JPS5928632B2 - 乾式腐蝕装置 - Google Patents
乾式腐蝕装置Info
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- JPS5928632B2 JPS5928632B2 JP2906177A JP2906177A JPS5928632B2 JP S5928632 B2 JPS5928632 B2 JP S5928632B2 JP 2906177 A JP2906177 A JP 2906177A JP 2906177 A JP2906177 A JP 2906177A JP S5928632 B2 JPS5928632 B2 JP S5928632B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/06—Surface hardening
- C21D1/09—Surface hardening by direct application of electrical or wave energy; by particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
- C23C8/10—Oxidising
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、レーザビームを用いて、金属表面に固相の
反応生成物の皮膜を形成させる乾式腐蝕装置に関するも
のである。
反応生成物の皮膜を形成させる乾式腐蝕装置に関するも
のである。
従来の乾式腐蝕装置を第１図に示す。
この図において、１は酸素−アセチレン炎発生器、２は
酸素−アセチレン炎、３は金属材料、１６は所定の造膜
図形である。酸素−アセチレン炎発生器１から噴射され
た酸素−アセチレン炎２によつて金属材料３を加熱し、
金属表面が雰囲気中の気相状態にある酸素との反応速度
を大きくしてその表面に固相の反応生成物の皮膜を形成
させている。酸素−アセチレン炎２は、Ｃｏ、Ｈ２、Ｃ
Ｏ２、Ｈ２ＯおよびＯ２の高温混合気体の噴流であり、
酸素−アセチレン炎２が金属材料３の表面に衝突すると
き気体の熱エネルギーが金属に伝達される。所定の造膜
領域近傍に噴射された酸素一アセチレン炎２は金属材料
３の表面に沿つて流れるので所定の造膜図形１６よりも
相当幅広く加熱され、加熱された金属材料３の表面には
金属酸化皮膜が形成される。
酸素−アセチレン炎、３は金属材料、１６は所定の造膜
図形である。酸素−アセチレン炎発生器１から噴射され
た酸素−アセチレン炎２によつて金属材料３を加熱し、
金属表面が雰囲気中の気相状態にある酸素との反応速度
を大きくしてその表面に固相の反応生成物の皮膜を形成
させている。酸素−アセチレン炎２は、Ｃｏ、Ｈ２、Ｃ
Ｏ２、Ｈ２ＯおよびＯ２の高温混合気体の噴流であり、
酸素−アセチレン炎２が金属材料３の表面に衝突すると
き気体の熱エネルギーが金属に伝達される。所定の造膜
領域近傍に噴射された酸素一アセチレン炎２は金属材料
３の表面に沿つて流れるので所定の造膜図形１６よりも
相当幅広く加熱され、加熱された金属材料３の表面には
金属酸化皮膜が形成される。
酸素−アセチレン炎２のような高温原子、分子および電
離気体噴流は流体の制御が困難で小さなスポットに集束
することが不可能であり、そのパワー密度も低い。従来
の乾式腐蝕装置は、パワー密度の低い、大きな加熱面積
をもつ酸素−アセチレン炎２などの高温混合気体の噴流
で所定の造膜図形１６を加熱しているので、局部（所定
の造膜領域の表面層のみ）の加熱が不可能であり、金属
材料３の不必要な領域も加熱されるので、所定の造膜図
形１６以外の表面も造膜され、熱による歪が多量に発生
する欠点があつた。
離気体噴流は流体の制御が困難で小さなスポットに集束
することが不可能であり、そのパワー密度も低い。従来
の乾式腐蝕装置は、パワー密度の低い、大きな加熱面積
をもつ酸素−アセチレン炎２などの高温混合気体の噴流
で所定の造膜図形１６を加熱しているので、局部（所定
の造膜領域の表面層のみ）の加熱が不可能であり、金属
材料３の不必要な領域も加熱されるので、所定の造膜図
形１６以外の表面も造膜され、熱による歪が多量に発生
する欠点があつた。
この発明は上記のような従来のものの欠点を除去するた
めになされたもので、金属表面加熱源としてＣＯ２レー
ザビームを用いることにより、所定の造膜図形１６の表
面層のみを高パワー密度熱源で加熱するようにし、金属
材料３にほとんど歪（変形）を発生させずに反応生成物
の皮膜を形成させることができる乾式腐蝕装置を提供す
ることを目的としている。
めになされたもので、金属表面加熱源としてＣＯ２レー
ザビームを用いることにより、所定の造膜図形１６の表
面層のみを高パワー密度熱源で加熱するようにし、金属
材料３にほとんど歪（変形）を発生させずに反応生成物
の皮膜を形成させることができる乾式腐蝕装置を提供す
ることを目的としている。
以下この発明について説明する。第２図はこの発明の一
実施例を示すもので、１１はＣＯ２レーザ発振器、１２
はレーザビームを造膜に適した強度分布にするレーザビ
ーム制御装置、１３はレーザビームを造膜領域に誘導す
る反射鏡、１４は一連の造膜図形の始端に反応生成物の
種を印刷（塗布）する反応生成物種印刷装置である。
実施例を示すもので、１１はＣＯ２レーザ発振器、１２
はレーザビームを造膜に適した強度分布にするレーザビ
ーム制御装置、１３はレーザビームを造膜領域に誘導す
る反射鏡、１４は一連の造膜図形の始端に反応生成物の
種を印刷（塗布）する反応生成物種印刷装置である。
使用する種としては、例えば、Ｆｅ２Ｏ３粉末とバイン
ダとの混合溶液を用い、これを金属材料３の表面に付着
させる。ＣＯ２レーザ発振器１１のグロー放電空間のレ
ーザ光軸に垂直な面の形状が細長い長方形になるように
ＣＯ２レーザ発振器１１の放電々極を配設することによ
つて、ＣＯ２レーザ発振器１１から放出するレーザビー
ム１５ａの断面形状（近視野像）を細長い長方形にする
ことができる。
ダとの混合溶液を用い、これを金属材料３の表面に付着
させる。ＣＯ２レーザ発振器１１のグロー放電空間のレ
ーザ光軸に垂直な面の形状が細長い長方形になるように
ＣＯ２レーザ発振器１１の放電々極を配設することによ
つて、ＣＯ２レーザ発振器１１から放出するレーザビー
ム１５ａの断面形状（近視野像）を細長い長方形にする
ことができる。
レーザビーム制御装置１２は互いに直交させて配設され
た２枚の円筒レンズおよび位置調整器からなり、各円筒
レンズの位置は調整できるようになつている。第３図に
レーザビーム制御装置の原理図を示す。第３図Ａ，ｂに
おいて、第３図ａは平面図、第３図ｂは側面図であり、
レーザビーム１５ａの進行方向をＺ軸、Ｚ軸に垂直なビ
ームの断面を一辺ＸＯ、他辺ＹＯの長方形とする。焦点
距離Ｆａの円筒レンズ１２ａと焦点距離Ｆｂの円筒レン
ズ１２ｂとの間隔をＤ１とする。レーザビーム１５ａ０
ｘ，ｙ成分は図のようになる。円筒レンズ１２ｂから間
隔Ｄ２の位置のレーザビームのＸ，ｙ成分Ｘｌ，ｙｌは
、になる。
た２枚の円筒レンズおよび位置調整器からなり、各円筒
レンズの位置は調整できるようになつている。第３図に
レーザビーム制御装置の原理図を示す。第３図Ａ，ｂに
おいて、第３図ａは平面図、第３図ｂは側面図であり、
レーザビーム１５ａの進行方向をＺ軸、Ｚ軸に垂直なビ
ームの断面を一辺ＸＯ、他辺ＹＯの長方形とする。焦点
距離Ｆａの円筒レンズ１２ａと焦点距離Ｆｂの円筒レン
ズ１２ｂとの間隔をＤ１とする。レーザビーム１５ａ０
ｘ，ｙ成分は図のようになる。円筒レンズ１２ｂから間
隔Ｄ２の位置のレーザビームのＸ，ｙ成分Ｘｌ，ｙｌは
、になる。
このように円筒レンズ１２ａ，１２ｂと金属材料との距
離をそれぞれ調整することにより、金属材料表面におい
て任意の長方形熱源に整形することができる。第４図は
反応生成物種印刷装置１４の構成を示すもので、所定の
形状を切抜いたマスク１４ａと、このマスクを造膜図形
１６の始端に配設する位置調整器１４ｂおよび反応生成
物の微粉末とバインダーとの混合溶液を噴霧状にして噴
射する噴霧器１４ｃとから構成されている。
離をそれぞれ調整することにより、金属材料表面におい
て任意の長方形熱源に整形することができる。第４図は
反応生成物種印刷装置１４の構成を示すもので、所定の
形状を切抜いたマスク１４ａと、このマスクを造膜図形
１６の始端に配設する位置調整器１４ｂおよび反応生成
物の微粉末とバインダーとの混合溶液を噴霧状にして噴
射する噴霧器１４ｃとから構成されている。
位置調整器１４ｂによつて造膜図形１６の始端にマスク
１４ａは配設される。噴霧器１４ｃを構成する噴射ノズ
ルの気体輸送路１４ｃ１に高圧力気体を導入することに
より、液体輸送路１４ｃ２に導入された反応生成物混合
溶液は噴霧状になり、気体とともに造膜図形１６の始端
に噴射され、造膜図形１６の始端にマスク１４ａの切抜
かれたパターン状に反応生成物混合溶液が付着（印刷）
する。この印刷された反応生成物混合溶液中の溶媒は気
化し、反応生成混合物１７ａは物理的に造膜図形１６の
始端に被覆される。波長１０．６μｍのＣＯ２レーザビ
ームに対する物質の吸収率は、その物質の直流電気伝導
度に反比例するので、各種金属材料の吸収率は極めて低
いが、金属反応生成物の吸収率は極めて高い（８００／
）以上）。さて、再び第２図において、レーザビーム制
御装置１２によつて制御された長方形のレーザビーム１
５ｂは反射鏡１３によつて誘導され、反応性成物種印刷
装置１４によつて造膜図形１６の始端に印刷された反応
生成混合物１７ａの皮膜によつて吸収される。
１４ａは配設される。噴霧器１４ｃを構成する噴射ノズ
ルの気体輸送路１４ｃ１に高圧力気体を導入することに
より、液体輸送路１４ｃ２に導入された反応生成物混合
溶液は噴霧状になり、気体とともに造膜図形１６の始端
に噴射され、造膜図形１６の始端にマスク１４ａの切抜
かれたパターン状に反応生成物混合溶液が付着（印刷）
する。この印刷された反応生成物混合溶液中の溶媒は気
化し、反応生成混合物１７ａは物理的に造膜図形１６の
始端に被覆される。波長１０．６μｍのＣＯ２レーザビ
ームに対する物質の吸収率は、その物質の直流電気伝導
度に反比例するので、各種金属材料の吸収率は極めて低
いが、金属反応生成物の吸収率は極めて高い（８００／
）以上）。さて、再び第２図において、レーザビーム制
御装置１２によつて制御された長方形のレーザビーム１
５ｂは反射鏡１３によつて誘導され、反応性成物種印刷
装置１４によつて造膜図形１６の始端に印刷された反応
生成混合物１７ａの皮膜によつて吸収される。
そこで吸収された光エネルギーは熱エネルギーに変換さ
れる。この熱エネルギーは拡散し、レーザビーム照射面
近傍の金属材料３の表面を高温に加熱する。高温に加熱
された金属材料３の表面は雰囲気中の酸素、イオウまた
はハロゲンなどの電気的に陰性な元素と反応してその表
面に固相の反応生成物の皮膜が成長する。これは丁度、
マツチ棒の先端のリンとイオウが燃えると、この燃焼熱
によつて軸の部分の木が燃焼温度に達して木が燃える現
像と類似である。金属材料３とレーザビーム１５ｂとを
相対的に移動することにより、反応生成物を形成させた
金属表面積は拡大する。ち密な金属酸化皮膜が形成され
る場合、金属原子（イオンとして）が金属一酸化物界面
から酸化物一気相界面・＼と拡散し、酸化物一気相界面
で新しく酸化物格子が組み上げられる。
れる。この熱エネルギーは拡散し、レーザビーム照射面
近傍の金属材料３の表面を高温に加熱する。高温に加熱
された金属材料３の表面は雰囲気中の酸素、イオウまた
はハロゲンなどの電気的に陰性な元素と反応してその表
面に固相の反応生成物の皮膜が成長する。これは丁度、
マツチ棒の先端のリンとイオウが燃えると、この燃焼熱
によつて軸の部分の木が燃焼温度に達して木が燃える現
像と類似である。金属材料３とレーザビーム１５ｂとを
相対的に移動することにより、反応生成物を形成させた
金属表面積は拡大する。ち密な金属酸化皮膜が形成され
る場合、金属原子（イオンとして）が金属一酸化物界面
から酸化物一気相界面・＼と拡散し、酸化物一気相界面
で新しく酸化物格子が組み上げられる。
界面反応速度は大で、界面では熱力学平衡に達している
とき、酸化物層中の荷電粒子の移動、すなわち体積拡散
が酸化の進行を支配する場合の酸化物層の当量成長速度
Ｄｎ／Ｄｔは、ＷａｇりＥ．ｒＯ）理論より、ここでで
表わされる。
とき、酸化物層中の荷電粒子の移動、すなわち体積拡散
が酸化の進行を支配する場合の酸化物層の当量成長速度
Ｄｎ／Ｄｔは、ＷａｇりＥ．ｒＯ）理論より、ここでで
表わされる。
温度Ｔが一定のとき、酸化速度は酸化物層の厚さに逆比
例し、酸化皮膜の厚さδは放物線則δ２−Ｋｐｔ＋Ｃ（
Ｋｐ，Ｃ：定数）になる。酸化皮膜の厚さδが一定のと
き、酸化速度は温度Ｔに比例する。すなわち酸化皮膜を
加熱することによつて酸化皮膜の成長速度を犬きくする
ことができる。第５図Ａ，ｂに反応生成物の形成状態の
説明図と金属表面の温度分布を示す。
例し、酸化皮膜の厚さδは放物線則δ２−Ｋｐｔ＋Ｃ（
Ｋｐ，Ｃ：定数）になる。酸化皮膜の厚さδが一定のと
き、酸化速度は温度Ｔに比例する。すなわち酸化皮膜を
加熱することによつて酸化皮膜の成長速度を犬きくする
ことができる。第５図Ａ，ｂに反応生成物の形成状態の
説明図と金属表面の温度分布を示す。
第５図ａに示すように幅ｙ１＝Ｙｂ−Ｙａの細長いレー
ザビーム１５ｃを異動速度Ｖｙで連続照射したとき、照
射されたレーザビームは反応生成物１７によつて大部分
吸収される。ただし、レーザビーム１５ｃの照射面直下
の反応生成物１７の厚さδが２δ≧α−１２〜５μｍ（
ただしαはレーザビームに対する反応生成物の吸収係数
）になるように移動速度Ｖｙが設定されている。
ザビーム１５ｃを異動速度Ｖｙで連続照射したとき、照
射されたレーザビームは反応生成物１７によつて大部分
吸収される。ただし、レーザビーム１５ｃの照射面直下
の反応生成物１７の厚さδが２δ≧α−１２〜５μｍ（
ただしαはレーザビームに対する反応生成物の吸収係数
）になるように移動速度Ｖｙが設定されている。
吸収された光エネルギーは熱エネルギーに変換される。
この熱エネルギーは拡散され、レーザ熱源１５ｃの近傍
も加熱される。ｙ軸上（金属表面線上）の温度分布は第
５図ｂに示す曲線１８のようになり、ｙ＝Ｙｂにおいて
温度Ｔは最大となり、ｙ＜Ｙａにおける温度勾配δＴ／
δｙは、ｙ＞Ｙｂにおける温度勾配−θＴ／θｙよりも
大きくなる。ただし、ｙ−Ｙｂにおける温度を反応生成
物１７の融点以下にする必要がある。Ｗａｇｎｅｒの理
論より反応生成物１７の温度を高くすることによつて反
応速度は増大する。また、反応速度は反応生成物１７の
厚さδに逆比例する。したがつて熱伝導によつて間接的
に加熱されたｙ＜Ｙａの領域において反応生成物１７の
厚さδは、ｙの増加とともに急速に増大する。Ｙａ≦ｙ
≦Ｙｂなる領域では反応生成物１７は直接レーザビーム
によつて加熱されて高温（融点以下）になるので反応速
度は大きく、さらに反応生成物１７の厚さδは増大する
。ｙ≧Ｙｂなる領域では、温度勾配θＶＯｙは負となり
、ｙの増加とともに温度は減少し、さらに反応生成物１
７の厚さδは比較的厚くなつているのでこの領域におけ
る反応速度は小さく、反応生成物１７の厚さδは徐々に
飽和する傾向にある。このように、ＣＯ２レーザ１５ａ
はレーザビーム制御装置１２によつて任意の高パワー密
度の長方形熱源に整形することができるので、金属材料
３・＼の熱拡散量を少なくすることができる。したがつ
て金属材料３に発生する熱歪は微小である。また、反応
生成物種印刷装置１４によつて造膜図形１６の始端に反
応生成混合物が印刷されるので、造膜加工の初期段階か
らレーザビームを効率よく吸収し、安定な造膜加工がで
きる。なお、上記実施例では、レーザビーム制御装置１
２に２枚の円筒レンズ１２ａ，１２ｂを設けたものを示
したが、円筒面鏡を設けてもよい。
この熱エネルギーは拡散され、レーザ熱源１５ｃの近傍
も加熱される。ｙ軸上（金属表面線上）の温度分布は第
５図ｂに示す曲線１８のようになり、ｙ＝Ｙｂにおいて
温度Ｔは最大となり、ｙ＜Ｙａにおける温度勾配δＴ／
δｙは、ｙ＞Ｙｂにおける温度勾配−θＴ／θｙよりも
大きくなる。ただし、ｙ−Ｙｂにおける温度を反応生成
物１７の融点以下にする必要がある。Ｗａｇｎｅｒの理
論より反応生成物１７の温度を高くすることによつて反
応速度は増大する。また、反応速度は反応生成物１７の
厚さδに逆比例する。したがつて熱伝導によつて間接的
に加熱されたｙ＜Ｙａの領域において反応生成物１７の
厚さδは、ｙの増加とともに急速に増大する。Ｙａ≦ｙ
≦Ｙｂなる領域では反応生成物１７は直接レーザビーム
によつて加熱されて高温（融点以下）になるので反応速
度は大きく、さらに反応生成物１７の厚さδは増大する
。ｙ≧Ｙｂなる領域では、温度勾配θＶＯｙは負となり
、ｙの増加とともに温度は減少し、さらに反応生成物１
７の厚さδは比較的厚くなつているのでこの領域におけ
る反応速度は小さく、反応生成物１７の厚さδは徐々に
飽和する傾向にある。このように、ＣＯ２レーザ１５ａ
はレーザビーム制御装置１２によつて任意の高パワー密
度の長方形熱源に整形することができるので、金属材料
３・＼の熱拡散量を少なくすることができる。したがつ
て金属材料３に発生する熱歪は微小である。また、反応
生成物種印刷装置１４によつて造膜図形１６の始端に反
応生成混合物が印刷されるので、造膜加工の初期段階か
らレーザビームを効率よく吸収し、安定な造膜加工がで
きる。なお、上記実施例では、レーザビーム制御装置１
２に２枚の円筒レンズ１２ａ，１２ｂを設けたものを示
したが、円筒面鏡を設けてもよい。
また集光器によつて反応生成物の層上に集光された高パ
ワー密度の微小な円形ビームを高速で（１００Ｈｚ以上
）走査することによつて等価的に長方形熱源としてもよ
い。また炭素鋼などの鉄鋼材料にこの発明を適用すると
鉄鋼材料の表面積のみを急速加熱、急速冷却することが
できるので、表面に酸化鉄皮膜を形成させながら表面焼
入れができる。以上詳細に説明したように、この発明に
よればＣＯ２レーザ発振器から放出されたレーザビーム
をレーザビーム制御装置によつて高パワー密度の細長い
長方形熱源に整形し、一方造膜図形の始端に反応生成物
の種を印刷し、これに前記レーザビームを誘導するよう
にしたので、ＣＯ２レーザビーム熱源が効率よく利用で
き、金属材料に熱歪をほとんど与えずに安定な乾式腐蝕
（造膜）が得られる。
ワー密度の微小な円形ビームを高速で（１００Ｈｚ以上
）走査することによつて等価的に長方形熱源としてもよ
い。また炭素鋼などの鉄鋼材料にこの発明を適用すると
鉄鋼材料の表面積のみを急速加熱、急速冷却することが
できるので、表面に酸化鉄皮膜を形成させながら表面焼
入れができる。以上詳細に説明したように、この発明に
よればＣＯ２レーザ発振器から放出されたレーザビーム
をレーザビーム制御装置によつて高パワー密度の細長い
長方形熱源に整形し、一方造膜図形の始端に反応生成物
の種を印刷し、これに前記レーザビームを誘導するよう
にしたので、ＣＯ２レーザビーム熱源が効率よく利用で
き、金属材料に熱歪をほとんど与えずに安定な乾式腐蝕
（造膜）が得られる。
第１図は従来の乾式腐蝕装置の概略図、第２図はこの発
明の一実施例による乾式腐蝕装置を示す模式的な概略図
、第３図Ａ，ｂはレーザビーム制御装置の原理を説明す
るためのレンズ系の平面図と側面図、第４図は反応生成
物種印刷装置の概略図、第５図Ａ，ｂは反応生成物の生
成状態の説明図および金属表面の温度分布図である。 図中、３は金属材料、１１はＣＯ２レーザ発振器、１２
はレーザビーム制御装置、１３は反射鏡、１４は反応生
成物種印刷装置、１５はレーザビ一６は造膜図形である
。 なお、図中の同一符一または相当部分を示す。
明の一実施例による乾式腐蝕装置を示す模式的な概略図
、第３図Ａ，ｂはレーザビーム制御装置の原理を説明す
るためのレンズ系の平面図と側面図、第４図は反応生成
物種印刷装置の概略図、第５図Ａ，ｂは反応生成物の生
成状態の説明図および金属表面の温度分布図である。 図中、３は金属材料、１１はＣＯ２レーザ発振器、１２
はレーザビーム制御装置、１３は反射鏡、１４は反応生
成物種印刷装置、１５はレーザビ一６は造膜図形である
。 なお、図中の同一符一または相当部分を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 金属材料の表面に反応生成物皮膜を形成させる乾式
腐蝕装置において、レーザビームを放出するレーザ発振
器と、このレーザビームを反応生成物表面上で細長い長
方形熱源に整形するレーザビーム制御装置と、前記レー
ザビームを前記金属材料の表面の所定の箇所に誘導する
反射鏡と、前記金属材料表面の造膜図形の始端に反応生
成物の種を印刷する反応生成物種印刷装置とで構成した
ことを特徴とする乾式腐蝕装置。 ２ レーザビーム制御装置は、互いに直交させて配設さ
せた２枚の円筒レンズと、この各円筒レンズの位置を調
整するための位置調整器とで構成されたものであること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の乾式腐蝕装置
。 ３ 反応生成物種印刷装置は、所定の形状を切抜いたマ
スクと、このマスクを造膜図形の始端に配設する位置調
整器と、前記マスクの切抜いた箇所に反応生成物の微粉
末とバインダー溶液との混合溶液を噴霧状に噴射させる
噴霧器とで構成されたものであることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の乾式腐蝕装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2906177A JPS5928632B2 (ja) | 1977-03-15 | 1977-03-15 | 乾式腐蝕装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2906177A JPS5928632B2 (ja) | 1977-03-15 | 1977-03-15 | 乾式腐蝕装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53113233A JPS53113233A (en) | 1978-10-03 |
| JPS5928632B2 true JPS5928632B2 (ja) | 1984-07-14 |
Family
ID=12265842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2906177A Expired JPS5928632B2 (ja) | 1977-03-15 | 1977-03-15 | 乾式腐蝕装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5928632B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015135715A1 (en) * | 2014-03-11 | 2015-09-17 | Etxe-Tar, S.A. | Method and system for laser hardening of a surface of a workpiece |
-
1977
- 1977-03-15 JP JP2906177A patent/JPS5928632B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS53113233A (en) | 1978-10-03 |
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