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JPS5916702B2 - image intensifier - Google Patents
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JPS5916702B2 - image intensifier - Google Patents

image intensifier

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JPS5916702B2
JPS5916702B2 JP6222177A JP6222177A JPS5916702B2 JP S5916702 B2 JPS5916702 B2 JP S5916702B2 JP 6222177 A JP6222177 A JP 6222177A JP 6222177 A JP6222177 A JP 6222177A JP S5916702 B2 JPS5916702 B2 JP S5916702B2
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JP
Japan
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phosphor layer
substrate
image
phosphor
input screen
Prior art date
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JP6222177A
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JPS53148270A (en
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浩志 鷲田
富也 薗田
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Toshiba Corp
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/10Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
    • H01J29/36Photoelectric screens; Charge-storage screens
    • H01J29/38Photoelectric screens; Charge-storage screens not using charge storage, e.g. photo-emissive screen, extended cathode
    • H01J29/385Photocathodes comprising a layer which modified the wave length of impinging radiation

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  • Image-Pickup Tubes, Image-Amplification Tubes, And Storage Tubes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はγ線、X線などの対数線像を可視像に変換する
像増強管ζζ係り特番こ入力スクリーンの改良に関する
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an improvement of a special number input screen for an image intensifier ζζ which converts logarithmic ray images such as γ-rays and X-rays into visible images.

γ電、X線などの高エネルギー放射線を光線に変換して
より明るい可視像を得る像増強管は前記放射線をこよる
像を光電子像(こ変換する入力スクリーンと、入力スク
リーンから放射された光電子像を可視像に変換する出力
スクリーンを備えている。
The image intensifier tube converts high-energy radiation such as gamma electrons and X-rays into light beams to produce a brighter visible image. It is equipped with an output screen that converts the photoelectronic image into a visible image.

このような像増強管は解像度の良い可視像を得るこ七が
望まれるがこれは入力スクリーンに照射した放射線像が
如何に忠実に光電チ剰こ変換されるかにかかつている。
It is desirable for such an image intensifier tube to be able to obtain a visible image with good resolution, but this depends on how faithfully the radiation image irradiated onto the input screen is photoelectrically converted.

通常、入力スクリーンは放射線像を透過しやすい基板と
して例えばアルミニウムを用い、この基板上に放射線に
よって効率よく発光するアルカリ・・ライド螢光体層を
蒸着によって形成し、さらにこの螢光体層上にこの螢光
体の発光に感応する物質例えばアンチモン−セシウム(
Sb−Cs)からなる光電面によって構成されている。
Normally, an input screen uses aluminum as a substrate that easily transmits radiation images, and on this substrate, an alkali-ride phosphor layer that emits light efficiently by radiation is formed by vapor deposition, and then on this phosphor layer. Substances sensitive to the luminescence of this phosphor, such as antimony-cesium (
It is composed of a photocathode made of (Sb-Cs).

しかして従来、上述の技術課題を解決する手段として基
板から夫電面に向って蒸着される螢光体層に多数の亀裂
を入れて螢光体ブロック(柱状結晶の束)の集合体でな
る螢光体層としブロック間で螢光体層内での発光の散乱
を抑止して解像度の向上を図る方法が知られている。
Conventionally, as a means to solve the above-mentioned technical problems, a large number of cracks are created in the phosphor layer that is deposited from the substrate toward the diode surface, and the phosphor layer is formed into an aggregate of phosphor blocks (bundles of columnar crystals). A method is known in which the resolution is improved by forming a phosphor layer between blocks and suppressing scattering of light emitted within the phosphor layer.

すなわち螢光体層の発光を螢光体ブロック内でのみ散乱
させることにより光を光電面へ導き螢光体ブロックに光
誘導効果を持た+!:たものである。
In other words, by scattering the light emitted from the phosphor layer only within the phosphor block, the light is guided to the photocathode and the phosphor block has a light guiding effect! :It's something.

第1図はこのような螢光体層を有する入力スクリーンの
一部を示す。
FIG. 1 shows a portion of an input screen with such a phosphor layer.

すなわちこの入力スクリーンはアルミニウム基板11上
に沃化セシウ1ムからなる螢光体層12を蒸着した後、
基板11と螢光体層12との熱膨張係数の差を利用し熱
ショックを与えて螢光体層12に亀裂13を入れた構造
である。
That is, this input screen is made by depositing a phosphor layer 12 made of cesium iodide on an aluminum substrate 11, and then
This structure uses the difference in thermal expansion coefficient between the substrate 11 and the phosphor layer 12 to apply a thermal shock to create cracks 13 in the phosphor layer 12.

しかしこの入力スクリーンは次の欠点を有する。However, this input screen has the following drawbacks.

(1)亀裂は基板温度との基板温度より高い螢光体層の
上表面温度との差による歪によって生じさせる為、螢光
体層の上表面から発生し易く、基板の近くまで亀裂を入
れることが難しい。
(1) Cracks are caused by strain caused by the difference between the substrate temperature and the upper surface temperature of the phosphor layer, which is higher than the substrate temperature, so cracks tend to occur from the upper surface of the phosphor layer and extend close to the substrate. It's difficult.

従って解像度の向上に最も寄与する基板側からの亀裂に
よる螢光体ブロックがあまり形成できず、例えば点A2
点Bで発光した光は矢印で示すように散乱し光誘導作用
(こよる効果が不充分となる。
Therefore, phosphor blocks due to cracks from the substrate side, which contribute most to improving resolution, cannot be formed much, and for example, point A2
The light emitted at point B is scattered as shown by the arrow, and the light guiding effect becomes insufficient.

例えばこの人力スクリーンを用いたX線螢光増倍管の解
像度は28〜301P/cIrLである。
For example, the resolution of an X-ray fluorescence multiplier using this manual screen is 28 to 301 P/cIrL.

(2)亀裂の発生手段が温度制御によるため亀裂の再現
性に乏しく安定した品質の入力スクリーンを得ることが
難しい。
(2) Since the means for generating cracks is based on temperature control, the reproducibility of cracks is poor and it is difficult to obtain an input screen of stable quality.

さらに螢光体層に亀裂を生じさせる公知技術として例え
ばアルミニウム基板に銅線のような金属線を縦横に編ん
でなるメツシュを圧着し、この銅線上に沃化セシウムを
蒸着した螢光体ブロック(柱状結晶の束)の集合体より
なる螢光体層を得る方法があるが次の欠点を有する。
Further, as a known technique for creating cracks in the phosphor layer, for example, a mesh made of metal wires such as copper wires woven vertically and horizontally is bonded to an aluminum substrate, and cesium iodide is deposited on the copper wires to form a phosphor block ( There is a method for obtaining a phosphor layer consisting of an aggregate of columnar crystals (bundles of columnar crystals), but it has the following drawbacks.

(1) メツシュ上に形成された螢光体層の表面は金
属線間の空間に対応する面がへこむため螢光体層の全体
の上表面は凹凸をなし光電面の特性に悪影響を及ぼす。
(1) Since the surface of the phosphor layer formed on the mesh is concave in the area corresponding to the space between the metal wires, the entire upper surface of the phosphor layer is uneven, which adversely affects the characteristics of the photocathode.

(2)入力スクリーンは、通常、光電子像を効率よく出
力スクリーンに可視像として再現するためドーム状の基
板を使用するがこのように湾曲した基板上(こしわを生
ずることなくメツシュを圧着することが困難である。
(2) The input screen usually uses a dome-shaped substrate in order to efficiently reproduce the photoelectronic image as a visible image on the output screen. It is difficult to do so.

従って、このような欠点を有する入力スクリーンは実用
に至らず実験的に試みられているに過ぎない。
Therefore, input screens having such drawbacks have not been put to practical use and have only been experimentally attempted.

さらに他の公知技術として第2図に示すように既知の写
真蝕刻技術を用いて基板21上へ格子状の凸部22と凹
部23を交互に設け、この凸部22及び凹部23の上に
沃化セシウムy<蒸着して螢光体ブロック(柱状結晶の
束)25a、25bの集合体よりなる螢光体層24を得
る方法がある。
Furthermore, as another known technique, as shown in FIG. 2, grid-like protrusions 22 and recesses 23 are alternately provided on a substrate 21 using a known photolithographic technique, and the protrusions 22 and recesses 23 are covered with an ink layer. There is a method of obtaining a phosphor layer 24 consisting of an aggregate of phosphor blocks (bundles of columnar crystals) 25a and 25b by vapor-depositing cesium oxide (y).

しかしこの方法は螢光体ブロック25a、25b間の区
画が不明瞭であるため光誘導作用が少なくまた上述の基
板にメツシュを圧着して螢光体ブロックを得る方法と同
様に螢光体層24の上表面に凹凸を生ずるため光電面の
特性に悪影響を及ぼす欠点がある。
However, in this method, the division between the phosphor blocks 25a and 25b is unclear, so the light guiding effect is small, and the phosphor layer 25 is It has the disadvantage that it causes unevenness on the upper surface of the photocathode, which adversely affects the characteristics of the photocathode.

本発明は上述の従来の欠点を除去して新規な構造を有し
解像度を大幅に向上せしめ、また高画質を与える入力ス
クリーンを備えた優れた像増強管を提供することを目的
とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to eliminate the above-mentioned drawbacks of the prior art and to provide an excellent image intensifier tube having a novel structure, greatly improving resolution, and having an input screen that provides high image quality. be.

第3図は本発明をX線像から光像に変換するX線螢光増
倍管に適用したものである。
FIG. 3 shows the present invention applied to an X-ray fluorescence multiplier tube that converts an X-ray image into a light image.

すなわち、このX線螢光増倍管はガラスよシなる外囲器
31と、このガラス外囲器31内に配設された入力スク
リーン32、出力スクリーン33、集束電極34及び加
速電極35等よりなる。
That is, this X-ray fluorescence multiplier tube includes an envelope 31 made of glass, and an input screen 32, an output screen 33, a focusing electrode 34, an accelerating electrode 35, etc. disposed within the glass envelope 31. Become.

しかしてX線36が被写体37に照射され、被写体37
のX線吸収能により二次元的に変調されたX線像が外囲
器31を透過し入力スクリーン32の螢光体層39で光
を発する。
Therefore, the X-ray 36 is irradiated onto the subject 37, and the subject 37
An X-ray image modulated two-dimensionally by the X-ray absorption ability of the input screen 32 passes through the envelope 31 and emits light at the phosphor layer 39 of the input screen 32.

この光は保護膜40を透過し、光電面41から光電子4
2を放出する。
This light passes through the protective film 40, and from the photocathode 41 the photoelectrons 4
Releases 2.

光電子42は集束電極35により加速されて出力スクリ
ーン33上に入力スクリーンで得られた光像よシ数千倍
明るい光像を再現する。
The photoelectrons 42 are accelerated by the focusing electrode 35 and reproduce on the output screen 33 an optical image several thousand times brighter than the optical image obtained on the input screen.

本発明において、入力スクリーン32は第4図に示す様
な構造を有する。
In the present invention, the input screen 32 has a structure as shown in FIG.

即ち基板321と、この基板321の一表面に形成され
た多数のモザイク構造322(図において2点鎖線で示
す位置より上部の基板構造)を区画する微細な溝部32
3と、1前記モザイク構造面上に蒸着されこの面にほぼ
垂直方向に延びた柱状結晶の沃化セシウムや沃化カリウ
ム等のアルカリ・・ライドからなる第1の螢光体層、3
24と、この第1の螢光体層324上に蒸着された光透
過性の中間薄膜325と、更にこの中間薄膜325上に
ほぼ垂直方向に延びた柱状結晶の沃化セシウムや沃化カ
リウム等のアルカリハライドからなる第2の螢光体層J
λJと、この第2の螢光体層326上に蒸着された光透
過能のある保護膜40を介して形成された光電面41と
からなる。
That is, a fine groove 32 that partitions a substrate 321 and a large number of mosaic structures 322 formed on one surface of this substrate 321 (the substrate structure above the position indicated by the two-dot chain line in the figure).
3, and 1 a first phosphor layer made of an alkali metal such as cesium iodide or potassium iodide in columnar crystals deposited on the mosaic structure surface and extending substantially perpendicular to the surface;
24, a light-transmissive intermediate thin film 325 deposited on the first phosphor layer 324, and columnar crystals of cesium iodide, potassium iodide, etc. extending substantially perpendicularly on the intermediate thin film 325. A second phosphor layer J consisting of an alkali halide of
λJ, and a photocathode 41 formed on the second phosphor layer 326 via a light-transmitting protective film 40 .

しかして前記第1の螢光体層324は溝部323によっ
て区画されるモザイク構造322,322間の亀裂32
9によってそれぞれ光学的に独立した螢光体ブロック(
柱状結晶の束)330を有する。
Thus, the first phosphor layer 324 has a crack 32 between the mosaic structures 322, 322 defined by the groove 323.
9, each optically independent phosphor block (
bundle of columnar crystals) 330.

中間薄膜325は、第1の螢光体層324の螢光体ブロ
ック330.330間の亀裂329の上部(但し基板3
21側を下部とする)Iこ一部入り込み、螢光体ブロッ
ク同士を隔絶する役目を果たしている。
The intermediate thin film 325 is formed over the cracks 329 between the phosphor blocks 330, 330 of the first phosphor layer 324 (but not on the substrate 3).
(21 side is the lower part) Part I enters into the hole and plays the role of isolating the phosphor blocks from each other.

また第2の螢光体層326の中間薄膜に近い部分はくさ
び状亀裂331が存在するが、保護膜40に近い表面側
には亀裂は存在しない。
Further, a wedge-shaped crack 331 exists in a portion of the second phosphor layer 326 near the intermediate thin film, but no crack exists on the surface side near the protective film 40.

この様な構造の入力スクリーンを用いる事により、解像
度特性が良く、且つ光電面41が一様に形成されて、画
質の良いX線螢光増倍管を安定して得る事が出来る。
By using an input screen having such a structure, the resolution characteristics are good and the photocathode 41 is formed uniformly, so that an X-ray fluorescence multiplier tube with good image quality can be stably obtained.

一般にアルカリハライド螢光体は他の螢光体例えば硫化
亜鉛螢光体や希土類螢光体等に較べて、融点が低く(沃
化セシウムの場合621℃)、X線螢光増倍管を排気す
る時のベーキング工程に於いてベーキング温度ヲ高くす
ると結晶の融合が起り易く、螢光体ブロック330゜3
30間の亀裂が消滅し易い。
In general, alkali halide phosphors have a lower melting point (621°C in the case of cesium iodide) than other fluorescers, such as zinc sulfide phosphors and rare earth phosphors, and the X-ray fluorophor tube is evacuated. In the baking process when baking, if the baking temperature is high, crystal fusion will easily occur, and the phosphor block 330°3
Cracks between 30 and 30 degrees are easy to disappear.

ここで亀裂が消滅すると前述の光誘導効果がなくなり解
像度が悪くなる。
When the crack disappears, the above-mentioned light guiding effect disappears and the resolution deteriorates.

本発明は、螢光体ブロック同士の融合を防止した構造の
入力スクリーンを有するX線螢光増倍管を与えるもので
ある。
The present invention provides an X-ray fluorophore multiplier having an input screen structured to prevent fusion of fluorophore blocks.

特に第1の螢光体層は、解像度の向上を目的としており
、また第2の螢光体層は、光電面の一様性を目的として
おり、二つの目的を構造に結びつけている為、解像度及
び光電面の一様性について特性の良いものを安定して得
る事が出来る。
In particular, the purpose of the first phosphor layer is to improve resolution, and the purpose of the second phosphor layer is to improve the uniformity of the photocathode, combining these two purposes into the structure. It is possible to stably obtain good characteristics in terms of resolution and uniformity of the photocathode.

以下本発明の一実施例を第4図及び第5図を参照して説
明する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 4 and 5.

先ス厚さ0゜5朋のアルミニウム基板321の、後に螢
光体層を形成する面に陽極酸化処理を施す。
First, the surface of the aluminum substrate 321 with a thickness of 0.5 mm on which the phosphor layer will be formed later is anodized.

陽極酸化は例えば3%酸水溶液中で基板321を十とし
、アルミニウムを対向電極さして約2時間I A/am
20通電を行なう。
For example, the anodization is carried out in a 3% acid aqueous solution with the substrate 321 as the substrate and aluminum as a counter electrode for about 2 hours at IA/am.
20 Electrification is carried out.

次いで沸とう水中で約2時開封孔処理を行なう。Then, the hole is opened in boiling water for about 2 hours.

この封孔処理により結晶水を含んだ酸化アルミニウム層
が基板表面に形成される。
Through this sealing treatment, an aluminum oxide layer containing crystal water is formed on the substrate surface.

これに更に250℃以上の熱処理を施す事によシ、微細
な溝323によって区画されたモザイク構造322を有
する表面が形成される。
By further subjecting this to heat treatment at 250° C. or higher, a surface having a mosaic structure 322 defined by fine grooves 323 is formed.

ここで上記の条件では溝巾は約3〜7μ、溝の深さは約
10μとなる。
Under the above conditions, the groove width is about 3 to 7μ, and the groove depth is about 10μ.

この様にして得られた基板の斜視図を第5図に示す。A perspective view of the substrate thus obtained is shown in FIG.

尚この場合モザイク構造の1個の大きさは、50〜10
0μのものが大部分である。
In this case, the size of each mosaic structure is 50 to 10
Most of them have a value of 0μ.

次に真空中で前記処理を終了した基板表面ζこ沃化セシ
ウム螢光体を蒸着速度3〜6μら例えばμmA’J−1
基板温度40〜150℃例えば100℃で150μの厚
さに蒸着し、第1の螢光体層324は基板321のモザ
イク構造322面に直径が1〜5μmの柱状結晶が成長
し、基板321の溝323の部分に形成される亀裂32
9によって柱状結晶の束からなる螢光体ブロック330
が基板から略垂直方向に形成されて行く。
Next, a cesium iodide phosphor is deposited on the surface of the substrate after the above treatment in vacuum at a rate of 3 to 6 μm, e.g., μmA'J-1.
The first phosphor layer 324 is deposited to a thickness of 150 μm at a substrate temperature of 40 to 150° C., for example, 100° C., and the first phosphor layer 324 is formed by growing columnar crystals with a diameter of 1 to 5 μm on the mosaic structure 322 surface of the substrate 321. Crack 32 formed in groove 323
9, a phosphor block 330 consisting of a bundle of columnar crystals
is formed substantially perpendicularly from the substrate.

次に中間薄膜として、酸化アルミニウム薄膜を蒸着法に
より形成する。
Next, as an intermediate thin film, an aluminum oxide thin film is formed by vapor deposition.

厚さは、100A〜1μm例えば500Aである。The thickness is 100A to 1 μm, for example 500A.

この時、酸化アルミニウムは、螢光体ブロック330の
上表面を覆う様に形成され、亀裂329の上部332に
も入り込む。
At this time, aluminum oxide is formed to cover the upper surface of the phosphor block 330 and also enters the upper part 332 of the crack 329.

次いで沃化セシウム螢光体を蒸着速度3〜6μル恰、例
えば5μ〜勿斉板温度200〜300℃例えば250℃
にて、50μmの厚さに蒸着し、第2の螢光体層326
とする。
Next, a cesium iodide phosphor is deposited at a rate of 3 to 6μ, for example 5μ to a temperature of 200 to 300℃, for example 250℃.
The second phosphor layer 326 is deposited to a thickness of 50 μm at
shall be.

第2の螢光体層326は、第1の螢光体層324中の亀
裂329に対応する部分には、微細なくさび状の亀裂3
31が出来るが、上部にむかうζこ従い消滅する。
The second phosphor layer 326 has fine wedge-shaped cracks 3 in the portions corresponding to the cracks 329 in the first phosphor layer 324.
31 is formed, but it disappears as ζ moves towards the top.

従って第2の螢光体層の上部には亀裂はない。There are therefore no cracks on top of the second phosphor layer.

第2の螢光体層の上には、酸化アルミニウムの薄膜を1
00A〜1μm例えば500Aの厚さに蒸着形成し、保
護膜40とする。
On top of the second phosphor layer, a thin film of aluminum oxide is applied.
The protective film 40 is formed by vapor deposition to a thickness of 00A to 1 μm, for example, 500A.

保護膜40上には光電面41が形成されて入力スクリー
ン32となる。
A photocathode 41 is formed on the protective film 40 and becomes the input screen 32.

以上の様な入力スクリーンをX線螢光増倍管内に配置す
る事により、解像度特性が43〜451P/CIrLの
もので、光電面の一様性が良いものが、安定して得る事
が出来た。
By arranging the input screen as described above inside the X-ray fluorescence multiplier tube, it is possible to stably obtain a resolution characteristic of 43 to 451P/CIrL and a good uniformity of the photocathode. Ta.

特に第1の螢光体層は解像度の向上を、第2の螢光体層
は光電面の一様性を夫々目的機能としたものであり、そ
の分担をはっきり構造に結びつけたために優れた特性の
ものを安定して得る事が出来る。
In particular, the purpose of the first phosphor layer is to improve resolution, and the second phosphor layer's purpose is to improve the uniformity of the photocathode, and their roles are clearly linked to the structure, resulting in excellent properties. You can get things stably.

尚、本発明に用いる第1の螢光体層のブロック構造は必
らずしも前記の実施例のみに限定されるものではない。
Note that the block structure of the first phosphor layer used in the present invention is not necessarily limited to the above embodiments.

例えば、先に述べた従来例のうち、基板と螢光体層の熱
膨張係数の差を利用したものがあるが、この方法は螢光
体層が薄い場合(例えば100μm以下)には、割合安
定してブロック構造を作る事が出来る。
For example, among the conventional methods mentioned above, there is a method that takes advantage of the difference in thermal expansion coefficient between the substrate and the phosphor layer, but this method does not work well when the phosphor layer is thin (for example, 100 μm or less). Block structures can be created stably.

即ち第6図(こ示す様に、モザイク構造を有しない基板
621上にブロック構造を有する第1の螢光体層624
を形成し、その上に中間薄膜625を形成し、その上に
第2の螢光体層626を形成する。
That is, as shown in FIG. 6, a first phosphor layer 624 having a block structure is formed on a substrate 621 without a mosaic structure.
An intermediate thin film 625 is formed thereon, and a second phosphor layer 626 is formed thereon.

更にその上に保護膜40と光電面41を形成する。Furthermore, a protective film 40 and a photocathode 41 are formed thereon.

この様な構造の入力スクリーンが先に述べた実施例と同
じ効果を有する事は容易に類推できる。
It can be easily inferred that an input screen having such a structure has the same effect as the previously described embodiment.

また、光電面の一様性及び安定性を目的とした第7図に
示す構造の入力スクリーンを有する像増強管もまた本発
明に含まれる。
Also included in the invention is an image intensifier tube having an input screen of the structure shown in FIG. 7 for purposes of photocathode uniformity and stability.

即ち、螢光体層の表面が吸湿により変質するのを防ぐ為
、第2の螢光体層726として吸湿し難い螢光体を用い
る。
That is, in order to prevent the surface of the phosphor layer from deteriorating due to moisture absorption, a phosphor that does not easily absorb moisture is used as the second phosphor layer 726.

次に実施例について述べる。Next, examples will be described.

第1の螢光体層725は、例えば、輝度の高い2×10
〜10 モル比の沃化ナトリウムを付活剤として含む沃
化セシウム螢光体よりなり、第2の螢光体層726は、
例えば10〜2刈04モル比の沃化ナトリウムを付活剤
として含む沃化セシウム螢光体よりなる。
The first phosphor layer 725 has, for example, 2×10
The second phosphor layer 726 is made of a cesium iodide phosphor containing sodium iodide in a molar ratio of ˜10 as an activator.
For example, it is made of a cesium iodide phosphor containing sodium iodide in a molar ratio of 10 to 204 as an activator.

沃化ナトリウムを多く含むと吸湿し易いが、前記構造に
より、吸湿を防ぎ、螢光体層の表面を滑らかに保ち光電
面の一様性及び安定性に寄与する。
Although a large amount of sodium iodide tends to absorb moisture, the structure prevents moisture absorption, keeps the surface of the phosphor layer smooth, and contributes to the uniformity and stability of the photocathode.

ここで中間薄膜725は、第1の螢光体層を構成する物
質と第2の螢光体層を構成する物質との相互拡散を防止
する役目を果している。
Here, the intermediate thin film 725 serves to prevent mutual diffusion between the substance constituting the first phosphor layer and the substance constituting the second phosphor layer.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来のX線螢光増倍管用人カスクリーンの一部
を示す断面図、第2図は従来の他のX線螢光増倍管用人
カスクリーンの一部を示す断面図、第3図は本発明の一
実施例のX線螢光増倍管を示す概略図、第4図は本発明
に係る入力スクリーンの一部を示す断面図、第5図は本
発明に係る入力スクリーンにおける基板の一実施例を示
す斜視図、第6図及び第7図は本発明に係る入力スクリ
ーンの他の実施例を示す断面図である。 32・・・入力スクリーン、321・・・基板、324
・・・第1の螢光体層、325・・・中間薄膜、326
・・・第2の螢光体層、40・・・保護膜、41・・・
光電面。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a part of a conventional human cover screen for an X-ray fluorescence multiplier tube, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing a part of a conventional human cover screen for an X-ray fluorescence multiplier tube. FIG. 3 is a schematic diagram showing an X-ray fluorescence multiplier tube according to an embodiment of the present invention, FIG. 4 is a sectional view showing a part of an input screen according to the present invention, and FIG. 5 is an input screen according to the present invention. A perspective view showing one embodiment of the substrate in the screen, and FIGS. 6 and 7 are cross-sectional views showing other embodiments of the input screen according to the present invention. 32... Input screen, 321... Board, 324
... first phosphor layer, 325 ... intermediate thin film, 326
...Second phosphor layer, 40...Protective film, 41...
Photocathode.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 放射線像を電子線像に変換する入力スクリーンと、
前記電子線像を加速集束させる電子光学系と、その加速
集束された電子線像を可視像に変換する出力螢光面より
なる像増強管をこおいて、前記入力スクリーンは、基板
と、この基板の一表面に形成された第1の螢光体層と、
この第]の螢光体層上に形成された透光性薄膜と、この
透光性薄膜上に形成された第2の螢光体層と、この第2
の螢光体層上に形成された光電面とよりなることを特徴
とする像増強管。 2 前記入力スクリーンを構成する二つの螢光体層のう
ち少なくとも第1の螢光体層がブロック構造を有する事
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の像増強管。 3 前記基板の一表面がモザイク構造を有し、前記第1
の螢光体層が前記モザイク構造に従ってブロック構造を
有する事を特徴とする特許請求の範囲第2項記載の像増
強管。 4 第2の螢光体層の少なくともその上層部はブロック
構造を有していない車を特徴とする特許請求の範囲第3
項記載の像増強管。 5 第1の螢光体層と第2の螢光体層が異なる組成の材
料よりなる事を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
像増強管。
[Claims] 1. An input screen that converts a radiation image into an electron beam image;
The input screen includes a substrate, an electron optical system that accelerates and focuses the electron beam image, and an image intensifier tube that includes an output fluorescent surface that converts the accelerated and focused electron beam image into a visible image. a first phosphor layer formed on one surface of the substrate;
a transparent thin film formed on this first phosphor layer, a second phosphor layer formed on this transparent thin film, and a second phosphor layer formed on this second phosphor layer;
An image intensifier tube comprising a photocathode formed on a phosphor layer. 2. The image intensifier tube according to claim 1, wherein at least the first phosphor layer of the two phosphor layers constituting the input screen has a block structure. 3. One surface of the substrate has a mosaic structure, and the first
3. An image intensifier tube according to claim 2, wherein the phosphor layer has a block structure according to the mosaic structure. 4. Claim 3, characterized in that at least the upper layer of the second phosphor layer does not have a block structure.
Image intensifier tube as described in section. 5. The image intensifier tube according to claim 1, wherein the first phosphor layer and the second phosphor layer are made of materials with different compositions.
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