JPS584435B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPS584435B2 JPS584435B2 JP51042833A JP4283376A JPS584435B2 JP S584435 B2 JPS584435 B2 JP S584435B2 JP 51042833 A JP51042833 A JP 51042833A JP 4283376 A JP4283376 A JP 4283376A JP S584435 B2 JPS584435 B2 JP S584435B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rectangular
- bottom plate
- heated
- saucer
- heating device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はターンテーブル式といわれる高周波加熱装置の
改良に関するもので、その目的とするところは食品の加
熱むらを防止することにある。
改良に関するもので、その目的とするところは食品の加
熱むらを防止することにある。
ターンテーブル式といわれる従来の一般的な高周波加熱
装置は、第１図（示すように加熱室１の底板２に円形状
の絞り部３が形成されており、小さな被加勢物４の時に
はこの円形状の絞り部３内に回転台５と円形受皿６を配
設し、被加熱物４を回転させながら加熱している。
装置は、第１図（示すように加熱室１の底板２に円形状
の絞り部３が形成されており、小さな被加勢物４の時に
はこの円形状の絞り部３内に回転台５と円形受皿６を配
設し、被加熱物４を回転させながら加熱している。
そして第２図に示すように大きな被加熱物７の時には底
板２上に矩形受皿８を配設して被加熱物７を加熱してい
るが、同図にクロスハツチングで示すように矩形受皿８
の角部分が底板１に当接してしまうのでこの部分の電界
強度が弱くなり、被加熱物７がこの矩形受皿８に偏心し
て載せられた場合等には、その隅部に加熱むらが起きて
しまった。
板２上に矩形受皿８を配設して被加熱物７を加熱してい
るが、同図にクロスハツチングで示すように矩形受皿８
の角部分が底板１に当接してしまうのでこの部分の電界
強度が弱くなり、被加熱物７がこの矩形受皿８に偏心し
て載せられた場合等には、その隅部に加熱むらが起きて
しまった。
本発明は上記従来の欠点を排除すべくなされたものであ
り、加熱室の底板に矩形状の絞り部を形成するとともに
、この矩形状絞り部内の底板部分に円形状の絞り部を形
成することによって初期の目的を達成しようとするもの
である。
り、加熱室の底板に矩形状の絞り部を形成するとともに
、この矩形状絞り部内の底板部分に円形状の絞り部を形
成することによって初期の目的を達成しようとするもの
である。
以下、本発明をその一実施例を示す第３図ないし第４図
を参考に説明する。
を参考に説明する。
同図において９は本体ケース、１０はドア、１１は把手
、１２はタイムスイッチ（図示せず）等が装着された化
粧板である。
、１２はタイムスイッチ（図示せず）等が装着された化
粧板である。
１３は本体ケース９内に形設された加熱室で、この加熱
室１３の底板１４下には、上面に複数のローラ１５と磁
石１６が円周状に配設された第１プーり１７が軸支され
ており、この第１プーリ１７は第１ベルト１８、第２プ
ーリ１９、駆動軸２０、ウオームギャ２１、第２ベルト
２２を介して送風機２３の送風モータ２４によって、回
転駆動されるようになっている。
室１３の底板１４下には、上面に複数のローラ１５と磁
石１６が円周状に配設された第１プーり１７が軸支され
ており、この第１プーリ１７は第１ベルト１８、第２プ
ーリ１９、駆動軸２０、ウオームギャ２１、第２ベルト
２２を介して送風機２３の送風モータ２４によって、回
転駆動されるようになっている。
ところで、前記加熱室１３の底板１４には矩形状の絞り
部２５が形成されており、さらにこの矩形状絞り部２５
内の底板部分には円形状の絞り部２６が形成され２段絞
り構造となっている。
部２５が形成されており、さらにこの矩形状絞り部２５
内の底板部分には円形状の絞り部２６が形成され２段絞
り構造となっている。
そして、第３図に示すように被加熱物２７が小さい時に
は、周縁下部に複数のローラ２８と磁石２９とが配設さ
れた円板状の回転台３、０に円形受皿３１を載置させ、
この円形受皿３１に前記被加熱物２７を載せている。
は、周縁下部に複数のローラ２８と磁石２９とが配設さ
れた円板状の回転台３、０に円形受皿３１を載置させ、
この円形受皿３１に前記被加熱物２７を載せている。
しかして、回転台３０の磁石２９と前記第１プーリ１７
の磁石１６の間には吸引力が働くようになっており、し
たがって第１プーり１７が送風モータ２４によって回転
駆動されると回転台３０が回転し、この結果被加熱物２
７が回転しながら加熱される。
の磁石１６の間には吸引力が働くようになっており、し
たがって第１プーり１７が送風モータ２４によって回転
駆動されると回転台３０が回転し、この結果被加熱物２
７が回転しながら加熱される。
そして、第４図に示すように大きな被加熱物３２の時に
は、回転台３０と円形受皿３１を加熱室１３から取出し
た後に、加熱室１３の底板１４に矩形受皿３３を載置し
、この矩形受皿３３に前記被加熱物３２を載せて加熱す
る。
は、回転台３０と円形受皿３１を加熱室１３から取出し
た後に、加熱室１３の底板１４に矩形受皿３３を載置し
、この矩形受皿３３に前記被加熱物３２を載せて加熱す
る。
ところで、加熱室１３の底板１４には矩形状の絞υ部２
５が形成されており、矩形受皿３３とこの矩形受皿３３
で覆われた底板１４との間の距離は、この矩形受皿３２
の全面にわたってほぼ等しくなっている。
５が形成されており、矩形受皿３３とこの矩形受皿３３
で覆われた底板１４との間の距離は、この矩形受皿３２
の全面にわたってほぼ等しくなっている。
したがって、この矩形受皿３３の全面にわたって電界強
度が等しくなり、たとえ矩形受皿３３に被加熱物３２を
偏心させて載せても、その隅部等に加熱むらが全く起き
ない。
度が等しくなり、たとえ矩形受皿３３に被加熱物３２を
偏心させて載せても、その隅部等に加熱むらが全く起き
ない。
なお、３５は天板、３６はスタラーファン、３７は高周
波発振器である。
波発振器である。
以上のように本発明の高周波加熱装置は加熱室の金属製
底板に矩形状の絞シ部を形成するとともに、この絞り部
内にさらに円形状の絞り部を形成したので、底板からの
反射による分布むらを解消し、底板上に矩形受皿を載置
させた場合、その矩形受皿の全面にわたって電界強度が
等しくなり、この結果だとえ矩形受皿に被加熱物を偏心
して載置させてもその隅部などに加熱むらが生じにくい
。
底板に矩形状の絞シ部を形成するとともに、この絞り部
内にさらに円形状の絞り部を形成したので、底板からの
反射による分布むらを解消し、底板上に矩形受皿を載置
させた場合、その矩形受皿の全面にわたって電界強度が
等しくなり、この結果だとえ矩形受皿に被加熱物を偏心
して載置させてもその隅部などに加熱むらが生じにくい
。
第１図は従来の高周波加熱装置の一使用例を示す横断面
図、第２図は同装置の他の使用例を示す要部上面断面図
、第３図は本発明の一実施例にかかる高周波加熱装置の
一使用例を示す横断面図、第４図は同装置の他の使用例
を示す要部上面断面図である。 ９・・・・・・本体ケース、１３・・・・・・加熱室、
１４・・・・・・加熱室の底板Ａ２５・・・・・・矩形
状の絞９部、２６・・・円形状の絞り部Ａ２７・・・・
・・小さな被加熱物Ａ３０・・・・・・回転台、３１・
・・・・・円形受皿Ａ３２・・・・・・大きな被加熱物
、３３・・・・・・矩形受皿。
図、第２図は同装置の他の使用例を示す要部上面断面図
、第３図は本発明の一実施例にかかる高周波加熱装置の
一使用例を示す横断面図、第４図は同装置の他の使用例
を示す要部上面断面図である。 ９・・・・・・本体ケース、１３・・・・・・加熱室、
１４・・・・・・加熱室の底板Ａ２５・・・・・・矩形
状の絞９部、２６・・・円形状の絞り部Ａ２７・・・・
・・小さな被加熱物Ａ３０・・・・・・回転台、３１・
・・・・・円形受皿Ａ３２・・・・・・大きな被加熱物
、３３・・・・・・矩形受皿。
Claims (1)
- １ 本体ケース内に形設した加熱室の金属製の底板に、
矩形状の絞り部を形成するとともに、この矩形状の絞り
部内の底板部分に円形状の絞り部を形成して２段絞り構
造としてなる高周波加熱装＆
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51042833A JPS584435B2 (ja) | 1976-04-14 | 1976-04-14 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51042833A JPS584435B2 (ja) | 1976-04-14 | 1976-04-14 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52125854A JPS52125854A (en) | 1977-10-22 |
| JPS584435B2 true JPS584435B2 (ja) | 1983-01-26 |
Family
ID=12646961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51042833A Expired JPS584435B2 (ja) | 1976-04-14 | 1976-04-14 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS584435B2 (ja) |
-
1976
- 1976-04-14 JP JP51042833A patent/JPS584435B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52125854A (en) | 1977-10-22 |
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