JPS5834450B2 - Formaldehyde purification method - Google Patents
Formaldehyde purification methodInfo
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- JPS5834450B2 JPS5834450B2 JP15768980A JP15768980A JPS5834450B2 JP S5834450 B2 JPS5834450 B2 JP S5834450B2 JP 15768980 A JP15768980 A JP 15768980A JP 15768980 A JP15768980 A JP 15768980A JP S5834450 B2 JPS5834450 B2 JP S5834450B2
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- formaldehyde
- decomposed
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Description
【発明の詳細な説明】 この発明はホルムアルデヒドの精製法に関する。[Detailed description of the invention] This invention relates to a method for purifying formaldehyde.
ホルムアルデヒド水溶液とポリエチレングリコールとか
らヘミホルマールを生成させ、このヘミホルマール中の
水分を蒸発除去し、ついでヘミホルマールを熱分解して
ホルムアルデヒドと分解へミホルマールとを得た後、濡
壁塔内でこのホルムアルデヒドと分解へミホルマールと
を向流接触させて、ホルムアルデヒドを精製する方法は
公知である(特公昭48−19288号公報)。Hemi-formal is produced from an aqueous formaldehyde solution and polyethylene glycol, water in this hemi-formal is removed by evaporation, and then the hemi-formal is thermally decomposed to obtain formaldehyde and decomposed hemi-formal, which is then decomposed with formaldehyde in a wet wall column. A method for purifying formaldehyde by bringing it into countercurrent contact with miformal is known (Japanese Patent Publication No. 19288-1988).
この方法によると、水分含量が約100 ppmのホル
ムアルデヒドを得ようとすると、濡壁塔の温度を、冷媒
を用いて、−20〜O℃の低温に保持することが必要で
ある。According to this method, in order to obtain formaldehyde with a water content of about 100 ppm, it is necessary to maintain the temperature of the wetted wall tower at a low temperature of -20 to 0°C using a refrigerant.
さらに、ホルムアルデヒドの水分含量をより低下させる
ためには、さらに低温にする必要があるが、濡壁塔の温
度を低下させると、ホルムアルデヒドガスが分解へミホ
ルマールに吸収されて、ホルムアルデヒドの取得率が低
下するという問題をはらんでいる。Furthermore, in order to further reduce the water content of formaldehyde, it is necessary to lower the temperature further, but when the temperature of the wet wall tower is lowered, formaldehyde gas is absorbed by decomposed hemiformal, and the acquisition rate of formaldehyde decreases. It is fraught with the problem of doing so.
この発明は、上記方法を改良したホルムアルデヒドの精
製法を提供するものであり、濡壁塔に脱水された分解へ
ミホルマールを導入すると、濡壁塔の温度を低温に維持
しなくても水分含量が1100pp以下のホルムアルデ
ヒドが収率よく取得できるという知見に基づくものであ
る。This invention provides a method for purifying formaldehyde that is an improvement on the above method, and by introducing dehydrated decomposed hemiformal into a wet wall column, the water content can be reduced without maintaining the temperature of the wet wall column at a low temperature. This is based on the knowledge that formaldehyde of 1100 pp or less can be obtained in good yield.
すなわち、この発明は、
ホルムアルデヒド水溶液を沸点150℃以上のアルコー
ルと反応させてヘミホルマールを虫取させる第1の工程
、
第1の工程で得られるヘミホルマール中の水分を蒸発除
去する第2の工程、
第2の工程で得られるヘミホルマールを熱分解シテホル
ムアルデヒドと分解へミホルマールトヲ得る第3の工程
、および、
濡壁塔の下部に第3の工程で得られるホルムアルデヒド
を導入し、上部に第3の工程で得られる分解へミホルマ
ールを導入し、頂部から精製ホルムアルデヒドを抜き出
し、底部から分解へミホルマールを抜き出しアルコール
源として第1の工程に戻す第4の工程からなるホルムア
ルデヒドの精製法において、
第3の工程におけるヘミホルマールの熱分解装置として
気液接触塔を用い、底部温度をヘミホルマールの分解温
度以上に保持し、上部および中央部温度をヘミホルマー
ルの分解温度未満に保持し、気液接触塔の上部にヘミホ
ルマールを導入し、ヘミホルマールの熱分解によって塔
底部から発生し上昇するホルムアルデヒドガスと塔上部
から流下するヘミホルマールとを向流接触させて、ヘミ
ホルマール中の水分をホルムアルデヒドガスに同伴させ
、塔頂部から水分含有ホルムアルデヒドガスを抜き出し
、塔底部から分解へミホルマールを抜き出すことを特徴
とするホルムアルデヒドのlfR製法である。That is, this invention comprises: a first step of reacting an aqueous formaldehyde solution with an alcohol having a boiling point of 150° C. or higher to remove hemiformal; a second step of removing water in the hemiformal obtained in the first step by evaporation; A third step in which the hemiformal obtained in the step is thermally decomposed into formaldehyde and decomposed into formaldehyde, and the formaldehyde obtained in the third step is introduced into the lower part of the wetted wall column, and the formaldehyde obtained in the third step is introduced into the upper part. In a formaldehyde purification method comprising a fourth step of introducing decomposed hemiformal, extracting purified formaldehyde from the top, and extracting decomposed hemiformal from the bottom and returning it to the first step as an alcohol source, the heat of the hemiformal in the third step is A gas-liquid contact tower is used as a decomposition device, the bottom temperature is maintained above the decomposition temperature of hemi-formal, the upper and center temperatures are maintained below the decomposition temperature of hemi-formal, hemi-formal is introduced into the upper part of the gas-liquid contact tower, and the hemi-formal is Formaldehyde gas generated and rising from the bottom of the column due to thermal decomposition of This is the lfR production method for formaldehyde, which is characterized by extracting miformal from the bottom through decomposition.
以下に、この発明の1実施態様を示す図面を参照して、
この発明の詳細な説明する。With reference to the drawings showing one embodiment of the invention,
This invention will be explained in detail.
第1の工程
ヘミホルマール製造槽1に、ホルムアルデヒド水溶液お
よびアルコール源として第4の工程から戻される分解へ
ミホルマールを、それぞれ、導管11および12から導
入し、ヘミホルマールを虫取させる。In the first step, a formaldehyde aqueous solution and the decomposed hemiformal returned from the fourth step as an alcohol source are introduced into the hemiformal production tank 1 through conduits 11 and 12, respectively, and the hemiformal is removed by insects.
また、後述する第3の工程で得られる分解へミホルマー
ルの二部を導管18.13および12を通してヘミホル
マール製造槽1に、アルコール源として、導入すること
もできる。Furthermore, two parts of the decomposed hemiformal obtained in the third step described below can also be introduced into the hemiformal production tank 1 through conduits 18, 13 and 12 as an alcohol source.
アルコールとしては沸点150”C以上のアルコールが
使用され、その具体例としては、シクロヘキサノール、
トリメチロールプロパン、2−エチルヘキサノール、ノ
ニルアルコール、テシルアルコール、ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコールなどが挙げられる。As the alcohol, an alcohol having a boiling point of 150"C or more is used, and specific examples thereof include cyclohexanol,
Examples include trimethylolpropane, 2-ethylhexanol, nonyl alcohol, tacyl alcohol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and the like.
ポリエチレングリコールおよびポリプロピレングリコー
ルの分子量は200〜400であることが好ましい。The molecular weight of polyethylene glycol and polypropylene glycol is preferably 200 to 400.
第2の工程
第1の工程で得られるヘミホルマールを、導管14を通
して、蒸発器2に導入し、ヘミホルマール中の水分を蒸
発させて導管15から抜き出し、ヘミホルマールを導管
16から抜き出す。Second Step The hemiformal obtained in the first step is introduced into the evaporator 2 through the conduit 14, the water in the hemiformal is evaporated and extracted from the conduit 15, and the hemiformal is extracted from the conduit 16.
ヘミホルマール中の水分はできるだけ除去することが好
ましいが、蒸発器2として高性能のスミス式薄膜蒸発器
を用いた場合でも、蒸発器2から導出されるヘミホルマ
ール中には通常0.5〜1重量%の水が含有されている
。It is preferable to remove as much moisture as possible from the hemiformal, but even when a high-performance Smith type thin film evaporator is used as the evaporator 2, the hemiformal extracted from the evaporator 2 usually contains 0.5 to 1% by weight. of water.
原料として50%ホルマリンを用いた場合のようにヘミ
ホルマールの水分含有量が高い時は、蒸発器2を複数個
設け、最初の蒸発器2−aから留出するホルムアルデヒ
ド含有量が低い水は切捨て、前記蒸発器2−aの缶液を
次の蒸発器2−bに供給してそこで留出するホルムアル
デヒド含有量の高い水を第1の工程に戻すこともできる
。When the water content of hemiformal is high, such as when 50% formalin is used as a raw material, multiple evaporators 2 are provided, and the water distilled from the first evaporator 2-a with a low formaldehyde content is discarded. It is also possible to supply the bottom liquid from the evaporator 2-a to the next evaporator 2-b, and return the water distilled therefrom having a high formaldehyde content to the first step.
第3の工程
第2の工程で得られるヘミホルマールを、導管16から
気液接触塔3の上部に導入し、ヘミホルマールを熱分解
して、ホルムアルデヒドと分解へミホルマールとを得る
。Third Step The hemiformal obtained in the second step is introduced into the upper part of the gas-liquid contact tower 3 through the conduit 16, and the hemiformal is thermally decomposed to obtain formaldehyde and decomposed hemiformal.
気液接触塔3の底部温度はへミホルマールの分解温度以
上の温度、たとえば140〜170℃の範囲の温度に保
持し、上部および中央部の温度はへミホルマールの分解
温度未満の温度、たとえば115〜125℃の範囲の温
度に保持することが必要である。The temperature at the bottom of the gas-liquid contact tower 3 is maintained at a temperature higher than the decomposition temperature of hemiformal, for example, in the range of 140 to 170°C, and the temperature at the top and center is maintained at a temperature lower than the decomposition temperature of hemiformal, for example 115 to 170°C. It is necessary to maintain a temperature in the range of 125°C.
気液接触塔3に導入されたヘミホルマールは、塔の上部
および中央部では分解されることなく、塔内を流下する
。The hemiformal introduced into the gas-liquid contact tower 3 flows down inside the tower without being decomposed in the upper and central parts of the tower.
気液接触塔3の底部に流下したヘミホルマールは、そこ
で熱分解され、ホルムアルデヒドガスおよび分解へミホ
ルマールを生Sする。The hemiformal flowing down to the bottom of the gas-liquid contact tower 3 is thermally decomposed there to produce formaldehyde gas and decomposed hemiformal.
気液接触塔3の底部で生成されたホルムアルデヒドガス
は塔内を上昇し、塔内を流下するヘミホルマールと向流
接触し、ヘミホルマール中の水分を同伴する。Formaldehyde gas generated at the bottom of the gas-liquid contact tower 3 rises inside the tower, comes into countercurrent contact with the hemiformal flowing down inside the tower, and entrains moisture in the hemiformal.
従って、塔底部に流下するヘミポルマールは水分をほと
んど含んでいない。Therefore, the hemipolmar flowing down to the bottom of the tower contains almost no water.
ヘミホルマール中の水分を同伴したホルムアルテヒドガ
スは、気液接触塔30頂部から、導管17を通して抜き
出され、脱水された分解へミホルマールは、気液接触塔
3の底部から導管18を通して抜き出される。Formaltehyde gas entrained with moisture in the hemi-formal is extracted from the top of the gas-liquid contact tower 30 through the conduit 17, and dehydrated decomposed hemi-formal is extracted from the bottom of the gas-liquid contact tower 3 through the conduit 18. .
脱水された分解へミホルマールは、全量を第4の工程に
供することもでき、その二部を、導管13および12を
通して、ヘミホルマール製造槽1にアルコール源として
戻すこともできる。The entire amount of the dehydrated decomposed hemiformal can be subjected to the fourth step, and two parts thereof can be returned to the hemiformal production tank 1 as an alcohol source through conduits 13 and 12.
この工程においては、ヘミホルマールの供給量、ヘミホ
ルマールの分解率などを変化させて、脱水された分解へ
ミホルマール中の水分含有率を1100pp以下に調節
することが望ましい。In this step, it is desirable to adjust the water content in the dehydrated decomposed hemiformal to 1100 pp or less by changing the amount of hemiformal supplied, the decomposition rate of hemiformal, etc.
この調節はこの発明の教示に従い、当業者が容易に行な
うことができる。This adjustment can be easily made by one skilled in the art in accordance with the teachings of this invention.
第4の工程
濡壁塔4の下部に第3の工程で得られるホルムアルデヒ
ドガスを導管17から導入し、上部から第3の工程で得
られる分解へミホルマールを導管18から導入し、両者
を向流接触させ、ホルムアルデヒドガスを精製する。Fourth step: The formaldehyde gas obtained in the third step is introduced into the lower part of the wetted wall tower 4 through the conduit 17, and the decomposed formaldehyde gas obtained in the third step is introduced into the upper part through the conduit 18, and both flow in countercurrent flow. contact to purify formaldehyde gas.
精製ホルムアルデヒドは、濡壁塔4の頂部から導管19
を通して抜き出され、濡壁塔4に導入されるホルムアル
デヒドガス中の水、ギ酸、メタノールなどの不純物を吸
収した分解へミホルマールは、底部から導管12を通し
て抜き出され、ヘミホルマール製造槽1に戻される。Purified formaldehyde is passed from the top of the wet wall tower 4 to a conduit 19.
The decomposed hemiformal that has absorbed impurities such as water, formic acid, and methanol in the formaldehyde gas introduced into the wet wall column 4 is extracted from the bottom through the conduit 12 and returned to the hemiformal production tank 1.
精製ホルムアルデヒド中の水分は、脱水された分解へミ
ホルマール中の微量水分および濡壁塔4の温度に依存し
、脱水された分解へミホルマール中の水分が少ないほど
、また濡壁塔4の温度が低いほど、精製ホルムアルデヒ
ド中の水分含有率は低下する。The water content in the purified formaldehyde depends on the trace amount of water in the dehydrated decomposed hemi-formal and the temperature of the wet wall tower 4, and the lower the water content in the dehydrated decomposed hemi-formal, the lower the temperature of the wet wall tower 4. The more the water content in purified formaldehyde decreases.
既述した公知法においては、濡壁塔4に導入される分解
へミホルマールが充分には脱水されていないので、濡壁
塔4の温度を冷媒により一20〜0°Cに保持しないと
、重合用のホルムアルデヒドに一般的に要求される水分
含有率が100 ppm以下のものが得られない。In the previously mentioned known method, the decomposed hemiformal introduced into the wet wall tower 4 is not sufficiently dehydrated, so unless the temperature of the wet wall tower 4 is maintained at -20 to 0°C with a refrigerant, polymerization will occur. It is not possible to obtain formaldehyde with a water content of 100 ppm or less, which is generally required for formaldehyde for commercial use.
これに対し、この発明の第4の工程において濡壁塔4に
導入される分解へミホルマールは、先行する第3の工程
において充分脱水されているので、濡壁塔4の温度が2
0〜30℃という常温であっても、水分含有率が110
0pp以下の精製ホルムアルデヒドを容易に得ることが
できる。On the other hand, the decomposed hemiformal introduced into the wet wall tower 4 in the fourth step of the present invention has been sufficiently dehydrated in the preceding third step, so the temperature of the wet wall tower 4 is 2.
Even at room temperature of 0 to 30℃, the moisture content is 110
Purified formaldehyde of 0 pp or less can be easily obtained.
さらに、濡壁塔4の温度を常温に設定できるため、公知
法に比して、精製ホルムアルデヒドの取得率が増加する
。Furthermore, since the temperature of the wet wall tower 4 can be set to room temperature, the yield of purified formaldehyde is increased compared to known methods.
つぎに実施例を示す。Next, examples will be shown.
実施例 1
ヘミホルマール製造槽1に、50重量%ホルムアルデヒ
ド水溶液を0.95kg/時で、ホルムアルデヒド含有
率が13.0重量%のポリエチレングリコール(分子量
:300)を5.6 kg1時で供給し、常圧下105
℃で攪拌しながらヘミホルマールを生成させた。Example 1 A 50% by weight formaldehyde aqueous solution was supplied at a rate of 0.95 kg/hour and a polyethylene glycol (molecular weight: 300) having a formaldehyde content of 13.0% by weight was supplied at a rate of 5.6 kg/hour to a hemiformal production tank 1. Press down 105
Hemiformal was generated with stirring at .degree.
生成したヘミホルマールのホルムアルデヒド含有率は1
8.4重量%であった。The formaldehyde content of the hemiformal produced is 1
It was 8.4% by weight.
生成したヘミホルマールをヘミホルマール製造槽1から
連続的に抜き出し、スミス式薄膜蒸発器2−aに供給し
、温度80℃、絶対圧6011L11LHgでヘミホル
マール中の水分を蒸発除去した。The produced hemiformal was continuously extracted from the hemiformal production tank 1 and supplied to the Smith thin film evaporator 2-a, where the water in the hemiformal was evaporated at a temperature of 80°C and an absolute pressure of 6011L11LHg.
缶液中の水分含量は3.0重量%であった。The water content in the can liquid was 3.0% by weight.
この缶液を再びスミス式薄膜蒸発器2−bに供給し、温
度103℃、絶対圧30mmHgで水分を除去した。This bottom liquid was again supplied to the Smith type thin film evaporator 2-b, and moisture was removed at a temperature of 103° C. and an absolute pressure of 30 mmHg.
缶液のへミホルマールの水分含有率は0.5 重量%で
あった。The water content of the hemiformal in the can liquid was 0.5% by weight.
得られたヘミホルマールを6.0 kg、7時で気液接
触塔3の上部に導入した。6.0 kg of the obtained hemiformal was introduced into the upper part of the gas-liquid contact tower 3 at 7 o'clock.
気液接触塔3として、底部にリボイラーを取り付けた、
内径4CrIL、高さ170cmの塔を使用した。As the gas-liquid contact tower 3, a reboiler was installed at the bottom.
A tower with an internal diameter of 4 CrIL and a height of 170 cm was used.
また、気液接触塔3の内部には33個の棚段を設けた。Moreover, 33 trays were provided inside the gas-liquid contact tower 3.
缶液の温度を150℃に、棚段の温度を125℃に設定
した。The temperature of the can liquid was set at 150°C, and the temperature of the tray was set at 125°C.
気液接触塔3の頂部から水分含有率4.0重量%のホル
ムアルデヒドガスを0.75kg/時で、底部から水分
含有率80ppmの分解へミホルマールを5.3kg/
時で、それぞれ抜き出した。Formaldehyde gas with a water content of 4.0% by weight is fed from the top of the gas-liquid contact tower 3 at a rate of 0.75 kg/hour, and decomposed hemiformal with a water content of 80 ppm is fed from the bottom at a rate of 5.3 kg/hour.
In time, I pulled them out.
上記ホルムアルデヒドガスを、20℃に設定された濡壁
塔4の下部に導入し、濡壁塔4の上部に上記分解へミホ
ルマールを導入して、ホルムアルデヒドの精製を行なっ
た。The formaldehyde gas was introduced into the lower part of the wetted wall tower 4 set at 20°C, and the decomposed formaldehyde was introduced into the upper part of the wetted wall tower 4 to purify formaldehyde.
濡壁塔4の底部から抜キ出された分解へミホルマールは
へミホルマール製造槽1に戻された。The decomposed hemiformal extracted from the bottom of the wet wall tower 4 was returned to the hemiformal production tank 1.
精製ホルムアルデヒドの水分含有率は50ppmであっ
た。The water content of purified formaldehyde was 50 ppm.
また、精製ホルムアルデヒドの取得率(濡壁塔5に導入
されたホルムアルデヒドガス基準は62.5重量%であ
った。Moreover, the acquisition rate of purified formaldehyde (based on the formaldehyde gas introduced into the wet wall tower 5) was 62.5% by weight.
比較例 1
気液接触塔に代えて内容積81のへミホルマール分解槽
を使用し、ヘミホルマールを150℃に加熱して分解し
、発生するホルムアルデヒドガスを分解槽頂部から抜き
出し、分解へミホルマール(水分含有率、0.2重量%
)を分解槽低部から抜き出し、それぞれを濡壁塔4に導
入した以外は実施例1を繰返した。Comparative Example 1 A hemi-formal decomposition tank with an internal volume of 81 was used in place of the gas-liquid contact tower, and hemi-formal was heated to 150°C to decompose, the formaldehyde gas generated was extracted from the top of the decomposition tank, and the decomposed hemi-formal (water-containing rate, 0.2% by weight
) was extracted from the lower part of the decomposition tank, and Example 1 was repeated except that each was introduced into the wet wall column 4.
精製ホルムアルデヒドの水分含有率は400ppm、取
得率は62.5重量%であった。The water content of purified formaldehyde was 400 ppm, and the yield was 62.5% by weight.
実施例 2
ヘミホルマール製造槽1に、50重量%ホルムアルデヒ
ド水溶液を1.3kg/時で、ホルムアルデヒド含有率
が12.7重量%のシクロヘキサノールを5.9 kg
7時で供給し、常圧下80℃で攪拌しながらヘミホル
マールを生成させた。Example 2 In hemiformal production tank 1, 1.3 kg/hour of a 50% by weight formaldehyde aqueous solution and 5.9 kg of cyclohexanol with a formaldehyde content of 12.7% by weight were added.
The mixture was fed at 7 o'clock, and hemiformal was generated while stirring at 80° C. under normal pressure.
生成したヘミホルマールをヘミホルマール製造槽1から
連続的に抜き出し、スミス式薄膜蒸発器2−aに供給し
、温度70℃、絶対圧io。The produced hemiformal is continuously extracted from the hemiformal production tank 1 and supplied to the Smith type thin film evaporator 2-a at a temperature of 70° C. and an absolute pressure of io.
m*Hgでヘミホルマール中の水分を蒸発除去した。Water in the hemiformal was removed by evaporation using m*Hg.
缶液中の水分含有率は0.5重量%であった。The water content in the can liquid was 0.5% by weight.
得られたヘミホルマールを、実施例1において使用され
た気液接触塔3に供給し、缶液温度150℃、棚段温度
115℃で、ヘミホルマールを分解させ、頂部から水分
含有率3,2重量%のホルムアルデヒドガスを1.0
kg7時で、底部から水分含有率50 ppmの分解へ
ミホルマールを5.4 kg/時で、それぞれ抜き出し
た。The obtained hemiformal was supplied to the gas-liquid contact tower 3 used in Example 1, and the hemiformal was decomposed at a bottom liquid temperature of 150°C and a tray temperature of 115°C, and the water content was 3.2% by weight from the top. formaldehyde gas of 1.0
kg/h, and 5.4 kg/h of decomposed hemiformal with a moisture content of 50 ppm was extracted from the bottom.
上記ホルムアルデヒドガスを実施例1におけると同様に
して、濡壁塔4を用い20℃で精製し、塔頂から精製ホ
ルムアルデヒドを抜き出し、塔底から分解へミホルマー
ルを抜き出しへミホルマール製造槽1に戻した。The formaldehyde gas was purified at 20° C. using the wet wall column 4 in the same manner as in Example 1, purified formaldehyde was extracted from the top of the column, and mi-formal was extracted from the bottom of the column for decomposition and returned to the hemi-formal production tank 1.
精製ホルムアルデヒドの水分含有率は50ppm、取得
率は50重量%であった。The water content of purified formaldehyde was 50 ppm, and the yield was 50% by weight.
図面はこの発明の1実施態様を示す概略図である。
1・・・・・・ヘミホルマール製造槽、2・・・・・・
蒸発器、3・・・・・・気液接触塔、4・・・・・・濡
壁塔。The drawing is a schematic diagram showing one embodiment of the invention. 1... Hemiformal production tank, 2...
Evaporator, 3... gas-liquid contact tower, 4... wet wall tower.
Claims (1)
ルコールと反応させてヘミホルマールを生成させる第1
の工程、 第1の工程で得られるヘミホルマール中の水分を蒸発除
去する第2の工程、 第2の工程で得られるヘミホルマールを熱分解してホル
ムアルデヒドと分解へミホルマールとを得る第3の工程
、および、 濡壁塔の下部に第3の工程で得られるホルムアルデヒド
を導入し、上部に第3の工程で得られる分解へミホルマ
ールを導入し、頂部から精製ホルムアルデヒドを抜き出
し、底部から分解へミホルマールを抜き出しアルコール
源として第1の工程に戻す第4の工程からなるホルムア
ルデヒドの精製法において、 第3の工程におけるヘミホルマールの熱分解装置として
気液接触塔を用い、底部温度をヘミホルマールの分解温
度以上に保持し、上部および中央部温度をヘミホルマー
ルの分解温度未満に保持し、気液接触塔の上部にヘミホ
ルマールを導入し、ヘミホルマールの熱分解によって塔
底部から発生し上昇するホルムアルデヒドガスと塔上部
から流下するヘミホルマールとを向流接触させて、ヘミ
ホルマール中の水分をホルムアルデヒドガスに同伴させ
、塔頂部から水分含有ホルムアルデヒドガスを抜き出し
、塔底部から分解へミホルマールを抜き出すことを特徴
とするホルムアルデヒドの精製法。[Claims] 1. A first step in which hemiformal is produced by reacting an aqueous formaldehyde solution with an alcohol having a boiling point of 150° C. or higher.
a second step of evaporating and removing water in the hemiformal obtained in the first step; a third step of thermally decomposing the hemiformal obtained in the second step to obtain formaldehyde and decomposed hemiformal; , The formaldehyde obtained in the third step is introduced into the lower part of the wet wall column, the decomposed hemiformal obtained in the third step is introduced into the upper part, the purified formaldehyde is extracted from the top, and the decomposed hemiformal is extracted from the bottom and alcohol is extracted. In a formaldehyde purification method comprising a fourth step of returning the hemiformal to the first step as a source, a gas-liquid contact tower is used as a thermal decomposition device for hemiformal in the third step, and the bottom temperature is maintained at a temperature higher than the decomposition temperature of the hemiformal, The temperature of the upper and central parts is maintained below the decomposition temperature of hemi-formal, and hemi-formal is introduced into the upper part of the gas-liquid contact tower, and formaldehyde gas generated and rising from the bottom of the tower due to thermal decomposition of hemi-formal and hemi-formal flowing down from the upper part of the tower are separated. A method for purifying formaldehyde, which comprises bringing moisture in hemiformal into formaldehyde gas through countercurrent contact, extracting water-containing formaldehyde gas from the top of the column, and extracting decomposed hemiformal from the bottom of the column.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15768980A JPS5834450B2 (en) | 1980-11-11 | 1980-11-11 | Formaldehyde purification method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15768980A JPS5834450B2 (en) | 1980-11-11 | 1980-11-11 | Formaldehyde purification method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5781430A JPS5781430A (en) | 1982-05-21 |
| JPS5834450B2 true JPS5834450B2 (en) | 1983-07-27 |
Family
ID=15655227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15768980A Expired JPS5834450B2 (en) | 1980-11-11 | 1980-11-11 | Formaldehyde purification method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5834450B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013151439A (en) * | 2012-01-24 | 2013-08-08 | Polyplastics Co | Method for producing hemiformal concentrate and method for producing formaldehyde gas |
| JP2013159606A (en) * | 2012-02-09 | 2013-08-19 | Polyplastics Co | Method for producing formaldehyde gas and apparatus for producing formaldehyde gas |
-
1980
- 1980-11-11 JP JP15768980A patent/JPS5834450B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5781430A (en) | 1982-05-21 |
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