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JPS5924147B2 - Production method of new quinoxalinium salt - Google Patents
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JPS5924147B2 - Production method of new quinoxalinium salt - Google Patents

Production method of new quinoxalinium salt

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Publication number
JPS5924147B2
JPS5924147B2 JP48135455A JP13545573A JPS5924147B2 JP S5924147 B2 JPS5924147 B2 JP S5924147B2 JP 48135455 A JP48135455 A JP 48135455A JP 13545573 A JP13545573 A JP 13545573A JP S5924147 B2 JPS5924147 B2 JP S5924147B2
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group
formula
acid
compounds
solution
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バウマン ニクラウス
ペ−タ シユルンケ ハンス
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Ciba Geigy AG
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Publication date
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Publication of JPS5924147B2 publication Critical patent/JPS5924147B2/en
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Description

【発明の詳細な説明】 光重合を行う際に光重合の過程は、例えば線外波長また
は可視波長領域の照射により励起または開始される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION When photopolymerization is carried out, the photopolymerization process is excited or initiated, for example, by radiation in the infrared or visible wavelength range.

本発明者は研究の結果、エチレン状不飽和化合物を有利
な方法で重合することができる新しい触媒系を見出した
。この触媒系はジアジン化合物、好ましくはキノキサリ
ンと、これと光レドックス対として一緒に作用する電子
給体とから成るものである。この光レドックス対は、式
α:〕 ・・・(この式においてzは窒素原子であるか
、または水素原子または置換基を結合している炭素原子
である)で表わされる環系をもつたジアジン化合物(こ
のジアジン化合物は4級化されていてもよい)と電子給
体との対である。
As a result of research, the inventors have discovered a new catalyst system that allows ethylenically unsaturated compounds to be polymerized in an advantageous manner. The catalyst system consists of a diazine compound, preferably a quinoxaline, and an electron donor which together acts as a photoredox couple. This photoredox couple is a diazine with a ring system represented by the formula α:] ... (in which z is a nitrogen atom or a hydrogen atom or a carbon atom bonding a substituent). It is a pair of a compound (this diazine compound may be quaternized) and an electron donor.

光重合に使用する光線は200〜450nmの波長領域
のものである。前記式(リのジアジン化合物のうち4級
でないジアジン化合物はそれ自体多数知られている。例
えばキノキサリン、ピラジンまたはフエナジン、および
ベンゾフエナジンが挙げられる。これらの化合物は公知
の方法によつて作ることができる。これについてはA.
Weissberger著11TheChemistr
y0fHeter0cyc11cC0mp0unds1
1J.W11ey&SOns,.NewYOrk(19
53)のA.C.E.SimpsOnによる11C0n
densedPyridazineandPyrazi
neRings1の項:上記Weissbergerの
(1975)のG.A.SwanおよびD.G.Fel
tOnによる17Phenazines1の項;R.C
.Elderfield著11Heter0cy11c
C0mp0unds11J.Wi1ey&SOns,.
NewYOrk(1957)、第6巻、第377頁以下
のY.T.Prattによる項;同書第624頁以下の
−D.E.PearsOnによる項;同書(1961
)、第7巻、第720頁以下のJ.P.HOrwitz
による項を参照されたい。ジアジン化合物として以下の
一般式(2)〜(自)で表わされるジアジン化合物は好
ましい効果をもつ。
The light beam used for photopolymerization is in the wavelength range of 200 to 450 nm. Among the diazine compounds of the above formula, many non-quaternary diazine compounds are known per se. Examples include quinoxaline, pyrazine or phenazine, and benzophenazine. These compounds can be produced by known methods. Regarding this, see A.
11 The Chemistry by Weissberger
y0fHeter0cyc11cC0mp0unds1
1J. W11ey&SONs,. NewYOrk(19
53) A. C. E. 11C0n by SimpsOn
densePyridazineandPyrazi
neRings1 section: Weissberger's (1975) G. A. Swan and D. G. Fell
17 Phenazines 1 term by tOn; R. C
.. Written by Elderfield 11Heter0cy11c
C0mp0unds11J. Wiley & SOns,.
Y. NewYOrk (1957), Vol. 6, pp. 377 et seq. T. Section by Pratt; -D. E. Section by PearsOn; ibid. (1961
), vol. 7, p. 720 et seq. P. HOrwitz
Please refer to the section by As diazine compounds, diazine compounds represented by the following general formulas (2) to (self) have favorable effects.

〕前記一般式(2)H8)で表わされる化合物が4級
化合物であるとき( n=2、U = )N −Y、下
記参照)には、それぞれ陽イオンに2種類の異性体がで
きる。例えば式および (上の2式においてZ1 失CHである)で表わされる
化合物がある。
] When the compound represented by the general formula (2) H8) is a quaternary compound (n=2, U=)N-Y, see below), two types of isomers are formed for each cation. For example, there are compounds represented by the formula and (in the above two formulas, Z1 is missing CH).

前記各式においてそれぞれの記号は一貫して同じ意味を
持つがnは数1および2であり、Z1は窒素原子である
かまたは基゛ は下記参照)であり、 2個のUのうちの一方は窒素原子であつて、他方はn=
1のときは同じく窒素原子であるが、n=2のときは基
TN+であり、Yは場合により更に置換されていること
のあるアルキル基であり、2個のU1のうちの一方は窒
素原子であつて、他方はn=1のときは同じく窒素原子
であるが、n=2のときには基+N叶であり、2個のU
2のうちの一方は窒素原子であつて、他方は基十百→で
あり、R1およびR2は互いに独立して水素原子、場合
により更に置換されているアルキル基、アルコキシ基、
アロイル基、アリールオキシ基またはアラルコキシ基(
アルキル基の置換基としては例えばハロゲン原子、アシ
ルアミノ基、アシルオキシ基、ヒドロキシル基、アルコ
キシ基、アルキルスルフリル基、アルキルテオニル基、
シアノ基、カルボン酸アルキルエステル基およびカルボ
ン酸アミド基が挙げられ、アリール基好ましくはベンゼ
ン基の置換基としてはメチル基、ハロゲン原子例えば塩
素原子、メトキシ基、アシルアミノ基、アシルオキシ基
、ヒドロキシル基、トリアルキルシリル基、カルボン酸
アルキルエステル基、カルボン酸アミド基、アルキルス
ルフリル基、アルキルチオニル基、アリールスルフリル
基、アリールスルホニル基、シアノ基およびスルホン酸
基が挙げられる)であるか、またはR1およびR2が環
(1)の炭素原子2個と{になつて複素環または同素環
(例えば次式参照)を形成してもよく、 RllおよびR2lは更に置換されているかまたは置換
されていない(R1およびR2の場合を参照)ベンゼン
基、ベンゾイル基、場合により更に置換されているメチ
ル基または水素原子であるか、またはRllおよびR2
lが環()の炭素原子2個と{になつて5員または6員
の複素環または同素環を形成してもよく、Rl2および
R22はフエニル基、ベンゾイル基、フエニルスルホン
酸基、ヒドロキシメチル基または水素原子であり、Rl
3およびR22は共にフエニル基またはメチル基であり
、R3、R4およびR5は互いに独立して水素原子、場
合により更に置換されているアルキル基、アルコキシ基
、アリールオキシ基またはアラルコキシ基(置換基につ
いてはR1およびR2の場合を参照)、ハロゲン原子、
ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、場合により更に
置換されているアミノ基(例えばアシルアミノ基、モノ
一またはジアルキルアミノ基)、アルキルアンモニウム
基、カルボン酸基、カルボン酸アミド基、カルボン酸ア
ルキルエステル基またはスルホン酸基であるか、または
R3、R4およびR5のうちの2つの基が環([[)の
隣接炭素原子2個と一緒になつて同素環または複素環を
形成してもよく、R/3、R′4およびR′5はこの3
つの基のうちの一つはR3、R4およびR5について先
に述べた定義のうちの任意の一つであり、第2のものは
水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、アルキル基または
アルコキシ基であり、第3のものは水素原子またはアル
コキシ基であるか、またはこれらの2つは前記環の構成
員であつて、第3のものは水素原子またはアルコキシ基
である。
In each of the above formulas, each symbol has the same meaning throughout, but n is the number 1 or 2, Z1 is a nitrogen atom or a group (see below), and one of the two U is a nitrogen atom and the other is n=
When 1, it is also a nitrogen atom, but when n=2, it is a group TN+, Y is an alkyl group that may be further substituted depending on the case, and one of the two U1 is a nitrogen atom. When n=1, the other is also a nitrogen atom, but when n=2, it is a group +N, and two U
One of 2 is a nitrogen atom, the other is a group 100→, R1 and R2 are each independently a hydrogen atom, an optionally further substituted alkyl group, an alkoxy group,
Aroyl group, aryloxy group or aralkoxy group (
Examples of substituents for alkyl groups include halogen atoms, acylamino groups, acyloxy groups, hydroxyl groups, alkoxy groups, alkylsulfuryl groups, alkyltheonyl groups,
Examples include a cyano group, a carboxylic acid alkyl ester group, and a carboxylic acid amide group, and examples of substituents on the aryl group, preferably the benzene group, include a methyl group, a halogen atom, such as a chlorine atom, a methoxy group, an acylamino group, an acyloxy group, a hydroxyl group, and a trioxyl group. or R1 and R2 are may be combined with the two carbon atoms of ring (1) to form a heterocycle or homocycle (see for example the following formula), Rll and R2l being further substituted or unsubstituted (R1 and (see case of R2) a benzene group, a benzoyl group, an optionally further substituted methyl group or a hydrogen atom, or Rll and R2
l may be combined with two carbon atoms of the ring () to form a 5- or 6-membered heterocycle or homocyclic ring, Rl2 and R22 are phenyl group, benzoyl group, phenylsulfonic acid group, It is a hydroxymethyl group or a hydrogen atom, and Rl
3 and R22 are both a phenyl group or a methyl group, and R3, R4 and R5 are each independently a hydrogen atom, an optionally further substituted alkyl group, alkoxy group, aryloxy group or aralkoxy group (for substituents, (see the case of R1 and R2), a halogen atom,
nitro group, cyano group, hydroxyl group, optionally further substituted amino group (e.g. acylamino group, mono- or dialkylamino group), alkylammonium group, carboxylic acid group, carboxylic acid amide group, carboxylic acid alkyl ester group or is a sulfonic acid group, or two groups of R3, R4 and R5 may be taken together with two adjacent carbon atoms of the ring ([[) to form a homocyclic or heterocyclic ring, R /3, R'4 and R'5 are this 3
one of the two groups is any one of the definitions given above for R3, R4 and R5, the second one is a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, an alkyl group or an alkoxy group; , the third one is a hydrogen atom or an alkoxy group, or these two are members of the ring and the third one is a hydrogen atom or an alkoxy group.

一般式(4)−(9)などで表わされるジアジン化合物
の場合にも置換基R3l、R4lおよびR5lについて
は同様な選択を行うことができて、R3l、R4lおよ
びR5lは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、塩素原子、ニトロ基、第1アミノ基、アシルアミノ
基(例えばアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基
)、トリメチルアンモニウム基、場合により低級アルキ
ル基1個または2個で更に置換されているカルボン酸ア
ミド基、カルボン酸基、カルボン酸メチルエステル基、
カルボン酸エチルエステル基またはスルホン酸基である
か、またはR3l、R4lおよびR5lのうちの2つが
環(I[)の隣接炭素原子2個と一緒になつて同素環ま
たは複素環を形成してもよく(低級アルキル基は炭素原
子を多くて4個持つているものである)、R32、R4
2およびR52は水素原子、メチル基、メトキシ基、エ
トキシ基、ニトロ基、アミノ基、アセチルアミノ基、ト
リメチルアンモニウム基またはスルホΔ俊基であるか、
またはR32、R42およびR52のうちの2つが環(
11)の隣接炭素原子2個と一緒になつて同素環または
複素環を形成してもよく、R33、R43およびR53
は水素原子、メチル基、メトキシ基、エトキシ基、ニト
ロ基、アミノ基、トリメチルアンモニウム基またはスル
ホン酸基であるか、またはR33、R43およびR53
のうちの2つが環(6)の隣接炭素原子2個と一緒にな
つてジオキソール環、ジオキサン環またはピリジン環を
形成してもよく、R34、R44およびR54は水素原
子、メチル基またはメトキシ基であり、X○は陰イオン
であり、 XlOは陰イオンClO.I○、ClO4O、CH3S
O4O.FSO3○、BF4O.PF6OおよびAsF
6Of)X,・ずれかであり、X2Oは陰イオン10.
C1040およびCH3SO4Oのいずれかである。
Similar selections can be made for substituents R3l, R4l and R5l in the case of diazine compounds represented by general formulas (4) to (9), etc., and R3l, R4l and R5l are hydrogen atoms, lower alkyl groups, etc. , lower alkoxy group, chlorine atom, nitro group, primary amino group, acylamino group (e.g. acetyl group, propionyl group, benzoyl group), trimethylammonium group, optionally further substituted with one or two lower alkyl groups Carboxylic acid amide group, carboxylic acid group, carboxylic acid methyl ester group,
is a carboxylic acid ethyl ester group or a sulfonic acid group, or two of R3l, R4l and R5l together with two adjacent carbon atoms of ring (I[) form a homocyclic or heterocyclic ring. (lower alkyl groups have at most 4 carbon atoms), R32, R4
2 and R52 are a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a nitro group, an amino group, an acetylamino group, a trimethylammonium group, or a sulfo Δtrun group,
Or two of R32, R42 and R52 are rings (
11) may be taken together with two adjacent carbon atoms to form a homocyclic or heterocyclic ring, R33, R43 and R53
is a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a nitro group, an amino group, a trimethylammonium group or a sulfonic acid group, or R33, R43 and R53
Two of them may be combined with two adjacent carbon atoms of ring (6) to form a dioxole ring, dioxane ring or pyridine ring, and R34, R44 and R54 are hydrogen atoms, methyl groups or methoxy groups. , X○ is an anion, and XIO is an anion ClO. I○, ClO4O, CH3S
O4O. FSO3○, BF4O. PF6O and AsF
6Of)X, ·, and X2O is an anion 10.
Either C1040 or CH3SO4O.

スルホン酸基またはカルボン酸基を含有している化合物
はその遊離酸の形、すなわちHOOC基またはHO3S
一基を持つているか、または塩として存在することもで
きる。
Compounds containing sulfonic or carboxylic acid groups are present in their free acid form, i.e. HOOC group or HO3S
It can also have one group or be present as a salt.

分離の際の条件により、例えば選択したPH値または分
離に使用した塩が持つている陽イオンにより、酸基はS
O3陽イオン基またはCOO一陽イオン基として、例え
ば−SO3Nal−SO3K、−COONa、COOL
iまたは−COONH4として存在することができる。
従つて遊離の酸を除いて、アルカリ土類金属または特に
アルカリ金属の塩が好ましい。本明細書においてはこの
ような意味から、カルボン酸またはスルホン酸を上記の
概念を持つものと解されたい。前記ジアジン化合物およ
びその製法は以下の文献にも記載されている。
Depending on the conditions during the separation, for example the selected pH value or the cations of the salt used in the separation, the acid group may be
As O3 cationic group or COO monocationic group, for example -SO3Nal-SO3K, -COONa, COOL
It can exist as i or -COONH4.
Apart from the free acids, preference is therefore given to salts of alkaline earth metals or especially alkali metals. In this specification, carboxylic acid or sulfonic acid should be understood to have the above concept. The diazine compounds and their production methods are also described in the following literature:

ドイツ特許公開第2144297号、第 2144298号および第2010280号明細書。German Patent Publication No. 2144297, no. No. 2144298 and No. 2010280.

陰イオンX○としては例えばBrO.ClOlO.Cl
O4○、CH3SO4e.BF4e.TiF4OFSO
3○、AlCl4○、FeCl4○、PF6○、SbC
l6e.SbF6OP−トルエンスルホネート0,.p
−クロルベンゼンスルホネート01オキサレート0.S
CN0Jセテート0.HS040、AUCl4Olsn
cl4○2、ZnCl4e.ASF6OおよびAsCl
6Oが挙げられる。
As the anion X○, for example, BrO. ClOlO. Cl
O4○, CH3SO4e. BF4e. TiF4OFSO
3○, AlCl4○, FeCl4○, PF6○, SbC
l6e. SbF6OP-toluenesulfonate 0,. p
-Chlorbenzene sulfonate 01 oxalate 0. S
CN0J Cetate 0. HS040, AUCl4Olsn
cl4○2, ZnCl4e. ASF6O and AsCl
6O is mentioned.

=般に水溶性ジアジン化合物、特に20℃で少くとも0
.05%(水溶液1007中のジアジン7数)の水溶解
度を持つものが好ましい。
= generally water-soluble diazine compounds, especially at least 0 at 20°C
.. Those having a water solubility of 0.05% (7 diazines in 1007 aqueous solutions) are preferred.

このような水溶性ジアジンは例えば、一般式で表わされ
るフエニルスルホン酸キノキサリンであつて、この化合
物はスルホン酸基を含有していない相当する化合物を低
温でクロルスルホン酸で処理し、こうして得たスルホン
酸クロライドをけん化することによつて作ることができ
る。
Such a water-soluble diazine is, for example, phenylsulfonic acid quinoxaline of the general formula, which is obtained by treating the corresponding compound, which does not contain a sulfonic acid group, with chlorosulfonic acid at low temperature. It can be made by saponifying sulfonic acid chloride.

ここで2−フエニルキノキサリン一3′一および−4′
−スルホン酸の混合物が得られるが、これは所望により
各成分に分離するか、またはそのまま前記の光重合に使
用することもできる。本発明者は新規4級キノキサリン
化合物、例えば次の一般式[株]〜(自)で表わされる
化合物を製造することに成功した。
where 2-phenylquinoxaline-3'-1 and -4'
- A mixture of sulfonic acids is obtained, which can optionally be separated into its individual components or used as such in the photopolymerization described above. The present inventors have succeeded in producing novel quaternary quinoxaline compounds, for example, compounds represented by the following general formulas.

これらの化合物も前記の光重合に使うことができる。A
.一般式 (この式においてR″1およびRは互いに独立して置換
されていない゛アルキル基またはアリール基であり、R
′、R114およびRは互いに独立して水素原子、・・
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ベンジルオキ
シ基またはニトロ基であつて、R″3、RおよびR″5
のうちの少くとも1個は水素と異つており、そしてXO
は陰イオンである)で表わされるキノキサリニウム塩。
These compounds can also be used in the photopolymerization described above. A
.. General formula (in this formula, R''1 and R are each independently an unsubstituted alkyl group or aryl group, and R
', R114 and R are independently hydrogen atoms,...
rogen atom, alkyl group, alkoxy group, benzyloxy group or nitro group, R″3, R and R″5
at least one of them is different from hydrogen, and XO
is an anion).

B.一般式 (この式においてR′1、R、R″3、R′14、およ
びXOは前記の意味を持つ)で表わされるキノキサリニ
ウム塩。
B. A quinoxalinium salt represented by the general formula (in this formula, R'1, R, R''3, R'14, and XO have the above-mentioned meanings).

C.一般式 R (この式においてR″3、R″4およびR″5は前記の
意味を持ち、R111およびR″21はメチル基または
フエニル基であり、Xleは陰イオンClO.lO.C
lO4O.CH3SO4○FSO3O.BF4O.PF
6OまたはAsF6Oである)で表わされるサノキサリ
ニウム塩。
C. General formula R (In this formula, R″3, R″4 and R″5 have the above meanings, R111 and R″21 are a methyl group or a phenyl group, and Xle is an anion ClO.lO.C
lO4O. CH3SO4○FSO3O. BF4O. P.F.
6O or AsF6O).

D.―般式 (この式においてXleは前記の意味を持ち、R7l2
およびR″22はメチル基またはフエニル基であり、R
″3,、R′41およびR″51は互いに独立して水素
原子、塩素原子、メチル基、メトキシ基、エトキシ基、
ベンジルオキシ基またはニトロ基であり、ここでR″3
1、R′41およびR″51のうちの少くとも一つは水
素原子と異なる)で表わされるキノキサリニウム塩。
D. - General formula (in this formula, Xle has the above meaning, R7l2
and R″22 is a methyl group or a phenyl group, and R″22 is a methyl group or a phenyl group;
"3, R'41 and R"51 each independently represent a hydrogen atom, a chlorine atom, a methyl group, a methoxy group, an ethoxy group,
benzyloxy group or nitro group, where R″3
1, at least one of R'41 and R''51 is different from a hydrogen atom).

これらの4級ジアジン化合物は相当する塩基を4級化す
ることによつて得ることができる。
These quaternary diazine compounds can be obtained by quaternizing the corresponding base.

本発明は一般式(この式においてR1′1およびRは互
いに独立して置換されていないアルキル基またはアリー
ル基であり、R1′3、R′4およびR″5は互いに独
立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
シ基、ベンジルオキシ基またはニトロ基であつて、R″
3、RおよびRI5のうちの少くとも1個は水素と異つ
ている)で表わされるキノキサリン化合物を4級化する
ことから成る、一般式(この式においてR/′1、R1
!2、R73、R1およびRI5は前記の意味を持ち、
Xは陰イオンである)で表わされる新規キノキサリニウ
ム塩の製法を提供するものである。
The present invention is based on the general formula (in this formula, R1'1 and R are each independently an unsubstituted alkyl group or an aryl group, and R1'3, R'4 and R''5 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a benzyloxy group, or a nitro group, and R″
3, at least one of R and RI5 is different from hydrogen).
! 2, R73, R1 and RI5 have the meanings given above;
The present invention provides a method for producing a novel quinoxalinium salt represented by (X is an anion).

他の化合物たとえば特に、一般式(2)においてYがア
ルキル基であり、nが2であるような化合物は相当する
ジアジン(n=1)をアルキル化することによつて作る
ことができる。
Other compounds, especially those in general formula (2) in which Y is an alkyl group and n is 2, can be prepared by alkylating the corresponding diazines (n=1).

このアルキル化は一般に高い温度で常圧または高圧下で
行われる。適当なアルキル化剤は例えば硫酸ジメチルま
たは硫酸ジエチルのような硫酸ジアルキル、ハロゲン化
アルキル、特によう化メチルまたはよう化エチルのよう
なヨーダイドである。特に活性のアルキル化剤は例えば
、M.G.Ahmed氏等により報告されている(Ch
em.COmm.l968、1533)CH3SO3F
である。最初に生成するキノキサリニウム塩の陰イオン
X○を交換することが何等かの理由から望まれるときに
は、キノキサリニウム塩を水溶液中で相当する塩と複分
解することにより直ちにこのことを達成することができ
る。
This alkylation is generally carried out at elevated temperatures and under normal or elevated pressure. Suitable alkylating agents are, for example, dialkyl sulfates such as dimethyl sulfate or diethyl sulfate, alkyl halides, especially iodides such as methyl iodide or ethyl iodide. Particularly active alkylating agents are, for example, M. G. As reported by Ahmed et al. (Ch.
em. COmm. l968, 1533) CH3SO3F
It is. If for some reason it is desired to exchange the anion X of the quinoxalinium salt initially formed, this can be readily achieved by metathesis of the quinoxalinium salt with the corresponding salt in aqueous solution.

所望の塩が直ちに沈殿しないときには、水と混和するこ
とのできる不活性有機溶剤を添加することによつて沈殿
を達成することができる。適当な溶剤はメタノールまた
はエタノールのようなアルコール、アセトン、アセトニ
トリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1・2−ジ
メトキシエタンまたは1・2−ジエトキシエタンである
。前記の電子給体としては例えばドイツ特許公開第17
20906号明細書に記載されているスルフイン化合物
、ホスフイン化合物およびアルシン化合物が適している
If the desired salt does not precipitate immediately, precipitation can be accomplished by adding an inert organic solvent that is miscible with water. Suitable solvents are alcohols such as methanol or ethanol, acetone, acetonitrile, tetrahydrofuran, dioxane, 1,2-dimethoxyethane or 1,2-diethoxyethane. As the electron feeder, for example, German Patent Publication No. 17
The sulfine, phosphine and arsine compounds described in US Pat. No. 20906 are suitable.

有機スルフイン化合物としては、V.N.Michai
lOwa氏等によるJOurn.Organ.Chim
lll↓、1621〔1965〕 ;ドイツ特許公告第
1145168号明細書;ペルキー特許第624071
号明細書:J.D.Margerurrl氏等によるJ
.Am.Chem.SOc.、旦』−、3066〔19
70等に記載されているように、それぞれの有機スルフ
イン酸を遊離の形、塩の形または有機エステルの形で使
用することができる。
Examples of organic sulfine compounds include V. N. Michai
JOurn. by Mr. IOwa et al. Organ. Chim
lll↓, 1621 [1965]; German Patent Publication No. 1145168; Pelkey Patent No. 624071
No. specification: J. D. J by Margerrurl et al.
.. Am. Chem. SOc. , Dan''-, 3066 [19
The respective organic sulfinic acids can be used in free form, salt form or organic ester form, as described in 70 et al.

更に、スルフイン酸のエステルまたはカルボニル化合物
との付加物、特にアルデヒド付加物を使用することがで
きる。例えば適当なスルフイン酸はp−トルエンスルフ
イン酸、ベンゼンスルフイン酸、p−プロムベンゼンス
ルフイン酸、ナフタリン−1−または−2−スルフイン
酸、4アセチルアミノベンゼンスルフイン酸、2−ヒド
ロキシベンゼン−1−カルボン酸−5−スルフイン酸、
エタンスルフイン酸のような脂肪族スルフイン酸、1・
4−ブタンジスルフイン酸およびフエニルメタンスルフ
イン酸である。スルフイン酸の塩としては、感光性溶液
の他の成分と相容性のあるすべての可溶性塩、例えばナ
トリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、マグネシウム塩
、カルシウム塩、バリウム塩、銀塩、亜鉛塩およびアル
ミニウム塩が挙げられる。
Furthermore, it is possible to use adducts of sulfuric acid with esters or carbonyl compounds, especially aldehyde adducts. For example, suitable sulfinic acids include p-toluenesulfinic acid, benzenesulfinic acid, p-promobenzenesulfinic acid, naphthalene-1- or -2-sulfinic acid, 4-acetylaminobenzenesulfinic acid, 2-hydroxybenzene-sulfinic acid, 1-carboxylic acid-5-sulfinic acid,
Aliphatic sulfinic acids such as ethanesulfinic acid, 1.
4-butanedisulfinic acid and phenylmethanesulfinic acid. Salts of sulfuric acid include all soluble salts that are compatible with the other components of the photosensitive solution, such as sodium salts, potassium salts, lithium salts, magnesium salts, calcium salts, barium salts, silver salts, zinc salts and Examples include aluminum salts.

この酸の適当なエステルは特にメチルエステル、エチル
エステル、プロピルエステルまたはブチルエステルであ
る。スルフイン酸のアルデヒド付加物は例えば、ホルム
アルデヒド、アセトアルデヒド、イソブチルアルデヒド
またはヘプタアルデヒドとの付加物である。その他の適
当な有機スルフイン化合物はこれらの酸から誘導された
スルフイン酸アミド、例えばスルフイン酸アルキルアミ
ド、スルフイン酸アリールアミド、およびスルフイン酸
クロライドである。ホスフインまたはアミンを電子給体
として使用するときには、一般式(この式においてwは
りん原子またはひ素原子であり、R6、R7、およびR
8は互いに独立してアルキル基、アリール基、アラルキ
ル基またはアルキルアリール基であり、この場合にこれ
らの基のうちの少くとも一つは水溶性基、例えばヒドロ
キシル基、カルボン酸基またはスルホン酸基または4級
窒素原子を持つた基を所有しているのが有利である)で
表わされる化合物が好ましい。
Suitable esters of this acid are in particular the methyl, ethyl, propyl or butyl esters. Aldehyde adducts of sulfuric acid are, for example, adducts with formaldehyde, acetaldehyde, isobutyraldehyde or heptaldehyde. Other suitable organic sulfinic compounds are sulfinic acid amides derived from these acids, such as sulfinic acid alkylamides, sulfinic acid arylamides, and sulfinic acid chlorides. When using phosphine or amine as an electron donor, the general formula (in which w is a phosphorus or arsenic atom, R6, R7, and R
8 are each independently an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group or an alkylaryl group, in which case at least one of these groups is a water-soluble group, such as a hydroxyl group, a carboxylic acid group or a sulfonic acid group. or a group having a quaternary nitrogen atom) is preferred.

適当なホスフ・fンはM.GraysOn,.E.J.
Griffith著11Ph0sph0r0usChe
mistry.1第1巻のトピツクス、JOhnWil
ey&SOnsInc.、第1頁〔1964〕;同書、
第3巻、第1頁;H.J.Bestmann氏等による
Angew.ChemieL旦、475〔1963〕に
記載されている。
A suitable phosphine is M. GraysOn,. E. J.
Written by Griffith11Ph0sph0r0usChe
mistry. 1 Volume 1 Topics, JOhnWil
ey & SOns Inc. , p. 1 [1964];
Volume 3, page 1; H. J. Angew. by Bestmann et al. Chemie L. Dan, 475 [1963].

適当なアルシンはW.R.Cullen氏等によるCh
em.Ind.l963、983;W.R.Culle
n氏等によるCan.J.Chem.4l、1625〔
1963〕に記載されている。有機置換されている第3
ホスフインとしては、本発明方法においては例えばトリ
ブチルホスフイン、トリフエニルホスフイン、ジブチル
フェニルホスフィン、メチルジフエニルホスフインおよ
びメチルブチルフエニルホスフインを使用することがで
きる。
A suitable arsine is W. R. Ch by Cullen et al.
em. Ind. l963, 983; W. R. Culle
Can.n et al. J. Chem. 4l, 1625 [
1963]. organically substituted tertiary
As phosphine, for example tributylphosphine, triphenylphosphine, dibutylphenylphosphine, methyldiphenylphosphine and methylbutylphenylphosphine can be used in the process according to the invention.

有機置換されている適当な第3アルシン化合物としてぱ
例えばトリフエニルアルシン、メテルジフエニルアルシ
ン、トリオクチルアルシン、ジブチルフエニルアルシン
およびメチルブチルフエニルアルシンが挙げられる。一
般に好ましくは水溶性で末端に2重結合を1個持つた単
量体(1官能性単量体)と末端に2重結合を多数個持つ
た水溶性単量体(多官能性単量体)との混合物を使用す
るのが好ましい。
Suitable organically substituted tertiary arsine compounds include, for example, triphenylarsine, methyldiphenylarsine, trioctylarsine, dibutylphenylarsine and methylbutylphenylarsine. In general, water-soluble monomers having one double bond at the end (monofunctional monomers) and water-soluble monomers having multiple double bonds at the ends (polyfunctional monomers) are generally preferred. ) is preferably used.

適切な割合により、ゲル点、従つて重合体が不溶性にな
る点を制御することができる。特に単量体の割合により
、本発明方法による露光時間が調節される。重合が液相
でなく固相で、従つて乾燥した層の中で行われるときに
は、前記単量体の割合が、担体上で形成された重合体の
接着およびたわみ性に影響を与える。多官能性単量体と
しては例えばNN″−アルキレンビスアクリルアミド、
第2アクリルアミド、第3アクリルアミド、または2価
または3価金属のアクリル酸塩またはメタクリル酸塩が
挙げられる。
By appropriate proportions, the gel point and thus the point at which the polymer becomes insoluble can be controlled. In particular, the proportion of monomers controls the exposure time according to the method of the invention. When the polymerization is carried out in the solid phase rather than in the liquid phase, ie in a dry layer, the proportion of said monomers influences the adhesion and flexibility of the polymer formed on the carrier. Examples of polyfunctional monomers include NN″-alkylenebisacrylamide,
Secondary acrylamides, tertiary acrylamides, or divalent or trivalent metal acrylates or methacrylates are mentioned.

単量体は例えば、一般式で表わされるアルキレンピスア
クリルアミド、般式で表わされる第2アクリルアミド、
一般式で表わされる第3アクリルアミド、および一般式
で表わされる1〜3価金属の塩である。
Examples of monomers include alkylenepisacrylamide represented by the general formula, secondary acrylamide represented by the general formula,
These are a tertiary acrylamide represented by the general formula, and a mono- to trivalent metal salt represented by the general formula.

一般式C2O){3)において、Aは炭素原子2〜6個
を持つたアルキレン基であり、R牡水素原子またはメチ
ル基であり、R7およびR″2はそれぞれ水素原子であ
るかまたは炭素原子を多くて4個持つたアルキル基、好
ましくはメチル基またはエチル基であり、Mはm価の金
属原子であり、mは1、2または3で゛ある。
In the general formula C2O) {3), A is an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, R is a hydrogen atom or a methyl group, and R7 and R″2 are each a hydrogen atom or a carbon atom. an alkyl group having at most 4 atoms, preferably a methyl group or an ethyl group, M is an m-valent metal atom, and m is 1, 2 or 3.

その他の単量体としては例えばアクリルアミド、アクリ
ロニトリル、アクリル酸−β−ヒドロキシエチルアミド
、アクリル酸、メタクリル酸、これらの酸のナトリウム
塩またはカリウム塩、カルシウムジアクリレート、バリ
ウムジアクリレート、メタクリルアミド、メタクリル酸
メチルエステル、アクリル酸メチルエステル、アクリル
酸エテルエステル、ヒドロキシメチルジアセトンアクリ
ルアミド、ジアセトンアクリルアミド、更にビニルピロ
リドン、ビニルメチルエーテル、ビニルブチルエーテル
、酪酸ビニルエステル、ブタジエン、イソプレン、塩化
ビニル、塩化ビニリデンが挙げられる。使用する光線は
200〜450nmの波長領域のものである。
Other monomers include, for example, acrylamide, acrylonitrile, acrylic acid-β-hydroxyethylamide, acrylic acid, methacrylic acid, sodium or potassium salts of these acids, calcium diacrylate, barium diacrylate, methacrylamide, methacrylic acid. Examples include methyl ester, acrylic acid methyl ester, acrylic acid ether ester, hydroxymethyl diacetone acrylamide, diacetone acrylamide, as well as vinyl pyrrolidone, vinyl methyl ether, vinyl butyl ether, butyric acid vinyl ester, butadiene, isoprene, vinyl chloride, and vinylidene chloride. . The light beam used is in the wavelength range from 200 to 450 nm.

また重合はそれ自体公知の方法により、例えばバルク、
乳濁物または溶液中で行うことができる。この方法によ
れば2種類またはそれ以上の異つた単量体を共重合させ
ることもできる。本発明方法により得られる新規キノキ
サリラウム塩を使つた触媒系は情報の記録、特に前記ア
クリル酸および水溶性アクリル酸誘導体を用いる情報の
記録に適しており、この場合に情報は例えば可視像また
は透明像の複製として先づ異つた重合度に基いて作られ
、そして次に公知の方法により容易に可視像例えばレリ
ーフ像に変えることができる。
In addition, polymerization can be carried out by methods known per se, for example, in bulk,
It can be carried out in emulsion or solution. According to this method, two or more different monomers can also be copolymerized. Catalytic systems using the novel quinoxalium salts obtained by the process of the invention are suitable for recording information, in particular using the aforementioned acrylic acids and water-soluble acrylic acid derivatives, in which case the information can be e.g. As image reproductions, they can first be produced with different degrees of polymerization and then easily converted into visible images, for example relief images, by known methods.

重合可能なエチレン状不飽和化合物を少くとも1種類お
よび光レドツクス対を少くとも1種類そして場合により
巨大分子結合剤を含有している層を少くとも1つ持つて
いる層材料を像様露光することによつて情報を記録する
上記のような方法においては、前記構造のジアジン化合
物および有機電子給体を光レドツクス対として使用し、
この際露光に使用する光線は200〜450nmの波長
領域にあり、重合像は所望によりレリーフ像または吸収
像に変えることができる。結合剤としては水溶性コロイ
ドを使用するのが好ましい。
imagewise exposing a layer material having at least one layer containing at least one polymerizable ethylenically unsaturated compound and at least one photoredox couple and optionally a macromolecular binder; In such a method of recording information, a diazine compound of the above structure and an organic electron donor are used as a photoredox couple,
In this case, the light beam used for exposure is in the wavelength range of 200 to 450 nm, and the polymerized image can be changed into a relief image or an absorption image as desired. Preference is given to using water-soluble colloids as binders.

この結合剤および層材料の他の成分を水溶液の形で不透
明または透明担体上に流して層にする。層の厚さは乾燥
後に1〜50μとなるのが有利である。このようにして
、重合の間および後にも保存されている高い透明度の層
が作られる。水溶性コロイドとしては例えばゼラチン、
ポリビニルアルコール、ポリ−N−ビニルピロリドン、
および無水マレイン酸の種々の共重合体が挙げられ、特
に商品名EMA(モンサント社)、GANTREZ(G
AF社)、PA一樹脂(ガルフーオイル社)およびSM
A(シンクレア・ペトロリウム社)で得られる製品があ
げられる。
The binder and other components of the layer material are poured into a layer in the form of an aqueous solution onto an opaque or transparent carrier. Advantageously, the layer thickness after drying is between 1 and 50 microns. In this way, a layer of high transparency is created, which is preserved during and after polymerization. Examples of water-soluble colloids include gelatin,
polyvinyl alcohol, poly-N-vinylpyrrolidone,
and various copolymers of maleic anhydride, particularly under the trade names EMA (Monsanto), GANTREZ (G
AF Co.), PA resin (Gulf Oil Co.) and SM
Examples include products obtained from A (Sinclair Petroleum Company).

露光像は湿つた繊維材料で洗うかまたはこすることによ
つて容易に定着することができ、この際に末露光部分従
つて重合していない部分は除去される。定着した像を持
つた材料を水性または有機性染浴中で、像物質により吸
着されるかまたは何等かの方法でこの物質上に定着され
る染料を浸せきすることにより、無色レリーフ像を着色
像に容易に発色させることができる。
The exposed image can be easily fixed by rinsing or rubbing with a damp textile material, with the less exposed and unpolymerized parts being removed. A colorless relief image can be converted into a colored image by impregnating the material with the fixed image in an aqueous or organic dyebath with dyes which are adsorbed by or in some way fixed onto the image material. can be easily colored.

しかしながら着色物質を流し成形溶液に既に添加してお
くのが一層簡単である。この着色物質は単分子またはコ
ロイドの形、または顔料として流し成形溶液に施こすこ
とができる。 ゛写真感光
性単量体層の担体は適当な方法によつて変性して、生成
する重合体が担体上に最もよく接着するようにすること
ができる。このためには、元来水溶性である硬化したコ
ロイド(例えばゼラチン)で表面を基礎処理し、流し成
形溶液に湿潤剤を添加し、担体を湿潤剤で表面処理し、
化学反応(例えばシリル化)により担体の表面を変性す
るのが適している。
However, it is simpler if the coloring substance is already added to the casting solution. The colored substance can be applied to the casting solution in monomolecular or colloidal form or as a pigment. The carrier of the photosensitive monomer layer can be modified by suitable methods to provide the best adhesion of the resulting polymer to the carrier. For this purpose, the surface is base-treated with a hardened colloid that is water-soluble in nature (e.g. gelatin), a wetting agent is added to the casting solution, the carrier is surface-treated with the wetting agent,
It is suitable to modify the surface of the support by chemical reactions (for example silylation).

記録材料の感光性は嫌気性条件の下では1mJ/Cdで
あり、好気性条件の下では0.5J/Cdである。
The photosensitivity of the recording material is 1 mJ/Cd under anaerobic conditions and 0.5 J/Cd under aerobic conditions.

本発明方法により得られるキノキサリニウム塩を使うこ
とにより更に次のような利益がある。
The use of the quinoxalinium salt obtained by the method of the present invention further provides the following benefits.

(1)本発明による系は公知の他の方法と比較して酸素
に対する反応性が少ないことがわかつた。これは強い還
元剤であつて存在する酸素を消費するキノキサリン陰イ
オン基が生成するからである。(2)今日まで公知にな
つているレドツクス系は必要な染料の可視吸収発色団の
ために多くの写真的用途において不利益に作用する(米
国特許第3097096号明細書およびドイツ特許公開
第1720906号明細書)。
(1) It was found that the system according to the present invention has less reactivity to oxygen compared to other known methods. This is because quinoxaline anionic groups are formed which are strong reducing agents and consume the oxygen present. (2) The redox systems known to date have a disadvantageous effect in many photographic applications due to the visible absorbing chromophores of the required dyes (US Pat. No. 3,097,096 and DE 1,720,906). Specification).

この系は日光感光性であり、その取扱いには暗室が必要
である。複雑な漂白工程を行うことが多く、この漂白に
より使用染料を無色のロイコ型に還元する。このロイコ
型染料は不安定なことが多く、徐々に酸化されて染料に
戻る(ドイツ特許公開第1720906号明細書参照)
、キノキサリンは200〜400nmの領域に電磁吸収
スペクトルを持ち、従つて殆んど無色の化合物であり、
更にそのS。
This system is sensitive to sunlight and requires a dark room for its handling. A complex bleaching process is often used, which reduces the dye used to its colorless leuco form. These leuco dyes are often unstable and are gradually oxidized back to dyes (see German Patent Publication No. 1720906).
, quinoxaline has an electromagnetic absorption spectrum in the region of 200-400 nm and is therefore an almost colorless compound,
Furthermore, that S.

−S1吸収帯は多くの水銀高圧複写ランプの最大紫外線
放射領域内にある。このためレドツクス対の」部として
作用するキノキサリンを重合後に漂白する必要がない。
3)このように活性の大きい開始剤(レドツクス対)を
使用することにより着色した単量体層を処理することが
できる。
-The S1 absorption band lies within the maximum ultraviolet radiation range of many mercury high-pressure copying lamps. Therefore, there is no need to bleach the quinoxaline, which acts as the redox couple, after polymerization.
3) By using such a highly active initiator (redox pair), a colored monomer layer can be treated.

すなわち材料の感光性を実質的に失うことなく黄色層、
マゼンタ層およびシアン層を作ることができる。この理
由は染料吸収帯の最小部分を補償することのできるキノ
キサリン吸収帯の位置にある。4)水溶性コロイド結合
剤の存在下で本発明による開始剤系を用いて作つた重合
体は非常に良好な物理的性質(銅、アルミニウム、トリ
アセテートおよびポリエステル上への接着強度)を示す
i.e. yellow layer without substantial loss of photosensitivity of the material,
Magenta and cyan layers can be created. The reason for this is the position of the quinoxaline absorption band, which can compensate for the smallest part of the dye absorption band. 4) Polymers made using the initiator system according to the invention in the presence of water-soluble colloidal binders show very good physical properties (adhesion strength on copper, aluminum, triacetate and polyester).

〕)この材料は有機溶剤なしで、または酸性または塩基
性の水性現像液系なしで処理される。
]) The material is processed without organic solvents or without acidic or basic aqueous developer systems.

従つて処理のために有機溶剤、または酸性または塩基性
の水性現像剤の必要な複写材料よりも本質的に環境を害
することがない(例えばドイツ特許公開第203986
1号明細書)。5)透明基質上に作られた着色した重合
体は点複製像において優れた性質を示す。
They are therefore essentially less environmentally harmful than copying materials which require organic solvents or acidic or basic aqueous developers for processing (for example, German Patent Application No. 203,986).
1 specification). 5) Pigmented polymers made on transparent substrates show excellent properties in spot reproduction images.

光重合体上に作られた点像はその大きさおよび濃度がほ
んの少しでも失われることなく適当な基質上に複写する
ことができる。この性質は網目スクリーン複写法におい
て重要である。以下、本発明のキノキサリニウム塩製造
例を説月する。
The point image produced on the photopolymer can be reproduced on a suitable substrate without any loss of size or density. This property is important in mesh screen copying. An example of producing a quinoxalinium salt of the present invention will be described below.

i) 1・2・3−トリメチル−6−または−J■■2
・3−ジメチル−6−メトキシキノキサリン3.67(
0.02モル)を新しく蒸留した硫酸ジメチル12m1
に溶解し、窒素流中で60゜Cで3時間加熱する。
i) 1,2,3-trimethyl-6- or -J■■2
・3-dimethyl-6-methoxyquinoxaline 3.67 (
12 ml of freshly distilled dimethyl sulfate (0.02 mol)
and heat at 60° C. for 3 hours in a nitrogen stream.

徐々に冷却すると暗色の溶液から所望の生成物が黄かつ
色結晶として沈殿する。これをろ過し、乾燥アセトンで
洗浄し、次に乾燥する。収量は約2.97で、理論量の
47%に相当する。融点:178℃(分解する)。IR
スペクトル(KBr)および畠スペクトル(D2O)は
その化学構造から予想される吸収帯を示す。
Upon gradual cooling, the desired product precipitates from the dark solution as yellow, colored crystals. This is filtered, washed with dry acetone and then dried. The yield was approximately 2.97, corresponding to 47% of the theoretical amount. Melting point: 178°C (decomposes). IR
The spectrum (KBr) and Hatake spectrum (D2O) show absorption bands expected from its chemical structure.

(b) 1・2・3−トリメチル−6−または−Jメ[メ
トキシキノキサリニウムパークロレート1・2・3−ト
リメチルーJメ[メトキシキノキサリニウムメトサルフエ
ート1.35V(0.0043モル)を水5meに溶解
する。
(b) 1,2,3-trimethyl-6- or -Jmethoxyquinoxalinium perchlorate 1,2,3-trimethyl-Jmethoxyquinoxalinium methosulfate 1.35V (0.0043 mol) in 5 me of water.

こうして得た溶液に水2m1中の過塩素酸ナトリウム1
.77(0.0086モル)を添加する。このとき所望
のバークロレートが直ちに析出する。反応を完成させる
ために室温で15分間かきまぜる。次に沈殿をろ過し、
少量の冷水で洗浄する。1精製するためにこの結晶を水
20mjに溶解し、熱間で活性炭で処理する。
The solution thus obtained was added with 1 ml of sodium perchlorate in 2 ml of water.
.. 77 (0.0086 mol) is added. At this time, the desired barchlorate is immediately precipitated. Stir for 15 minutes at room temperature to complete the reaction. Then filter the precipitate,
Wash with a small amount of cold water. 1. For purification, the crystals are dissolved in 20 mj of water and treated hot with activated carbon.

冷却および乾燥後に融点193.1℃の黄かつ色結晶約
0.6y(理論量の46%)が得られ、そのIRスペク
トル(KBr)およびNMRスペクトル(アセトンD6
)はその化学構造と一致している。(c) 1・2・3
−トリメチル−6・7ージメトキシキノキサリニウムヨ
ーダイド容量100m1のかきまぜ式オートクレーブ沖
で、2・3−ジメチル−6・7ージメトキシキ ニノキ
サリン5.5y(0.025モル)をよう化メチル30
m1に溶解する。
After cooling and drying, about 0.6y (46% of theory) of yellow, colored crystals with a melting point of 193.1°C are obtained, whose IR spectrum (KBr) and NMR spectrum (acetone D6
) is consistent with its chemical structure. (c) 1, 2, 3
-Trimethyl-6,7-dimethoxyquinoxalinium iodide 5.5y (0.025 mol) of 2,3-dimethyl-6,7-dimethoxyquinoxalinium iodide was added to 30% of methyl iodide in a stirring autoclave with a capacity of 100 ml.
Dissolve in m1.

この溶液をかきまぜながら100゜Cに24時間加熱す
ると、圧力が約★7気圧に上昇する。室温に冷却した後
、黄色の沈殿をろ過し、少量の乾燥アセトンで洗浄し、
乾燥する。収量は約6.57で、理論量の72%に相当
する。融点:210〜212℃(分解する)。IRスペ
クトル(KBr)および聰スペクトル(DlVSO−D
6)は予測される化学構造と〒致している。
When this solution is stirred and heated to 100°C for 24 hours, the pressure increases to about 7 atmospheres. After cooling to room temperature, the yellow precipitate was filtered and washed with a small amount of dry acetone.
dry. The yield was approximately 6.57, corresponding to 72% of theory. Melting point: 210-212°C (decomposes). IR spectrum (KBr) and SO spectrum (DlVSO-D
6) is consistent with the predicted chemical structure.

同様にして次表に挙げたキノキサリニウム塩を作ること
ができる。
The quinoxalinium salts listed in the following table can be prepared in a similar manner.

すべての化合物はIRスペクトルおよびNMRスペクト
ルにおいてその化学構造から予測される吸収帯を示す。
次表に挙げる本発明のキノキサリニウム塩は一般式で表
わされる化合物であり、表中で『d』は分解することを
意味する。
All compounds exhibit absorption bands in the IR and NMR spectra expected from their chemical structure.
The quinoxalinium salts of the present invention listed in the following table are compounds represented by the general formula, and "d" in the table means decomposition.

参考例 1 硬化したゼラチンを被覆した234C71iのセルロー
ストリアセテート箔に、エタノール2m1およびp−ト
ルエンスルフイン酸ナトリウム0.016モル水溶液2
m1中の式で表わされるキノキサリン化合物10T19
を流し成形前に添加した次の溶液(流し成形溶液1)4
m1を積層し、乾燥する。
Reference Example 1 2 ml of ethanol and 2 ml of a 0.016 molar aqueous solution of sodium p-toluenesulfinate were added to a 234C71i cellulose triacetate foil coated with hardened gelatin.
Quinoxaline compound 10T19 represented by the formula in m1
The following solution added before casting (casting solution 1) 4
laminate and dry.

イ☆流し成形溶液1このよ
うに処理した箔を、写真用階段楔(12段階)の下で接
触法により40いの距離から400ワツト水銀高圧ラン
プで30秒間照射する。
B. Flow Molding Solution 1 The foil thus treated is irradiated for 30 seconds with a 400 Watt mercury high pressure lamp from a distance of 40 inches by the contact method under a photographic step wedge (12 steps).

次にこの箔を水で洗浄し、または湿つた綿でこすり、次
に式し、乾燥する。
The foil is then washed with water or rubbed with damp cotton, then styled and dried.

12段階楔階調はすべて明瞭に認められる。All 12 wedge gradations are clearly visible.

最大着色濃度は約3,2である。参考例 2式 で表わされるキノキサリン化合物を用いて参考例1と同
様に操作すると、同様な結果が得られる。
The maximum color density is approximately 3.2. Reference Example When the quinoxaline compound represented by Formula 2 is operated in the same manner as in Reference Example 1, similar results are obtained.

このことは式で表わされるキノキサリン化合物にも当嵌
まる。
This also applies to the quinoxaline compound represented by the formula.

表に挙げた他のキノキサリン誘導体を適当量使用すると
きにも同様な結果が得られる。参考例 3 参考例1または2に挙げたキノキサリン化合物を使用し
、次の流し成形溶液を用いて参考例1と同様に操作する
Similar results are obtained when using appropriate amounts of other quinoxaline derivatives listed in the table. Reference Example 3 Using the quinoxaline compound listed in Reference Example 1 or 2, the procedure is repeated in the same manner as in Reference Example 1 using the following casting solution.

流し成形溶液2 露光し湿つた綿でこするとオリジナルに相当する重合体
核が得られる。
Casting Solution 2 After exposure and rubbing with damp cotton, a polymer core corresponding to the original is obtained.

参考例 4 p−トルエンスルフイネートの代りにジフエニルホスフ
イノベンゼン一m−スルホン酸ナトリウム(Ahrla
nd等、J.Chem.SOc.、1958、281参
照)の0.02モル水溶液2mjを使用し、参考例1に
述べたように操作して、区別することのできる12段階
の楔階調の像が得られる。
Reference Example 4 Sodium diphenylphosphinobenzene-m-sulfonate (Ahrla
nd et al., J. Chem. SOc. By using 2 mj of a 0.02 molar aqueous solution of 281) and operating as described in Reference Example 1, an image with 12 distinguishable wedge gradations is obtained.

スルフイネートまたはホスフイン化合物の代りにトリフ
エニルアルシンを使用することもできる。参考例 5参
考例1による像作成において箔を後に染料溶液で処理す
る代りに、前記式で表わされる染料の2%水溶液1m1
を流し成形溶液1に添加するときに、過剰の染料は露光
後に洗浄または拭いとりにより容易に除去することがで
きる。
Triphenylarsine can also be used instead of the sulfinate or phosphine compounds. Reference Example 5 Instead of subsequently treating the foil with a dye solution in the production of the image according to Reference Example 1, 1 ml of a 2% aqueous solution of a dye of the above formula is added.
When added to casting solution 1, excess dye can be easily removed by washing or wiping after exposure.

また12段階の楔は何れも異つた色強度を示す。最大色
濃度は1.5〜2である。参考例 6 以下に述べる流し成形溶液3〜9をそれぞれ用いて操作
する。
Furthermore, each of the 12 levels of wedges exhibits different color intensities. The maximum color density is 1.5-2. Reference Example 6 The following operations are performed using flow molding solutions 3 to 9, respectively.

流し成形溶液3 式(至)のキノキサリン70〜のエタノール14m1中
の溶液をp−トルエンスルフイン酸ナトリウム0.02
モル水溶液14m1と一緒にする。
Flow molding solution 3 A solution of quinoxaline of formula (to) 70 ~ in 14 ml of ethanol was mixed with 0.02 ml of sodium p-toluenesulfinate.
Combine with 14 ml of molar aqueous solution.

この溶液4m1に流し成形溶液3〜9のうちの一つの5
m1を添加する。この混合物を、硬化したゼラチン層の
あるトリアセテートまたはポリエステルの担体上に流し
て、乾燥後に層の厚さが1〜10μmとなるようにする
。この乾燥した透明層を12段階網版楔の下で接触法に
より400ワツト水銀高圧ランプで30秒間露光する。
この後、露光した材料を水で洗浄するかまたは湿つた綿
でこする。箔の上には12段階の異なる階調のある像が
網版面として認められる。表面網版の高さは露光時間に
よつて調節することができる。このようにして流し成形
溶液3、4、7または8を用いて作つた網版像は直接染
色により着色像に変えることができ、この着色像は前記
像のネガに相当する。
Pour 5 ml of this solution into one of molding solutions 3 to 9.
Add m1. This mixture is poured onto a triacetate or polyester carrier with a hardened gelatin layer, so that after drying the layer has a thickness of 1 to 10 μm. The dried transparent layer is exposed under a 12-step halftone wedge by the contact method for 30 seconds with a 400 watt mercury high pressure lamp.
After this, the exposed material is washed with water or rubbed with damp cotton. On the foil, an image with 12 different gradations can be seen as a halftone surface. The height of the surface screen can be adjusted by the exposure time. The halftone image produced in this way using casting solutions 3, 4, 7 or 8 can be converted by direct dyeing into a colored image, which corresponds to the negative of said image.

この目的のために箔を、網目像と共に、式(至)で表わ
される染料の2〜5%水溶液に5〜30秒間浸せきする
。次に箔を手短かに洗浄する。積層した重合体から成る
すべての網点は染色されている。流し成形溶液3、4、
7または8においてジアクリル酸バリウムをジアクリル
酸カルシウムまたはストロンチウムで置き換えたときに
も同様な結果が得られる。
For this purpose, the foil, together with the mesh image, is immersed for 5 to 30 seconds in a 2-5% aqueous solution of a dye of the formula (2). The foil is then briefly washed. All halftone dots made of laminated polymer are dyed. Flow molding solution 3, 4,
Similar results are obtained when barium diacrylate is replaced with calcium or strontium diacrylate in 7 or 8.

流し成形溶液3〜9および前記ジアジン化合物の一つを
使用し、前記と同様にして、p−トルエンスルフイネー
トの代りに下記の電子給体を像形成に使用することがで
きる。
Using casting solutions 3-9 and one of the diazine compounds described above, the following electron donors can be used for imaging in place of p-toluenesulfinate in the same manner as above.

ジフエニルホスフイノベンゼン一m−スルホン酸ナトリ
ウム、トリフエニルアルシン、ジフエニルホスフインプ
ロパンスルホン酸ナトリウム。
Sodium diphenylphosphinepropanesulfonate, triphenylarsine, sodium diphenylphosphinepropanesulfonate.

参考例 7参考例6の流し成形溶液〔流し成形溶液3、
ジアジン化合物式(至)〕に式(至)で表わされる染料
の3%溶液1m1を添加する。
Reference Example 7 Flow molding solution of Reference Example 6 [Flow molding solution 3,
Add 1 ml of a 3% solution of the dye represented by formula (to) to the diazine compound formula (to)].

この流し成形した溶液から着色濃度4の透明赤色層が得
られる。網版階段楔を通して2分間露光した後、手短か
に洗浄する。像の網点が直ちに形成される。この像の最
大着色濃度は2である。参考例 8 参考例6の流し成形溶液に式 で表わされる染料の2%溶液1m1を添加する。
A transparent red layer with a color density of 4 is obtained from this cast solution. After a 2 minute exposure through a halftone step wedge, a brief wash is carried out. Image dots are immediately formed. The maximum color density of this image is 2. Reference Example 8 To the casting solution of Reference Example 6, 1 ml of a 2% solution of the dye represented by the formula is added.

網目スクリーンを通して4分間露光した後、こうして得
た青色層を手短かに洗浄するかまたは湿式で拭くと基質
上に像が青色のネガとして現われる。参考例 9参考例
1の流し成形溶液に超音波分散機により赤色顔料100
ワを分散させる。
After 4 minutes of exposure through a mesh screen, the blue layer thus obtained is briefly washed or wet wiped so that the image appears as a blue negative on the substrate. Reference Example 9 Red pigment 100% was added to the casting solution of Reference Example 1 using an ultrasonic disperser.
Disperse the wa.

この完全に透明な流し込み溶液から澄明な層が得られる
。12段階網目楔を通して4分間露光した後、箔を湿つ
た綿でこする。
A clear layer is obtained from this completely clear pouring solution. After 4 minutes of exposure through a 12-step mesh wedge, the foil is rubbed with damp cotton.

12段階の網目階調はすべて区別することができる。All 12 levels of mesh gradation can be distinguished.

以上の例とは異なりポリアクリルアミド、ゼラ,チッ、
ポリビニルアルコールのような巨大分子を存在させない
で重合を行うこともできる。
Unlike the above examples, polyacrylamide, gelatin,
Polymerization can also be carried out without the presence of macromolecules such as polyvinyl alcohol.

ヒの場合に流し成形溶液3〜9は、水および(または)
エタノール中に巨大分子物質を含有している溶液を用い
ないで、光の作用下で重合することができる。ようよう
にして、または以下の例に述べるようにして、水で膨潤
する、例えば医薬の目的に使用することができるか、ま
たは他の製品、例えばインキ、ラツカ一、塗料着色材、
塗料、成形品などにすることのできる透明重合体を作る
ことができる。参考例 10 アクリルアミド307およびメチレンビスアクリルアミ
ド1yをエタノール一水(1:1)50mjに溶解する
In the case of H, casting solutions 3 to 9 are water and/or
Polymerization can be carried out under the action of light without using solutions containing macromolecular substances in ethanol. In this way or as mentioned in the examples below, water-swellable, e.g. can be used for medicinal purposes or other products, e.g.
Transparent polymers can be made that can be made into paints, molded products, etc. Reference Example 10 Acrylamide 307 and methylenebisacrylamide 1y are dissolved in 50 mj of ethanol and water (1:1).

エタノール10m1に溶解した2フエニルキノキサリン
およびトリフエニルホスフイン各100即を添加する。
200ワツト水銀高圧ランプで短時間露光した後、エタ
ノールに不溶の重合体が生成し、そして沈殿し始める。
100 g each of 2-phenylquinoxaline and triphenylphosphine dissolved in 10 ml of ethanol are added.
After a brief exposure to a 200 watt mercury high pressure lamp, an ethanol-insoluble polymer forms and begins to precipitate.

トリフエニルホスフインの代りに同量のトリフエニルア
ルシンまたはp−トルエンスルフイン酸を電子給体とし
て使用することができる。2−フエニルキノキサリンの
代りに次のキノキサリンを使用することもできる。
Instead of triphenylphosphine, the same amount of triphenylarsine or p-toluenesulfuric acid can be used as electron donor. The following quinoxalines can also be used in place of 2-phenylquinoxaline.

キノキサリン、2−ベンゾイル−3−メチルキノキサリ
ン、2−ベンゾイル一3−フエニルキノキサリン、2−
アセチル−3−メチルキノキサリン、2・3−ジメチル
−5・8−ジメトキシキノキサリン、または式(25)
で表わされる化合物。
Quinoxaline, 2-benzoyl-3-methylquinoxaline, 2-benzoyl-3-phenylquinoxaline, 2-
Acetyl-3-methylquinoxaline, 2,3-dimethyl-5,8-dimethoxyquinoxaline, or formula (25)
A compound represented by

これらの化合物を用いて同様な結果が得られる。参考例
11アクリルアミド30y1メチレンビスアクリルア
ミド1yおよびジアセトンアクリルアミド1yを水50
m1に溶解する。
Similar results are obtained using these compounds. Reference Example 11 30y of acrylamide, 1y of methylenebisacrylamide and 1y of diacetone acrylamide, 50y of water
Dissolve in m1.

2−フエニルキノキサリン一3′一、−4′−スルホン
酸およびp−トルエンスルフイン酸ナトリウム各200
即を添加する。
2-phenylquinoxaline-3'-4'-sulfonic acid and sodium p-toluenesulfinate 200 each
Add soku.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R″_1およびR″_2は互いに独立して置換
されていないアルキル基またはアリール基であり、R″
_3、R″_4およびR″_5は互いに独立して水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ベンジ
ルオキシ基またはニトロ基であつて、R″_3、R″_
4およびR″_5のうちの少くとも1個は水素と異なつ
ている)で表わされるキノキサリン化合物を4級化する
ことから成る、一般式▲数式、化学式、表等があります
▼ 式中、R″_1、R″_2、R″_3、R″_4および
R″_5は前記の意味を持ち、X^■は陰イオンである
)で表わされる新規キノキサリニウム塩の製法。
[Claims] 1 General formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, R″_1 and R″_2 are mutually independently unsubstituted alkyl groups or aryl groups,
_3, R″_4 and R″_5 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a benzyloxy group, or a nitro group, and R″_3, R″_
General formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ In the formula, R″ consists of quaternizing a quinoxaline compound represented by _1, R″_2, R″_3, R″_4 and R″_5 have the above-mentioned meanings, and X^■ is an anion).
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NL (1) NL7315878A (en)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1703323A1 (en) 2005-03-18 2006-09-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition, image-recording material and image-recording method
EP1930770A2 (en) 2006-12-07 2008-06-11 FUJIFILM Corporation Imaging recording material and novel compound
EP1975707A1 (en) 2007-03-27 2008-10-01 Fujifilm Corporation Curable composition and planographic printing plate precursor
EP2039509A1 (en) 2007-09-18 2009-03-25 FUJIFILM Corporation Curable composition, image forming material, and planographic printing plate precursor
EP2042928A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor
EP2042921A2 (en) 2007-09-26 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion composition, photocurable composition and color filter
EP2042532A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same, alkalisoluble polyrethane resin, an process for producing diol compound
EP2048539A1 (en) 2007-09-06 2009-04-15 FUJIFILM Corporation Processed pigment, pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element
WO2009116442A1 (en) 2008-03-17 2009-09-24 富士フイルム株式会社 Pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, photocurable composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element
EP2105797A1 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2109000A1 (en) 2004-09-10 2009-10-14 FUJIFILM Corporation Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same
EP2236497A1 (en) 2009-03-31 2010-10-06 FUJIFILM Corporation Colored curable composition, method for producing color filter, color filter, solid-state image pickup device, and liquid crystal display device
EP3051349A1 (en) 2003-07-29 2016-08-03 FUJIFILM Corporation Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH621545A5 (en) * 1976-05-24 1981-02-13 Ciba Geigy Ag
JPS6026122B2 (en) * 1977-01-20 1985-06-21 富士写真フイルム株式会社 Photopolymerizable composition
DE10029929A1 (en) * 2000-06-17 2001-12-20 Henkel Kgaa Quinoxaline derivative-containing dyes for dyeing keratin fibers e.g. hair give a wide variety of brilliant, intense shades without the need for an oxidizing component

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1085868A (en) * 1952-05-30 1955-02-08 Ciba Geigy Process for the preparation of novel quinoxaline compounds
US3573922A (en) * 1965-04-23 1971-04-06 Hughes Aircraft Co Photopolymerizable composition and process
DE2039861C3 (en) * 1970-08-11 1973-12-13 Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich Photopolymerizable copying compound

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3051349A1 (en) 2003-07-29 2016-08-03 FUJIFILM Corporation Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof
EP2109000A1 (en) 2004-09-10 2009-10-14 FUJIFILM Corporation Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same
EP3182204A1 (en) 2004-09-10 2017-06-21 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor using a polymerizable composition
EP1703323A1 (en) 2005-03-18 2006-09-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition, image-recording material and image-recording method
EP1930770A2 (en) 2006-12-07 2008-06-11 FUJIFILM Corporation Imaging recording material and novel compound
EP1975707A1 (en) 2007-03-27 2008-10-01 Fujifilm Corporation Curable composition and planographic printing plate precursor
EP2048539A1 (en) 2007-09-06 2009-04-15 FUJIFILM Corporation Processed pigment, pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element
EP2039509A1 (en) 2007-09-18 2009-03-25 FUJIFILM Corporation Curable composition, image forming material, and planographic printing plate precursor
EP2042921A2 (en) 2007-09-26 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion composition, photocurable composition and color filter
EP2042532A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same, alkalisoluble polyrethane resin, an process for producing diol compound
EP2042928A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor
WO2009116442A1 (en) 2008-03-17 2009-09-24 富士フイルム株式会社 Pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, photocurable composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element
EP2105797A1 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2236497A1 (en) 2009-03-31 2010-10-06 FUJIFILM Corporation Colored curable composition, method for producing color filter, color filter, solid-state image pickup device, and liquid crystal display device

Also Published As

Publication number Publication date
FR2217355B1 (en) 1977-06-10
CH573448A5 (en) 1976-03-15
BE808179A (en) 1974-06-04
DE2360350A1 (en) 1974-06-06
GB1436589A (en) 1976-05-19
NL7315878A (en) 1974-06-07
FR2221453B1 (en) 1978-09-08
JPS5928205B2 (en) 1984-07-11
FR2217355A1 (en) 1974-09-06
CA980350A (en) 1975-12-23
JPS4986383A (en) 1974-08-19
FR2221453A1 (en) 1974-10-11
JPS4987780A (en) 1974-08-22

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