JPS5928349B2 - Stabilizer for resin - Google Patents
Stabilizer for resinInfo
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- JPS5928349B2 JPS5928349B2 JP4302679A JP4302679A JPS5928349B2 JP S5928349 B2 JPS5928349 B2 JP S5928349B2 JP 4302679 A JP4302679 A JP 4302679A JP 4302679 A JP4302679 A JP 4302679A JP S5928349 B2 JPS5928349 B2 JP S5928349B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ポリフエニレンエーテル系樹脂に対して優れ
た安定化効果を有するホスホリツクアミドを含む安定剤
に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a stabilizer containing phosphoric amide that has an excellent stabilizing effect on polyphenylene ether resins.
ポリフエニレンエーテルは、機械的性質、電気的性質な
どに加え、耐熱性、耐化学薬品性、寸法安定性などの性
質が優れているため注目されているエンジニアリングプ
ラスチツクスであるが、軟化点が高いために加工性が悪
く、耐衝撃性が比較的劣るという欠点を有する。Polyphenylene ether is an engineering plastic that is attracting attention due to its excellent mechanical and electrical properties as well as heat resistance, chemical resistance, and dimensional stability. It has the disadvantages of poor workability due to its high temperature and relatively poor impact resistance.
軟化点を低下させ、加工性を向上させることを目的とし
て、ポリフエニレンエーテルとポリスチレンの組識物が
提案されている(例えば、特公昭43−17812号公
報参照)。ポリフエニレンエーテルにポリスチレンを混
合した場合、通常耐衝撃性の低下が認められる。A combination of polyphenylene ether and polystyrene has been proposed for the purpose of lowering the softening point and improving processability (see, for example, Japanese Patent Publication No. 17812/1983). When polystyrene is mixed with polyphenylene ether, a decrease in impact resistance is usually observed.
衝撃性を向上させることを目的として、ポリブタジエン
あるいはスチレン−ブタジエン共重合体などのゴム質重
合体との組成物が提供されている(特公昭47−327
30号公報など)。ポリフエニレンエーテルは、本来、
主鎖分裂し難く、加熱による物性低下の比較的少ない樹
脂である。Compositions with rubbery polymers such as polybutadiene or styrene-butadiene copolymers have been provided for the purpose of improving impact resistance (Japanese Patent Publication No. 47-327).
30, etc.). Polyphenylene ether is originally
It is a resin that is resistant to main chain splitting and has relatively little deterioration in physical properties due to heating.
しかし、ポリスチレンあるいはゴム質重合体との混合物
では、熱あるいは熱酸化によるポリスチレンの主鎖分裂
、ゴム質重合体中の二重結合の開裂などによつて物性低
下が生ずる。このため、射出成形する際にシリンダー温
度が高くなると衝撃強度が低下したり、軟化点以下の温
度でも長時間曝すことによつて物性が低下する。極端な
場合には、高温下における溶融成形において、発生した
低分子量物質が成形品表面に銀条痕として残ることもあ
る。この他に物性低下は、光に長時間曝した場合にも生
ずる。本発明の目的は、ポリフエニレンエーテル系樹脂
、特にポリフエニレンエーテル含有樹脂組成物に添加す
ることにより優れた耐熱性、耐光性及び耐候性等の安定
化効果を与えることのできる安定剤を提供することにあ
る。However, in the case of polystyrene or a mixture with a rubbery polymer, physical properties deteriorate due to main chain splitting of the polystyrene due to heat or thermal oxidation, cleavage of double bonds in the rubbery polymer, etc. For this reason, when the cylinder temperature increases during injection molding, the impact strength decreases, and even if exposed to a temperature below the softening point for a long time, the physical properties deteriorate. In extreme cases, low molecular weight substances generated during melt molding at high temperatures may remain as silver streaks on the surface of the molded product. In addition, deterioration of physical properties also occurs when exposed to light for a long time. The object of the present invention is to provide a stabilizer that can provide stabilizing effects such as excellent heat resistance, light resistance, and weather resistance when added to polyphenylene ether-based resins, particularly polyphenylene ether-containing resin compositions. It is about providing.
すなわち、本発明は、下記一般式(a)又は(b)で表
わされるホスホリツクアミド化合物の少くとも一種を含
んでなることを特徴とするポリフエニレンエーテル系樹
脂用安定剤を提供する:(絃にRl,R2及びR,は各
々水素、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はア
ルキルアリール基を表わし、R3,R4,R6,R7,
R8及びR,は各々水素又は炭素数1〜4のアルキル基
を表わす)。That is, the present invention provides a stabilizer for polyphenylene ether resins, which is characterized by containing at least one type of phosphoric amide compound represented by the following general formula (a) or (b): ( In the string, Rl, R2 and R each represent hydrogen, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group or an alkylaryl group, and R3, R4, R6, R7,
R8 and R each represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms).
上記一般式で表わされるホスホリツクアミド化合物の代
表例を挙げると、ジブトキシホスホリツクアミド、ジフ
エノキシホスホリツクアミド、ビスノニルフエノキシホ
スホリツクアミド、ジ一n一プロピオキシホスホリツク
ジブチルアミド、ジフエノキシホスホリツクジエチルア
ミド、ビスメチルフエノキシホスホリツクジプロピルア
ミド、ビスフエニルメトキシホスホリツクアミド、フ工
ノキシホスホリツクジアミド、フエノキシホスホリツク
テトラメチルジアミドなどがある。Typical examples of phosphoric amide compounds represented by the above general formula include dibutoxyphosphoric amide, diphenoxyphosphoric amide, bisnonylphenoxyphosphoric amide, di-n-propoxyphosphoric dibutyramide, Examples include diphenoxyphosphoric diethylamide, bismethylphenoxyphosphoric dipropylamide, bisphenylmethoxyphosphoricamide, phenoxyphosphoric diamide, and phenoxyphosphoric tetramethyldiamide.
本発明の安定剤において、上記ホスホリツクアミド化合
物が含有されることが必須であるが、更に他の化合物を
併用することもできる。Although it is essential that the stabilizer of the present invention contains the above-mentioned phosphoric amide compound, other compounds can also be used in combination.
これらの化合物の具体例としては、下記の化合物群が挙
げられる:1.亜リン酸エステル及びリン酸エステルL
立体障害フエノール
]]1.ヒドロキシベンゾトリノアゾール及びヒドロキ
シベンゾフエノン上記化合物群1〜の任意の一つ又は二
つ以上を組合わせて該ホスホリツクアミド化合物と併用
することができる。Specific examples of these compounds include the following compound groups:1. Phosphite ester and phosphate ester L
Sterically hindered phenol]1. Hydroxybenzotrinoazole and hydroxybenzophenone Any one or more of the above compounds from group 1 can be used in combination with the phosphoric amide compound.
本発明にいう亜リン酸エステルの具体例としては、トリ
フエニレンホスフアイト、トリスノニルフエニルホスフ
アイト、トリデシルホスフアイト、トリオクチルホスフ
アイト、ジフエニルモノデシルホスフアイト、モノフエ
ニルジオクチルホスフアイト、トリp一第三−アミルホ
スフアイト、トリス一p−クミルフエニルホスフアイト
、トリスビスフエノールAホスフアイト、ジビスフエノ
ールAモノペンタエリスリトールホスフアイト、モノビ
スフエノールAジペンタエリスリトールホスフアト、ビ
スフエノールAペンタエリスリトールホスフアイトポリ
マ一などが挙げられる。Specific examples of the phosphite referred to in the present invention include triphenylene phosphite, trisnonylphenyl phosphite, tridecyl phosphite, trioctyl phosphite, diphenyl monodecyl phosphite, monophenyl dioctyl phosphite, Tri-p-tertiary-amyl phosphite, tris-p-cumyl phenyl phosphite, tris-bisphenol A phosphite, dibisphenol A monopentaerythritol phosphite, monobisphenol A dipentaerythritol phosphite, bisphenol A penta Examples include erythritol phosphite polymer.
本発明にいうリン酸エステルの具体例としては、トリフ
エニレンホスフエート、トリスノニルフエニルホスフエ
ート、トリオクチルホスフエート、トリデシルホスフエ
ート、ジフエニルモノオクチルホスフエートなどが挙げ
られる。Specific examples of the phosphoric acid ester according to the present invention include triphenylene phosphate, trisnonylphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tridecyl phosphate, diphenyl monooctyl phosphate, and the like.
ホスホリツクアミドを単独で使用した場合、高温下で、
樹脂が着色することがある。When phosphoric amide is used alone, at high temperatures,
Resin may become colored.
ホスホリツクアミドと亜リン酸エステルおよび、または
リン酸エステルとを組合せて使用することによりこの欠
点は改良される。更に、熱による物性低下もより抑えら
れるという利点が生ずる。ポリフエニレンエーテルを含
む組成物の耐候性あるいは耐光性を改良するために、ヒ
ドロキシベンゾトリアゾールまたはヒドロキシベンゾフ
エノン及び/又は立体障害フエノールを用いた場合、屋
外暴露あるいはウエザメータ一による照射後の低温衝撃
強度の低下が大きい。This drawback is remedied by the use of phosphoric amides in combination with phosphorous esters and/or phosphoric esters. Furthermore, there is an advantage that deterioration of physical properties due to heat can be further suppressed. When hydroxybenzotriazole or hydroxybenzophenone and/or sterically hindered phenol is used to improve the weather resistance or light resistance of a composition containing polyphenylene ether, low temperature shock after outdoor exposure or irradiation with a weather meter may be used. Significant decrease in strength.
ホスホリツクアミドとヒドロキシベンゾトリアゾール、
ヒドロキシベンゾフエノンおよび立体障害フエノールを
組合せ使用することによつてこの欠点は著しく改良され
る。またホスホリツクアミドと立体障害フエノールとの
組合せまたはホスホリツクアミド、立体障害フエノール
および亜リン酸エステルの組合せで、熱あるいは熱酸化
による物性低下が著しく抑えられる。本発明にいうヒド
ロキシベンゾトリアゾールの具体例としては、2(2′
−ヒドロキシ−5/−メチルフエニル)ベンゾトリアゾ
ール、2(2′一ヒドロキシ一3′,5/−ジ一t−メ
チルフエニル)ベンゾトリアゾール、2(2′−ヒドロ
キシ−5′−t−ブチルフエニル)ベンゾトリアゾール
、2(2/−ヒドロキシ−3/,5′−t−ブチルフエ
ニル)ベンゾトリアゾール、2(2′−ヒドロキシ−3
2−t−ブチル−5/−メチルフエニル)ベンゾトリア
ゾール、2(2/−ヒドロキシ−4−オクトキシフエニ
ル)ベンゾトリアゾール、2(2′−ヒドロキシ−3′
−t−ブチル−5′−メチルフエニル)−5−クロルベ
ンゾトリアゾール、2(2/−ヒドロキシ−3/,5/
−t−ブチルフエニル)−5−クロルベンゾトリアゾー
ルなどが挙げられる。phosphoric amide and hydroxybenzotriazole,
By using a combination of hydroxybenzophenones and sterically hindered phenols, this drawback is significantly improved. Further, the combination of phosphoric amide and sterically hindered phenol or the combination of phosphoric amide, sterically hindered phenol and phosphite ester significantly suppresses the deterioration of physical properties due to heat or thermal oxidation. Specific examples of hydroxybenzotriazole according to the present invention include 2(2'
-hydroxy-5/-methylphenyl)benzotriazole, 2(2'-hydroxy-3',5/-di-t-methylphenyl)benzotriazole, 2(2'-hydroxy-5'-t-butylphenyl)benzotriazole, 2(2/-hydroxy-3/,5'-t-butylphenyl)benzotriazole, 2(2'-hydroxy-3
2-t-butyl-5/-methylphenyl)benzotriazole, 2(2/-hydroxy-4-octoxyphenyl)benzotriazole, 2(2'-hydroxy-3'
-t-butyl-5'-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2(2/-hydroxy-3/,5/
-t-butylphenyl)-5-chlorobenzotriazole and the like.
ヒドロキシベンゾフエノンの具体例としては、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフエノン、2−ヒドロキシ
−4−オクトキシベンゾフエノン、5−クロル−2−ヒ
ドロキシベンゾフエノン、2,4−ジヒドロキシベンゾ
フエノン、2−ヒドロキシ−4−ベンゾロキシベンゾフ
エノン、2−ヒドロキシ4(2−ヒドロキシ−3メタク
ロキシ)プロピオキシベンゾフエノンなどが挙げられる
。本発明にいう立体障害フエノールの具体例としては、
2,6−ジ一t−ブチル−p−タレゾール、ブチルヒド
ロキシアニゾール、2,6−ジ一tーブチル−α−ジメ
チルアミノ−p−クレゾール、n−オクタデシル−3−
(4/−ヒドロキシ−3′,5′−ジ一t−ブチルフエ
ノール)プロピオネート、メチル3,4,5−トリヒド
ロキシベンゾエート、2,2−メチレン−ビス(6−t
−ブチル−4−メチルフエノール)、ビス〔3,3−ビ
ス(4′−ヒドロキシ−3′一第三ブチルフエノール)
ブチリツクアミド〕グリ・コールエステル、4,4′−
チオ−ビス(6−t−ブチル−3−メチルフエノール)
、4,4′−ブチルデンビス(3−メチル−6−t−ブ
チルフエノール)、1,3,5−トリス(3′,5′−
ジ一t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾール)イソシア
ヌレート、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒド
ロキシ−5−t−ブチルフエノール)ブタン、1,3,
5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジーt
−ブチル4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン等が挙げら
れる。Specific examples of hydroxybenzophenone include 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 5-chloro-2-hydroxybenzophenone, and 2,4-dihydroxybenzophenone. Examples include phenone, 2-hydroxy-4-benzoloxybenzophenone, 2-hydroxy-4(2-hydroxy-3-methacroxy)propioxybenzophenone, and the like. Specific examples of sterically hindered phenols according to the present invention include:
2,6-di-t-butyl-p-talesol, butylhydroxyanisole, 2,6-di-t-butyl-α-dimethylamino-p-cresol, n-octadecyl-3-
(4/-hydroxy-3',5'-di-t-butylphenol)propionate, methyl 3,4,5-trihydroxybenzoate, 2,2-methylene-bis(6-t
-butyl-4-methylphenol), bis[3,3-bis(4'-hydroxy-3'-tert-butylphenol)
Butirucamide] glycol ester, 4,4'-
Thio-bis(6-t-butyl-3-methylphenol)
, 4,4'-butyldenbis(3-methyl-6-t-butylphenol), 1,3,5-tris(3',5'-
di-t-butyl-4-hydroxybenzole) isocyanurate, 1,1,3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenol)butane, 1,3,
5-trimethyl-2,4,6-tris(3,5-di-t)
-butyl 4-hydroxybenzyl)benzene and the like.
本発明の安定剤をポリフエニレンエーテル系樹脂に添加
する際に適当なホスホリツクアミドの添加量は0.1〜
15重量%(樹脂重量基準)更に好ましくは、0.5〜
10重量%である。When adding the stabilizer of the present invention to polyphenylene ether resin, the appropriate amount of phosphoric amide to be added is from 0.1 to
15% by weight (resin weight basis) More preferably 0.5~
It is 10% by weight.
添加量が1重量%以下である場合は、安定化効果が低い
ため好ましくない。添加量が15重量%を越える場合は
、ホスホリツクアミドにより樹脂が可塑化されるため、
耐熱性が極端に低下するなどして好ましくない。ホスホ
リツクアミド化合物と併用出来る11およびの化合物群
の任意の一つまたは2つ以上の混合物の添加量は0.0
5〜6重量%、更に好しくは0.1〜4重量%が望しい
。If the amount added is less than 1% by weight, the stabilizing effect will be low, which is not preferable. If the amount added exceeds 15% by weight, the resin will be plasticized by phosphoric amide.
This is not preferable because heat resistance is extremely reduced. The amount added of any one or a mixture of two or more of the compound groups 11 and 11 that can be used in combination with the phosphoric amide compound is 0.0
5 to 6% by weight, more preferably 0.1 to 4% by weight.
添加量が0.05重量%以下である場合は安定化効果が
小さく、6重量%以上では物性を低下させるため好まし
くない。本発明において、ポリフエニレンエーテル系樹
脂とは、ポリフエニレンエーテル及びポリフエニレンエ
ーテルを主成分として含有する共重合体及び樹脂組成物
を指す。ポリフエニレンエーテルとは、一般式(R,.
R2,R3,R4,現,R6は同一又は異るTert−
ブチル基を除く炭素数1〜4のアルキル基、アリール基
、ハロゲン、水素等の一価の残基であり、R,,R6は
同時に水素ではない。If the amount added is less than 0.05% by weight, the stabilizing effect will be small, and if it is more than 6% by weight, the physical properties will deteriorate, which is not preferable. In the present invention, polyphenylene ether resin refers to polyphenylene ether and copolymers and resin compositions containing polyphenylene ether as a main component. Polyphenylene ether has the general formula (R, .
R2, R3, R4, current, R6 are the same or different Tert-
It is a monovalent residue such as an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms excluding a butyl group, an aryl group, a halogen, or hydrogen, and R, and R6 are not hydrogen at the same time.
)を繰返し単位とし、構成単位が〔1〕、又は〔1〕及
び〔〕からなるポリフエニレンエーテルを示す。具体例
として、ポリフエニレンエーテルの単独重合体の代表例
としては、ポリ(2,6−ジメチル−1.4−フエニレ
ン)エーテル、ポリ(2−メチル−6−エチル−1,4
−フエニレン)エーテル、ポリ(2,6−ジエチル−1
,4−フエニレン)エーテル、ポリ(2−エチル−6−
nプロピル−1,4−フエニレン)エーテル、ポリ(2
,6−ジ一nプロピル−1,4−フエニレン)エーテル
、ポリ(2−メチル−6−nブチル−1,4一フエニレ
ン)エーテル、ポリ(2−エチル−6−イソプロピル−
1,4−フエニレン)エーテル、ポリ(2−メチル−6
−クロル−1,4−フエニレン)エーテル、ポリ(2−
メチル−6−ヒドロキシエチル−1,4−フエニレン)
エーテル、ポリ(2−メチル−6−クロロエチル−1,
4−フエニレン)エーテル等のホモポリマーが挙げられ
る。ポリフエニレンエーテル共重合体は、一般式(ここ
にR3,R,i,R5,R6はTert−ブチル基を除
く炭素数1〜4のアルキル基、アリール基、ハロゲン、
水素等の一価の残基であり、R5,R6は同時に水素で
はない。) is a repeating unit, and the constituent units are [1] or [1] and []. As specific examples, representative examples of homopolymers of polyphenylene ether include poly(2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether, poly(2-methyl-6-ethyl-1,4
-phenylene)ether, poly(2,6-diethyl-1)
,4-phenylene)ether, poly(2-ethyl-6-
n-propyl-1,4-phenylene) ether, poly(2
, 6-di-1-n-propyl-1,4-phenylene) ether, poly(2-methyl-6-n-butyl-1,4-phenylene) ether, poly(2-ethyl-6-isopropyl-
1,4-phenylene)ether, poly(2-methyl-6)
-chloro-1,4-phenylene)ether, poly(2-
methyl-6-hydroxyethyl-1,4-phenylene)
ether, poly(2-methyl-6-chloroethyl-1,
Examples include homopolymers such as 4-phenylene) ether. The polyphenylene ether copolymer has the general formula (where R3, R, i, R5, R6 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms excluding tert-butyl group, aryl group, halogen,
It is a monovalent residue such as hydrogen, and R5 and R6 are not hydrogen at the same time.
)で表わされる2,3,6−トリメチルフエノール等又
はo−クレゾールなどのアルキル置換フエノールと共重
合して得られるポリフエニレンエーテル構造を主体とし
てなるポリフエニレンエーテル共重合体を包含する。ま
た、これらのポリフエニレンエーテルが、スチレン系化
合物またはスチレン系化合物を含むビニル化合物により
グラスト重合されていてもよい。この種のグラスト重合
体に対して本発明のホスホリツクアミドは特に顕著な安
定化効果を示す。本発明の安定剤が特に有効に利用され
るのは、上記ポリフエニレンエーテルの他にスチレン系
化合物重合体及び/又はゴム質重合体を含有する共重合
体又は樹脂混合組成物である。該共重体または樹脂混合
物組成物において、本発明の安定剤が特に有効なのは、
ポリフエニレンエーテルおよびゴム質重合体の含有量が
、それぞれ、25重量%以上および30重量%以下の場
合である。), or a polyphenylene ether copolymer mainly composed of a polyphenylene ether structure obtained by copolymerizing with an alkyl-substituted phenol such as 2,3,6-trimethylphenol or o-cresol. Moreover, these polyphenylene ethers may be blast polymerized with a styrene compound or a vinyl compound containing a styrene compound. The phosphoric amides of the present invention exhibit a particularly significant stabilizing effect on this type of glast polymer. The stabilizer of the present invention is particularly effectively used in copolymers or resin mixture compositions containing a styrene compound polymer and/or a rubbery polymer in addition to the above-mentioned polyphenylene ether. In the copolymer or resin mixture composition, the stabilizer of the present invention is particularly effective because:
This is a case where the contents of polyphenylene ether and rubbery polymer are 25% by weight or more and 30% by weight or less, respectively.
ポリフエニレンエーテル量が25重量%以下の場合は本
発明の安定剤を特に添加する必要はなく、ゴム質重合体
の量が30重量%以上の場合は、本発明の安定剤による
安定化効果が十分に発揮されないためである。本発明に
いうスチレン系化合物とは、スチレンおよびスチレンの
アルキル化、ハロゲン化などの誘導体を示し、それらの
具体例としては、α−メチルスチレン、2,4−ジメチ
ルスチレン、モノクロルスチレン、ジクロルスチレン、
p−メチルスチレン、p − t −ブチルスチレン、
エチルスチレンなどが挙げられる。When the amount of polyphenylene ether is 25% by weight or less, there is no particular need to add the stabilizer of the present invention, and when the amount of rubbery polymer is 30% by weight or more, the stabilizing effect of the stabilizer of the present invention is achieved. This is because it is not fully demonstrated. The styrene compounds referred to in the present invention refer to styrene and alkylated, halogenated, etc. derivatives of styrene, and specific examples thereof include α-methylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, monochlorostyrene, and dichlorostyrene. ,
p-methylstyrene, p-t-butylstyrene,
Examples include ethylstyrene.
本発明にいうスチレン系化合物を含む共重合体とは、ス
チレン系化合物およびスチレン系化合物と共重合可能な
ビニル化合物とより成る共重合を意味する。共重合可能
なビニルモノマーの例としては、メチルメタクリレート
、エチルメタクリレートなどのメタクリル酸エステル類
、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレー
トなどのアクリル酸エステル、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリルなどの不飽和ニトリル化合物類又は無水
マレイン酸、マレイン酸またはフマル酸などが挙げられ
る。本発明にいうゴム質重合体とは、共役ジエン類より
誘導される合成ゴム、エチレン一α−オレフィンーポリ
エンシ元共重合体、エチレンとメタクリル酸エステル類
の共重合体およびその他のゴム様挙動を示す物質を示す
。The copolymer containing a styrene compound as used in the present invention means a copolymer comprising a styrene compound and a vinyl compound copolymerizable with the styrene compound. Examples of copolymerizable vinyl monomers include methacrylic esters such as methyl methacrylate and ethyl methacrylate, acrylic esters such as butyl acrylate and 2-ethylhexyl acrylate, unsaturated nitrile compounds such as acrylonitrile and methacrylonitrile, or anhydrous Examples include maleic acid, maleic acid or fumaric acid. The rubbery polymers referred to in the present invention include synthetic rubbers derived from conjugated dienes, ethylene-α-olefin-polyene copolymers, copolymers of ethylene and methacrylic acid esters, and other rubber-like polymers. Indicates a substance that exhibits
例えば、ポリブタジエンゴム、ブタジエン−スチレン共
重合型ゴム又はその水素添加物、ブタジエン−アクリロ
ニトリル共重合型ゴム、ポリイソプレンゴム、エチレー
プロピレン共重合型ゴム、エチレンーメチルメタクリレ
ート共重合体などがその具体例として挙げられる。これ
らのゴム質重合体は単独でもまたは二種以上の組合せで
も良い。ゴム質重合体は、スチレン系化合物あるいはス
チレン系化合物を含む共重合体とより成るグラスト共重
合体であることが更に好ましい。本発明において、ホス
ホリツクアミド、亜リン酸エステル、リン酸エステル、
立体障害フエノール、ヒドロキシベンゾトリアゾール、
ヒドロキシコベンゾフエノンを樹脂に混合する方法とし
ては、押出機あるいはニーダ一などの溶融混練、溶液混
合またはポリフエニレンエーテルとスチレン系化合物等
をグラフト重合する際に添加して混合する方法などが挙
げられる。Specific examples include polybutadiene rubber, butadiene-styrene copolymer rubber or its hydrogenated product, butadiene-acrylonitrile copolymer rubber, polyisoprene rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, and ethylene-methyl methacrylate copolymer. It is mentioned as. These rubbery polymers may be used alone or in combination of two or more. More preferably, the rubbery polymer is a glazed copolymer comprising a styrene compound or a copolymer containing a styrene compound. In the present invention, phosphoric amide, phosphite, phosphate ester,
Sterically hindered phenol, hydroxybenzotriazole,
Methods for mixing hydroxycobenzophenone with resin include melt kneading using an extruder or kneader, solution mixing, or adding and mixing when graft polymerizing polyphenylene ether and styrene compounds. Can be mentioned.
しかし、これらの方法によつて限定されるものではない
。以下、実施例によつて、本発明を更に詳しく説明する
。However, the method is not limited to these methods. Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
しかし本発明はこれらの実施例によつて限定されるもの
ではない。実施例における部ならびに%は全て重量基準
である。色は射出成形品をJIS−Z872lに基づき
判定した。欄中の数値は色相、明度/彩度を表わす。耐
候性はカーボンアークを光源として用いたサンシヤイン
ウエザーメーター内で照射した試験片の−30℃におけ
るアイゾツト衝撃値の保持率によつて判定した。照射は
63℃、50%RHで200時間行つた。耐熱曝露性は
130℃のギヤオーブン内で400時間熱処理した試験
片の引張破断伸びの保持率によつて判定した。耐熱性は
射出成形機のシリンダー温度が300℃である場合のア
イゾツト衝撃値が、260℃の場合に対し何%保持され
たかで判定した。銀条痕の有無はシリンダー温度320
℃の場合の成形品で判定した。熱変形温度は、ASTM
−D648に基づき測定した。実施例 1
クロロホルムを溶媒として、30℃で測定した固有機度
〔η〕が0.45d1/9であるポリ(2,6−ジメチ
ルフエニレン一1,4−エーテル)50部と14%の1
,4−トランスブタジエンを含む耐衝撃性ポリスチレン
50部とよりなる樹脂/組成物にジフエノキシホスホリ
ツクアミドを2部添加した組成物の物性を表−1に示す
。However, the present invention is not limited to these examples. All parts and percentages in the examples are by weight. The color of the injection molded product was determined based on JIS-Z872l. The numbers in the column represent hue and brightness/saturation. Weather resistance was determined by the retention of Izot impact value at -30°C of the test piece irradiated in a sunshine weather meter using a carbon arc as a light source. Irradiation was carried out at 63° C. and 50% RH for 200 hours. Heat exposure resistance was determined by the retention of tensile elongation at break of a test piece heat-treated for 400 hours in a gear oven at 130°C. Heat resistance was determined based on what percentage of the Izod impact value was maintained when the cylinder temperature of the injection molding machine was 300°C compared to when it was 260°C. The presence or absence of silver streaks is determined by the cylinder temperature of 320
The molded product was evaluated at ℃. Heat distortion temperature is ASTM
- Measured based on D648. Example 1 50 parts of poly(2,6-dimethylphenylene-1,4-ether) and 14% of poly(2,6-dimethylphenylene-1,4-ether) having an intrinsic degree [η] of 0.45 d1/9 measured at 30°C using chloroform as a solvent
Table 1 shows the physical properties of a composition prepared by adding 2 parts of diphenoxyphosphoric amide to a resin/composition consisting of 50 parts of high-impact polystyrene containing , 4-trans-butadiene.
比較のために、実施例1において、ジフエノキシホスホ
リツクアミドを含まない組成物(比較例1)の物性も表
−1に示す。For comparison, Table 1 also shows the physical properties of a composition (Comparative Example 1) that does not contain diphenoxyphosphoric amide in Example 1.
実施例 2
〔η〕が0.45d1/9であるポリ(2,6−ジメチ
ル−1,4−フエニレンエーテルJモV部とポリスチレン
23部とよりなるグラフト重合体65部と20%の1,
4−トランスブタジコンを含む耐衝撃性ポリスチレンと
よりなるグラフト重合体組成物にジフエノキシホスホリ
ツクアミド3部、ジビ゛スフエノールAモノペンタエリ
スリトールホスフアイト1部、トリフエニレンホスフエ
ード4部を添加した組成物の物性を表−2に示す。Example 2 65 parts of a graft polymer consisting of poly(2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether J mo V part and 23 parts of polystyrene) with [η] of 0.45 d1/9 and 20% of 1 ,
3 parts of diphenoxyphosphoric amide, 1 part of dibisphenol A monopentaerythritol phosphate, and 4 parts of triphenylene phosphate were added to a graft polymer composition consisting of high-impact polystyrene containing 4-trans-butadicone. Table 2 shows the physical properties of the composition.
比較のため、実施例2においてジフエノキシホ・ースホ
リツクアミドおよびジビスフエノールAモノペンタエリ
スリトールホスフアイトが全てトリフエニレンホスフエ
ートである組成物、すなわち、トリフエニレンホスフエ
ートのみを8部添加した組成物(比較例2)の物性も表
−2に示す。実施例 3実施例1において、更に0.5
部のn−オクタデシル− 3 −( 4 ′ −ヒドロ
キシ− 3 ′,5 ′ −ジ一t−ブチル−4−ブチ
ルフエノール)プロピオネートを添加した組成物の物性
を表−3に示す。For comparison, in Example 2, a composition in which diphenoxyphosphoric amide and dibisphenol A monopentaerythritol phosphite were all triphenylene phosphate, that is, 8 parts of only triphenylene phosphate was added. The physical properties of the composition (Comparative Example 2) are also shown in Table-2. Example 3 In Example 1, further 0.5
Table 3 shows the physical properties of the composition to which n-octadecyl-3-(4'-hydroxy-3',5'-di-t-butyl-4-butylphenol)propionate was added.
区比較のため、比較例1において、更に0.5部のn
−オクタデシル− 3 −( 4 ′ −ヒドロキシ−
3’,5’−ジ一 t −ブチル−4−ブチルフエノー
ル)プロピオネートを添加した組成物(比較例3)の物
性も表−3に示す。実施例 4
実施例2で用いたと同じグフフト重合体65部、50部
のエチレンーメチルメタクリレート共重合体と50部の
ポリスチレンよりなるグラフト共重合体20部および2
0%の1,4−トランスブタジエンを含む耐衝撃性ポリ
スチレン15部とよりなるグラフト重合体樹脂組成物に
2部のジフエノキシホスホリツクアミド、0.5部のト
リス− p −t−アミルフエニルホスフアイト、0.
5部の2 ※(2′−ヒドロキシ− 5 ′ −メチル
フエニル)ベンゾトリアゾールおよび0.5部のn−オ
クタデシル− 3 −( 4 ′ −ヒドロキシ− 3
′,5 ′ −ジ一t−ブチル−4−ブチルフエノー
ル)プロピオネートを添加して得た組成物の物性を表−
4に示す。For comparison, in Comparative Example 1, 0.5 parts of n
-octadecyl-3-(4'-hydroxy-
Table 3 also shows the physical properties of the composition (Comparative Example 3) to which 3',5'-di-t-butyl-4-butylphenol propionate was added. Example 4 65 parts of the same Goofft polymer used in Example 2, 20 parts of a graft copolymer consisting of 50 parts of ethylene-methyl methacrylate copolymer and 50 parts of polystyrene, and 2
A graft polymer resin composition consisting of 15 parts of high-impact polystyrene containing 0% 1,4-trans-butadiene, 2 parts of diphenoxyphosphoric amide, and 0.5 parts of tris-p-t-amyl fluoride. enylphosphite, 0.
5 parts of 2*(2'-hydroxy-5'-methylphenyl)benzotriazole and 0.5 parts of n-octadecyl-3-(4'-hydroxy-3
The physical properties of the composition obtained by adding ',5'-di-t-butyl-4-butylphenol) propionate are shown below.
4.
比較のため、実施例4において、ジフエノキシホスホリ
ツクアミドおよびトリス− p − t −アミルフエ
ニルホスフアイトを含まない組成物(比較例4)の物性
も表−4に示す。実施例 5 ″
/,
実施例2で用いたと同じグラフト重合体組成物にジフエ
ノキシホスホリツクジメチルアミドの添加量を変えて添
加した組成物の物性を表−5に示す。For comparison, Table 4 also shows the physical properties of a composition (Comparative Example 4) that does not contain diphenoxyphosphoric amide and tris-p-t-amyl phenyl phosphite in Example 4. Example 5''/, Table 5 shows the physical properties of compositions in which diphenoxyphosphoric dimethylamide was added to the same graft polymer composition used in Example 2 in different amounts.
実施例 6
実施例1においてポリフエニレンエーテルが〔η〕が0
.38d1/yであるポリ(2,6−ジフエニルフエニ
レン一1,4−エーテル)である・場合の物性を表−6
に示す。Example 6 In Example 1, polyphenylene ether has [η] of 0.
.. Table 6 shows the physical properties of poly(2,6-diphenylphenylene-1,4-ether) with 38d1/y.
Shown below.
比較のため、比較例1においてポリフエニレンエーテル
が実施例6で用いたと同じものである場合(比較例5)
の物性も表−6に示す。For comparison, when the polyphenylene ether in Comparative Example 1 is the same as that used in Example 6 (Comparative Example 5)
The physical properties of are also shown in Table-6.
実施例 7
実施例2で用いたと同じポリフエニレンエーテル74部
と27%のアクリロニトリルを含むスチレン−アクリロ
ニトリル共重合体26部とよりなるグラフト重合体65
部と40%のブタジエンを含むアクリロニトリル−ブタ
ジエン−スチレン三元共重合体35部とよりなるグラフ
ト共重合体組成物に1部のフエノキシホスホリツクジア
ミド、ε・1部のトリフエニレンホスフアイトおよび0
.5部の2,2−メチレン−ビス( 6 − t −ブ
チル−4−メチルフエノール)を添加した組成物の物性
を表−7に示す。Example 7 Graft polymer 65 consisting of 74 parts of the same polyphenylene ether used in Example 2 and 26 parts of a styrene-acrylonitrile copolymer containing 27% acrylonitrile.
1 part of phenoxyphosphoric diamide, 1 part of triphenylene phosphite, and 35 parts of acrylonitrile-butadiene-styrene terpolymer containing 40% butadiene. and 0
.. Table 7 shows the physical properties of the composition to which 5 parts of 2,2-methylene-bis(6-t-butyl-4-methylphenol) was added.
比較のため、実施例7において1部のフエノキシホスホ
リツクジアミドを含まない組成物(比較例6)の物性も
表−7に示す。For comparison, Table 7 also shows the physical properties of a composition (Comparative Example 6) that does not contain one part of phenoxyphosphoric diamide in Example 7.
実施例 8
実施例2において用いたと同じグラフト重合体組成物に
1.5部のビスメチルフエノキシホスホリツクジプロピ
ルアミドおよび0.5部の、2−ヒドロキシ−4−メト
キシベンゾフエノンを添加した組成物の物性を表−8に
示す。Example 8 To the same graft polymer composition used in Example 2 was added 1.5 parts of bismethylphenoxyphosphoric dipropylamide and 0.5 parts of 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone. Table 8 shows the physical properties of the composition.
比較のため、実施例8において、ビスメチルフエノキシ
ホスホリツクプロピルアミドを含まない組成物(比較例
7)の物性も表−8に示す。For comparison, Table 8 also shows the physical properties of a composition (Comparative Example 7) that does not contain bismethylphenoxyphosphoric propylamide in Example 8.
Claims (1)
ックアミド化合物の少くとも一種を含んでなることを特
徴とするポリフェニレンエーテル系樹脂用安定剤:(a
)▲数式、化学式、表等があります▼(b)▲数式、化
学式、表等があります▼(■にR_1、R_2及びR_
5は各々水素、アルキル基、アリール基、アラルキル基
又はアルキルアリール基を表わし、R_3、R_4、R
_6、R_7、R_8及びR_9は各々水素又は炭素数
1〜4のアルキル基を表わす)。 2 実質的に該ホスホリックアミド化合物の一種又は二
種以上のみより構成されている特許請求の範囲第1項記
載の安定剤。 3 該ホスホリックアミド化合物の一種又は二種以上と
立体障害フェノールの一種又は二種以上とよりなる特許
請求の範囲第1項記載の安定剤。 4 該ホスホリックアミド化合物の一種又は二種以上と
、亜リン酸エステル及びリン酸エステルよりなる群から
選ばれた一種又は二種以上とよりなる特許請求の範囲第
1項記載の安定剤。 5 該ホスホリックアミド化合物の一種又は二種以上と
、立体障害フェノールの一種又は二種以上と、亜リン酸
エステル及びリン酸エステルよりなる群から選ばれた一
種又は二種以上とよりなる特許請求の範囲第1項記載の
安定剤。 6 該ホスホリックアミド化合物の一種又は二種以上と
、ヒドロキシベンゾトリアゾール及びヒドロキシベンゾ
フェノンよりなる群から選ばれた一種または二種以上と
よりなる特許請求の範囲第1項記載の安定剤。 7 該ホスホリックアミド化合物の一種又は二種以上と
、立体障害フェノールの一種又は二種以上と、ヒドロキ
シベンゾトリアゾール及びヒドロキシベンゾフェノンよ
りなる群から選ばれた一種または二種以上とよりなる特
許請求の範囲第1項記載の安定剤。 8 該ホスホリックアミド化合物の一種又は二種以上と
、亜リン酸エステル及びリン酸エステルよりなる群から
選ばれた一種又は二種以上と、ヒドロキシベンゾトリア
ゾール及びヒドロキシベンゾフェノンよりなる群から選
ばれた一種又は二種以上とよりなる特許請求の範囲第1
項記載の安定剤。 9 該ホスホリックアミド化合物の一種又は二種以上と
、立体障害フェノールの一種又は二種以上と、亜リン酸
エステル此びリン酸エステルよりなる群から選ばれた一
種又は二種以上と、ヒドロキシベンゾトリアゾール及び
ヒドロキシベンゾフェノンよりなる群から選ばれた一種
又は二種以上とよりなる特許請求の範囲第1項記載の安
定剤。 10 該ホスホリックアミド化合物がジフェノキシホス
ホリックアミドである特許請求の範囲第1項〜第9項の
いずれかに記載の安定剤。 11 亜リン酸エステルが、トリフェニレンホスファイ
ト、トリス−ビスフェノールAホスファイト又はトリ−
p−t−アミルフエニルホスフアイトである特許請求の
範囲第4項、第5項、第8項又は第9項記載の安定剤。 12 リン酸エステルが、トリフェニレンホスフェート
、トリクレジルホスフエート又はジフェニルノニルホス
フェートである特許請求の範囲第4項、第5項、第8項
又は第9項記載の安定剤。 13 該ホスホリックアミド化合物がジフェノキシホス
ホリックアミドである特許請求の範囲第11項又は第1
2項記載の安定剤。[Scope of Claims] 1. A stabilizer for polyphenylene ether resins characterized by containing at least one phosphoric amide compound represented by the following general formula (a) or (b): (a)
) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (b) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (■ is R_1, R_2 and R_
5 each represents hydrogen, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, or an alkylaryl group, R_3, R_4, R
_6, R_7, R_8 and R_9 each represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). 2. The stabilizer according to claim 1, which is substantially composed of one or more of the phosphoric amide compounds. 3. The stabilizer according to claim 1, which comprises one or more phosphoric amide compounds and one or more sterically hindered phenols. 4. The stabilizer according to claim 1, which comprises one or more of the phosphoric amide compounds and one or more selected from the group consisting of phosphorous esters and phosphoric esters. 5. A patent claim consisting of one or more phosphoric amide compounds, one or more sterically hindered phenols, and one or more selected from the group consisting of phosphorous esters and phosphoric esters. The stabilizer according to item 1. 6. The stabilizer according to claim 1, which comprises one or more of the phosphoric amide compounds and one or more selected from the group consisting of hydroxybenzotriazole and hydroxybenzophenone. 7 Claims consisting of one or more phosphoric amide compounds, one or more sterically hindered phenols, and one or more selected from the group consisting of hydroxybenzotriazole and hydroxybenzophenone. Stabilizer according to paragraph 1. 8 One or more of the phosphoric amide compounds, one or more selected from the group consisting of phosphorous esters and phosphoric esters, and one selected from the group consisting of hydroxybenzotriazole and hydroxybenzophenone. or the first claim consisting of two or more types.
Stabilizers listed in section. 9 One or more of the phosphoric amide compounds, one or more of the sterically hindered phenols, one or more of the phosphorous esters, and one or more of the phosphoric amide compounds, and one or more of the phosphoric amide compounds; The stabilizer according to claim 1, which comprises one or more selected from the group consisting of triazole and hydroxybenzophenone. 10. The stabilizer according to any one of claims 1 to 9, wherein the phosphoric amide compound is diphenoxyphosphoric amide. 11 The phosphite is triphenylene phosphite, tris-bisphenol A phosphite or tri-
The stabilizer according to claim 4, 5, 8 or 9, which is pt-amyl phenyl phosphite. 12. The stabilizer according to claim 4, 5, 8 or 9, wherein the phosphoric acid ester is triphenylene phosphate, tricresyl phosphate or diphenylnonyl phosphate. 13 Claim 11 or 1, wherein the phosphoric amide compound is diphenoxyphosphoric amide
Stabilizer according to item 2.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4302679A JPS5928349B2 (en) | 1979-04-11 | 1979-04-11 | Stabilizer for resin |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4302679A JPS5928349B2 (en) | 1979-04-11 | 1979-04-11 | Stabilizer for resin |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55135158A JPS55135158A (en) | 1980-10-21 |
| JPS5928349B2 true JPS5928349B2 (en) | 1984-07-12 |
Family
ID=12652430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4302679A Expired JPS5928349B2 (en) | 1979-04-11 | 1979-04-11 | Stabilizer for resin |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5928349B2 (en) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US6204313B1 (en) | 1999-01-22 | 2001-03-20 | General Electric Company | Flame retardant polymer blends, and method for making |
| EP1131378B1 (en) * | 1998-08-31 | 2005-02-23 | General Electric Company | Flame retardant resin compositions containing phosphoramides, and method for making |
| US6221939B1 (en) | 1998-08-31 | 2001-04-24 | General Electric Company | Flame retardant resin compositions containing phosphoramides, and method for making |
| US6174942B1 (en) | 1999-01-22 | 2001-01-16 | General Electric Company | Flame retardant polymer blends, and method for making |
| US6228912B1 (en) | 1999-01-22 | 2001-05-08 | General Electric Company | Flame retardant resin compositions containing phosphoramides and method for making |
| US6569929B2 (en) | 1999-01-22 | 2003-05-27 | General Electric Company | Method to prepare phosphoramides, and resin compositions containing them |
| US6433046B1 (en) | 1999-01-22 | 2002-08-13 | General Electric Company | Flame retardant resin compositions containing phosphoramides, and method of making |
| JP5484078B2 (en) * | 2010-01-06 | 2014-05-07 | 東ソ−・エフテック株式会社 | Nonaqueous electrolyte containing fluorine-containing phosphoric ester amide |
| KR20160052906A (en) * | 2014-10-29 | 2016-05-13 | 롯데정밀화학 주식회사 | Methods of preparing biodegradable polyester resin and resin from the method |
-
1979
- 1979-04-11 JP JP4302679A patent/JPS5928349B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55135158A (en) | 1980-10-21 |
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