JPS5846879B2 - semiconductor laser equipment - Google Patents
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- JPS5846879B2 JPS5846879B2 JP55006886A JP688680A JPS5846879B2 JP S5846879 B2 JPS5846879 B2 JP S5846879B2 JP 55006886 A JP55006886 A JP 55006886A JP 688680 A JP688680 A JP 688680A JP S5846879 B2 JPS5846879 B2 JP S5846879B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は情報処理装置の光源として用いる半導体レーザ
装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor laser device used as a light source of an information processing device.
従来、例えば情報処理装置として、映像情報を同心又螺
旋状に貯えたキャリヤに光を照射して、その映像情報を
再生する装置(特開昭47−37407号)がある。2. Description of the Related Art Conventionally, for example, as an information processing apparatus, there is a device (Japanese Patent Laid-Open No. 47-37407) that reproduces video information by irradiating light onto a carrier that stores video information concentrically or spirally.
かかる装置においては、光源として、半導体レーザを用
いて、装置の小型化を図ることが考えられる。In such a device, it is conceivable to use a semiconductor laser as a light source to reduce the size of the device.
しかしながら、半導体レーザにおいては、温度の変化な
どにより、出力変動が大きくその安定度の点で難点があ
る。However, semiconductor lasers have a drawback in that their output fluctuates widely due to changes in temperature, etc., and their stability is low.
即ち、
注入型半導体レーザ、特に室温ないし室温に近い温度で
、連続的ないし連続に近いデユーティ比(Duty R
atio )で動作する半導体レーザは、素子の温度上
昇に伴なって発振のパシきい電流”も増大する。That is, injection type semiconductor lasers, especially at room temperature or near room temperature, have a continuous or nearly continuous duty ratio (Duty R).
In a semiconductor laser that operates in an atio), the oscillation threshold current increases as the temperature of the device increases.
たとえばアイ・ハヤシ(I Hayashi )他数
氏は、米国における学術雑誌「ジャーナル・オブ・アプ
ライド・フィジックス誌(Journal of Ap
plied physics )J第42巻第1929
頁(1971年)に投稿した論文rGaAs −A4
Gat −X A sダブルへテロ接合構造注入レーザ
」に報告しているように、半導体レーザを一定の電流で
、駆動していると周囲温度の変化に伴って、レーザ出力
も変化する。For example, I Hayashi and several other authors have published an article in the American academic journal ``Journal of Applied Physics''.
plied physics ) J Vol. 42 No. 1929
Paper submitted to page (1971) rGaAs-A4
As reported in ``Gat-XAs Double Heterojunction Injected Laser'', when a semiconductor laser is driven with a constant current, the laser output changes as the ambient temperature changes.
すなわち、・・シきい電流=Jth 17)温1f−
f化カ、Jth:JoeXp(T/T ) (1)(
ただし、J、T はいずれもパシきい電流″の温度に
対する変化を定めるパラメータで、素子により定まる。That is,... threshold current = Jth 17) Temperature 1f-
f, Jth: JoeXp (T/T) (1) (
However, both J and T are parameters that determine the change in "passive current" with respect to temperature, and are determined depending on the element.
)で表わされる。ダブルへテロ接合構造GaAs−A−
/、GaAs レーザを動作させた場合を考える。). Double heterojunction structure GaAs-A-
Consider the case where a GaAs laser is operated.
半導体レーザ素子の温度TがAT変化したとさの゛しき
い電流′″Jthは式(1)から、となる。When the temperature T of the semiconductor laser element changes by AT, the threshold current ''Jth becomes as follows from equation (1).
半導体レーザ素子の動作電流をJとすれば素子の温度変
化によるレーザ出力Pの変化、(Pは、
となる。If the operating current of the semiconductor laser device is J, then the change in laser output P due to the temperature change of the device (P is as follows).
とすれば(ただし、εは半導体レーザ素子の動作点を定
めるパラメータ。(where ε is a parameter that determines the operating point of the semiconductor laser element.
)となる。).
となるから、素子の温度が動作点から6℃上昇すると、
レーザ出力は半減する。Therefore, if the temperature of the element rises by 6℃ from the operating point,
Laser power is halved.
勿論、εの大きい状態で素子を使用すれば、温度変化に
対するレーザ出力の変化率は減少するが、反面、半導体
レーザ素子の劣化速度は動作電流の増大と共に増大する
ので、なるべくシきい電流″附近で動作させることか望
ましい。Of course, if the device is used with a large ε, the rate of change in laser output with respect to temperature changes will decrease, but on the other hand, the rate of deterioration of the semiconductor laser device will increase as the operating current increases, so use the device as close to the threshold current as possible. It is desirable to operate with
上記したごとく、半導体レーザの光出力は、素子の温度
によって左右され易いので、温度を一定に維持する手段
を講じていない通常の条件の下では、レーザ光出力を定
常に維持するための他の手段が必要となる。As mentioned above, the optical output of a semiconductor laser is easily affected by the temperature of the element, so under normal conditions where no means are taken to maintain a constant temperature, other methods are required to maintain the laser output at a steady state. A means is required.
このようなレーザ光出力定器化手段がなげれば、情報処
理装置の光源として半導体レーザを用いることは困難と
なり、光出力の安定なガスレーザを使わざるを得す、情
報処理装置の小型化・軽量化は到底達成できないのであ
る。If such means for standardizing laser light output were to disappear, it would be difficult to use semiconductor lasers as light sources for information processing equipment, and gas lasers with stable optical output would have to be used. Light weight cannot be achieved at all.
半導体レーザ装置においては、従来、このような手段を
設けたものが市販されていないが、気体レーザの分野で
は、レーザ光の一部をビーム0スプリツタ(beam
5plitter )などの光学系を利用して取り出し
、取り出したレーザー光を適当な光検出器で検知し、レ
ーザ出力が変化した場合は、検知出力を気体ガスレーザ
励起電源に帰還させ、気体ガス・レーザへの供給入力を
制御して、レーザ出力を一定に維持する手段が採用され
ている。Conventionally, semiconductor laser devices equipped with such means have not been commercially available, but in the field of gas lasers, a portion of the laser light is split into a beam 0 splitter (
The extracted laser light is extracted using an optical system such as a 5plitter), and the extracted laser light is detected by an appropriate photodetector. If the laser output changes, the detected output is returned to the gas laser excitation power source and sent to the gas laser. Means is employed to maintain the laser output constant by controlling the supply input of the laser.
半導体レーザの場合も、同じ手段を採用することができ
るが、小型・軽量を生命とする半導体レーザ装置にビー
ム0スプリツタなどの光学系を導入することは、装置を
大型化することになる。In the case of a semiconductor laser, the same method can be adopted, but introducing an optical system such as a beam 0 splitter into a semiconductor laser device, which is designed to be small and lightweight, will increase the size of the device.
かかる点に鑑み本発明は、情報処理装置の光源として半
導体レーザ装置を用い、その半導体レーザ素子の温度変
化に伴yj5レーザ出力の変化を除去しもってその出力
光を一定ならしめようとするものである。In view of this, the present invention uses a semiconductor laser device as a light source of an information processing device, and attempts to make the output light constant by eliminating changes in the yj5 laser output due to temperature changes of the semiconductor laser element. be.
かかる目的を達するために本発明は、双方向に光放射す
る半導体レーザ素子の一方向の光を情報処理用の光とし
て用い、他方向の光を受光する受光器を設置し、さらに
この受光器の受光する上記放射光の光量の変動分を検出
する手段と、この受光光量の変動分を補償するように上
記半導体レーザ素子の光出力を制御する手段を設けるこ
とを特徴とするものである。In order to achieve this object, the present invention uses the light in one direction of a semiconductor laser element that emits light in both directions as light for information processing, installs a light receiver that receives light in the other direction, and furthermore installs a light receiver that receives light in the other direction. The present invention is characterized in that it includes means for detecting a variation in the amount of emitted light received by the laser beam, and means for controlling the optical output of the semiconductor laser element so as to compensate for the variation in the amount of received light.
以下本発明を実施例により説明する。The present invention will be explained below with reference to Examples.
第1図は、本発明に係る半導体レーザ装置の一実施例の
構成の概略を示す図である。FIG. 1 is a diagram schematically showing the configuration of an embodiment of a semiconductor laser device according to the present invention.
この半導体レーザ装置は、半導体レーザ素子1、銅製ヒ
ートシンク8、電熱冷却素子12、放熱フィン13、光
検知器5からなり6は光検知器の出力の増幅器、7は可
変な定電圧発生器と制御回路を含む熱電冷動素子の電源
である。This semiconductor laser device includes a semiconductor laser element 1, a copper heat sink 8, an electrothermal cooling element 12, a radiation fin 13, and a photodetector 5, 6 is an amplifier for the output of the photodetector, and 7 is a variable constant voltage generator and a control. It is a power source for a thermoelectric cooling element including a circuit.
半導体レーザ素子1はGaAs−A拓aAsダブルへテ
ロ構造レーザで、これに電源14及び負荷抵抗15を通
して、シきい電流″以上の電流を流すとレーザ発振が起
こり、活性層2の両端の二つのへき開面(すなわち反射
面)からそれぞれレーザ光3及び4が放出される。The semiconductor laser device 1 is a GaAs-A double heterostructure laser, and when a current higher than the threshold current is passed through the power supply 14 and the load resistor 15, laser oscillation occurs, and the two at both ends of the active layer 2 Laser beams 3 and 4 are emitted from the cleavage planes (ie, the reflective surfaces), respectively.
レーザ光3は光通信、光情報処理、スペクトロメータの
光源などとして利用することができ、別の反射面から出
るレーザ光4は、半導体レーザ素子1に近接して配置し
た光検知器5の受光面に照射される。The laser beam 3 can be used as a light source for optical communications, optical information processing, spectrometers, etc., and the laser beam 4 emitted from another reflective surface is received by a photodetector 5 placed close to the semiconductor laser element 1. The surface is irradiated.
この光検知器5としては、たとえばGaAs系半導体レ
ーザ(発振波長約7500〜9oooAの範囲内)では
、Siで作った太陽電池、PIN光検出器などが感度特
性などの点で都合がよい。As the photodetector 5, for example, in a GaAs-based semiconductor laser (with an oscillation wavelength in the range of about 7500 to 900A), a solar cell made of Si, a PIN photodetector, etc. are convenient in terms of sensitivity characteristics.
本実施例では光検知器5は温度に対して比較的安定な短
絡電流モードで使用する。In this embodiment, the photodetector 5 is used in a short-circuit current mode that is relatively stable with respect to temperature.
光検知器5は薄い絶縁層9によってヒートシンク8から
は電気的に絶縁されている。The photodetector 5 is electrically insulated from the heat sink 8 by a thin insulating layer 9.
半導体レーザ素子1の活性層2の温度Tjはレーザ素子
1に供給する電気入力、周囲温度Ta及び熱電冷却素子
12に流す電流で決まる。The temperature Tj of the active layer 2 of the semiconductor laser device 1 is determined by the electrical input supplied to the laser device 1, the ambient temperature Ta, and the current flowing through the thermoelectric cooling element 12.
レーザ素子に供給される電圧、電流をそれぞれV及び■
、ヒートシンク8の温度をThとすれば
の関係がある。The voltage and current supplied to the laser element are V and ■, respectively.
, where the temperature of the heat sink 8 is Th.
ここにθはレーザ素子1とヒートシンク8の熱抵抗であ
り、I thはレーザ素子1のしきい電流である。Here, θ is the thermal resistance of the laser element 1 and the heat sink 8, and I th is the threshold current of the laser element 1.
レーザの光出力Pは、で与えられる。The optical power P of the laser is given by:
ここでηは比例定数である。上記の3式からレーザ出力
を電流及びヒートシンク温度の関数として求めることが
できる。Here η is a proportionality constant. From the three equations above, the laser output can be determined as a function of current and heat sink temperature.
第2図はその計算結果を模式的に示した特性図で、縦軸
はレーザ出力Pを、横軸は電流■を表し、パラメタはヒ
ートシンクの温度ThでTh3〉Th1〉Th2である
。FIG. 2 is a characteristic diagram schematically showing the calculation results, where the vertical axis represents the laser output P, the horizontal axis represents the current ■, and the parameters are the heat sink temperature Th, where Th3>Th1>Th2.
第2図から、レーザ出力P1を得るために必要な電流及
びヒートシンク温度の組合せはいろいろあることがわか
る。From FIG. 2, it can be seen that there are various combinations of current and heat sink temperature necessary to obtain the laser output P1.
ヒートシンク温度が定まっている場合には、レーザ出力
P1を得るために必要な電流値は二種類あるが、勿論、
より低い電流値の方が望ましい。When the heat sink temperature is fixed, there are two types of current values required to obtain the laser output P1, but of course,
Lower current values are preferable.
第1図の実施例のように、ヒートシンクに熱電冷却素子
12を装置した場合にはヒートシンクの温度をかなりの
範囲内で選ぶことができる。When the heat sink is equipped with the thermoelectric cooling element 12 as in the embodiment shown in FIG. 1, the temperature of the heat sink can be selected within a considerable range.
今ヒートシンク温度をTh1 とすれば、所要の電流は
工、となる。Now, if the heat sink temperature is Th1, the required current is .
なるべく小電流で必要なレーザ出力を得るという観点か
らヒートシンク温度Thtは周囲温度Taより低く選ぶ
方が望ましいすなわち
である。From the viewpoint of obtaining the necessary laser output with as little current as possible, it is desirable to select the heat sink temperature Tht lower than the ambient temperature Ta.
ここでATは熱電冷却素子12によって保たれている温
度差で、熱電素子に供給される電流によって決まる。Here, AT is the temperature difference maintained by the thermoelectric cooling element 12 and is determined by the current supplied to the thermoelectric element.
今、周囲温度Taが伺らかの原因でδTだけ変化して、
ヒートシンク温度がTh3(=Th1+θT)になった
とし、熱電冷却素子に供給される電流が変化しないとす
れば、レーザ出力は所定のレーザ出力値P1からP3に
減少する。Now, the ambient temperature Ta changes by δT due to some unknown reason,
Assuming that the heat sink temperature becomes Th3 (=Th1+θT) and the current supplied to the thermoelectric cooling element does not change, the laser output decreases from the predetermined laser output value P1 to P3.
而して、第1図の実施例では光検知器5によってモニタ
ーされたレーザ出力4に比例する信号は増幅器6によっ
て増幅された後、基準値(すなわち、この実施例では所
定のレーザ出力値P1に対応する値)と比較さへ基準値
からの変動分をゼロに近づけるように電源1から熱電冷
却素子12に供給される電流を変化させる。In the embodiment of FIG. 1, the signal proportional to the laser output 4 monitored by the photodetector 5 is amplified by the amplifier 6 and then converted to a reference value (i.e., a predetermined laser output value P1 in this embodiment). The current supplied from the power source 1 to the thermoelectric cooling element 12 is changed so that the variation from the reference value approaches zero.
上記の場合では周囲温度の変動分θTを打ち消すように
、熱電冷却素子によって保たれる温度差、(Tを、(T
十aTに変化させることになる。In the above case, the temperature difference (T) maintained by the thermoelectric cooling element is changed to (T
It will be changed to 10aT.
熱電冷却素子による温度制御は応答が速く(1秒以下)
、また電流の極性によって周囲温度より高くも、あるい
は低くもできるという利点を有しているので、周囲温度
が大幅に変動するような環境でも、レーザ出力を一定に
保つことができる利点がある。Temperature control using a thermoelectric cooling element has a fast response (less than 1 second)
Also, it has the advantage that the current can be made higher or lower than the ambient temperature depending on the polarity of the current, so it has the advantage that the laser output can be kept constant even in an environment where the ambient temperature fluctuates significantly.
一例を挙げれば、周囲温度が一10℃から45℃の範囲
内で、出力変動を5俤以内におさえることができる。For example, output fluctuations can be suppressed to within 5 degrees when the ambient temperature is in the range of 110 degrees Celsius to 45 degrees Celsius.
さらに、本実施例の他の利点(、’!、、利用すべきレ
ーザ光3とは独立にモニタ用のレーザ光4を使っている
ことである。Furthermore, another advantage of this embodiment is that the monitoring laser beam 4 is used independently of the laser beam 3 to be used.
すなわち、レーザ光3及び4は同一の光キャビティから
放出されているので、その出力は互いに比例関係にある
ので、レーザ出力4を一定に保つように制御することに
より、利用すべきレーザ光3の出力を一定に保つことが
できる。That is, since the laser beams 3 and 4 are emitted from the same optical cavity, their outputs are proportional to each other, so by controlling the laser output 4 to be constant, the amount of laser beam 3 to be used can be reduced. Output can be kept constant.
レーザ素子1に光ファイバなどを近接してレーザ光3を
直接ファイバに導入する場合などにはモニター用の光学
系が不要になるので都合がよい。This is convenient when an optical fiber or the like is brought close to the laser element 1 and the laser beam 3 is directly introduced into the fiber, since a monitoring optical system is not required.
二つの反射面の反射率が等しい場合にはレーザ出力3お
よび4の大きさは等しいが、モニタ用の出力4は小さく
てもかまわないので、出力4をとり出す反射面には絶縁
膜及び金属膜をコートとじて反射率を上げて使う方が望
ましい。If the reflectance of the two reflective surfaces is equal, the magnitudes of laser outputs 3 and 4 are equal, but output 4 for monitoring may be small, so the reflective surface from which output 4 is taken out is coated with an insulating film and metal. It is preferable to coat the film to increase the reflectance.
なぜなら一方の反射面の反射率を高くすることにより、
発振のしきい電流値を小さくすることができるからであ
る。This is because by increasing the reflectance of one reflective surface,
This is because the threshold current value for oscillation can be reduced.
また本実施例においては、光検知器5が、半導体レーザ
素子1と同じヒートシンク8上に装置されているために
、光検知器5の温度もほぼ一定に保たれ、従って、光検
知器の感度も周囲温度の影響を受けにくい利点がある。Furthermore, in this embodiment, since the photodetector 5 is installed on the same heat sink 8 as the semiconductor laser element 1, the temperature of the photodetector 5 is also kept almost constant, and therefore the sensitivity of the photodetector is It also has the advantage of being less affected by ambient temperature.
なお半導体レーザ素子の出力が直接変調を受けている場
合には、増幅器6にはローパスフィルターを組み込む必
要がある。Note that if the output of the semiconductor laser element is directly modulated, it is necessary to incorporate a low-pass filter into the amplifier 6.
この時、レーザ出力の時間平均値が一定に保たれる。At this time, the time average value of the laser output is kept constant.
さらに、第1図に示す実施例では、光検知器もほぼ一定
の温度に保たれるので光検知器の感度もほぼ一定に保た
れる利点がある。Furthermore, the embodiment shown in FIG. 1 has the advantage that the photodetector is also kept at a substantially constant temperature, so that the sensitivity of the photodetector is also kept substantially constant.
本発明に係る半導体レーザ装置の他の実施例の概略構成
図を第3図に示す。FIG. 3 shows a schematic configuration diagram of another embodiment of the semiconductor laser device according to the present invention.
第3図は、半導体レーザ素子1の二つの反射酊わら放射
されたレーザ光のうち、4の1/−ザ光はヒートシンク
上に装着した光検知器5に照射する。In FIG. 3, of the two reflected laser beams emitted from the semiconductor laser device 1, four 1/- laser beams are irradiated onto a photodetector 5 mounted on a heat sink.
光検知器5に得られる出力は増幅器6で増幅し、所定の
レーザ出力P1に対応する値と比較され、対応する変動
分を打ち消すようにレーザ素子への入力奄給電源14′
を制御する。The output obtained by the photodetector 5 is amplified by an amplifier 6 and compared with a value corresponding to a predetermined laser output P1, and the input power supply 14' to the laser element is adjusted so as to cancel out the corresponding fluctuation.
control.
本実施例は、第1図の実施例の構成と異なり、ヒートシ
ンクの温度を制御していないので周囲温度によって変化
するため、レーザ素子1の周囲温度が変化し、レーザ出
力も変化するため、レーザ素子への供給電力を調節して
レーザ出力の変化を打ち消すものである。In this embodiment, unlike the configuration of the embodiment shown in FIG. 1, the temperature of the heat sink is not controlled and changes depending on the ambient temperature, so the ambient temperature of the laser element 1 changes and the laser output also changes. It adjusts the power supplied to the element to cancel out changes in laser output.
第2図の特性図かられかるように、連続動作なL・し、
連続に近いデユーティ比の動作状態では得られるレーザ
出力の最大値は周囲温度によって決まるので、夙囲温度
が大きく変動するような条件では本実施例は使い難い。As can be seen from the characteristic diagram in Figure 2, the continuous operation L.
In an operating state with a nearly continuous duty ratio, the maximum value of the laser output that can be obtained is determined by the ambient temperature, so this embodiment is difficult to use under conditions where the ambient temperature fluctuates greatly.
また、第2図から明らかなように、電流をふやすと光出
力が低下する動作条件も存在するが、このような条件で
出力を制御することは望ましくなく、電流と共に光出力
が増加するような条件で動作させるべきである。Furthermore, as is clear from Figure 2, there are operating conditions in which the optical output decreases as the current increases, but it is undesirable to control the output under such conditions, and it is not desirable to control the output under such conditions. It should work under the conditions.
したがって、本実施例は半導体レーザ素子の周囲温度が
ほぼ一定に保たれているような状態・あるいは熱電冷却
素子によってヒートシンク温度がほぼ一定に保たれてい
るような場合に、光出力を精密に制御するために用いる
ことができる。Therefore, this embodiment can precisely control the optical output when the ambient temperature of the semiconductor laser element is kept almost constant, or when the heat sink temperature is kept almost constant by a thermoelectric cooling element. It can be used to
一例として、室温25°Gのまわりに±3℃の温度変化
がある場合の出力安定度は±20;bであった。As an example, the output stability when there is a temperature change of ±3°C around a room temperature of 25°G was ±20;b.
レーザ光が変調されている場合に、増幅器6にローパス
フィルターを設けることは第1図の実施例の場合と同様
である。When the laser beam is modulated, the provision of a low-pass filter in the amplifier 6 is the same as in the embodiment shown in FIG.
また、レーザ素子に流す電流値が大きくなり過ぎて、電
流の増加と共にレーザ出力が低下する不安定領域に入る
ことを防ぐために電源14 に電流制限装置を設けるこ
とが望ましい。Further, it is desirable to provide a current limiting device in the power supply 14 in order to prevent the current value flowing through the laser element from becoming too large and entering an unstable region where the laser output decreases as the current increases.
また、第3図に示す実施例の場合では、半導体レーザの
キャビティが、二個の相対する反射面で構成される場合
を述べたが、該反射崩はへき開、研摩、エツチング、イ
オンミリングなどの手段を用いて得られる平面を利用す
るものの他に、レーザの活性層ないし、レーザ光の伝播
路に設けた周期構造によって得られるブラッグ反射を利
用するものについても同様に本発明を応用することがで
きる。In addition, in the case of the embodiment shown in FIG. 3, the cavity of the semiconductor laser is composed of two opposing reflecting surfaces, but the reflection breakage can be caused by cleaving, polishing, etching, ion milling, etc. In addition to those that utilize a flat surface obtained using a method, the present invention can also be applied to those that utilize Bragg reflection obtained by a periodic structure provided in the active layer of a laser or in the propagation path of laser light. can.
なぜなら、後者の場合にも等価的に二個の反射面がある
とみなすことができるからである。This is because even in the latter case, it can be considered that there are equivalently two reflecting surfaces.
以上説明した如く本発明によれば、情報処理装置の情報
処理用の光出力が一定となり、その装置を安定に動作さ
せかつ信頼性の高い情報処理を行うことが可能となると
同時に半導体レーザ装置を用いるので光源が小型となり
、情報処理装置の小型化が遠戚できる等の効果を有する
。As explained above, according to the present invention, the optical output for information processing of an information processing device becomes constant, making it possible to operate the device stably and perform highly reliable information processing, and at the same time, it is possible to operate the device stably and perform highly reliable information processing. Since the light source is used, the light source can be made smaller, and information processing devices can be made more compact.
第1図は本発明による半導体レーザ装置の一実施例の同
格構成図、第2図は連続動作もしくは連続に近いデユー
ティ比で動作する半導体レーザのレーザ出力と電流及び
ヒートシンクの温度との関係を示す特性図、第3図は本
発明による半導体レーザ装置の第2の実施例の断面図と
制御回路のブロック図である。
第1図から第3図において、1:半導体レーザ素子、2
:半導体レーザの活性層、3,4:レーザ光、5:光検
知器、6:増幅器、7:制御回路及び熱電冷却素子用電
源、8:ヒートシンク、9:絶縁層、10:金属板、1
1:絶縁層、12:熱電冷却素子、13:放熱フィン、
14:半導体レーザ用電源、14 :制御回路及び半導
体レーザ用電源。FIG. 1 is a comparable block diagram of an embodiment of the semiconductor laser device according to the present invention, and FIG. 2 shows the relationship between the laser output, current, and heat sink temperature of a semiconductor laser that operates continuously or at a near-continuous duty ratio. The characteristic diagram and FIG. 3 are a cross-sectional view of a second embodiment of a semiconductor laser device according to the present invention and a block diagram of a control circuit. In FIGS. 1 to 3, 1: semiconductor laser element, 2
: Active layer of semiconductor laser, 3, 4: Laser light, 5: Photodetector, 6: Amplifier, 7: Power supply for control circuit and thermoelectric cooling element, 8: Heat sink, 9: Insulating layer, 10: Metal plate, 1
1: Insulating layer, 12: Thermoelectric cooling element, 13: Radiation fin,
14: Power supply for semiconductor laser, 14: Control circuit and power supply for semiconductor laser.
Claims (1)
情報処理装置の上記レーザ光を放出する半導体レーザ装
置において、情報処理用の光として用いられる半導体レ
ーザ素子から放射されるレーザ光と反対側より放射され
るレーザ光を受光する受光素子と、上記受光素子の受光
する光出力の変動分を検出する検出手段と、この変動分
に基づいて上記半導体レーザ素子の光出力を制御する制
御手段とからなり、上記制御手段により上記情報処理用
の光の出力が制御されることを特徴とする半導体レーザ
装置。 2、特許請求の範囲第1項記載の半導体レーザ装置にお
いて、上記制御手段が上記半導体レーザ素子に供給する
人力を制御する手段であることを特徴とする半導体レー
ザ装置。 3 特許請求の範囲第1項記載の半導体レーザ装置にお
いて、上記制御手段が上記半導体レーザ素子の温度を制
御する熱電冷却素子の入力を制御する手段であることを
特徴とする半導体レーザ装置。 4 半導体レーザ光によって所定情報の情報処理を行う
情報処理装置め上記レーザ光を放出する半導体レーザ装
置において、情報処理用の光として用いられる半導体レ
ーザ素子から放射されるレーザ光と反対側より放射され
るレーザ光を受光する受光素子と、上記受光素子の受光
する光の出力と予め設定した基準値とを比較しその受光
出力の変動分を検出する検出手段と、上記検出手段から
の出力にもとづき上記受光素子の受光出力の変動分を打
ち消すように上記半導体レーザ素子の光出力を制御する
制御手段とからなり、上記制御手段により上記情報処理
の光の出力が制御されることを特徴とする半導体レーザ
装置。 5 特許請求の範囲第4項記載の半導体レーザ装置にお
いて、上記制御手段が上記半導体レーザ素子に供給する
入力を制御する手段であることを特徴とする半導体レー
ザ装置。 6 特許請求の範囲第4項記載の半導体レーザ装置にお
いて、上記制御手段が上記半導体レーザ素子の温度を制
御する熱電冷却素子の入力を制御する手段であることを
特徴とする半導体レーザ装置。[Scope of Claims] 1. Laser light emitted from a semiconductor laser element used as light for information processing in a semiconductor laser device that emits the above-mentioned laser light of an information processing device that processes predetermined information using semiconductor laser light. a light-receiving element that receives laser light emitted from the opposite side; a detection means that detects a variation in the light output received by the light-receiving element; and a detection means that controls the light output of the semiconductor laser element based on the variation. 1. A semiconductor laser device comprising: a control means, wherein the output of the information processing light is controlled by the control means. 2. A semiconductor laser device according to claim 1, wherein the control means is means for controlling human power supplied to the semiconductor laser element. 3. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the control means is means for controlling an input to a thermoelectric cooling element that controls the temperature of the semiconductor laser element. 4. Information processing device that processes predetermined information using semiconductor laser light In the semiconductor laser device that emits the above-mentioned laser light, the laser light emitted from the opposite side to the laser light emitted from the semiconductor laser element used as light for information processing is a light-receiving element that receives the laser beam; a detection means that compares the output of the light received by the light-receiving element with a preset reference value and detects a variation in the received light output; A semiconductor comprising: a control means for controlling the light output of the semiconductor laser element so as to cancel out fluctuations in the light reception output of the light receiving element, and the light output of the information processing is controlled by the control means. laser equipment. 5. A semiconductor laser device according to claim 4, wherein the control means is means for controlling input supplied to the semiconductor laser element. 6. The semiconductor laser device according to claim 4, wherein the control means is means for controlling an input to a thermoelectric cooling element that controls the temperature of the semiconductor laser element.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55006886A JPS5846879B2 (en) | 1980-01-25 | 1980-01-25 | semiconductor laser equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55006886A JPS5846879B2 (en) | 1980-01-25 | 1980-01-25 | semiconductor laser equipment |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13019473A Division JPS5081695A (en) | 1973-11-21 | 1973-11-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55127090A JPS55127090A (en) | 1980-10-01 |
| JPS5846879B2 true JPS5846879B2 (en) | 1983-10-19 |
Family
ID=11650707
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55006886A Expired JPS5846879B2 (en) | 1980-01-25 | 1980-01-25 | semiconductor laser equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5846879B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021100062A (en) * | 2019-12-23 | 2021-07-01 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Laser equipment |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS542553B2 (en) * | 1971-09-20 | 1979-02-08 |
-
1980
- 1980-01-25 JP JP55006886A patent/JPS5846879B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55127090A (en) | 1980-10-01 |
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