JPS5848828B2 - 還元炉の原材料装入装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は還元炉の原材料装入装置に係り、特に直立型
シャフト炉の如き還元炉に原材料（酸化鉄等）を投入す
るための装入装置であり、炉頂部の投入口に、該投入口
より炉内へ通路を挿入連設し、該通路の炉内側出口に離
間させて円盤状の回転板を支持して、該回転板を回転駆
動させつつ回転遠心力により原材料を炉内に適宜分配す
るように構或したことを特徴とする還元炉の原材料装入
装置に関するものである。

従来、この種還元炉にあっては、炉頂部にホッパを備え
た開口部が設けられ、コンベア等で搬送されて来る酸化
鉄等の原材料は上記ホッパより炉内に投入乃至装入され
ているものである。

特に、炉内は還元ガス等の反応ガスが充満して（・るの
で、原材料の投入時に炉内ガスが外部に漏洩する危険が
あった。

そこで、炉内ガスの漏洩を防止するために、開口部の径
を小さく締るように構成してＬ・る。

このように、原材料の投入乃至装入口の径が小さ〜・た
めに、炉内に装入される原材料は炉中央部を中心に堆積
されるようになる。

特に還元炉にあっては炉側壁方向より炉内に反応還元ガ
スが供給されるので、炉中央部分の還元化が遅れ、炉側
壁近傍部分の還元化より早くなる傾向にある。

そこで、炉内側壁方向により多くの原材料を分配する如
く、装入して炉内の適正な流れ分布が得られることが望
まれていた。

また、従来装置にあっては原材料の装入時に炉内ガスが
外部に漏洩するので、この炉内ガスの漏洩するために投
入口乃至装入口に開閉蓋等を設け、これを開閉しながら
一定量づつ装入すると云うバッチ式が一般に採用され、
一方連続的に原材料を炉内に装入するに際しては複雑な
気密保持手段等を設ける必要があり、構造が複雑になる
欠点があった。

そこで、本発明者は従来装置の問題点に鑑み、鋭意研究
の結果これらを有効に解決すべく本発明を完成するに至
ったものである。

この発明の目的とするところは、炉頂部の原材料投入口
に、該投入口より炉内へ通路を連設し、該通路の直下に
離間させて回転板を支持して、該回転板の遠心力で原材
料を炉内に分配するようになして、炉内に適正に分配し
つつ連続的に原材料を投入乃至装入し得、且つ炉内の原
材料の流れ分布を適切になし得ると共に炉の運転操業を
連続的になし得る還元炉の原材料装入装置を提供する。

また、本発明の目的とするところは炉頂部の投入口に通
路を連設し、該通路の直下に回転板を支持して、投入口
より投入される原材料を通路と回転板との間に常時滞留
させて炉内還元ガス炉外漏洩を極小し投入口近傍の気密
保持を容易になし得る還元炉の原材料装入装置を提供す
る。

更に、本発明の目的とするところは回転板の回転速度を
匍脚することにより、炉内への原材料の装入量を自動調
整し得ると共に連続装入もなし得る還元炉の原材料装入
装置を提供する。

また、本発明の目的とするところは構造が極めて簡単で
且つ保守点検が容易であり、従来この種の炉に簡単に取
り付けることができる還元炉の原材料装入装置を提供す
る。

次に、本発明の好適一実施例にっ（・て、添付図面に従
って詳述する。

第１図は本発明に係る装置を備える還元炉の縦断正面図
であり、第２図は本装置に用いる回転板の平面図、第３
図は変形実施例を示す縦断正面図、第４図は駆動装置の
別実施例を示す側断面図である。

第１図に示す如く、直立型シャフト炉１の頂部２の中央
に円形の開口部３が設けられる。

この開口部３には上部にホツバ４を備えた筒体５が装着
される。

この筒体５は開口部３より炉１内に臨む通路６を形成す
る。

この通路６は上記筒体５内に縦方向に且つ径の小さＬ゛
内筒体７が支持されて区画される。

筒体５の上部に備えられたホツパ４の上面開口部８は上
記筒体５内に挿通された部分を除（・て覆板９で覆われ
、該覆板９には原材料投入口１０が適宜数図示では左右
に二個開設され、この投入口ｉｏ，ｉｏのそれぞれ上方
には原材料を搬送するコンベア１１，１１の終端部が位
置して（・る。

通路６の下部は開放され、筒体５は高位にまた内筒体７
は低位まで延長し通路６下部に排出口１２を形成する。

上記通路６の下部排出口１２の直下には一定の間隔を設
けて離間されて、回転板１３が支持される。

この回転板１３は上記通路６の横断面積より大径の円盤
より構成され、その中心には直立する軸部材１４が一体
的に起立設置される。

該軸部材１４の上部は上記内筒体７内を挿通し、ホツパ
４を覆う覆板９上に突出する。

このように、通路６を形成する筒体５の下端と回転板１
３の上面間には円周上に開放された上記排出口１２が形
成される。

この排出口１２の上には原料が円盤上１３で空回転する
のを防ぎ、さらに補強の役目も兼ねた邪魔板２２を数ケ
所取付ける。

一方、ホッパ４を含む炉頂部２はシールボックス１７で
囲み、該シールボックス１７は炉頂部２上に支持され、
内部に前記したコンベア１ １． ，１ １も設げられ
てＬ・る。

このシールボックス１７の上面板１５の中心部は開口さ
れ、この開口部１６より上記軸部材１４の上端を上面板
１５上に突出し、該軸部材１４の上面板１５の開口部１
６はシール部材を兼ねる軸受１８で支持する。

軸部材１４のシールボックス１７上に突出した部分１４
ａは駆動装置１９に連結される。

従って軸部材１４が回転駆動されることにより、回転板
１３を回転せしめる。

上記駆動装置１９は例えばモータによるリングギャ伝動
方式、あるＬ゛はモータチェン、スプロケット伝動方式
等が採用されるが、要は軸部材１４を回転駆動せしめ、
且つ正逆自由に回転出来、更に回転速度を可変的制御し
得る様に構成するものであればよＬ・。

従って、第４図に示す如く駆動装置１９を構成すること
も出来る。

第４図は軸部材１４の上部１４ａとシールボックス１７
との隙間にシール部材２１を挟入するとともに、軸部材
１４の上端近傍にリングギアー２３を嵌挿固着し、この
リングギアー２３の周囲を軸受部材１８によって回動自
在に支持したものである。

このリングギアー２３にはモーター等の駆動装置２５に
よって回転駆動される歯車２４が噛合され、これによっ
て軸部材１４が回転するように構成したものである。

また軸１４は上下方向にも可動可能な構造とし、最適な
分布が選べる構造とする。

上記回転板１３は第２図に示す如く、円盤状の平板より
なり、その表面即ち排出口１２に臨む面上には直立に起
立する軸部材１４を中心として半径方向に放射状の溝２
０が刻設されて（・る。

次に、第３図に示す変形実施例を説明する。

図示する如く、炉頂２に開口部３が設けられ、この開口
部３には筒体５が挿設されて、通路６が形成される。

この通路６を形成する筒体５の上部にはホッパ４が設け
られ、他方下部には排出口１２が形成される。

上記ホツパ４の上部開口部８にはこれを覆う覆板９が設
げられる。

また、この覆板９には第１図に示した実施例と同様に原
材料投入口１０，１０が設げられ、且つ搬送用のコンベ
ア１１，１１の終端部が位置される。

上記通路６の下部排出口１２の直下には一定の間隔を設
けて離間された回転板１３が支持される。

この回転板１３の下面には駆動手段１９ａが設げられ、
回転板１３を可変自在に駆動し得るように構成される。

尚、この駆動手段１９ａはローラ、あるち・はコロ等の
伝動部材を介設して回転板１３を支承しつつ回転駆動す
る。

また、ホツパ１４を含む炉頂部２はシールボックス１７
によって囲まれて℃・る。

次に、以上の構成から成る装置の操作方法につＬ・て詳
述する。

原材料Ｗである酸化鉄ペレットはコンベア１１，１１で
搬送され、投入口１０，１０上で連続的にホッパ４内に
投入される。

投入された原材料Ｗはホツパ４の傾斜面に案内されて通
路６上部に至り、且つ順次降下して回転板１３上に至る
。

また、通路下部排出口１２と回転板１３との間は一定の
間隙が設けられてＬ・るので、通路６から回転板１３上
に流出する原材料Ｗは安息角θを形成する。

上記投入口１０より連続的に原材料Ｗを投入しつつ、回
転板１３を回転駆動させて、その遠心力により炉１内に
分配しながら装入する。

原材料Ｗを炉内側壁方向に装入するに際しては回転板１
３０回転速度を高速にし．、他方炉内中央部分に分配装
入するときは回転速度を低速にする。

このように、回転変１３０回転速度を可変的に制御しつ
つ、炉内に分散乃至分配して、原材料を連続的に装入す
る。

特に、還元炉にあっては炉内側壁方向の還元化が早くな
るので、これに相応させて側壁方向により多くの原材料
Ｗである酸化鉄ペレットを装入することにより、炉内の
流下分布が適切に保持し得る。

また、第２図に示す如く、回転板１３０表面に溝２０を
設けておくことにより、原材料と回転板の摩擦力を高め
て、分散飛行距離を高めることができる。

この回転板１３を第２図に示す例とは別に、その表面の
粗度、ある（・は素材を選択することにより遠心力で分
散される原材料の飛行距離を調節することができる。

このように、回転板１３を回転駆動することにより、ホ
ッパより投入される原材料Ｗを炉内に適宜分配装入し得
ることは勿論、更に回転速度を可変的制御することによ
り、炉内に装入する装入量をも容易に且つ自由に調節す
ることができる。

更に、回転板１３と通路６の排出口１２との間にて定の
間隙を有して原材料Ｗの安息角θを形成し且つ投入ホツ
パ４と通路６との間には原材料Ｗが常時滞留して（・る
ために、炉１内の還元ガメ等は遮蔽されて投入口１０に
まで、漏洩して来ることは極めて少くなＬ・。

以上要するに本発明によれば、炉頂部の原材料投入口に
通路を連設し、該通路の直下に離間させて回転板を支持
して、該回転板を回転させてその遠心力により原材料を
炉内に適宜分配しつつ装入し得且つ炉内の原材料の流れ
分布を適切になし得ると共に炉の運転操業を連続的にな
し得ることができる。

また、本発明によれば、投入される原材料により投入口
近傍の気密保持を容易になし得ることができるものであ
る。

更に、本発明によれば、回転板の回転速度を制御するこ
とにより、炉内への原材料の装入量を自動調整しつつ連
続的に装入し得るものである。

また、本発明はその構造が極めて簡単で且つ保守点検が
容易であり、従来の還元炉にも簡単に取り付けることが
できる等優れた諸特長を発揮する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る還元炉の原材料装入装置を示す縦
断正面図、第２図は本装置に用（・る回転板の平面図、
第３図は変形実施例を示す縦断正面図、第４図は駆動装
置の別実施例を示す側断面図である。 図中、１は還元炉、２は炉頂部、１０は投入口、６は通
路、１３は回転板である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 炉頂部の原材料投入口に、該投入口より炉内へ通路
   を連設し、該通路の直下に離間させて回転板を支持して
   、該回転板で原材料を炉内に分配するように構成したこ
   とを特徴とする還元炉の原材料装入装置。