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JPS5845773B2 - Light control filter and its manufacturing method - Google Patents
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JPS5845773B2 - Light control filter and its manufacturing method - Google Patents

Light control filter and its manufacturing method

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Publication number
JPS5845773B2
JPS5845773B2 JP7356177A JP7356177A JPS5845773B2 JP S5845773 B2 JPS5845773 B2 JP S5845773B2 JP 7356177 A JP7356177 A JP 7356177A JP 7356177 A JP7356177 A JP 7356177A JP S5845773 B2 JPS5845773 B2 JP S5845773B2
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light
graphite
control filter
film
mesh
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安男 岩崎
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Mitsubishi Electric Corp
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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、カラー受像管の螢光面の露光の際に用いる
調光フィルターおよびその製造方法に関するものである
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a light control filter used in exposing the fluorescent surface of a color picture tube and a method for manufacturing the same.

第1図は、従来のカラー受像管における螢光面の露光工
程の概略を示すもので、第1図においてパネル1の内面
には感光性フォト・レジスト膜あるいは感光性螢光体ス
ラリー膜2が形成されており、このパネル1の内側の定
位置にシャドウマスク3がパネル1内面に対向して配置
されている。
FIG. 1 schematically shows the process of exposing the fluorescent surface of a conventional color picture tube. In FIG. A shadow mask 3 is disposed at a fixed position inside the panel 1, facing the inner surface of the panel 1.

このようなパネル・マスク・アセンブリー4を露光台5
上の定位置に載置し、光源6によるパネル1内面上の光
強度分布を補正するための調光フィルター1および完成
カラー受像管の電子ビームの飛跡と露光時の光源6から
の光の光跡とを整合させるための補正レンズ8を通過し
て来た光源6からの光によりシャドウマスク3の孔を介
して露光が行なわれる。
Such a panel mask assembly 4 is mounted on an exposure table 5.
The photochromic filter 1 is placed in a fixed position above to correct the light intensity distribution on the inner surface of the panel 1 due to the light source 6, and the trajectory of the electron beam of the completed color picture tube and the light from the light source 6 during exposure. Exposure is performed through the holes in the shadow mask 3 by light from the light source 6 that has passed through a correction lens 8 for aligning with the marks.

前記調光フィルター7について、さらに詳しく説明する
The light control filter 7 will be explained in more detail.

第2図の曲線Aは調光フィルター1を使用しない場合の
パネル1内面上の光強度分布をパネル中央での光強度値
に対する比率として表わしたものである。
Curve A in FIG. 2 represents the light intensity distribution on the inner surface of the panel 1 when the light control filter 1 is not used as a ratio to the light intensity value at the center of the panel.

一方パネル1内面上で露光中に実際に必要とする理想的
な光強度分布はパネル1内面に形成された感光性フォト
・レジスト膜あるいは感光性螢光体スラリー膜2をブ定
条件に感光反応させるのに必要な露光量の分布で決定さ
れ、これは曲線Aと同様にパネル中央での光強度に対す
る比率として表わせば曲線Bのようになる。
On the other hand, the ideal light intensity distribution that is actually required during exposure on the inner surface of the panel 1 is determined by the photosensitive reaction of the photosensitive photoresist film or the photosensitive phosphor slurry film 2 formed on the inner surface of the panel 1 under specific conditions. It is determined by the distribution of the exposure amount necessary to achieve this, and like curve A, this can be expressed as a ratio to the light intensity at the center of the panel as shown in curve B.

前記曲線AとBとはほとんどの場合に一致しない。The curves A and B do not match in most cases.

このため、パネル1の内面上で曲線Bのような理想的な
光強度分布を得るために、通常第3図に示すような所定
の光透過重分布を有する調光フィルターIが光源6とパ
ネル・マスク・アセンブリ4との間の定位置に挿入され
る。
Therefore, in order to obtain an ideal light intensity distribution as shown by curve B on the inner surface of panel 1, a light control filter I having a predetermined light transmission weight distribution as shown in FIG. - Inserted into position between mask assembly 4.

この所定の光透過重分布を有する調光フィルター7は、
第4図に示すように、透明基板上にクロムやロジウムや
ニッケル・クロム合金などの半透光性蒸着薄膜を特定の
膜厚分布になるように真空蒸着法によって形成すること
によって作られる。
The light control filter 7 having this predetermined light transmission weight distribution is
As shown in FIG. 4, it is made by forming a semi-transparent vapor-deposited thin film of chromium, rhodium, nickel-chromium alloy, etc. on a transparent substrate using a vacuum evaporation method so as to have a specific film thickness distribution.

第5図は他の種類の調光フィルター7を示すもので、透
明基板上に金属の半透光性蒸着薄膜を一定形状に一定の
透過率で形成し、露光に際して第6図に示すようにモー
タ10でプーリー9を介してフィルター7を回転させる
ことにより、実質的に第3図のような透過率分布を得る
ものである。
FIG. 5 shows another type of light control filter 7, in which a semi-transparent vapor-deposited metal film is formed on a transparent substrate in a certain shape and with a certain transmittance, and upon exposure, as shown in FIG. By rotating the filter 7 with the motor 10 via the pulley 9, a transmittance distribution substantially as shown in FIG. 3 is obtained.

前記調光フィルター7の光透過率は、光源6の光度、配
光分布および適正露光時間などによって決定されるが、
通常使用されるものは調光フィルター7の中央の光透過
率で約10係〜70%位の範囲である。
The light transmittance of the light control filter 7 is determined by the luminous intensity of the light source 6, light distribution, appropriate exposure time, etc.
The light transmittance at the center of the light control filter 7 that is usually used is in the range of about 10% to about 70%.

以上述べたような金属の半透光性蒸着膜による調光フィ
ルター7の使用上の大きな欠点は、光透過率の経時変化
が起るということである。
A major drawback in using the light control filter 7 made of a semi-transparent vapor deposited metal film as described above is that the light transmittance changes over time.

すなわち、第1図のXは従来の半透光性蒸着薄膜による
調光フィルター7の使用時間と蒸着膜の光透過率の関係
を示すもので、蒸着金属の種類および光源6の種類およ
び調光フィルター7の露光装置への設定位置などの条件
によっても異るが、最初の光透過率T。
That is, X in FIG. 1 shows the relationship between the usage time of the light control filter 7 made of a conventional semi-transparent vapor-deposited thin film and the light transmittance of the vapor-deposited film. The initial light transmittance T varies depending on conditions such as the setting position of the filter 7 on the exposure device.

と1000時間後の光透過率Tt 。and the light transmittance Tt after 1000 hours.

T1の比−か極端な場合2〜3になることもあO る。In extreme cases, the ratio of T1 may be 2 to 3. Ru.

このような光透過率の変化の原因としては、光源6から
の強力な紫外線および熱線によって金属の半透光性蒸着
薄膜が物理的、化学的変化を起こすためであると考えら
れる。
The reason for such a change in light transmittance is considered to be that the semi-transparent metal vapor deposited thin film undergoes physical and chemical changes due to strong ultraviolet rays and heat rays from the light source 6.

この光透過率の変化は露光時間の適正露光時間からの変
化をもたらすだけではない。
This change in light transmittance not only causes a change in exposure time from the appropriate exposure time.

すなわち、この光透過率の変化は調光フィルター7の全
fにわたって均一な割合で現われるのではなく、通常変
化の割合は調光フィルター7の中央部と周辺部とで異る
ため、露光中のパネル内面上で必要とする光強度分布が
得られなくなるのである。
In other words, this change in light transmittance does not appear at a uniform rate over the entire f of the light control filter 7, but the rate of change usually differs between the central part and the peripheral part of the light control filter 7. This makes it impossible to obtain the required light intensity distribution on the inner surface of the panel.

このような光透過率の経時変化G”4従来のような半透
光性蒸着薄膜の調光フィルター7では、多かれ少なかれ
避は難いものであった。
Such a change in light transmittance over time G''4 is more or less unavoidable in the conventional light control filter 7 made of a semi-transparent vapor deposited thin film.

この発明は、前述のような欠点を解消するためになされ
たものであり、光透過率の経時変化の少ない安定した調
光フィルターおよびその製造方法を提供するものである
The present invention was made in order to eliminate the above-mentioned drawbacks, and provides a stable light control filter with little change in light transmittance over time, and a method for manufacturing the same.

以下この一実施例である第8図a、bについて説明する
Hereinafter, FIGS. 8a and 8b, which are one example of this, will be explained.

調光フィルター7は黒鉛またはカーボンの層からなる遮
光部分Mと、これらの層を有しない透光部分りとでメツ
シュ状パターンを形成している。
The light control filter 7 forms a mesh-like pattern with a light-shielding portion M made of a graphite or carbon layer and a light-transmitting portion having no such layer.

また、前記透光部分りの面積が調光フィルター7の中央
部から周辺部にかげて順次大となるように構成されてい
る。
Further, the area of the light-transmitting portion is configured to gradually increase from the center to the periphery of the light control filter 7.

具体的にはメツシュ状のパターンにおけるピッチPある
いは線状幅Wを中央部から周辺部にかげて変化させて構
成される。
Specifically, it is constructed by changing the pitch P or linear width W in the mesh-like pattern from the center to the periphery.

さらに、前記遮光部分Mは光透過性をほとんどもたない
ように形成される。
Further, the light shielding portion M is formed so as to have almost no light transmittance.

このような調光フィルター7を用いて感光性フォト・レ
ジストあるいは螢光体スラリーの露光工程を行ないその
経時変化を調べたところ、第1図に曲線Yで示すように
最初の光透過率T。
When such a light control filter 7 was used to expose a photosensitive photoresist or a phosphor slurry and its change over time was investigated, the initial light transmittance T was as shown by curve Y in FIG.

と2 1000時間後の光透過率T2の比−はほとんO と1に近く特性の劣化が生じないものであった。and 2 The ratio of light transmittance T2 after 1000 hours is almost O was close to 1, and no deterioration of characteristics occurred.

これは、調光フィルター7の遮光部分Mる形成している
黒鉛またはカーボンの層が非常に安定なものであり、光
源6からの強力な紫外線および熱線によっても光透過率
がほとんど変化せず、調光フィルター7の光透過率が遮
光部分Mと透光部分りとの面積比で決定されているから
である。
This is because the graphite or carbon layer forming the light shielding part M of the light control filter 7 is very stable, and the light transmittance hardly changes even when exposed to strong ultraviolet rays and heat rays from the light source 6. This is because the light transmittance of the light control filter 7 is determined by the area ratio of the light blocking portion M to the light transmitting portion.

なお、感光性フォト・レジスト膜あるいは感光性スラリ
ー膜の品質から云えばメツシュ状パターンは細かいほど
好ましく、光源6の形状あるいは調光フィルター7の位
置によっても異なるが少くとも20メツシュ以上の細か
さが必要であった。
Note that in terms of the quality of the photosensitive photoresist film or the photosensitive slurry film, the finer the mesh pattern is, the better, and although it varies depending on the shape of the light source 6 or the position of the light control filter 7, the fineness of at least 20 meshes is preferable. It was necessary.

また、100メツシユ以下の調光フィルター7を使用す
ると、メツシュ構造が直接フォト・レジスト膜あるいは
螢光体スラリー膜面に投影されて露光が不均一になる恐
れがあるが、この場合には第6図に示すように調光フィ
ルター7を回転させるように構成すればよい。
Furthermore, if a light control filter 7 with less than 100 meshes is used, there is a risk that the mesh structure will be directly projected onto the photoresist film or phosphor slurry film surface, resulting in non-uniform exposure. The light control filter 7 may be configured to be rotated as shown in the figure.

第9図a、bばこの発明の他の実施例を示すものである
Figures 9a and 9b show other embodiments of the invention.

この実施例では、メツシュ状パターンにおけるピッチP
および線状幅Wの大きさを調光フィルター7の全面にわ
たってほぼ同一とし、このメツシュ状パターンを所定位
置に所定形状で形成したもので、従来装置と同様に調光
フィルター7を回転させてパネル内面上の各点における
積分光量が実質的に所要の分布となるように構成したも
のである。
In this example, the pitch P in the mesh-like pattern is
The mesh pattern is formed in a predetermined shape at a predetermined position, and the linear width W is made almost the same over the entire surface of the dimmer filter 7.As with the conventional device, the dimmer filter 7 is rotated to create a panel. The structure is such that the integrated light amount at each point on the inner surface substantially has a required distribution.

第10図は、この発明の製造方法の一例による調光フィ
ルターの製造工程を示す。
FIG. 10 shows a manufacturing process of a light control filter according to an example of the manufacturing method of the present invention.

この例では透明基板11上に黒鉛またはカーボンを含む
感光性膜12を形成し、この感光性膜12に対向配置し
た例えば金属製メツシュなどのメツシュ状パターン13
を通して光源14からの光により前記感光性膜12の露
光を行なう。
In this example, a photosensitive film 12 containing graphite or carbon is formed on a transparent substrate 11, and a mesh-like pattern 13 such as a metal mesh is placed opposite to this photosensitive film 12.
The photosensitive film 12 is exposed to light from a light source 14 through the wafer.

その後、例えばスプレ一式現像などにより、感光性膜1
2の感光部分または未感光部分を除去すれば、透明基板
11上に黒鉛またはカーボン層からなる所定のパターン
15が形成される。
Thereafter, the photosensitive film 1 is developed by, for example, spray development.
By removing the exposed or unexposed areas 2, a predetermined pattern 15 made of graphite or carbon layer is formed on the transparent substrate 11.

感光性物質として光分解形の物質を使用した場合には、
第10図aに示したように黒鉛またはカーボン層からな
る格子状の遮光部分Mとこれらの層を有しない透光部分
りとを有するメツシュ状パターン15が得られ、また感
光物質として光硬化型の物質を使用した場合には、第1
0図すに示したように、格子状の透光部分りとこれらに
囲まれた遮光部分Mとを有するメツシュ状パターン15
が得られる。
When a photodegradable substance is used as a photosensitive substance,
As shown in FIG. 10a, a mesh-like pattern 15 having a lattice-like light-shielding portion M made of a graphite or carbon layer and a light-transmitting portion having no such layer is obtained, and a photocurable type is used as the photosensitive material. If a substance is used, the first
As shown in FIG.
is obtained.

第11図は、この発明の製造方法の他側による調光フィ
ルターの製造工程を示す。
FIG. 11 shows the manufacturing process of a light control filter according to the other side of the manufacturing method of the present invention.

この例では、透明基板11に感光性レジスト膜16を形
成し、このレジスト膜16に対向配置された例えば金属
製メツシュなどのメツシュ状パターン13を通して光源
14からの光により前記レジスト膜16の露光を行なう
In this example, a photosensitive resist film 16 is formed on a transparent substrate 11, and the resist film 16 is exposed to light from a light source 14 through a mesh-like pattern 13, such as a metal mesh, placed opposite to this resist film 16. Let's do it.

その後、例えばスプレ一式現像などにより前記レジスト
膜16の未感光部分を除去すれば、透明基板11上に硬
化レジスト膜からなる一定パターン17が形成される。
Thereafter, by removing the unexposed portions of the resist film 16 by, for example, spray development, a fixed pattern 17 made of a hardened resist film is formed on the transparent substrate 11.

次に、この硬化レジスト膜からなるパターン1γを有す
る透明基板11上に黒鉛またはカーボンの分散流を均一
に塗布し、乾燥させて黒鉛またはカーボン層18を形成
する。
Next, a dispersed flow of graphite or carbon is uniformly applied onto the transparent substrate 11 having the pattern 1γ made of this cured resist film and dried to form the graphite or carbon layer 18.

さらにその後、例えば酸化剤を含む溶液によって、前記
硬化レジスト膜を分解除去すると同時にこのレジスト膜
からなるパターン17上に形成されていた黒鉛またはカ
ーボン層も除去すれば、第10図aに示したと同様なメ
ツシュ状パターンが形成された調光フィルターが得られ
る。
Furthermore, if the hardened resist film is decomposed and removed using, for example, a solution containing an oxidizing agent, and at the same time the graphite or carbon layer formed on the pattern 17 made of this resist film is also removed, it will be the same as shown in FIG. 10a. A light control filter in which a mesh-like pattern is formed is obtained.

以上説明したようにこの発明は、黒鉛またはカーボンの
層からなる遮光部分と、これらの層を設けない透光部分
とによってメツシュ状パターンを透光基板に構成したも
のであるから、この発明によれば、光透過率の経時変化
がほとんどない調光フィルターを提供することができ、
カラー受像管の螢光面の露光を安定に行なわせることが
できる。
As explained above, this invention has a mesh-like pattern formed on a light-transmitting substrate by a light-shielding part made of a graphite or carbon layer and a light-transmitting part not provided with these layers. For example, it is possible to provide a light control filter with almost no change in light transmittance over time,
The fluorescent surface of the color picture tube can be exposed stably.

また、この発明の製造方法によれば前述したこの発明の
調光フィルターを得ることが可能となる。
Further, according to the manufacturing method of the present invention, it is possible to obtain the above-described light control filter of the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はカラー受像管の螢光面を形成する露光装置の一
例の構成を示す概略縦断面図、第2図はパネル内面上の
光強度分布を示す図、第3図は調光フィルターの光透過
率分布を示す図、第4図、第5図は従来の調光フィルタ
ーの互に異った例を示す平面図、第6図はカラー受像管
の螢光面を形成する露光装置の他側の連成を示す概略縦
断面図、第7図は調光フィルターの光透過率の経時変化
を示す図、第8図aおよびbはこの発明による調光フィ
ルターの一実施例を示す平面図および部分拡大図、第9
図aおよびbは同地の実施例を示す平面図および部分拡
大図、第10図はこの発明の調光フィルターの製造方法
の一例を示す工程説明図、第10図a、bは第10図の
製造方法によって得られた調光フィルターの互に異った
例を示す部分拡大図、第11図はこの発明の調光フィル
ターの製造方法の他側を示す工程説明図である。 1・・・パネル、2・・・感光性フォトレジスト膜ある
いは螢光体スラリー膜、3・・・シャドウマスク、4・
・・パネル・マスク・アセンブリー、5・・・露光台、
6・・・光源、7・・・調光フィルター、8・・・補正
レンズ、9・・・プーリー、10・・・モーター、11
・・・透明基板、12・・・黒鉛またはカーボンを含む
感光性膜、13・・・メツシュ状パターン、14・・・
光源、15・・・黒鉛またはカーボンの層からなるパタ
ーン、16・・・感光レジスト膜、17・・・硬化レジ
スト膜からなるパターン、18・・・黒鉛またはカーボ
ン層、L・・・透光部分、M・・・遮光部分。 なお、図中同一部分は同一または相当部分を示す。
Figure 1 is a schematic vertical cross-sectional view showing the configuration of an example of an exposure device that forms the fluorescent surface of a color picture tube, Figure 2 is a diagram showing the light intensity distribution on the inner surface of the panel, and Figure 3 is a diagram showing the light intensity distribution on the inner surface of the panel. Figures 4 and 5 are plan views showing different examples of conventional light control filters, and Figure 6 is a diagram showing the light transmittance distribution. Figure 6 is a diagram showing the exposure device that forms the fluorescent surface of a color picture tube. A schematic vertical cross-sectional view showing the coupling on the other side, FIG. 7 is a diagram showing the change in light transmittance of the light control filter over time, and FIGS. 8a and b are plane views showing one embodiment of the light control filter according to the present invention. Figures and partially enlarged views, No. 9
Figures a and b are a plan view and a partially enlarged view showing an embodiment of the same location, Figure 10 is a process explanatory diagram showing an example of the method for manufacturing a dimming filter of the present invention, and Figures 10a and b are Figure 10. FIG. 11 is a partially enlarged view showing different examples of dimming filters obtained by the manufacturing method of FIG. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Panel, 2... Photosensitive photoresist film or phosphor slurry film, 3... Shadow mask, 4...
... Panel mask assembly, 5... Exposure stage,
6... Light source, 7... Light control filter, 8... Correction lens, 9... Pulley, 10... Motor, 11
...Transparent substrate, 12...Photosensitive film containing graphite or carbon, 13...Mesh-like pattern, 14...
Light source, 15... Pattern made of a graphite or carbon layer, 16... Photosensitive resist film, 17... Pattern made of a hardened resist film, 18... Graphite or carbon layer, L... Transparent portion , M... Light-shielding part. Note that the same parts in the figures indicate the same or equivalent parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 カラー受像管の螢光面の露光の際に用いる調光フィ
ルターであって、透光基板に黒鉛またはカーボンの層か
らなる遮光部分と、これらの層を設けない透光部分とに
よりメツシュ状パターンを構成したことを特徴とする調
光フィルター。 2 カラー受像管の螢光面の露光の際に用いる調光フィ
ルターの製造方法において、透明基板に黒鉛またはカー
ボンを含む感光性膜を形成する工程と、この感光性膜に
対向配置したメツシュ状パターンを通して光源からの光
により感光性膜を露光する工程と、露光された感光性膜
の現像を行なう工程とを含み、前記透光基板に黒鉛また
はカーボン層からなる遮光部分と、これらの層を設けな
い透光部分とによりメツシュ状パターンを構成すること
を特徴とする調光フィルターの製造方法。 3 カラー受像管の螢光面の露光の際に用いる調光フィ
ルターの製造方法において、透明基板上に感光性レジス
ト膜を形成する工程と、この感光性レジスト膜に対向配
置したメツシュ状パターンを通して光源からの光により
前記レジスト膜を露光する工程と、露光された感光レジ
スト膜の現像を行なう工程と、黒鉛またはカーボンの分
散液を塗布して黒鉛層またはカーボン層を形成する工程
と未除去感光性膜およびこの感光性膜上に被着している
黒鉛層またはカーボン層を除去する工程とを含み、前記
透光基板に黒鉛またはカーボン層からなる遮光部分と、
これらの層を設けない透光部分とによりメツシュ状パタ
ーンを構成することを特徴とする調光フィルターの製造
方法。
[Scope of Claims] 1. A dimmer filter used for exposing the fluorescent surface of a color picture tube, which has a light-shielding portion made of a layer of graphite or carbon on a light-transmitting substrate, and a light-transmitting filter without such a layer. A light control filter characterized by having a mesh-like pattern formed by parts. 2. A method for manufacturing a photochromic filter used for exposing the fluorescent surface of a color picture tube, including a step of forming a photosensitive film containing graphite or carbon on a transparent substrate, and a mesh-like pattern placed opposite to this photosensitive film. a step of exposing a photosensitive film to light from a light source through a light source, and a step of developing the exposed photosensitive film, and providing a light-shielding portion made of graphite or a carbon layer on the transparent substrate and these layers. A method for producing a light control filter, characterized in that a mesh-like pattern is formed by a light-transmitting part and a light-transmitting part. 3. A method for manufacturing a photochromic filter used for exposing the fluorescent surface of a color picture tube, which includes the steps of forming a photosensitive resist film on a transparent substrate, and introducing a light source through a mesh-like pattern placed opposite to the photosensitive resist film. a step of exposing the resist film to light from a source, a step of developing the exposed photosensitive resist film, a step of applying a graphite or carbon dispersion to form a graphite layer or a carbon layer, and a step of forming a graphite layer or a carbon layer without removing the unremoved photosensitivity. a step of removing a film and a graphite layer or a carbon layer deposited on the photosensitive film, a light-shielding portion made of a graphite or carbon layer on the transparent substrate;
A method for manufacturing a light control filter, characterized in that a mesh-like pattern is formed by a light-transmitting portion without any of these layers.
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JPH02208601A (en) * 1989-02-08 1990-08-20 Seiko Instr Inc Optical window member and its manufacture
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