JPS5834941B2 - Programmable monolithic integrated circuit - Google Patents
Programmable monolithic integrated circuitInfo
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- JPS5834941B2 JPS5834941B2 JP50147954A JP14795475A JPS5834941B2 JP S5834941 B2 JPS5834941 B2 JP S5834941B2 JP 50147954 A JP50147954 A JP 50147954A JP 14795475 A JP14795475 A JP 14795475A JP S5834941 B2 JPS5834941 B2 JP S5834941B2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B69/00—Erasable-and-programmable ROM [EPROM] devices not provided for in groups H10B41/00 - H10B63/00, e.g. ultraviolet erasable-and-programmable ROM [UVEPROM] devices
Landscapes
- Semiconductor Memories (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Bipolar Transistors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプログラマブルリードオンリメモリ(以下P−
ROMと記す。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides a programmable read-only memory (hereinafter P-
It is written as ROM.
)に関し、特にPN破壊型のモノリシック集積回路用P
−ROMの方式に関するものである。), especially P for PN destruction type monolithic integrated circuits.
- This relates to the ROM system.
最近、各種の電子装置が小型軽量化および多様珪化を目
的として、ディジタル方式化を指向する傾向にあるが、
そこにおいて、情報を記憶するためのいわゆるメモリ回
路がますます重要になって来ており、記憶容量の増大と
同時に、多様化も要求される様になった。Recently, there has been a trend toward digitalization of various electronic devices with the aim of making them smaller, lighter, and more versatile.
Therefore, so-called memory circuits for storing information have become increasingly important, and at the same time an increase in storage capacity and diversification have been required.
特にユーザーの要求どおりの情報が永久的に記憶できる
いわゆるP−ROMは各種の情報産業機器にとって、不
可欠のものとなっており、その方式もいろいろ考案され
ている。In particular, so-called P-ROMs, which can permanently store information requested by users, have become indispensable for various information industry equipment, and various methods have been devised.
MO8方式のP−ROMはその集積度において優位に立
っているものの、動作速度と、書き込み情報の保持力お
よび、一般に複数電源を必要とする点でバイポーラ方式
に劣り、バイポーラ方式のうち、ヒユーズ方式のものは
通常の製造プロセスの他に、ニクロム等を用いてヒユー
ズを形成するためのプロセスが増えることと、ヒユーズ
溶断による書き込み後の再短絡という信頼性上の問題を
有するという欠点がある。Although the MO8 type P-ROM has an advantage in its degree of integration, it is inferior to the bipolar type in terms of operating speed, ability to retain written information, and generally requires multiple power supplies. This method has disadvantages in that it requires an additional process for forming a fuse using nichrome or the like in addition to the normal manufacturing process, and it has reliability problems such as re-shorting after writing due to fuse blowing.
したがって、現在ではトランジスタやダイオードを半固
定記憶素子として用い、そのPN接合を短絡破壊するこ
とにより情報の書き込みを行なういわゆる接合型P−R
OMが、通常のバイポーラ型の製造プロセスが適用でき
、特にベース開放のトランジスタを記憶素子として用い
、そのエミッタベース接合を短絡破壊する方式は、ベー
ス・コレクタ接合が、そのまま記憶素子アレイの分離用
ダイオードとして使用することができ、しかもコレクタ
領域は行方向に共通にできるため、行方向には絶縁を必
要としないという利点を有するために、モノリシック集
積回路用
用いられているのは周知のとおりである。Therefore, at present, a so-called junction type P-R is used, which uses a transistor or diode as a semi-fixed memory element and writes information by short-circuiting and destroying the PN junction.
For OM, a normal bipolar type manufacturing process can be applied, and in particular, a method in which a transistor with an open base is used as a storage element and its emitter-base junction is short-circuited and destroyed is such that the base-collector junction is directly used as a diode for separating the storage element array. As is well known, it is used for monolithic integrated circuits because it has the advantage of not requiring insulation in the row direction because the collector region can be shared in the row direction. .
第1図は従来の接合型P−ROMの構造を概念的に示す
もので、aは平面図、bは断面図である。FIG. 1 conceptually shows the structure of a conventional junction type P-ROM, in which a is a plan view and b is a sectional view.
図中、Cはコレクタ領域、Bはベース領域、Eはエミッ
タ領域、n+はコレクタの電極、JBE はベース・エ
ミッタ接合、JBcはベース・コレクタ接合、PEはエ
ミッタ端子、PCはコレクタ端子をそれぞれ示す。In the figure, C is the collector region, B is the base region, E is the emitter region, n+ is the collector electrode, JBE is the base-emitter junction, JBc is the base-collector junction, PE is the emitter terminal, and PC is the collector terminal. .
情報の書き込みはエミッタ端子PEよりJBEjJBC
を経て、コレクタ端子PCに適当な大きさの電流を流し
、JBEを降伏させ、そこに発生する熱により、JBE
を短絡破壊することにより行なう。Information is written from emitter terminal PE to JBEjJBC.
After that, a suitable amount of current is passed through the collector terminal PC to cause the JBE to break down, and the heat generated there causes the JBE to
This is done by short-circuiting and destroying.
このときJRCは順方向であり、電圧降下は小さく、発
熱も少ないので接合は破壊されない。At this time, the JRC is in the forward direction, the voltage drop is small, and there is little heat generation, so the junction is not destroyed.
第2図は従来の2×2ビツトの接合型P−ROMの回路
例の結線図で、Q17.Q1□、Q21およびQ22は
記憶素子用トランジスタで、トランジスタQij(1+
J−又は2)のコレクタはj行線Y・に、エミッタは
i列線Xiにそれぞれ接続されている。FIG. 2 is a wiring diagram of a circuit example of a conventional 2×2 bit junction type P-ROM. Q1□, Q21 and Q22 are memory element transistors, and transistors Qij(1+
The collector of J- or 2) is connected to the j-row line Y., and the emitter is connected to the i-column line Xi.
QlおよびQ2は読み出し用トランジスタ、R21およ
びR2は抵抗、01および02は出力端子である。Ql and Q2 are read transistors, R21 and R2 are resistors, and 01 and 02 are output terminals.
エミッタ接地トランジスタJ(i=1又は2)のベース
は行線Yiに、コレクタは抵抗R・を介して電源端子V
CCに接続されている。The base of the emitter-grounded transistor J (i = 1 or 2) is connected to the row line Yi, and the collector is connected to the power supply terminal V through the resistor R.
Connected to CC.
このような回路においては、各行線上のトランジスタは
コレクタが共通のため電気的に絶縁を必要とないことは
明白である。It is clear that in such a circuit, the transistors on each row line have a common collector and therefore do not require electrical insulation.
しかしながら従来の上記の方式は次段を1駆動するため
に読み出し用のトランジスタを必要とし、したがって書
き込まれた情報を読み出すための入力電圧は前述のアレ
イ分離用のダイオードおよび読み出し用トランジスタを
同時に導通させるに十分な大きさが要求されるため、例
えば単体の水銀電池等の低電圧電源のもとで動作する様
なFROMを実現することは不可能であった。However, the conventional method described above requires a read transistor to drive the next stage, and therefore, the input voltage for reading the written information simultaneously turns on the aforementioned array isolation diode and the read transistor. Therefore, it has been impossible to realize a FROM that operates on a low voltage power source such as a single mercury battery.
本発明の目的は従来の方式における上記の如き欠点を解
消し、低電源電圧動作が可能で、かつ構成素子数の少な
いP−ROMを提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to eliminate the above-mentioned drawbacks of the conventional system, and to provide a P-ROM that can operate at a low power supply voltage and has a small number of constituent elements.
第3図は本発明によるP−ROMの構造例を概念的に示
すもので、aは平面図、bは断面図である3図中、El
は第1のエミッタ、R2は第2のエミッタ、JBE+は
第1のベース・エミッタ接合、J BE2は第2のベー
ス・エミッタ接合、PE1は第1のエミッタ端子、PE
2は第2のエミッタ端子を示し他は第1図と共通である
。FIG. 3 conceptually shows a structural example of a P-ROM according to the present invention, in which a is a plan view and b is a cross-sectional view.
is the first emitter, R2 is the second emitter, JBE+ is the first base-emitter junction, JBE2 is the second base-emitter junction, PE1 is the first emitter terminal, PE
2 indicates the second emitter terminal, and the other parts are the same as in FIG. 1.
以下これらの図により、本発明の詳細を述べる。The details of the present invention will be described below with reference to these figures.
本発明の特徴は第3図に示す如く、記憶素子用のトラン
ジスタのベース領域B内に、情報の書き込み用エミッタ
領域E1とは別に、更に他のエミッタ領域E2を設けた
ことである。The feature of the present invention is that, as shown in FIG. 3, in the base region B of the transistor for the memory element, another emitter region E2 is provided in addition to the emitter region E1 for writing information.
情報の書き込みは従来のP−ROMと同様にして、第1
のエミッタ端子PE1よりコレクタ端子pcに、電流を
流し、JBE+を短絡破壊することにより行なう。Information is written in the same manner as in conventional P-ROMs.
This is done by passing a current from the emitter terminal PE1 to the collector terminal pc to short-circuit and destroy JBE+.
書き込みが行なわれた記憶素子は、従来の方式では単に
JBCがダイオードとしてのみ動作するのに相違し、本
発明においては、第2のエミッタ領域E2があることに
より、PE2.PE1.PCのそれぞれがエミッタ、ベ
ースおよびコレクタ端子となる様なトランジスタが存在
する。Unlike the conventional method in which the JBC simply operates as a diode, in the memory element to which writing has been performed, PE2. PE1. There are transistors such that PC serves as the emitter, base, and collector terminals, respectively.
したがって入力信号によりこれが導通すれば、その電流
増幅作用により、次段を7駆動するに十分な電流を流す
ことができる。Therefore, if this becomes conductive due to an input signal, its current amplification effect allows a current sufficient to drive the next stage to flow.
このことは、個々の記憶素子がそれぞれ読み出し用のト
ランジスタとして動作することを意味し、もはや余分の
読み出し用のトランジスタは不要となる。This means that each storage element operates as a read transistor, and an extra read transistor is no longer necessary.
以上のことより明らかな様に、本発明においては情報の
読み出しのために必要とされる入力電圧は単に、トラン
ジスタ1ケを導通させるだけの大きさで良く、前述の如
き低い電源電圧のもとでも十分動作が可能である。As is clear from the above, in the present invention, the input voltage required for reading information only needs to be large enough to make one transistor conductive. However, it is fully operational.
一方、情報の書き込みのない記憶素子に・ついては、従
来の方式と同様に、入力電圧がエミッタ・ベース接合の
逆方向耐圧を越えない限り、読み出し用トランジスタは
導通しない。On the other hand, for a memory element to which no information is written, the read transistor does not conduct unless the input voltage exceeds the reverse breakdown voltage of the emitter-base junction, as in the conventional method.
第4図は本発明の実施例である2×2ビツトのP−R,
OMの回路結線図を示す。FIG. 4 shows a 2×2 bit P-R, which is an embodiment of the present invention.
The circuit connection diagram of OM is shown.
Q:t t (J2 t Q/2tおよびQ□2は2つ
のエミッタを有する記憶素子用トランジスタで、トラン
ジスタQ’ (r ? J=1−又は2)のコレクタ
はj行線Yiに、エミッタの1つはi列線Xjは出力線
を兼ねている。Q: t t (J2 t Q/2t and Q□2 are memory element transistors having two emitters, and the collector of the transistor Q' (r? J=1- or 2) is connected to the j-row line Yi, and the emitter One is that the i-column line Xj also serves as an output line.
1つの入力端子に適当な大きさの入力信号が印加される
とそれに接続されている記憶素子のうち、書き込みの行
なわれているトランジスタが導通し、そのコレクタ端子
に接続されている出力端子は低レベルになる。When an input signal of an appropriate magnitude is applied to one input terminal, the transistor that is being written to among the memory elements connected to it becomes conductive, and the output terminal connected to its collector terminal becomes low. become the level.
一方、書き込みの行なわれていないトランジスタは導通
しないで、それに接続されている出力端子は高レベルの
まま保留される。On the other hand, transistors to which writing has not been performed do not conduct, and the output terminals connected thereto remain at a high level.
以上、本発明はその1つの実施例につき説明されたが、
それは単なる例示的なものであり、ここで説明された実
施例によってのみ前記した本願特許請求の範囲が限定さ
れるものでないことは勿論である。Although the present invention has been described above with reference to one embodiment thereof,
It goes without saying that these are merely illustrative, and that the scope of the claims herein is not limited only by the embodiments described herein.
第1図は、従来の接合型P−ROMの構造を概念的に示
すものでaは平面図、bは断面図である。
第2図は、従来の2×2ビツトの接合型P−ROMの回
路の結線図、第3図は、本発明によるFROMの構造例
を概念的に示すものでaは平面図すは断面図である。
第4図は、本発明の実施例である2×2ビツトのP−R
OM回路結線図である。
これらの図において、E・・・エミッタ領域、B・・・
ベース領域、C・・・コレクタ領域、n+コレクタ電極
、JBE・・・ベース・エミッタ接合、JRC・・・ベ
ース・コレクタ接合、PC・・・コレクタ端子、PE・
・・エミッタ端子、添数字は、第1と第2の別を示す3
Xl、X2・・・列線、Yl、¥2・・・行線、Qhl
y Q21 。
Q1□、Q22:Q′17.Qつ1 y QB2 to
二2・・・記憶素子用トランジスタ、
刃端子。
1
、R2・・・抵抗、
Ql、Q2・・・出FIG. 1 conceptually shows the structure of a conventional junction type P-ROM, in which a is a plan view and b is a sectional view. FIG. 2 is a circuit diagram of a conventional 2×2-bit junction type P-ROM, and FIG. 3 conceptually shows a structural example of a FROM according to the present invention. a is a plan view or a cross-sectional view. It is. FIG. 4 shows a 2×2 bit P-R, which is an embodiment of the present invention.
It is an OM circuit connection diagram. In these figures, E...emitter region, B...
Base region, C...Collector region, n+ collector electrode, JBE...Base/emitter junction, JRC...Base/Collector junction, PC...Collector terminal, PE/
...Emitter terminal, the subscript number is 3 indicating the difference between the first and second
Xl, X2... Column line, Yl, ¥2... Row line, Qhl
yQ21. Q1□, Q22:Q'17. Qtsu1 y QB2 to
22... Transistor for memory element, blade terminal. 1, R2...resistance, Ql, Q2...output
Claims (1)
2のエミッタ領域をそれぞれ設け、前記第1のエミッタ
領域のうち選択されたもののベース・エミッタ接合を破
壊することにより情報のかきこみを行ない、前記第2の
エミッタ領域は、前記ベース領域およびコレクタ領域と
あいまってトランジスタ動作をすることを特徴とするプ
ログラマブルモノリシック集積回路。1. Provide first and second emitter regions in the base regions of a plurality of transistors, write information by destroying the base-emitter junction of a selected one of the first emitter regions, and 2. A programmable monolithic integrated circuit, wherein the emitter region of No. 2 acts as a transistor in conjunction with the base region and the collector region.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50147954A JPS5834941B2 (en) | 1975-12-11 | 1975-12-11 | Programmable monolithic integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50147954A JPS5834941B2 (en) | 1975-12-11 | 1975-12-11 | Programmable monolithic integrated circuit |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5271992A JPS5271992A (en) | 1977-06-15 |
| JPS5834941B2 true JPS5834941B2 (en) | 1983-07-29 |
Family
ID=15441826
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50147954A Expired JPS5834941B2 (en) | 1975-12-11 | 1975-12-11 | Programmable monolithic integrated circuit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5834941B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5591164A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-10 | Fujitsu Ltd | Junction collapsible type programmable rom |
| CA1188418A (en) * | 1982-01-04 | 1985-06-04 | Jay A. Shideler | Oxide isolation process for standard ram/prom and lateral pnp cell ram |
-
1975
- 1975-12-11 JP JP50147954A patent/JPS5834941B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5271992A (en) | 1977-06-15 |
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