JPS583524B2 - Manufacturing method of liquid crystal display cell - Google Patents
Manufacturing method of liquid crystal display cellInfo
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- JPS583524B2 JPS583524B2 JP51021802A JP2180276A JPS583524B2 JP S583524 B2 JPS583524 B2 JP S583524B2 JP 51021802 A JP51021802 A JP 51021802A JP 2180276 A JP2180276 A JP 2180276A JP S583524 B2 JPS583524 B2 JP S583524B2
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、液晶セルの製造方法に関する。[Detailed description of the invention] The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal cell.
さらに詳言すれば、液晶に接する部分に有機系配向剤を
設けてなり、液晶充填用の孔を有する電界効果型液晶表
示セル用容器中にこの孔から液晶を充填した後の孔封止
方法に関する。More specifically, a hole sealing method after filling liquid crystal into a container for a field-effect liquid crystal display cell which has an organic aligning agent in the part that contacts the liquid crystal and has a hole for filling the liquid crystal. Regarding.
液晶表示セルは、受光型表示用部品として、低消費電力
、高コントラスト、高応答性能という特徴を有し、近年
、電子技術の発達と相俟って、腕時計をはじめとして、
電卓、各種計測機の表示分野に応用され、現在、これら
の実用化と共に、さらに、カラー化、メモリー化、低電
圧化、マトリックス表示、多機能表示などの開発が進め
られ、さらに、その応用分野が拡大されつつある段階で
ある。Liquid crystal display cells, as light-receiving display components, have the characteristics of low power consumption, high contrast, and high response performance.In recent years, along with the development of electronic technology, they have been used in products such as wristwatches.
It has been applied to the display field of calculators and various measuring instruments, and currently, in addition to these practical applications, development of color, memory, low voltage, matrix display, multi-function display, etc. is progressing, and its application fields are also expanding. is currently being expanded.
したがって、液晶表示セルには、品質精度の安定性と共
に耐久性部品としての高信頼性への改善が強く要望され
ている。Therefore, there is a strong demand for improvements in liquid crystal display cells to ensure stability in quality accuracy and high reliability as durable components.
しかるに、この液晶表示セルは、使用する液晶物質その
ものが、酸素、光、水などによって容易に化学変化ある
いは物理変化をおこし、変質してしまうという欠点があ
るため、これを如何に防止するかが高信頼性の液晶表示
セルを得るための大きなポイントとなる。However, the disadvantage of this liquid crystal display cell is that the liquid crystal material itself easily undergoes chemical or physical changes due to exposure to oxygen, light, water, etc., and is therefore subject to deterioration. This is a major point in obtaining highly reliable liquid crystal display cells.
一般に、電界効果型液晶表示セルは、一面上に所定パタ
ーンの導電膜を形成し、かつその面上に液晶に分子配向
を与えるための配向処理をした有機物質層を設けた2枚
の基板(透過式セルの場合には、基板、導電膜共に透明
、反射式セルの場合には、少なくとも一方の基板、導電
膜が透明)を配向処理面を10〜100μm程度の間隔
を置いて対向させ、その間隙周辺部を、液晶充填用の1
ヶまたは2ヶの孔を残して、封止材料によって封止して
液晶表示セル用容器を作り、この容器中に上記の孔から
液晶を充填した後、孔封止を行なって作られる。In general, a field-effect liquid crystal display cell consists of two substrates on which a conductive film with a predetermined pattern is formed on one surface, and an organic material layer on which an alignment treatment is applied to give molecular orientation to the liquid crystal. In the case of a transmission type cell, both the substrate and the conductive film are transparent, and in the case of a reflection type cell, at least one substrate and the conductive film are transparent). The area around the gap is filled with 1 for liquid crystal filling.
A container for a liquid crystal display cell is produced by leaving one or two holes remaining and sealing them with a sealing material, filling the container with liquid crystal through the holes, and then sealing the holes.
現在開発されている液晶表示セルの封止には、有機、無
機の各種材料が使川されているが、未だ信頼性において
、安定した性能を有するものが得られていないのが現状
である。Various organic and inorganic materials are being used for sealing liquid crystal display cells currently being developed, but the current situation is that no material with reliable and stable performance has yet been obtained.
とくに、孔封止に関しては、容器中への液晶充填後の封
止操作となるため、液晶への影響を考慮しつつ、なおか
つ基板と周辺封止材料とで囲まれた孔の封止を完全に行
なう必要があり、最も困難で、未だ実験室的にも完全な
孔封止方法は見出されていない。In particular, regarding hole sealing, since the sealing operation is performed after the liquid crystal is filled into the container, it is necessary to take into consideration the effect on the liquid crystal and to completely seal the hole surrounded by the substrate and surrounding sealing material. This is the most difficult method, and no method for completely sealing the holes has yet been found in the laboratory.
本発明は、以上の点に鑑み、信頼性が高く、しかも作業
性、コストの面からも従来の方法に比較して優秀な電界
効果型液晶表示セルの製造の際の孔封止方法を提供する
ことを目的とする。In view of the above points, the present invention provides a hole sealing method for manufacturing field-effect liquid crystal display cells that is highly reliable and superior in terms of workability and cost compared to conventional methods. The purpose is to
本発明は、このために、液晶充填用の孔を有する液晶表
示セル用ガラス容器の孔の周辺部の器壁土をプラズマ処
理した後、該処理面に3層からなる金属膜を被着した後
、この孔から容器中に液晶を充填し、しかる後、金属膜
上にハンダ層を形成して孔を封止するようにしたもので
ある。For this purpose, the present invention provides plasma treatment for the pottery wall soil around the hole of a glass container for a liquid crystal display cell having a hole for filling the liquid crystal, and then coating the treated surface with a metal film consisting of three layers. The liquid crystal is filled into the container through this hole, and then a solder layer is formed on the metal film to seal the hole.
液晶表示セル用容器を構成するガラス基板材料としては
、ソーダガラス、硼硅酸ガラス、硬質ガラスなどが使用
される。Soda glass, borosilicate glass, hard glass, etc. are used as the glass substrate material constituting the liquid crystal display cell container.
2枚のガラス基板を対向させて、その間隙周辺部を封止
する材料としては、結晶性または非結晶性のガラスフリ
ットが使用される。Crystalline or non-crystalline glass frit is used as a material for sealing the periphery of the gap between two glass substrates facing each other.
液晶物質としては、シツフ系、エステル系、アソ系、ア
ゾキシ系、ビフエニル系、トリフエニル系などの正の異
方性を有するネマチツク液晶の単独または混合系、ある
いは上記正の異方性を有するネマチツク液晶に、たとえ
ばp−メトキシベンジリデン−p′−n−プチルアニリ
ン、p一エトキシベンジリデン−p’n−ブチルアニリ
ンの如き負の異方性を有するネマチツク液晶を加えてな
る全体として正の異方性を有する混合系、さらにはこれ
らにコレステリツク液晶、各種旋光性有機化合物、その
他の添加剤を添加したものなどが使用できる。As the liquid crystal substance, nematic liquid crystals having positive anisotropy such as Schiff-type, ester-type, aso-type, azoxy-type, biphenyl-type, triphenyl-type, etc. alone or in combination, or the above-mentioned nematic liquid crystals having positive anisotropy can be used. A nematic liquid crystal having a negative anisotropy such as p-methoxybenzylidene-p'-n-butylaniline or p-ethoxybenzylidene-p'n-butylaniline is added to the liquid crystal to give an overall positive anisotropy. Mixtures of these materials, as well as systems in which cholesteric liquid crystals, various optically active organic compounds, and other additives are added, can be used.
充填された上記液晶に分子配向を与えるための有機配向
剤としては被膜形成性を有するもの、たとえば、ポリ塩
化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリメチルメタクリレート
、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブ
チラール、ポリメチルシアノアクリレート、ポリスルホ
ン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミ
ド、ポリベンゾイミダゾール、ポリアミド、ポリパラフ
エニルオキシド、ポリカーボネート、ポリアセタール、
ホリエチレン、ポリプロピレン、セルロース系樹脂、尿
素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂
、ポリエステル、アルキド樹脂、ウレタン樹脂、レゾル
シン樹脂、フラン樹脂シリコーン樹脂、弗素系樹脂、な
ど、及びこれらの共重合体など、さらに天然ゴム、スチ
レンーブタシエンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴ
ムポリクロロプレン、ポリブタジエン、ポリイソブチレ
ン、ポリイソプレン、チオコールゴム、ポリアクリレー
トなどのエラストマーなとの天然又は合成高分子、その
他イオン交換樹脂、界面活性剤高分子凝集剤などが単独
又は混合系で用いられるこれらは被膜形成後、布、刷毛
などで一定方向にこするなどの手段により配向処理され
る。Organic aligning agents for imparting molecular orientation to the filled liquid crystal include those having film-forming properties, such as polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, and polymethyl cyanoacrylate. , polysulfone, polyimide, polyamideimide, polyesterimide, polybenzimidazole, polyamide, polyparaphenyl oxide, polycarbonate, polyacetal,
Polyethylene, polypropylene, cellulose resin, urea resin, melamine resin, phenol resin, epoxy resin, polyester, alkyd resin, urethane resin, resorcinol resin, furan resin, silicone resin, fluorine resin, etc., and copolymers thereof, etc. In addition, natural or synthetic polymers such as elastomers such as natural rubber, styrene-butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, polychloroprene, polybutadiene, polyisobutylene, polyisoprene, thiol rubber, polyacrylate, other ion exchange resins, and high surfactant. Molecular coagulants and the like are used alone or in a mixed system. After forming a film, they are oriented by rubbing in a certain direction with a cloth, brush, or the like.
上記有機配向剤は溶液にして吹き付け法、浸漬法、回転
塗布法、刷毛塗り法などにより塗布するか、あるいは蒸
着などの手段によりセルを構成する基板上に被膜を形成
することができる。The above-mentioned organic alignment agent can be applied as a solution by a spraying method, a dipping method, a spin coating method, a brush coating method, or the like, or a film can be formed on the substrate constituting the cell by means such as vapor deposition.
この際いかに注意して操作しても基板端面の有機配向剤
による汚染は避けられず、この端面に付着する有機配向
剤の存在により、本発明の如き金属膜形成が妨げられる
。At this time, no matter how careful the operation is, contamination of the end face of the substrate by the organic alignment agent cannot be avoided, and the presence of the organic alignment agent adhering to this end face prevents the formation of a metal film as in the present invention.
すなわち、基板表面と金属膜との間に有機配向剤が介在
すると、金属が基板に強固に接着できない。That is, if an organic alignment agent is present between the substrate surface and the metal film, the metal cannot be firmly adhered to the substrate.
このため、ハンダシールした後ハンダと金属とがいっし
ょに基板より剥離しやすい。Therefore, after solder sealing, the solder and metal are likely to peel off together from the substrate.
そこで、本発明においては封止部分に金属層を設ける前
にプラズマ処理を行ない、上記の不要な有機配向剤を除
去する。Therefore, in the present invention, plasma treatment is performed before providing the metal layer on the sealing portion to remove the above-mentioned unnecessary organic alignment agent.
プラズマ処理は灰化用の酸素プラズマを用いる。The plasma treatment uses oxygen plasma for ashing.
すなわち、大空(約1/5酸素を含有している)あるい
は酸素だけ、又は酸素に水、アルコールなどを混合した
雰囲気で行なう。That is, it is carried out in the open air (containing about 1/5 oxygen), in an atmosphere of only oxygen, or a mixture of oxygen, water, alcohol, etc.
灰化用の酸素プラズマによる処理の後、エッチング用の
弗素系ガスによるプラズマによる処理を行なうこともで
きる。After the treatment with oxygen plasma for ashing, treatment with fluorine-based gas plasma for etching can also be performed.
また、酸素プラズマによる処理の後、酸素に弗素系ガス
を混合したガス雰囲気でプラズマ処理しても良く、この
混合ガス雰囲気下でのみ最初からプラズマ処理すること
も可能である。Further, after the treatment with oxygen plasma, plasma treatment may be performed in a gas atmosphere containing a mixture of oxygen and fluorine gas, and it is also possible to perform plasma treatment from the beginning only under this mixed gas atmosphere.
このように弗素系ガスを含む雰囲気でのプラズマ処理を
行なうと、封止部分の基板端面を極く微量だけエッチン
グして新たな汚染されていない基板端面を露出させるこ
とができる。When plasma processing is performed in an atmosphere containing a fluorine-based gas in this manner, the end face of the substrate in the sealed portion can be etched by a very small amount to expose a new uncontaminated end face of the substrate.
この場合、導電膜、その他の基板部分にプラズマが当た
ると、導電膜の劣化、消失などが起こりやすいため、そ
れらの部分に対しては必要に応じてマスキングを行なう
。In this case, if the conductive film or other parts of the substrate are exposed to plasma, the conductive film is likely to deteriorate or disappear, so these parts are masked if necessary.
このようにして、新たに基板端面を露出させれば、基板
面と金属層との接着は非常に良好なものとなる。If the end surface of the substrate is newly exposed in this way, the adhesion between the substrate surface and the metal layer becomes very good.
次にプラズマ処理した基板端面への金属膜の形成には、
真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーテイングなど
の方法が用いられる。Next, to form a metal film on the edge of the plasma-treated substrate,
Methods such as vacuum evaporation, sputtering, and ion plating are used.
ハンダとしては、銀入りハンダ、低融点ハンダその他の
通常のハンダで、融点が150〜450℃程度のものが
使用できる。As the solder, silver-containing solder, low melting point solder, and other ordinary solders having a melting point of about 150 to 450° C. can be used.
とくに、銀入りハンダは耐候性良好で好ましい。In particular, silver-containing solder is preferred because it has good weather resistance.
3層構造とする金属膜の材料としては、最下層金属にガ
ラスへの接着強度があり、耐候安定性の良好なCr,F
eまたはTiを厚さ100〜1000Å程度で、中間層
金属にハンダ接着強度があり、耐候性の良好なNiを厚
さ300〜1500Å程度で、最上層金属に液晶が介在
してもハンダに十分に濡れるAu,Pi,Rh,Pd,
Agなどの難酸化性金属を用いる。The material for the three-layer metal film is Cr and F, which have adhesive strength to glass and good weather resistance as the bottom metal.
E or Ti with a thickness of about 100 to 1000 Å, and Ni with a thickness of about 300 to 1500 Å, which has good solder adhesion strength and weather resistance, to the middle layer metal, is sufficient for soldering even if liquid crystal is interposed in the top layer metal. Au, Pi, Rh, Pd,
Use a hard-to-oxidize metal such as Ag.
孔封止部の構成をこのようにすれば、最下層金属がガラ
スとの接着強度を保ち、この接着強度はプラズマ処理し
てあるために非常に増大され、中間層金属がハンダとの
接着強度を保ち、最上層金属がハンダとの濡れ性を良好
にして封止特性を向上すると共に3層金属共に耐候性は
良好である。With this configuration of the hole sealing part, the bottom layer metal maintains its adhesive strength with the glass, and this adhesive strength is greatly increased due to the plasma treatment, and the middle layer metal maintains its adhesive strength with the solder. The top layer metal has good wettability with solder to improve sealing properties, and all three metal layers have good weather resistance.
したがって、(1)ハンダ付けの際の作業温度、時間範
囲を大にすることができ、ハンダ付け作業性が良好とな
る、(2)3層金属膜のガラスおよびハンダに対する接
着性および接着強度が良いので、封止性、耐衝撃性が向
上する、(3) 1 0 0℃、1000時間保存、7
0℃、90%RH(相対湿度)、1000時間保持、0
℃〜80℃の熱サイクルで10サイクルという耐候性試
験によって、電流値増加、外観不良、温度特性不良など
は認められず、長寿命の液晶表示セルが得られた。Therefore, (1) the working temperature and time range during soldering can be increased, and the soldering workability is improved; (2) the adhesion and adhesive strength of the three-layer metal film to glass and solder are improved; (3) Storage at 100°C for 1000 hours, 7
0°C, 90%RH (relative humidity), held for 1000 hours, 0
A weather resistance test consisting of 10 thermal cycles from .degree. C. to 80.degree. C. revealed no increase in current value, poor appearance, poor temperature characteristics, etc., and a long-life liquid crystal display cell was obtained.
以下に本発明を実施例によって詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below using examples.
実施例 1
第1図〜第3図は、本発明の製造工程を示し、図aは側
面図、図bはそれぞれ図aのA−A,B−B.C−C断
面図である。Embodiment 1 FIGS. 1 to 3 show the manufacturing process of the present invention, where FIG. a is a side view, and FIG. b is a side view, and FIG. It is a CC sectional view.
第1図に示すように、一面上に所定パターンをもった透
明導電膜1,2を形成した2枚のガラス基板3,4の導
電膜1,2のある面にポリイミド系高分子からなる配向
層5,6を設け、基板3,4の配向層5,6を所定の間
隔を置いて対向させ、対向する基板3,4の間隙周辺部
を、液晶充填用の孔7を残して、低融点ガラスフリット
8を用いて封止し、液晶表示セル用容器9を作る。As shown in FIG. 1, two glass substrates 3 and 4 each having a transparent conductive film 1 and 2 with a predetermined pattern formed thereon are oriented with polyimide polymers on the surfaces where the conductive films 1 and 2 are located. The alignment layers 5 and 6 of the substrates 3 and 4 are placed opposite to each other with a predetermined distance between them, and the periphery of the gap between the opposing substrates 3 and 4 is formed in a low-temperature manner, leaving a hole 7 for filling the liquid crystal. It is sealed using a melting point glass frit 8 to produce a liquid crystal display cell container 9.
つぎに、第2図に示すように、液晶表示セル用容器9を
プラズマチャンバー内に固定し、その側面の孔7の周辺
部を、酸素流量100cc/min、1mmHg,20
0Wの出力で10分間プラズマ処理した後、該処理面に
真空蒸着(真空度2×10−5Torr)により、厚さ
500ÅのCr層10、厚さ700ÅのNi層11、厚
さ500ÅのAu層12を所定の形状に順次形成した後
、減圧法により、孔7から容器9中にシツフ系Np液晶
13を充填する。Next, as shown in FIG. 2, the liquid crystal display cell container 9 was fixed in a plasma chamber, and the area around the hole 7 on the side thereof was heated at an oxygen flow rate of 100 cc/min, 1 mmHg, and 20
After plasma treatment for 10 minutes at an output of 0 W, a Cr layer 10 with a thickness of 500 Å, a Ni layer 11 with a thickness of 700 Å, and an Au layer with a thickness of 500 Å are formed on the treated surface by vacuum evaporation (vacuum degree 2 × 10 -5 Torr). 12 into a predetermined shape, Schiff-based Np liquid crystal 13 is filled into container 9 through hole 7 by a vacuum method.
この場合、孔7の入口近辺にも金属層が形成されている
とさらに都合がよい。In this case, it is more convenient if a metal layer is also formed near the entrance of the hole 7.
このためには、容器9を自転させながら、斜め蒸着を行
なえばよい。For this purpose, oblique vapor deposition may be performed while rotating the container 9.
さらに、第3図に示すように、Au膜12の孔7を封止
するように、周辺部から孔7上にかけて、ハンダゴテを
用いてハンダ層14を形成する。Furthermore, as shown in FIG. 3, a solder layer 14 is formed using a soldering iron from the periphery to above the hole 7 so as to seal the hole 7 of the Au film 12.
この場合、必ずしもAu層12の全面にハンダ上げする
必要はなく、孔7を埋めるに足る程度にハンダ付けをす
ればよい。In this case, it is not necessarily necessary to solder the entire surface of the Au layer 12, but it is sufficient to solder enough to fill the holes 7.
得られた液晶表示セルにつき、前述のような耐候性試験
を行なった結果、NI点低下、電流値増大および外観不
良なく、耐候性良好であることがわかった。The obtained liquid crystal display cell was subjected to a weather resistance test as described above, and as a result, it was found that the cell had good weather resistance, with no decrease in NI point, no increase in current value, and no defective appearance.
尚、上記ポリイミド系高分子被膜は次のような4通りの
ものを設け、布又は刷毛でこすって配向処理し、しかる
後上記のようにセルを製造し、それぞれについて上記の
ごとき結果が得られた。The following four types of polyimide polymer coatings were prepared, and the coatings were rubbed with cloth or a brush for orientation treatment. After that, cells were manufactured as described above, and the results described above were obtained for each of them. Ta.
(1)ピロメリット酸無水物と4,4′ジアミノジフエ
ニルエーテルを縮合して得たポリイミドの前駆体である
ポリアミツク酸の1%N−メチルピロリドン溶液を回転
塗布法により、基板の一方の面に塗布し、250℃で3
0分間加熱処理を行ない脱水閉環させてポリイミド被膜
を設けた。(1) A 1% N-methylpyrrolidone solution of polyamic acid, which is a precursor of polyimide obtained by condensing pyromellitic anhydride and 4,4' diaminodiphenyl ether, is applied to one side of the substrate by spin coating. 3 at 250℃.
Heat treatment was performed for 0 minutes to cause dehydration and ring closure, thereby providing a polyimide film.
(2)ヒロメリット酸無水物と4,4′−ジアミノジフ
エニルメタンを重付加して得たポリイミドの前駆体であ
るポリアミツク酸の0.5%ジメチルアセトアミド溶液
を回転塗布法によリ、基板の一方の面に塗布し、250
℃で30分間加熱処理を行ない脱水閉環させてポリイミ
ド被膜を設けた。(2) A 0.5% dimethylacetamide solution of polyamic acid, a precursor of polyimide obtained by polyaddition of hyromellitic anhydride and 4,4'-diaminodiphenylmethane, was applied to the substrate by spin coating. Apply on one side of the
A polyimide film was formed by heat treatment at ℃ for 30 minutes to cause dehydration and ring closure.
(3)3.3’ジ,アミノベンズアニリドとピロメリッ
ト酸無水物から重付加して得たポリアミドイミドの前駆
体であるポリアミツク酸の3%ジメチルアセトアミド溶
液を浸漬法により基板に塗布し、200℃で1時間加熱
して脱水閉環させポリアミドイミド被膜を設けた。(3) A 3% dimethylacetamide solution of polyamic acid, which is a precursor of polyamideimide obtained by polyaddition from 3.3' di, aminobenzanilide and pyromellitic anhydride, is applied to the substrate by a dipping method, and It was heated at ℃ for 1 hour to cause dehydration and ring closure, thereby providing a polyamideimide coating.
(4) ヒドロキノンおよびトリメリット酸無水物よ
り得られるジカルボン酸無水物と4,4′−ジアミノジ
フエニルエーテルとから得たポリエステルイミドの前駆
体のポリアミツク酸を基板にスプレーコートし、加熱処
理して脱水閉環させてポリエステルイミド被膜を設けた
。(4) Polyamic acid, a precursor of polyesterimide obtained from dicarboxylic anhydride obtained from hydroquinone and trimellitic anhydride, and 4,4'-diaminodiphenyl ether, is spray-coated on a substrate, and heated. A polyesterimide coating was provided by dehydration and ring closure.
実施例 2
ポリーα−アミノ酸による配向処理をした実施例1と同
様な液晶表示セル用容器の孔の周辺部を実施例1と同様
にプラズマ処理した後、その器壁土に、スパッタリング
法(真空度2 X10−5Torrにより、厚さ300
ÅのCr層、厚さ500ÅのNi層、厚さ300ÅのA
g層を形成した後、孔から容器中にエステル系液晶を充
填する。Example 2 After plasma treatment was performed on the periphery of the hole of a liquid crystal display cell container similar to Example 1, which had been subjected to orientation treatment using poly α-amino acids, sputtering method (vacuum degree 2 X10-5 Torr, thickness 300
Cr layer with thickness of Å, Ni layer with thickness of 500 Å, A layer with thickness of 300 Å
After forming the G layer, ester liquid crystal is filled into the container through the hole.
ついでこの容器をハンダ槽中に浸漬して上記Ag層全面
にハンダ層を形成した後、ビフエニル系液晶にトリフエ
ニル系液晶を添加してなる混合液晶を充填した後、実施
例1と同様にして孔封止を行なった。Next, this container was immersed in a solder bath to form a solder layer on the entire surface of the Ag layer, and then a mixed liquid crystal obtained by adding triphenyl liquid crystal to biphenyl liquid crystal was filled, and the holes were opened in the same manner as in Example 1. I did the sealing.
得られた液晶表示セルにつき、実施例1と同様な耐候性
試験を行なったところ、これら耐候性試験に合格した。The obtained liquid crystal display cell was subjected to weather resistance tests similar to those in Example 1, and passed these weather resistance tests.
実施例 3
弗素系樹脂による配向処理をした実施例1と同様な液晶
表示セル用容器の孔の周辺部を実施例1と同様にプラズ
マ処理した後、その器壁土に、真空蒸着法により、厚さ
200ÅのTi層、厚さ1000ÅのNi層、厚さ50
0ÅのAu層を形成した後、アゾキシ系とエステル系混
合液晶を容器中に充填する。Example 3 After plasma-treating the periphery of the hole of a liquid crystal display cell container similar to Example 1, which had been subjected to orientation treatment using a fluorine-based resin, a thick layer was applied to the vessel wall soil using a vacuum evaporation method. 200 Å thick Ti layer, 1000 Å thick Ni layer, 50 Å thick
After forming a 0 Å Au layer, azoxy-based and ester-based mixed liquid crystal is filled into the container.
ついで、低温ハンダゴテによって孔部にハンダ付けして
孔封止を行なった。Then, the hole was soldered using a low-temperature soldering iron to seal the hole.
得られた液晶表示セルにつき、実施例1と同様な耐候性
試験を行なったところ、これらの耐候性試験に合格した
。The obtained liquid crystal display cell was subjected to weather resistance tests similar to those in Example 1, and passed these weather resistance tests.
実施例 4
ポリオキシエチレンノニルフエニルエーテルの配向処理
をした被膜を有する実施例1と同様な液晶表示セル用容
器の孔の周辺部を実施例1と同様にプラズマ処理した後
、その器壁上に、イオンプレーテイングにより、厚さ5
00ÅのTi層、厚さ700ÅのNi層、厚さ500Å
のAg層を形成した後、容器中にシツフ系とビフエニル
系混合液晶を充填する。Example 4 After plasma-treating the periphery of the hole of a liquid crystal display cell container similar to Example 1 having a coating treated with orientation treatment of polyoxyethylene nonyl phenyl ether, the surface of the container wall was treated with plasma in the same manner as Example 1. By ion plating, the thickness of 5
00 Å Ti layer, 700 Å thick Ni layer, 500 Å thick
After forming the Ag layer, the container is filled with Schiff-based and biphenyl-based mixed liquid crystal.
ついで、容器を3.0%銀入りハンダを溶かしたハンダ
槽中に浸漬して、上記Ag層全面上にハンダ層を形成し
、孔封止を行なう。Next, the container is immersed in a solder bath containing 3.0% silver-containing solder to form a solder layer on the entire surface of the Ag layer to seal the holes.
得られた液晶表示セルにつき実施例1と同様な耐候性試
験を行なったところ、これらの耐候性試験に合格した。When the obtained liquid crystal display cell was subjected to weather resistance tests similar to those in Example 1, it passed these weather resistance tests.
以上詳述したところから、本発明によれば、耐候性の優
れた液晶表示セルが、作業性良く得られることは明らか
である。From the above detailed description, it is clear that according to the present invention, a liquid crystal display cell with excellent weather resistance can be obtained with good workability.
第1図〜第3図は、本発明の一実施例の製造工程説明図
である。
図において、1,2・・・・・・導電膜、3,4・・・
・・・ガラス基板、5,6・・・・・・有機配向剤層、
7・・・・・・液晶表示セル用容器の孔、8・・・・・
・周辺封止材料、9・・・・・・液晶表示セル用容器、
10・・・・・・Cr層、11・・・・・・Ni層、1
2・・・・・・Au層、13・・・・・・液晶、14・
・・・・・ハンダ層。FIGS. 1 to 3 are explanatory diagrams of manufacturing steps of an embodiment of the present invention. In the figure, 1, 2... conductive film, 3, 4...
...Glass substrate, 5,6...Organic alignment agent layer,
7... Hole of container for liquid crystal display cell, 8...
・Peripheral sealing material, 9... Container for liquid crystal display cell,
10...Cr layer, 11...Ni layer, 1
2... Au layer, 13... Liquid crystal, 14...
...Solder layer.
Claims (1)
晶充填用の孔を有する電界効果型液晶表示セル用容器中
に該孔から液晶を充填した後、上記の孔を封止して液晶
表示セルを製造する方法において、液晶未充填の上記容
器の孔の周辺部の器壁土をプラズマ処理した後、該処理
面に順次Cr,FeまたはTiからなる第1金属層、N
iからなる第2金属層およびAu,Pt,Rh,Pdま
たはAgからなる第3金属層を形成する工程、上記容器
の孔および該孔に連続して上記3層の金属層に形成され
た孔から上記容器中に液晶を充填する工程および上記第
3金属層上にハンダ付けして上記の孔を封止する工程を
含むことを特徴とする液晶表示セルの製造方法。1. An organic aligning agent is provided in the part in contact with the liquid crystal, and after filling the liquid crystal into a field-effect liquid crystal display cell container having a hole for filling the liquid crystal, the hole is sealed and the liquid crystal is filled. In the method of manufacturing a display cell, after plasma-treating the vessel wall soil around the hole of the container which is not filled with liquid crystal, a first metal layer made of Cr, Fe or Ti, and a first metal layer made of Cr, Fe or Ti are sequentially applied to the treated surface.
a step of forming a second metal layer consisting of i and a third metal layer consisting of Au, Pt, Rh, Pd or Ag, a hole in the container and a hole formed in the three metal layers continuous to the hole; A method for manufacturing a liquid crystal display cell, comprising the steps of: filling the container with liquid crystal; and soldering onto the third metal layer to seal the hole.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51021802A JPS583524B2 (en) | 1976-03-02 | 1976-03-02 | Manufacturing method of liquid crystal display cell |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51021802A JPS583524B2 (en) | 1976-03-02 | 1976-03-02 | Manufacturing method of liquid crystal display cell |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52105847A JPS52105847A (en) | 1977-09-05 |
| JPS583524B2 true JPS583524B2 (en) | 1983-01-21 |
Family
ID=12065178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51021802A Expired JPS583524B2 (en) | 1976-03-02 | 1976-03-02 | Manufacturing method of liquid crystal display cell |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS583524B2 (en) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5438908B2 (en) * | 1973-05-11 | 1979-11-24 | ||
| JPS50126252A (en) * | 1974-03-22 | 1975-10-03 | ||
| JPS5112247A (en) * | 1974-07-18 | 1976-01-30 | Kyonobu Yoshimura | NAKAJIKI |
-
1976
- 1976-03-02 JP JP51021802A patent/JPS583524B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52105847A (en) | 1977-09-05 |
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