JPS5835509B2 - 2−〔ω,ω−ビス(アルキルチオ)−もしくはω,ω−(アルキレンジチオ)−アルキル〕−3−メチル−2−シクロペンテン−1−オン及びその製法 - Google Patents
2−〔ω,ω−ビス(アルキルチオ)−もしくはω,ω−(アルキレンジチオ)−アルキル〕−3−メチル−2−シクロペンテン−1−オン及びその製法Info
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- JPS5835509B2 JPS5835509B2 JP51100233A JP10023376A JPS5835509B2 JP S5835509 B2 JPS5835509 B2 JP S5835509B2 JP 51100233 A JP51100233 A JP 51100233A JP 10023376 A JP10023376 A JP 10023376A JP S5835509 B2 JPS5835509 B2 JP S5835509B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はそれ自体、持続性香料物質、賦香・変調剤など
の用途に有用であるほかに、シス−ジャスモン系香料物
質その他の有用化合物の中間体などの分野にも有用な新
規化合物2−〔ω・ω−ビス(アルキルチオ)−もしく
はω・ω(アルキレンジチオ)−アルキルヨー3−メチ
ル−2−シクロペンテン−1−オン及びその製法に関す
る。
の用途に有用であるほかに、シス−ジャスモン系香料物
質その他の有用化合物の中間体などの分野にも有用な新
規化合物2−〔ω・ω−ビス(アルキルチオ)−もしく
はω・ω(アルキレンジチオ)−アルキルヨー3−メチ
ル−2−シクロペンテン−1−オン及びその製法に関す
る。
本発明化合物は下記式〔■〕
但し式中、Rは同一でも異っていてもよく、夫夫、低級
アルキル基もしくはアラルキル基を表わすか、又は、二
つのSRは一緒になって式%式% しくはC2〜C4の低級アルキレン基を示ス、)nはO
〜4の整数を示す、 で表わされる2−〔ω・ω−ビス(アルキルチオ)もし
くはω・ω−(アルキレンジチオ)−アルキルヨー3−
メチル−2−シクロペンテン−1−オンであって、文献
未記載の化合物である。
アルキル基もしくはアラルキル基を表わすか、又は、二
つのSRは一緒になって式%式% しくはC2〜C4の低級アルキレン基を示ス、)nはO
〜4の整数を示す、 で表わされる2−〔ω・ω−ビス(アルキルチオ)もし
くはω・ω−(アルキレンジチオ)−アルキルヨー3−
メチル−2−シクロペンテン−1−オンであって、文献
未記載の化合物である。
上記式CI)化合物は、下記式(II)、但し式中、R
は同一でも異っていてもよく、夫夫、低級アルキル基も
しくはアラルキル基を表わすか、又は、二つのSRは一
緒になって式\R/(ここで、R′は低級アルキレン基
、好ま8/ しくはC2〜C4の低級アルキレン基を示す、)nはO
〜4の整数を示す、 で表わされるω・ω−ビス(アルキルチオ)−もしくは
ω・ω−(アルキレンジチオ)−2・5−ジオキソアル
カンを、アルカリの存在下に溶媒中で環化反応せしめる
ことにより高収率、高純度で容易に製造できる。
は同一でも異っていてもよく、夫夫、低級アルキル基も
しくはアラルキル基を表わすか、又は、二つのSRは一
緒になって式\R/(ここで、R′は低級アルキレン基
、好ま8/ しくはC2〜C4の低級アルキレン基を示す、)nはO
〜4の整数を示す、 で表わされるω・ω−ビス(アルキルチオ)−もしくは
ω・ω−(アルキレンジチオ)−2・5−ジオキソアル
カンを、アルカリの存在下に溶媒中で環化反応せしめる
ことにより高収率、高純度で容易に製造できる。
従って、本発明の目的は前記諸分野に有用な前記式CI
)の新規化合物2−〔ω・ω−ビス(アルキルチオ)−
もしくはω・ω−(アルキレン基チ、t)−アルキルヨ
ー3−メチル−2−シクロペンテン−1−オンを提供す
るにある。
)の新規化合物2−〔ω・ω−ビス(アルキルチオ)−
もしくはω・ω−(アルキレン基チ、t)−アルキルヨ
ー3−メチル−2−シクロペンテン−1−オンを提供す
るにある。
本発明の他の目的は、上記式CI)化合物を高収率高純
度で且つ容易に製造できる製法を提供するにある。
度で且つ容易に製造できる製法を提供するにある。
本発明の上記諸目的及び更に多くの他の目的及び利点は
、以下の記載から一層明らかとなるであろう。
、以下の記載から一層明らかとなるであろう。
上記式〔II、l化合物及びその製法の詳細については
、同一出願人の同日付出願(特開昭53−25514号
(特願昭51−100232号)〔発明の名称:ω・ω
−ビス(アルキルチオ)もしくはω・ω−(アルキレン
ジチオ)−2・5−ジオキソアルカン及びその製法〕に
説明されており、更に上記式(II)化合物の製造に用
いる2−〔ω・ω−ビス(アルキルチオ)−もしくはω
・ω−(アルキレンジチオ)−アルキルツー5−メチル
フラン及びその製法については、同一出願人の同日付出
願(特開昭53−25554号(特願昭51−1002
31号)〔発明の名称:2−〔ω・ω−ビス(アルキル
チオ)−もしくはω・ω−(アルキレンジチオ)−アル
キルツー5メチルフラン及びその製法〕に詳細に説明さ
れているが、以下に要約して説明する。
、同一出願人の同日付出願(特開昭53−25514号
(特願昭51−100232号)〔発明の名称:ω・ω
−ビス(アルキルチオ)もしくはω・ω−(アルキレン
ジチオ)−2・5−ジオキソアルカン及びその製法〕に
説明されており、更に上記式(II)化合物の製造に用
いる2−〔ω・ω−ビス(アルキルチオ)−もしくはω
・ω−(アルキレンジチオ)−アルキルツー5−メチル
フラン及びその製法については、同一出願人の同日付出
願(特開昭53−25554号(特願昭51−1002
31号)〔発明の名称:2−〔ω・ω−ビス(アルキル
チオ)−もしくはω・ω−(アルキレンジチオ)−アル
キルツー5メチルフラン及びその製法〕に詳細に説明さ
れているが、以下に要約して説明する。
上記式(n)化合物は、公知化合物である下記式(2)
、 式中、nはO〜4の整数を示す、 で表わされるアルデヒド化合物を、酸触媒の存在下に、
−価もしくは多価低級チオール好ましくはC1〜C4の
一価低級チオール、チオールの炭素数がC1又はC2の
アラルキルチオール及びC2〜C4の多価低級チオール
よりなる群からえらばれたチオール数と反応せしめるこ
とにより得られる下記式(1)、 但し式中、nはO〜4の整数を示し、Rは同一でも異な
っていてもよく、夫々、低数アルキル基もしくはアラル
キル基を表わすか、又は、二つの8\ °゛“−“′″°゛″″8/R/(j =”゛“″″ア
ルキレン基示す)を示す、 で表わされる2−〔ω・ω−ビス(アルキルチオ)もし
くはω・ω−(アルキレンジチオ)−アルキルツー5−
メチルフランを、水及び酸触媒の存在下に、水混和性有
機溶媒中で開環せしめることにより製造できる。
、 式中、nはO〜4の整数を示す、 で表わされるアルデヒド化合物を、酸触媒の存在下に、
−価もしくは多価低級チオール好ましくはC1〜C4の
一価低級チオール、チオールの炭素数がC1又はC2の
アラルキルチオール及びC2〜C4の多価低級チオール
よりなる群からえらばれたチオール数と反応せしめるこ
とにより得られる下記式(1)、 但し式中、nはO〜4の整数を示し、Rは同一でも異な
っていてもよく、夫々、低数アルキル基もしくはアラル
キル基を表わすか、又は、二つの8\ °゛“−“′″°゛″″8/R/(j =”゛“″″ア
ルキレン基示す)を示す、 で表わされる2−〔ω・ω−ビス(アルキルチオ)もし
くはω・ω−(アルキレンジチオ)−アルキルツー5−
メチルフランを、水及び酸触媒の存在下に、水混和性有
機溶媒中で開環せしめることにより製造できる。
前記式(2)アルデヒド化合物とチオール類との反応で
副生ずる水は、所望により糸外に除去しながら反応を行
うことができ、屡々、好ましい結果を与える。
副生ずる水は、所望により糸外に除去しながら反応を行
うことができ、屡々、好ましい結果を与える。
上記チオールとの反応は、溶媒の不在柱下に行うことも
できる。
できる。
反応は望むならば、不活性有機溶媒を用いて行うことも
でき、例えば、ベンゼンキシレン、トルエン、ハロゲン
化ベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族炭化水素及びそ
の誘導体類;クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロ
エタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素及びそ
の誘導体類をあげることができる。
でき、例えば、ベンゼンキシレン、トルエン、ハロゲン
化ベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族炭化水素及びそ
の誘導体類;クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロ
エタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素及びそ
の誘導体類をあげることができる。
望むならば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エーテ
ルの如き他の有機溶媒も利用可能である。
ルの如き他の有機溶媒も利用可能である。
反応は、加熱条件下で行うのが好ましく、例えば、約り
0℃〜使用したチオール又は溶媒の沸点程度の加熱条件
が例示でき、好ましくは加熱還流条件下に行われる。
0℃〜使用したチオール又は溶媒の沸点程度の加熱条件
が例示でき、好ましくは加熱還流条件下に行われる。
反応は大気圧条件下もしくは自然発生圧条件下に行うの
が普通であるが、望むならば加圧もしくは減圧条件を採
用することもできる。
が普通であるが、望むならば加圧もしくは減圧条件を採
用することもできる。
例えば、大気圧もしくは約50kg/crrL〜約lm
mHgの範囲内の加圧もしくは減圧条件を例示できる。
mHgの範囲内の加圧もしくは減圧条件を例示できる。
反応時間は、例えば約2時間〜約15時間程度である。
上記−価もしくは多価低級チオールの好ましい例として
は、たとえばメタンチオール、エタンチオール、n−も
しくは1so−プロパンチオール、n−1so−もしく
はtert−ブタンチオールの如きC1〜C4の一価低
級チオール;エタンジチオール、プロパンジチオール、
ブタンジチオールの如きC2〜C4の多価低級チオール
等を例示することができる。
は、たとえばメタンチオール、エタンチオール、n−も
しくは1so−プロパンチオール、n−1so−もしく
はtert−ブタンチオールの如きC1〜C4の一価低
級チオール;エタンジチオール、プロパンジチオール、
ブタンジチオールの如きC2〜C4の多価低級チオール
等を例示することができる。
又、上記酸触媒としては、広い範囲の無機もしくは有機
酸が利用でき、例えば、塩酸、硫酸、リン酸などの如き
鉱酸類やパラトルエンスルホン酸、しゆう酸などの如き
有機酸類を例示できる。
酸が利用でき、例えば、塩酸、硫酸、リン酸などの如き
鉱酸類やパラトルエンスルホン酸、しゆう酸などの如き
有機酸類を例示できる。
これら酸触媒の使用量は少量でよ(、例えば、上記1価
もしくは多価低級チオール、または使用溶媒に基いて約
0.1重量%〜約10重量%程度の使用量で利用できる
。
もしくは多価低級チオール、または使用溶媒に基いて約
0.1重量%〜約10重量%程度の使用量で利用できる
。
また、上記チオールの使用量は式(2化合物に基づいて
、重量で約1倍〜約20倍程度で用いるのが普通である
。
、重量で約1倍〜約20倍程度で用いるのが普通である
。
反応後、反応生成物系に水を注ぎ、ベンゼン、トルエン
、ヘキサンなどのような水非混和性の有機溶媒を加えて
抽出し、水洗したあと、有機溶媒を留去して、前記式(
1)の2−〔ω・ω−ビス(アルキルチオ)−もしくは
ω・ω−(アルキレンジチオ)−アルキルツー5−メチ
ルフランを得ることができる。
、ヘキサンなどのような水非混和性の有機溶媒を加えて
抽出し、水洗したあと、有機溶媒を留去して、前記式(
1)の2−〔ω・ω−ビス(アルキルチオ)−もしくは
ω・ω−(アルキレンジチオ)−アルキルツー5−メチ
ルフランを得ることができる。
得られた化合物は、所望により、減圧蒸留して更に精製
することができる。
することができる。
上記のようにして得られる式(1)で表わされる2〔ω
・ω−ビス(アルキルチオ)−もしくはω・ω−(アル
キレンジチオ)−アルキルヨー5−メチルフランの開環
反応は水及び酸触媒の存在下に、水混和性有機溶媒中で
行なうことができる。
・ω−ビス(アルキルチオ)−もしくはω・ω−(アル
キレンジチオ)−アルキルヨー5−メチルフランの開環
反応は水及び酸触媒の存在下に、水混和性有機溶媒中で
行なうことができる。
反応は、加熱条件下で行うのが好ましく、例えば、約り
0℃〜使用した有機溶媒の沸点程度の加熱条件が例示で
き、好ましくは加熱還流条件下に行われる。
0℃〜使用した有機溶媒の沸点程度の加熱条件が例示で
き、好ましくは加熱還流条件下に行われる。
反応は大気圧条件下もしくは自然発生圧条件下に行うの
が普通であるが、望むならば加圧もしくは減圧条件を採
用することもできる。
が普通であるが、望むならば加圧もしくは減圧条件を採
用することもできる。
例えば、大気圧もしくは約50 kg/crrf、〜約
1miHgの範囲内の加圧もしくは減圧条件を例示でき
る。
1miHgの範囲内の加圧もしくは減圧条件を例示でき
る。
反応時間は、例えば約2時間〜約15時間程度である。
上記水混和性有機溶媒の例としては、たとえばメタノー
ル、エタノール、n−もしくは1so−プロピルアルコ
ール、n−1iso−もしくはtert−ブタノールの
如き低級アルコール;アセトン、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、C1〜C4の有機カルボン酸等を例示する
ことができる。
ル、エタノール、n−もしくは1so−プロピルアルコ
ール、n−1iso−もしくはtert−ブタノールの
如き低級アルコール;アセトン、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、C1〜C4の有機カルボン酸等を例示する
ことができる。
又、上記酸触媒としては、広い範囲の無機もしくは有機
酸が利用でき、例えば、塩酸、硫酸、リン酸などの如き
鉱酸類やパラトルエンスルホン酸、しゆう酸などの如き
有機酸類を例示できる。
酸が利用でき、例えば、塩酸、硫酸、リン酸などの如き
鉱酸類やパラトルエンスルホン酸、しゆう酸などの如き
有機酸類を例示できる。
これら酸触媒の使用量は少量でよく、例えば、上記使用
溶媒に基いて約0.5重量%〜約20重量%程度の使用
量で利用できる。
溶媒に基いて約0.5重量%〜約20重量%程度の使用
量で利用できる。
また、上記溶媒の使用量は式(1)化合物に基づいて、
重量で約1倍〜約20倍程度で用いるのが普通である。
重量で約1倍〜約20倍程度で用いるのが普通である。
又、水は式〔■〕化合物に対して等重乃至上記溶媒の約
%重量倍程度が普通である。
%重量倍程度が普通である。
反応後、反応生成物系に水を注ぎ、ベンゼン、トルエン
、塩化メチレンなどのような有機溶媒を加えて抽出し、
水洗したあと、有機溶媒を留去して、前記式(II)の
ω・ω−ビス(アルキルチオ)もしくはω・ω−(アル
キレンジチオ)−2・5−ジオキソアルカンを得ること
ができる。
、塩化メチレンなどのような有機溶媒を加えて抽出し、
水洗したあと、有機溶媒を留去して、前記式(II)の
ω・ω−ビス(アルキルチオ)もしくはω・ω−(アル
キレンジチオ)−2・5−ジオキソアルカンを得ること
ができる。
得られた化合物は、所望により、減圧蒸留して更に精製
することができる。
することができる。
本発明においては、上述のようにして得られる前記式(
II)で表わされるω・ω−ビス(アルキルチオ)−も
しくはω・ω−(アルキレンジチオ)2・5−ジオキソ
アルカンを、アルカリの存在下に溶媒中で環化反応せし
め、好収率で円滑に高純度の式CI)化合物に転化せし
めることができる。
II)で表わされるω・ω−ビス(アルキルチオ)−も
しくはω・ω−(アルキレンジチオ)2・5−ジオキソ
アルカンを、アルカリの存在下に溶媒中で環化反応せし
め、好収率で円滑に高純度の式CI)化合物に転化せし
めることができる。
溶媒としては水の利用が最も普通であるが、原料式〔■
〕化合物が、反応条件下において水に難溶性の場合には
他の溶媒を単独もしくは水を併用して利用することがで
きる。
〕化合物が、反応条件下において水に難溶性の場合には
他の溶媒を単独もしくは水を併用して利用することがで
きる。
斯かる他の溶媒の例としては、たとえば、メタノール、
エタノール、プロパツール、ブタノールなどの如き低級
アルコール類;エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ランの如きエーテル類、その他アセトンなどの水溶性有
機溶媒などを例示することができる。
エタノール、プロパツール、ブタノールなどの如き低級
アルコール類;エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ランの如きエーテル類、その他アセトンなどの水溶性有
機溶媒などを例示することができる。
又、上記アルカリの例としては水酸化ンーダ、水酸化カ
リ、水酸化バリウム、水酸化カルシウム、炭酸カリウム
、ナトリウム−メチラートまたはエチラート、水素化ナ
トリウム、ナトリウムアミドの如きアルカリ金属もしく
はアルカリ土類金属の水酸化物;炭酸塩、アルコラード
類、水素化物、アミド類などを挙げることができる。
リ、水酸化バリウム、水酸化カルシウム、炭酸カリウム
、ナトリウム−メチラートまたはエチラート、水素化ナ
トリウム、ナトリウムアミドの如きアルカリ金属もしく
はアルカリ土類金属の水酸化物;炭酸塩、アルコラード
類、水素化物、アミド類などを挙げることができる。
アルカリの使用量は適宜に選択できるが、例えば使用溶
媒の重量に基いて、約1%〜約20%程度の使用量で利
用できる。
媒の重量に基いて、約1%〜約20%程度の使用量で利
用できる。
反応は室温でも進行するので、とくには加熱は必要とし
ないが、加熱条件の採用が好ましい。
ないが、加熱条件の採用が好ましい。
一般に約り℃〜約120℃程度の範囲の温度が採用され
る。
る。
溶媒の使用量は適宜に選択でき、とくべつな制約はない
が、通常、式〔■〕化合物に対して重量で約3倍〜約2
0倍程度の範囲の量が利用される。
が、通常、式〔■〕化合物に対して重量で約3倍〜約2
0倍程度の範囲の量が利用される。
水に可及的に難溶性の式CI[)化合物を用いる場合の
一例についてのべると、側光ば、8・8−ビス(アルキ
ルチオ)−または8・8−(アルキレンジチオ)−2・
5−ジオキソオクタンを用いる場合、原料に基いて2〜
20倍量の1〜10%程度の濃度の苛性ソーダ水溶液と
0.5〜5倍重量のメタノールの混液を加えて1〜10
時間、常温放置または加熱還流すれば、前記式CI)に
おいてn=1の場合の化合物2−〔2・2−ビス(アル
キルチオ)エチル〕または2〔2・2−(アルキレンジ
チオ)エチル)−3−メチル−2−シク□ペンテンー1
−オンを定量的に、かつ単一生成物として得ることがで
きる。
一例についてのべると、側光ば、8・8−ビス(アルキ
ルチオ)−または8・8−(アルキレンジチオ)−2・
5−ジオキソオクタンを用いる場合、原料に基いて2〜
20倍量の1〜10%程度の濃度の苛性ソーダ水溶液と
0.5〜5倍重量のメタノールの混液を加えて1〜10
時間、常温放置または加熱還流すれば、前記式CI)に
おいてn=1の場合の化合物2−〔2・2−ビス(アル
キルチオ)エチル〕または2〔2・2−(アルキレンジ
チオ)エチル)−3−メチル−2−シク□ペンテンー1
−オンを定量的に、かつ単一生成物として得ることがで
きる。
本発明の式CI)化合物は、香料物質合成の中間体とし
ても有用である。
ても有用である。
たとえば、ジャスミン系香料として重要なシス−ジャス
ミンは、2−ホルミルメチル−3−メチル−2−シクロ
ペンテン1−オンヲ、ハロゲン化フロピルトリフェニル
ホスホニウム及び塩基と反応させて好収率且つ高純度で
得られるが、該2−ホルミルメチル−3メチル−2−シ
クロペンテン−1−オンの製造は多くの不利益及び欠陥
を伴う方法でしか製造できなかった。
ミンは、2−ホルミルメチル−3−メチル−2−シクロ
ペンテン1−オンヲ、ハロゲン化フロピルトリフェニル
ホスホニウム及び塩基と反応させて好収率且つ高純度で
得られるが、該2−ホルミルメチル−3メチル−2−シ
クロペンテン−1−オンの製造は多くの不利益及び欠陥
を伴う方法でしか製造できなかった。
すなわち、従来、上記公知化合物2−ホルミルメチル−
3−メチル−2−シクロペンテン−1−オンの製造につ
いては、2−メトキシカルボニルメチル−3−メチル−
2−シクロペンテン−1オンを高価な水素化ジイソブチ
ルアルミニウムを用いて一70℃という著しい低温条件
下に還元して製造する方法(Au5t 、 J、 Ch
em、 26.2671 (1973))o及び高価
なアレスロロン〔3−メチル−2−(2−プロペニル)
−2−シクr−ペンテン−1−オンを一20℃といつ低
温条件下でオゾン酸化して製造する方法(Agr。
3−メチル−2−シクロペンテン−1−オンの製造につ
いては、2−メトキシカルボニルメチル−3−メチル−
2−シクロペンテン−1オンを高価な水素化ジイソブチ
ルアルミニウムを用いて一70℃という著しい低温条件
下に還元して製造する方法(Au5t 、 J、 Ch
em、 26.2671 (1973))o及び高価
なアレスロロン〔3−メチル−2−(2−プロペニル)
−2−シクr−ペンテン−1−オンを一20℃といつ低
温条件下でオゾン酸化して製造する方法(Agr。
B iol 、 Chem、、39 1887(197
5))の2つの方法が報告されているにすぎない。
5))の2つの方法が報告されているにすぎない。
前者の方法は、高価かつ取扱い厄介な水素化ジイソブチ
ルアルミニウムを用いる不利益のほかに、70℃という
低温反応に要求される操作及び特別な冷凍装置を必要と
する欠陥があり、工業的規模での実施には著しく不利で
ある。
ルアルミニウムを用いる不利益のほかに、70℃という
低温反応に要求される操作及び特別な冷凍装置を必要と
する欠陥があり、工業的規模での実施には著しく不利で
ある。
また、後者の方法ではオゾンの使用に伴うオゾン発生装
置及び20℃という低温反応に必要な冷凍装置が要求さ
れる装置及び操作上の不利益があり、前者の方法と同様
に工業的規模での実施には不適当である。
置及び20℃という低温反応に必要な冷凍装置が要求さ
れる装置及び操作上の不利益があり、前者の方法と同様
に工業的規模での実施には不適当である。
さらにまた、両方法とも、目的物の生成率及び純度の点
でも、必ずしも満足し得ない結果しか得られない。
でも、必ずしも満足し得ない結果しか得られない。
ところが、本発明法によって得られる2−〔2・2−ビ
ス(アルキルチオ)エチル〕−または2〔2・2−(ア
ルキレンジチオ)エチルツー3メチルー2−シクロペン
テン−1−オンを用いれば、既知の加水分解法、例えば
、含水の水混和性有機溶媒、例えば、アセトン、アセト
ニトリルなどの溶媒中で(1)塩化第二水銀−酸化第二
水銀の存在下、(2)N−ブロモこはく酸イミドもしく
はN−クロロこはく酸イミド−硫酸銀の存在下、(3)
塩化第二銅−酸化第二銅の存在下で反応すれば、上記い
ずれの方法によっても加水分解され、2−ホルミルメチ
ル−3−メチル−2−シクロペンテン1−オンが高収率
かつ高純度をもって安価に製造され得る。
ス(アルキルチオ)エチル〕−または2〔2・2−(ア
ルキレンジチオ)エチルツー3メチルー2−シクロペン
テン−1−オンを用いれば、既知の加水分解法、例えば
、含水の水混和性有機溶媒、例えば、アセトン、アセト
ニトリルなどの溶媒中で(1)塩化第二水銀−酸化第二
水銀の存在下、(2)N−ブロモこはく酸イミドもしく
はN−クロロこはく酸イミド−硫酸銀の存在下、(3)
塩化第二銅−酸化第二銅の存在下で反応すれば、上記い
ずれの方法によっても加水分解され、2−ホルミルメチ
ル−3−メチル−2−シクロペンテン1−オンが高収率
かつ高純度をもって安価に製造され得る。
従って、本発明を用いて、2−〔2・2−ビス(アルキ
ルチオ)エチル〕−もしくは2−〔2・2−(アルキレ
ンジチオ)エチルツー3−メチル−2−シクロペンテン
−1−オンを、含水有機溶媒中、第二水銀塩または第二
銅塩の存在下に加水分解反応、もしくはN−ハロこはく
酸イミドの存在下に酸化的加水分解反応することを特徴
とする2−ホルミルメチル−3−メチル−2−シクロペ
フ ンテンー1−オンの製法も提供できる。
ルチオ)エチル〕−もしくは2−〔2・2−(アルキレ
ンジチオ)エチルツー3−メチル−2−シクロペンテン
−1−オンを、含水有機溶媒中、第二水銀塩または第二
銅塩の存在下に加水分解反応、もしくはN−ハロこはく
酸イミドの存在下に酸化的加水分解反応することを特徴
とする2−ホルミルメチル−3−メチル−2−シクロペ
フ ンテンー1−オンの製法も提供できる。
上記反応は常温でも進行するが、望ましくは5℃〜10
0℃程度の範囲の温度を利用できる。
0℃程度の範囲の温度を利用できる。
以下、本発明式CI)化合物の製造及び利用の数例につ
いて更に具体的に示す。
いて更に具体的に示す。
テ 製造例 1
2−(2・2−ビス(メチルチオ)エチルツー3−メチ
ル−2−シクロペンテン−1−オンの製造 8・8−ビス(エチルチオ)−2・5−ジオキノ ソオ
クタン262S’(1,0モル)を5%苛性ソーダ水溶
液500m1とメタノール500Pの混液に入れ、5時
間加熱還流する。
ル−2−シクロペンテン−1−オンの製造 8・8−ビス(エチルチオ)−2・5−ジオキノ ソオ
クタン262S’(1,0モル)を5%苛性ソーダ水溶
液500m1とメタノール500Pの混液に入れ、5時
間加熱還流する。
冷却後塩化メチレンで抽出し、水洗して塩化メチレンを
留去後減圧蒸留すると、沸点120〜122℃/ 3
mmHg n ”; 、== i、 5608 d
”i”、−1,1252ヲ示ス標題化合物222S’(
理論収率91%)が得られる。
留去後減圧蒸留すると、沸点120〜122℃/ 3
mmHg n ”; 、== i、 5608 d
”i”、−1,1252ヲ示ス標題化合物222S’(
理論収率91%)が得られる。
製造例 2
2−C2・2−(エチレンジチオ)エチルツー3−メチ
ル−2−シクロペンテン−1−オンの製造 8・8−(エチレンジチオ)−2・5−ジオキソオクタ
ン232P(1,0モル)を5%苛性ソーダ水溶液50
0m1とメタノール50(lの混液に入れ、5時間加熱
還流する。
ル−2−シクロペンテン−1−オンの製造 8・8−(エチレンジチオ)−2・5−ジオキソオクタ
ン232P(1,0モル)を5%苛性ソーダ水溶液50
0m1とメタノール50(lの混液に入れ、5時間加熱
還流する。
冷却後塩化メチレン1 で抽出し、水洗して塩化メチレ
ンを留去後減圧蒸留すると、沸点142〜145℃/
3 mmHg n25=1.5864 a4雪−1,
2047を示す標題化合物199グ(理論収率93%)
が得られる。
ンを留去後減圧蒸留すると、沸点142〜145℃/
3 mmHg n25=1.5864 a4雪−1,
2047を示す標題化合物199グ(理論収率93%)
が得られる。
製造例 3
上記製造例1又は2と同様に行って下掲表1の式CI)
化合物が得られる。
化合物が得られる。
利用例 1
2−ホルミルメチル−3−メチル−2−シクロペンテン
−1−オンの製造 製造例1で得られた2−〔2・2−ビス(メチルチオ)
エチル〕へ3−メチル−2−シクロペンテン−1−オン
214f(1モル)を塩化第二銅340S’(2モル)
、酸化第二銅311’(4モル)、2%含水アセトン1
00(lを加え、1時間加熱還流する。
−1−オンの製造 製造例1で得られた2−〔2・2−ビス(メチルチオ)
エチル〕へ3−メチル−2−シクロペンテン−1−オン
214f(1モル)を塩化第二銅340S’(2モル)
、酸化第二銅311’(4モル)、2%含水アセトン1
00(lを加え、1時間加熱還流する。
冷却後水を加え、塩化メチレン抽出し、飽和食塩水で洗
い、乾燥して塩化メチレンを留去し、減圧蒸留すると、
沸点101〜104℃/3mmHg、 nj’=1.5
123、慴=1.0989を示す標題化合物127f?
(理論収率92%)が得られる。
い、乾燥して塩化メチレンを留去し、減圧蒸留すると、
沸点101〜104℃/3mmHg、 nj’=1.5
123、慴=1.0989を示す標題化合物127f?
(理論収率92%)が得られる。
利用例 2
製造例3で得られた2−〔2・2−ビス(プロピルチオ
)エチルヨー3−メチル−2−シクロペンテン−1−オ
ンをパインアップル・フレーバーへの賦香組成物の応用
例を下記に示す。
)エチルヨー3−メチル−2−シクロペンテン−1−オ
ンをパインアップル・フレーバーへの賦香組成物の応用
例を下記に示す。
成
分
酪酸エチル
0
酪酸1・1−ジメチル
チル
フェニルジ工
カプロン酸アリル
酪酸フェノキシエチル
カプロン酸
酪酸
6
3−ヒドロキシ−2−メチル
ピロン(マルトール)
ガンマ−
0
2−〔2・2−ビス(フロビルチオ)エ
チルヨー3−メチル−2−シクロペンテ
ン−1−オン
00
上記ベースを用途に応じた溶剤で5〜10%に希釈した
フレーバーを賦香品に賦香した場合、パインアップルの
熟成感が著しく向上する。
フレーバーを賦香品に賦香した場合、パインアップルの
熟成感が著しく向上する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記式CI) もしくはω・ω−(アルキレンジチオ)−アルキルツー
3−メチル−2−シクロペンテン−1−オン。 2 該低級アルキル基がC1〜C4の低級アルキル基で
、該アラルキル基が式 のアラルキル基で、該低級アルキレン基がC2〜C4の
低級アルキレン基である特許請求の範囲1記載の化合物
。 3 下記式(II) 但し式中、Rは同一でも異っていてもよく、夫夫、低級
アルキル基もしくはアラルキル基を表わすか、又は、二
つのSRは一緒になって式/R′(″j”e、R’+!
低級ア/Iz # L/ 7基を示す・)S を示し、nは0〜4の整数を示す、 で表わされるω・ω−ビス(アルキルチオ)−もしくは
ω・ω−(アルキレンジチオ)−2・5−ジオキソアル
カンを、アルカリの存在下に溶媒中で環化反応せしめる
ことを特徴とする下記式〔■〕、夫、低級アルキル基も
しくはアラルキル基を表わすか、又は、二つのSRは一
緒になって式/R/ (ここで・R′は低級ア″キv7
基を示す・)S を示し、nは0〜4の整数を示す、 で表わされる2−〔ω・ω−ビス(アルキルチオ)−も
しくはω・ω−(アルキレンジチオ)−アルキルヨー3
−メチル−2−シクロペンテン−1−オンの製法。 14 上記式(
ID化合物における該低級アルキル基力C1〜C4の低
級アルキル基で、該アラルキル基のアラルキル基で、該
低級アルキレン基がC2〜C4の低級アルキレン基であ
る特許請求の範囲3記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51100233A JPS5835509B2 (ja) | 1976-08-24 | 1976-08-24 | 2−〔ω,ω−ビス(アルキルチオ)−もしくはω,ω−(アルキレンジチオ)−アルキル〕−3−メチル−2−シクロペンテン−1−オン及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51100233A JPS5835509B2 (ja) | 1976-08-24 | 1976-08-24 | 2−〔ω,ω−ビス(アルキルチオ)−もしくはω,ω−(アルキレンジチオ)−アルキル〕−3−メチル−2−シクロペンテン−1−オン及びその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5325542A JPS5325542A (en) | 1978-03-09 |
| JPS5835509B2 true JPS5835509B2 (ja) | 1983-08-03 |
Family
ID=14268543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51100233A Expired JPS5835509B2 (ja) | 1976-08-24 | 1976-08-24 | 2−〔ω,ω−ビス(アルキルチオ)−もしくはω,ω−(アルキレンジチオ)−アルキル〕−3−メチル−2−シクロペンテン−1−オン及びその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5835509B2 (ja) |
-
1976
- 1976-08-24 JP JP51100233A patent/JPS5835509B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5325542A (en) | 1978-03-09 |
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