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JPS583576B2 - Ion beam generator - Google Patents
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JPS583576B2 - Ion beam generator - Google Patents

Ion beam generator

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Publication number
JPS583576B2
JPS583576B2 JP51074172A JP7417276A JPS583576B2 JP S583576 B2 JPS583576 B2 JP S583576B2 JP 51074172 A JP51074172 A JP 51074172A JP 7417276 A JP7417276 A JP 7417276A JP S583576 B2 JPS583576 B2 JP S583576B2
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JP
Japan
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ion
chamber
electrolytic cell
heating
gas
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JP51074172A
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高木俊宣
大久保昌男
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Japan Electronic Materials Corp
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はイオンビーム発生装置に関し、特にイオン化す
べき原子または分子の供給装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an ion beam generator, and more particularly to an apparatus for supplying atoms or molecules to be ionized.

物質をイオン化する方法として最も広く用いられている
ものは、高周波放電(RF放電)、グロー放電等の気中
放電による電子の衝突電離を利用する形であり、この場
合、イオン化すべき物質を気体状にしてイオン生成室へ
供給する必要がある。
The most widely used method for ionizing substances is to utilize collision ionization of electrons caused by air discharge such as radio frequency discharge (RF discharge) or glow discharge. It is necessary to supply it to the ion generation chamber in the form of

イオン化すべき物質またはその化合物が常温において気
体状で得られれば、ガスボンベより直接供給できるわけ
であるが、実際には化学的、熱的反応操作処理により予
め精製しこれを一旦ボンベに充填した上で使用しなけれ
ばならず、精製処理作業とボンベの補充交換作業を伴う
欠点があった。
If the substance to be ionized or its compound is obtained in a gaseous state at room temperature, it can be supplied directly from a gas cylinder, but in reality it can be purified in advance through chemical and thermal reaction treatment, and then filled into a cylinder. This had the disadvantage of requiring refining work and cylinder replenishment and replacement work.

本発明の主たる目的は、水素、酸素等の気体を高純度の
状態で連続的に供給する装置の提供にあり、本発明の他
の目的は、プロトン比の高い水素イオンビームを高能率
に発生させる装置の提供にある。
The main purpose of the present invention is to provide an apparatus that continuously supplies gases such as hydrogen and oxygen in a highly pure state.Another purpose of the present invention is to efficiently generate a hydrogen ion beam with a high proton ratio. The goal is to provide equipment that allows

次に本発明を、電解によって水素ガスを連続的に供給す
る実施例について説明する。
Next, the present invention will be described with reference to an embodiment in which hydrogen gas is continuously supplied by electrolysis.

第1図はこの実施例の断面図である。FIG. 1 is a sectional view of this embodiment.

イオン生成室すなわち放電室は、気中放電の陽極となる
外囲器1と、放電室のほぼ中央に陽極と対向して配設さ
れた冷陰極2より成り、外囲器1の前方壁面にはイオン
引出し孔3が穿設され、さらにその前方にイオンビーム
加速用電極4が配設されている。
The ion generation chamber, that is, the discharge chamber, consists of an envelope 1 that serves as an anode for air discharge, and a cold cathode 2 that is disposed approximately in the center of the discharge chamber to face the anode. An ion extraction hole 3 is formed, and an ion beam acceleration electrode 4 is provided in front of the ion extraction hole 3.

水素ガスを供給するためイオン生成室の外側に設けられ
た電解槽は、外囲器1が電解槽の内壁を兼用して陰電極
となり、内壁1の外側に所定の間隔を隔てて陽電極とな
る電解槽の外壁6が設けられ、両電極の間はそれぞれの
壁面に発生した気泡の混交を防ぐためアスベスト等の隔
壁7で仕切られ、陰極室および陽極室の上方にはそれぞ
れガス排出用の排出口8,9が設けられ、外壁6の下部
には電解液を供給する供給口10が設けられ、電解槽内
には電解水溶液11が充填される。
In the electrolytic cell installed outside the ion generation chamber for supplying hydrogen gas, the envelope 1 also serves as the inner wall of the electrolytic cell as a negative electrode, and the outer wall 1 has a positive electrode and a predetermined interval apart. An outer wall 6 of the electrolytic cell is provided, and a partition wall 7 made of asbestos or the like is provided between the two electrodes to prevent air bubbles generated on each wall surface from mixing. Above the cathode chamber and the anode chamber, there are respectively gas exhaust walls. Discharge ports 8 and 9 are provided, a supply port 10 for supplying an electrolytic solution is provided at the lower part of the outer wall 6, and an electrolytic aqueous solution 11 is filled in the electrolytic cell.

また、放電室の陽極1と冷陰極2の間には直流電源12
により電圧■1が印加され、電解槽の陰電極すなわち放
電室の陽極1と電解槽の陽電極6の間には直流電源13
により電圧■2が印加される。
In addition, a DC power supply 12 is connected between the anode 1 and the cold cathode 2 in the discharge chamber.
A voltage 1 is applied by the DC power supply 13 between the negative electrode of the electrolytic cell, that is, the anode 1 of the discharge chamber, and the positive electrode 6 of the electrolytic cell.
Therefore, voltage (2) is applied.

これらいずれの電圧も適宜の値に調整することができる
Any of these voltages can be adjusted to appropriate values.

電解槽の外側には水素分子H2を電離させるための高周
波コイル5が巻かれており、高周波発振器(図示せず)
に接続されている。
A high frequency coil 5 for ionizing hydrogen molecules H2 is wound around the outside of the electrolytic cell, and a high frequency oscillator (not shown) is connected to the electrolytic cell.
It is connected to the.

放電室と電解槽の境界を形成している外囲器1の側面に
は、この発明の特徴のひとつである水素透過膜20が設
けられている。
A hydrogen permeable membrane 20, which is one of the features of the present invention, is provided on the side surface of the envelope 1 that forms the boundary between the discharge chamber and the electrolytic cell.

すなわち、この水素透過膜20は、第2図に示すように
、ステンレス等を通気性多孔質に焼結加工した多孔質金
属21を基体とし、その細孔部分22をメッキ処理によ
りパラジウムで閉塞して、水密性を有し且つ水素ガスを
よく吸蔵、透過するように処理し、さらに電解液に接触
する外表層部23をパラジウム黒に活性化処理して電解
により発生した水素ガスの吸着を良好ならしめるように
したものである。
That is, as shown in FIG. 2, this hydrogen-permeable membrane 20 has a porous metal 21 made of stainless steel or the like sintered into a porous air-permeable material as a base, and its pores 22 are plugged with palladium by plating. The outer surface layer 23, which comes into contact with the electrolyte, is activated to palladium black to improve adsorption of hydrogen gas generated by electrolysis. It was designed to help you get used to it.

このような多孔質細孔部分へのパラジウムの閉塞処理は
、通常のメッキ処理のほか、無電解メッキ、又はプラズ
マ溶射等により行うことができる。
Such treatment for blocking the porous pores with palladium can be performed by ordinary plating treatment, electroless plating, plasma spraying, or the like.

次に、この装置の作用を説明する。Next, the operation of this device will be explained.

電解槽には供給口10から電解水溶液が充填される。The electrolytic cell is filled with an electrolytic aqueous solution from the supply port 10 .

この電解液としては、例えば水酸化ナトリウム或いは水
酸化カリウムの水溶液、又は海水がそのまま用いられる
As this electrolyte, for example, an aqueous solution of sodium hydroxide or potassium hydroxide, or seawater can be used as is.

電解用電圧■2が印加されると、水は陽イオンH+と陰
イオンOH−に電離し、陽イオンH+は陰電極すなわち
放電室の外囲器1に集まって水素透過膜20の表層部に
吸着補捉され多孔質の細孔中を透過して内表面に達し、
ここでその多くは水素分子H2となり放電室に高純度の
水素ガスを供給する。
When the electrolysis voltage 2 is applied, water is ionized into cations H+ and anions OH-, and the cations H+ gather at the negative electrode, that is, the envelope 1 of the discharge chamber, and reach the surface layer of the hydrogen permeable membrane 20. It is adsorbed and captured, passes through the porous pores, and reaches the inner surface.
Here, most of it becomes hydrogen molecules H2 and supplies high purity hydrogen gas to the discharge chamber.

このようにして放電室の外壁面で発生した純水素は、高
周波コイル5による数MHz〜100数MHzの高周波
のため放電する。
The pure hydrogen thus generated on the outer wall surface of the discharge chamber is discharged due to the high frequency of several MHz to several hundred MHz generated by the high frequency coil 5.

電離したイオンは、放電室の陽極、陰極間に印加されて
いる高電圧■,のため陽極のイオン引出し孔3の近傍に
プラズマシースが形成され、イオン加速用電極4により
イオンビームとしてとり出される。
Due to the high voltage ■ applied between the anode and cathode of the discharge chamber, the ionized ions form a plasma sheath near the ion extraction hole 3 of the anode, and are extracted as an ion beam by the ion acceleration electrode 4. .

上記実施例において、電解水溶液をポンプ等で循環させ
イオン生成室の冷却を行わせることができ、また、例え
ば80℃程度に恒温制御することもできる。
In the above embodiment, the ion generation chamber can be cooled by circulating the electrolytic aqueous solution using a pump or the like, and the temperature can also be controlled at a constant temperature of, for example, about 80°C.

この実施例によれば、イオン生成室と電解槽を直接近接
させ電解により得られた気体を気中放電によりイオン化
するものであるから、気体の純度が高く且つ必要量を過
不足なく継続的に補給することができる。
According to this embodiment, the ion generation chamber and the electrolytic cell are brought directly into close proximity, and the gas obtained by electrolysis is ionized by air discharge, so the purity of the gas is high and the required amount is continuously supplied in just the right amount. Can be replenished.

例えば水素の場合、パラジウムより成る透過膜を使用す
れば透過した水素ガスは、99.999%〜99.99
99%の高純度のものが得られ、水素発生能力は少なく
とも毎分150ml以上に達し、イオン生成室の放電に
必要な10−1〜10−3Torrのガス圧に保持する
に適当である。
For example, in the case of hydrogen, if a permeable membrane made of palladium is used, the permeated hydrogen gas will be 99.999% to 99.99%
A product with a high purity of 99% can be obtained, and the hydrogen generation capacity reaches at least 150 ml per minute, which is suitable for maintaining the gas pressure of 10 -1 to 10 -3 Torr, which is necessary for discharging the ion generation chamber.

従って、従来のようにガスボンベを搬入しこれを精製す
る必要が全くない。
Therefore, there is no need to bring in a gas cylinder and purify it as in the past.

また水素イオンビームは質量数が小さく加速が容易なた
めに好んで使用されるが、パラジウム透過膜を介して得
られた水素ガスは原子状のものが多くを占めており、直
ちにプロトンH+にイオン化されるのでH2+,H3+
が少なくプロトン比が太きい。
Furthermore, hydrogen ion beams are preferred because they have a small mass number and are easy to accelerate; however, hydrogen gas obtained through a palladium permeable membrane is mostly atomic, and is immediately ionized into protons H+. H2+, H3+
is small and the proton ratio is large.

さらに、イオン生成室の外周が電解水溶液で囲まれてい
るので熱の遮蔽が行われて高周波コイル等外周部が高温
にさらされることがないなどの特長がある。
Furthermore, since the outer periphery of the ion generation chamber is surrounded by the electrolyte aqueous solution, heat is shielded and the outer periphery of the high frequency coil etc. is not exposed to high temperatures.

次に、本発明の他の実施例として、水素化金属を用いて
純水素ガスを連続的に供給する装置を説明する。
Next, as another embodiment of the present invention, an apparatus for continuously supplying pure hydrogen gas using metal hydride will be described.

例えば、水素化チタンは水素を多量に吸蔵する性質があ
る。
For example, titanium hydride has the property of storing a large amount of hydrogen.

この実施例は、スポンジ性水素化チタンから純水素ガス
の必要量を継続的に供給しながらイオンビームを発生さ
せることを特徴としている。
This embodiment is characterized in that an ion beam is generated while continuously supplying the necessary amount of pure hydrogen gas from spongy titanium hydride.

第3図はこの実施例の断面図である。FIG. 3 is a sectional view of this embodiment.

内部に水素化チタンを収納する容器31は耐熱性材料で
作られ管状の口部32が設けられている。
A container 31 that stores titanium hydride therein is made of a heat-resistant material and is provided with a tubular opening 32 .

この容器31を格納する加熱室33は断熱材で構成され
蓋体34を開いて容器31を交換しうる構造になってい
る。
A heating chamber 33 in which the container 31 is stored is made of a heat insulating material and has a structure in which the container 31 can be replaced by opening the lid 34.

また、加熱室内部には容器31を取巻くようにヒータ3
5が設けられ、内部温度を計測するための感熱素子36
が取付けられている。
Also, a heater 3 is installed inside the heating chamber so as to surround the container 31.
5 is provided, and a heat sensitive element 36 for measuring the internal temperature.
is installed.

上記ヒータ35は電源装置37からの通電により加熱さ
れるが、加熱室内の温度及び加熱持続時間は、操作ボタ
ン、プログラム設定手段を含む設定部38の指令信号を
基準信号とし、感熱素子36からの信号をフィードバッ
ク信号として所定値に制御される。
The heater 35 is heated by electricity from the power supply device 37, and the temperature inside the heating chamber and the heating duration are determined by using the command signal from the setting section 38, which includes operation buttons and program setting means, as a reference signal, and by using the command signal from the heat-sensitive element 36 as a reference signal. The signal is controlled to a predetermined value using the feedback signal.

容器31の口部32は管継手39、バルブ40を介して
イオン化室1人に導かれている。
The mouth 32 of the container 31 is led to an ionization chamber via a pipe joint 39 and a valve 40.

また、はじめに、装置内の空気等不純ガスを除去フする
ために、弁42と真空ポンプ43が設けられている。
First, a valve 42 and a vacuum pump 43 are provided to remove impure gas such as air within the apparatus.

冷陰極2人、イオン引出し孔3A、イオン加速電極4A
、高周波コイル5Aは第1図の実施例と同様である。
2 cold cathodes, 3A ion extraction hole, 4A ion accelerating electrode
, the high frequency coil 5A is similar to the embodiment shown in FIG.

上記容器1内の水素化チタンへの水素ガスの吸収は水素
製造工場にて集中的に行われ、容器を密封した状態で輸
送される。
The absorption of hydrogen gas into the titanium hydride in the container 1 is performed intensively at a hydrogen production factory, and the container is transported in a sealed state.

水素化チタンTiH2のlkg中には450l(1気圧
)の水素を含んでいる。
1 kg of titanium hydride TiH2 contains 450 liters (1 atm) of hydrogen.

実験によればこの水素の放出は常温においては全く放出
がなく、250℃以下の温度では放出に極めて長時間を
要するが、360℃において放出を開始し、温度が上昇
するほどに放出量が増加してゆき、800℃において全
放出が行われる。
According to experiments, this hydrogen is not released at all at room temperature, and it takes an extremely long time to release at temperatures below 250°C, but it starts to be released at 360°C, and the amount released increases as the temperature rises. Then, total release occurs at 800°C.

また、水素化チタン中の水素濃度が大きい程放出量が多
く、周囲の水素ガスの圧力が低い程放出量が多い。
Furthermore, the higher the hydrogen concentration in titanium hydride, the greater the amount released, and the lower the pressure of the surrounding hydrogen gas, the greater the amount released.

従って、水素ガスを放出させたときは設定部12により
加熱室内の温度を上昇させ、放出を停止させたいときに
は加熱を停止すればよい。
Therefore, when hydrogen gas is released, the temperature inside the heating chamber is raised by the setting unit 12, and when it is desired to stop the release, heating can be stopped.

この実施例によれば、ヒータへの電流制御という簡単な
方法で水素化チタンから自在に水素ガスを放出させるこ
とができる。
According to this embodiment, hydrogen gas can be freely released from titanium hydride by a simple method of controlling the current to the heater.

また、ちなみに、水素ガスボンベによる場合と比較する
と、ボンベによれば70kgの輸送総量のうち水素ガス
量はわずか2〜3kgしか含まれていないのに対し、同
じ重量の水素化チタンからは18kyの水素ガスを取出
すことができる。
By the way, compared to using a hydrogen gas cylinder, the cylinder contains only 2 to 3 kg of hydrogen gas out of the total amount of 70 kg transported, whereas the same weight of titanium hydride contains 18 ky of hydrogen. Gas can be extracted.

さらに、この第2の実施例においては、商用交流電源を
そのまま用いて加熱することができるので、電解による
方法におけるような直流電源又は整流器を設ける必要が
なく装置が簡単になる。
Furthermore, in this second embodiment, since the commercial AC power supply can be used as is for heating, there is no need to provide a DC power supply or a rectifier as in the electrolytic method, and the apparatus becomes simple.

この実施例の水素化物としては、チタンのほか、ジルコ
ニウム、トリウム、バナジウム、ニオフ、クンタル、ウ
ラン、パラジウムなどによっても同様に実施することが
できる。
As the hydride in this embodiment, in addition to titanium, zirconium, thorium, vanadium, nioff, cuntal, uranium, palladium, etc. can also be used.

以上説明した電解法又は水素化物法による連続純水素供
給装置に結合されるイオンビーム発生装置は、上述した
RF型のほか、PIG型、電子衝撃型、電子ビーム入射
型、スパッタ型、二重プラズマ型の各イオン銃について
実施することができる。
In addition to the RF type described above, the ion beam generator coupled to the continuous pure hydrogen supply apparatus using the electrolytic method or the hydride method described above includes the PIG type, electron impact type, electron beam incidence type, sputter type, and double plasma type. It can be carried out for each type of ion gun.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の第1の実施例を示す縦断面図である、
第2図は第1図の水素透過膜20の模型的拡大図である
、第3図は第2の実施例を示す縦断面図である。 1,1A・・・・・・イオン生成室、2,2A・・・・
・・冷陰極、3,3A・・・・・・イオン引出し孔、4
,4A・・・・・・イオン加速電極、5,5A・・・・
・・高周波コイル、6・・・・・・電解槽外壁、7・・
・・・・隔壁、10・・・・・・電解液供給口、11・
・・・・・電解液、12・・・・・・放電用電源。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic enlarged view of the hydrogen permeable membrane 20 shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a longitudinal sectional view showing a second embodiment. 1,1A...Ion generation chamber, 2,2A...
...Cold cathode, 3,3A...Ion extraction hole, 4
, 4A...Ion accelerating electrode, 5,5A...
... High frequency coil, 6 ... Electrolytic cell outer wall, 7 ...
...Partition wall, 10... Electrolyte supply port, 11.
... Electrolyte, 12 ... Power supply for discharge.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 気体をイオン化するイオン生成室とそのイオンを引
出すイオン引出し手段を有する装置において、上記イオ
ン生成室の外囲器を電解槽の内壁として上記外囲気の外
側に電解槽を構成するとともに、上記電解槽の内壁に当
該イオンに係る気体原子を透過するが電解液及び空気分
子を透過しない半透膜を形成させ、上記電解槽の電気分
解により上記イオン生成室へイオン化すべき気体を連続
的に供給するよう構成されたイオンビーム発生装置。 2 気体をイオン化するイオン生成室とそのイオンを引
出すイオン引出し手段を有する装置において、水素化チ
タンを加熱する加熱室と、その加熱室内の温度を制御す
る加熱制御手段と、上記水素化チタンから放出される水
素ガスを減圧して上記イオン生成室へ供給する手段とを
有し、イオン化すべき水素ガスを連続的に供給するよう
構成されたイオンビーム発生装置。
[Scope of Claims] 1. A device having an ion generation chamber for ionizing gas and an ion extracting means for extracting the ions, wherein the envelope of the ion generation chamber is used as an inner wall of an electrolytic cell, and an electrolytic cell is placed outside the surrounding air. At the same time, a semipermeable membrane is formed on the inner wall of the electrolytic cell that allows gas atoms related to the ions to pass through, but does not allow the electrolyte and air molecules to pass through, and the ions should be ionized into the ion generation chamber by electrolysis of the electrolytic cell. An ion beam generator configured to continuously supply gas. 2. In an apparatus having an ion generation chamber for ionizing gas and an ion extraction means for extracting the ions, a heating chamber for heating titanium hydride, a heating control means for controlling the temperature in the heating chamber, and a heating chamber for heating titanium hydride, a heating control means for controlling the temperature in the heating chamber, an ion beam generator configured to continuously supply hydrogen gas to be ionized;
JP51074172A 1976-06-22 1976-06-22 Ion beam generator Expired JPS583576B2 (en)

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