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JPS5841496B2 - Metal thin film heating device - Google Patents
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JPS5841496B2 - Metal thin film heating device - Google Patents

Metal thin film heating device

Info

Publication number
JPS5841496B2
JPS5841496B2 JP51035678A JP3567876A JPS5841496B2 JP S5841496 B2 JPS5841496 B2 JP S5841496B2 JP 51035678 A JP51035678 A JP 51035678A JP 3567876 A JP3567876 A JP 3567876A JP S5841496 B2 JPS5841496 B2 JP S5841496B2
Authority
JP
Japan
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film
thin film
light source
metal thin
heating device
Prior art date
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Expired
Application number
JP51035678A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS52119543A (en
Inventor
建一 大井上
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
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Publication of JPS52119543A publication Critical patent/JPS52119543A/en
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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、低融点の金属薄膜上に像を形成するに際して
金属薄膜を予備加熱して感度を上げるための低融点金属
薄膜の加熱装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a low melting point metal thin film heating device for preheating the metal thin film to increase sensitivity when forming an image on the low melting point metal thin film.

近年、各種被写体の記録媒体としてポリエステルフィル
ム等の基層上にビスマス、テルル等の金属薄膜層を形成
したフィルムが開発されている。
In recent years, films in which a thin metal film layer of bismuth, tellurium, etc. is formed on a base layer such as polyester film have been developed as recording media for various subjects.

この様なフィルムは、成るしきい値以上にエネルギーを
加えたときにのみ記録が可能であり、第1図にマスター
フィルムから転写記録を行なうための一般的な配置を示
しである。
Such a film can be recorded only when energy is applied above a threshold value, and FIG. 1 shows a general arrangement for transfer recording from a master film.

こ\で、1はポリエステルフィルム等の基層、2はビス
マス等の低融点の金属薄膜層で基層1上に形成され、3
は薄膜層2上に形成された保護層で、これらの各層によ
り記録媒体としてのフィルム4を構成している。
Here, 1 is a base layer such as a polyester film, 2 is a thin metal film layer with a low melting point such as bismuth, which is formed on the base layer 1, and 3
is a protective layer formed on the thin film layer 2, and these layers constitute a film 4 as a recording medium.

このフィルム4上に転写記録すべきマスターフィルム5
を重ね合わせてフィルム押え6で密着させる。
Master film 5 to be transferred and recorded on this film 4
are overlapped and pressed tightly together using a film presser 6.

7は光源であり、薄膜層2に照射されたときにその薄膜
層2を溶融するに充分な輻射エネルギーを有している。
Reference numeral 7 denotes a light source, which has sufficient radiant energy to melt the thin film layer 2 when it is irradiated onto the thin film layer 2.

しかしながら、光源7としては極めて大きなエネルギー
を必要とし、この状態にては薄膜層2の溶融が容易でな
く、フィルム4の感度も低いものとなる。
However, the light source 7 requires extremely large energy, and in this state, the thin film layer 2 is not easily melted and the sensitivity of the film 4 is also low.

又、この光源7はフラッシュランプを使用しているが、
第2図に示す如くにフィルム4上では光源1より遠去か
るに従って光量が低下してしまう。
Also, this light source 7 uses a flash lamp,
As shown in FIG. 2, the amount of light on the film 4 decreases as the distance from the light source 1 increases.

この為に、光源7より遠い位置、即ちフィルム4の周辺
部ではエネルギー不足を生じる可能性があり、フィルム
4上は均一にエネルギーの照射を受けられずに転写後に
ムラとなって現われる。
For this reason, there is a possibility that a lack of energy will occur in a position far from the light source 7, that is, in the peripheral area of the film 4, and the film 4 will not be uniformly irradiated with energy, which will appear uneven after transfer.

本発明の目的は、上述した欠点を除去するもので、光源
の煕射前に薄膜層を予備加熱し、その際に光源の光量分
布とは相反する様に温度勾配を与えられる如くに予備加
熱し、薄膜層の溶融をし易くしてフィルム感度を上げる
と共に、光源よりの光照射によってフィルム上に均一に
エネルギーが付与され、ムラのない像転写が行なえる金
属薄膜の加熱装置を提供することである。
The object of the present invention is to eliminate the above-mentioned drawbacks, and to preheat the thin film layer before irradiation with a light source, and to preheat the thin film layer in such a way as to give a temperature gradient that is contrary to the light intensity distribution of the light source. To provide a metal thin film heating device which facilitates melting of the thin film layer to increase film sensitivity, and which uniformly imparts energy to the film by light irradiation from a light source and performs even image transfer. It is.

以下、図面により本発明の詳細な説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to the drawings.

第3図は、光源よりの光照射前にフィルムに予備加熱す
るための温度勾配を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a temperature gradient for preheating the film before irradiation with light from a light source.

本発明では、光源7よりの照射エネルギー分布が第2図
に示す通りとなるので、光照射を行なう転写時にフィル
ム4に均一にエネルギーが与えられることが必要である
In the present invention, since the irradiation energy distribution from the light source 7 is as shown in FIG. 2, it is necessary that energy be uniformly applied to the film 4 during transfer during light irradiation.

そこで、その光源7の照射エネルギー分布を補償するた
めに、相反する様に温度勾配を設けることが必要である
Therefore, in order to compensate for the irradiation energy distribution of the light source 7, it is necessary to provide opposing temperature gradients.

即ち、第3図に示す通りに、光源7より遠方のフィルム
4上の位置を最も高く予備加熱し、光源7に最近接のフ
ィルム4上の位置を最も低く予備加熱を行なう。
That is, as shown in FIG. 3, the position on the film 4 farthest from the light source 7 is preheated to the highest temperature, and the position on the film 4 closest to the light source 7 is preheated to the lowest temperature.

第4図は第3図に示す温度勾配でフィルム4を加熱する
ための本発明加熱装置の一実施例を示している。
FIG. 4 shows an embodiment of the heating device of the present invention for heating the film 4 with the temperature gradient shown in FIG.

こNで、第1図と同様のものには同じ符号を用いており
、8は円筒形を成している熱伝導性の良好な金属で形成
され、フィルム4を載置する金属基台である。
In this N, the same reference numerals are used for the same parts as in FIG. be.

9は加熱用ヒーターであり、金属基台8の周囲に巻かれ
ている。
Reference numeral 9 denotes a heating heater, which is wound around the metal base 8.

次に、この加熱装置によりマスターフィルム5のパター
ンをフィルム4上に転写するには、金属基台8上にフィ
ルム4及びマスターフィルム5を重ねて載置してフィル
ム押え6により密着させる。
Next, in order to transfer the pattern of the master film 5 onto the film 4 using this heating device, the film 4 and the master film 5 are placed one on top of the other on the metal base 8 and brought into close contact with the film presser 6.

このときに金属基台8の周囲には加熱用ヒーター9が巻
かれているので、基台8のフィルム4の載置される表面
においては周囲近傍が最も高温となり、中心に近くなる
に従って温度が低くなっている。
At this time, since a heating heater 9 is wrapped around the metal base 8, the surface of the base 8 on which the film 4 is placed has the highest temperature near the periphery, and the temperature decreases as it gets closer to the center. It's getting lower.

即ち、基台8は第3図に示す様な温度勾配を有しており
、このためにフィルム4の金属薄膜層2も同様の温度勾
配に加熱される。
That is, the base 8 has a temperature gradient as shown in FIG. 3, and therefore the metal thin film layer 2 of the film 4 is also heated to the same temperature gradient.

こSで、光源7により光照射を行なって薄膜層2を溶融
する。
At this step, light is irradiated by the light source 7 to melt the thin film layer 2.

こ\で、基台8の温度は基層1を劣下させない範囲内で
行なう必要があり、光源7の照射により初めてしきい値
以上のエネルギーが薄膜層2に加えられる。
Here, the temperature of the base 8 must be kept within a range that does not deteriorate the base layer 1, and energy above the threshold value is applied to the thin film layer 2 only by irradiation with the light source 7.

このとき基台8のフィルム4を載置する載置面と光源7
との位置関係は以下のように設定される。
At this time, the mounting surface of the base 8 on which the film 4 is mounted and the light source 7
The positional relationship with is set as follows.

即ち第3図で示される温度分布において、最小温度とな
る載置面の部分の真上に光源7を配置する。
That is, in the temperature distribution shown in FIG. 3, the light source 7 is placed directly above the portion of the mounting surface where the temperature is the minimum.

このような両者の関係が満たされれることにより、第2
図と第3図の光量及び温度の縦軸が一致し、結果として
光源7と基台8によるフィルム4への総合された加熱量
は、フィルム4のいずれの点においてもほぼ均一なもの
になる。
By satisfying the relationship between the two, the second
The vertical axes of light intensity and temperature in the figure and FIG. .

−上述した実施例の変形例として、金属基台8の周囲に
コイルを巻回し、そのコイルに高周波電源より高温電流
を通電し、コイルによる交番磁界を利用した誘導加熱に
より基台8を加熱してもよい。
- As a modification of the above-described embodiment, a coil is wound around the metal base 8, a high-temperature current is passed through the coil from a high-frequency power source, and the base 8 is heated by induction heating using the alternating magnetic field of the coil. You can.

この場合には、基台8の温度勾配には放物線と成り、基
台8自体を素速く加熱することができる。
In this case, the temperature gradient of the base 8 becomes a parabola, and the base 8 itself can be quickly heated.

尚、本発明に用いた加熱装置は上述した実施例にのみ限
定されるものではなく、種々の変形が可能であり、フィ
ルム4上の金属薄膜層2に対して中心部が低く、周辺部
が高い温度勾配を与えられるものであれば、どの様なも
のでもよい。
It should be noted that the heating device used in the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and can be modified in various ways. Any material may be used as long as it can provide a high temperature gradient.

上述した本発明によれば、光源とフィルムとの位置関係
に帰因するフィルム面上の照度ムラにより転写後のムラ
を補償でき、光源牒射時には常にフィルム面上のエネル
ギーを均一にできる。
According to the present invention described above, it is possible to compensate for unevenness in illuminance on the film surface due to the positional relationship between the light source and the film after transfer, and it is possible to always make the energy on the film surface uniform when the light source is emitted.

又、フィルムの金属薄膜層は予備加熱されているので、
光源のエネルギーが僅かでも薄膜層は溶融し易くなり、
フィルムの感度も向上することXなる。
Also, since the metal thin film layer of the film is preheated,
Even if the energy of the light source is small, the thin film layer will easily melt,
The sensitivity of the film will also be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は金属薄膜層に記録を行なう場合の一般的な配置
を示す図、第2図は光源によるフィルム上でのエネルギ
ー分布を示す図、第3図は本発明によりフィルムを予備
加熱する際の温度勾配を示す図、第4図は本発明による
加熱装置の一実施例を示す図である。
Figure 1 is a diagram showing the general arrangement when recording on a metal thin film layer, Figure 2 is a diagram showing the energy distribution on the film by a light source, and Figure 3 is a diagram when preheating the film according to the present invention. FIG. 4 is a diagram showing an embodiment of the heating device according to the present invention.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 特定のしきいf直以上のエネルギー照射により溶融
する金属薄膜層を有したフィルムを加熱して熱現像記録
を行う装置において、 前記フィルムを載置する載置面を有した金属基台と、該
載置面上に逆山形状の熱エネルギー分布が形成される様
に前記金属基台の側面周囲に巻装されたヒーターと、前
記逆山形状の最低点、即ち最小温度となる前記載置面部
の真上に配置された前記フィルムを照射するための光源
とからなることを特徴とする金属薄膜の加熱装置。 2 特定のしきい値以上のエネルギー照射により溶融す
る金属薄膜層を有したフィルムを加熱して熱現像記録を
行う装置において、 前記フィルムを載置する載置面を有した金属基台と、該
載置面上に逆山形状の熱エネルギー分布が形成される様
に前記金属基台の側面周囲に巻装された誘導加熱用コイ
ルと、 前記逆山形状の最低点、即ち最小温度となる前記載置面
部の真上に配置された前記フィルムを照射するための光
源とからなることを特徴とする金属薄膜の加熱装置。
[Scope of Claims] 1. An apparatus for thermal development recording by heating a film having a metal thin film layer that is melted by irradiation with energy equal to or higher than a specific threshold f, comprising a mounting surface on which the film is mounted. a metal base that is shaped like a metal base; a heater that is wound around the side surface of the metal base so that an inverted mountain-shaped thermal energy distribution is formed on the mounting surface; 1. A heating device for a metal thin film, comprising a light source for irradiating the film, which is placed directly above the placement surface to reach a certain temperature. 2. An apparatus for thermal development recording by heating a film having a metal thin film layer that melts when irradiated with energy above a specific threshold, comprising: a metal base having a mounting surface on which the film is mounted; An induction heating coil is wound around the side surface of the metal base so that an inverted mountain-shaped thermal energy distribution is formed on the mounting surface; 1. A heating device for a metal thin film, comprising a light source for irradiating the film, which is placed directly above the writing surface.
JP51035678A 1976-03-31 1976-03-31 Metal thin film heating device Expired JPS5841496B2 (en)

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JPS52119543A JPS52119543A (en) 1977-10-07
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS52119543A (en) 1977-10-07

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