ends of each holding body 22.23 are inserted into the rectangular slints T-20 and 21 and projected in this state, each holding body 22.23 is attached to the rotating plate 18.19. A part of the outer circle of each wafer 1 superimposed on each other is held so as to be held therein.

次いで、前記把持具31から洗浄用キャリア治具30を
離脱して該把持具31を、反転してその開口部を下にし
、第5図に示すように拡散用ボード32の上方に配置し
た後、把持具31の各保持体22゜23を開くと、あら
かじめ重ね合わされた各ウェハ1は一度に拡散用ボート
32に移される。
Next, the cleaning carrier jig 30 is removed from the gripping tool 31, and the gripping tool 31 is turned over so that its opening is facing down, and is placed above the diffusion board 32 as shown in FIG. When the holders 22 and 23 of the gripper 31 are opened, the wafers 1 which have been stacked in advance are transferred to the diffusion boat 32 at once.

しかる後、把持具31を取り外して石英ロッド8を寄せ
ると移し替えが完了する。
Thereafter, the gripping tool 31 is removed and the quartz rod 8 is brought together to complete the transfer.

このように、把持具31による移し替えを順次繰返すこ
とにより第6図に示すようにウェハ1の移し替え数量を
増すこともできる。
In this way, by sequentially repeating the transfer using the gripper 31, the number of wafers 1 transferred can be increased as shown in FIG.

上記把持具の材質は、ウェハの滑りやすさや洗浄手入れ
の容易さの点でテフロンが好ましいが、これに限らず、
ウェハを損傷したり汚染しないものであればよい。
The material of the above-mentioned gripping tool is preferably Teflon in terms of slipperiness of the wafer and ease of cleaning, but it is not limited to this.
Any material may be used as long as it does not damage or contaminate the wafer.

なむ、上記実施例では薄板体としてウェハの場合につい
て示したが、これに限らず、セラミック板、ガラス板、
サファイア板、液晶板等の薄板体の重ね合わせおよび移
し替えに利用することもできる。
In the above embodiments, a wafer is used as the thin plate, but it is not limited to this, and may be a ceramic plate, a glass plate,
It can also be used to stack and transfer thin plates such as sapphire plates and liquid crystal plates.

また、基台、側板、カラーおよび保持体等は、別体構造
にすることなく、可とう性の合成樹脂材により一体成形
することもできる。
Furthermore, the base, side plates, collar, holder, etc. can be integrally molded from a flexible synthetic resin material without having to be constructed as separate bodies.

以上説明したように1本発明の把持具によれば、あらか
じめ保持治具に互いに対向配列された薄板体を重ね合せ
て他の保持治具に同時に移し替えることができるので、
移し替え作業を容易にしかも確実に行なうことができる
とともに、薄板体の表面をされることがないので、薄板
体の破損や汚染のおそれがない等のすぐれた効果がある
As explained above, according to the gripping tool of the present invention, thin plate bodies arranged in advance on a holding jig so as to face each other can be superimposed and transferred to another holding jig at the same time.
The transfer operation can be carried out easily and reliably, and since the surface of the thin plate is not damaged, there are excellent effects such as there is no risk of damage or contamination of the thin plate.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図は重ね合わせ拡散工程に用いられて
いる洗浄用キャリア治蒙および拡散用ボートの外観斜視
図、第3図は本発明にかかる把持具の一実施例を示すも
ので、同図aは外観斜視図。 同図すおよびCは同図aに示すI−I、n−11の縦断
面図、第4図乃至第6図は第3図に示す把持具の実施態
様図で、第4図aは第3図の把持具に第1図に示す洗浄
用キャリア治具を積み重ねたときの斜視図、第4図すは
上記キャリア治具から把持具にウェハを移行したときの
態様を示す正面図、第4図Cは上記把持具内で多数のウ
ェハを重ね合せた態様を示す斜視図、第5図は上記把持
具から拡散用ボートへのウェハの移し替えの態様を示す
斜視図、第6図は上記ボートにウェハを多数重ね合せて
保持した態様を示す斜視図である。 10・・−・・−基台、11,12・・・・・・側板、
13a。 13 b−−−−・・カラー、14a、14b、15a
。 15 b−−−−軸穴、16a、16b、17a、17
b −円弧状スリット、18,19・・・・・・回動板
、20゜21・・・・・・方形状スリット、22.23
・・・・・・保持体、24a、24b・・・・・−係合
突起、25 a 、25 b・・−・・・係合穴。
1 and 2 are external perspective views of a cleaning carrier and a diffusion boat used in the overlapping diffusion process, and FIG. 3 shows an embodiment of the gripping tool according to the present invention. Figure a is an external perspective view. Figure 4 and C are longitudinal sectional views taken along line I-I and n-11 shown in figure a, Figures 4 to 6 are illustrations of the embodiment of the gripper shown in Figure 3, and Figure 4 a is FIG. 3 is a perspective view of the cleaning carrier jig shown in FIG. 1 stacked on the holding tool; FIG. 4 is a front view showing how the wafer is transferred from the carrier jig to the holding tool; FIG. 4C is a perspective view showing a state in which a large number of wafers are stacked in the above-mentioned gripping tool, FIG. 5 is a perspective view showing a state in which wafers are transferred from the above-mentioned holding tool to a diffusion boat, and FIG. FIG. 3 is a perspective view showing a mode in which a large number of wafers are stacked and held on the boat. 10...-Base, 11,12...Side plate,
13a. 13 b------Color, 14a, 14b, 15a
. 15 b---shaft hole, 16a, 16b, 17a, 17
b - Arc-shaped slit, 18, 19... Rotating plate, 20° 21... Rectangular slit, 22.23
...Holding body, 24a, 24b...-Engagement protrusion, 25a, 25b...Engagement hole.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 あらかじめ保持治具に互いに対向配列された薄板体
を重ね合せて別の保持治具に移し替えるものにおいて、
基台の長手方向に沿って該基台に対向配設されたl対の
側板と、該側板間に直交して該各側板の下部位置に水平
方向に軸支されかっ該各側板間の開口上面を開閉するよ
うに前記側板間に所定の間隔を保って回動自在に支持さ
れたl対の回動板と、前記側板間の中央開口部近傍の各
側板に前記基台に平行してそれぞれ設けられたl対のス
リットと、一端部が前記基台に固定され他端部が前記ス
リットに出し入れ自在に支持されて該他端部により各薄
板体の収容時に各薄板体の外周を保持するように設けら
れたl対の保持体とを具備したことを特徴とする薄板体
把持具。
1 In a device in which thin plate bodies arranged in advance in a holding jig to face each other are stacked and transferred to another holding jig,
A pair of side plates arranged opposite to the base along the longitudinal direction of the base, and an opening between the side plates that is orthogonal to each other and pivoted horizontally at a lower position of each of the side plates. A pair of rotating plates rotatably supported at a predetermined interval between the side plates so as to open and close the upper surface, and a pair of rotating plates arranged parallel to the base on each side plate near the central opening between the side plates. L pairs of slits are respectively provided, one end is fixed to the base, the other end is supported so as to be freely put in and taken out from the slit, and the other end holds the outer periphery of each thin plate when the thin plate is accommodated. 1. A thin plate body gripping tool comprising: l pairs of holding bodies provided so as to hold the thin plate body.
JP9684078A 1978-08-09 1978-08-09 Thin plate gripper Expired JPS5832783B2 (en)

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