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JPS5842552B2 - magnetic bubble memory device - Google Patents
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JPS5842552B2 - magnetic bubble memory device - Google Patents

magnetic bubble memory device

Info

Publication number
JPS5842552B2
JPS5842552B2 JP8511778A JP8511778A JPS5842552B2 JP S5842552 B2 JPS5842552 B2 JP S5842552B2 JP 8511778 A JP8511778 A JP 8511778A JP 8511778 A JP8511778 A JP 8511778A JP S5842552 B2 JPS5842552 B2 JP S5842552B2
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JP
Japan
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magnetic field
bubble memory
phase
chip
rotating magnetic
Prior art date
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Application number
JP8511778A
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Japanese (ja)
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JPS5512565A (en
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実 広島
博文 太田
利男 二見
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5842552B2 publication Critical patent/JPS5842552B2/en
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気バブルメモリ装置、特にその動作特性の改
良に係わるものであり、磁気バブルメモリチップの動作
パルスの位相マージンの改良に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a magnetic bubble memory device, particularly to improving its operating characteristics, and more particularly to improving the phase margin of operating pulses of a magnetic bubble memory chip.

一般に、磁気バブルメモリ装置の一部を構成する磁気バ
ブルメモリチップは第1図に示したような外部磁界の下
で動作する。
Generally, a magnetic bubble memory chip forming a part of a magnetic bubble memory device operates under an external magnetic field as shown in FIG.

すなわち同図において、1は磁気バブルメモリチップで
あり、このチップ1の面は説明の都合上、x 、 y
、’zZ軸方向記号を付しである。
That is, in the figure, 1 is a magnetic bubble memory chip, and for convenience of explanation, the surfaces of this chip 1 are x, y
, 'zZ axis direction symbols are attached.

HBはチップ1の平面に垂直(Z軸に平行)に作用する
外部直流磁界でバイアス磁界と称されている。
HB is an external DC magnetic field that acts perpendicularly to the plane of the chip 1 (parallel to the Z axis) and is called a bias magnetic field.

そして、このバイアス磁界HBの大きさは、チップ1の
バブル磁性膜の材料特性で定まる適当な値に設定され、
通常ではバブル消減磁界HOの前後の値に設定されてい
る。
The magnitude of this bias magnetic field HB is set to an appropriate value determined by the material characteristics of the bubble magnetic film of chip 1.
Normally, it is set to a value before and after the bubble demagnetization field HO.

またこのバイアス磁界HBの方向は、同図の例では+Z
Z軸方向設定されているが、−Z軸方向の場合もある。
In addition, the direction of this bias magnetic field HB is +Z in the example shown in the figure.
Although it is set in the Z-axis direction, it may also be in the -Z-axis direction.

HRはチップ1の平面(xy平面)内で回転する外部回
転磁界であり、この回転磁界HRの大きさは、通常、3
00e〜500e程度に設定される。
HR is an external rotating magnetic field that rotates within the plane (xy plane) of the chip 1, and the magnitude of this rotating magnetic field HR is usually 3
It is set to about 00e to 500e.

またこの回転磁界HRの回転方向は、同図の例では反時
計回りであるが、時計回りの場合もある。
Further, although the rotating direction of the rotating magnetic field HR is counterclockwise in the example shown in the figure, it may also be clockwise.

このようなチップ1を動作させるには、これら二種類の
外部磁界、すなわち、バイアス磁界HBと回転磁界HR
との他にチップ1に図示しない各種の動作パルス電流が
加えられる。
In order to operate such a chip 1, these two types of external magnetic fields, namely, the bias magnetic field HB and the rotating magnetic field HR are required.
In addition to this, various operating pulse currents (not shown) are applied to the chip 1.

この場合、バイアス磁界HBは、チップ1のメモリ動作
時、非動作時を問わず、常時加えられる磁界である。
In this case, the bias magnetic field HB is a magnetic field that is constantly applied regardless of whether the chip 1 is operating as a memory or not.

これに対して回転磁界HRはメモリ動作の時だけに加え
られる磁界であり、非動作時には零になる磁界である。
On the other hand, the rotating magnetic field HR is a magnetic field that is applied only during memory operation, and is a magnetic field that becomes zero during non-operation.

すなわち回転磁界HRは、メモリ動作に同期してスター
ト・ストップ(St/Sp)動作を繰り返す。
That is, the rotating magnetic field HR repeats start/stop (St/Sp) operations in synchronization with the memory operation.

そして、この回転磁界HRのSt/Sp時の方向は、あ
る一定方向に定められており、この一定の方向は第1図
の例では+x軸方向であるが、他の方向の場合もある。
The direction of the rotating magnetic field HR at St/Sp is determined to be a certain fixed direction, and although this certain direction is the +x-axis direction in the example of FIG. 1, it may be other directions.

以下の説明では、第1図に示したようにバイアス磁界H
Bの方向は+x軸方向とし、回転磁界HRの回転方向は
、反時計回りとし、スタート・ストップ(St/Sp)
方向は+x軸方向とする。
In the following explanation, the bias magnetic field H as shown in FIG.
The direction of B is the +x axis direction, the rotation direction of the rotating magnetic field HR is counterclockwise, and the start/stop (St/Sp)
The direction is the +x axis direction.

また動作パルス電流の位相θ(動作パルス電流を流すタ
イミング)の基準0度を回転磁界HRがSt/Sp方向
を向いたときに選ぶ。
Further, the reference 0 degree for the phase θ of the operating pulse current (timing at which the operating pulse current flows) is selected when the rotating magnetic field HR faces the St/Sp direction.

このようにしても−膜性が失なわれることはない。Even in this case, the film properties are not lost.

このように構成された磁気バブルメモリ装置は、以下述
べるような問題点を有している。
The magnetic bubble memory device configured in this manner has the following problems.

まず、第2図は磁気バブルメモリチップの動作特性、す
なわち動作パルス電流の位相θ特性の一例を示したもの
であり、横軸に位相θ、縦軸にバイアス磁界強度をとり
、上記チップ1が安定に動作する領域を求めた結果であ
る。
First, Figure 2 shows an example of the operating characteristics of a magnetic bubble memory chip, that is, the phase θ characteristics of the operating pulse current.The horizontal axis represents the phase θ, and the vertical axis represents the bias magnetic field strength. This is the result of finding a stable operating region.

この場合、位相θは、動作パルス電流を流し始めるタイ
ミングを回転磁界HRの方向で表わした値である。
In this case, the phase θ is a value representing the timing at which the operating pulse current starts flowing in the direction of the rotating magnetic field HR.

同図において、2本の曲線HUHLで挾まれた領域が安
定動作領域であり、同図力)ら位相θが(θ1.θ2)
・の範囲内にあれば、安定に動作できるバイアス磁界の
範囲は減少しない。
In the same figure, the region sandwiched by the two curves HUHL is the stable operation region, and the phase θ is from (θ1.θ2)
・If it is within the range, the range of the bias magnetic field that can operate stably will not decrease.

ここで、θ1をパルス位相の下限値、Q2をパルス位相
の上限値と称し、またJMθ(θ2〜θ1)を位相マー
ジンと称する。
Here, θ1 is referred to as the lower limit value of the pulse phase, Q2 is referred to as the upper limit value of the pulse phase, and JMθ (θ2 to θ1) is referred to as the phase margin.

この場合、同図の例では、JMθ=17.5度であり、
この位相マージンJMθは広いほど良好な特性であるこ
とになる。
In this case, in the example shown in the figure, JMθ=17.5 degrees,
The wider the phase margin JMθ, the better the characteristics.

第3図は第2図のチップを磁気バブルメモリ装置に多数
回組み込み、パルス位相θの下限値θ1、上限値θ2の
再現性を求めた結果の一例である。
FIG. 3 is an example of the results obtained by incorporating the chip shown in FIG. 2 into a magnetic bubble memory device many times and determining the reproducibility of the lower limit value θ1 and upper limit value θ2 of the pulse phase θ.

同図において、この図から明らかなようにパルス位相の
下限値Q0、上限値θ2は約±4度程度のバラツキを有
しているため、見かけ上の位相マージンJM’θは17
.5度−8度=9.5度となり、第2図に示した位相マ
ージンに比較して半減している。
In the same figure, as it is clear from this figure, the lower limit value Q0 and upper limit value θ2 of the pulse phase have a variation of approximately ±4 degrees, so the apparent phase margin JM'θ is 17
.. 5 degrees - 8 degrees = 9.5 degrees, which is half the phase margin shown in FIG.

このように従来の磁気バブルメモリ装置は、チップ単体
でのパルス位相マージンAMθは、約17度あってもメ
モリ装置に組み込むと、下限値θ1、上限値θ2がバラ
ツキを持ち、見かけ上の位相マージンJM’θは、約8
度程度(バラツキ幅程度)減少し、約9度に半減すると
いう問題点を持っていた。
In this way, the conventional magnetic bubble memory device has a pulse phase margin AMθ of about 17 degrees in a single chip, but when incorporated into a memory device, the lower limit value θ1 and upper limit value θ2 vary, and the apparent phase margin JM'θ is approximately 8
The problem was that the degree of variation (the degree of variation) decreased by half to about 9 degrees.

したがって本発明の目的は、チップをメモリ装置に組み
込んだ後でのパルス位相θの上限値θ2、下限値θ1の
バラツキ幅を小さくし、見かけ上の位相マージンJM’
θの減少量を零に近くした磁気バブルメモリ装置を提供
することにある。
Therefore, an object of the present invention is to reduce the width of variation in the upper limit value θ2 and lower limit value θ1 of the pulse phase θ after the chip is incorporated into a memory device, and to reduce the width of the variation in the upper limit value θ2 and lower limit value θ1 of the pulse phase θ after the chip is incorporated into a memory device.
An object of the present invention is to provide a magnetic bubble memory device in which the amount of decrease in θ is close to zero.

このような目的を達成するために本発明による磁気バブ
ルメモリ装置は、動作パルスの位相マージンJMθの中
央値の値をある特殊な値となるようにしたものである。
In order to achieve this object, the magnetic bubble memory device according to the present invention is such that the median value of the phase margin JMθ of the operation pulse is set to a certain special value.

以下、図面を用いて本発明による磁気バブルメモリ装置
について詳細に説明する。
Hereinafter, a magnetic bubble memory device according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第4図a、bは本発明による磁気バブルメモリ装置の一
例を説明するためのメモリ装置の要部断面図、その説明
図であり、第1図で説明したバイアス磁界HB、回転磁
界HRの発生回路を示す図である。
FIGS. 4a and 4b are sectional views and explanatory diagrams of essential parts of a memory device for explaining an example of a magnetic bubble memory device according to the present invention, in which the bias magnetic field HB and rotating magnetic field HR explained in FIG. 1 are generated. It is a diagram showing a circuit.

これらの図において、1は磁気バブルメモリチップであ
る。
In these figures, 1 is a magnetic bubble memory chip.

2はバイアス磁界HBを発生する永久磁石であり、3は
バイアス磁界HBを一様にする整磁板である。
2 is a permanent magnet that generates a bias magnetic field HB, and 3 is a magnetization plate that makes the bias magnetic field HB uniform.

そして、この永久磁石2と整磁板3とにより整磁板3に
垂直な直流磁界H2が作られる。
A DC magnetic field H2 perpendicular to the magnetic field shunt plate 3 is created by the permanent magnet 2 and the magnetic field shunt plate 3.

また、4と5は回転磁界HRを発生するXコイルとYコ
イルであり、このXコイル4とYコイル5とに互いに位
相が90度異なる電流を流すことによってxy面(チッ
プ1の平面)内で回転、する回転磁界HRが得られる。
In addition, 4 and 5 are an X coil and a Y coil that generate a rotating magnetic field HR, and by passing currents that are 90 degrees different in phase from each other through the X coil 4 and Y coil 5, A rotating magnetic field HR is obtained which rotates at .

6はチップ1のxy面を直流磁界Hz方向に対して角度
σだけ傾斜させるためのスペーサである。
6 is a spacer for inclining the xy plane of the chip 1 by an angle σ with respect to the Hz direction of the DC magnetic field.

この場合、チップ1のxy面を直流磁界Hzに対して角
度σだけ傾斜させる理由は、第5図に図解したように角
度σの傾斜により、直流磁界Hzは、xy平面内の成分
Hhを持つことになる。
In this case, the reason why the xy plane of the chip 1 is inclined by an angle σ with respect to the DC magnetic field Hz is that due to the inclination of the angle σ as illustrated in FIG. 5, the DC magnetic field Hz has a component Hh in the xy plane. It turns out.

そして、この面内成分Hhの大きさは、Hh sin
σとなり通常Hz sin a=30e〜60e
になるように傾斜角度σが選定される。
Then, the magnitude of this in-plane component Hh is Hh sin
σ, usually Hz sin a=30e~60e
The inclination angle σ is selected so that

また、この面内成分Hhの方向は回転磁界HRのスター
ト・ストップ方向(+x軸方向)に一致するように傾斜
されている。
Further, the direction of this in-plane component Hh is inclined so as to coincide with the start/stop direction (+x-axis direction) of the rotating magnetic field HR.

そして、このxy面内成分Hhは、回転磁界HRのスタ
ート・ストップ動作に対して有効な働きをし、ホールデ
ィングフィールドと呼ばれている公知の磁界である。
This xy-plane component Hh is a known magnetic field called a holding field, which functions effectively for the start and stop operations of the rotating magnetic field HR.

なお、チップ1面に垂直に作用するバイアス磁界HBの
大きさはHz cosσとなる。
Note that the magnitude of the bias magnetic field HB acting perpendicularly to the surface of the chip is Hz cosσ.

さて、上述したホールディング・フィルドHhは、チッ
プ1の平面xyに対して常時作用しているため、第6図
に図解するように上記チップ1に作用する回転磁界H′
Rは偏心する。
Now, since the above-mentioned holding field Hh is always acting on the plane xy of the chip 1, the rotating magnetic field H' acting on the chip 1 as illustrated in FIG.
R is eccentric.

同図においてHRは外部から加えられている回転磁界、
H′□はチップ1に作用する回転磁界である。
In the figure, HR is a rotating magnetic field applied from the outside,
H'□ is a rotating magnetic field acting on the chip 1.

この場合、チップ1に作用する回転磁界HR1は、外部
から加えられる回転磁界HRと面内成分Hhとを合成し
たものとなり、その回転磁界HR1の中心6′はスター
ト・ストップ方向である+X軸方向に面内成分Hh分だ
け移動する。
In this case, the rotating magnetic field HR1 acting on the chip 1 is a combination of the rotating magnetic field HR applied from the outside and the in-plane component Hh, and the center 6' of the rotating magnetic field HR1 is in the +X-axis direction, which is the start/stop direction. It moves by an in-plane component Hh.

このため、第6図に図解するように例えば、回転磁界H
Rで270度の位相とチップ1に作用する回転磁界H′
Rで270度の位相との間にAθの差を生じる。
For this reason, as illustrated in FIG. 6, for example, the rotating magnetic field H
270 degree phase at R and rotating magnetic field H' acting on chip 1
A difference of Aθ is generated between the phase of 270 degrees at R and the phase of 270 degrees.

このAθの大きさは、270度の場合、 となる。The size of this Aθ is 270 degrees, becomes.

ここでIH,lは回転磁界強度を表わす。そして、この
Aθは、図示した270度の場合、チップ1に対して位
相進みとなる。
Here, IH,l represents the strength of the rotating magnetic field. In the case of 270 degrees as shown in the figure, this Aθ is a phase lead with respect to the chip 1.

第7図は、位相270度における上記位相ズレAθの値
を各種ホールディングフィールドHhの大きさに対して
求めた結果である。
FIG. 7 shows the results of determining the value of the phase shift Aθ at a phase of 270 degrees with respect to the size of various holding fields Hh.

同図においては、回転磁界強度HRが406eと500
e との二つの場合が示されている。
In the same figure, the rotating magnetic field strength HR is 406e and 500e.
Two cases with e are shown.

ここで、この位相270度における位相ズレJθの値は
、第4図aに示した磁気バブルメモリ装置において次の
三つの主要因により変動する。
Here, the value of the phase shift Jθ at the phase of 270 degrees varies due to the following three main factors in the magnetic bubble memory device shown in FIG. 4a.

すなわち(1)チップ1のxy面の傾斜角度σが実装回
路によって±1度視程バラツキを有する。
That is, (1) the inclination angle σ of the xy plane of the chip 1 has a visibility variation of ±1 degree depending on the mounted circuit.

これはホールディングフィールドHhに換算して±1.
50e〜±2.OOe程度になる。
This is converted to holding field Hh by ±1.
50e~±2. It will be about OOe.

(2)回転磁界強度IH,Iは、電源電圧変動によるコ
イル電流の変動により、±10φ程度変動する。
(2) The rotating magnetic field intensities IH and I vary by about ±10φ due to variations in the coil current due to variations in the power supply voltage.

例えば1HR1を約456eに設定したとしても実際に
は400e〜500eの範囲内で変動する。
For example, even if 1HR1 is set to about 456e, it actually varies within the range of 400e to 500e.

(3)コイル電流のプラス方向振幅とマイナス方向振幅
とのアンバランスが±5φ程度ある。
(3) The imbalance between the positive amplitude and negative amplitude of the coil current is approximately ±5φ.

したがって、このアンバランスのため、 HR1450
eの場合、回転磁界HRの中心が±1.06e程度偏心
する。
Therefore, due to this imbalance, HR1450
In the case of e, the center of the rotating magnetic field HR is eccentric by about ±1.06e.

つまり、上記要因により第7図から位相ズレJθは、約
±3程度度変動し、要因(2)により第7図から位相ズ
レは約±1程度度変動し、要因(3)により第7図から
位相ズレは±1度程度変動する。
In other words, due to the above factors, the phase shift Jθ varies by approximately ±3 degrees from FIG. 7, due to factor (2), the phase shift varies by approximately ±1 degree from FIG. The phase shift varies by about ±1 degree.

したがって、第6図で述べた位相270度における位相
ズレAθの実装回路バラツキによる変動幅Allは、上
記三つの主要因による変動を合計してとなる。
Therefore, the fluctuation width All of the phase shift Aθ at the phase of 270 degrees described in FIG. 6 due to the variation in the mounted circuit is the sum of the fluctuations due to the above three main factors.

このように種々の検討の結果、第3図で述べた見かけ上
の位相マージンJM’θを半減させたパルス位相θの下
限値θ1と上限値θ2のバラツキの原因は、この位相ズ
レAθの変動Alによることが明らかになった。
As a result of these various studies, we found that the cause of the variation in the lower limit value θ1 and upper limit value θ2 of the pulse phase θ, which halves the apparent phase margin JM'θ described in FIG. 3, is the fluctuation of this phase shift Aθ. It became clear that this was due to Al.

第3図の結果では、下限値θ1と上限値θ2のバラツキ
は約±4程度度であり、この値は(1)式の変動幅Jl
とよく一致していることからもこれを良く理解すること
ができる。
In the results shown in Figure 3, the variation between the lower limit value θ1 and the upper limit value θ2 is about ±4 degrees, and this value is the fluctuation range Jl of equation (1).
This can be well understood from the fact that it is in good agreement with

したがって、見かけ上の位相マージンAM’θの減少量
を少なく抑えるには、(1)式のJlを少なくすれば良
い。
Therefore, in order to suppress the amount of decrease in the apparent phase margin AM'θ, it is sufficient to reduce Jl in equation (1).

そのためには、前記三つの主要因によるバラツキを少な
くすれば良い。
To this end, it is sufficient to reduce the variations due to the three main factors mentioned above.

しかしながら、このバラツキは実用上避けることの難か
しいものであり、これらを小さな値に抑えることは、高
価な実装回路を作ることになり、実用的でない。
However, these variations are difficult to avoid in practice, and suppressing them to a small value would result in the creation of an expensive mounted circuit, which is not practical.

他方、動作パルスの位相マージンJMθの中央値の値θ
Cをある特殊な値付近に選べば、(1)式の11が大き
く変動しても位相マージンの下限値θ、と上限値θ2は
ほとんどバラツキを持たないようになり、見かけ上の位
相マージンJM’θの減少量を零近傍にできることを見
出した。
On the other hand, the median value θ of the phase margin JMθ of the operating pulse
If C is selected around a certain special value, even if 11 in equation (1) varies greatly, the lower limit value θ and upper limit value θ2 of the phase margin will have almost no variation, and the apparent phase margin JM We found that the amount of decrease in θ can be made close to zero.

以下、このことについて説明する。This will be explained below.

第8図は、第6図、第7図で述べた位相ズレ量Jθを回
転磁界HR,HR/の色々の位相の場合に対して求めた
結果である。
FIG. 8 shows the results of the phase shift amount Jθ described in FIGS. 6 and 7 for various phases of the rotating magnetic fields HR and HR/.

(第7図の結果は、位相θが270度の場合であった。(The results shown in FIG. 7 were for the case where the phase θ was 270 degrees.

)また、第8図の結果は、回転磁界強度HB ” 40
0e、ホールディングフィールドHh = 4.00
e の場合である。
) Also, the results in Figure 8 show that the rotating magnetic field strength HB ” 40
0e, holding field Hh = 4.00
This is the case of e.

同図の結果から明らかなように、回転磁界HR2HR1
の位相が0度と180度の点では位相ズレ量Aθは零で
ある。
As is clear from the results in the same figure, the rotating magnetic field HR2HR1
The phase shift amount Aθ is zero at points where the phase of is 0 degrees and 180 degrees.

ここで、位相θ=0度の点は回転磁界HRのスタート・
ストップ(St/Sp)方向であり、位相θ二180度
の点は回転磁界HRのスタート・ストップ(St/Sp
)方向と逆方向の点である。
Here, the point of phase θ = 0 degrees is the start point of the rotating magnetic field HR.
It is the stop (St/Sp) direction, and the point at phase θ2180 degrees is the start/stop (St/Sp) direction of the rotating magnetic field HR.
) is a point in the opposite direction.

これに対してスタート・ストップ(St/Sp)方向に
直交する位相θ、すなわちθ−90度とθ=270度の
点では位相ズレ量Aθが最大となる。
On the other hand, at the phase θ perpendicular to the start/stop (St/Sp) direction, that is, at the points θ−90 degrees and θ=270 degrees, the phase shift amount Aθ is maximum.

ここで、位相ズレ量Aθが零になる位相では、(1)式
で述べた変動幅41も零になる。
Here, in the phase where the phase shift amount Aθ becomes zero, the fluctuation range 41 described in equation (1) also becomes zero.

これは変動幅Alの対象である位相ズレ量Aθが前記三
つの主要因に対して常時零であり、その結果、位相ズレ
量Aθのバラツキ幅Alも零となることに基づいている
This is based on the fact that the phase shift amount Aθ, which is the object of the variation width Al, is always zero with respect to the three main factors mentioned above, and as a result, the variation width Al of the phase shift amount Aθ is also zero.

したがって、磁気バブルメモリチップの動作パルスの位
相マージンJMθの中央値の値θCが位相ズレ量Jθ=
Oとなる位相θ、すなわち回転磁界H□のスタート・ス
トップ(St/Sp)方向またはスタートストップ(S
t/Sp)方向と逆方向の付近になるようにすれば、見
かけ上の位相マージンAM′θの減少量を零近傍に抑え
ることができる。
Therefore, the median value θC of the phase margin JMθ of the operating pulse of the magnetic bubble memory chip is the phase shift amount Jθ=
phase θ, that is, the start/stop (St/Sp) direction or start/stop (S
t/Sp) direction, the amount of decrease in the apparent phase margin AM'θ can be suppressed to near zero.

また、上記したようにパルス位相マージンJMθの中央
値θCの選び方として、 (4)回転磁界H□のスタート・ストップ(St/Sp
)方向にする場合、 (B) スタートストップ(St/Sp)方向と逆方
向にする場合、 の二つのケースがあった。
In addition, as mentioned above, as a method of selecting the median value θC of the pulse phase margin JMθ, (4) Start/stop of the rotating magnetic field H□ (St/Sp
There were two cases: (B) when moving in the opposite direction to the start/stop (St/Sp) direction.

そして、第8図中に付記したこれら二つのケース(4)
、(B)のうち、ケース(4)の方は次のような利点を
有している。
These two cases (4) added in Figure 8
, (B), case (4) has the following advantages.

すなわちケース(4)の場合、パルス位相の下限値θ1
は位相ズレ量Aθの位相進みの領域内にあり、上限値θ
2は位相ズレ量Jθの位相遅れの領域内にある。
In other words, in case (4), the lower limit value θ1 of the pulse phase
is within the phase advance region of the phase shift amount Aθ, and the upper limit value θ
2 is within the phase delay region of the phase shift amount Jθ.

このため、実効的な位相マージンJMθは上限値θ2〜
下限値θ1より広くなる利点を有している。
Therefore, the effective phase margin JMθ is the upper limit value θ2~
It has the advantage of being wider than the lower limit θ1.

これに対してケース(B)の場合は逆になり、実効的な
位相マージンは上限値θ2〜下限値θ、より狭くなる。
On the other hand, in case (B), the situation is reversed, and the effective phase margin becomes narrower from the upper limit value θ2 to the lower limit value θ.

したがって、位相マージン幅JMθの特に狭い動作パル
スに対しては上記ケース(4)のようにするのが望まし
い。
Therefore, it is preferable to use case (4) for an operation pulse with a particularly narrow phase margin width JMθ.

なお、この場合、動作パルスの位相マージンJMθの中
央値の値θCがスタート・ストップ(St/Sp)方向
またはスタート・ストップ(St/ S p )方向と
逆方向である磁気バブルメモリチップは、メモリチップ
中のパターンの方向をうまく設計することにより、容易
に実現することができる。
In this case, the magnetic bubble memory chip in which the median value θC of the phase margin JMθ of the operating pulse is in the start-stop (St/Sp) direction or in the opposite direction to the start-stop (St/Sp) direction is This can be easily achieved by carefully designing the direction of the patterns in the chip.

また、チップに供給する各種動作パルス電流の全ての中
央値の値θCを上記したようにする必要はなく、位相マ
ージンJMθの狭いものに対してのみ、実施しても良い
Further, it is not necessary to set the median value θC of all the various operating pulse currents supplied to the chip as described above, and it may be carried out only for those with a narrow phase margin JMθ.

また、上記説明では、回転磁界HRが円形の場合につい
て説明したが、回転磁界HRが矩形、六角形またはその
他の形状の場合に対しても、前述と全く同様の効果が得
られる。
Further, in the above description, the case where the rotating magnetic field HR is circular has been explained, but the same effects as described above can be obtained even when the rotating magnetic field HR is rectangular, hexagonal, or other shapes.

以上説明したように本発明による磁気バブルメモリ装置
によれば、磁気バブルメモリチップをメモリ装置に組込
んだ後におけるパルス位相の上限値、下限値のバラツキ
幅を小さくし、見かけ上のパルス位相マージンの減少量
を零に近くさせ、安定動作領域における動作パルスの位
相マージン幅を大幅に拡大させることができる極めて優
れた効果が得られる。
As explained above, according to the magnetic bubble memory device of the present invention, the width of variation in the upper limit value and lower limit value of the pulse phase after the magnetic bubble memory chip is incorporated into the memory device is reduced, and the apparent pulse phase margin is An extremely excellent effect can be obtained in which the amount of decrease in is brought close to zero, and the phase margin width of the operating pulse in the stable operating region can be greatly expanded.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は磁気バブルメモリ装置の動作構成図の一例を示
す図。 第2図は動作パルス電流の位相マージンの一例を示す図
、第3図は位相マージンのバラツキの一例を示す図、第
4図a、b〜第8図は本発明による磁気バブルメモリ装
置を説明するための図である。 1・・・・・・磁気バブルメモリチップ、2・・・・・
・永久磁石、3・・・・・・整磁板、4・・・・・・X
コイル、5・・・・・・Yコイル、6・・・・・・スペ
ーサ。
FIG. 1 is a diagram showing an example of an operational configuration diagram of a magnetic bubble memory device. FIG. 2 is a diagram showing an example of the phase margin of the operating pulse current, FIG. 3 is a diagram showing an example of variation in the phase margin, and FIGS. 4a, b to 8 illustrate the magnetic bubble memory device according to the present invention. This is a diagram for 1...Magnetic bubble memory chip, 2...
・Permanent magnet, 3...magnetic shunt plate, 4...X
Coil, 5...Y coil, 6...Spacer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 磁気バブルメモリチップと、前記磁気バブルメモリ
チップに水平な回転磁界を与える回転磁界発生回路と、
前記磁気バブルメモリチップに垂直な直流磁界を与える
バイアス磁界発生回路と、前記磁気バブルメモリチップ
に磁気バブルを発生、転送、分割させる動作パルスを供
給する動作パルス電流発生回路とを具備した磁気バブル
メモリ装置において、少なくとも一部の前記動作パルス
の位相マージンの中央値が前記回転磁界のスタートスト
ップ方向あるいはこれと逆方向付近の値になるようにし
たことを特徴とする磁気バブルメモリ装置。 2 前記パルス位相マージン幅の狭い動作パルスに対し
てその中央値が前記回転磁界のスタート・ストップ方向
付近の値になるようにしたことを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の磁気バブルメモリ装置。
[Claims] 1. A magnetic bubble memory chip, a rotating magnetic field generating circuit that applies a horizontal rotating magnetic field to the magnetic bubble memory chip,
A magnetic bubble memory comprising: a bias magnetic field generation circuit that applies a direct current magnetic field perpendicular to the magnetic bubble memory chip; and an operation pulse current generation circuit that supplies operation pulses that cause the magnetic bubble memory chip to generate, transfer, and divide magnetic bubbles. 1. A magnetic bubble memory device, wherein a median value of a phase margin of at least some of the operating pulses is set to a value near a start/stop direction of the rotating magnetic field or a direction opposite thereto. 2. The magnetic bubble memory according to claim 1, wherein the median value of the operation pulse having a narrow pulse phase margin width is set to a value near the start/stop direction of the rotating magnetic field. Device.
JP8511778A 1978-07-14 1978-07-14 magnetic bubble memory device Expired JPS5842552B2 (en)

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