JPS5910071B2 - Semiconductor controlled rectifier - Google Patents
Semiconductor controlled rectifierInfo
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- JPS5910071B2 JPS5910071B2 JP50111980A JP11198075A JPS5910071B2 JP S5910071 B2 JPS5910071 B2 JP S5910071B2 JP 50111980 A JP50111980 A JP 50111980A JP 11198075 A JP11198075 A JP 11198075A JP S5910071 B2 JPS5910071 B2 JP S5910071B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は過電圧により破壊しない半導体制御整流素子(
サイリスタ素子)に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides a semiconductor controlled rectifier (
thyristor element).
過電圧によるサイリスタの破壊を防止する従来技術では
、過電圧がサイリスタのアノード・カソード間に加わつ
たとき、サイリスタをゲート点弧するのが普通である。In conventional techniques for preventing thyristor destruction due to overvoltage, the thyristor is typically gate-fired when overvoltage is applied between the anode and cathode of the thyristor.
この方式では、過電圧印加を検出して同時にサイリスタ
のゲートにゲート電流を供給する装置を必要とする。し
たがつて装置が大型、高価となる欠点がある。本発明は
、過電圧によりサイリスタ素子内で発生するリーク電流
を積極的に利用して、サイリスタが熱破壊しないように
これをターンオンさせることのできる新規なサイリスタ
素子に関するものである。This method requires a device that detects the application of overvoltage and simultaneously supplies gate current to the gate of the thyristor. Therefore, there is a drawback that the device is large and expensive. The present invention relates to a novel thyristor element that can actively utilize leakage current generated within the thyristor element due to overvoltage to turn on the thyristor to prevent it from being destroyed by heat.
したがつて本発明においては、従来技術のように、過電
圧印加時にサイリスタをゲート点弧する電源装置を必要
とせず、特にサイリスタ直流送電装置の小型化や原価低
減に役立つものである。以下図面を参照して本発明を詳
細に説明する。第1図、第2図は本発明の第1実施例を
示す。1はNPNP4層構造のサイリスタ、2はアノー
ド電極、3はカソード電極、6はPBベース層内に設け
られたN型の補助(エミツタ)領域、4は前記補助領域
6の表面上に、PBベース層にも跨がるように設けられ
た補助電極、5はその突出部5′が前記補助領域6に近
接対向するようにPBベース層上に配設したリーク捕集
電極、Gは前記補助領域6に対向して配置されたゲート
電極である。Therefore, unlike the prior art, the present invention does not require a power supply device that gate-ignites the thyristor when an overvoltage is applied, and is particularly useful for downsizing and cost reduction of the thyristor DC power transmission device. The present invention will be described in detail below with reference to the drawings. 1 and 2 show a first embodiment of the present invention. 1 is a thyristor with an NPNP four-layer structure; 2 is an anode electrode; 3 is a cathode electrode; 6 is an N-type auxiliary (emitter) region provided within the PB base layer; 4 is a PB base layer on the surface of the auxiliary region 6; 5 is a leak collection electrode provided on the PB base layer so that its protrusion 5' faces closely to the auxiliary region 6; G is the auxiliary region; 6. This is a gate electrode placed opposite to 6.
アノード電極2およびカソード電極3ではさまれた4層
構造部分が主サイリスタMを構成し、アノード電極2と
補助電極4とではさまれた4層構造部分は補助サイリス
タSを構成する。上記構成を有する装置において、ゲー
ト電極Gに点弧電圧を印加しない状態で、アノード2と
カソード3間に順方向電圧を印加した場合、電極5の真
下およびその外側にあるN−PB接合J2で発生するリ
ーク電流はリーク捕集電極5に集められる。そして、突
出部5′と補助(エミツタ)領域6間の抵抗が、リーク
捕集電極5の他の部分と前記領域6間の抵抗よりも小さ
いので、前記リーク電流の大部分は第2図にi1で示す
ように突出部5′から補助(エミツタ)領域6に集中し
て流入する。前記リーク電流1,は、補助(エミツタ)
領域6を含む補助サイリスタSに対するゲート電流とし
て作用するので、前記リーク電流1,がある一定値以上
になると、補助サイリスタSがターンオンし、順電流1
F1が流れる。前記順電流1F1は補助電極4の全面に
拡がつて主サイリスタMf)nエミツタ層\に流入する
。前記順電流1F1が主サイリスタMのゲート電流とし
て作用することは明らかであり、この結果主サイリスタ
Mは補助電極4と対向している周辺部全体にわたつて初
期ターンオンを生じ、ついには完全なターンオン状態と
なる。以上のように、リーク捕集電極5の面積を大きく
して広範囲の領域のリーク電流を捕集し、これを比較的
小面積の突出部5′から補助(エミツタ)領域6へ流入
させるようにすれば、その電流密度を大とすることがで
きるので、補助サイリスタSのターフオンが起り易くな
る。すなわち、主サイリスタMがブレークオーバし始め
るリーク電流値よりも小さいリーク電流値で補助サイリ
スタSを確実にターンオンできるので、主サイリスタM
もまた確実にターンオンさせられる。しかもターンオン
初期における主サイリスタの導通面積一すなわち初期タ
ーンオン面積が大となるので、主サイリスタがブレーク
オーバして局部的ターンオンに基づく熱破壊を生ずるの
を防止できる。したがつて本発明は、リーク捕集電極5
の突出部5′以外の部分と補助電極4との間の抵抗を大
きくして、電極5に集められたリーク電流の大部分が突
出部5から補助(エミツタ)領域6に流入するようにす
ることをも特徴としている。このような効果を容易に実
現できる第2実施例を第3図と第4図に示す。第2実施
例の構成は、リーク捕集電極5の補助電極4に近い縁部
の下側と補助電極4およびリーク捕集電極5間のPBベ
ース領域に付加N領域7を設けた以外は第1実施例と同
じである。捕集電極5に集められたリーク電流が補助(
エミツタ)領域6に流入しようとする場合、捕集電極5
からは付加N領域7を通つて補助(エミツタ)領域6に
至る経路は、付加領域7・PBベース領域間の接合が逆
バイアスとなるため極めて高抵抗になる。したがつて、
捕集電極5に集められたリーク電流は補助(エミツタ)
領域6に対向した電極5の部分5/から集中して領域6
へ流入する。この第2実施例の他の特徴は、順電圧上昇
率耐量(サイリスタが順電圧上昇時に発生する変位電流
でターンオンしないように順電圧vを印加Dvするとき
の一の最大値)を第1実施例の場合よDtりも大きくで
きることである。The four-layer structure portion sandwiched between the anode electrode 2 and the cathode electrode 3 constitutes the main thyristor M, and the four-layer structure portion sandwiched between the anode electrode 2 and the auxiliary electrode 4 constitutes the auxiliary thyristor S. In the device having the above configuration, when a forward voltage is applied between the anode 2 and the cathode 3 without applying an ignition voltage to the gate electrode G, the N-PB junction J2 located directly below and outside the electrode 5 The generated leakage current is collected at the leakage collection electrode 5. Since the resistance between the protruding portion 5' and the auxiliary (emitter) region 6 is smaller than the resistance between the other portion of the leak collection electrode 5 and the region 6, most of the leakage current flows as shown in FIG. As shown by i1, it flows from the protrusion 5' into the auxiliary (emitter) region 6 in a concentrated manner. The leakage current 1 is the auxiliary (emitter)
It acts as a gate current for the auxiliary thyristor S including the region 6, so when the leakage current 1 exceeds a certain value, the auxiliary thyristor S turns on and the forward current 1
F1 is playing. The forward current 1F1 spreads over the entire surface of the auxiliary electrode 4 and flows into the main thyristor Mf)n emitter layer. It is clear that the forward current 1F1 acts as a gate current for the main thyristor M, so that the main thyristor M undergoes an initial turn-on over the entire peripheral area facing the auxiliary electrode 4, and finally a complete turn-on. state. As described above, the area of the leak collecting electrode 5 is increased to collect leak current in a wide area, and the leak current is caused to flow into the auxiliary (emitter) area 6 from the protrusion 5' having a relatively small area. Then, since the current density can be increased, turf-on of the auxiliary thyristor S is more likely to occur. In other words, since the auxiliary thyristor S can be reliably turned on at a leakage current value smaller than the leakage current value at which the main thyristor M starts to break over, the main thyristor M
is also definitely turned on. Furthermore, since the conduction area of the main thyristor at the initial stage of turn-on, that is, the initial turn-on area, becomes large, it is possible to prevent the main thyristor from breaking over and causing thermal damage due to local turn-on. Therefore, the present invention provides a leak collection electrode 5
The resistance between the part other than the protrusion 5' and the auxiliary electrode 4 is increased so that most of the leakage current collected in the electrode 5 flows from the protrusion 5 into the auxiliary (emitter) region 6. It is also characterized by A second embodiment that can easily achieve such effects is shown in FIGS. 3 and 4. The configuration of the second embodiment is similar to that of the second embodiment except that an additional N region 7 is provided on the lower side of the edge of the leak collection electrode 5 near the auxiliary electrode 4 and on the PB base region between the auxiliary electrode 4 and the leak collection electrode 5. This is the same as the first embodiment. The leakage current collected at the collection electrode 5 assists (
When attempting to flow into the emitter region 6, the collection electrode 5
The path from the auxiliary N region 7 to the auxiliary (emitter) region 6 has extremely high resistance because the junction between the additional region 7 and the PB base region is reverse biased. Therefore,
The leakage current collected at the collection electrode 5 is auxiliary (emitter)
The area 6 is concentrated from the portion 5/ of the electrode 5 facing the area 6.
flows into. Another feature of this second embodiment is that the forward voltage increase rate withstand capacity (the maximum value when applying the forward voltage V to prevent the thyristor from turning on due to the displacement current generated when the forward voltage increases) is the maximum value of the first embodiment. In the case of the example, Dt can also be made larger.
すなわち、第1実施例では、リーク捕集電極5の下側お
よびその周辺部にあるJ2接合で発生した変位電流が捕
集電極5の突出部5/から集中して補助(エミツタ)領
域6に流入するので、変位電流による補助サイリスタの
ターンオンを生ずる可能性があるが、第3、第4図の第
2実施例では、付加N領7・PBベース領域間の接合が
逆バイアスされて接合コンデンサになつているため、捕
集電極5に集められた変位電流は付加N領域7を通つて
補助電極4へそのほぼ全面にわたつて流入する。したが
つて、第2実施例では補助(エミツタ)領域6への変位
電流の集中が起きないため、変位電流による補助サイリ
スタSのターンオンが起きず、順電圧上昇率耐量が大き
くなる。第5図と第6図は第3,4図の実施例において
、カソード電極3が中心になるように電極4,5をリン
グ状にした第3実施例を示す。リーク捕集電極5に集め
られた電流は補助(エミツタ)領域6へ集中的に流入し
て補助サイリスタをターンオンさせ、これによつて主サ
イリスタをターンオンさせる。カソード電極3の一部を
PBベース領域の表面まで延長して接続した部分8は、
カソード電極3の周辺部のJ2接合で発生した変位電流
が電極4に集められ、カソード電極3の下側にある\エ
ミツタ領域の周辺部に集中して流入し、主サイリスタの
誤動作・誤ターンオンが起きることを防止するためのも
のである。これによりサイリスタの順電圧上昇率耐量を
増大できる。第7図ないし第9図は本発明の第4実施例
を示す。That is, in the first embodiment, the displacement current generated at the J2 junction under and around the leak collecting electrode 5 is concentrated from the protrusion 5/ of the collecting electrode 5 and flows into the auxiliary (emitter) region 6. However, in the second embodiment shown in FIGS. 3 and 4, the junction between the additional N region 7 and the PB base region is reverse biased and the junction capacitor Therefore, the displacement current collected on the collection electrode 5 flows into the auxiliary electrode 4 through the additional N region 7 over almost the entire surface thereof. Therefore, in the second embodiment, concentration of the displacement current to the auxiliary (emitter) region 6 does not occur, so that the auxiliary thyristor S is not turned on by the displacement current, and the forward voltage increase rate withstand capability is increased. 5 and 6 show a third embodiment in which the electrodes 4 and 5 are formed into a ring shape with the cathode electrode 3 in the center in the embodiments shown in FIGS. 3 and 4. The current collected in the leakage collecting electrode 5 flows intensively into the auxiliary (emitter) region 6 and turns on the auxiliary thyristor, thereby turning on the main thyristor. A portion 8 that extends and connects a part of the cathode electrode 3 to the surface of the PB base region is
The displacement current generated at the J2 junction on the periphery of the cathode electrode 3 is collected in the electrode 4, and flows concentratedly into the periphery of the emitter region on the lower side of the cathode electrode 3, causing malfunction and incorrect turn-on of the main thyristor. This is to prevent it from happening. As a result, the forward voltage increase rate withstand capability of the thyristor can be increased. 7 to 9 show a fourth embodiment of the present invention.
図において第1ないし第3実施例と同一または同等部分
には同一符号を付している。本実施例}ま、補助電極4
とリーク捕集電極5とを中央のカソード電極3と同心状
に、ほぼ同一円周上に、ほぼ半周ずつ対向的に設け、サ
イリスタをターンオンするためのゲート電極Gを補助(
エミツタ)領域6と\エミツタ領域との間に設けている
点で第3実施例のものと相違する。リーク捕集電極5に
集められたリーク電流は、前記電極の補助(エミツタ)
領域6との対向部分から補助(エミツタ)領域へ集中流
入して補助サイリスタのターンオンを起させる。補助サ
イリスタの順電流は補助電極4からPBベース領域を経
て\エミツタに流入し、主サイリスタをターンオンさせ
る。本実施例では、ゲート電極Gにゲート信号を印ノ加
してターンオンさせる場合、ゲート電流が主サイリスタ
部分と補助サイリスタ部分とに分流し、その両者によつ
て主サイリスタのターンオンが起されるので、初期ター
ンオン面積が著しく増大し、フインが電圧(サイリスタ
をターンオンするためにアノード・カソード間に印・加
すべき最小順電圧)が小さくなる利点がある。In the figures, the same or equivalent parts as in the first to third embodiments are designated by the same reference numerals. This example} Well, auxiliary electrode 4
and a leak collecting electrode 5 are provided concentrically with the central cathode electrode 3, on substantially the same circumference, facing each other about half a circumference, and the gate electrode G for turning on the thyristor is auxiliary (
This embodiment differs from the third embodiment in that it is provided between the emitter region 6 and the emitter region. The leak current collected at the leak collection electrode 5 is transferred to the auxiliary (emitter) of the electrode.
A concentrated flow flows into the auxiliary (emitter) region from the portion facing the region 6, causing the auxiliary thyristor to turn on. The forward current of the auxiliary thyristor flows from the auxiliary electrode 4 through the PB base region to the emitter, turning on the main thyristor. In this embodiment, when a gate signal is applied to the gate electrode G to turn it on, the gate current is divided into the main thyristor part and the auxiliary thyristor part, and both of them cause the main thyristor to turn on. , the initial turn-on area is significantly increased, and the fin voltage (minimum forward voltage that must be applied between the anode and cathode to turn on the thyristor) is reduced.
第10図、第11図は本発明の第5実施例であり、第3
、第4図に示した第2実施例において、リーク捕集電極
5が中心になるように、カソード電極3および補助電極
4をリング状にしたものである。10 and 11 show the fifth embodiment of the present invention, and the third embodiment
In the second embodiment shown in FIG. 4, the cathode electrode 3 and the auxiliary electrode 4 are formed into a ring shape so that the leak collection electrode 5 is in the center.
したがつて、その動作等は第2実施例と同じである。第
12図は本発明のサイリスタを多数個、直列および並列
に接続して使用する場合の回路例を示す。Therefore, its operation etc. are the same as in the second embodiment. FIG. 12 shows an example of a circuit in which a large number of thyristors of the present invention are connected in series and in parallel.
各サイリスタのアノード・カソード間電圧Vn(n=1
,2・・・)が不均一になつても、各サイリスタはブレ
ークオーバー電圧より低いアノード・カソード間電圧で
自動的にターンオンしてしまう。したがつて、各サイリ
スタがブレークオーバーによる局部的なターンオンで熱
破壊するのを防止できる。従来技術ではサイリスタに過
電圧が印加されると、各サイリスタのゲートGに信号を
印加して強制的にターンオンする制御回路を必要として
いた。この場合、装置が大型になり、コスト高となる欠
点がある。本実施例によればこれらの欠点がないサイリ
スタ応用装置にすることができる。以上の説明において
、第3および第5実施例ではゲート電極をリーク捕集電
極によつて兼用させて構成を簡略化した例を示し、他の
実施例では両電極が別体となつた例を示したが、これら
は絶対的なものではなく、互いに他の態様で置換え得る
ものである。また、各領域の導電型を反対のものとなし
得ることも明らかであろう。なお、本発明の半導体制御
整流素子の製造プロセスは従来のものと全く同一であり
、ただ拡散パターンを変えるだけでよい。Voltage between anode and cathode of each thyristor Vn (n=1
, 2...) become non-uniform, each thyristor is automatically turned on at an anode-cathode voltage lower than the breakover voltage. Therefore, it is possible to prevent each thyristor from being thermally destroyed due to local turn-on due to breakover. The conventional technology requires a control circuit that applies a signal to the gate G of each thyristor to forcibly turn it on when an overvoltage is applied to the thyristor. In this case, the disadvantage is that the device becomes large and the cost increases. According to this embodiment, a thyristor-applied device that does not have these drawbacks can be obtained. In the above description, the third and fifth embodiments show examples in which the gate electrode is also used as a leak collection electrode to simplify the structure, and the other embodiments show examples in which both electrodes are separate bodies. However, these are not absolute and may be substituted for each other in other ways. It will also be apparent that the conductivity type of each region can be of the opposite type. Note that the manufacturing process of the semiconductor-controlled rectifying element of the present invention is completely the same as that of the conventional one, and only the diffusion pattern needs to be changed.
第1図は本発明第1実施例の平面図、第2図は第1図の
−『線に沿う断面図、第3図は本発明第2実施例の平面
図、第4図は第3図の−5線に沿う断面図、第5図は本
発明第3実施例の平面図、第6図は第5図の−1線に沿
う断面図、第7図は本発明第4実施例の平面図、第8図
は第7図の一5線に沿う断面図、第9図は第7図の一5
線に沿う断面図、第10図は本発明第5の実施例の平面
図、第11図は第10図のX一)A7線に沿う断面図、
第12図は本発明の使用回路例を示す結線図である。
2・・・・・・アノード電極、3・・・・・・カソード
電極、4・・・・・・補助電極、5・・・・・・リーク
捕集電極、6・・・・・・補助領域.7・・・・・・付
加領域、M・・・・・・主サイリスタ、S・・・・・・
補助サイリスタ。1 is a plan view of the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along the line -' of FIG. 1, FIG. 3 is a plan view of the second embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a plan view of the third embodiment of the present invention, FIG. 6 is a sectional view taken along line -1 of FIG. 5, and FIG. 7 is a fourth embodiment of the present invention. 8 is a sectional view taken along line 15 of FIG. 7, and FIG. 9 is a sectional view taken along line 15 of FIG. 7.
10 is a plan view of the fifth embodiment of the present invention; FIG. 11 is a sectional view taken along line X1) A7 in FIG. 10;
FIG. 12 is a wiring diagram showing an example of a circuit used in the present invention. 2... Anode electrode, 3... Cathode electrode, 4... Auxiliary electrode, 5... Leak collection electrode, 6... Auxiliary region. 7... Additional area, M... Main thyristor, S...
Auxiliary thyristor.
Claims (1)
4層素子からなる半導体制御整流装置であつて、一導電
型外側領域および反対導電型外側領域に設けられたカソ
ードおよびアノード電極間に形成された主サイリスタと
、反対導電型中側領域に設けられた一導電型の補助(エ
ミッタ)領域と、前記補助(エミッタ)領域から反対導
電型中側領域に跨がつて設けられた補助電極と、前記補
助(エミッタ)領域に近接対向する部分をその一部に有
するように、反対導電型中側領域に設けられたリーク捕
集電極とを具備し、前記リーク捕集電極に集められたリ
ーク電流が、前記近接対向部分から前記補助(エミッタ
)領域へ集中して流入するように構成されたことを特徴
とする半導体制御整流素子。 2 ゲート電極が、主サイリスタの一導電型外側領域と
一導電型の補助(エミッタ)領域との間に配置されたこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体制御
整流素子。 3 互いに反対導電型になるように形成されたPNPN
4層素子からなる半導体制御整流装置であつて、一導電
型外側領域および反対導電型外側領域に設けられたカソ
ードおよびアノード電極間に形成された主サイリスタと
、反対導電型中側領域に設けられた一導電型の補助(エ
ミッタ)領域と、前記補助(エミッタ)領域から反対導
電型中側領域に跨がつて設けられた補助電極と、前記補
助(エミッタ)領域に対向する部分を有するように、反
対導電型中側領域に設けられたリーク捕集電極と、前記
補助電極とリーク捕集電極との間の前記反対導電型中側
領域に、前記リーク捕集電極と補助(エミッタ)領域と
の前記対向部分の少なくとも一部を除いて形成された一
導電型の付加領域とを具備し、前記リーク捕集電極に集
められたリーク電流が、前記リーク捕集電極と補助(エ
ミッタ)領域との前記対向部分のうち、一導電型付加領
域を形成されない部分を通して、前記補助(エミッタ)
領域へ集中して流入するように構成されたことを特徴と
する半導体制御整流素子。 4 ゲート電極が、主サイリスタの一導電型外側領域と
一導電型の補助(エミッタ)領域との間に配置されたこ
とを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の半導体制御
整流素子。[Claims] 1. PNPN formed to have mutually opposite conductivity types
A semiconductor controlled rectifier consisting of a four-layer element, comprising a main thyristor formed between a cathode and an anode electrode provided in an outer region of one conductivity type and an opposite conductivity type outer region, and a main thyristor provided in an opposite conductivity type middle region. an auxiliary (emitter) region of one conductivity type, an auxiliary electrode provided spanning from the auxiliary (emitter) region to a middle region of the opposite conductivity type, and a portion that closely opposes the auxiliary (emitter) region; and a leak collecting electrode provided in the middle region of opposite conductivity type, and the leak current collected at the leak collecting electrode is directed from the close opposing portion to the auxiliary (emitter) region. A semiconductor-controlled rectifier element configured to allow a concentrated flow. 2. The semiconductor-controlled rectifier device according to claim 1, characterized in that the gate electrode is arranged between the outer region of one conductivity type of the main thyristor and the auxiliary (emitter) region of one conductivity type. 3 PNPN formed to have opposite conductivity types
A semiconductor controlled rectifier consisting of a four-layer element, comprising a main thyristor formed between a cathode and an anode electrode provided in an outer region of one conductivity type and an opposite conductivity type outer region, and a main thyristor provided in an opposite conductivity type middle region. and an auxiliary (emitter) region of one conductivity type, an auxiliary electrode provided spanning from the auxiliary (emitter) region to a middle region of the opposite conductivity type, and a portion facing the auxiliary (emitter) region. , a leak collecting electrode provided in an opposite conductivity type middle region, and a leak collecting electrode and an auxiliary (emitter) region provided in the opposite conductivity type middle region between the auxiliary electrode and the leak collecting electrode. an additional region of one conductivity type formed by excluding at least a portion of the opposing portion of the electrode, and the leakage current collected at the leakage collection electrode is transmitted between the leakage collection electrode and the auxiliary (emitter) region. The auxiliary (emitter)
A semiconductor-controlled rectifying element characterized in that it is configured to flow concentratedly into a region. 4. A semiconductor-controlled rectifier device according to claim 3, characterized in that the gate electrode is arranged between the outer region of one conductivity type of the main thyristor and the auxiliary (emitter) region of one conductivity type.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50111980A JPS5910071B2 (en) | 1975-09-16 | 1975-09-16 | Semiconductor controlled rectifier |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50111980A JPS5910071B2 (en) | 1975-09-16 | 1975-09-16 | Semiconductor controlled rectifier |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5235985A JPS5235985A (en) | 1977-03-18 |
| JPS5910071B2 true JPS5910071B2 (en) | 1984-03-06 |
Family
ID=14574927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50111980A Expired JPS5910071B2 (en) | 1975-09-16 | 1975-09-16 | Semiconductor controlled rectifier |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5910071B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5418116Y1 (en) * | 1969-08-01 | 1979-07-10 | ||
| JPH0537530Y2 (en) * | 1985-05-27 | 1993-09-22 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5025917Y2 (en) * | 1971-03-20 | 1975-08-02 | ||
| JPS4728449U (en) * | 1971-03-22 | 1972-12-01 |
-
1975
- 1975-09-16 JP JP50111980A patent/JPS5910071B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5235985A (en) | 1977-03-18 |
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