JPS585608B2 - semiconductor switch circuit - Google Patents
semiconductor switch circuitInfo
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- JPS585608B2 JPS585608B2 JP6769878A JP6769878A JPS585608B2 JP S585608 B2 JPS585608 B2 JP S585608B2 JP 6769878 A JP6769878 A JP 6769878A JP 6769878 A JP6769878 A JP 6769878A JP S585608 B2 JPS585608 B2 JP S585608B2
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- H03K17/73—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices having more than two PN junctions; having more than three electrodes; having more than one electrode connected to the same conductivity region for DC voltages or currents
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はPNPNスイッチ素子を用いた半導体スイッチ
回路における、PNPNスイッチのレイト効果による誤
動作を防止するもので、特にその防止効果を著しく向上
させる半導体スイッチ回路に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention is directed to preventing malfunctions due to the late effect of a PNPN switch in a semiconductor switch circuit using a PNPN switch element, and particularly relates to a semiconductor switch circuit that significantly improves the prevention effect.
一般にSCR、サイリスク等と呼ばれる
PNPN4層構造の半導体スイッチ回路は遮断中であっ
ても半導体スイッチ回路の両端子間(アノード・カソー
ド間)に急激な順方向電圧が加えられると誤点弧してし
まう欠点がある。Semiconductor switch circuits with a four-layer PNPN structure, commonly referred to as SCR, Cyrisk, etc., will erroneously fire if a sudden forward voltage is applied between both terminals of the semiconductor switch circuit (between anode and cathode) even when the circuit is cut off. There are drawbacks.
これはレイト効果と呼はれるものでその耐力をdv/d
t耐量と呼ぶことにする。This is called the late effect, and its resistance is dv/d.
This will be called t-tolerance.
この誤点弧を防止するため、一般には第1図に示したよ
うにPNPN4層スイッチ素子(以下PNPNスイッチ
と記す)1のゲートG、カソードK間を抵抗(RGK)
2で短絡する方法、あるいは第2図に示すようにPNP
Nスイッチ1のアノードA、カソードK間に急激な電圧
が印加された過渡状態のときのみにおいてゲートG・カ
ソードK間を電子スイッチ3(たとえは図においてはト
ランジスタ4を用いる)により短絡する方法等がある。In order to prevent this false ignition, generally a resistor (RGK) is connected between the gate G and cathode K of the PNPN four-layer switch element (hereinafter referred to as PNPN switch) 1, as shown in Figure 1.
2, or PNP as shown in Figure 2.
A method of short-circuiting between the gate G and cathode K using an electronic switch 3 (for example, transistor 4 is used in the figure) only in a transient state when a sudden voltage is applied between the anode A and cathode K of the N switch 1, etc. There is.
第1図の方法は回路構成が簡単であるが、高いdv/d
t耐量を得るためには抵抗(RGK)2の値を低く設定
する必要がある。The method shown in Figure 1 has a simple circuit configuration, but has a high dv/d
In order to obtain the t tolerance, it is necessary to set the value of the resistor (RGK)2 low.
そのためにゲート感度が低下する欠点を生じる。This results in a disadvantage of reduced gate sensitivity.
そこで、第2図に示すように、PNPNスイッチ1のゲ
ートG、カソードK間に電子スイッチ3を設け、その電
子スイッチ3の制御端子部とPNPNスイッチ1のNベ
ースN1との間に過渡電流を通すトランジスタ6とダイ
オード7より成る静電容量性素子5を挿入する回路構成
が用いられている。Therefore, as shown in FIG. 2, an electronic switch 3 is provided between the gate G and cathode K of the PNPN switch 1, and a transient current is introduced between the control terminal of the electronic switch 3 and the N base N1 of the PNPN switch 1. A circuit configuration is used in which a capacitive element 5 consisting of a transistor 6 and a diode 7 is inserted.
第2図に示した回路は、電子スイッチ3としてNPNト
ランジスタ4により、また、静電容量性素子5としてP
NPトランジスタ6のベース・コレクタ間静電容量を用
いた場合の1例である。The circuit shown in FIG. 2 uses an NPN transistor 4 as an electronic switch 3 and a
This is an example in which the base-collector capacitance of the NP transistor 6 is used.
この回路の動作は、PNPNスイッチ1のアノードAに
立ち上りの急激なパルス電圧が侵入すると、その過渡電
圧によりトランジスタ6のベース・コレクタ間静電容量
を通して微分電流がトランジスタ4のベースに流れ、た
だちにトランジスタ4が動作領域に入りPNPNスイッ
チ1のゲートG・カソードK間を短絡するものである。The operation of this circuit is such that when a rapidly rising pulse voltage enters the anode A of the PNPN switch 1, a differential current flows to the base of the transistor 4 through the base-collector capacitance of the transistor 6 due to the transient voltage, and the transistor immediately 4 enters the operating region and short-circuits between the gate G and cathode K of the PNPN switch 1.
したがって、レート効果によってゲートG・カソードK
間に発生する電圧が低くなり、このためPNPNスイッ
チ1が誤点弧することはなくなる。Therefore, due to the rate effect, the gate G and cathode K
The voltage generated between them becomes lower, so that the PNPN switch 1 will no longer fire erroneously.
また、この回路はPNPNスイッチ1のアノードAに過
渡電圧が印加されないときは、トランジスタ4のベース
電流は零であるので、トランジスタ4はしゃ断状態とな
り、このときのPNPNスイッチ1のゲートGより見込
んだ抵抗は抵抗(RGK)2のみとなり、この値はdv
/dt耐量にほとんど関係しないので比較的高い値に選
ぶことができる。In addition, in this circuit, when no transient voltage is applied to the anode A of the PNPN switch 1, the base current of the transistor 4 is zero, so the transistor 4 is in a cut-off state, and the voltage calculated from the gate G of the PNPN switch 1 at this time is The only resistance is resistance (RGK) 2, and this value is dv
/dt has little to do with tolerance, so a relatively high value can be selected.
それゆえ、ゲート点弧電流は減少し高感度でPNPNス
イッチ1を動作させることが可能になる。Therefore, the gate firing current is reduced and it becomes possible to operate the PNPN switch 1 with high sensitivity.
しかし、より高dv/dt耐量を得るためには急激な電
圧が加えられたとき静電容景性素子5に流す電流、すな
わち、トランジスタ4のベース電流を増加させる必要が
ある。However, in order to obtain higher dv/dt tolerance, it is necessary to increase the current flowing through the capacitive element 5 when a sudden voltage is applied, that is, the base current of the transistor 4.
そのために静電容量性素子5の等価静電容量を増加させ
る回路方式として第2図に示すようなPNPトランジス
等が用いられている。For this purpose, a PNP transistor or the like as shown in FIG. 2 is used as a circuit system for increasing the equivalent capacitance of the capacitive element 5.
これはトランジスタ6のベース・コレクタ間の静電容量
を直流電流増幅率hFE倍した回路で、トランジスタ4
の駆動ベース電流を増加させるものである。This is a circuit in which the base-collector capacitance of transistor 6 is multiplied by the DC current amplification factor hFE, and transistor 4
This increases the drive base current.
一方、レート効果によりPNPNスイッチ1が誤点弧す
る状態は、PNPNスイッチ1のアノードA・カソード
K間に急激な電圧が印加された場合にPNPNスイッチ
1のNベース(N1)Pベース(P2)間静電容量C1
2を通して抵抗RGK2に電流が流れ、その電圧降下に
よりゲートG・カソードK間電圧がPNPNスイッチの
点弧電圧VGKB以上になると誤点弧するものである。On the other hand, when the rate effect causes the PNPN switch 1 to fire incorrectly, when a sudden voltage is applied between the anode A and the cathode K of the PNPN switch 1, the N base (N1) and P base (P2) of the PNPN switch 1 capacitance C1
A current flows through resistor RGK2 through resistor RGK2, and when the voltage drop causes the voltage between gate G and cathode K to exceed the firing voltage VGKB of the PNPN switch, erroneous firing occurs.
これを防止するためにゲートG・カソードK間を電子ス
イッチ3により短絡するものであるが、実際には第2図
に示すようにトランジスタ4等が用いられるため、その
内部抵抗が有り過渡電圧による電圧降下は残る。In order to prevent this, the gate G and cathode K are short-circuited using an electronic switch 3, but in reality, as shown in Figure 2, a transistor 4 etc. is used, which has internal resistance and may be affected by transient voltage. The voltage drop remains.
さらに、静電容量性素子5に流す過渡電流はPNPNス
イッチ1のP1、N1、P2トランジスタで構成するベ
ース電流(N1ベース)として引抜かれるため、その電
流にP1、N1、P2トランジスタの直流電流増幅率h
FE倍した電流が抵抗(RGK)2に流れゲートG・カ
ソードK間の電圧降下が大きくなる欠点がある。Furthermore, since the transient current flowing through the capacitive element 5 is extracted as a base current (N1 base) composed of the P1, N1, and P2 transistors of the PNPN switch 1, the current is amplified by the DC current of the P1, N1, and P2 transistors. Rate h
There is a drawback that the current multiplied by FE flows through the resistor (RGK) 2, resulting in a large voltage drop between the gate G and the cathode K.
そのために、第2図に示した回路方式において、高dv
/dt耐量を得ようとして静電容量性素子5の値を増加
すると、PNPNスイッチ1の第2接合(N1、P2)
静電容量C12を通して抵抗(RGK)2に流れる過渡
電流が増加するため、効率のよいdv/dt耐量の向上
が得られない欠点がある。Therefore, in the circuit system shown in Fig. 2, high dv
When the value of the capacitive element 5 is increased in an attempt to obtain /dt tolerance, the second junction (N1, P2) of the PNPN switch 1
Since the transient current flowing to the resistor (RGK) 2 through the capacitance C12 increases, there is a drawback that efficient improvement in dv/dt tolerance cannot be obtained.
本発明の目的は、このような問題に鑑み、PNPNスイ
ッチのゲート点弧感度を高感度に保ちながら高dv/d
t耐量を向上させ、過渡電圧印加時に発生する誤点弧を
防止する半導体スイッチ回路を提供するものである。In view of such problems, it is an object of the present invention to maintain high dv/d gate firing sensitivity of a PNPN switch.
The present invention provides a semiconductor switch circuit that improves T tolerance and prevents erroneous firing that occurs when a transient voltage is applied.
本発明の特徴は、PNPNスイッチ1に急激な電圧が加
えられたときのdv/dt耐量を向上させるために、ゲ
ート・カソード間を抑え込むトランジスタ4のベース電
流を増加させてもPNPNスイツチ1の第2接合静電容
量C12に過渡電流を増加させないよう回路構成にした
ところにある。The feature of the present invention is that in order to improve the dv/dt withstand capability when a sudden voltage is applied to the PNPN switch 1, even if the base current of the transistor 4, which suppresses the voltage between the gate and cathode, is increased, the The circuit configuration is such that the transient current does not increase in the two-junction capacitance C12.
以下図を用いて本発明を詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below using the figures.
第3図は本発明による半導体スイッチの基本構成をブロ
ック図で示したものであり、PNPNスイッチ1、電子
スイッチ3、静電容量性素子5とからなる。FIG. 3 is a block diagram showing the basic configuration of a semiconductor switch according to the present invention, which includes a PNPN switch 1, an electronic switch 3, and a capacitive element 5.
すなわち、PNPNスイッチ1のゲートG・カソードK
間に電子スイッチ3を接続し、PNPNスイッチ1のア
ノードA・カソードK間に急激な電圧が印加されたとき
アノードAより接続された静電容量性素子5を通して流
れる過渡電流により駆動するものである。That is, the gate G and cathode K of the PNPN switch 1
An electronic switch 3 is connected between them, and when a sudden voltage is applied between the anode A and cathode K of the PNPN switch 1, the device is driven by a transient current flowing from the anode A through the connected capacitive element 5. .
ここで静電容量性素子5は等価的に静電容量であるが、
一般に集積化する場合にはトランジスタやダイオード等
の素子が用いられ、その過渡電流入力端子51をPNP
Nスイッチ1のアノードA側に、過渡電流出力端子52
を電子スイッチ3の制御端子31側にそれぞれ接続する
。Here, the capacitive element 5 is equivalently a capacitor, but
Generally, in the case of integration, elements such as transistors and diodes are used, and the transient current input terminal 51 is connected to a PNP
A transient current output terminal 52 is connected to the anode A side of the N switch 1.
are respectively connected to the control terminal 31 side of the electronic switch 3.
また、静電容量性素子5に過渡電流を流した場合の蓄積
電荷の放電は、電荷放電子端子53によりPNPNスイ
ッチ1のNベースNN1)に接続し放電するように構成
したものである。Further, when a transient current is passed through the capacitive element 5, the accumulated charge is discharged by being connected to the N base NN1) of the PNPN switch 1 via the charge discharge terminal 53.
したがって、dv/dt耐量の向上を画る場合、静電容
量性素子5の値を等価的に高めて電子スイッチ3の制御
電流を増加させても、それによってPNPNスイッチの
第2接合(N1、P2)に流れる過渡電流の増加はおこ
らない。Therefore, when aiming to improve the dv/dt withstand capability, even if the control current of the electronic switch 3 is increased by equivalently increasing the value of the capacitive element 5, the second junction (N1, An increase in the transient current flowing through P2) does not occur.
以下回路構成の具体的な方法について、詳細に説明する
。A specific method for configuring the circuit will be described in detail below.
第4図に本発明の半導体スイッチの具体的な第1の実施
例を示す。FIG. 4 shows a concrete first embodiment of the semiconductor switch of the present invention.
同図において第2図と同符号の部分はそれぞれ同じ部分
に相当するものとする第4図において、PNPNスイッ
チ1のゲートG・カソードK間には電子スイッチ3の具
体例としてトランジスタ4が接続される。In FIG. 4, parts with the same symbols as in FIG. 2 correspond to the same parts. In FIG. Ru.
これはトランジスタに限られることなく電子操作でスイ
ッチ動作するものであれはよい。This is not limited to transistors, but any switch that operates electronically may be used.
たとえは、電界効果形トランジスタ(FET)等が上げ
られる。An example is a field effect transistor (FET).
静電容量性素子5には集積化を考慮してPNPトランジ
スタ6のベース・コレクタ間静電容量を利用している。The base-collector capacitance of a PNP transistor 6 is used as the capacitive element 5 in consideration of integration.
この場合ベース・コレクタ間に蓄積された電荷は放電ダ
イオード7を通してPNPNスイッチ1が導通したとき
に端子53よりNベース(N1)に放電する。In this case, the charge accumulated between the base and the collector is discharged from the terminal 53 to the N base (N1) through the discharge diode 7 when the PNPN switch 1 is turned on.
尚、PNPNがオンしない時には、第2接合部に電荷が
蓄積されている。Note that when PNPN is not turned on, charges are accumulated in the second junction.
この蓄積電荷がアノード電圧の印加に対して逆作用とな
り、過渡電流を流しにくくする。This accumulated charge has a negative effect on the application of the anode voltage, making it difficult for transient current to flow.
この結果、オフ状態下では、dv/dt耐量は極めてよ
くなる。As a result, under the off-state, the dv/dt tolerance becomes extremely good.
このようなことから静電容量性素子5の容量値を等価的
に大きくしてトランジスタ4のベース電流を増しても、
第2図の従来例のようにPNPNスイッチ1の第2接合
(N1、P2)に流れる過渡電流の増加がないため高d
v/dt耐量が得られる。For this reason, even if the capacitance value of the capacitive element 5 is increased equivalently to increase the base current of the transistor 4,
Since there is no increase in the transient current flowing through the second junction (N1, P2) of the PNPN switch 1 as in the conventional example shown in FIG.
v/dt tolerance can be obtained.
なお、蓄積電荷の放電ダイオード7はダイオード素子で
なくとも抵抗でもよい。Note that the discharge diode 7 for discharging accumulated charges may be a resistor instead of a diode element.
これはPNPNスイッチ1のP1、N1接合順方向電圧
よりトランジスタ6のベースエミツタ間電圧が低いとア
ノードAからトランジスタ6のベース電流として流れる
のを防止するためにダイオード7の順方向電圧降下をも
たせたものである。This has a forward voltage drop of diode 7 to prevent the base current of transistor 6 from flowing from anode A when the base-emitter voltage of transistor 6 is lower than the forward voltage of P1 and N1 junction of PNPN switch 1. It is.
したがって、ダイオード7としてはダイオード順方向電
圧分を抵抗で電圧降下できる値に設定すれはよい。Therefore, the diode 7 should be set to a value that allows the forward voltage of the diode to be dropped by the resistor.
また、第4図において電荷放電ダイオードの出力端子5
3をトランジスタ6のエミツク端子51に接続しても同
等の特性が得られるが、この場合にはトランジスタ4の
エミツク・ベース間耐圧をPNPNスイッチ1の耐圧と
同じくしなければならない欠点がある。In addition, in FIG. 4, the output terminal 5 of the charge discharge diode
Similar characteristics can be obtained by connecting the transistor 3 to the emitter terminal 51 of the transistor 6, but in this case there is a drawback that the emitter-base breakdown voltage of the transistor 4 must be made the same as the breakdown voltage of the PNPN switch 1.
これに対して第4図に示す本発明ではトランジスタ4の
エミツタ・ベース間耐圧はPNPNスイッチのN1、P
1接合部の耐圧で補償することができる利点がある。On the other hand, in the present invention shown in FIG. 4, the emitter-base breakdown voltage of transistor 4 is
This has the advantage of being able to compensate for the withstand voltage of one joint.
第5図は本発明の半導体スイッチの第2の実施例を示す
。FIG. 5 shows a second embodiment of the semiconductor switch of the present invention.
同図の回路は静電容量性素子5をダイオード7,8.9
で構成したもので、ダイオード8は、順接合静電容量を
利用し、PNPNスイッチ1のアノードAに急激な電圧
が印加された場合その過渡電流をトランジスタ4のベー
スに流すために静電容量性素子として用いている。In the circuit shown in the figure, the capacitive element 5 is connected to diodes 7, 8, 9.
The diode 8 uses forward junction capacitance, and when a sudden voltage is applied to the anode A of the PNPN switch 1, the diode 8 has a capacitive property in order to cause the transient current to flow to the base of the transistor 4. It is used as an element.
ダイオード9はPNPNスイッチ1のアノードA、カソ
ードK間に逆電圧が印加された場合にトランジスタ4の
ベース・エミツク間逆耐圧を保護するために挿入したも
ので、これがないと高耐圧用半導体スイッチとして用い
ることができない。Diode 9 is inserted to protect the reverse withstand voltage between the base and emitter of transistor 4 when a reverse voltage is applied between the anode A and cathode K of PNPN switch 1, and if it is not there, it will not work as a high voltage semiconductor switch. cannot be used.
ダイオード7は第4図の回路と同様に静電容量性素子5
内に蓄積された電荷を放電させるためのダイオードであ
る。The diode 7 is a capacitive element 5 similar to the circuit shown in FIG.
This is a diode for discharging the charges accumulated within the diode.
すなわち、ダイオード8および9がそれぞれ逆方向に直
列に接続されているため、その接続点に蓄積された電荷
を放電させるものである。That is, since the diodes 8 and 9 are connected in series in opposite directions, the charge accumulated at the connection point thereof is discharged.
このような構成により静電容量性素子5の値を大きくし
ても第2図で説明したようなPNPNスイッチの第2接
合N1、P2部に流れる過渡電流の増加はなく、スイッ
チの高ゲート点弧感度を保ちながらdv/dt耐量の向
上を図ることができ、かつ半導体集積化を図る場合に特
に有利な半導体スイッチが得られる。With this configuration, even if the value of the capacitive element 5 is increased, the transient current flowing through the second junctions N1 and P2 of the PNPN switch as explained in FIG. 2 does not increase, and the high gate point of the switch does not increase. A semiconductor switch can be obtained that can improve dv/dt tolerance while maintaining arc sensitivity, and is particularly advantageous when semiconductor integration is desired.
第1図は従来のdv/dt耐量を高めた半導体スイッチ
の1例を示す図、第2図は従来のdv/dt耐量とゲー
ト点弧感度を向上させた半導体スイッチの例を示す図、
第3図は本発明による半導体スイツチのブ吊ツク図、第
4図は本発明による半導体スイッチの第1の具体的な実
施例を示す図、第5図は本発明による半導体スイッチの
第2の具体的な実施例を示す図である。
1・・・半導体スイッチ素子、3・・・電子スイッチ、
5・・・静電容量性素子。Fig. 1 is a diagram showing an example of a conventional semiconductor switch with improved dv/dt withstand capability, and Fig. 2 is a diagram showing an example of a conventional semiconductor switch with improved dv/dt withstand capability and gate firing sensitivity.
FIG. 3 is a block diagram of a semiconductor switch according to the present invention, FIG. 4 is a diagram showing a first specific embodiment of a semiconductor switch according to the present invention, and FIG. 5 is a diagram showing a second specific embodiment of a semiconductor switch according to the present invention. It is a figure showing a concrete example. 1... Semiconductor switch element, 3... Electronic switch,
5...Capacitive element.
Claims (1)
2及びN型エミツクN2の4層構造からなる半導体スイ
ッチ素子と、該スイッチ素子の上記P型ベースP2とN
型エミツクN2との間に設けられた電子スイッチと、該
電子スイッチの制御端子と上記半導体スイッチ素子のP
型エミツクとの間に設けられると共に、逆接続された2
つのPN接合部分を有し、その中点が上記半導体スイッ
チ素子のN型ベースN1に接続されてなる静電容量性素
子とを備えると共に、該静電容量性素子を通して流れる
過渡電流により上記電子スイッチの制御を行い、且つ該
静電容量性素子に過渡的に蓄積された電荷を上記半導体
スイッチ素子がオンした状態でN型ベースN1に放電さ
せるようにした半導体スイッチ回路。 2 上記静電容量性素子をPNPトランジスタにより構
成し、且つ該トランジスタのエミッタは上記半導体スイ
ッチ素子のP型エミツタ側に接続せしめる端子とし、コ
レクタを上記電子スイッチ側に接続せしめる端子とし、
該トランジスタのベースをもって上記中点とせしめ、該
中点となるベースよりダイオード又は抵抗を介して導出
された端子をもって上記半導体スイッチ素子のN型ベー
スN1への放電用の端子として形成せしめた特許請求の
範囲第1項記載の半導体スイッチ回路。 3 上記静電容量性素子を2つの逆方向に接続されたダ
イオードをもって形成し、該ダイオード間の中点より第
3のダイオードを介して得られる端子を上記半導体スイ
ッチ素子のN型ベースN1への放電用端子として形成せ
しめた特許請求の範囲第1項記載の半導体スイッチ回路
。[Claims] 1 P-type emitter P1, N-type base N1, and P-type base P
2 and an N-type emitter N2, and the P-type base P2 and N of the switch element.
an electronic switch provided between the type emitter N2, and a control terminal of the electronic switch and the semiconductor switch element P.
2 which is provided between the type emitter and is connected in reverse.
a capacitive element having two PN junction portions, the middle point of which is connected to the N-type base N1 of the semiconductor switching element, and a transient current flowing through the capacitive element causes the electronic switch to switch. A semiconductor switch circuit which performs control of the capacitive element and discharges charges transiently accumulated in the capacitive element to an N-type base N1 while the semiconductor switch element is turned on. 2 The capacitive element is constituted by a PNP transistor, the emitter of the transistor is a terminal connected to the P-type emitter side of the semiconductor switch element, and the collector is a terminal connected to the electronic switch side,
A patent claim in which the base of the transistor is the midpoint, and a terminal led out from the base, which is the midpoint, via a diode or a resistor is formed as a terminal for discharging to the N-type base N1 of the semiconductor switch element. The semiconductor switch circuit according to item 1. 3 The capacitive element is formed with two diodes connected in opposite directions, and a terminal obtained from the midpoint between the diodes through a third diode is connected to the N-type base N1 of the semiconductor switch element. The semiconductor switch circuit according to claim 1, which is formed as a discharge terminal.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6769878A JPS585608B2 (en) | 1978-06-07 | 1978-06-07 | semiconductor switch circuit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6769878A JPS585608B2 (en) | 1978-06-07 | 1978-06-07 | semiconductor switch circuit |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54159159A JPS54159159A (en) | 1979-12-15 |
| JPS585608B2 true JPS585608B2 (en) | 1983-02-01 |
Family
ID=13352425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6769878A Expired JPS585608B2 (en) | 1978-06-07 | 1978-06-07 | semiconductor switch circuit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS585608B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5741039A (en) * | 1980-08-25 | 1982-03-06 | Hitachi Ltd | Semiconductor switching circuit |
-
1978
- 1978-06-07 JP JP6769878A patent/JPS585608B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54159159A (en) | 1979-12-15 |
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