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JPS5911385B2 - flux supply device - Google Patents
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JPS5911385B2 - flux supply device - Google Patents

flux supply device

Info

Publication number
JPS5911385B2
JPS5911385B2 JP4928879A JP4928879A JPS5911385B2 JP S5911385 B2 JPS5911385 B2 JP S5911385B2 JP 4928879 A JP4928879 A JP 4928879A JP 4928879 A JP4928879 A JP 4928879A JP S5911385 B2 JPS5911385 B2 JP S5911385B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flux
tank
storage tank
supply device
pin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP4928879A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS55141373A (en
Inventor
忠彦 栗花落
雅文 植木
勝敏 渡辺
利昭 坂野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP4928879A priority Critical patent/JPS5911385B2/en
Publication of JPS55141373A publication Critical patent/JPS55141373A/en
Publication of JPS5911385B2 publication Critical patent/JPS5911385B2/en
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  • Coating Apparatus (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半田付けの際に半田付けに先立つて、15半田
付け箇所にフラックスを供給する装置に関するものであ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an apparatus for supplying flux to 15 soldering points prior to soldering.

従来、自動半田付け工程において、半田付け箇所にフラ
ックスを塗布する方法としては吹き付け法、ローラーコ
ート法など種々の方法が行なわれ20ていたが、いずれ
の方法においてもフラックス塗布量のバラツキ、使用中
のフラックス濃度の変化、作業環境の汚染、保守管理の
困難性等の問題を抱えている。
Conventionally, in the automatic soldering process, various methods have been used to apply flux to the soldering points, such as spraying and roller coating methods. There are problems such as changes in flux concentration, contamination of the working environment, and difficulty in maintenance management.

本発明は従来におけるこのような問題を解決す25るよ
うに工夫した新規且つ有効なフラックス供給装置を提案
するものである。
The present invention proposes a new and effective flux supply device devised to solve these conventional problems.

以下図面に示した実施例に従つて本発明を詳述する。The present invention will be described in detail below with reference to embodiments shown in the drawings.

第1図において、1はフラックス溜めタンクでx あり
、その中にはアルコール性の溶剤(例えばイソプロピル
アルコール)を溶剤として用いたフラックスF3が充さ
れているが、このフラックスF8は揮発性を有している
ので図示のように蓋2で密封された形としている。
In Figure 1, 1 is a flux storage tank x, which is filled with flux F3 using an alcoholic solvent (for example, isopropyl alcohol) as a solvent, but this flux F8 is volatile. Therefore, it is sealed with a lid 2 as shown in the figure.

3は前記蓋2の一部35に設けられた筒体であつて、前
記フラックス溜めタンク1の開口部4を形成している。
Reference numeral 3 denotes a cylindrical body provided on a portion 35 of the lid 2, and forms the opening 4 of the flux reservoir tank 1.

5はフラックス貯蔵タンクであり、その上蓋6には直径
IU程度の極めて小さい孔7が形成されているが、こO
孔7は内部のフラツクスFlが徐々に下方に移動してい
くことに伴ない空間8に外気を侵入させて空間8の空気
圧の低下を防いで後述するフラツクスの滴下を円滑にす
るものである。
5 is a flux storage tank, and its upper lid 6 has an extremely small hole 7 with a diameter of about IU;
The holes 7 allow outside air to enter the space 8 as the internal flux Fl gradually moves downward, thereby preventing a drop in the air pressure in the space 8 and smoothing the dripping of the flux, which will be described later.

向、この貯蔵タンクでは前記孔7が小さいためフラツク
スの揮発は回避される。貯蔵タンク5のフラツクスF1
は第1,第2点滴装置9,10及び管11を通して上記
フラツクス溜めタンク1に滴下される。前記第1点滴装
置9と第2点滴装置10の結合部には図示していないが
止めコツクが配されているので、使用の際には、このコ
ツクを開いておく必要がある。貯蔵タンク5から第1点
滴装置9に滴下せしめる管12は比較的径力吠きく、第
2点滴装置10に滴下せしめる管13の径は小さいので
、第1点滴装置9には図示の如くフラツクスF2が溜ま
る。一方、第2点滴装置10については、前記管13の
径が細いこと及びフラツクス溜めタンク1に至る管11
の径が大きいことによりフラツクスが溜まることはない
。14は前記フラツクス溜めタンク1が一定の量以上に
なると、これをオーバーフロータンク15にオーバーJ
ャ壕■■バーJャ香[タンク15に溜つたフラツクスF4
は粘度調整して再使用に供される。
On the other hand, in this storage tank, since the holes 7 are small, volatilization of the flux is avoided. Flux F1 in storage tank 5
is dripped into the flux storage tank 1 through the first and second dripping devices 9 and 10 and the pipe 11. A stopper (not shown) is disposed at the joint between the first drip device 9 and the second drip device 10, so it is necessary to keep this stop open during use. The diameter of the pipe 12 for dripping from the storage tank 5 to the first drip device 9 is relatively large, and the diameter of the pipe 13 for dripping to the second drip device 10 is small. accumulates. On the other hand, regarding the second drip device 10, the diameter of the pipe 13 is small and the pipe 11 leading to the flux storage tank 1 is
Due to the large diameter, flux does not accumulate. When the amount in the flux storage tank 1 exceeds a certain level, 14 overflows the flux into the overflow tank 15.
Flux F4 accumulated in tank 15
is reused after adjusting its viscosity.

16は7ラツク ニス溜めタンク1内のフラツクスの適
量を付着して外部に持ち出すフラツクス塗布用ピンであ
つて、該ピン16はガイド17内をバネ18によつて少
許下方に向けて付勢されている。
Reference numeral 16 is a flux application pin that deposits an appropriate amount of flux in the varnish storage tank 1 and brings it out to the outside. There is.

このバネ18は一端が前記ガイド17に固定され、他端
が前記ピ.ン16の頂部に固定されていることによシ、
前述の付勢力をピン16に及ぼしているのである。19
は前記ガイド17の固定位置を調整するためのバンドル
であシ、これを緩めることによシガイド17を取り外し
た)、ガイド17の上下位置を変えたりすることができ
、締めることにようガイド17を固定できるようになつ
ている。
One end of this spring 18 is fixed to the guide 17, and the other end is fixed to the guide 17. By being fixed to the top of the ring 16,
The aforementioned biasing force is exerted on the pin 16. 19
is a bundle for adjusting the fixed position of the guide 17. By loosening this bundle, the guide 17 can be removed), and the vertical position of the guide 17 can be changed, and by tightening the bundle, the guide 17 can be adjusted. It can be fixed.

ガイド17の位置調整はフラツクス溜めタンク1内に卦
けるピン16の先端位置の調整となる。そしてピン16
がフラツクスF,に浸かる深さa〔第2図・参照〕に応
じて外部に持ち出されるフラツクスの量(従つて半田付
け箇所に塗布されるフラツクス量》が変わる。而してガ
イド17の位置調整はフラツクス塗布量の調整となるの
である。20は前記ピン16の中途に設けられた蓋手段
であつて、この蓋手段20は筒体3の上端を塞ぐ役目を
するが、これによつてピン16をタンク1内に挿入した
ときに前記タンク1内のフラツクスF,の蒸一発が防止
できる。
The position adjustment of the guide 17 corresponds to the adjustment of the tip position of the pin 16 placed in the flux storage tank 1. and pin 16
The amount of flux brought out (therefore, the amount of flux applied to the soldering area) changes depending on the depth a (see Figure 2) into which the flux F is immersed.Then, the position of the guide 17 is adjusted. is used to adjust the amount of flux applied. Reference numeral 20 is a cover means provided in the middle of the pin 16, and this cover means 20 serves to close the upper end of the cylinder 3. 16 is inserted into the tank 1, evaporation of the flux F in the tank 1 can be prevented.

この蓋手段20は例えば第3図に示すように傘状をなし
てお)、その材質としては金属又はフツ素系ゴムが適し
て卦ジ、特にフツ素系ゴムの場合には弾力性があるので
寸法のバラツキ、ストロークのバラツキを吸収するとい
う長所以外にフラツクスにより膨潤する虞れがないとい
う利点がある。向、金属で形成した蓋手段の場合にはス
トロークを吸収できないので、ハンドル19によつてフ
ラツクス塗布用ピン16のフラツクス1への侵人炬離を
調整する際に筒体3に突き当つた位置よシも更にタンク
1側へ移動できないおそれがあるので、その場合には蓋
手段20をピン16に対し位置を変えられるように取ジ
付ける必要がある。21は前記ガイド17等を保持する
移動体であつて、上下方向に変移可能であると共に、ピ
ン16をフラツクス溜めタンク1から取)出した状態に
おいては水平方向にも移動可能であジ、例えば第1図口
のようにプリント基板23の半田付け位置にピン16の
先端を導きフラツクスF,を施すことができるようにな
つている。
This lid means 20 has an umbrella shape, for example, as shown in FIG. Therefore, in addition to the advantage of absorbing variations in dimensions and strokes, there is also the advantage that there is no risk of swelling due to flux. On the other hand, if the lid means is made of metal, it cannot absorb the stroke, so when adjusting the release of the flux applying pin 16 to the flux 1 using the handle 19, the position where it hits the cylinder 3 is Since there is a possibility that the lid cannot be moved further toward the tank 1 side, in that case, it is necessary to attach the lid means 20 to the pin 16 so that its position can be changed. Reference numeral 21 denotes a movable body that holds the guide 17, etc., and is movable in the vertical direction, and also movable in the horizontal direction when the pin 16 is taken out from the flux storage tank 1. As shown in FIG. 1, the tip of the pin 16 is guided to the soldering position of the printed circuit board 23 so that flux F can be applied.

そのため前記移動体20を構成するシヤフト22の上方
側はエアシリンダ(図示せず)に繋がつている。本発明
に依れば、7ラツクス溜めタンク1に点滴装置からフラ
ツクスF2を滴下し、且つ前記タンク内のフラツクスF
,が一定以上になるとこれをオーバーフロータンク15
へ導いて前記フラツクス溜めタンク内のフラツクスF,
を常に一定量に保持するように構成されているので、フ
ラツクス塗布用ピンの先端位置を所定位置に設定して卦
けば前記フラツクス溜めタンク1から常に一定量のフラ
ツクスを持ち出すことができ、従来のフラツクス供給装
置に比較して塗布量のバラツキを極めて小さくすること
ができる。
Therefore, the upper side of the shaft 22 constituting the moving body 20 is connected to an air cylinder (not shown). According to the present invention, the flux F2 is dripped into the 7lux storage tank 1 from a drip device, and the flux F2 in the tank is
, exceeds a certain level, this is transferred to the overflow tank 15.
The flux F in the flux storage tank is guided to
Since it is configured to always maintain a constant amount of flux, by setting the tip of the flux application pin at a predetermined position, a constant amount of flux can always be taken out from the flux storage tank 1. The variation in coating amount can be made extremely small compared to the flux supply device shown in FIG.

また、本発明によればフラツクス溜めタンク1に開口部
4を設けると共に、半田付けのために該タンク内のフラ
ツクスF3の少量を付着して前記タンクから外部に持ち
出すべく移動するフラツクス塗布用ピン16に挿人時に
前記開口部を施蓋する蓋手段を設けているので、フラツ
クス溜めタンンク1内のフラツクスの揮発が防止され、
特に使用しないとき(例えば工場において夜間)にその
効果は大きい。
Further, according to the present invention, an opening 4 is provided in the flux storage tank 1, and a flux application pin 16 is moved to attach a small amount of flux F3 in the tank for soldering and to carry it out from the tank. Since the device is provided with a lid means for closing the opening when inserting the device, volatilization of the flux in the flux storage tank 1 is prevented.
The effect is particularly great when not in use (for example, at night in a factory).

従つて、フラツクス濃度が変化しない(特に上記のよう
に点滴装置とオーバーフロー手段を用いることによシ一
層その効果が助長される(のでフラツクスの粘度は一定
に保持され、保守管理が容易であるという利点を有する
。それ故、自動半田付け装置に採用すれば半田付け品質
の安定化に大き・く貢献することができる。
Therefore, the flux concentration does not change (particularly, the effect is further enhanced by using the dripping device and overflow means as described above), so the viscosity of the flux is kept constant and maintenance is easy. Therefore, if adopted in automatic soldering equipment, it can greatly contribute to stabilizing soldering quality.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図面はいずれも本発明に関するものであつて、・第1図
は本発明を実施したフラツクス供給装置の模式図であシ
、第2図はその説明図、第3図は要部を示す図面である
。 1・・・・・・フラツクス溜めタンク、3・・・・・・
筒体、4・・・・・・開口部、9・・・・・・第1点滴
装置、10・・・・・・第2点滴装置、15・・・・・
・オーバーフロータン久 16・・・・・・フラツクス
塗布用ピン、18・・・・・・バネ、20・・・・・・
蓋手段、21・・・・・・移動体、Fl,F2,F3,
F4・・・・・・フラツクス。
The drawings are all related to the present invention; - Figure 1 is a schematic diagram of a flux supply device implementing the present invention, Figure 2 is an explanatory diagram thereof, and Figure 3 is a drawing showing the main parts. be. 1...Flux storage tank, 3...
Cylindrical body, 4... Opening, 9... First drip device, 10... Second drip device, 15...
・Overflow tongue length 16...Flux application pin, 18...Spring, 20...
Lid means, 21... moving body, Fl, F2, F3,
F4...Flux.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 フラックス溜めタンクに点滴装置からフラックスを
滴下し、且つ前記タンク内のフラックスが一定以上にな
るとこれをオーバーフロータンクへ導いて前記フラック
ス溜めタンク内のフラックスを常に一定量に保持するよ
うに構成すると共に、前記フラックス溜めタンクに開口
部を設け、一方半田付けのために該タンク内のフラック
スの少量を付着して前記タンクから外部に持ち出すべく
移動するフラックス塗布用ピンに挿入時に前記開口部を
施蓋する蓋手段を設けたフラックス供給装置。 2 前記開口部は筒体を有し、前記蓋手段はフラックス
塗布用ピンの挿入時に前記筒体の上端に係止する形とな
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のフラッ
クス供給装置。 3 前記フラックス塗布用ピンは上下方向に移動すると
共に前記タンクから引き出した状態においては水平方向
にも動きうる移動体に支持せられていることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載のフラックス供給装置。 4 前記塗布用ピンはバネにより下方に付勢されている
ことを特徴とする特許請求の範囲第3項記載のフラック
ス供給装置。 5 前記蓋手段はフッ素系ゴムによつて形成されたもの
であることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載のフ
ラックス供給装置。
[Claims] 1. Dripping flux from a dripping device into a flux storage tank, and when the flux in the tank exceeds a certain level, guides the flux to an overflow tank to maintain the flux in the flux storage tank at a constant level. The flux storage tank is configured to have an opening, and when inserted into a flux application pin which is moved to deposit a small amount of flux in the tank and bring it out of the tank for soldering. A flux supply device provided with a lid means for covering the opening. 2. The flux supply according to claim 1, wherein the opening has a cylindrical body, and the lid means is configured to lock onto the upper end of the cylindrical body when a flux application pin is inserted. Device. 3. The flux according to claim 1, wherein the flux application pin is supported by a movable body that can move vertically and also move horizontally when pulled out from the tank. Feeding device. 4. The flux supply device according to claim 3, wherein the application pin is urged downward by a spring. 5. The flux supply device according to claim 4, wherein the lid means is made of fluorine rubber.
JP4928879A 1979-04-20 1979-04-20 flux supply device Expired JPS5911385B2 (en)

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JPS55141373A JPS55141373A (en) 1980-11-05
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