Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JPS5940387B2 - シス−イミダゾリル−オキシムエ−テル誘導体を立体特異的に製造する方法 - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JPS5940387B2 - シス−イミダゾリル−オキシムエ−テル誘導体を立体特異的に製造する方法 - Google Patents

シス−イミダゾリル−オキシムエ−テル誘導体を立体特異的に製造する方法

Info

Publication number
JPS5940387B2
JPS5940387B2 JP54063334A JP6333479A JPS5940387B2 JP S5940387 B2 JPS5940387 B2 JP S5940387B2 JP 54063334 A JP54063334 A JP 54063334A JP 6333479 A JP6333479 A JP 6333479A JP S5940387 B2 JPS5940387 B2 JP S5940387B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
oxime
cis
imidazol
metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP54063334A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS54157563A (en
Inventor
ゲオルク・ミクジツヒ
クルト・テイ−レ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siegfried AG
Original Assignee
Siegfried AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siegfried AG filed Critical Siegfried AG
Publication of JPS54157563A publication Critical patent/JPS54157563A/ja
Publication of JPS5940387B2 publication Critical patent/JPS5940387B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は化学式 (式中Aは4−クロルフエニル基又は2・4−ジクロル
フエニル基を意味し、Bは4−クロルベンジル基又は2
・4−ジクロルベンジル基を意味し、そしてImは未置
換の1H−イミダゾール−1イル一基を意味する)で示
されるシスーイミダゾリルーオキシムエーテル誘導体を
、化学式(式中1m及びAは前記の意味をもつ) で示される相当する置換されたオキシムをその金属オキ
シメートの形で化学式X−B () (式中Bは前記の意味をもち、Xは・・ロゲン原子であ
る)で示されるエーテル生成能力のある物質と反応させ
ることにより、立体特異的に製造する方法に関する。
[シス」という概念は、明細書で述べた本発明の範囲内
で、前記の化学式(c)の意味に定義されている。
E/Z−方式(C.A.Servicell968、B
lackwOOd等、IUPACTentativeR
ulesfOrtheNOmenclatureOfO
rganicChemistry)では式〔式中A.B
及びImは式(Ic)におけると同じ意味をもつ〕(式
中A及びImは前記の意味をもつ) により定義された[トランス形」は、E一異性体に相当
し、前記の式(Ic)で示される「シス形」又は式(式
中A及びImは前記の意味をもつ) で示される「シス形」はこの条件でZ一異性体に相当す
る。
化学式()で示されるイミダゾリル−オキシム誘導体及
びこれから製造されたイミダゾリルーオキシムエーテル
誘導体は特開昭52102276号明細書から既に知ら
れている。
該明細書には、2・4−ジクロルフエナシルイミダゾー
ルをエタノール中でピリジンの存在下で塩化ヒドロキシ
ルアンモニウムによりオキシム化すると雨虫点が218
〜220℃の1−(2・4−ジクロルフエニル)−2−
(1H−イミダゾール−1イル)一エタノンオキシルが
得られるということが記載されている。化合物を立体化
学により帰属させることは行われなかつた。後に発明者
が行なつた分析から、この既知のオキシムは70:30
のZ−オキシムとE−オキシムとから成る混合物である
ということが明らかになつた。しかるに、この方向にむ
かう他の研究は、この反応が工業的規模で十分に再現で
きず、あらゆる予想にも反して、類似の反応に転用でき
ないということを明らかにした。
似せて転用し、工業学校の規模又は生産の規模で立体特
異に合成する試験では、異性体の混合物が得られたが純
粋な異性体は得られなかつた。又、ドイツ特許出願公開
第2657578号明細書に記載されている1−(2・
4−ジクロルフエニル)−2−(1H−イミダゾール−
1−イル)エタノンオキシムは、そこに記載されている
ようにDMF中で水素化ナトリウムの存在下で室温から
80℃まで徐々に高めた反応温度で2・4−ジクロルベ
ンジルクロリドによりエーテル化される。
更にこのエーテル化では立体化学的に同様に帰属されて
いない立体異性体の1−(2・4−ジクロルフエニル)
−2−(1H−イミダゾール1−イル)−エタノンオキ
シム一(2・4−ジクロルベンジル)一エーテルが得ら
れることになる。しかるにこの方向にむかう他の研究か
らそのようなオキシムのエーテル化は、生産の目的で大
規模に行うと、立体特異に行われないということが明ら
かになつた。このエーテルのNMRスペクトルから、た
とえば小規模で精製によつて立体的に純粋な異性体のエ
ーテルが得られるとしても、そのような条件では常にか
なりの分量のそれぞれの他の異性体も目的生成物中に含
まれているということがはつきりわかる。しかしながら
、概して高い抗真菌活性のために評価される価値の高い
イミダゾリルオキシムエーテル誘導体を、純粋な立体異
性体の形でも、多量生産でも確実に製造するのが工業的
に全く望ましい。
このことは実験室の規模では直ちに、例えばクロマトグ
ラフイ一により分離しても、可能であるが、このように
クロマトグラフイ一で分離するのは、該有効物質の工業
生産には経済的に見ても好ましくないやり方である。こ
の技術水準にかんがみて、生産の規模に無関係に確実に
且つ再現可能に純粋な立体異性体に導くしかも話題にな
つているイミダゾリルオキシムエーテル誘導体の中のす
べての特定の化合物のために同一の結果を収めるように
適用できる、始めに挙げた式(c)で示されるイミダゾ
リルーオキシムエーテル誘導体の立体選択的な製造方法
を供給するという課題が本発明の基礎になつている。
この課題は本発明により、式()で示されるオキシム誘
導体をシス一立体異性体の形で、室温で極性有機溶剤に
懸濁又は溶解させ、次に、室温で金属オキシメート生成
能力のある金属化合物を加えること並びに、次に、この
ようにして製造した溶液で式()で示されるハロゲン誘
導体を加えた後、40℃よりも高くない温度でエーテル
化を行うことにより解決される。
式(c)で示される立体異性体のイミダゾリルーオキシ
ム誘導体(該誘導体はそのものとしても抗真菌及び殺菌
作用を及ぼすので価値の多い物質である)は次のように
して製造する:シスーオキシムを製造するために一般式
A−CO−CH2−Hal() (式中Aは前記の意味をもち、Halはハロゲン原子で
ある)で示される相当する2−ハロゲンエタノンから出
発するがその際式()で示されるエタノンを先ずイミダ
ゾールと反応させて相当する2−(イミダゾール−1−
イル)一誘導体にし、次にヒドロキシルアミン又は、反
応条件でヒドロキシルアミンを遊離するヒドロキシルア
ミン誘導体とアルコール溶液中で熱時反応させて式(c
)で示されるシスーオキシムにする。
一般式(t)及び(c)で示される立体異性体のオキシ
ムは、相違するクロマトグラフイ一上の挙動を示し、特
に薄層クロマトグラムで明らかに相違するRF値を示し
、NMR−分光学的データに基づいて疑点なく両方の立
体異性体の形のおのおのに帰属させることができる。
式(It)及び(e)で示される立体異性体のイミダゾ
リルーオキシムエーテル誘導体も、明らかに相違するク
ロマトグラフイ一上の挙動を示し、同様に特に薄層クロ
マトグラムで明らかに相違するRF値を示す。
生成物は各場合にNMRスペクトルによつてシス形もし
くはトランス形に又は(E)−形もしくは(Z)一形に
間違いのないように帰属させることができる。又、特に
CH2−プロトンのシフトから、このように帰属させる
ことができる(δCis〉δTrans)。本発明を更
に発展させた形では、式(Ic)で示されるシス一異性
体を製造するために、立体特異的なエーテル化を殊にK
OHと一緒のアセトン中で、特にKOHを等モル量より
もわずかに少なく、殊に約5〜15m01%少なく存在
させて行う。そのようにして製造した立体異性体のイミ
ダゾリルーオキシムエーテル誘導体を殊に硝酸水で硝酸
塩として沈殿させることにより反応混合物から遊離させ
る。その場合中間体として必要な立体異性体の純粋な式
(e)で示されるイミダゾリルーエタノンオキシム誘導
体は前記のようにして製造する。
現在の知識によれば本発明の方法の最も大きな意味は、
式1cの基Aが4−クロルフエニル一又は2・4−ジク
ロルフエニル基であり且つ基Bが4−クロルベンジル−
又は2・4−ジクロルベンジル基である一方これらのす
べての場合に基1mが末置換の1H−イミダゾール−1
−イル一基であるような化合物を、生産技術的な規模で
も立体化学的に純粋な形で得ることができるということ
にある。以下、例を挙げて本発明を更に詳しく説明する
例1(Z)−1−(2・4−ジクロルフエニル)2−(
1H−イミダゾール−1−イル)−0(2・4−ジクロ
ルベンジル)一エタノンオキシム硝酸塩216〜218
℃の融点を示す2064f(7.64m01)の(Z)
−1−(2・4−ジクロルフエニル)−2−(1H−イ
ミダゾール−1イル)一エタノンオキシムを五倍量(1
0.3,e)のアセトンに懸濁させ、激しく攪拌し、(
90%の)KOH45O7を、微粉砕した形で加える。
その際、懸濁したエタノンオキシムを次第に溶解させる
。大体1時間後に、溶液に15547(7.9m01)
の2・4−ジクロルベンジルクロリドを少しずつ加える
。その際起る反応は弱い発熱反応なので、反応混合物は
35ないし精々40℃にあたたまる。反応が終るまで更
に4時間攪拌する、その際必要な場合には緩かに冷却し
て反応混合物の温度が40℃よりも高くならないように
注意する。反応が終つた後、反応混合物を151の水に
そそぐ。次に反応生成物を2nf)HNO3水61で硝
酸塩として沈殿させる。
硝酸塩を沈殿させてから数時間後に、吸引濾取し、十分
に水で洗う。次に、このようにして分離した粗製の硝酸
塩を94%のエタノール11.31で再結晶する。次に
、三倍量のエタノールで二度目の再結晶を行うと、99
.95%の純度の目的生成物が無水の結晶の形で生じる
。このようにして得られた生成物の純度は熱分析で監視
する。得られた結晶の融点は139.5〜140.5℃
である。収率は62.5%である。Cl8Hl3Cl4
N3O−HNO3(分子量492.17の元素分析) NMR−スペクトルからCH2−プロトンのシフトのδ
値が、他の異性体の場合には5.08ppmと5.35
ppmであるのに対し、5.34ppmと5.64pp
mであることがわかる。
この結果から、得られた生成物を(Z)一形に帰属させ
ることが可能になる、なぜならこの得られた生成物の方
に、より大きいプロトンシフトを予想することができる
からである。例2 (E)−1−(2・4−ジクロルフエニル)2−(1H
−イミダゾール−1−イル)−0(2・4−ジクロルベ
ンジル)一エタノンオキシ硝酸塩277(0.1m01
)の(E)−1−(2・4ジクロルフエニル)−2−(
1H−イミダゾール1−イル)一エタノンオキシムを1
00m1のDMFに溶かす。
この溶液に2,47(0.1m01)のNaHを加え、
1時間室温で攪拌する。次に攪拌しながらDMFlOO
ml中の20V(〉0.1m01)の2・4−ジクロル
ベンジルクロリドを滴加する。1時間後、溶剤をロータ
リーエバポレータで除く。
残渣を水と攪拌してまぜ、2nのHNO3水で結晶させ
る。このようにして得られた粗製の硝酸塩を、吸引濾取
し乾燥させた後、アルコールで再結晶させる。それによ
り164〜165℃の融点を示す無色の結晶の形の純粋
な目的生成物10.5fが得られる。Cl8Hl4Cl
4N3C−HNO3(分子量492.17)の元素分析
NMRスペクトルでCH2−プロトンのδ値が5.08
ppmと5.35ppmであることがわかる。
これらの値は、他の異性体のために見いだしたシフトの
値よりも小さいので、これらの値からこの例2で製造し
た異性体を(E)一形に帰属させることができる。例3 (E)−1−(4−クロルフエニル)−2−(1H−イ
ミダゾール−1−イル)−0−(4クロルベンジル)一
エタノンオキシム硝酸塩例2に記載した方法を、2・4
−ジクロルベンジルクロリドの代りに当量のp−クロル
ベンジルクロリドを使用するように変更して、繰返す。
エタノールで再結晶すると、無色の結晶質の反応生成物
は172℃の融点を示す。例4 (Z)−1−(4−クロルフエニル)−2一(1H−イ
ミダゾール−1−イル)−0−(4クロルベンジル)一
エタノンオキシム硝酸塩 例1に記載した方法を、2・4−ジクロルベンジルクロ
リドの代りに当量のp−クロルベンジルクロリドを使用
するように変更して、繰返す。
硝酸水で沈殿させ、エタノールで再結晶して161℃の
融点を示す無色の結晶の形の純粋な目的生成物を得る。
例5 E−1−(4−クロルフエニル)−2−(1Hイミダゾ
ール−1−イル)−エタノンオキシム23.47(0.
1m01)のp−クロルフエナシルプロミドを300m
1のメタノールに溶かし、20.97(0.3m01)
のヒドロキシルアンモニウムクロリドを加える。
次に短時間攪拌し、約14〜16時間室温で放置する。
次に水で希釈すると反応生成物が沈殿する。沈殿を吸収
濾取し、水で洗い、乾燥させる。207の既に非常に純
粋な粗生成物が得られる。
次にこれをベンジンで再結晶する。得られたZ−1−(
4−クロルフエニル)2−プロムエタノンオキシムは、
106℃の融点を示す無色の結晶を成す。57(0.0
2m01)の得られたハロゲン−Zオキシムを、イミダ
ゾール47(0.06m01)のクロロホルム40m1
による供給した溶液中へ加える。
その際氷浴で反応温度をO℃と5℃の間の領域に保つ。
ハロゲンーオキシムは、絶えず攪拌しながらイミダゾー
ル溶液に加える。加え終つてから更に3時間撹拌する。
次に沈殿を吸引濾取し、水で洗う。37の粗生成物が得
られる。
これをアルコールで再結晶する。このようにして製造し
た立体化学的に純粋なE−1−(4−クロルフエニル)
−2−(1H−イミダゾール−1−イル)エタノンオキ
シムは185〜186℃の融点を示す無色の結晶を成す
。CllHlOClN3O(235.7)の元素分析C
(%) H(%)N(%) CI(%)計算値 56,
064.2817.8315.04実測値 56.21
4.3017.2215.18例6Z−1−(4−クロ
ルフエニル)−2−(1Hイミダゾール−1−イル)一
エタノンオキシム89.27の4−クロルフエナシルプ
ロミドを170m1のクロロホルム(又は塩化メチレン
)に溶かし、イミダゾール1567のクロロホルム(又
は塩化メチレン)600WLIによる溶液にO〜5℃で
滴加する。
次に4時間この温度で攪拌し続け、溶剤をロータリーエ
バポレータで留出させ、残渣を水で処理する。吸引濾取
し、乾燥させた後、トルエンで65yf)p−クロルフ
エナシルーイミダゾール又は1−(4−クロルフエニル
)−2(1H−イミダゾール−1−イル)−1−エタノ
ンを158〜160℃の融点を示す無色の結晶として得
る。117(0.05m01)のこのようにして得られ
たp−クロルフエナシルを5.27(0.075m01
)のヒドロキシルアンモニウムクロリドと一緒に110
m1のエタノールに溶かす。
攪拌しながらこの溶液に107(0.25m01)の固
体の水酸化ナトリウムを加えた。次に1時間還流下で沸
騰温度に加熱する。冷却後、反応混合物を175m1の
1nf)HCl水にそそぐとオキシムが沈殿する。この
ようにしてはほとんど定量的な収率で得られる粗製物を
アルコールで再結晶する。それによりZ−1−(4−ク
ロルフエニル)−2−(1Hイミダゾール−1−イル)
一エタノンオキシムが194〜195℃の融点を示す無
色の結晶の形で得られる。CllHlOClN3O(2
35.7)の元素分析C(%) H(%) N(%)
Cl(%)計算値 56.064.2817.8315
.04実測値 56.224.3117.4515.1
2例5に記載したようにして更に次の化合物が製造され
る:E−1−(2・4−ジクロルフエニル)−2一(1
H−イミダゾール−1−イル)一エタノンオキシム(融
点205〜206℃)。
例6に記載したようにして更に次の化合物が製造される
:Z−1−(2・4−ジクロルフエニル)−2一(1H
−イミダゾール−1−イル)一エタノンオキシム(融点
218〜220℃)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 化学式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I c)シス形 (式中Aは4−クロルフェニル基又は2・4−ジクロル
    フェニル基を意味し、Bは4−クロルベンジル基又は2
    ・4−ジクロルベンジル基を意味し、そしてImは未置
    換の1H−イミダゾール−1−イル−基を意味する)で
    示されるシス−イミダゾリル−オキシムエーテル誘導体
    を、化学式▲数式、化学式、表等があります▼(II)(
    式中Im及びAは前記の意味をもつ) で示される相当する置換されたオキシム誘導体をその金
    属オキシメートの形で化学式X−B(III) (式中Bは前記の意味をもち、Xはハロゲン原子である
    )で示されるエーテル生成能力のある物質と反応させる
    ことにより、立体特異的に製造する方法にして、式(I
    I)で示されるオキシム誘導体をシス−立体異性体▲数
    式、化学式、表等があります▼(IIc)シス形 の形で、室温で極性有機溶剤に懸濁又は溶解させ、次に
    、室温で金属オキシメート生成能力のある金属化合物を
    加えること並びに、次に、このようにして製造した溶液
    で式(III)で示されるハロゲン誘導体を加えた後、4
    0℃よりも高くない温度でエーテル化を行うことを特徴
    とする方法。 2 一般式 A−CO−CH_2−Hal(IV) (式中Aは前記の意味をもち、Halはハロゲン原子で
    ある)で示される相当する2−ハロエタノンから出発し
    、該ハロエタノンを先ずイミダゾールと反応させて相当
    する2−(イミダゾール−1−イル)−誘導体にし、次
    にヒドロキシルアミン又は、反応条件でヒドロキシルア
    ミンを遊離するヒドロキシルアミン誘導体とアルコール
    溶液中で熱時反応させて式(IIc)で示されるシス−オ
    キシムにし、次にこのシス−オキシムを室温で極性有機
    溶剤に懸濁又は溶解させ、次に、室温で金属オキシメー
    ト生成能力のある金属化合物を加えそして次に、このよ
    うにして製造した溶液で式(III)で示されるハロゲン
    誘導体を加えた後、40℃よりも高くない温度でエーテ
    ル化を行う、特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 金属オキシメート生成能力のある金属化合物として
    KOHを使用する、特許請求の範囲第1項又は第2項記
    載の方法。 4 金属オキシメート生成能力のある金属化合物をそれ
    ぞれ式(IIc)で示されるオキシム誘導体から計算して
    、等モル量よりもいくらか少ない、しかも殊に等モル量
    よりも約5ないし15mol%少ない量で添加する特許
    請求の範囲第1項から第3項までのいずれかに記載の方
    法。 5 溶剤のアセトン中でエーテル化を行う特許請求の範
    囲第1項から第4項までのいずれかに記載の方法。 6 式( I c)で示されるオキシムエーテル誘導体を
    、無機若しくは有機酸殊に水性硝酸によつて、各場合に
    もくろまれる生成物の使用目的に対して危険のない酸付
    加塩の形で沈殿させることにより反応混合物から単離さ
    せる特許請求の範囲第1項から第5項までのいずれかに
    記載の方法。 7 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される(Z)−1−(2・4−ジクロルフェニル)
    −2−(1H−イミダゾール−1−イル)−O−(2・
    4−ジクロルベンジル)−エタノンオキシム(シス−異
    性体)並びに式▲数式、化学式、表等があります▼ で示されるその硝酸塩を製造すべく、 (Z)−1−(2・4−ジクロルフェニル)−2−(1
    H−イミダゾール−1−イル)−エタノンオキシムを、
    オキシムの重量から計算して大体5倍量のアセトンに懸
    濁させ、はげしく攪拌しながら固体の細かく粉砕したK
    OH(精々等モル量、殊に大体15mol%までの比較
    的に少ない量)を加え、その際オキシムが完全に溶解す
    るまでに攪拌し;大体1時間後に溶液に少しずつ大体等
    モル量の2・4−ジクロルベンジルクロリドを加え、次
    に大体もう4時間攪拌し、その際、必要な場合には補足
    的に冷却して、反応混合物の温度が40℃よりも高くな
    らないように注意し;次に反応混合物を水にそそぎ、普
    通の方法で後処理してオキシムエーテルにする;又は水
    性の反応混合物に2Nの水性HNO_3を加えて硝酸塩
    を沈殿させて遊離させ、沈殿した硝酸塩を濾過して分離
    し、場合によりエタノールで再結晶する特許請求の範囲
    第1項から第4項までのいずれかに記載の方法。
JP54063334A 1978-05-24 1979-05-24 シス−イミダゾリル−オキシムエ−テル誘導体を立体特異的に製造する方法 Expired JPS5940387B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH565378 1978-05-24
CH00005653/788 1978-05-24
CH00000161/792 1979-01-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS54157563A JPS54157563A (en) 1979-12-12
JPS5940387B2 true JPS5940387B2 (ja) 1984-09-29

Family

ID=4297175

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP54063334A Expired JPS5940387B2 (ja) 1978-05-24 1979-05-24 シス−イミダゾリル−オキシムエ−テル誘導体を立体特異的に製造する方法
JP57139997A Expired JPS6047258B2 (ja) 1978-05-24 1982-08-13 イミダゾリル−オキシム誘導体の立体選択的な製造法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57139997A Expired JPS6047258B2 (ja) 1978-05-24 1982-08-13 イミダゾリル−オキシム誘導体の立体選択的な製造法

Country Status (3)

Country Link
JP (2) JPS5940387B2 (ja)
ES (1) ES8102099A1 (ja)
ZA (1) ZA792376B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0413680U (ja) * 1990-05-21 1992-02-04

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH617427A5 (ja) * 1975-12-24 1980-05-30 Siegfried Ag

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0413680U (ja) * 1990-05-21 1992-02-04

Also Published As

Publication number Publication date
ES488216A0 (es) 1981-01-16
ES8102099A1 (es) 1981-01-16
JPS5843957A (ja) 1983-03-14
JPS54157563A (en) 1979-12-12
ZA792376B (en) 1980-06-25
JPS6047258B2 (ja) 1985-10-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS584713B2 (ja) イミダゾリル−オキシムエ−テル及びその製法
CN114044758B (zh) 用于制备三唑啉酮类除草剂甲磺草胺的中间体的合成方法
JPS5940387B2 (ja) シス−イミダゾリル−オキシムエ−テル誘導体を立体特異的に製造する方法
JPS5924145B2 (ja) 1−メチル−3,5−ジフエニルピラゾ−ルの製法
US4550175A (en) Process for the stereospecific preparation of (Z)-1-(2,4-dichlorophenyl)-2-(imidazol-1-yl)-0-(2,4-dichlorobenzyl)-ethanone oxime ether
JPS60136532A (ja) 置換アセチレンケトン
JPS59225151A (ja) 1,2−ジフエニル−1−〔4−(2−ジメチルアミノエトキシ)フエニル〕−1−ブテンのE異性体をタモキシフエンHClに転化させる方法
CN114057659B (zh) 一种甲磺草胺合成用中间体及其合成方法
CN114181162B (zh) 一种磺酰唑草酮的制备方法
JPS60136572A (ja) トリアゾロン誘導体の製造方法
CN114149375B (zh) 用于合成甲磺草胺的中间体及其合成方法
JPH061776A (ja) 置換ピラジンカルボニトリルの製造方法
CN114031520B (zh) 2-(2-(5-乙酰氨基-2,4-二氯苯基)亚肼基)丙酸化合物及其合成方法
CN110028450A (zh) 一种吡唑酰胺类化合物的制备方法
HU184695B (en) Process for preparing imidazolyl-oxima and imidazoly-oxima-ether derivatives stereospecifically and stereo-selectively resp.
JP2565372B2 (ja) チオール化合物の製造方法
JP2539261B2 (ja) イミダゾ―ル誘導体
US2762817A (en) Triazole phthalimides
SK287354B6 (sk) Spôsob prípravy monohydrátu a kryštalických modifikácií flukonazolu
JPS6051180A (ja) 1,2,4−トリアゾリン−5−オン類の製造方法
JPS6048975A (ja) 1−(3−ニトロフエニル)−3−メチル−4−ジフルオロメチル−δ↑2−1,2,4−トリアゾリン−5−オン及びその製法
JPS62298569A (ja) ヒドロキシベンズアルドキシムo−エ−テルの製造法
JPH0150219B2 (ja)
JPH0373543B2 (ja)
JPS6233177A (ja) 1H−ピラゾロ〔3,2−c〕−1,2,4−トリアゾ−ル系化合物の製造方法