JPS5835403B2 - Surface acoustic wave parametric device - Google Patents
Surface acoustic wave parametric deviceInfo
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- JPS5835403B2 JPS5835403B2 JP54166928A JP16692879A JPS5835403B2 JP S5835403 B2 JPS5835403 B2 JP S5835403B2 JP 54166928 A JP54166928 A JP 54166928A JP 16692879 A JP16692879 A JP 16692879A JP S5835403 B2 JPS5835403 B2 JP S5835403B2
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
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- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/64—Filters using surface acoustic waves
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は可変周波数選択装置として作用させる弾性表面
波パラメトリック装置に関するもので、ポンプ電極を弾
性表面波の伝播方向に沿って複数個に分割し、分割した
各ポンプ電極に印加するパランl−IJラック互作用領
域形成用電圧における直流バイアス電圧の値を、所望の
出力周波数特注に対応させてそれぞれ異ならせることに
より、前記可変周波数選択装置の周波数特注を所望通り
に設計し得るようにしたパラメトリック装置に係るもの
である。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a surface acoustic wave parametric device that functions as a variable frequency selection device, in which a pump electrode is divided into a plurality of parts along the propagation direction of the surface acoustic wave, and each divided pump electrode has a The frequency customization of the variable frequency selection device can be designed as desired by varying the value of the DC bias voltage in the applied Paran l-IJ rack interaction region forming voltage in accordance with the desired output frequency customization. The present invention relates to a parametric device designed to obtain a parametric device.
本出願人は先に特願昭52−107271号等で開示し
たように、第1図に示すような可変周波数選択機能を備
えた弾は表同波装置を発明した。As previously disclosed in Japanese Patent Application No. 52-107271, the present applicant has invented a bullet synchronization device having a variable frequency selection function as shown in FIG.
第1図において符号1は半導体基板にして、この半導体
基板1上に絶縁膜2および圧電体層3を順次積層させ、
さらにこの圧電体層3上に直流バイアス電圧ならびにポ
ンプ電圧を印加するための方形状のポンプ電極4、およ
び入・出カドランスジューサ5,6をそれぞれ配設した
ものである。In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a semiconductor substrate, and an insulating film 2 and a piezoelectric layer 3 are sequentially laminated on this semiconductor substrate 1.
Further, on the piezoelectric layer 3, a rectangular pump electrode 4 for applying a DC bias voltage and a pump voltage, and input/output transducers 5, 6 are provided, respectively.
符号7は直流バイアス印加用の直流電源、8は交流阻止
用のインダクタ、9はポンプ電圧印加用の高周波電源、
10は直流阻止用のコンデンサであって、さらに11,
12は端面において不要な弾性表面波が反射するのを防
止するための弾性表面波吸収材である。7 is a DC power supply for applying DC bias, 8 is an inductor for blocking AC, 9 is a high frequency power supply for applying pump voltage,
10 is a DC blocking capacitor, and 11,
12 is a surface acoustic wave absorbing material for preventing unnecessary surface acoustic waves from being reflected at the end face.
そしてポンプ電極4に直流電源7から直流バイアス電圧
を印加し、このポンプ電極4直下の半導体基板1表面部
に適宜の空間電荷層容量を生じさせ、さらに高周波電源
9から選択希望中心周波数fの2倍の周波数2fのポン
プ電圧を同じくポンプ電極4に印加し、前記の空間電荷
層容量を周波数2fで励振して、この空間電荷層容量を
周波数2fで変化させる。Then, a DC bias voltage is applied to the pump electrode 4 from the DC power source 7 to generate an appropriate space charge layer capacitance on the surface of the semiconductor substrate 1 directly under the pump electrode 4, and then a high frequency power source 9 is applied to the pump electrode 4 to generate a suitable space charge layer capacitance. A pump voltage with twice the frequency of 2f is similarly applied to the pump electrode 4 to excite the space charge layer capacitance at the frequency of 2f, thereby changing the space charge layer capacitance at the frequency of 2f.
〇
一方、広帯域性の入カドランスジューサ5に電気信号を
入力させると、この入力電気信号は弾は表面波信号に変
換されて圧電体層3の表面を第1図において入カドラン
スジューサ5の左右に向けて伝播する。〇On the other hand, when an electrical signal is input to the input quadrature transducer 5 having a broadband property, this input electrical signal is converted into a surface wave signal and the surface of the piezoelectric layer 3 is transmitted to the input quadrature transducer 5 as shown in FIG. It propagates to the left and right.
そして右方に伝播する弾性表面波入力信号13のうちで
周波数f近傍の信号成分がポンプ電極4下方部の動作領
域を伝播していく過程で、その圧電ポテンシャルが半導
体基板1表面の空間電荷層容量非線形効果によりポンプ
電圧とパラメトリック相互作用を生じて増幅され、この
増幅された弾性表面波信号14が出カドランスジューサ
6により再び電気信号に変換されて外部に出力される。Then, in the process in which the signal component near the frequency f of the surface acoustic wave input signal 13 propagating to the right propagates through the operating region below the pump electrode 4, its piezoelectric potential is transferred to the space charge layer on the surface of the semiconductor substrate 1. A parametric interaction occurs with the pump voltage due to the capacitive nonlinear effect, and the amplified surface acoustic wave signal 14 is converted back into an electric signal by the output transducer 6 and output to the outside.
またこれと同時にポンプ電極4から図の左方に向けて、
弾は表面波入力信号13の大きさに対応した周波数fi
(fi =2 fo−fs 、fs :入力信号の周
波数)の弾性表面波信号15が発生する。At the same time, from the pump electrode 4 towards the left side of the figure,
The bullet has a frequency fi corresponding to the magnitude of the surface wave input signal 13.
A surface acoustic wave signal 15 of (fi = 2 fo - fs, fs: frequency of input signal) is generated.
この弾性表面波信号15も出力信号として適宜に外部に
出力させることができる。This surface acoustic wave signal 15 can also be appropriately outputted to the outside as an output signal.
ここで上記の各出力弾性表面波信号14,15の周波数
特P414a、15a、14b、15bを、入力信号1
3の大きさを1として示したのが第2〜3図であって、
第2図はポンプ電圧が比較的小さい場合、第3図はポン
プ電圧が比較的大きい場合をそれぞれ示したものである
。Here, the frequency characteristics P414a, 15a, 14b, 15b of each of the above output surface acoustic wave signals 14, 15 are input to the input signal 1.
Figures 2 and 3 show the size of 3 as 1,
FIG. 2 shows a case where the pump voltage is relatively small, and FIG. 3 shows a case where the pump voltage is relatively large.
上記の両図に示すように、方形状のポンプ電極4を備え
た弾性表面波装置においては、選択希望中心周波数f。As shown in both figures above, in a surface acoustic wave device equipped with a rectangular pump electrode 4, the desired center frequency f is selected.
における出力を定めたとき、信号通過帯域のレスポンス
、およびスプリアスレスポンスはほぼ決ってしまう。When the output at is determined, the response of the signal passband and the spurious response are almost determined.
このため従来の弾は表面波装置は周波数選択装置として
使用する場合に、周波数特注の設計の自由度が極めて少
なく、またスプリアスレスポンスの太きさも実用上十分
に小さいとは云えないものであった。For this reason, when using conventional surface wave devices as frequency selection devices, there was extremely little freedom in designing custom frequencies, and the width of the spurious response was not small enough for practical use. .
ここにおいて本発明は周波数選択装置として使用する上
において、信号通過帯域のレスポンスを仕様に合わせ得
るとともに、スプリアスレスポンスを実用上支障のない
程度にまで減少させ得るようにした弾性表面波パラメト
リック装置を提供しようとしたものである。Here, the present invention provides a surface acoustic wave parametric device that can match the response of a signal passband to specifications and reduce spurious responses to a level that does not cause any practical problems when used as a frequency selection device. That's what I tried to do.
即ち本発明は次のような理論のもとになされたものであ
る。That is, the present invention was made based on the following theory.
いま一般的な電気回路理論によれば、線形回路の出力周
波数%注は、入力端にインパルスを印加したときの出力
端の時間応答(時間変化)をフーリエ変換することによ
り求められる。According to current electric circuit theory, the output frequency % of a linear circuit is obtained by Fourier transforming the time response (time change) of the output end when an impulse is applied to the input end.
したがって、逆に所望の周波数特注とフーリエ変換の関
係にある時間応答を求め、この時間応答とインパルス応
答とが等しくなるように線形回路を構成すれば当該所望
の周波数特注を有する出力信号が得られる。Therefore, by conversely finding a time response that has a Fourier transform relationship with the desired frequency customization, and configuring a linear circuit so that this time response and impulse response are equal, an output signal having the desired frequency customization can be obtained. .
ここで上記の理論を、前記した従来例たる第1図の装置
に適用した場合について、第4図A〜第7図Bを参照し
てさらに具体的に説明すると次のとおりである。Here, the case where the above theory is applied to the conventional device shown in FIG. 1 will be described in more detail with reference to FIGS. 4A to 7B.
いま第1図に示す弾は表面波パラメトリック装置におい
て、パラメトリック相互作用を余り強くない状態に設定
して、入カドランスジューサ5に第4図Aに示すような
継続時間をOとした理想的なインパルスeを時間1=0
で入力させたとする。The bullet shown in Fig. 1 is created using a surface wave parametric device, with the parametric interaction set to not be very strong, and with the ideal duration O as shown in Fig. 4A in the input quadrangle juicer 5. Impulse e at time 1=0
Suppose you input it with
このときポンプ電極4から左右に向けて出力される2つ
の弾は表面波信号出力のうち、入力弾性表面波13と逆
方向に進行する出力信号15(周波数fi )について
の時間応答■1をとると第4図Bに示すものが得られる
。At this time, the two bullets output from the pump electrode 4 to the left and right take a time response ■1 with respect to the output signal 15 (frequency fi) which travels in the opposite direction to the input surface acoustic wave 13 among the surface wave signal outputs. The result shown in FIG. 4B is obtained.
ここで第4図B中、時間t1とは弾性表面波信号が入カ
ドランスジューサ5とポンプ電極4における前端4′と
の間を往復するのに要する時間であり、また時間t2と
は弾は表面波信号が入カドランスジューサ5とポンプ電
極4における後端4との間を往復するのに要する時間を
示している。Here, in FIG. 4B, time t1 is the time required for the surface acoustic wave signal to travel back and forth between the input quadrature transducer 5 and the front end 4' of the pump electrode 4, and time t2 is the time required for the surface acoustic wave signal to travel back and forth between the input quadrature transducer 5 and the front end 4' of the pump electrode 4. It shows the time required for the surface wave signal to travel back and forth between the inlet transducer 5 and the rear end 4 of the pump electrode 4.
上記の入力インパルスe1と、出力時間応答11とをさ
らに詳しく説明すると、理想的なインパルス応答中には
無限の周波数成分が含まれている。To explain the input impulse e1 and the output time response 11 in more detail, an ideal impulse response includes infinite frequency components.
このインパルスeが入カドランスジューサ5から入■
力されると、上記の無限の周波数成分のうち(ポンプ周
波数を2f としたとき)周波数f近傍の0
信号成分のみが主にパラメトリック相互作用を受けて入
力弾は表面波13と逆方向に進行する後退波弾性表面波
信号15として出力される。When this impulse e is input from the input quadrature transducer 5, only the 0 signal component near the frequency f (when the pump frequency is 2f) among the above infinite frequency components mainly undergoes parametric interaction. The input bullet is output as a backward surface acoustic wave signal 15 traveling in the opposite direction to the surface wave 13.
この出力信号における周波数成分をAM検波したときの
エンベロープが第4図Bに示す出力時間応答■1である
。The envelope when the frequency component in this output signal is subjected to AM detection is the output time response 1 shown in FIG. 4B.
一方、インパルスeに代えて、入カドランスジユーザ5
に第5図Aに示すような周波数fを含む振幅一定の信号
eを印加したときの後退波弾性表同波出力信号15の周
波数スペクトル15cを示したのが第5図Bである。On the other hand, instead of impulse e, input quadrangle user 5
FIG. 5B shows the frequency spectrum 15c of the backward wave elastic table same-wave output signal 15 when a signal e having a constant amplitude and a frequency f as shown in FIG. 5A is applied.
因みにこの第5図Bの周波数スペクトル15cは前記第
2図中符号15aで示す出力周波数特注に対応する。Incidentally, the frequency spectrum 15c in FIG. 5B corresponds to the custom-made output frequency indicated by reference numeral 15a in FIG.
ここで上記の周波数スペクトル15cは、前記の時間応
答■1をフーリエ変換したものに相当する、そこで、い
ま仮りに第5図Bに示す周波数スペクトル15cが、所
望の周波数特注であるとすると、これとフーリエ変換の
関係にあるのが第4図Bに示す時間応答■1であって、
この時間応答■1を呈する線形回路、即ち弾性表面波パ
ラメトリック装置が第1図に示した方形状のポンプ電極
4を備えた装置なのである。Here, the above frequency spectrum 15c corresponds to the Fourier transform of the above-mentioned time response (1). Therefore, if the frequency spectrum 15c shown in FIG. 5B is a custom-made desired frequency, then this The time response ■1 shown in Figure 4B has a Fourier transform relationship with
The linear circuit exhibiting this time response (1), ie, the surface acoustic wave parametric device, is the device equipped with the rectangular pump electrode 4 shown in FIG.
しかし上記の理想的インパルスe は実際には実現不可
能である。However, the above-mentioned ideal impulse e is actually unrealizable.
そこでこれに代えて第6図Aに示すようなキャリア周波
数f。Therefore, instead of this, a carrier frequency f as shown in FIG. 6A is used.
、継続時間f (t<1−1)のRFパルスe′を用い
る。, an RF pulse e' of duration f (t<1-1) is used.
2 1 1このと
き後退波出力信号15についての時間応答■1′は第6
図Bに示すものが得られ、これをAM検波したときのエ
ンベロープは前記第4図Bに示したものと殆んど同じで
ある。2 1 1 At this time, the time response ■1' for the backward wave output signal 15 is the 6th
What is shown in FIG. 4B is obtained, and when this is subjected to AM detection, the envelope is almost the same as that shown in FIG. 4B.
因みに第6図Bに示す時間応答出力信号■1′のキャリ
ア周波数はfi=2fo−fo=foである。Incidentally, the carrier frequency of the time response output signal 1' shown in FIG. 6B is fi=2fo-fo=fo.
また前記の第5図Aの振幅一定の信号eについでも、実
際の信号e′には第7図Aに示すように中6周波数f。Also, regarding the signal e with a constant amplitude in FIG. 5A, the actual signal e' has a middle 6th frequency f as shown in FIG. 7A.
から離れた周波数において振幅の減衰傾向がみられる。There is a tendency for the amplitude to attenuate at frequencies far away from .
しかし、このような信号e′をトランスジューサ5から
入力させた場合にも、後退波出力信号の周波数スペクト
ル15c′は第7図Bに示したものが得られる。However, even when such a signal e' is inputted from the transducer 5, the frequency spectrum 15c' of the backward wave output signal shown in FIG. 7B is obtained.
この周波数スペクトル150′は、前記の第5図Bに示
したものと殆んど同じである。This frequency spectrum 150' is almost the same as that shown in FIG. 5B above.
したがって所望周波数特注の弾性表面波パラメトリック
装置の設計(パラメトIJツク相互作用領域部の設計)
に当っては、実際にはインパルスおよび振幅一定の信号
として第6図Aおよび第7図Aに示した信号をそれぞれ
用いる。Therefore, design a custom-made surface acoustic wave parametric device with a desired frequency (design of the parametric IJ interaction region)
In this case, the signals shown in FIG. 6A and FIG. 7A are actually used as impulses and constant amplitude signals, respectively.
次に上記の如き技術的手法に基いてなされた本発明を図
の実施例を参照して具体的に説明する。Next, the present invention based on the above-mentioned technical method will be specifically explained with reference to the embodiments shown in the drawings.
なお以下の図において前記第1図と共通する部材につい
ては、前記と同一の符号を附すものとする。In the following drawings, the same reference numerals as above are given to the same members as in FIG. 1.
第8図において符号1は一例としてシリコン(Si)材
料により形成した半導体基板にして、この半導体基板1
上に絶縁膜2および圧電体層3を順次積層させて積層体
を形成する。In FIG. 8, reference numeral 1 denotes a semiconductor substrate made of silicon (Si) material, as an example.
An insulating film 2 and a piezoelectric layer 3 are sequentially laminated thereon to form a laminate.
絶縁膜2は半導体基板1表面の安定化膜として作用させ
るもので、−例として2酸化シリコン膜(S + 02
)で形成する。The insulating film 2 acts as a stabilizing film on the surface of the semiconductor substrate 1, and is made of, for example, a silicon dioxide film (S+02
).
また圧電体層3は酸化亜鉛(ZnO)、または窒化アル
ミニウム(AlN)等の圧電体材料により形成する。Further, the piezoelectric layer 3 is formed of a piezoelectric material such as zinc oxide (ZnO) or aluminum nitride (AlN).
次いで図における上記積層体上の左右両端部近傍に入カ
ドランスジューサ5および出カドランスジューサ6をそ
れぞれ配設する。Next, an input juicer 5 and an output juicer 6 are respectively disposed near both left and right ends of the laminate in the figure.
この人・出カドランスジューサ5,6は十分に広帯、域
特注を有するように形成する。The man-made output juicers 5 and 6 are formed to have a sufficiently wide and custom-made area.
そして上記の入カドランスジューサ5と出カドランスジ
ューサ6との間における弾は表面波の伝播路上に、分割
させた複数個のポンプ電極M12M2・・・・・・を配
設する。A plurality of divided pump electrodes M12M2, . . . are disposed on the propagation path of the surface waves between the input and output fluid reducers 5 and 6.
これらのポンプ電極M12M2・・・・・・の形状は、
例として長方形状に形成させ、その長辺部を互いに平行
させて弾性表面波の伝播方向に沿って配例させるもので
あるが、その分割数、弾は表面波伝播方向における幅a
等の寸法形状、および各ポンプ電極M、 、 M2・・
・・・・間の間隙長す等は、当該各ポンプ電極M12M
2・・・・・・に印加する後述の直流バイアス電圧値と
も一体に関連させて、所望の周波数特注に対応するよう
に選択する。The shape of these pump electrodes M12M2... is as follows:
As an example, it is formed into a rectangular shape, and its long sides are parallel to each other and arranged along the propagation direction of the surface acoustic wave.
etc., and each pump electrode M, , M2...
...The gap length between each pump electrode M12M
2. It is also selected to correspond to a desired frequency custom order in connection with the DC bias voltage value to be described later.
そして上記の各ポンプ電極Ml j M2・・・・・・
に、それぞれ交流阻止用のインダクタL1.L2・・・
・・・を介して各別に直流バイアス印加用の直流電源E
1E2゜E3・・・・・・を接続する。And each of the above pump electrodes Ml j M2...
, an AC blocking inductor L1. L2...
DC power supply E for applying DC bias separately through...
Connect 1E2゜E3...
この直流電源E7.E2.E3・・・・・・は半固定の
可変電源として、各ポンプ電極M1゜M22M3・・・
・・・にそれぞれ異なる値の直流バイアス電圧を印加し
得るようにする。This DC power supply E7. E2. E3...... is a semi-fixed variable power source, and each pump electrode M1゜M22M3...
... so that DC bias voltages of different values can be applied to each of them.
また各ポンプ電極M12M2・・・・・・には、それぞ
れ直流阻止用のコンデンサC1,C2,C3・・・・・
・を介して共通のポンプ電圧印加用高周波電源9を連ね
る。In addition, each pump electrode M12M2...... has a DC blocking capacitor C1, C2, C3...
A high frequency power source 9 for applying a common pump voltage is connected via.
符号11,12は端面において不要な弾は表面波が反射
するのを防止するための弾は表面波吸収材である。Reference numerals 11 and 12 designate surface wave absorbing materials at the end faces for preventing unwanted surface waves from being reflected.
因みに各ポンプ電極M02M22M3・・・・・・にそ
れぞれ異なる値の直流バイアス電圧を印加するに当って
は、第9図に示すように1個の直流電源Eを共用とさせ
てもよい。Incidentally, when applying DC bias voltages of different values to the pump electrodes M02M22M3, . . . , one DC power source E may be shared as shown in FIG. 9.
この場合には直流電源Eを、抵抗回路で構成させた電圧
調整手段をそれぞれ介して各ポンプ電極M1. M2
、 M3・・・・・・にそれぞれ連ねる。In this case, the DC power source E is connected to each pump electrode M1. M2
, M3... are connected to each other.
上記の各電圧調整手段は、−例として抵抗R1とR2,
R3とR4、またはR5とR6・・・・・・等、それぞ
れ2個の抵抗の組合わせからなる電圧分割回路により構
成する。Each of the above voltage regulating means includes - for example, resistors R1 and R2,
It is constituted by a voltage dividing circuit each consisting of a combination of two resistors, such as R3 and R4, or R5 and R6, etc.
また上記のように抵抗回路からなる電圧調整手段を附設
するに当っては、−例として第10図に示すように構威
し、装置全体としての構成容易性を有せしめる。Further, when the voltage adjusting means consisting of a resistor circuit is provided as described above, it is arranged as shown in FIG. 10, as an example, so that the apparatus as a whole can be easily constructed.
即ち、各抵抗R1,R2,R3・・・・・・を薄膜抵抗
体で形成させ、これらの薄膜抵抗体を圧電体層3上、つ
まり各ポンプ電極M12M22M3・・・・・・配設面
と同−平向上に混成集積させる。That is, each resistor R1, R2, R3... is formed of a thin film resistor, and these thin film resistors are placed on the piezoelectric layer 3, that is, on the surface where each pump electrode M12M22M3... is disposed. Mixed accumulation on the same level.
また第10図の事例においては、直流阻止用の各コンデ
ンサC1,C2゜C3・・・・・・も、各ポンプ電極M
12M22M3部に誘電体薄膜17と上部電極18とに
より一体的に混成集積させる。In addition, in the case of Fig. 10, each of the DC blocking capacitors C1, C2, C3...
The dielectric thin film 17 and the upper electrode 18 are integrally integrated in the 12M22M3 portion.
符号19,19’は膜配線層である。次に前述の技術的
手法に基いてパラ7) IJラック互作用領域、つまり
各ポンプ電極M12M2・・・・・・に印加する直流バ
イアス電圧値等を設定する手順について説明する。Reference numerals 19 and 19' indicate membrane wiring layers. Next, based on the above-mentioned technical method, a procedure for setting the DC bias voltage value etc. to be applied to the IJ rack interaction area, that is, each pump electrode M12M2, etc. in Paragraph 7) will be explained.
いま所望の周波数特注を第11図に示すようなバンド幅
Bの理想的なバンドパスフィルタとする。Now let us assume that the desired frequency custom-made is an ideal bandpass filter with a bandwidth B as shown in FIG.
このときこの周波数特注E2とフーリエ変換の関係にあ
る時間応答I2を求めると、第12図に示すような5l
nx//x形の図において左右に無限に広がったものに
なる。At this time, if we calculate the time response I2 that has a Fourier transform relationship with this frequency custom E2, we will get 5l as shown in Figure 12.
In the nx//x-shaped diagram, it extends infinitely to the left and right.
ここでインパルスe1によって発生する弾ハ表面波出力
信号5AW3の大きさは、パラメトリック相互作用領域
の強さと関係し、さらにこのパラメトリック相互作用の
強さを決定する主要因の一つに半導体表面空間電荷層容
量の非線形の大きさがある。Here, the magnitude of the bullet surface wave output signal 5AW3 generated by the impulse e1 is related to the strength of the parametric interaction region, and one of the main factors determining the strength of this parametric interaction is the semiconductor surface space charge. There is a nonlinear magnitude of layer capacitance.
またこの非線形の大きさはポンプ電極に印加する直流バ
イアス電圧により大幅に変化する。Furthermore, the magnitude of this nonlinearity varies significantly depending on the DC bias voltage applied to the pump electrode.
これをn形半導体基板について図示したのが第14図で
あって、この図はポンプ電極から装置積層体部をみたと
きの容量Cのバイアス電圧■依存比(第13図)を、さ
らに微分dC/dVシた特注図である。This is illustrated for an n-type semiconductor substrate in FIG. 14, which shows the bias voltage dependence ratio of capacitance C (FIG. 13) when looking at the device stack from the pump electrode, and further differentiates dC. /dV is a custom-made drawing.
そして、パラメトリック相互作用の比較的弱い場合、第
14図に示したdc/dVの大きさの2乗とインパルス
応答とはほぼ比例する。When the parametric interaction is relatively weak, the square of the magnitude of dc/dV shown in FIG. 14 is approximately proportional to the impulse response.
即ち同図において正方向バイアス電圧のみをみたとき、
バイアス電圧を犬にするとインパルス応答の大きさは減
少するのである。That is, when looking only at the positive direction bias voltage in the same figure,
Increasing the bias voltage reduces the magnitude of the impulse response.
したがって前記の時間応答■2とインパルス応答とを等
しくするためには、各ポンプ電極M1.M2゜M3・・
・・・・に印加する直流バイアス電圧の値を、時間応答
■2の波形に対応させてそれぞれ異なるようにすればよ
い。Therefore, in order to equalize the time response (2) and the impulse response, each pump electrode M1. M2゜M3...
The values of the DC bias voltages applied to . . . may be made different depending on the waveform of the time response (2).
しかるに理想的なバンドパスフィルタ(第11図)に対
応させるためには、第12図の波形■2と同様に、ポン
プ電極M12M2・・・・・・群を左右方向に無限に配
設して、この無限の位置にまでパラメトリック相互作用
領域を生じさせなければならない。However, in order to correspond to the ideal bandpass filter (Fig. 11), as in waveform 2 of Fig. 12, pump electrodes M12M2... groups are arranged infinitely in the left and right direction. , we must create a parametric interaction region up to this infinite position.
このため積層体の形状寸法もこれに合わせて増大させな
ければならないので実用上問題が生ずる。Therefore, the shape and dimensions of the laminate must be increased accordingly, which poses a practical problem.
このためフィルタ特注(周波数選択特注)は、実用上支
障のない程度に多少犠牲にした上でポンプ電極配設数お
よび直流バイアス電圧値等を装置に適用する上において
最適になるように設計しなければならない。For this reason, custom-made filters (custom-made frequency selection) must be designed to optimize the number of pump electrodes, DC bias voltage, etc. for application to the device, while making some sacrifices to the extent that there is no practical problem. Must be.
そこで実用はを加味させたパラメトリック相互作用領域
、云い換えればポンプ電極の配設数およびこれに印加す
る直流バイアス電圧値等の設計例を次に述べる。Therefore, a design example of the parametric interaction region, in other words, the number of pump electrodes, the DC bias voltage value applied thereto, etc., will be described below, taking practical considerations into account.
第15図は前記第12図のSln¥C形の時間応答のう
ち、−π<x<π以外の波形部分を取り去った形に対応
したインパルス応答■3を示したもので、このインパル
ス応答■3に対応させて各ポンプ電極M12M22M3
・・・・・・のそれぞれに印加する直流バイアス電圧値
を示したのが第16図である。FIG. 15 shows the impulse response ■3 corresponding to the time response of the Sln\C type shown in FIG. 3, each pump electrode M12M22M3
. . . FIG. 16 shows the DC bias voltage values applied to each of them.
前記の第8図に示したように同図中E1 、R2+ R
3・・・・・・EnはそれぞれMl、 M2 、 M3
・・・・・・陥に連ねた直流電源を示す。As shown in FIG. 8 above, E1, R2+ R
3...En are Ml, M2, M3 respectively
・・・・・・Indicates a DC power supply connected to the bottom.
このポンプ電極数M、〜鳩は積層体上に配設し得る有限
の数である。The number M of pump electrodes is a finite number that can be arranged on the stack.
そして上記の第16図に示したようなポンプ電極数およ
びこれに印加する各直流バイアス電圧値を第8図の装置
に適用したとき、弾は表面波出力信号5AW3について
の周波数特注は第17図に示す如き所望のものが得られ
る。When the number of pump electrodes and the DC bias voltage values applied to them as shown in FIG. 16 above are applied to the device shown in FIG. The desired result can be obtained as shown in FIG.
この周波数特注E3を前記第11図に示した理想的なバ
ンドパスフィルタE2と比較したとき、フィルタの肩特
性において劣化がみられるが、第2図等に示した従来例
のそれと比較するとスプリアスレスポンスは実用上差支
えない程度に顕著に減少している。When this custom-made frequency E3 is compared with the ideal bandpass filter E2 shown in Fig. 11, there is a deterioration in the shoulder characteristics of the filter, but when compared with that of the conventional example shown in Fig. 2, there is a spurious response. has decreased significantly to the extent that there is no problem in practical use.
したがって第16図に示す各ポンプ電極M1.M2゜M
3・・・・・・鳩への直流バイアス電圧の印加態様は、
所望の周波数時1’1EE3を生じさせる弾性表面波パ
ラメトリック装置の直流バイアス電圧印加態様として適
用し得る。Therefore, each pump electrode M1. shown in FIG. M2゜M
3...The manner of applying DC bias voltage to the pigeon is as follows:
It can be applied as a DC bias voltage application mode of a surface acoustic wave parametric device that generates 1'1EE3 at a desired frequency.
次に第18図、第19図は各ポンプ電極M12M2゜M
3に印加する直流バイアス電圧値の他の設計事例を示し
たもので、この事例においては所望の周波数特注をe−
2π fのガウス関数形のものとし、これとフーリエ変
換の関係にある時間応答■4とインパルス応答とが等し
くなるような各ポンプ電極M1 、 M2 、 M3・
・・・・・鳩に印加するそれぞれの直流バイアス電圧設
定値を示したものである。Next, Figures 18 and 19 show each pump electrode M12M2゜M.
This figure shows another design example of the DC bias voltage value to be applied to
The pump electrodes M1, M2, M3 and M3 are each in the form of a Gaussian function of 2π f, and the time response (4), which is in a Fourier transform relationship with this, is equal to the impulse response.
...This shows each DC bias voltage setting value applied to the pigeon.
この事例においても理想的なバンドパスフィルタの特注
E2と比較したとき、フィルタの肩特性においてやや劣
化がみられるが、スプリアスレスポンスが除去され、ま
たポンプ電極のM12M2・・・・・・の配設数等にお
いても実用し得る範囲に設定し得るものであり、第8図
の弾性表面波パラメトリック装置の直流バイアス電圧印
加態様として適用し得るものである。In this case as well, when compared with the ideal bandpass filter custom-made E2, there is a slight deterioration in the shoulder characteristics of the filter, but the spurious response has been eliminated, and the pump electrode M12M2... The number etc. can be set within a practical range, and it can be applied as a DC bias voltage application mode of the surface acoustic wave parametric device shown in FIG.
上記した第15図〜第20図について述べた2つの設計
事例は、何れもポンプ電圧を小とした場合についてのも
のである。The two design examples described above with reference to FIGS. 15 to 20 are both cases in which the pump voltage is reduced.
ポンプ電圧を犬にしてパランl−IJラック互作用の大
きい場合は、インパルス応答と各ポンプ電極M12M2
・・・・・・に印加する直流バイアス電圧値の設定態様
が、ポンプ電圧の小さい場合と比較してややずれてくる
。If the pump voltage is set to high and the Paran l-IJ rack interaction is large, the impulse response and each pump electrode M12M2
The setting mode of the DC bias voltage value applied to ...... will be slightly different from the case where the pump voltage is small.
しかし、このずれの効果を考慮に入れて行えば、ポンプ
電圧が犬の場合も前記の設計事例とほぼ同様にして所望
の周波数特注が得られる直流バイアス電圧の印加態様等
を設定し得るものである。However, if the effect of this deviation is taken into account, even when the pump voltage is set to 100%, it is possible to set the application mode of the DC bias voltage to obtain the desired frequency customization in almost the same way as in the design example above. be.
また以上の設計事例は何れも弾性表面波出力として第8
図中符号5AW3で示す後退波出力をとり出す場合につ
いて述べたが入力弾性表面波5AW1と同方向の出力波
である符号5AW2の弾は表面波をとり出す場合につい
ても同様に設計し得るものである。In addition, in all of the above design examples, the surface acoustic wave output is
Although we have described the case in which the backward wave output indicated by the reference numeral 5AW3 in the figure is extracted, the bullet 5AW2, which is an output wave in the same direction as the input surface acoustic wave 5AW1, can be designed in the same way for the case in which the surface wave is extracted. be.
ただし符号5AW2の弾性表面波については、パラメト
リック相互作用を生じない周波数の信号成分が変化を受
けずにそのまま出力されるためスプリアスレスポンスに
ついての改善効果がやや少なくなる。However, with respect to the surface acoustic wave 5AW2, since signal components of frequencies that do not cause parametric interaction are output as they are without being changed, the effect of improving the spurious response is somewhat reduced.
本発明の実施例たる弾性表面波パラメトリック装置は上
述のように構成され以下のように動作する。A surface acoustic wave parametric device according to an embodiment of the present invention is constructed as described above and operates as follows.
まず各ポンプ電極M1. M2. M3・・・・・・に
それぞれの直流電源El t E2 j E3・・・・
・・から例えば第16図に示したような各設定電圧を印
加し、このポンプ電極群M12M2・・・・・・下方の
半導体基板1の表面部に上記の各設定電圧値に対応した
空間電荷層容量の分布状態を生じさせ、さらに高周波電
源9から所望の周波数選択帯域における中心周波数fの
2倍の周波数2foのポンプ電圧を同じく各ポンプ電極
Ml 2M2 j M3・・・・・・に印加し、前記の
空間電荷層容量を周波数2foで励振して、この空間電
荷層容量を周波数2fで変化させる。First, each pump electrode M1. M2. M3...... and each DC power supply El t E2 j E3...
For example, each set voltage as shown in FIG. 16 is applied from . A distribution state of the layer capacitance is generated, and a pump voltage having a frequency 2fo which is twice the center frequency f in a desired frequency selection band is applied from the high frequency power source 9 to each pump electrode Ml 2M2 j M3... , the space charge layer capacitance is excited at a frequency of 2fo to change the space charge layer capacitance at a frequency of 2f.
〇
一方、広帯域性の入カドランスジューサ5に印加された
入力電気信号は、弾性表面波に変換されて圧電体層3の
表面を第8図において入カドランスジューサ5の左右に
向けて伝播する。〇On the other hand, the input electric signal applied to the broadband input quadrature transducer 5 is converted into a surface acoustic wave and propagates on the surface of the piezoelectric layer 3 toward the left and right of the input quadrature transducer 5 in FIG. do.
そして右方に伝播する弾性表面波入力信号5AW1のう
ちで周波数f近傍の信号成分がポンプ電極群Ml 、
M2. M3・・・・・・下方部のパラメトリック相互
作用領域を伝播していく過程で、その圧電ポテンシャル
が半導体基板1表面の空間電荷層容量非線形効果により
ポンプ電圧とパラメトリック相互作用を生じて増幅され
、出力弾は表面波が第8図においてポンプ電極M部から
左右に向けて発生する。Of the surface acoustic wave input signal 5AW1 propagating to the right, the signal component near the frequency f is the pump electrode group Ml,
M2. M3...In the process of propagating through the lower parametric interaction region, the piezoelectric potential is amplified by parametric interaction with the pump voltage due to the space charge layer capacitance nonlinear effect on the surface of the semiconductor substrate 1, In the output bullet, a surface wave is generated from the pump electrode M portion to the left and right in FIG.
そして入力弾は表面波5AW1と同方向に進行する出力
弾は表向波5AW2は出カドランスジューサ6により再
び電気信号に変換されて外部に出力される。The input bullet travels in the same direction as the surface wave 5AW1, and the output bullet, the surface wave 5AW2, is converted back into an electrical signal by the output transducer 6 and output to the outside.
一方、入力弾性表面波5AW1と逆方向に進行する出力
弾性表面波5AW3は、入カドランスジューサ5を兼用
させるか、もしくは他の適宜の手段(例えば本出願人が
特願昭54−64923号等で開示したようなマルチス
トIJツブカプラを配設した出力手段)によって同じく
電気信号として外部にとり出すことができる。On the other hand, the output surface acoustic wave 5AW3 traveling in the opposite direction to the input surface acoustic wave 5AW1 can be generated by using the input quadrature transducer 5 or by using other appropriate means (for example, Japanese Patent Application No. 54-64923, etc. Similarly, the signal can be output as an electric signal to the outside using an output means equipped with a multi-strike IJ coupler as disclosed in .
このように逆方向に進行する弾性表面波5AW3を出力
として取り出すのであれば、入カドランスジューサ5お
よび出カドランスジューサ6のうち少なくとも入カドラ
ンスジューサ5のみを配設して、これを入出力兼用のト
ランスジューサとさせることもできる。If the surface acoustic wave 5AW3 traveling in the opposite direction is to be extracted as an output, at least only the input quadrature juicer 5 of the input quadrature juicer 5 and the output fluid juicer 6 is installed, and this is input/output. It can also be used as a dual-purpose transducer.
そして上記のように弾性表面波5AW2および5AW3
が出力される過程において、パラン) IJラック互作
用領域形成部のポンプ電極が分割され、この分割した各
ポンプ電極M02M22M3・・・・・・に、所望の周
波数特注に対応させた各直流バイアス電圧が印加されて
いるので、入力弾は表面波5AW1のうち、この所望の
周波数特注に対応した周波数の信号成分のみが当該弾は
表面波5AW2または5AW3として選択的に出力され
る。And as mentioned above, surface acoustic waves 5AW2 and 5AW3
In the process of outputting, the pump electrode of the IJ rack interaction area forming section is divided, and each divided pump electrode M02M22M3... is applied with each DC bias voltage corresponding to the desired custom frequency. is applied to the input bullet, only the signal component of the frequency corresponding to the desired frequency customization among the surface waves 5AW1 of the input bullet is selectively outputted as the surface waves 5AW2 or 5AW3.
即ち、−例として入力弾性表面波5AW1と逆方向の出
力弾性表面波5AW3については、前記の第17図また
は第20図に示したような所望の周波数特注を有する信
号として出力され、当該弾性表面波パラメトリック装置
は所望の帯域通過フィルタとして機能するのである。That is, for example, the output surface acoustic wave 5AW3 in the opposite direction to the input surface acoustic wave 5AW1 is output as a signal having a custom desired frequency as shown in FIG. 17 or FIG. The wave parametric device functions as the desired bandpass filter.
また入力弾性表面波5AW1と同方向の出力弾は表面波
5AW2については、スプリアスレスポンスの点で上記
の出力弾は表面波5AW3よりも劣るが、上記と同様に
して所望の周波数特注を有する信号として出力される。In addition, the output bullet in the same direction as the input surface acoustic wave 5AW1 is the surface wave 5AW2. Although the above output bullet is inferior to the surface wave 5AW3 in terms of spurious response, it can be used as a signal with a desired frequency customization in the same way as above. Output.
以上詳述したように本発明によればポンプ電極を弾性表
面波の伝播方向に沿って複数個に分割させ、この各ポン
プ電極に印加する直流バイアス電圧の値を、出力弾性表
面波の所望の周波数特注に対応させてそれぞれ異ならし
めたから、弾性表面波パラメトリック装置を可変周波数
選択装置(帯域通過フィルタ)として用いる場合、その
出力周波数特注を仕様に合わせて所望通りに設計できる
という極めて優れた効果を発揮する。As detailed above, according to the present invention, the pump electrode is divided into a plurality of parts along the propagation direction of the surface acoustic wave, and the value of the DC bias voltage applied to each pump electrode is adjusted to the desired value of the output surface acoustic wave. Since each surface acoustic wave parametric device is made to be different depending on the frequency customization, when the surface acoustic wave parametric device is used as a variable frequency selection device (bandpass filter), the output frequency can be designed as desired according to the specifications, which is an extremely excellent effect. Demonstrate.
また上記の効果に加えて、弾性表面波パラメトリック装
置が本質的に備えている効果、即ち広い周波数範囲に亘
って可変同調特注を有する点、出力中心周波数の安定度
は外部のポンプ電源の安定度で決定される点、およびS
/Nが良好である点などの諸種の効果を併せ有せしめる
ことができ、可変周波数選択装置として使用する上にお
いて極めて優れた弾は表面波パラメトリック装置を提供
し得るものである。In addition to the above-mentioned effects, the surface acoustic wave parametric device inherently has the following effects: it has custom variable tuning over a wide frequency range, and the stability of the output center frequency depends on the stability of the external pump power supply. and S
This bullet can combine various effects such as good /N, and can provide a surface wave parametric device which is extremely excellent when used as a variable frequency selection device.
第1図は従来例を示す斜視図、第2図および第3図は同
上の出力周波数特注を示す特注図で第2図はポンプ電圧
が比較的小さい場合、第3図はポンプ電圧が比較的大き
い場合をそれぞれ示す、第4図Aはパラメトリック相互
作用領域部の設計に使用する理想的インパルスを示す波
形図、第4図Bは同上インパルスを第1図の装置に適用
したときの時間応答の一例を示す特注図、第5図Aは理
想的入力弾性表面波の周波数特注図、第5図Bは同上入
力弾は表面波を第1図の装置に適用したときの後退波弾
性表面波出力の周波数スペクトルを示す特注図、第6図
Aは第4図Aに代えて実用するRFパルスの一例を示す
波形図、第6図Bは同上RFパルスを第1図の装置に適
用したときの時間応答の一例を示す特は図、第7図Aは
第5図Aに代えて実用する入力弾性表面波の周波数特注
図、第7図Bは同上入力弾は表面波を第1図の装置に適
用したときの後退波弾は表面波出力の周波数スペクトル
を示す特注図、第8図は本発明の実施例たる弾性表面波
パラ7I−IJラック置を示す図で積層体部は斜視図を
以って示す、第9図は同上装置における直流電源の他の
配設例を示す斜視図で一部を省略して示す、第10図は
同上配設例における抵抗体等を混成集積させた一例を示
す拡大斜視図で一部を省略して示す、第11図は理想的
なバンドパスフィルタの周波数特性を示す特性図、第1
2図は同上特注とフーリエ変換の関係にある時間応答を
示す特注図、第13図はポンプ電極から装置積層体部を
みたときの容量のバイアス電圧依存性を示す特注図、第
14図は同上の特注をさらに微分dC/d■シて示す特
注図、第15図は第12図の特性のうち−π< x <
π以外の波形部分を取り去った形のインパルス応答を示
す%姓図、第16図は同上インパルス応答に対応させた
各ポンプ電極へ印加する直流バイアス電圧の設定例を示
す設定曲線図、第17図は同上の設定例を第8図に適用
したときの出力周波数特注の一例を示す特注図、第18
図は本発明に適用するインパルス応答の他の例を示す特
注図、第19図は同上のインパルス応答に対応させた各
ポンプ電極へ印加する直流バイアス電圧の設定例を示す
設定曲線図、第20図は同上の設定例を第8図に適用し
たときの出力周波数特注を示す特性図である。
1:半導体基体、2:絶縁膜、3:圧電体層、5:入カ
ドランスジューサ、6:出カドランスジューサ、9:高
周波電源、lL12:弾性表面波吸収材、17:誘電体
薄膜、18二上部電極、CCC・・・・・・:コンデン
サ、E、El、R2・・・152フ3
・・・:直流電源、Ll、 L2 、 L3・・・・・
・:インダクタンス、M02M22M3・・・・・・:
ポンプ電極、R1I R2JR3・・・・・・:抵抗。Figure 1 is a perspective view showing a conventional example, Figures 2 and 3 are custom-made views showing the same custom-made output frequency, Figure 2 shows a case where the pump voltage is relatively small, and Figure 3 shows a case where the pump voltage is relatively low. Figure 4A is a waveform diagram showing an ideal impulse used in the design of the parametric interaction area, and Figure 4B is a waveform diagram of the time response when the same impulse is applied to the device in Figure 1. A custom-made diagram showing an example. Figure 5A is a custom-made frequency diagram of an ideal input surface acoustic wave. Figure 5B is a backward wave surface acoustic wave output when the same input bullet is applied to the device shown in Figure 1. Figure 6A is a waveform diagram showing an example of a practical RF pulse in place of Figure 4A, and Figure 6B is a diagram showing the frequency spectrum of the same RF pulse as shown in Figure 1. A special diagram showing an example of the time response, Figure 7A is a custom-made frequency diagram of the input surface acoustic wave used in place of Figure 5A, and Figure 7B is the same as above. FIG. 8 is a custom-made diagram showing the frequency spectrum of the surface wave output when applied to a backward wave projectile. FIG. Therefore, FIG. 9 is a perspective view showing another example of the arrangement of the DC power supply in the same device as above, with some parts omitted, and FIG. FIG. 11 is an enlarged perspective view with some parts omitted, and FIG. 11 is a characteristic diagram showing the frequency characteristics of an ideal bandpass filter.
Figure 2 is a custom-made diagram showing the time response related to the above customization and Fourier transform, Figure 13 is a custom-made diagram showing the bias voltage dependence of capacitance when looking at the device stack from the pump electrode, and Figure 14 is the same as above. Figure 15 is a custom-made diagram that further differentiates the custom-made dC/d■.
Figure 16 is a percentage diagram showing an impulse response with waveform parts other than π removed; Figure 16 is a setting curve diagram showing an example of setting the DC bias voltage applied to each pump electrode corresponding to the same impulse response; Figure 17. 18 is a custom diagram showing an example of a custom output frequency when the same setting example as above is applied to Figure 8.
19 is a custom-made diagram showing another example of the impulse response applied to the present invention, FIG. 19 is a setting curve diagram showing an example of setting the DC bias voltage applied to each pump electrode corresponding to the above impulse response, and The figure is a characteristic diagram showing custom output frequency when the above setting example is applied to FIG. 8. 1: Semiconductor substrate, 2: Insulating film, 3: Piezoelectric layer, 5: Input quadrature reducer, 6: Output transducer, 9: High frequency power supply, 1L12: Surface acoustic wave absorber, 17: Dielectric thin film, 18 Second upper electrode, CCC...: Capacitor, E, El, R2...152 Fu3...: DC power supply, Ll, L2, L3...
・:Inductance, M02M22M3・・・・・・:
Pump electrode, R1I R2JR3...: Resistance.
Claims (1)
体上に、入カドランスジューサおよび出カドランスジュ
ーサのうちの少なくとも入カドランスジューサと、複数
個のポンプ電極とを配夕1ル、当該各ポンプ電極に印加
するパラメトリック相互作用領域形成用電圧における直
流バイアス電圧の値を、出力弾は表面波の所望の周波数
特注に対応させてそれぞれ異ならしめたことを特徴とす
る弾性表面波パラメトリック装置。 2 各ポンプ電極は長方形状に形成し、この長方形状の
ポンプ電極における各長辺部を平行させて配夕1ルた特
許請求の範囲第1項記載の弾は表面波パラメトリック装
置。 3 半導体としてシリコンを用いるとともに、圧電体と
して酸化亜鉛を用いた特許請求の範囲第1項または第2
項記載の弾性表面波パランI−IJラック置。 4 半導体としてシリコンを用いるとともに、圧電体と
して窒化アルミニウムを用いた特許請求の範囲第1項ま
たは第2項記載の弾性表面波パラメトリック装置。 5 各ポンプ電極にそれぞれ異なる値の直流バイアス電
圧を印加するに当り、それぞれのポンプ電極に各別に直
流電源を接続させた特許請求の範囲第1項ないし第4項
のいずれかに記載の弾は表面波パラメトリック装置。 6 各ポンプ電極にそれぞれ異なる値の直流バイアス電
圧を印加するに当り、共通の直流電源を使用するととも
に、この共通の直流電源を抵抗回路からなる電圧調整手
段をそれぞれ介して前記の各ポンプ電極に連ねた特許請
求の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記載の弾は表
面波パラメトリック装置。 7 抵抗回路における抵抗を膜抵抗体で形成させ、この
膜抵抗体を各ポンプ電極配設面と同一平面上に集積させ
た特許請求の範囲第6項記載の弾性表面波パラメトリッ
ク装置。[Scope of Claims] 1. In a laminate including a semiconductor and a piezoelectric body, at least an input quadrature juicer and a plurality of pump electrodes are arranged on the piezoelectric body of the piezoelectric body. Furthermore, the value of the DC bias voltage in the parametric interaction region forming voltage applied to each pump electrode is made to be different for each output bullet in accordance with the desired frequency customization of the surface wave. Surface acoustic wave parametric device. 2. The surface wave parametric device according to claim 1, wherein each pump electrode is formed in a rectangular shape, and the long sides of the rectangular pump electrodes are arranged in parallel. 3 Claims 1 or 2 in which silicon is used as a semiconductor and zinc oxide is used as a piezoelectric material
Surface acoustic wave Paran I-IJ rack arrangement as described in section. 4. The surface acoustic wave parametric device according to claim 1 or 2, which uses silicon as the semiconductor and aluminum nitride as the piezoelectric material. 5. The bullet according to any one of claims 1 to 4, wherein a DC power supply is connected to each pump electrode separately when applying DC bias voltages of different values to each pump electrode. Surface wave parametric device. 6. In applying DC bias voltages of different values to each pump electrode, a common DC power source is used, and this common DC power source is applied to each of the pump electrodes through voltage adjustment means consisting of a resistor circuit. The bullet according to any one of claims 1 to 4 is a surface wave parametric device. 7. The surface acoustic wave parametric device according to claim 6, wherein the resistance in the resistance circuit is formed of a membrane resistor, and the membrane resistor is integrated on the same plane as each pump electrode arrangement surface.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54166928A JPS5835403B2 (en) | 1979-12-24 | 1979-12-24 | Surface acoustic wave parametric device |
| GB8040613A GB2068672B (en) | 1979-12-24 | 1980-12-18 | Surface-acoustic-wave parametric device |
| US06/218,379 US4398114A (en) | 1979-12-24 | 1980-12-19 | Surface-acoustic-wave parametric device |
| DE19803048163 DE3048163A1 (en) | 1979-12-24 | 1980-12-19 | ACOUSTIC SURFACE WAVES PROCESSING PARAMETRIC DEVICE |
| FR8027312A FR2472881A1 (en) | 1979-12-24 | 1980-12-23 | PARAMETRIC DEVICE WITH ACOUSTIC SURFACE WAVE |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54166928A JPS5835403B2 (en) | 1979-12-24 | 1979-12-24 | Surface acoustic wave parametric device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5690619A JPS5690619A (en) | 1981-07-22 |
| JPS5835403B2 true JPS5835403B2 (en) | 1983-08-02 |
Family
ID=15840249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54166928A Expired JPS5835403B2 (en) | 1979-12-24 | 1979-12-24 | Surface acoustic wave parametric device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5835403B2 (en) |
-
1979
- 1979-12-24 JP JP54166928A patent/JPS5835403B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5690619A (en) | 1981-07-22 |
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