JPS5930702B2 - 「あ」−キシレン−４−スルホン酸の晶出分離法 - Google Patents
「あ」−キシレン−４−スルホン酸の晶出分離法Info
- Publication number
- JPS5930702B2 JPS5930702B2 JP4839382A JP4839382A JPS5930702B2 JP S5930702 B2 JPS5930702 B2 JP S5930702B2 JP 4839382 A JP4839382 A JP 4839382A JP 4839382 A JP4839382 A JP 4839382A JP S5930702 B2 JPS5930702 B2 JP S5930702B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- xylene
- sulfuric acid
- sulfonic acid
- weight
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はキシレンと硫酸を反応させて得た反応生成液か
らｍ−キシレンスルホン酸を高収率に見出させる方法に
関する。
らｍ−キシレンスルホン酸を高収率に見出させる方法に
関する。
従来、キシレン類のスルホン化剤としては、濃硫酸が多
く使用されて来た。
く使用されて来た。
しかし硫酸によるスルホン化反応を行なうためには、硫
酸濃度の限界値が存在し、この限界濃度以下では、反応
はほとんど進行しない。ｍ−キシレンのスルホン化反応
においても硫酸濃度６８重量％（残りは水、以下同じ）
前後に限界値が存在する。
酸濃度の限界値が存在し、この限界濃度以下では、反応
はほとんど進行しない。ｍ−キシレンのスルホン化反応
においても硫酸濃度６８重量％（残りは水、以下同じ）
前後に限界値が存在する。
しかるに硫酸によるｍ−キシレンのスルホン化反応にお
いては、反応の進行につれ等モルの水が生成し、硫酸濃
度が低下する。この為ｍ−キシレンの反応率を高く保つ
ためには、ｍ−キシレンに対し大過剰の硫酸を添加する
必要が有り、工業的には硫酸／ｍ−キシレンのモル比＝
１．５〜２が採用されて来た。このため、反応生成液中
には大量の未反応硫酸が含まれる。一方ｍ−キシレンー
４−スルホン酸は、硫酸を含む系で高温にさらすと容
易にｍ−キシレンー５−スルホン酸に異性化を起す。
いては、反応の進行につれ等モルの水が生成し、硫酸濃
度が低下する。この為ｍ−キシレンの反応率を高く保つ
ためには、ｍ−キシレンに対し大過剰の硫酸を添加する
必要が有り、工業的には硫酸／ｍ−キシレンのモル比＝
１．５〜２が採用されて来た。このため、反応生成液中
には大量の未反応硫酸が含まれる。一方ｍ−キシレンー
４−スルホン酸は、硫酸を含む系で高温にさらすと容
易にｍ−キシレンー５−スルホン酸に異性化を起す。
特公昭４９−３３１９３によると、この異性化の限界温
度は１５０℃であり、従つて反応生成液よりｍ−キシレ
ンー ４−スルホン酸を高収率で回収する方法としては
、一般に行なわれて来た減圧蒸留による硫酸除去法は採
用不可能である。本発明者は、ｍ−キシレンと硫酸の反
応生成液からｍ−キシレンー ４−スルホン酸を効率良
く分離する方法について鋭意研究を行なつた結果、ｍ−
キシレンー ４−スルホン酸の硫酸水溶液に対する溶解
度が硫酸濃度によつて著しく異なり、特に硫酸濃度６０
重量％付近に極少値が存在し、５０〜７０重量％の範囲
では溶解度の差は小さい事を見出し本発明を完成した。
度は１５０℃であり、従つて反応生成液よりｍ−キシレ
ンー ４−スルホン酸を高収率で回収する方法としては
、一般に行なわれて来た減圧蒸留による硫酸除去法は採
用不可能である。本発明者は、ｍ−キシレンと硫酸の反
応生成液からｍ−キシレンー ４−スルホン酸を効率良
く分離する方法について鋭意研究を行なつた結果、ｍ−
キシレンー ４−スルホン酸の硫酸水溶液に対する溶解
度が硫酸濃度によつて著しく異なり、特に硫酸濃度６０
重量％付近に極少値が存在し、５０〜７０重量％の範囲
では溶解度の差は小さい事を見出し本発明を完成した。
即ち本発明はｍ−キシレンと硫酸を反応させてｍ−キシ
レンー ４−スルホン酸を製造し、得られた反応生成液
よりｍ−キシレンー ４−スルホン酸の結晶を見出させ
るに際し、母液中の硫酸濃度５０〜７０重量％（残りは
水）の条件下早出させる方法である。本発明におけるｍ
−キシレンと硫酸の反応は反応温度７０〜８０℃、硫酸
濃度７０〜８０重量％（残りは水）の条件下連続的に行
なうのが好ましい。
レンー ４−スルホン酸を製造し、得られた反応生成液
よりｍ−キシレンー ４−スルホン酸の結晶を見出させ
るに際し、母液中の硫酸濃度５０〜７０重量％（残りは
水）の条件下早出させる方法である。本発明におけるｍ
−キシレンと硫酸の反応は反応温度７０〜８０℃、硫酸
濃度７０〜８０重量％（残りは水）の条件下連続的に行
なうのが好ましい。
ここで硫酸濃度とは、反応液中の硫酸と水の総和を１０
０重量％としたときの硫酸含有率である。
０重量％としたときの硫酸含有率である。
硫酸濃度が７０％以下であると、反応速度が著しく低下
するため経済的な条件とは言えない。また、８０％以上
にすると、スルホン（テトラメチルジフェニルスルホン
）の生成が顕著となり好ましくない。反応温度が７０℃
以下であると、反応速度が著しく低下するため、ｍ−キ
シレンの反応率を高く保つためには滞留時間を大幅に延
ばす必要が有り、経済性に欠ける。反応温度が８０℃以
上であると、スルホンの生成が顕著となる。ｍ−キシレ
ンと硫酸のモル比はｍ−キシレン１モルに対し硫酸１，
３〜１．９モル、好ましくは１．４〜１．９モルである
。以上の如き方法で反応を行なわせて得た反応生成液か
らｍ−キシレンー４−スルホン酸をそのまま晶析させる
ときはｍ−キシレンー４−スルホン酸１モル当り２モル
の水を結晶水として取り込み二水物として結晶化する。
するため経済的な条件とは言えない。また、８０％以上
にすると、スルホン（テトラメチルジフェニルスルホン
）の生成が顕著となり好ましくない。反応温度が７０℃
以下であると、反応速度が著しく低下するため、ｍ−キ
シレンの反応率を高く保つためには滞留時間を大幅に延
ばす必要が有り、経済性に欠ける。反応温度が８０℃以
上であると、スルホンの生成が顕著となる。ｍ−キシレ
ンと硫酸のモル比はｍ−キシレン１モルに対し硫酸１，
３〜１．９モル、好ましくは１．４〜１．９モルである
。以上の如き方法で反応を行なわせて得た反応生成液か
らｍ−キシレンー４−スルホン酸をそのまま晶析させる
ときはｍ−キシレンー４−スルホン酸１モル当り２モル
の水を結晶水として取り込み二水物として結晶化する。
このため反応生成液は晶出量に比例して硫酸濃度が上昇
し、硫酸濃度８０重量％以上ではｍ−キシレンー４−ス
ルホン酸の溶解度も急激に上昇する。又、硫酸濃度上昇
と共に結晶の微細化が起り、スラリーの粘度が上昇し、
遠心分離機による母液の振り切れが極端に悪化し、高品
質のｍ−キシレンー４−スルホン酸を製造する事は困難
となるので、水で稀釈することにより晶析時の硫酸濃度
を８０％以下に維持する必要がある。一方、硫酸濃度が
５０重量％未満に低下した場合もｍ−キシレンー４−ス
ルホン酸の溶解度が急激に上昇するので好ましくない。
晶析温度は２０〜４０℃の範囲が好ましい。硫酸濃度が
上記の範囲内にあるときは、この温度範囲でｍ−キシレ
ンー４−スルホン酸の溶解度を０．５〜２重量％に押え
ることが出来る。晶析時のスラリー濃度は３０〜４５重
量％の範囲が結晶粒径、スラリー粘度の点で好ましい。
し、硫酸濃度８０重量％以上ではｍ−キシレンー４−ス
ルホン酸の溶解度も急激に上昇する。又、硫酸濃度上昇
と共に結晶の微細化が起り、スラリーの粘度が上昇し、
遠心分離機による母液の振り切れが極端に悪化し、高品
質のｍ−キシレンー４−スルホン酸を製造する事は困難
となるので、水で稀釈することにより晶析時の硫酸濃度
を８０％以下に維持する必要がある。一方、硫酸濃度が
５０重量％未満に低下した場合もｍ−キシレンー４−ス
ルホン酸の溶解度が急激に上昇するので好ましくない。
晶析温度は２０〜４０℃の範囲が好ましい。硫酸濃度が
上記の範囲内にあるときは、この温度範囲でｍ−キシレ
ンー４−スルホン酸の溶解度を０．５〜２重量％に押え
ることが出来る。晶析時のスラリー濃度は３０〜４５重
量％の範囲が結晶粒径、スラリー粘度の点で好ましい。
本発明晶析操作は回分法、連続法いずれの場合でも効率
良く操作出来る。本発明によればｍ−キシレンー４−ス
ルホン酸の晶出分離を低温操作で行なうため、異性化、
不均化等の副反応が皆無に近く、高品質、特に低スルホ
ンのｍ−キシレンー４−スルホン酸を晶出分離すること
が出来る。
良く操作出来る。本発明によればｍ−キシレンー４−ス
ルホン酸の晶出分離を低温操作で行なうため、異性化、
不均化等の副反応が皆無に近く、高品質、特に低スルホ
ンのｍ−キシレンー４−スルホン酸を晶出分離すること
が出来る。
実施例１
ｍ−キシレンー４−スルホン酸６８重量％、未反応硫酸
２３重量％、水８重量％、その他１重量％の組成から成
る反応生成液１８５重量部と、９８％硫酸１０７重量部
および水１０８重量部、計４００重量部を撹拌機および
ジャケット付晶出器に仕込み、一旦５５℃に昇温して完
全溶解を確認後、徐冷を行なつた。
２３重量％、水８重量％、その他１重量％の組成から成
る反応生成液１８５重量部と、９８％硫酸１０７重量部
および水１０８重量部、計４００重量部を撹拌機および
ジャケット付晶出器に仕込み、一旦５５℃に昇温して完
全溶解を確認後、徐冷を行なつた。
５１℃に降温時種晶を添加し、３０分後、４９．７℃に
おいて晶出が開始した。
おいて晶出が開始した。
さらに徐冷を続け、種晶添加後２時間かけて２０℃まで
降温させ、同温度でさらに１時間晶出させた。次に生成
スラリーを全量、遠心分離機（遠心効果１０００Ｇ１１
２０メッシュのＡ布使用）にかけ粗結晶とＡ液に分離し
、各々１６０重量部及び２４０重量部を得た。
降温させ、同温度でさらに１時間晶出させた。次に生成
スラリーを全量、遠心分離機（遠心効果１０００Ｇ１１
２０メッシュのＡ布使用）にかけ粗結晶とＡ液に分離し
、各々１６０重量部及び２４０重量部を得た。
沢液中のｍ−キシレンー４−スルホン酸含有率は０．８
重量％、硫酸濃度は６０重量％（残りは水）であつた。
重量％、硫酸濃度は６０重量％（残りは水）であつた。
Claims (1)
- １ ｍ−キシレンと硫酸を反応させてｍ−キシレン−４
−スルホン酸を製造し、得られた反応生成液よりｍ−キ
シレン−４−スルホン酸の結晶を晶出させるに際し、母
液中の硫酸濃度５０〜７０重量％（残りは水）の条件下
晶出させることを特徴とするｍ−キシレン−４−スルホ
ン酸の晶出分離法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4839382A JPS5930702B2 (ja) | 1982-03-26 | 1982-03-26 | 「あ」−キシレン−４−スルホン酸の晶出分離法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4839382A JPS5930702B2 (ja) | 1982-03-26 | 1982-03-26 | 「あ」−キシレン−４−スルホン酸の晶出分離法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58167559A JPS58167559A (ja) | 1983-10-03 |
| JPS5930702B2 true JPS5930702B2 (ja) | 1984-07-28 |
Family
ID=12802046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4839382A Expired JPS5930702B2 (ja) | 1982-03-26 | 1982-03-26 | 「あ」−キシレン−４−スルホン酸の晶出分離法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5930702B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102391159B (zh) * | 2011-10-18 | 2013-07-17 | 金能科技股份有限公司 | 一种磺酸母液脱水回收工艺及系统 |
-
1982
- 1982-03-26 JP JP4839382A patent/JPS5930702B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58167559A (ja) | 1983-10-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4162270A (en) | Process for producing 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone of high purity | |
| EP0109033A2 (en) | Purification of bisphenol-A | |
| US3391187A (en) | Purification of malic acid | |
| JPH05500812A (ja) | ３，３′―ジクロル―ベンジジン―ジヒドロクロリドの連続的製法 | |
| EP0293037A1 (en) | Preparation of 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone | |
| JPS5930702B2 (ja) | 「あ」−キシレン−４−スルホン酸の晶出分離法 | |
| JPH075543B2 (ja) | 高純度カプロラクタムの製造法 | |
| US3931316A (en) | Method of preparing O-methyl-isourea hydrogen sulfate and O-methyl-isourea sulfate from cyanamide | |
| US4242275A (en) | Process for the preparation of isomer-free toluene-4-sulfonic acid | |
| JPS5930701B2 (ja) | ｍ−キシレンスルホン酸結晶の晶出方法 | |
| JPH082863B2 (ja) | 高純度４，４´―ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造法 | |
| JPH04360863A (ja) | Ｎ−アルキルアミノエタンスルホン酸ナトリウムの製造方法 | |
| EP0462283A1 (en) | Process for producing dipentaerythritol | |
| JP3011493B2 (ja) | ４−アルキル−３−チオセミカルバジドの製造方法 | |
| JPS62100409A (ja) | 高純度苛性カリの製造法 | |
| JPH06306042A (ja) | スルホベタインの製造方法 | |
| JP2742335B2 (ja) | ４−ブロモトルエンの分離方法 | |
| JPS5944302B2 (ja) | スレオニンとアロスレオニンとの相互分離方法 | |
| US4529800A (en) | Novel process for the preparation of 2-halo-3-nitro-6-alkoxy-pyridines | |
| US3480681A (en) | Process for the preparation and purification of p-nitrobenzenes | |
| JP4124319B2 (ja) | ２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 | |
| JP3728804B2 (ja) | Ｄｌ−アスパラギン酸の製造方法 | |
| JPH10316646A (ja) | 高純度の結晶質ｏ−メチルイソ尿素酢酸塩の製造方法及び該方法で得られた結晶質ｏ−メチルイソ尿素酢酸塩 | |
| JP3882859B2 (ja) | 水加ヒドラジンの製造方法 | |
| JPS5843377B2 (ja) | りんご酸の精製方法 |