JPS5919149B2 - Photosensitive silicone release agent composition - Google Patents
Photosensitive silicone release agent compositionInfo
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- JPS5919149B2 JPS5919149B2 JP3821476A JP3821476A JPS5919149B2 JP S5919149 B2 JPS5919149 B2 JP S5919149B2 JP 3821476 A JP3821476 A JP 3821476A JP 3821476 A JP3821476 A JP 3821476A JP S5919149 B2 JPS5919149 B2 JP S5919149B2
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- release agent
- agent composition
- silicone release
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- Lubricants (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は感光性シリコーン剥離剤組成物に関するもので
ある。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to photosensitive silicone release agent compositions.
従来、粘着テープ、ラベルなどに用いる剥離紙の剥離剤
としては、シリコーン系の溶液型のものおよびエマルシ
ョン型のものが使用されてきた。両者共加熱硬化に数分
間を要し、作業上時間がかゝりすぎるという欠点があつ
た。また、硬化時に１２０℃から１８０℃に加熱するの
で、剥離紙の場合には、紙のしわやカールが生じ易い、
あるいはブロッキングがおこり易く冷却する必要がある
など種々作業上の欠点があつた。さらにまた、触媒とし
て金属の有機酸塩、酸、アルカリ、アミンなどを使用し
ているが、これが公害防止および作業性の面で大きな問
題となつてきた。これらの他に、溶液型の場合には、シ
リコーン樹５ 脂の濃度が４．５％重量から１５％重量
のため加熱硬化時に多量の溶剤蒸気を発生するので、大
気汚染防止という面から問題となつてきた。一方、エマ
ルション型のものについては、排水による水質汚濁を生
じるという問題が起きており、またグラ１０ シン紙に
塗布した時に平滑性が損なわれるという欠点があつた。
本発明者達は、これらの欠点を改善するため、触媒とし
て無害なものを用い、無溶剤かつ常温速硬化性の感光性
シリコーン剥離剤の開発を行ない、１５鋭意研究の結果
、本発明に至つたものである。Conventionally, silicone solution-type and emulsion-type release agents have been used for release paper used in adhesive tapes, labels, and the like. Both of them required several minutes to heat and harden, so they had the disadvantage of being too time consuming. Additionally, since it is heated from 120°C to 180°C during curing, release paper tends to wrinkle or curl.
In addition, there were various operational disadvantages such as blocking easily occurring and the need for cooling. Furthermore, organic acid salts of metals, acids, alkalis, amines, etc. are used as catalysts, but this has become a major problem in terms of pollution prevention and workability. In addition, in the case of solution type silicone resins, the concentration of the silicone resin is 4.5% to 15% by weight, which generates a large amount of solvent vapor during heat curing, which poses a problem from the perspective of preventing air pollution. I'm getting old. On the other hand, emulsion-type products have the problem of causing water pollution due to drainage water, and also have the disadvantage that smoothness is impaired when applied to glassine paper.
In order to improve these drawbacks, the present inventors developed a photosensitive silicone release agent that uses a harmless catalyst and is solvent-free and quickly cures at room temperature.As a result of 15 intensive studies, the present invention was achieved. It is ivy.
本発明におけるエポキシ基含有ポリオルガノシロキサン
とは、１分子中にエポキシ基を１個以上有するポリオル
ガノシロキサン、好ましくはポリジメチルシロキサンで
あり、エポキシ基の数と第２０ ルガノシロキサンの骨
格およ、び分子量とによつて種々の塗膜物性の離型性塗
膜を作ることができる。また、本発明における光の照射
によつてルイス酸を生成する芳香族ジアゾニウム化合物
とは芳香族ジアゾニウムのルイス酸塩であり、次に例示
す２５るジアゾニウムイオンとルイス酸イオンとからな
る。ジアゾニウムイオンの例としてはＰ−クロルベンゼ
ンジアゾニウムイオン、２、４−ジクロルベンゼンジア
ゾニウイオン、２、５−ジクロルベンゼンジアゾニウム
イオン、２、４、６、一トリ３０ クロルベンゼンジア
ゾニウムイオン、２｜４｜６｜−トリブロムベンゼンジ
アゾニウムイオン、０−ニトロベンゼンジアゾニウムイ
オン、Ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウムイオン、４−ニ
トロー０−トルエンジアゾニウムイオン、２−ニトロー
Ｐ−３５トリエッジアゾニウムイオン、６−ニトロー２
、４−キシレンジアゾニウムイオン、２−クロルー４−
（ジメチルアミノ）−５−メトキシベンゼンジアゾニウ
ムイオン、４−クロル−２，５−ジメトキシベンゼンジ
アゾニウムイオン、２，５−ジエトキシ−４−（Ｐ−エ
トキシフェニル）ベンゼンジアゾニウムイオン、２，５
−ジメトキシ−４一（Ｐ−トリル）ベンゼンジアゾニウ
ムイオン、２，５−ジエトキシ−４−（フエニルチオ）
−ベンゼンジアゾニウムイオン、２，５−ジエトキシ−
４−（Ｐ−トリルチオ）−ベンゼンジアゾニウムイオン
、Ｐ−モルモリノベンゼンジアゾニウムイオン、２，５
−ジクロル−４−モルホリノベンゼンジアゾニウムイオ
ン、２，５−ジメトキシ−４−モルホリノベンゼンジア
ゾニウムイオン、４一（ジメチルアミノ）−１−ナフタ
レンジアゾニウムイオン、などがある。ルイス酸イオン
とは、四塩化鉄（自）イオン（ＦｅＣｌ４）、六塩化ス
ズ（５）イオン（ＳｎＣｌ６２−）、四フツ化ホウ素イ
オン（ＢＦ４−）、、六フツ化リンイオン（ＰＦ６Ｄｌ
六フツ化アンチモン）イオン（ＳｂＦ６）、六塩化アン
チモン（Ｖ）イオン（ＳｂＣｌ６Ｄｌ五塩化ビスマス（
１１）イオン（Ｂｉｃｌ♂−）などである。紫外線照射
によつて生じる反応の機構は、である。The epoxy group-containing polyorganosiloxane in the present invention is a polyorganosiloxane having one or more epoxy groups in one molecule, preferably polydimethylsiloxane, and the number of epoxy groups, the skeleton of the 20th luganosiloxane, and Depending on the molecular weight, releasable coating films with various physical properties can be produced. Further, the aromatic diazonium compound that generates a Lewis acid upon irradiation with light in the present invention is a Lewis acid salt of aromatic diazonium, and is composed of a diazonium ion and a Lewis acid ion as shown in 25 below. Examples of diazonium ions include P-chlorobenzenediazonium ion, 2,4-dichlorobenzenediazonium ion, 2,5-dichlorobenzenediazonium ion, 2,4,6,1tri30chlorobenzenediazonium ion, 2| 4|6|-tribromobenzenediazonium ion, 0-nitrobenzenediazonium ion, P-nitrobenzenediazonium ion, 4-nitro 0-toluene diazonium ion, 2-nitro P-35 triediazonium ion, 6-nitro 2
, 4-xylene diazonium ion, 2-chloro-4-
(dimethylamino)-5-methoxybenzenediazonium ion, 4-chloro-2,5-dimethoxybenzenediazonium ion, 2,5-diethoxy-4-(P-ethoxyphenyl)benzenediazonium ion, 2,5
-dimethoxy-4-(P-tolyl)benzenediazonium ion, 2,5-diethoxy-4-(phenylthio)
-benzenediazonium ion, 2,5-diethoxy-
4-(P-tolylthio)-benzenediazonium ion, P-mormolinobenzenediazonium ion, 2,5
-dichloro-4-morpholinobenzenediazonium ion, 2,5-dimethoxy-4-morpholinobenzenediazonium ion, 4-(dimethylamino)-1-naphthalenediazonium ion, and the like. Lewis acid ions include iron (auto)tetrachloride ion (FeCl4), tin (5) hexachloride ion (SnCl62-), boron tetrafluoride ion (BF4-), and phosphorous hexafluoride ion (PF6Dl).
Antimony hexafluoride) ion (SbF6), antimony hexachloride (V) ion (SbCl6Dl bismuth pentachloride (
11) Ion (Bicl♂-), etc. The reaction mechanism caused by ultraviolet irradiation is as follows.
ここではＹは芳香族ジアゾニウムイオンの置換基を、Ｘ
はハロゲン原子を、ＭＸｎはルイス酸をそれぞれ表わす
。本発明による感光性シリコーン剥離剤組成物は、先に
例示したようなジアゾニウム化合物１〜１０重量部、好
ましくは２〜５重量部をエポキシ基含有ポリオルガノシ
ロキサン１００重量部に溶解または分散させるか、また
は少量の適当な溶媒、例えばアセトニトリルなどに溶解
して加えるかして調製する。Here, Y is a substituent of an aromatic diazonium ion, and
represents a halogen atom, and MXn represents a Lewis acid. The photosensitive silicone release agent composition according to the present invention can be prepared by dissolving or dispersing 1 to 10 parts by weight, preferably 2 to 5 parts by weight of a diazonium compound as exemplified above in 100 parts by weight of an epoxy group-containing polyorganosiloxane, or Alternatively, it can be prepared by dissolving it in a small amount of a suitable solvent such as acetonitrile and adding it.
得られた感光性シリコーン剥離剤組成物を紙、布等に塗
布し、紫外線を照射すると３秒間から２０秒間という短
時間で硬化する。紫外線照射による硬化であるため、紙
の加熱による従来品の諸欠点は生じないし、無溶剤であ
るので従来品の溶剤による諸問題は生じない。エポキシ
基含有オルガノシロキサンのエポキシ基数とエポキシ基
含有オルガノシロキサンの骨格および分子量とにより、
また添加するジアゾニウム化合物の量により、幅広い塗
膜物性を有する剥離性の塗膜が得られるという特長を有
する。また、得られた感光性シリコーン剥離剤組成物の
ポツトライフは２日間から１か月間以上と、従来品より
も長いポツトライフを有する。When the resulting photosensitive silicone release agent composition is applied to paper, cloth, etc. and irradiated with ultraviolet rays, it cures in a short time of 3 to 20 seconds. Since curing is done by ultraviolet irradiation, the various drawbacks of conventional products due to heating of the paper do not occur, and since it is solvent-free, the problems caused by solvents of conventional products do not occur. Depending on the number of epoxy groups in the epoxy group-containing organosiloxane and the skeleton and molecular weight of the epoxy group-containing organosiloxane,
It also has the advantage that a peelable coating film having a wide range of coating properties can be obtained depending on the amount of the diazonium compound added. Further, the obtained photosensitive silicone release agent composition has a pot life of 2 days to 1 month or more, which is longer than conventional products.
以下に実施例を示す。Examples are shown below.
例中部とは重量部を示す。実施例 １平均分子量５４２
、エポキシ当量２７１の液状のエポキシ基２個含有線状
ポリジメチルシロキサン１００部に、３部のＰ−クロ・
ルベンゼンジアゾニウム六フツ化リンを少量のアセトニ
トリルに溶解した液を加えよく混合した。Example "Central part" refers to parts by weight. Example 1 Average molecular weight 542
, 3 parts of P-chloro.
A solution of rubenzenediazonium phosphorus hexafluoride dissolved in a small amount of acetonitrile was added and mixed well.
得られた感光性シリコーン剥離剤組成物をロールコータ
ーで１５０μｍの膜厚になるようにアート紙に塗布し、
これに紫外線を１０秒間照射したところ、可撓性ある離
型性の極めて良好な塗膜が得られた。この感光性シリコ
ーン剥離剤組成物のポツトライフは２５℃で１週間以上
あつた。実施例 ２
エポキシ基２個とフエニル基１個とを含有する平均分子
量６７８、エポキシ当量３３９の液状線状ポリジメチル
シロキサン１００部に、Ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウ
ム四フツ化ホウ素５部を３本ロールで充分に混線分散さ
せ、これをロールコーターで１３５μｍの膜厚になるよ
うにアート紙に塗布した。The resulting photosensitive silicone release agent composition was applied to art paper using a roll coater to a film thickness of 150 μm.
When this was irradiated with ultraviolet rays for 10 seconds, a flexible coating film with extremely good mold releasability was obtained. The pot life of this photosensitive silicone release agent composition was more than one week at 25°C. Example 2 Three rolls of 5 parts of P-nitrobenzenediazonium boron tetrafluoride are sufficient for 100 parts of liquid linear polydimethylsiloxane containing 2 epoxy groups and 1 phenyl group, average molecular weight 678, and epoxy equivalent weight 339. This was applied to art paper using a roll coater to a film thickness of 135 μm.
これに紫外線を１８秒間照射したところ強靭で離型性の
良好な塗膜が得られた。この感光性シリコーン離型剤組
成物のポツトライフは２５℃で１５日間以上であつた。
実施例 ３
エポキシ基２個を含有する平均分子量６１６、エポキシ
当量３０８の液状分岐ポリジメチルシロキサン１００部
に、０−ニトロベンゼンジアゾニウム四塩化鉄１１）１
０部を溶解させ、これをロールコーターで２００μｍの
膜厚になるようにアート紙に塗布した。When this was irradiated with ultraviolet rays for 18 seconds, a tough coating film with good mold releasability was obtained. The pot life of this photosensitive silicone mold release agent composition was 15 days or more at 25°C.
Example 3 0-Nitrobenzenediazonium iron tetrachloride 11) 1 was added to 100 parts of a liquid branched polydimethylsiloxane containing two epoxy groups and having an average molecular weight of 616 and an epoxy equivalent of 308.
0 parts was dissolved and applied to art paper using a roll coater to a film thickness of 200 μm.
これに紫外線を５秒間照射したところ可撓性ある強靭な
離型性塗膜が得られた。この感光性シリコーン剥離剤組
成物のポツトライフは２５℃で２日間以上あつた。実施
例 ４
エポキシ基２個とフエニル基１個とを含有する平均分子
量６０４、エポキシ当量３０２の液状分岐ポリジメチル
シロキサン１００部に、２，４ジクロルベンゼンジアゾ
ニウム、六塩化スズＱＶ）７部をマーラで混線分散させ
、これをアプリケーターで２５０１！，ｍの膜厚になる
ようにアート紙に塗布した。When this was irradiated with ultraviolet rays for 5 seconds, a flexible and tough releasable coating film was obtained. The pot life of this photosensitive silicone release agent composition was 2 days or more at 25°C. Example 4 To 100 parts of a liquid branched polydimethylsiloxane containing two epoxy groups and one phenyl group and having an average molecular weight of 604 and an epoxy equivalent of 302, 7 parts of 2,4 dichlorobenzenediazonium and tin hexachloride (QV) were mixed with Malala. Distribute the crosstalk with 2501 with an applicator! , m in film thickness.
これに紫外線を２０秒間照射したところ、可撓性を有し
かつ強靭な離型性塗膜が得られた。この感光性シリコー
ン剥離剤組成物のポツトライフは２５℃で１か月間以上
であつた。実施例 ５
平均分子量７２２、エポキシ当量７２２のエポキシ基１
個含有の液状線状ポリジメチルシロキサン１００部に、
Ｐ−エトキシベンゼンジアゾニウム四塩化鉄（１１）４
部を溶解させ、これをロールコーターで１７５μｍの膜
厚になるようにアート紙に塗布した。When this was irradiated with ultraviolet rays for 20 seconds, a flexible and tough releasable coating film was obtained. The pot life of this photosensitive silicone release agent composition was over 1 month at 25°C. Example 5 Epoxy group 1 with average molecular weight 722 and epoxy equivalent weight 722
100 parts of liquid linear polydimethylsiloxane containing
P-ethoxybenzenediazonium iron tetrachloride (11) 4
This solution was applied to art paper using a roll coater to a film thickness of 175 μm.
Claims (1)
および光の照射によつてルイス酸を生成する芳香族ジア
ゾニウム化合物からなる感光性シリコーン剥離剤組成物
。 ２ 常温液状のエポキシ基含有ポリジメチルシロキサン
を用いる特許請求の範囲第１項記載の感光性シリコーン
剥離剤組成物。[Scope of Claims] 1. A photosensitive silicone release agent composition comprising an epoxy group-containing polyorganosiloxane that is liquid at room temperature and an aromatic diazonium compound that produces a Lewis acid upon irradiation with light. 2. The photosensitive silicone release agent composition according to claim 1, which uses an epoxy group-containing polydimethylsiloxane that is liquid at room temperature.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3821476A JPS5919149B2 (en) | 1976-04-07 | 1976-04-07 | Photosensitive silicone release agent composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3821476A JPS5919149B2 (en) | 1976-04-07 | 1976-04-07 | Photosensitive silicone release agent composition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52121661A JPS52121661A (en) | 1977-10-13 |
| JPS5919149B2 true JPS5919149B2 (en) | 1984-05-02 |
Family
ID=12519050
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3821476A Expired JPS5919149B2 (en) | 1976-04-07 | 1976-04-07 | Photosensitive silicone release agent composition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5919149B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3165136D1 (en) * | 1980-02-25 | 1984-09-06 | Minnesota Mining & Mfg | Epoxypolysiloxane release coatings for adhesive materials |
| DE3100053C2 (en) * | 1981-01-02 | 1986-05-15 | Karl 7298 Loßburg Hehl | Keyboard for operating the electronic control of a plastic injection molding machine |
-
1976
- 1976-04-07 JP JP3821476A patent/JPS5919149B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52121661A (en) | 1977-10-13 |
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